JPH0856036A - Laser amplifier equipment - Google Patents

Laser amplifier equipment

Info

Publication number
JPH0856036A
JPH0856036A JP6193031A JP19303194A JPH0856036A JP H0856036 A JPH0856036 A JP H0856036A JP 6193031 A JP6193031 A JP 6193031A JP 19303194 A JP19303194 A JP 19303194A JP H0856036 A JPH0856036 A JP H0856036A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
oscillator
laser beam
injection lock
master
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6193031A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryoichi Otani
良一 大谷
Noriyasu Kobayashi
徳康 小林
Motohisa Abe
素久 阿部
Keiichi Hirota
圭一 廣田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LASER NOSHUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Toshiba Corp
Toshiba FA Systems Engineering Corp
Original Assignee
LASER NOSHUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Toshiba Corp
Toshiba FA Systems Engineering Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LASER NOSHUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI, Toshiba Corp, Toshiba FA Systems Engineering Corp filed Critical LASER NOSHUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Priority to JP6193031A priority Critical patent/JPH0856036A/en
Publication of JPH0856036A publication Critical patent/JPH0856036A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To improve amplification efficiency, reduce manhours for maintenance and adjustment, and supply a stable laser beam to an amplifier. CONSTITUTION:This laser amplifier equipment is provided with the following a master oscillation equipment 18 of a laser oscillation source, an injection lock oscillation equipment 19 which performs slant axis resonance, an aperture 14 for cutting out uniform intensity distribution of an output laser beam of the injection lock oscillation equipment 19, a laser amplifier 17, a sampling mirror 12 which samples a laser beam which has passed the aperture 14, a beam monitor equipment 13 which monitors the intensity distribution of a sampling beam, and a magnification optical system 15 which adjusts the beam size in the manner in which the laser beam cut by the aperture 14 can be made to enter an amplifier 17.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばレーザー加工に
使用する大出力レーザーを得るためのレーザー増幅装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser amplifying device for obtaining a high-power laser used for laser processing, for example.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のレーザー増幅装置は、図6に示し
たようにレーザー発振源であるマスタ発振装置18とイン
ジェクションロック発振装置19とを組み合わせ、インジ
ェクションロック発振装置19から出射されるレーザービ
ームの口径を増幅するに必要なレーザー口径に拡大する
拡大光学系15と、この拡大光学系15から出射した高品質
レーザービームを増幅して大出力のレーザービームを作
り出す増幅器17とから構成されている。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 6, a conventional laser amplification apparatus combines a master oscillation device 18 which is a laser oscillation source and an injection lock oscillation device 19 to generate a laser beam emitted from the injection lock oscillation device 19. It is composed of a magnifying optical system 15 that magnifies to a laser diameter required to amplify the diameter, and an amplifier 17 that amplifies a high-quality laser beam emitted from the magnifying optical system 15 to generate a high-power laser beam.

【0003】マスタ発振装置18は、レーザー発振器2
と、このレーザー発振器2の両側に対向配置された凹面
鏡1と凸面鏡を組み込んだレーザービームを取り出すた
めの出射光学系3とからなる共振器で構成されている。
The master oscillator 18 is a laser oscillator 2
And a concave mirror 1 disposed on both sides of the laser oscillator 2 and an emission optical system 3 for taking out a laser beam incorporating the convex mirror.

【0004】また、インジェクションロック発振装置19
は、マスタ発振器2から出射されたレーザービームを通
過させるレーザー入光部を中央に有する凹面鏡7と、イ
ンジェクションロック発振器8と、このインジェクショ
ンロック発振器8のレーザー出射側に前記凹面鏡7と共
焦点となるように対向して配置された凸面鏡10と、レー
ザービーム光軸に傾斜して配置した凸面鏡10を中央部に
設けたレーザービーム通過の出射鏡9とから構成されて
いる。
Further, the injection lock oscillator 19
Is a concave mirror 7 having a laser light incident part in the center for passing the laser beam emitted from the master oscillator 2, an injection lock oscillator 8, and a confocal point with the concave mirror 7 on the laser emission side of the injection lock oscillator 8. Thus, the convex mirror 10 is arranged so as to face each other, and the exit mirror 9 for passing the laser beam is provided in the central portion of the convex mirror 10 that is arranged so as to be inclined with respect to the optical axis of the laser beam.

【0005】このインジェクションロック発振器8から
出射されたレーザービームは拡大光学系15により拡大さ
れた後、増幅器17へ入射され増幅される。
The laser beam emitted from the injection lock oscillator 8 is expanded by the expansion optical system 15 and then incident on the amplifier 17 for amplification.

【0006】前記マスタ発振装置18と前記インジェクシ
ョンロック発振装置19との間には、マスタ発振装置18か
ら出射されたレーザービームを縮小光学系6に正確に導
くための第1の調整用反射鏡4(4aおよび4b)と、
前記インジェクションロック発振装置19にレーザービー
ムを縮小するために設置された前記縮小光学系6と、こ
の縮小光学系6により縮小されたレーザービームを前記
インジェクションロック発振装置19へ正確に導くための
第2の調整用反射鏡5(5aおよび5b)とが設けられ
ている。
Between the master oscillator 18 and the injection lock oscillator 19, there is provided a first adjusting reflecting mirror 4 for accurately guiding the laser beam emitted from the master oscillator 18 to the reduction optical system 6. (4a and 4b),
The reduction optical system 6 installed in the injection lock oscillator 19 for reducing the laser beam, and a second for accurately guiding the laser beam reduced by the reduction optical system 6 to the injection lock oscillator 19. And the adjusting reflection mirror 5 (5a and 5b).

【0007】前記マスタ発振装置18から出射されたマス
タビームは、インジェクションロック発振装置19内の前
記凹面鏡7の中央に有する入光部から同心軸上に入射さ
れ、高品質レーザービームとして出力されるようになっ
ている。
The master beam emitted from the master oscillating device 18 is incident on the concentric axis from a light entrance portion provided in the center of the concave mirror 7 in the injection lock oscillating device 19 and is output as a high quality laser beam. It has become.

【0008】インジェクションロック発振装置19と前記
増幅器17との間には、出射されたレーザービームを正確
に前記拡大光学系15に入射するための調整用反射鏡20
(20a,20b)と、前記増幅器17に必要なレーザー口径
にする拡大光学系15と、この拡大光学系15通過後のレー
ザービームを正確に前記増幅器17へ導くための調整用反
射鏡16(16a,16b)とが設けられている。
Between the injection lock oscillator 19 and the amplifier 17, an adjusting reflecting mirror 20 for accurately entering the emitted laser beam into the magnifying optical system 15 is provided.
(20a, 20b), a magnifying optical system 15 having a laser aperture required for the amplifier 17, and an adjusting reflecting mirror 16 (16a) for accurately guiding the laser beam after passing through the magnifying optical system 15 to the amplifier 17. , 16b) are provided.

【0009】また、拡大光学系15へ入光する前のレーザ
ービームプロファイルは、図6(a)中のaの位置で図
6(b)に示すようにビームの中心に共振に必要な孔が
開かれた出射鏡9の影と、下端にはインジェクションロ
ック発振器8(図示せず)内にある金属(蒸気源)の影
が存在するため、不均一な空間強度分布を有している。
拡大光学系15を通過後の図中fでのビームプロファイル
も前記図6(b)に示したように相似なビームプロファ
イルとなっている。
The laser beam profile before entering the magnifying optical system 15 has a hole necessary for resonance at the center of the beam at the position a in FIG. 6 (a) as shown in FIG. 6 (b). Since there is the shadow of the opened exit mirror 9 and the shadow of the metal (vapor source) inside the injection lock oscillator 8 (not shown) at the lower end, it has a non-uniform spatial intensity distribution.
The beam profile at f in the drawing after passing through the expansion optical system 15 is also a similar beam profile as shown in FIG. 6B.

【0010】つぎに図6(a)に示した従来のレーザー
増幅装置を平面図で示す図7によりその平面的な配置例
を説明する。マスタ発振管27の両側に平面定盤が設けら
れている。これらの平面定盤上に凹面鏡1と凸面鏡を対
向配置したレーザービームを出射するための出射鏡3か
らなる共振器が配置されている。
Next, an example of the planar arrangement of the conventional laser amplifying device shown in FIG. 6A will be described with reference to FIG. 7 which is a plan view. Flat platens are provided on both sides of the master oscillator tube 27. A resonator including an emitting mirror 3 for emitting a laser beam, in which a concave mirror 1 and a convex mirror are arranged to face each other, is arranged on these flat surface plates.

【0011】この前記マスタ発振管27から出射されたレ
ーザービームを通過させるレーザー入射部を中央に有す
る全反射凹面鏡21とインジェクションロック発振管28の
レーザー出射側に前記凹面鏡21に対向してレーザービー
ム光軸に傾斜して配置した凸面鏡10を中央に設けたレー
ザービーム通過孔を有する出射鏡9が平面定盤上に配置
されている。
A total reflection concave mirror 21 having a laser incident part at the center for passing the laser beam emitted from the master oscillation tube 27 and a laser beam light facing the concave mirror 21 on the laser emission side of an injection lock oscillation tube 28. An emission mirror 9 having a laser beam passage hole provided in the center of a convex mirror 10 arranged to be inclined with respect to an axis is arranged on a flat surface plate.

【0012】インジェクションロック発振管28から出射
されたインジェクションロックビームを拡大する拡大光
学系15が平面定盤上に配置されている。前記拡大光学系
15から出射したレーザービームを入射する増幅器17(17
a,17b)の増幅器用発振器29(29a,29b)と、その
増幅器用制御器25(25a,25b)が水平に配置されてい
る。
A magnifying optical system 15 for magnifying the injection lock beam emitted from the injection lock oscillator 28 is arranged on a flat surface plate. The magnifying optical system
An amplifier 17 (17
a, 17b), the amplifier oscillator 29 (29a, 29b) and the amplifier controller 25 (25a, 25b) are horizontally arranged.

【0013】それぞれの発振管27,28は定期的に金属蒸
気源を補給等する必要があり、また取り外して保守する
必要があるため発振管27,28の制御器24a,24bを内側
に、発振管27,28を外側に配置している。
Each of the oscillation tubes 27 and 28 needs to be replenished with a metal vapor source on a regular basis and needs to be removed for maintenance, so that the controllers 24a and 24b of the oscillation tubes 27 and 28 are oscillated inside. The pipes 27 and 28 are arranged outside.

【0014】これら発振管27,28の取り出し保守する場
合は前記発振管27,28のみを装置に固定された支持板か
ら外すか、または制御器24,25 を含むレーザー装置全体
を移動する。
When taking out and maintaining these oscillating tubes 27, 28, only the oscillating tubes 27, 28 are removed from the support plate fixed to the apparatus, or the entire laser apparatus including the controllers 24, 25 is moved.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】従来のレーザー増幅装
置では、インジェクションロック発振装置19から出射さ
れたレーザービームは共振に必要な出射鏡9の中央部に
生じる凸面鏡10の影と、下端にはインジェクションロッ
ク発振器8内にある金属(蒸気源)の影が存在する。
In the conventional laser amplifying apparatus, the laser beam emitted from the injection lock oscillator 19 has a shadow of the convex mirror 10 generated in the central portion of the emitting mirror 9 necessary for resonance and an injection at the lower end. There is a shadow of the metal (vapor source) inside the lock oscillator 8.

【0016】そのため、図6(b)に示すようなビーム
形状となる。このビームはそのまま拡大光学系15により
拡大され増幅器17に入射され増幅される。増幅されたレ
ーザービームも同様なレーザー強度に強弱が生じる。レ
ーザービームの強度分布は図8中に示す曲線eのように
なる。
Therefore, the beam shape is as shown in FIG. 6 (b). This beam is expanded as it is by the expansion optical system 15 and is incident on the amplifier 17 to be amplified. The amplified laser beam also has similar laser intensity. The intensity distribution of the laser beam is as shown by the curve e in FIG.

【0017】このように従来のレーザー増幅装置では増
幅器17の最大性能が十分生かされていないため、レーザ
ー強度の損失およびレーザービーム品質の低下が見られ
る。また、増幅器17を複数台直列に配置する場合はシス
テム全体にその悪影響を及ぼし、かつ、得られたレーザ
ービームの利用にも課題が生じる。
As described above, in the conventional laser amplifying apparatus, the maximum performance of the amplifier 17 is not fully utilized, so that the loss of the laser intensity and the deterioration of the laser beam quality are observed. Further, when a plurality of amplifiers 17 are arranged in series, the entire system is adversely affected and a problem arises in using the obtained laser beam.

【0018】また、レーザー装置のすべての部品を水平
に配置するため、レーザー装置の保守、光学系の調整等
のアクセスエリアを含めると、大きなレーザー増幅装置
の設置には多額の費用を要する課題がある。
Further, since all the parts of the laser device are arranged horizontally, if the access area for maintenance of the laser device, adjustment of the optical system, etc. is included, installation of a large laser amplification device requires a large amount of cost. is there.

【0019】さらに、発振管が電気的絶縁物のガラス,
セラミックス等で長手方向に分割して構成されているた
め、発振管の保守時に前記ガラス等を破損するおそれが
あり、レーザー装置全体を保守場所に移動しなければな
らない課題がある。
Further, the oscillation tube is a glass of an electrically insulating material,
Since it is divided in the longitudinal direction with ceramics or the like, the glass or the like may be damaged during maintenance of the oscillation tube, and there is a problem in that the entire laser device must be moved to the maintenance location.

【0020】本発明は上記課題を解決するためになされ
たもので、レーザービームの損失およびレーザービーム
品質の低下を防止し、高効率化で、かつ高品質なレーザ
ービームが得られるレーザー増幅装置を提供することに
ある。
The present invention has been made to solve the above problems, and provides a laser amplifying device capable of preventing loss of a laser beam and deterioration of the quality of the laser beam, improving efficiency, and obtaining a high-quality laser beam. To provide.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本発明はレーザー発振源
であるマスタ発振器を有するマスタ発振装置と、このマ
スタ発振装置から出射したレーザービームを入射して斜
軸共振を行うインジェクションロック発振管を有するイ
ンジェクションロック発振装置と、このインジェクショ
ンロック発振装置の出力レーザービームの均一な強度分
布成分を切り出すためのアパーチャとこのアパーチャか
ら切り出されたレーザービームを入射するレーザー増幅
器を具備したことを特徴とする。
The present invention has a master oscillator having a master oscillator which is a laser oscillator, and an injection-locked oscillator tube for entering a laser beam emitted from the master oscillator to cause oblique axis resonance. An injection lock oscillator, an aperture for cutting out a uniform intensity distribution component of an output laser beam of the injection lock oscillator, and a laser amplifier for injecting the laser beam cut out from the aperture are provided.

【0022】また、本発明はレーザー発振源であるマス
タ発振器を有するマスタ発振装置と、このマスタ発振装
置から出射したレーザービームを入射して斜軸共振を行
うインジェクションロック発振管を有するインジェクシ
ョンロック発振装置と、このインジェクションロック発
振装置に前記マスタ発振器から出射したレーザービーム
を注入するための縮小光学系と、前記インジェクション
ロック発振装置から出射したレーザービームの均一な強
度分布成分を切り出すためのアパーチャと、このアパー
チャで切り出されたレーザービームのビームサイズを調
整する拡大光学系と、この拡大光学系から出射したレー
ザービームを入射する増幅器とを具備することを特徴と
する。
Further, the present invention is a master oscillation device having a master oscillator which is a laser oscillation source, and an injection lock oscillation device having an injection lock oscillation tube for injecting a laser beam emitted from the master oscillation device to cause oblique axis resonance. A reduction optical system for injecting the laser beam emitted from the master oscillator into the injection lock oscillator, and an aperture for cutting out a uniform intensity distribution component of the laser beam emitted from the injection lock oscillator, It is characterized by comprising an expanding optical system for adjusting the beam size of the laser beam cut out by the aperture, and an amplifier for injecting the laser beam emitted from this expanding optical system.

【0023】[0023]

【作用】インジェクションロック発振装置から出射され
たレーザービームの空間強度分布の均一な成分だけを増
幅器へ入射するため、増幅後のレーザービーム強度分布
の不均一がなくなり、増幅器の増幅能力を最大限に生か
すことができる。
[Function] Since only the component of the spatial intensity distribution of the laser beam emitted from the injection lock oscillator is incident on the amplifier, the non-uniformity of the laser beam intensity distribution after amplification is eliminated and the amplification capability of the amplifier is maximized. You can make use of it.

【0024】出射鏡の影が出射されたレーザービームの
端部に位置するようにインジェクションロック発振装置
の凹凸面鏡と出射鏡が斜軸共振に配置されているので、
有効にインジェクションロックビームをアパーチャによ
り取り出すことができる。
Since the concave-convex surface mirror of the injection lock oscillator and the exit mirror are arranged in oblique axis resonance so that the shadow of the exit mirror is located at the end of the emitted laser beam,
The injection lock beam can be effectively taken out by the aperture.

【0025】ビームモニタ装置を前記アパーチャ通過後
に備えることで、アパーチャ設置位置の最適化が図ら
れ、常時安定したビームを増幅器へ供給することができ
る。
By providing the beam monitor after passing through the aperture, the aperture installation position can be optimized and a stable beam can be always supplied to the amplifier.

【0026】すなわち、レーザー出射鏡の影をレーザー
ビームの端部に移動させる。出射鏡から出射されたレー
ザービームの均一な強度分布成分を取り出せるように配
置したアパーチャにより円形の高品質なレーザービーム
を得ることができる。
That is, the shadow of the laser emitting mirror is moved to the end of the laser beam. A circular high-quality laser beam can be obtained by an aperture arranged so that a uniform intensity distribution component of the laser beam emitted from the emitting mirror can be taken out.

【0027】このアパーチャを通過したレーザービーム
の数%をサンプリング鏡でサンプリングし、このサンプ
リングされたビームをビームモニタ装置でモニタする。
前記斜軸共振の調整と前記アパーチャの調整時のビーム
形状を測定する。
A few percent of the laser beam that has passed through this aperture is sampled by a sampling mirror, and the sampled beam is monitored by a beam monitor.
A beam shape at the time of adjusting the oblique axis resonance and adjusting the aperture is measured.

【0028】サンプリング鏡を反射した高品質のレーザ
ービームを拡大する拡大光学系と、この拡大光学系を通
過したレーザービームを増幅する増幅器によって、高効
率で高品質なレーザービームが得られる。
A high-efficiency and high-quality laser beam can be obtained by the expanding optical system for expanding the high-quality laser beam reflected by the sampling mirror and the amplifier for amplifying the laser beam passing through this expanding optical system.

【0029】また、マスタ発振器とインジェクションロ
ック発振器を上下に設置し、光学系を立て定盤に設置
し、レーザービームを上下に配置することにより設置面
積が約1/2になるほか、保守,調整時のアクセスが一
方から行えるためアクセスエリアも約1/2で可能とな
る。レーザー発振管の保守時の省力化,光学系調整の容
易性,設置の削減による低コスト化等が得られる。
Further, the master oscillator and the injection lock oscillator are installed on the upper and lower sides, the optical system is installed on the standing platen, and the laser beam is arranged on the upper and lower sides, so that the installation area is reduced to about 1/2, and maintenance and adjustment are performed. Since access can be made from one side, the access area can be reduced to about 1/2. Labor-saving in maintenance of the laser oscillator tube, easy adjustment of the optical system, and cost reduction due to the reduction of installation are obtained.

【0030】レーザー発振管を金属製支持台に絶縁性支
持器によって支持し、レーザー発振管の保守は金属製支
持台とともに取り出して行うことにより、レーザー発振
管のガラス,セラミックス等の絶縁構成物の破損事故を
防止できる。
The laser oscillation tube is supported on a metal support by an insulating support, and the maintenance of the laser oscillation tube is taken out together with the metal support so that the laser oscillation tube is made of an insulating material such as glass or ceramics. Can prevent damage accidents.

【0031】レーザー発振管とその支持構造のみの移動
で保守が可能となるため、保守時間の省力化,保守場所
の低減,保守作業の簡易化を図ることができる。
Since maintenance can be performed by moving only the laser oscillation tube and its support structure, it is possible to save labor time, reduce maintenance space, and simplify maintenance work.

【0032】[0032]

【実施例】本発明に係るレーザー増幅装置の第1の実施
例を図1から図2を参照して説明する。図1は第1の実
施例におけるレーザー増幅装置の装置配置図で、図2は
図1の概略的側面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of a laser amplifying device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a device layout view of a laser amplification device in the first embodiment, and FIG. 2 is a schematic side view of FIG.

【0033】図1において符号18はマスタ発振装置,19
はインジェクションロック発振装置である。マスタ発振
装置18はマスタ発振器2を内蔵し、このマスタ発振器2
の両側に対向して凹面反射鏡1と出射光学系3が配置さ
れたものからなっている。出射光学系3は凸面鏡と出射
鏡(図示せず)で構成している。
In FIG. 1, reference numeral 18 denotes a master oscillator, 19
Is an injection lock oscillator. The master oscillator 18 has a built-in master oscillator 2, and the master oscillator 2
The concave reflecting mirror 1 and the emission optical system 3 are arranged so as to face each other. The exit optical system 3 is composed of a convex mirror and an exit mirror (not shown).

【0034】インジェクションロック発振装置19はイン
ジェクションロック発振器8を内蔵し、前記マスタ発振
装置18からの出射レーザービームを斜軸に透過させる入
射部を有する凹面鏡7と、インジェクションロック発振
器8の出射側にレーザービームを傾斜して前記凹面鏡7
に対向して配置したレーザービーム通過孔を有する出射
鏡9と、この出射鏡9のレーザービーム通過孔に前記凹
面鏡7と斜軸共振するように配置した凸面鏡10とで構成
している。
The injection lock oscillator 19 has a built-in injection lock oscillator 8, a concave mirror 7 having an incident part for transmitting the laser beam emitted from the master oscillator 18 to the oblique axis, and a laser on the emission side of the injection lock oscillator 8. The concave mirror 7 with the beam tilted
It is composed of an emitting mirror 9 having a laser beam passage hole which is arranged so as to oppose to, and a convex mirror 10 which is arranged in the laser beam passage hole of the emitting mirror 9 so as to have an oblique axis resonance with the concave mirror 7.

【0035】マスタ発振装置18とインジェクションロッ
ク発振装置19との間には第1の調整用反射鏡4(4a,
4b),縮小光学系6および第2の調整用反射鏡5(5
a,5b)が配置されている。
The first adjusting reflector 4 (4a, 4a, 4a, 4b) is provided between the master oscillator 18 and the injection lock oscillator 19.
4b), the reduction optical system 6 and the second adjusting reflecting mirror 5 (5
a, 5b) are arranged.

【0036】前記凸面鏡10の光路上には反射鏡11,アパ
ーチャ14,サンプリング鏡12およびビームモニタ装置13
が配置され、サンプリング鏡12からの反射光路上に拡大
光学系15,第3の調整用反射鏡16および増幅器17が配置
されている。
On the optical path of the convex mirror 10, a reflecting mirror 11, an aperture 14, a sampling mirror 12 and a beam monitor device 13 are provided.
The magnifying optical system 15, the third adjusting reflecting mirror 16 and the amplifier 17 are arranged on the reflection optical path from the sampling mirror 12.

【0037】ここで、マスタ発振器2はレーザービーム
発振光源であり、第1の調整用反射鏡4a,4bはマス
タ発振器2から出射したレーザービームの光軸を調整す
る。縮小光学系6はインジェクションロック発振器8に
必要なレーザービームの光口径に縮小するもので、第2
の調整用反射鏡5(5a,5b)は縮小されたレーザー
ビームをインジェクションロック発振器8の光軸に調整
するものである。
Here, the master oscillator 2 is a laser beam oscillation light source, and the first adjusting reflecting mirrors 4a and 4b adjust the optical axis of the laser beam emitted from the master oscillator 2. The reduction optical system 6 reduces the optical diameter of the laser beam required for the injection lock oscillator 8, and
The adjusting reflecting mirror 5 (5a, 5b) adjusts the reduced laser beam to the optical axis of the injection lock oscillator 8.

【0038】凹面鏡7はマスタ発振器2からの出射レー
ザービームを透過させる入光部で、出射鏡9はインジェ
クションロック発振器8の出射光で、光軸に傾斜して凹
面鏡7に対向して配置され、レーザービームの透過孔を
有している。
The concave mirror 7 is a light entering portion for transmitting the laser beam emitted from the master oscillator 2, and the emitting mirror 9 is the light emitted from the injection lock oscillator 8 and is arranged so as to be inclined to the optical axis and to face the concave mirror 7. It has a laser beam transmission hole.

【0039】インジェクションロック発振装置19はレー
ザー出力部であり、アパーチャ14は出射鏡9から出射さ
れたレーザービームの均一な強度分布成分を取り出せる
ように配置される。サンプリング鏡12はアパーチャ14を
通過したレーザービームから数%のサンプリングビーム
cを得るためのものである。
The injection lock oscillator 19 is a laser output section, and the aperture 14 is arranged so as to extract a uniform intensity distribution component of the laser beam emitted from the emitting mirror 9. The sampling mirror 12 is for obtaining a sampling beam c of several% from the laser beam that has passed through the aperture 14.

【0040】ビームモニタ装置13はサンプリングビーム
cをモニタするものである。拡大光学系15はサンプリン
グ鏡12を反射したレーザービームdを拡大するもので、
増幅器17は拡大光学系15を通過したレーザービームeを
増幅するものである。
The beam monitor device 13 monitors the sampling beam c. The magnifying optical system 15 magnifies the laser beam d reflected from the sampling mirror 12,
The amplifier 17 amplifies the laser beam e that has passed through the magnifying optical system 15.

【0041】つぎに図2により本実施例に係るレーザー
増幅装置の立体的構成について説明する。図2において
符号26(26a,26b)は水平面と垂直な面に光学素子を
設置できる立て定盤で、左側の立て定盤26aに出射光学
系3,縮小光学系6および第2の反射鏡5a,5bが設
置されている。左側の立て定盤26aの右側上部に、マス
タ発振管27(図1の2に相当する)と、その下部にイン
ジェクションロック発振管28(図1の8に相当する)
が、それぞれ絶縁性支持器31を介して金属製支持台30に
よって固定されている。
Next, the three-dimensional structure of the laser amplifying apparatus according to this embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 2, reference numeral 26 (26a, 26b) is a stand surface plate on which an optical element can be installed on a surface perpendicular to the horizontal plane. The left side surface plate 26a has an emission optical system 3, a reduction optical system 6 and a second reflecting mirror 5a. , 5b are installed. A master oscillator tube 27 (corresponding to 2 in FIG. 1) is provided on the upper right side of the stand plate 26a on the left side, and an injection lock oscillator tube 28 (corresponding to 8 in FIG. 1) is provided below the master oscillator tube 27.
Are fixed by a metal support base 30 via an insulating support 31.

【0042】また、マスタ発振管27とインジェクション
ロック発振管28から右側の立て定盤26bには凹面反射鏡
1,出射鏡9、凸面鏡10,調整用反射鏡20b,20cおよ
び拡大光学系15が設置されている。拡大光学系15から出
射するレーザービームは増幅器に入射する。
A concave reflecting mirror 1, an emitting mirror 9, a convex mirror 10, adjusting reflecting mirrors 20b and 20c, and a magnifying optical system 15 are installed on the stand plate 26b on the right side of the master oscillating tube 27 and the injection lock oscillating tube 28. Has been done. The laser beam emitted from the magnifying optical system 15 enters the amplifier.

【0043】このように金属製支持台30に固定された電
気的に絶縁する支持器31に支持されたレーザー発振管を
上下に設置し、一方をマスタ発振管27とし他方をインジ
ェクションロック発振管28とする。これらの発振管27,
28の両側に立て定盤26a,26bを設けて、この立て定盤
26a,26bに前述したように光学系を設置する。
The laser oscillating tubes supported by the electrically insulating support 31 fixed to the metal supporting base 30 as described above are installed vertically, one is the master oscillating tube 27 and the other is the injection lock oscillating tube 28. And These oscillator tubes 27,
The stand surface plates 26a and 26b are provided on both sides of 28,
The optical system is installed on 26a and 26b as described above.

【0044】よって、第1の実施例によれば、インジェ
クションロック発振装置19内に凹面鏡7および凸面鏡10
と出射鏡9が斜軸共振が行えるように配置されている。
Therefore, according to the first embodiment, the concave mirror 7 and the convex mirror 10 are provided in the injection lock oscillator 19.
And the output mirror 9 are arranged so that the oblique axis resonance can be performed.

【0045】これにより図1中aの位置でのビームプロ
ファイルは図3に示すように出射鏡9の影がビーム端部
に移動することが可能となり、アパーチャ14で切り出す
ときに図4に示すように、切り出す成分はビーム空間強
度分布の均一な成分を最大限に活用することが可能とな
る。
As a result, the beam profile at the position a in FIG. 1 makes it possible for the shadow of the exit mirror 9 to move to the beam end as shown in FIG. 3, and as shown in FIG. In addition, it is possible to maximize the use of the component having a uniform beam space intensity distribution as the component to be cut out.

【0046】しかして、前記アパーチャ14を通過後にた
とえばビーム空間強度分布が測定可能なビームモニタ装
置13を設けることによりアパーチャ14設置位置の最適化
およびビーム品質の監視が可能となる。
Therefore, by providing the beam monitor device 13 capable of measuring the beam spatial intensity distribution after passing through the aperture 14, it is possible to optimize the installation position of the aperture 14 and monitor the beam quality.

【0047】また、図2に示した立体的配置例によれ
ば、マスタ発振管27とインジェクションロック発振管28
が上下に配置されて、設置面積が1/2になるほか、光
学系が立て定盤26に設置されているため、その調整が容
易になる。さらに、前記各発振管27,28が金属製支持台
30に支持されているため、保守時に前記各発振管27,28
のみを容易に移動,保守することができる。
Further, according to the three-dimensional arrangement example shown in FIG. 2, the master oscillation tube 27 and the injection lock oscillation tube 28 are
Are arranged above and below, and the installation area is halved, and since the optical system is installed on the stand surface plate 26, its adjustment becomes easy. Further, each of the oscillation tubes 27 and 28 is a metal support base.
Since it is supported by 30, the oscillator tubes 27 and 28 are
Only can be easily moved and maintained.

【0048】以上の作用により、インジェクションロッ
ク発振装置19から出射されたレーザービームの強度分布
は、図8に示す曲線fのように均一な成分だけを常時安
定して増幅器17へ入光できる。したがって、この増幅器
17の増幅能力を最大限に生かすことができ、また、常時
安定した増幅ビームを得ることができ、さらに、設置面
積が約1/2になるほか、保守,調整が容易になる。
With the above operation, the intensity distribution of the laser beam emitted from the injection lock oscillator 19 can always stably enter only the uniform component as shown by the curve f in FIG. Therefore this amplifier
The amplification capacity of 17 can be used to the maximum, a stable amplified beam can be obtained at all times, and the installation area is reduced to about 1/2, and maintenance and adjustment are easy.

【0049】つぎに図5により本発明に係るレーザー増
幅装置の第2の実施例を説明する。この第2の実施例に
係るレーザー増幅装置はレーザー発振光源としてのマス
タ発振装置18と、レーザー出力部としてのインジェクシ
ョンロック発振装置19を備え、前記マスタ発振装置18
は、レーザー発振器2の両側に対向配置された出射光学
系3および凹面反射鏡1を有している。
Next, a second embodiment of the laser amplifying device according to the present invention will be described with reference to FIG. The laser amplification device according to the second embodiment includes a master oscillation device 18 as a laser oscillation light source and an injection lock oscillation device 19 as a laser output section.
Has a light emitting optical system 3 and a concave reflecting mirror 1 which are arranged on opposite sides of the laser oscillator 2.

【0050】インジェクションロック発振装置19はイン
ジェクションロック発振器8の両側に斜軸共振するよう
に対向配置された全反射凹面鏡21およびマスタ発振ビー
ムを半透過でき、透過面が凹面、反射面が凸面となって
いるメニスカス鏡22を備え、インジェクションロック発
振器8の出光側で光軸に傾斜して前記全反射凹面鏡21に
対向して設置された部分透過型出射光学系20を備えてい
る。
The injection lock oscillator 19 is capable of semi-transmission of the total reflection concave mirror 21 and the master oscillation beam, which are arranged to face each other on both sides of the injection lock oscillator 8 so as to resonate obliquely, and the transmission surface is concave and the reflection surface is convex. The meniscus mirror 22 is provided, and the partially transmissive emission optical system 20 is provided so as to be inclined to the optical axis on the light output side of the injection lock oscillator 8 so as to face the total reflection concave mirror 21.

【0051】この出射光学系20の外面にマスタビームを
例えば半透過するコーティングを施し、内面に斜軸共振
に必要な通過口として例えば半反射するコーティング、
他を全反射するようなコーティングを施している。
A coating for semi-transmitting the master beam, for example, is applied to the outer surface of the output optical system 20, and a semi-reflective coating is applied to the inner surface as a passage required for oblique axis resonance.
It has a coating that totally reflects the others.

【0052】また、マスタ発振装置18から出射されたレ
ーザービームを、入射光学系23へ入射するための調整用
反射鏡4(4a,4b)と、マスタビームをインジェク
ションロック発振装置19へ最適に入射するための入射光
学系23を配置する。レーザービームの均一な強度分布成
分を取り出せるように反射鏡11の後にアパーチャ14を設
置する。
Further, the adjusting reflection mirror 4 (4a, 4b) for making the laser beam emitted from the master oscillator 18 enter the incident optical system 23, and the master beam optimally enter the injection lock oscillator 19. An incident optical system 23 for arranging is arranged. An aperture 14 is installed after the reflecting mirror 11 so that a uniform intensity distribution component of the laser beam can be taken out.

【0053】このアパーチャ14を通過したレーザービー
ムbから数%のサンプリングビームを取り出すためのサ
ンプリング鏡12を配置し、このサンプリングビームcを
モニタするためのビームモニタ装置13と、前記サンプリ
ング鏡12を反射したレーザービームdを拡大するための
拡大光学系15と、この拡大光学系を通過したレーザービ
ームを増幅する増幅装置17を配置する。なお、その他の
部分は第1の実施例と同様なので、その説明は省略す
る。
A sampling mirror 12 for extracting a sampling beam of several% from the laser beam b which has passed through the aperture 14 is arranged, and a beam monitor device 13 for monitoring the sampling beam c and the sampling mirror 12 are reflected. A magnifying optical system 15 for magnifying the laser beam d and an amplifying device 17 for amplifying the laser beam passing through the magnifying optical system are arranged. Since the other parts are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted.

【0054】本第2の実施例によれば、インジェクショ
ンロック発振装置19内の部分透過型出射鏡20とメニスカ
ス鏡22が斜軸共振が行える位置に部分透過型出射鏡20を
配置することにより図5中aの位置でのビームプロファ
イルは図3に示すようになり、部分透過型出射鏡20の光
通過口の例えば半反射コーティングされた部分のビーム
成分が前記出射鏡孔部の影と同様にビーム端部に移動す
ることが可能となる。
According to the second embodiment, by arranging the partial transmission type output mirror 20 in a position where the partial transmission type output mirror 20 and the meniscus mirror 22 in the injection lock oscillator 19 can perform oblique axis resonance, The beam profile at the position a in 5 is as shown in FIG. 3, and the beam component of, for example, the semi-reflective coated portion of the light passage opening of the partially transmissive emission mirror 20 is similar to the shadow of the emission mirror hole. It is possible to move to the beam end.

【0055】また、アパーチャ14でビーム空間強度分布
の均一な成分のみを取り出せば、bの位置でのビームプ
ロファイルは図4に示すようにレーザービームを最大限
に活用することが可能となる。
Also, if only a uniform component of the beam space intensity distribution is extracted by the aperture 14, the beam profile at the position of b can maximize the use of the laser beam as shown in FIG.

【0056】さらに、前記アパーチャを通過後に例えば
ビーム空間強度分布が測定可能なビームモニタ装置13を
備えることでアパーチャ14設置位置の最適化およびビー
ム品質の監視が可能となる。本第2実施例で得られるビ
ームの強度分布は図8の曲線fに示したよう平坦とな
る。
Further, by providing the beam monitor device 13 capable of measuring, for example, the beam space intensity distribution after passing through the aperture, it becomes possible to optimize the installation position of the aperture 14 and monitor the beam quality. The intensity distribution of the beam obtained in the second embodiment is flat as shown by the curve f in FIG.

【0057】この第2の実施例は第1の実施例と同様に
インジェクションロック発振装置19から出射されたレー
ザービームの均一な成分だけを常時安定して増幅器17へ
入射できるため、この増幅器17の増幅能力を最大限に生
かすことができ常時安定した増幅ビームを得ることがで
きる。
In the second embodiment, as in the first embodiment, only the uniform component of the laser beam emitted from the injection lock oscillator 19 can always be stably input to the amplifier 17. The amplification ability can be maximized and a stable amplified beam can be obtained at all times.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明によれば、インジェクションロッ
クビームを斜軸共振として均一な空間強度分布成分を有
効にアパーチャにより取り出し、そのビームをビームモ
ニタ装置で常時監視することによって、均一な成分だけ
を常時安定して増幅器へ入射可能となる。
According to the present invention, a uniform spatial intensity distribution component is effectively taken out by the aperture as an oblique-axis resonance of an injection lock beam, and the beam is constantly monitored by a beam monitor so that only a uniform component is obtained. It becomes possible to always stably enter the amplifier.

【0059】したがって、増幅器の増幅能力を安定にし
かも最大限に生かすことができ、また、設置面積の低減
による低コスト化,保守,調整の省力化が可能になる。
Therefore, the amplification capability of the amplifier can be utilized stably and to the maximum, and the installation area can be reduced to reduce the cost and save labor for maintenance and adjustment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るレーザー増幅装置の第1の実施例
を示す構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of a laser amplifying device according to the present invention.

【図2】図1における概略的側面図。FIG. 2 is a schematic side view of FIG.

【図3】図1におけるa点でのビームプロファイル図。FIG. 3 is a beam profile diagram at point a in FIG.

【図4】図1におけるb点でのビームプロファイル図。FIG. 4 is a beam profile diagram at point b in FIG.

【図5】本発明に係るレーザー増幅装置の第2の実施例
を示す構成図。
FIG. 5 is a configuration diagram showing a second embodiment of the laser amplifying device according to the present invention.

【図6】(a)は従来のレーザー増幅装置を示す構成
図、(b)は(a)におけるa点でのビームプロファイ
ル図。
6A is a configuration diagram showing a conventional laser amplification device, and FIG. 6B is a beam profile diagram at point a in FIG. 6A.

【図7】図6(a)を展開した平面図。FIG. 7 is a plan view showing the development of FIG.

【図8】本発明例と従来例により得られるビームの強度
分布を比較して示す曲線図。
FIG. 8 is a curve diagram showing a comparison of beam intensity distributions obtained by the example of the present invention and the conventional example.

【符号の説明】 1…凹面反射鏡、2…マスタ発振器、3…出射光学系、
4…第1の調整用反射鏡、5…第2の調整用反射鏡、6
…縮小光学系、7…凹面鏡、8…インジェクションロッ
ク発振器、9…出射鏡、10…凸面鏡、11…反射鏡、12…
サンプリング鏡、13…ビームモニタ装置、14…アパーチ
ャ、15…拡大光学系、16…第3の調整用反射鏡、17…増
幅器、18…マスタ発振装置、19…インジェクションロッ
ク発振装置、20…調整用反射鏡、、21…反射凹面鏡、22
…メニスカス鏡、23…入射光学系、24…発振器用制御
器、25…増幅器用制御器、26…立て定盤、27…マスタ発
振管、28…インジェクションロック発振管、29…増幅器
用発振器、30…支持台、31…支持器。
[Explanation of reference numerals] 1 ... concave reflecting mirror, 2 ... master oscillator, 3 ... exit optical system,
4 ... 1st adjustment reflecting mirror, 5 ... 2nd adjustment reflecting mirror, 6
... reduction optical system, 7 ... concave mirror, 8 ... injection lock oscillator, 9 ... exit mirror, 10 ... convex mirror, 11 ... reflecting mirror, 12 ...
Sampling mirror, 13 ... Beam monitor, 14 ... Aperture, 15 ... Enlarging optical system, 16 ... Reflector for third adjustment, 17 ... Amplifier, 18 ... Master oscillator, 19 ... Injection lock oscillator, 20 ... For adjustment Reflective mirror, 21 ... Reflective concave mirror, 22
… Meniscus mirror, 23… Incident optical system, 24… Oscillator controller, 25… Amplifier controller, 26… Stand plate, 27… Master oscillator tube, 28… Injection lock oscillator tube, 29… Amplifier oscillator, 30 … Supporting table, 31… Supporting device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大谷 良一 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 小林 徳康 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 阿部 素久 東京都港区芝浦一丁目1番1号 株式会社 東芝本社事務所内 (72)発明者 廣田 圭一 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Ryoichi Otani Ryoichi Otani No. 8 Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Stock company, Toshiba Yokohama Works (72) Inventor Tokuyasu Kobayashi No. 8 Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Company Toshiba Yokohama Office (72) Inventor Abe Motohisa 1-1-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo Inside Toshiba Head Office Co., Ltd. (72) Inventor Keiichi Hirota 2-24 Harumicho, Fuchu-shi, Tokyo East Shiba FA System Engineering Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザー発振源であるマスタ発振器を有
するマスタ発振装置と、このマスタ発振装置から出射し
たレーザービームを入射して斜軸共振を行うインジェク
ションロック発振管を有するインジェクションロック発
振装置と、このインジェクションロック発振装置の出力
レーザービームの均一な強度分布成分を切り出すための
アパーチャとこのアパーチャから切り出されたレーザー
ビームを入射するレーザー増幅器を具備したことを特徴
とするレーザー増幅装置。
1. A master oscillator having a master oscillator which is a laser oscillation source, an injection lock oscillator having an injection lock oscillator for injecting a laser beam emitted from the master oscillator to cause oblique axis resonance, and A laser amplification device comprising an aperture for cutting out a uniform intensity distribution component of an output laser beam of an injection lock oscillator and a laser amplifier for injecting the laser beam cut out from this aperture.
【請求項2】 レーザー発振源であるマスタ発振器を有
するマスタ発振装置と、このマスタ発振装置から出射し
たレーザービームを入射して斜軸共振を行うインジェク
ションロック発振管を有するインジェクションロック発
振装置と、このインジェクションロック発振装置に前記
マスタ発振器から出射したレーザービームを注入するた
めの縮小光学系と、前記インジェクションロック発振装
置から出射したレーザービームの均一な強度分布成分を
切り出すためのアパーチャと、このアパーチャで切り出
されたレーザービームのビームサイズを調整する拡大光
学系と、この拡大光学系から出射したレーザービームを
入射する増幅器とを具備することを特徴とするレーザー
増幅装置。
2. A master oscillating device having a master oscillator which is a laser oscillating source, an injection lock oscillating device having an injection lock oscillating tube for obliquely resonating upon incidence of a laser beam emitted from the master oscillating device, and A reduction optical system for injecting the laser beam emitted from the master oscillator into the injection-lock oscillator, an aperture for cutting out a uniform intensity distribution component of the laser beam emitted from the injection-lock oscillator, and this aperture. A laser amplification device comprising: a magnifying optical system that adjusts the beam size of the generated laser beam; and an amplifier that inputs the laser beam emitted from the magnifying optical system.
【請求項3】 前記アパーチャを通過したレーザービー
ムをサンプリングするサンプリング鏡と、このサンプリ
ング鏡からのサンプリングビームの強度分布をモニタす
るためのビームモニタ装置を設けてなることを特徴とす
る請求項1ないし請求項2記載のレーザー増幅装置。
3. A sampling mirror for sampling a laser beam that has passed through the aperture, and a beam monitor device for monitoring the intensity distribution of the sampling beam from the sampling mirror. The laser amplification device according to claim 2.
【請求項4】 前記マスタ発振器と、前記インジェクシ
ョンロック発振器とを上下に配置してなることを特徴と
する請求項1ないし請求項2記載のレーザー増幅装置。
4. The laser amplifying device according to claim 1, wherein the master oscillator and the injection lock oscillator are vertically arranged.
【請求項5】 前記マスタ発振器と前記インジェクショ
ンロック発振器が1ユニットで構成され、前記各発振器
の制御器等の付属機器を上下2台のレーザー発振管を配
置した側と反対側に設置したことを特徴とする請求項1
ないし請求項2記載のレーザー増幅装置。
5. The master oscillator and the injection lock oscillator are configured as one unit, and accessory devices such as a controller for each oscillator are installed on the side opposite to the side where the two upper and lower laser oscillation tubes are arranged. Claim 1 characterized by
The laser amplification device according to claim 2.
【請求項6】 前記マスタ発振器、前記インジェクショ
ンロック発振器および前記増幅器のレーザー発振管は金
属製支持台に電気的に絶縁する支持器で支持してなるこ
とを特徴とする請求項1ないし請求項2記載のレーザー
増幅装置。
6. The master oscillator, the injection lock oscillator, and the laser oscillator tube of the amplifier are supported by a supporter electrically insulated from a metal support base. The laser amplification device described.
JP6193031A 1994-08-17 1994-08-17 Laser amplifier equipment Pending JPH0856036A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6193031A JPH0856036A (en) 1994-08-17 1994-08-17 Laser amplifier equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6193031A JPH0856036A (en) 1994-08-17 1994-08-17 Laser amplifier equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0856036A true JPH0856036A (en) 1996-02-27

Family

ID=16301023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6193031A Pending JPH0856036A (en) 1994-08-17 1994-08-17 Laser amplifier equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0856036A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003158323A (en) * 2001-11-22 2003-05-30 Shimadzu Corp Solid state laser
CN111146680A (en) * 2019-12-12 2020-05-12 莆田市骏坤商贸有限公司 Driving power supply system for curvature aperture lens wheel of pulse laser

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003158323A (en) * 2001-11-22 2003-05-30 Shimadzu Corp Solid state laser
CN111146680A (en) * 2019-12-12 2020-05-12 莆田市骏坤商贸有限公司 Driving power supply system for curvature aperture lens wheel of pulse laser

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6654163B1 (en) Optical amplifier arrangement for a solid state laser
US5615043A (en) Multi-pass light amplifier
US5412681A (en) Slab-waveguide CO2 laser
US5892789A (en) Solid-state laser apparatus
US6434177B1 (en) Solid laser with one or several pump light sources
JPS6156634B2 (en)
JPH09506715A (en) Beam shaping device
JPH08181368A (en) Solid state laser amplifier and solid state laser device
EP0580867B1 (en) Laser
US20130223470A1 (en) Apparatus for femtosecond laser optically pumped by laser diode pumping module
JPH04259271A (en) Slab or strip waveguide laser
CN115084989A (en) Solid laser amplifier and femtosecond pulse laser device
JP2003502850A (en) Solid state laser
EP0955707B1 (en) Laser system
JPH0856036A (en) Laser amplifier equipment
US20050259705A1 (en) Laser oscillation device
JP2004039767A (en) Mopa type or injection synchronizing type laser equipment
JP3290345B2 (en) Light-pumped solid-state laser amplifier, light-pumped solid-state laser, and solid-state laser pumping method
US4941147A (en) Ring resonators with intracavity grazing incidence telescopes
JPH03261191A (en) Laser amplifying system
US4245171A (en) Device for producing high-powered radiation employing stimulated Raman scattering in an off-axis path between a pair of spherical mirrors
US4271396A (en) Incident radiation absorber/reflector assembly
JP4240763B2 (en) Laser equipment
JP4001077B2 (en) Solid-state laser amplification device and solid-state laser device
JPH05297253A (en) Coupled lens device