JPH03261191A - Laser amplifying system - Google Patents
Laser amplifying systemInfo
- Publication number
- JPH03261191A JPH03261191A JP5821790A JP5821790A JPH03261191A JP H03261191 A JPH03261191 A JP H03261191A JP 5821790 A JP5821790 A JP 5821790A JP 5821790 A JP5821790 A JP 5821790A JP H03261191 A JPH03261191 A JP H03261191A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- ase
- pinhole
- high quality
- amplified
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 20
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 20
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 26
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は金属蒸気またはガスをレーザー媒質とするレー
ザー装置をレーザー増幅器として使用するレーザー増幅
シスムに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a laser amplification system that uses a laser device using metal vapor or gas as a laser medium as a laser amplifier.
(従来の技術)
レーザー増幅シスムはエネルギ開発、レーザー加工、レ
ーザーによる半導体製造分野などに応用され、とりわけ
、近年ではウラン濃縮技術にも応用されている。(Prior Art) Laser amplification systems are applied to fields such as energy development, laser processing, and semiconductor manufacturing using lasers, and in recent years, in particular, have been applied to uranium enrichment technology.
金属蒸気またはガスをレーザ媒質とするレーザー装置の
発振管は口径に比較してその長手寸法が長い。また、レ
ーザーとしての出力を高めるためには複数台のレーザー
装置を使用して、そのうちの1台をレーザー発振器とし
て、それ以外をレーザー増幅器として使用し、全体で高
いレーザー出力を得るレーザー増幅システムとして構成
することが多い。このようなレーザー増幅システムは第
7図に示したような構成をしており、その第7図を参照
して従来例を説明する。The oscillation tube of a laser device using metal vapor or gas as a laser medium has a long longitudinal dimension compared to its diameter. In addition, in order to increase the laser output, multiple laser devices are used, one of which is used as a laser oscillator and the others are used as laser amplifiers, resulting in a laser amplification system that obtains a high laser output as a whole. Often configured. Such a laser amplification system has a configuration as shown in FIG. 7, and a conventional example will be explained with reference to FIG.
符号1で示すレーザー発振器はレーザー発振管2と、こ
の発振管2を駆動する駆動電源3およびレーザー発振媒
体供給、排気装置I4とからなっている。このレーザー
発振器1から出射したマスタービーム5は、反射ミラー
6.6を通って第1のレーザー増幅器7へ入射する。こ
の第1のレーザー増幅器7は前記レーザー発振器1と同
様な構成をしており、レーザー発振管2.駆動電源3お
よびレーザー発振媒体供給、排気装置4とからなってい
る。The laser oscillator indicated by the reference numeral 1 consists of a laser oscillation tube 2, a driving power source 3 for driving the oscillation tube 2, and a laser oscillation medium supply and exhaust device I4. A master beam 5 emitted from this laser oscillator 1 passes through a reflection mirror 6.6 and enters a first laser amplifier 7. This first laser amplifier 7 has the same configuration as the laser oscillator 1, and has a laser oscillation tube 2. It consists of a driving power source 3 and a laser oscillation medium supply and exhaust device 4.
このレーザー増幅器7から出射した増幅ビーム8は反射
ミラー6.6を通って第2のレーザー増幅器7aに入射
する。この第2のレーザー増幅器7aの構成は前記第1
のレーザー増幅器7と同様である。このようにして、従
来のレーザー増幅システムはレーザー発振器1と、後段
の第1のレーザー増幅器7および第2のレーザー増幅器
7aならびに図示してないが必要に応じて第3.第4な
どのレーザー増幅器を複数台配列して大きなレーザー増
幅ビームを得ている。また、第1および第2のレーザー
増幅器7.7aの台数が2台よりもさらに多い場合にも
上述した配置の繰返しで構成される。The amplified beam 8 emitted from this laser amplifier 7 passes through a reflection mirror 6.6 and enters a second laser amplifier 7a. The configuration of this second laser amplifier 7a is the same as that of the first laser amplifier 7a.
This is similar to the laser amplifier 7 of . In this way, the conventional laser amplification system includes a laser oscillator 1, a first laser amplifier 7 and a second laser amplifier 7a in the subsequent stage, and optionally a third laser amplifier (not shown). A large laser amplification beam is obtained by arranging a plurality of laser amplifiers such as the fourth laser amplifier. Further, even when the number of first and second laser amplifiers 7.7a is more than two, the arrangement described above is repeated.
(発明が解決しようとする課題)
レーザー発振管2からマスタービーム5つまり基準レー
ザービームを取り出す場合、レーザー発振器1および各
レーザー増幅器7,7a・・・の段間に反射ミラー6.
6を使用して光軸を揃えることができる。しかしながら
、第8図および第9図に示したようにレーザー発振器管
2から出射する高品質ビーム9のほか1=AsE10(
^mplilied 5pon+@neous Emi
ssion)と呼ばれる自然放出光(以下、ASEと記
す)が伝送ビーム中に混合する。このASEIOはレー
ザー増幅器7,7a・・・内の増幅エネルギを損失し、
伝送ビーム中の高品質ビーム9の割合を低減する害を及
ぼす性質を有している。(Problem to be Solved by the Invention) When extracting the master beam 5, that is, the reference laser beam, from the laser oscillation tube 2, a reflecting mirror 6.
6 can be used to align the optical axes. However, as shown in FIGS. 8 and 9, in addition to the high quality beam 9 emitted from the laser oscillator tube 2, 1=AsE10 (
^mplilied 5pon+@neous Emi
Spontaneous emission light (hereinafter referred to as ASE) called ASE is mixed into the transmission beam. This ASEIO causes a loss of amplification energy in the laser amplifiers 7, 7a...
It has the detrimental property of reducing the proportion of high quality beams 9 in the transmitted beam.
そのため、第7図に示した従来のレーザー増幅システム
ではレーザー増幅器7,7a・・・内の増幅エネルギの
損失を抑え、高品質ビーム9の割合が大きいレーザー増
幅ビームを得ることが困難な課題がある。Therefore, in the conventional laser amplification system shown in FIG. 7, it is difficult to suppress the loss of amplification energy in the laser amplifiers 7, 7a, etc. and obtain a laser amplified beam with a large proportion of high-quality beam 9. be.
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、A
SEによる増幅エネルギの損失を抑え、高効率で高品質
のレーザー増幅ビームを得ることができるレーザー増幅
シスムを提供することにある。The present invention was made to solve the above problems, and A
It is an object of the present invention to provide a laser amplification system capable of suppressing the loss of amplification energy due to SE and obtaining a highly efficient and high quality laser amplified beam.
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
本発明はレーザー発振器と、このレーザー発振器に少な
くとも1台のレーザー増幅器を組合せてなるレーザー増
幅システムにおいて、前記レーザー発振器とレーザー増
幅器との股間、また、必要に応じてレーザー増幅器とほ
かのレーザー増幅器との段間にピンホールを有する空間
フィルタ装置を設けてなることを特徴とする。[Structure of the Invention (Means for Solving the Problems) The present invention provides a laser amplification system comprising a laser oscillator and at least one laser amplifier in combination with the laser oscillator, wherein a crotch between the laser oscillator and the laser amplifier, Furthermore, the present invention is characterized in that a spatial filter device having a pinhole is provided between the stages of the laser amplifier and other laser amplifiers, if necessary.
空間フィルタ装置としては凸レンズと凸レンズとの間に
ピンホールを有するピンホール板を介在させて組合せた
もの、または凹面ミラと凹面ミラとの間に前記ピンホー
ル板を介在させて組合せたものからなっている。The spatial filter device consists of a combination of convex lenses with a pinhole plate having a pinhole interposed between them, or a combination of concave mirrors with the pinhole plate interposed between two concave mirrors. ing.
(作 用)
レーザービーム中には各レーザー発振管からのASEが
発生しているので、このASEを混入したレーザービー
ムをレンズなどによって収束した場合、高品質ビームは
その収束性が高く、非常に小さなスポット径に絞ること
ができる。これに対して、ASEは収束性が極めて低い
。そこで、高品質ビームの収束点(焦点)にピンホール
を配置して、このピンホールによってASEを除去し、
そのピンホール内を高品質ビームだけを通過させ対称に
配置された凸レンズまたは凹面ミラによって平行ビーム
に戻す。このピンホールによって混入したASEの割合
の高いレーザー増幅器内の増幅エネルギの損失を低減す
ることができる。また、取扱うレーザー発振器の発振波
長によるビーム軌道の変化をなくすことができる。(Function) ASE from each laser oscillation tube is generated in the laser beam, so when a laser beam containing this ASE is converged with a lens, etc., the high quality beam has high convergence and is extremely Can be narrowed down to a small spot diameter. In contrast, ASE has extremely low convergence. Therefore, a pinhole is placed at the convergence point (focal point) of the high-quality beam, and ASE is removed by this pinhole.
Only a high-quality beam passes through the pinhole and is returned to a parallel beam by a symmetrically arranged convex lens or concave mirror. This pinhole can reduce the loss of amplification energy in a laser amplifier with a high proportion of ASE mixed in. Further, it is possible to eliminate changes in the beam trajectory due to the oscillation wavelength of the laser oscillator being handled.
(実施例)
第1図および第2図を参照しながら本発明に係るレーザ
ー増幅システムの一実施例を説明する。(Embodiment) An embodiment of the laser amplification system according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
第1図において、符号1はレーザー発振器で、このレー
ザー発振器1はレーザー発振管2と、この発振管2を駆
動する駆動電源3およびレーザー発振媒体供給、排気装
置4とからなっている。このレーザー発振管2から出射
されるマスタービーム5の光軸線上には中間フィルタ装
置としての一対の凸レンズ11. llaが配置されて
おり、この凸レンズ11. lla間にピンホール12
を中心部に有するピンホール板13が配置されている。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a laser oscillator, and this laser oscillator 1 consists of a laser oscillation tube 2, a driving power source 3 for driving this oscillation tube 2, and a laser oscillation medium supply and exhaust device 4. On the optical axis of the master beam 5 emitted from the laser oscillation tube 2, there is a pair of convex lenses 11 as an intermediate filter device. lla is arranged, and this convex lens 11. Pinhole 12 between lla
A pinhole plate 13 having a central portion thereof is arranged.
凸レンズllaの後側には一対の反射ミラー6゜6aが
配置されている。反射ミラー6aの光軸線上に第1のレ
ーザー増幅器7のレーザー発振管2が配置されている。A pair of reflective mirrors 6.degree. 6a are arranged behind the convex lens lla. The laser oscillation tube 2 of the first laser amplifier 7 is arranged on the optical axis of the reflection mirror 6a.
この第1のレーザー増幅器7は前記レーザー発振器1と
同様な構成で、レーザー発振管2.駆動電源3およびレ
ーザー発振媒体供給、排気装置4とからなっている。This first laser amplifier 7 has the same configuration as the laser oscillator 1, and has a laser oscillation tube 2. It consists of a driving power source 3 and a laser oscillation medium supply and exhaust device 4.
この第1のレーザー増幅器7の発振管2から出射する増
幅ビーム8の光軸線上には前記レーザー発振器1と同様
に中間フィルタ装置としての一対の凸レンズII、 I
laおよびこの凸レンズIf、 Ila間にピンホール
12を有するピンホール板13が配置されている。凸レ
ンズllaの後側には一対の反射ミラ6.6aが配置さ
れている。反射ミラ6aの後側には前述した第1のレー
ザー増幅器7と同様の構成を有する第2のレーザー増幅
器7aが配置されている。このように第1図に示したレ
ーザー増幅システムはマスタービーム(基準レーザービ
ーム)5を発振する発振管2と、そのビームを増幅する
機能を有するレーザー増幅器7と、マスタービーム5お
よび増幅ビーム8中のASEを除去する目的で設けられ
た一対の凸レンズ11. llaとピンホール12を有
するピンホール板13とを組合せて構成した中間フィル
タ装置および光調整用の反射ミラー6.6aとからなっ
ている。 しかして、レーザー発振器1からのマスター
ビーム中に含まれるA S E 10は第2図に拡大し
てその要部のみ示す一対の凸レンズ11. llaとピ
ンホール12を有するピンホール板13とからなるフィ
ルタ装置で除去されて高品質ビーム9となって第工図に
示した後段のレーザー増幅器7へと伝送される。この伝
送によってA S E l(lによる増幅エネルギの損
失を低減し、効率よく高品質の増幅ビーム8を得ること
ができる。なお、第2図中符号14は高品質ビームの焦
点を示しており、ピンホール板13のピンホール12は
その焦点14に合致させることが必要である。On the optical axis of the amplified beam 8 emitted from the oscillation tube 2 of the first laser amplifier 7, there is a pair of convex lenses II, I as an intermediate filter device, similar to the laser oscillator 1.
A pinhole plate 13 having a pinhole 12 is arranged between the convex lenses If and Ila. A pair of reflective mirrors 6.6a are arranged behind the convex lens lla. A second laser amplifier 7a having the same configuration as the first laser amplifier 7 described above is arranged behind the reflection mirror 6a. In this way, the laser amplification system shown in FIG. A pair of convex lenses 11 provided for the purpose of removing ASE. lla and a pinhole plate 13 having a pinhole 12, and a reflection mirror 6.6a for light adjustment. Thus, the ASE 10 included in the master beam from the laser oscillator 1 is formed by a pair of convex lenses 11. lla and a pinhole plate 13 having pinholes 12, the beam is removed to form a high quality beam 9 which is transmitted to the subsequent laser amplifier 7 shown in the drawing. Through this transmission, the loss of amplification energy due to A S E l (l) can be reduced, and a high-quality amplified beam 8 can be obtained efficiently. In addition, the reference numeral 14 in FIG. 2 indicates the focus of the high-quality beam. , it is necessary that the pinhole 12 of the pinhole plate 13 coincides with its focal point 14.
また、レーザー増幅器7の段数が1段以上になるシステ
ムでは各レーザー増幅器7の段間にも凸レンズII、
llaおよびピンホール板13を配置してASEを除去
することができる。さらに増幅ビーム8の強度が十分増
加していない低い段の増幅ビームではASEの含有率が
高いため効率の向上に有利となる。In addition, in a system in which the number of stages of laser amplifiers 7 is one or more, a convex lens II is also provided between the stages of each laser amplifier 7.
lla and pinhole plate 13 can be placed to remove ASE. Further, in the amplified beams at lower stages where the intensity of the amplified beam 8 has not been sufficiently increased, the content of ASE is high, which is advantageous for improving efficiency.
上記実施例では中間フィルタ装置は一対の凸レンズI1
. llaとピンホール板13との組合わせで説明した
が、これに限るものではない。レーザービームの軌道線
はたとえば第3図に示したように取扱うレーザービーム
が複数の発振波長成分を含むレーザービーム15の場合
には凸レンズ11を通過した後の焦点14の位置が破線
で示した焦点14aの位置に波長によるずれ16が生じ
、各波長毎にレーザービームの軌道が分離する。In the above embodiment, the intermediate filter device includes a pair of convex lenses I1
.. Although the combination of lla and pinhole plate 13 has been described, the combination is not limited to this. For example, as shown in FIG. 3, when the laser beam to be handled is a laser beam 15 containing a plurality of oscillation wavelength components, the trajectory line of the laser beam is the position of the focal point 14 after passing through the convex lens 11, which is the focal point indicated by the broken line. A shift 16 depending on the wavelength occurs at the position 14a, and the trajectory of the laser beam is separated for each wavelength.
このような場合には第4図から第6図に示したように、
放物面ミラー17または凸状球面ミラー18などの反射
ミラーを組合せて中間フィルタ装置を構成することが望
ましい。In such a case, as shown in Figures 4 to 6,
It is desirable to configure the intermediate filter device by combining reflecting mirrors such as the parabolic mirror 17 or the convex spherical mirror 18.
すなわち、第4図に示した中間フィルタ装置は複数の発
振波長成分を含むレーザービーム15の放射領域に一対
の放物面ミラー17.17aを軸外配置し、この放物面
ミラー17.17aの焦点にピンホール板13を配置し
た例を示している。この例では放物面ミラー17.17
aには軸外でもレーザー波面のゆがみを生じないミラー
を使用することが好ましい。第4図における放物面ミラ
17.17aは精度がすぐれたものを製造することが困
難で高価になるきらいがある。したがって、第5図およ
び第6図に示したような中間フィルタ装置を適用するこ
とによって製造が容易で、低価格で得ることかできる。Specifically, the intermediate filter device shown in FIG. An example is shown in which a pinhole plate 13 is placed at the focal point. In this example, the parabolic mirror 17.17
It is preferable to use a mirror that does not cause distortion of the laser wavefront even off-axis. The parabolic mirror 17.17a shown in FIG. 4 is difficult to manufacture with high precision and tends to be expensive. Therefore, by applying the intermediate filter device as shown in FIGS. 5 and 6, it is easy to manufacture and can be obtained at low cost.
すなわち、第5図は通常の凹状球面ミラー18゜18a
を垂直に向い合わせて、中心に孔23を有する一対のス
クレーバーミラ19. 19aを配置し、かつ凹状球面
ミラー18.18a間にピンホール板13を配置した例
である。この例では凹状球面ミラー18゜18a、スク
レーバーミラー19.19aおよびピンホール板13の
ピンホールの相互作用によって、複数の発振波長成分を
含むレーザービーム15からASEを除去した高品質の
出射ビーム20を放射させることができる。That is, FIG. 5 shows an ordinary concave spherical mirror 18° 18a.
A pair of scraper mirrors 19. which face vertically and have a hole 23 in the center. 19a, and a pinhole plate 13 is arranged between the concave spherical mirrors 18 and 18a. In this example, the interaction between the concave spherical mirror 18.18a, the scraper mirror 19.19a, and the pinhole of the pinhole plate 13 produces a high-quality output beam 20 with ASE removed from the laser beam 15 containing a plurality of oscillation wavelength components. It can be radiated.
第6図の例は第5図の変形例であって、凹状球面ミラー
I11.18a間に孔23を有する両面コーティングス
クレーバーミラー21を配置した例を示している。この
例においても、複数の発振波長成分を含むレーザービー
ム15は両面コーティングスクレーバー21の表面から
入射し、凹状球面ミラー18゜18a間で反射し、孔2
3でASEが除去されて背面からASEを除去した高品
質の出射ビーム22を得ることができる。The example of FIG. 6 is a modification of FIG. 5, and shows an example in which a double-sided coated scraper mirror 21 having a hole 23 is arranged between concave spherical mirrors I11.18a. In this example as well, the laser beam 15 containing a plurality of oscillation wavelength components enters the surface of the double-sided coating scraper 21, is reflected between the concave spherical mirrors 18 and 18a, and is reflected by the hole 2.
3, ASE is removed and a high quality output beam 22 with ASE removed from the back side can be obtained.
以上、説明した中間フィルタ内を配置することによって
レーザー発振管からのマスタービーム5および増幅ビー
ム8中に含まれるASEを除去することができる。By arranging the intermediate filter as described above, ASE contained in the master beam 5 and the amplified beam 8 from the laser oscillation tube can be removed.
[発明の効果]
本発明によればレーザービー2ムの増幅に有害なASE
を除去することができ、もって、高い効率でレーザービ
ームを増幅し、高品質の増幅ビームを得ることができる
。また、レーザー発振器からの発振波長によるビーム軌
道の変化をなくすことができる。[Effects of the Invention] According to the present invention, ASE harmful to laser beam amplification is eliminated.
can be removed, thereby amplifying the laser beam with high efficiency and obtaining a high-quality amplified beam. Further, it is possible to eliminate changes in the beam trajectory due to the oscillation wavelength from the laser oscillator.
第1図は本発明に係るレーザー増幅システムの一実施例
を示す系統図、第2図は第1図における空間フィルタ装
置を示す装置配置図、第3図は第2図における空間フィ
ルタ装置のレーザービームの軌道線図、第4図から第6
図はそれぞれ空間フィルタ装置の他の例を示す装置配置
図、第7図は従来のレーザー増幅システムを示す系統図
、第8図は第7図におけるレーザービーム中に混入する
自然放出光の軌道線図、第9図は第8図のレーザービー
ムの縦断面図である。
1・・・レーザー発振器
2・・・レーザー発振管
3・・・駆動電源
4・・・レーザー発振媒体供給、排気装置5・・・マス
タービーム
6・・・反射ミラー
7・・・レーザー増幅器
8・・・増幅ビーム
9・・・高品質ビーム
10・・・ASE
11・lla・・・凸レンズ
2・・・ピンホール
3・・・ピンホール板
4・・・高品質ビームの焦点
5・・・複数の発振波長成分を含むレーザービーム6・
・・波長による焦点のずれ
7・・・放物面ミラー
訃・・凹状球面ミラー
9・・・スクレーバーミラー
20・・・出射ビーム
21・・・両面コーティングスクレーバーミラー22・
・・出射ビーム
23・・・孔
(8733)代理人 弁理士 猪 股 祥 晃(ほか
1名)
$3 図
沸
4
盟
茅
図
芽
乙
盟
茅
図
ソ
昇
図
早
ワ
図FIG. 1 is a system diagram showing an embodiment of the laser amplification system according to the present invention, FIG. 2 is a device layout diagram showing the spatial filter device in FIG. 1, and FIG. 3 is a laser beam of the spatial filter device in FIG. Beam trajectory diagrams, Figures 4 to 6
The figures are device layout diagrams showing other examples of spatial filter devices, Figure 7 is a system diagram showing a conventional laser amplification system, and Figure 8 is the trajectory line of spontaneous emission light mixed into the laser beam in Figure 7. 9 is a longitudinal sectional view of the laser beam of FIG. 8. 1... Laser oscillator 2... Laser oscillation tube 3... Drive power source 4... Laser oscillation medium supply, exhaust device 5... Master beam 6... Reflection mirror 7... Laser amplifier 8... ...Amplified beam 9...High quality beam 10...ASE 11.lla...Convex lens 2...Pinhole 3...Pinhole plate 4...Focus of high quality beam 5...Multiple Laser beam 6 containing the oscillation wavelength component of
... Focus shift due to wavelength 7 ... Parabolic mirror ... Concave spherical mirror 9 ... Scraper mirror 20 ... Outgoing beam 21 ... Double-sided coating scraper mirror 22 ...
...Outgoing beam 23...Kou (8733) Agent: Yoshiaki Inomata, patent attorney (and others)
1 person) $3 Zufutsu 4 Alliance Kayo Zu Mei Otsu Alliance Kayao Zu Sobozu Zuwa Zu
Claims (1)
台のレーザー増幅器を組合わせてなるレーザー増幅シス
テムにおいて、前記レーザー発振器とレーザー増幅器と
の段間にピンホールを有する空間フィルタ装置を設けて
なることを特徴とするレーザー増幅システム。a laser oscillator, and at least one
1. A laser amplification system comprising a combination of two laser amplifiers, characterized in that a spatial filter device having a pinhole is provided between the laser oscillator and the laser amplifier.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5821790A JPH03261191A (en) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | Laser amplifying system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5821790A JPH03261191A (en) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | Laser amplifying system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03261191A true JPH03261191A (en) | 1991-11-21 |
Family
ID=13077897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5821790A Pending JPH03261191A (en) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | Laser amplifying system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03261191A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008042048A (en) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Komatsu Ltd | Driver laser for extreme ultraviolet light source device |
JP2008135631A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Komatsu Ltd | Narrow-band laser device for exposure apparatus |
JP2008172202A (en) * | 2006-11-14 | 2008-07-24 | Asml Netherlands Bv | Method for increasing pulse-to-pulse uniformity of radiation beam |
WO2015008405A1 (en) * | 2013-07-18 | 2015-01-22 | 三菱電機株式会社 | Gas-laser device |
WO2015033830A1 (en) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | ギガフォトン株式会社 | Laser amplifier and laser device, as well as extreme ultraviolet light generation system |
WO2015045102A1 (en) * | 2013-09-27 | 2015-04-02 | ギガフォトン株式会社 | Laser device and extreme uv light generation system |
WO2016151827A1 (en) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | ギガフォトン株式会社 | Laser device |
CN114815123A (en) * | 2022-05-11 | 2022-07-29 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Laser beam expander |
-
1990
- 1990-03-12 JP JP5821790A patent/JPH03261191A/en active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008042048A (en) * | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Komatsu Ltd | Driver laser for extreme ultraviolet light source device |
JP2008172202A (en) * | 2006-11-14 | 2008-07-24 | Asml Netherlands Bv | Method for increasing pulse-to-pulse uniformity of radiation beam |
JP2008135631A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Komatsu Ltd | Narrow-band laser device for exposure apparatus |
US9515446B2 (en) | 2013-07-18 | 2016-12-06 | Mitsubishi Electric Corporation | Gas laser device |
JP5985059B2 (en) * | 2013-07-18 | 2016-09-06 | 三菱電機株式会社 | Gas laser device |
WO2015008405A1 (en) * | 2013-07-18 | 2015-01-22 | 三菱電機株式会社 | Gas-laser device |
WO2015033830A1 (en) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | ギガフォトン株式会社 | Laser amplifier and laser device, as well as extreme ultraviolet light generation system |
WO2015033426A1 (en) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | ギガフォトン株式会社 | Laser amplifier and laser device, as well as extreme ultraviolet light generation system |
JPWO2015033830A1 (en) * | 2013-09-05 | 2017-03-02 | ギガフォトン株式会社 | Laser amplifier, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation system |
US9685756B2 (en) | 2013-09-05 | 2017-06-20 | Gigaphoton Inc. | Laser amplifier, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generating system |
WO2015045102A1 (en) * | 2013-09-27 | 2015-04-02 | ギガフォトン株式会社 | Laser device and extreme uv light generation system |
JPWO2015045102A1 (en) * | 2013-09-27 | 2017-03-02 | ギガフォトン株式会社 | Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system |
US9762024B2 (en) | 2013-09-27 | 2017-09-12 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system |
WO2016151827A1 (en) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | ギガフォトン株式会社 | Laser device |
CN114815123A (en) * | 2022-05-11 | 2022-07-29 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Laser beam expander |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5210643A (en) | Wave combining apparatus for semiconductor lasers | |
US5926494A (en) | Laser systems with improved performance and reduced parasitics and method | |
US4429393A (en) | Double phase-conjugate ring resonator | |
WO1987005751A1 (en) | Efficient phase conjugate laser | |
US4551684A (en) | Noise reduction in laser amplifiers | |
KR100491558B1 (en) | Light projecting device and light projecting method | |
JPS60130934A (en) | Optical isolator | |
JPH03261191A (en) | Laser amplifying system | |
US5832020A (en) | Solid-state laser forming highly-repetitive, high-energy and high-power laser beam | |
JP2003502850A (en) | Solid state laser | |
JPH11316318A (en) | Optical coupler | |
CN110658632A (en) | Homogenized incoherent light source device | |
US7436581B2 (en) | Apparatus and method for self-phase control with stimulated Brillouin scattering phase conjugate mirror | |
JP2000091670A (en) | Solid-state laser generating device | |
JPH11271670A (en) | Afocal image forming optical system and laser device | |
JP2648433B2 (en) | Zero loss waveguide coupler | |
JP2940050B2 (en) | Laser equipment | |
JP3219532B2 (en) | Laser beam transmission device | |
JP2550693B2 (en) | Solid-state laser device | |
JPS5917523A (en) | Optical device | |
JPH0249483A (en) | Laser amplifier | |
JPS60128409A (en) | Laser module device | |
CN117096716A (en) | Phase-programmable laser | |
JPH09214069A (en) | Laser light pattern forming device and die laser apparatus | |
JP2023553749A (en) | laser beam amplification device |