JPH0853532A - Epoxy resin, its production and epoxy resin composition - Google Patents
Epoxy resin, its production and epoxy resin compositionInfo
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- JPH0853532A JPH0853532A JP6210588A JP21058894A JPH0853532A JP H0853532 A JPH0853532 A JP H0853532A JP 6210588 A JP6210588 A JP 6210588A JP 21058894 A JP21058894 A JP 21058894A JP H0853532 A JPH0853532 A JP H0853532A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はエポキシ樹脂、その製造
方法およびエポキシ樹脂組成物に関する。詳しくは、高
度な耐熱性に優れるエポキシ樹脂、その製造方法および
エポキシ樹脂組成物に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an epoxy resin, a method for producing the same, and an epoxy resin composition. Specifically, it relates to an epoxy resin having a high degree of heat resistance, a method for producing the same, and an epoxy resin composition.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、エポキシ樹脂は塗料、積層
板、電気・電子材料等のさまざまな用途に使用されてい
る。かかるエポキシ樹脂としては各種のものが知られて
いるが、電気・電子機器の使用条件が過酷になるにした
がい、一般に用いられているクレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂では耐熱性などの面で充分に満足できなくな
っている。またクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等
では耐熱性を高めるために、架橋密度を上げたり、分子
鎖中により自由度の少ない剛直な構造を導入したりして
いるが、耐熱性の向上には限界があり、より高度な耐熱
性を要求される場合には、充分に対応ができなくなって
いる。2. Description of the Related Art Epoxy resins have hitherto been used in various applications such as paints, laminated plates and electric / electronic materials. Various kinds of such epoxy resins are known, but the cresol novolac type epoxy resin which is generally used can be sufficiently satisfied in terms of heat resistance as the use conditions of electric and electronic devices become severe. It's gone. For cresol novolac type epoxy resin, etc., in order to increase the heat resistance, the crosslink density is increased and a rigid structure with less freedom is introduced into the molecular chain, but there is a limit to improving the heat resistance. However, when higher heat resistance is required, it is not possible to adequately cope with it.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、その硬化物
が高度な耐熱性を有するエポキシ樹脂、その製造方法お
よびエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an epoxy resin whose cured product has a high degree of heat resistance, a method for producing the same, and an epoxy resin composition.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、下記一
般式(1)で表される特定構造を持つエポキシ樹脂を用
いれば、本発明の目的を達成できることを見出した。本
発明はかかる新たな知見に基づいて完成されたものであ
る。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present inventors have found that an epoxy resin having a specific structure represented by the following general formula (1) is used. Have found that the object of the present invention can be achieved. The present invention has been completed based on this new finding.
【0005】すなわち、本発明は、一般式(1):That is, the present invention has the general formula (1):
【0006】[0006]
【化3】 [Chemical 3]
【0007】(式中、Gはグリシジル基を、R1 は炭素
数1〜12のアルキル基を、R2 は水素原子、ヒドロキ
シ基または炭素数1〜4のアルキル基を、nは1または
2の整数を示す。)で表されるエポキシ樹脂、一般式
(2):(Wherein G is a glycidyl group, R 1 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom, a hydroxy group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is 1 or 2). Represents an integer of), a general formula (2):
【0008】[0008]
【化4】 [Chemical 4]
【0009】(式中、R1 は炭素数1〜12のアルキル
基を、R2 は水素原子、ヒドロキシ基または炭素数1〜
4のアルキル基を、nは1または2の整数を示す。)で
表される多価フェノール系化合物とエピハロヒドリンを
反応させることを特徴とする前記エポキシ樹脂の製造方
法、並びに前記エポキシ樹脂、硬化剤としてノボラック
型フェノール樹脂、および硬化促進剤を含有してなるエ
ポキシ樹脂組成物に関する。(In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R 2 is a hydrogen atom, a hydroxy group or 1 to 12 carbon atoms.
4 represents an alkyl group, and n represents an integer of 1 or 2. ) A polyhydric phenolic compound represented by the formula) is reacted with epihalohydrin, and a method for producing the epoxy resin, and an epoxy containing the epoxy resin, a novolac type phenol resin as a curing agent, and a curing accelerator. It relates to a resin composition.
【0010】本発明の前記一般式(1)で表されるエポ
キシ樹脂は、前記一般式(2)で表される多価フェノー
ル系化合物とエピハロヒドリンを反応させることによっ
て得られる。The epoxy resin represented by the general formula (1) of the present invention can be obtained by reacting a polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) with epihalohydrin.
【0011】まず、一般式(2)で表される多価フェノ
ール系化合物について説明する。一般式(2)で表され
る多価フェノール系化合物は、一般式(3):First, the polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) will be described. The polyphenol compound represented by the general formula (2) has the general formula (3):
【0012】[0012]
【化5】 [Chemical 5]
【0013】(式中、R1 は炭素数1〜12のアルキル
基を示す。)で表される2,6−ジホルミル−4−アル
キルフェノールと、一般式(4):2,6-diformyl-4-alkylphenol represented by the formula (wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms) and the general formula (4):
【0014】[0014]
【化6】 [Chemical 6]
【0015】(式中、R2 は水素原子、ヒドロキシ基ま
たは炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で表されるフ
ェノール類を、酸触媒の存在下に、縮合反応させること
により容易に製造できる。(Wherein R 2 represents a hydrogen atom, a hydroxy group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) is easily subjected to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst. Can be manufactured.
【0016】一般式(3)で表される2,4−ジホルミ
ル−4−アルキルフェノールの具体例としては、2,6
−ジホルミル−4−メチルフェノール、2,6−ジホル
ミル−4−エチルフェノール、2,6−ジホルミル−4
−n−プロピルフェノール、2,6−ジホルミル−4−
i−プロピルフェノール、2,6−ジホルミル−4−n
−ブチルフェノール、2,6−ジホルミル−4−t−ブ
チルフェノール、2,6−ジホルミル−4−オクチルフ
ェノール、2,6−ジホルミル−4−ノニルフェノー
ル、2,6−ジホルミル−4−ドデシルフェノール等が
あげられる。なお、かかる2,6−ジホルミル−4−ア
ルキルフェノールは、2,6−ジメチロール−4−アル
キルフェノールを、パラジウム、白金、二酸化マンガン
等の触媒存在下に、酸化することにより製造される(特
公昭60−29371号公報、特公平4−43059号
公報参照)。Specific examples of the 2,4-diformyl-4-alkylphenol represented by the general formula (3) include 2,6
-Diformyl-4-methylphenol, 2,6-diformyl-4-ethylphenol, 2,6-diformyl-4
-N-propylphenol, 2,6-diformyl-4-
i-Propylphenol, 2,6-diformyl-4-n
-Butylphenol, 2,6-diformyl-4-t-butylphenol, 2,6-diformyl-4-octylphenol, 2,6-diformyl-4-nonylphenol, 2,6-diformyl-4-dodecylphenol and the like can be mentioned. The 2,6-diformyl-4-alkylphenol is produced by oxidizing 2,6-dimethylol-4-alkylphenol in the presence of a catalyst such as palladium, platinum or manganese dioxide (Japanese Examined Patent Publication No. 60- 29371, Japanese Patent Publication No. 4-43059).
【0017】また、一般式(4)で表されるフェノール
類の具体例としては、フェノール、レゾルシノール、ピ
ロガロール等、oークレゾール、mークレゾール、pー
クレゾール等のクレゾール類、2,3ーキシレノール、
2,4ーキシレノール、2,5ーキシレノール、2,6
ーキシレノール、3,4ーキシレノール、3,5ーキシ
レノール等のキシレノール類や、エチルフェノール、n
−プロピルフェノール、i−プロピルフェノール、n−
ブチルフェノール、t−ブチルフェノール等の各種のア
ルキルフェノール類があげられる。これらフェノール類
は1種を単独で、または2種以上を組み合わせて使用で
きる。Specific examples of the phenols represented by the general formula (4) include phenol, resorcinol, pyrogallol and the like, cresols such as o-cresol, m-cresol and p-cresol, 2,3-xylenol,
2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6
Xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, and other xylenols, ethylphenol, n
-Propylphenol, i-propylphenol, n-
Examples thereof include various alkylphenols such as butylphenol and t-butylphenol. These phenols may be used alone or in combination of two or more.
【0018】フェノール類の使用量は、通常、2,6−
ジホルミル−4−アルキルフェノールの1モル部に対
し、4〜60モル部程度、好ましくは8〜32モル部と
される。4モル部未満では高分子量物の生成が多くな
り、60モル部を越えると反応速度が遅くなり、反応に
長時間を要し好ましくない。The amount of phenols used is usually 2,6-
The amount is about 4 to 60 parts by mole, preferably 8 to 32 parts by mole with respect to 1 part by mole of diformyl-4-alkylphenol. If it is less than 4 parts by mole, the production of high molecular weight substances will increase, and if it exceeds 60 parts by mole, the reaction rate will be slow and the reaction will take a long time, which is not preferable.
【0019】縮合反応に用いる酸触媒としては、例えば
有機酸、無機酸、金属塩、ルイス酸等があげられる。具
体的には、有機酸としてはギ酸、シュウ酸、マロン酸、
コハク酸、酢酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリ
クロル酢酸、パラトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、フェノールスルホン酸、キシレンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸等があげられ、無機酸とし
ては塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、臭化水素酸、リン酸
等があげられ、金属塩としては酢酸亜鉛、塩化亜鉛、酢
酸マグネシウム等があげられ、ルイス酸としては三フッ
化ホウ素、四塩化チタン、塩化アルミニウム等があげら
れる。これらのなかでも、特に選択性が良く、反応速度
を適度にコントロールできるという点で、パラトルエン
スルホン酸や塩酸等の強酸触媒等を用いるのが好まし
い。酸触媒の使用量は、反応速度を適度に制御し、副生
成物の生成を抑えられることから、2,6−ジホルミル
−4−アルキルフェノール100重量部に対して、通常
0.001〜10重量部程度、好ましくは0.01〜5
重量部とされる。Examples of the acid catalyst used in the condensation reaction include organic acids, inorganic acids, metal salts, Lewis acids and the like. Specifically, as organic acids, formic acid, oxalic acid, malonic acid,
Examples include succinic acid, acetic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, paratoluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, phenolsulfonic acid, xylenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and the like, and inorganic acids include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, Examples include perchloric acid, hydrobromic acid, phosphoric acid, etc., examples of metal salts include zinc acetate, zinc chloride, magnesium acetate, etc., examples of Lewis acids include boron trifluoride, titanium tetrachloride, aluminum chloride, etc. can give. Among these, it is preferable to use a strong acid catalyst such as p-toluenesulfonic acid or hydrochloric acid, since the selectivity is particularly good and the reaction rate can be controlled appropriately. The amount of the acid catalyst used is usually 0.001 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of 2,6-diformyl-4-alkylphenol because the reaction rate is appropriately controlled and the production of by-products can be suppressed. Degree, preferably 0.01 to 5
It is considered to be part by weight.
【0020】また、前記触媒を使用するに当たっては、
適当な助触媒を用いてもよい。助触媒の具体例として
は、チオグリコール酸、チオグリセロール、ベンゼンチ
オール等のチオール類があげらる。これらのなかでも、
後処理の容易さや、溶解性の点からチオグリコール酸を
用いるのが好ましい。助触媒の使用量は、反応速度を適
度に制御し、副生成物の生成を抑えられることから、
2,6−ジホルミル−4−アルキルフェノール100重
量部に対して、通常10重量部程度以下、好ましくは
0.001〜5重量部程度とされる。In using the above catalyst,
A suitable cocatalyst may be used. Specific examples of the cocatalyst include thioglycolic acid, thioglycerol, thiols such as benzenethiol. Among these,
It is preferable to use thioglycolic acid from the viewpoint of easy post-treatment and solubility. The amount of the co-catalyst used appropriately controls the reaction rate and suppresses the formation of by-products,
It is usually about 10 parts by weight or less, preferably about 0.001 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of 2,6-diformyl-4-alkylphenol.
【0021】なお、前記縮合反応では特に溶媒は必要と
されないが、適当な溶媒を用いて反応を行なってもよ
い。用いられる溶媒の具体例としては、水、メチルアル
コール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
ブチルアルコール、イソアミルアルコール等のアルコー
ル類、エチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ等のグリコールエーテル類、ヘキ
サン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素類等があげられる。A solvent is not particularly required in the condensation reaction, but the reaction may be carried out using a suitable solvent. Specific examples of the solvent used include water, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol,
Examples thereof include alcohols such as butyl alcohol and isoamyl alcohol, glycol ethers such as ethyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve and methyl cellosolve, and hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene and xylene.
【0022】反応温度は通常20〜200℃程度とされ
る。反応速度を適度に制御し、副生成物の生成を抑えら
れることから、50〜100℃とするのがよい。The reaction temperature is usually about 20 to 200 ° C. The reaction rate is appropriately controlled and the production of by-products can be suppressed, so that the temperature is preferably 50 to 100 ° C.
【0023】反応終了後は、アルカリ性物質を添加し
て、酸触媒(助触媒を使用した場合は酸触媒および助触
媒)を中和する。使用されるアルカリ性物質としては、
アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、ア
ルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ
土類金属炭酸塩およびアンモニア、有機アミン類等があ
げられる。これらの中でも副反応が少なく、取り扱いが
容易なことから、アルカリ金属水酸化物、たとえば水酸
化ナトリウム等が好適である。アルカリ性物質はそのま
ま添加してもよく、また水溶液として添加してもよい
が、中和熱による急な発熱を避けることから、通常0.
1〜50重量%程度、好ましくは1〜20重量%の水溶
液として添加するのがよい。After completion of the reaction, an alkaline substance is added to neutralize the acid catalyst (the acid catalyst and the cocatalyst when the cocatalyst is used). As the alkaline substance used,
Examples thereof include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, alkali metal hydrogen carbonates, alkaline earth metal carbonates, ammonia, and organic amines. Among these, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide are preferable because they have few side reactions and are easy to handle. The alkaline substance may be added as it is, or may be added as an aqueous solution, but it is usually 0.
It may be added as an aqueous solution of about 1 to 50% by weight, preferably 1 to 20% by weight.
【0024】中和の後は、系内に有機溶媒等を添加し
て、反応生成物を溶解し、さらに水で中和により生成し
た塩や金属イオンを洗浄する。有機溶媒としては、酢酸
エチル、テトラヒドロフラン、クロロホルム、メチルイ
ソブチルケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、シクロヘキサン等が好適であり、また
水としてはイオン交換水が好適である。After neutralization, an organic solvent or the like is added to the system to dissolve the reaction product, and the salt or metal ion produced by neutralization with water is washed. As the organic solvent, ethyl acetate, tetrahydrofuran, chloroform, methyl isobutyl ketone, benzene, toluene, xylene, hexane, heptane, cyclohexane and the like are preferable, and as water, ion exchanged water is preferable.
【0025】かくして前記一般式(2)で表される多価
フェノール系化合物が得られるが、通常反応生成物中に
は、一般式(2)で表される多価フェノール系化合物の
他に、未反応のフェノール類等を含有している。かかる
未反応のフェノール類は減圧蒸留、水蒸気蒸留等により
容易に除去することができ、前記一般式(2)で表され
る新規な多価フェノール系化合物は容易に単離できる。
また、前記一般式(2)で表される新規な多価フェノー
ル系化合物は、該多価フェノール系化合物がフェノール
類等と共に未反応の2,6−ジホルミル−4−アルキル
フェノールと縮合した高分子量物等を含む場合がある。
こうした高分子量物等は、再沈、再結晶等の手段により
除去することも可能であるが、該混合物を使用すること
もできる。Thus, the polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) can be obtained. In the reaction product, in addition to the polyhydric phenol compound represented by the general formula (2), It contains unreacted phenols. Such unreacted phenols can be easily removed by vacuum distillation, steam distillation, etc., and the novel polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) can be easily isolated.
The novel polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) is a high molecular weight compound obtained by condensing the polyhydric phenol compound with unreacted 2,6-diformyl-4-alkylphenol together with phenols and the like. Etc. may be included.
Such high molecular weight substances and the like can be removed by means such as reprecipitation and recrystallization, but the mixture can also be used.
【0026】前記一般式(1)で表される多価フェノー
ル系化合物を含有する硬化剤の軟化点は通常50〜28
0℃、好ましくは70〜150℃であり、水酸基価(水
酸基当量)は通常、200〜700(280〜80)、
好ましくは400〜600(140〜90)である。The softening point of the curing agent containing the polyhydric phenol compound represented by the general formula (1) is usually 50 to 28.
0 ° C., preferably 70 to 150 ° C., and the hydroxyl value (hydroxyl group equivalent) is usually 200 to 700 (280 to 80),
It is preferably 400 to 600 (140 to 90).
【0027】得られた本発明の前記一般式(2)で表さ
れる多価フェノール系化合物において、R1 は炭素数1
〜12、好ましくは1〜4のアルキル基を、R2 はヒド
ロキシ基または炭素数1〜4のアルキル基を表す。R1
の炭素数が12を越える場合には、前記一般式(2)で
表される多価フェノール系化合物から製造される前記一
般式(1)で表されるエポキシ樹脂の硬化物の耐熱性が
低下するので好ましくない。R2 の炭素数が4を越える
場合には、2,6−ジホルミル−4−アルキルフェノー
ルとの反応性が低下するため好ましくない。一般式
(2)で表される多価フェノール系化合物はフェノール
類として同一配向性の化合物の1種を使用した場合のも
のでもよく、R2 が異なるフェノール類を使用した混合
物でもよい。なお、フェノール類として配向性の異なる
化合物の2種以上を使用した場合には、それぞれのフェ
ノール類の配向に従った数種の多価フェノール系化合物
の混合物が得られる。In the obtained polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) of the present invention, R 1 has 1 carbon atom.
To 12, preferably 1 to 4 alkyl groups, and R 2 represents a hydroxy group or a C1 to C4 alkyl group. R 1
When the number of carbon atoms in the compound exceeds 12, the heat resistance of the cured product of the epoxy resin represented by the general formula (1) produced from the polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) decreases. Is not preferred. When the carbon number of R 2 exceeds 4, the reactivity with 2,6-diformyl-4-alkylphenol decreases, which is not preferable. The polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) may be a compound in which one kind of compounds having the same orientation is used as the phenols, or may be a mixture using phenols having different R 2 . When two or more compounds having different orientations are used as phenols, a mixture of several kinds of polyhydric phenol compounds according to the orientation of each phenol is obtained.
【0028】前記一般式(1)で表される本発明のエポ
キシ樹脂は、このようにして得られた前記一般式(2)
で表される多価フェノール系化合物に、エピハロヒドリ
ンを反応させれば得られる。以下、この反応について詳
述する。The epoxy resin of the present invention represented by the general formula (1) is obtained by the above-mentioned general formula (2).
It can be obtained by reacting a polyhydric phenol compound represented by with epihalohydrin. Hereinafter, this reaction will be described in detail.
【0029】まず、前記一般式(2)で表される多価フ
ェノール系化合物をエピハロヒドリンに溶解して均一な
溶液とする。エピハロヒドリンの使用量は、一般式
(2)で表される多価フェノール系化合物1重量部に対
して0.8〜20重量部程度が用いられる。さらに、一
般式(2)で表される多価フェノール系化合物1重量部
に対して塩基性化合物0.2〜10重量部程度または第
四級アンモニウム塩0.001〜0.5重量部程度を固
形または水溶液として添加して、通常反応温度30〜1
10℃で0.5〜4時間反応を行なう。次いで、塩基性
化合物0.2〜10重量部を固形または水溶液として添
加して50〜80℃で反応を行なう。通常、このとき反
応は所定の温度を維持しながら減圧下に反応液を共沸さ
せながら行ない、揮発する蒸気を冷却して得られた凝縮
液を油/水分離し、水分を除いた油分を反応系に戻す方
法により脱水を行なう。前記塩基性化合物の添加にあた
っては、急激な反応を抑えるために30分〜8時間かけ
て断続的または連続的に添加する。反応終了後、不溶性
の副生塩を濾過して除くか、水洗により除去した後、未
反応エピハロヒドリンを減圧留去して除けば前記一般式
(1)で表される本発明のエポキシ樹脂が得られる。な
お、この反応は特に溶媒を必要としないが、ベンゼン、
トルエン、キシレン、プロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、テト
ラヒドロフラン、クロロホルム、ジメチルスルホキシド
等の溶媒を用いても何等さしつかえはない。First, the polyhydric phenol compound represented by the general formula (2) is dissolved in epihalohydrin to form a uniform solution. The amount of epihalohydrin used is about 0.8 to 20 parts by weight with respect to 1 part by weight of the polyhydric phenol compound represented by the general formula (2). Further, about 0.2 to 10 parts by weight of the basic compound or about 0.001 to 0.5 parts by weight of the quaternary ammonium salt is added to 1 part by weight of the polyhydric phenol compound represented by the general formula (2). Usually added at a reaction temperature of 30 to 1 as a solid or aqueous solution.
The reaction is carried out at 10 ° C for 0.5 to 4 hours. Then, 0.2 to 10 parts by weight of the basic compound is added as a solid or an aqueous solution, and the reaction is performed at 50 to 80 ° C. Usually, at this time, the reaction is carried out while azeotropically distilling the reaction liquid under reduced pressure while maintaining a predetermined temperature, and the condensate obtained by cooling the vaporized vapor is separated into oil and water to remove the oil content without water. Dehydration is performed by the method of returning to the reaction system. When the basic compound is added, it is added intermittently or continuously over 30 minutes to 8 hours in order to suppress a rapid reaction. After completion of the reaction, the insoluble by-product salt is removed by filtration or washed with water, and then unreacted epihalohydrin is distilled off under reduced pressure to obtain the epoxy resin of the present invention represented by the general formula (1). To be Although this reaction does not require a solvent, benzene,
There is no problem even if a solvent such as toluene, xylene, propyl ether, butyl ether, isopropyl alcohol, butyl alcohol, tetrahydrofuran, chloroform, dimethylsulfoxide is used.
【0030】反応に使用するエピハロヒドリンとして
は、たとえばエピクロルヒドリン、エピブロムヒドリ
ン、エピヨ−ドヒドリン、エピフルオロヒドリン等があ
げられるが、工業的にはエピクロルヒドリンが好まし
い。Examples of the epihalohydrin used in the reaction include epichlorohydrin, epibromhydrin, epiyodohydrin, epifluorohydrin, etc., but epichlorohydrin is industrially preferable.
【0031】塩基性化合物としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属
水酸化物;メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミ
ン、ブチルアミン、ベンジルアミン、アニリン等の1級
アミン;ジメチルアミン、ジエチルアミン、N-メチルア
ニリン、ベンジルメチルアミン等の2級アミン;トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリ
ン、ジメチルベンジルアミン等の3級アミン;またはこ
れらアミン類の塩酸塩、臭化水素酸塩、フッ化水素、硫
酸塩等;その他にも2−フェニルイミダゾール等のイミ
ダゾール類;エチルトリフェニルホスホニウムイオダイ
ド等のホスホニウム塩;トリフェニルフォスフィン等の
ホスフィン類などがあげられる。また、第四級アンモニ
ウム塩としてはテトラメチルアンモニウムクロライド、
テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウ
ム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルア
ンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、アリル
トリエチルアンモニウム等の塩素化物、臭素化物、フッ
素化物、硫酸塩等があげられる。なお、前記の前段の反
応においては、第四級アンモニウム塩が好ましい。ま
た、後段の反応で用いる塩基性化合物も前記例示のもの
を使用でき、塩基性化合物のなかでもアルカリ金属水酸
化物が好ましい。Examples of the basic compound include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide; primary amines such as methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, benzylamine and aniline; dimethylamine. , Secondary amines such as diethylamine, N-methylaniline and benzylmethylamine; tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, N, N-dimethylaniline and dimethylbenzylamine; or hydrochlorides and hydrobromides of these amines , Hydrogen fluoride, sulfates and the like; imidazoles such as 2-phenylimidazole; phosphonium salts such as ethyltriphenylphosphonium iodide; and phosphines such as triphenylphosphine. Further, as the quaternary ammonium salt, tetramethylammonium chloride,
Examples thereof include chlorinated compounds such as tetraethylammonium, tetrapropylammonium, tetrabutylammonium, benzyltrimethylammonium, benzyltriethylammonium, allyltriethylammonium, brominated compounds, fluorinated compounds and sulfates. A quaternary ammonium salt is preferable in the above-mentioned reaction. As the basic compound used in the reaction in the latter stage, those exemplified above can be used, and among the basic compounds, alkali metal hydroxides are preferable.
【0032】かかるエポキシ樹脂組成物に用いる前記一
般式(1)で表されるエポキシ樹脂の軟化点は70〜1
20℃程度、エポキシ当量は150〜300程度であ
る。The softening point of the epoxy resin represented by the general formula (1) used in such an epoxy resin composition is 70 to 1
The epoxy equivalent is about 20 ° C. and about 150 to 300.
【0033】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前記一般
式(1)で表されるエポキシ樹脂、に、硬化剤としてノ
ボラック型フェノール樹脂、および硬化促進剤を配合し
たものである。The epoxy resin composition of the present invention comprises the epoxy resin represented by the general formula (1), a novolac-type phenol resin as a curing agent, and a curing accelerator.
【0034】硬化剤として用いるノボラック型フェノー
ル樹脂とは、酸性条件下で前記一般式(4)で表される
フェノール類とホルムアルデヒド類とを付加縮合して得
られる公知のものを使用できる。なお、かかるノボラッ
ク型フェノール樹脂の数平均分子量450〜1000程
度であり、その軟化点は70〜100℃程度である。As the novolak type phenol resin used as the curing agent, a known one obtained by addition-condensing the phenols represented by the general formula (4) and formaldehyde under acidic conditions can be used. The novolac type phenolic resin has a number average molecular weight of about 450 to 1000 and a softening point of about 70 to 100 ° C.
【0035】また、本発明では、前記一般式(1)で表
されるエポキシ樹脂と硬化剤として用いるノボラック型
フェノール樹脂との硬化反応を促進するため硬化促進剤
を使用する。硬化促進剤としては、例えば、1,8−ジ
アザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエ
チレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノ
ールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメ
チルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン類;2
−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2
−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシ
ルイミダゾールなどのイミダゾール類;トリブチルホス
フィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン
などの有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウム
・テトラフェニルボーレート、2−エチル−4−メチル
イミダゾール・テトラフェニルボーレート、N−メチル
モルホリン・テトラフェニルボーレートなどのテトラフ
ェニルボロン塩などをあげることができる。Further, in the present invention, a curing accelerator is used in order to accelerate the curing reaction between the epoxy resin represented by the general formula (1) and the novolac type phenol resin used as the curing agent. Examples of the curing accelerator include 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol and the like. Tertiary amines; 2
-Methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2
-Imidazoles such as phenyl-4-methylimidazole and 2-heptadecylimidazole; organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine and phenylphosphine; tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 2- Examples thereof include tetraphenylboron salts such as ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate and N-methylmorpholine tetraphenylborate.
【0036】次に、本発明のエポキシ樹脂組成物の前記
各構成成分の使用割合について説明する。通常は、一般
式(1)で表されるエポキシ樹脂のエポキシ当量1当量
に対し、硬化剤の水酸基当量が0.5〜1.5当量とな
るように使用する。硬化剤の使用割合が0.5当量未満
の場合には硬化速度が遅くなり、1.5当量を越える場
合にはゲル化反応を起こすことがあり好ましくない。ま
た硬化促進剤は、一般式(1)で表されるエポキシ樹脂
の100重量部に対し、0.1〜5重量部の割合で使用
する。硬化促進剤の使用割合が0.1重量部未満では硬
化促進の効果が殆どなく、5重量部を越える場合には硬
化物の耐熱性、機械特性等の特性を損なう傾向があり好
ましくない。Next, the use ratio of each of the above-mentioned components of the epoxy resin composition of the present invention will be described. Usually, it is used such that the hydroxyl group equivalent of the curing agent is 0.5 to 1.5 equivalents per 1 equivalent of epoxy equivalent of the epoxy resin represented by the general formula (1). If the proportion of the curing agent used is less than 0.5 equivalent, the curing rate will be slow, and if it exceeds 1.5 equivalents, a gelation reaction may occur, which is not preferable. The curing accelerator is used in a proportion of 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin represented by the general formula (1). If the proportion of the curing accelerator used is less than 0.1 parts by weight, the effect of promoting the curing is scarce, and if it exceeds 5 parts by weight, the heat resistance and mechanical properties of the cured product tend to be impaired, such being undesirable.
【0037】その他、エポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて各種の溶剤、充填剤、離型剤、表面処理剤、難燃
剤等を配合してもよい。なお、エポキシ樹脂組成物は、
通常、ロール、ニーダー等を用いて加熱混合されて調製
される。In addition, various solvents, fillers, mold release agents, surface treatment agents, flame retardants, etc. may be added to the epoxy resin composition as required. The epoxy resin composition is
Usually, it is prepared by heating and mixing using a roll, a kneader or the like.
【0038】[0038]
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物
は、架橋密度が高く、ガラス転移点が高いため、高度な
耐熱性にも優れる。かかる、エポキシ樹脂組成物は耐熱
性に優れることから、たとえば成形品(半導体用封止
材、各種電子部品のトランスファ成形品、電気・通信用
機器の絶縁材料、自動車用部品としてのブレーキ用ピス
トンやタイミングギア、やかんやアイロンの柄などの家
庭用品)、接着剤(印刷回路基板への銅張り用接着剤、
自動車や航空機の構造材料用接着剤)、積層品(印刷回
路、自動車や航空機の構造材料や燃料タンク、パイプ、
貯槽、耐圧容器等)、塗料(自動車用塗料、無溶剤塗
料、ハイソリッド型塗料、紛体塗料、水系エマルジョン
塗料)、焼付け用塗料(化学装置の保護塗装、各種ライ
ニング、電気絶縁ワニス)の用途に使用できる。The cured product of the epoxy resin composition of the present invention has a high cross-linking density and a high glass transition point, and is therefore excellent in high heat resistance. Since such an epoxy resin composition has excellent heat resistance, for example, molded products (sealing materials for semiconductors, transfer molded products for various electronic components, insulating materials for electrical / communication devices, pistons for brakes as automobile components, and Household products such as timing gears, kettles and iron handles), adhesives (copper adhesives for printed circuit boards,
Adhesives for structural materials for automobiles and aircraft), laminated products (printed circuits, structural materials for automobiles and aircraft, fuel tanks, pipes,
Storage tanks, pressure-resistant containers, etc.), paints (automotive paints, solvent-free paints, high-solid paints, powder paints, water-based emulsion paints), baking paints (protective paints for chemical equipment, various linings, electrical insulating varnishes) Can be used.
【0039】[0039]
【実施例】以下、製造例、実施例をおよび比較例あげて
本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの各
例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to production examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0040】製造例1 撹拌装置、還流冷却器、水銀温度計および窒素ガス導入
管を接続した反応容器に、2,6−ジホルミル−4−メ
チルフェノール99.49g、フェノール912.58
gを仕込み窒素気流下室温で撹拌し、系内が均一になっ
たところで助触媒のチオグリコール酸0.43ml及び
触媒のパラトルエンスルホン酸一水和物1.15gを加
えた。次いで、容器下部に設置したヒーター付オイルバ
スにより加熱を開始し、60℃で約5時間反応させた。
反応終了後、4%水酸化ナトリウム水溶液18mlを加
えて触媒を中和した。反応液を室温まで冷却した後、メ
チルイソブチルケトン約2000mlと共に分液ロート
に入れ、イオン交換水約800mlで3回洗浄した。こ
の後、溶媒とフェノールを減圧蒸留により除去し、さら
に水蒸気蒸留によりフェノールを完全に除去し、残渣に
クロロホルム1500mlを加えて約30分間煮沸した
後、室温まで冷却した。これを濾過して結晶を取り出
し、減圧乾燥器(5mmHg/80℃、6時間)で乾燥
し、多価フェノール系化合物(以下、化合物Aという)
95.1gを得た。収率31.4%(2,6−ジホルミ
ル−4−メチルフェノールに対し4倍モルのフェノール
が反応した場合の重量を100%として、以下単に収率
という)。なお、化合物Aの軟化点は151−156
℃、水酸基当量108(水酸基価は520)であった。Production Example 1 99.49 g of 2,6-diformyl-4-methylphenol and 912.58 of phenol were placed in a reaction vessel connected with a stirrer, a reflux condenser, a mercury thermometer and a nitrogen gas introducing tube.
g was charged and stirred at room temperature under a nitrogen stream, and when the inside of the system became uniform, 0.43 ml of thioglycolic acid as a cocatalyst and 1.15 g of paratoluenesulfonic acid monohydrate as a catalyst were added. Then, heating was started by an oil bath equipped with a heater installed at the bottom of the container, and the reaction was carried out at 60 ° C. for about 5 hours.
After completion of the reaction, 18 ml of 4% aqueous sodium hydroxide solution was added to neutralize the catalyst. After the reaction solution was cooled to room temperature, it was put into a separating funnel together with about 2000 ml of methyl isobutyl ketone and washed 3 times with about 800 ml of deionized water. After that, the solvent and phenol were removed by distillation under reduced pressure, the phenol was completely removed by steam distillation, 1500 ml of chloroform was added to the residue, and the mixture was boiled for about 30 minutes and then cooled to room temperature. This is filtered to take out crystals, which are dried in a vacuum dryer (5 mmHg / 80 ° C., 6 hours) to give a polyhydric phenol compound (hereinafter referred to as compound A).
95.1 g was obtained. Yield 31.4% (hereinafter, simply referred to as the yield, when the weight in the case of reacting 4-fold mole of phenol with 2,6-diformyl-4-methylphenol is 100%). The softening point of compound A is 151-156.
C., the hydroxyl equivalent was 108 (hydroxyl value was 520).
【0041】なお、軟化点の測定は、微量融点測定装置
((株)ヤナコ機器開発研究所製)により、加熱ステー
ジ上ガラス板に挟み込んだ試料を、10倍の拡大鏡を用
いて目視にて測定を行った。また、水酸基価は、JIS
K 0070に従って測定を行ない、その結果から水
酸基当量を算出した。水酸基当量={56.11(水酸
化カリウムの分子量)/水酸基価}×1000。The softening point was measured by a trace melting point measuring device (manufactured by Yanaco Instruments Development Laboratory Co., Ltd.) and visually observing the sample sandwiched between the glass plates on the heating stage with a 10 × magnifying glass. The measurement was performed. The hydroxyl value is JIS
The measurement was performed according to K 0070, and the hydroxyl equivalent was calculated from the result. Hydroxyl equivalent = {56.11 (molecular weight of potassium hydroxide) / hydroxyl value} × 1000.
【0042】製造例2 撹拌装置、還流冷却器を接続した水分離器、水銀温度計
および窒素ガス導入管を接続した反応容器に、2,6−
ジホルミル−4−メチルフェノール33.16g、フェ
ノール342.22g、トルエン375mlを仕込み窒
素気流下室温で撹拌し、系内が均一になったところで助
触媒のチオグリコール酸0.143ml及び触媒のパラ
トルエンスルホン酸一水和物0.384gを加えた。次
いで、容器下部に設置したヒーター付オイルバスにより
加熱を開始し、還流下に共沸してくる水を除去しなが
ら、約6時間反応させた。反応終了後、加熱を止め温度
が80℃前後になったところで4%水酸化ナトリウム水
溶液6.00mlを加えて触媒を中和した。反応液を室
温まで冷却した後、メチルイソブチルケトン約2000
mlと共に分液ロートに入れ、イオン交換水約800m
lで3回洗浄した。この後、溶媒とフェノール類を減圧
蒸留により除去し、さらに水蒸気蒸留によりフェノール
類を完全に除去した。ここで得られた樹脂を粉砕機で粉
砕した後、減圧乾燥器(5mmHg/80℃、6時間)
で乾燥し、多価フェノール系化合物(以下、化合物Bと
いう)98.5gを得た(収率97.6%) 。なお、化
合物Bの軟化点は105−1114℃、水酸基当量11
4(水酸基価は493)であった。Production Example 2 In a reaction vessel connected with a water separator connected with a stirrer, a reflux condenser, a mercury thermometer and a nitrogen gas inlet tube, 2,6-
Diformyl-4-methylphenol (33.16 g), phenol (342.22 g) and toluene (375 ml) were charged, and the mixture was stirred at room temperature under a nitrogen stream. When the system became uniform, 0.143 ml of thioglycolic acid as a cocatalyst and paratoluenesulfone as a catalyst. 0.384 g of acid monohydrate was added. Then, heating was started by an oil bath equipped with a heater installed in the lower part of the container, and the reaction was carried out for about 6 hours while removing azeotropic water under reflux. After completion of the reaction, heating was stopped and when the temperature reached around 80 ° C., 6.00 ml of 4% sodium hydroxide aqueous solution was added to neutralize the catalyst. After cooling the reaction solution to room temperature, about 2000 parts of methyl isobutyl ketone
Put it in a separating funnel together with ml and deionize water about 800 m.
Wash 3 times with 1. Then, the solvent and phenols were removed by vacuum distillation, and the phenols were completely removed by steam distillation. After crushing the resin obtained here with a crusher, a vacuum dryer (5 mmHg / 80 ° C, 6 hours)
Then, 98.5 g of a polyphenol compound (hereinafter referred to as compound B) was obtained (yield 97.6%). In addition, the softening point of the compound B is 105-1114 ° C., and the hydroxyl equivalent is 11
It was 4 (hydroxyl value was 493).
【0043】製造例3 製造例2において、フェノール342.22gに代えて
オルソクレゾール393.24gを用い、トルエンの使
用量を426mlに代えてた他は、製造例2と同様に反
応を行い、多価フェノール系化合物(以下、化合物Cと
いう)110.1gを得た(収率98.2%)。なお、
化合物Cの5核体の含有率は62.03%、軟化点は1
10−117℃、水酸基当量125(水酸基価は44
8)であった。Production Example 3 The same procedure as in Production Example 2 was repeated except that 392.24 g of orthocresol was used in place of 342.22 g of phenol and the amount of toluene used was changed to 426 ml. 110.1 g of a dihydric phenol compound (hereinafter referred to as compound C) was obtained (yield 98.2%). In addition,
The content of pentanuclear compound of Compound C is 62.03%, and the softening point is 1.
10-117 ° C., hydroxyl equivalent 125 (hydroxyl value is 44
8).
【0044】実施例1 撹拌装置、還流冷却器、水銀温度計、窒素ガス導入管お
よび減圧装置を接続した反応容器(2000ml)に、
製造例1で得た化合物Aを81.55g、エピクロルヒ
ドリン448.63gに仕込み、これを55℃に加熱し
てた後、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド
1.53gを加え1時間30分反応させた。これに48
%水酸化ナトリウム水溶液80.0gを温度が60℃以
上にならないように注意しながら約30分間で滴下し
た。この後、60℃/150mmHgで蒸留し、共沸水
が出なくなり全量が250ml程度になるまで濃縮し
た。これを室温まで冷却し、テトラヒドロフラン800
mlを加えて撹拌し、不溶物を濾過により除いた後、メ
チルイソブチルケトン1000mlを加えイオン交換水
600mlで3回洗浄した。これを減圧留去して溶媒と
未反応のエピクロルヒドリンを除去しエポキシ樹脂(以
下、エポキシ樹脂Aという)101.6gを得た(収率
80.1%、化合物Aの全ての水酸基にエピクロルヒド
リンが反応した場合の重量を100%として)。なお、
エポキシ樹脂Aの、軟化点は89−91℃、エポキシ当
量185であった。Example 1 A reaction vessel (2000 ml) connected with a stirrer, a reflux condenser, a mercury thermometer, a nitrogen gas introducing tube and a decompressor was charged,
81.55 g of the compound A obtained in Production Example 1 and 448.63 g of epichlorohydrin were charged, heated to 55 ° C., 1.53 g of benzyltrimethylammonium chloride was added, and the mixture was reacted for 1 hour and 30 minutes. 48 to this
% Aqueous sodium hydroxide solution (80.0 g) was added dropwise over about 30 minutes, taking care not to let the temperature rise above 60 ° C. Then, the mixture was distilled at 60 ° C./150 mmHg and concentrated until no azeotropic water came out and the total amount became about 250 ml. It is cooled to room temperature and tetrahydrofuran 800
After adding in ml and stirring, the insoluble matter was removed by filtration, 1000 ml of methyl isobutyl ketone was added, and the mixture was washed 3 times with 600 ml of deionized water. This was distilled off under reduced pressure to remove unreacted epichlorohydrin with a solvent to obtain 101.6 g of an epoxy resin (hereinafter referred to as epoxy resin A) (yield 80.1%, epichlorohydrin reacted with all hydroxyl groups of compound A). If the weight is 100%). In addition,
Epoxy resin A had a softening point of 89-91 ° C and an epoxy equivalent of 185.
【0045】実施例2 実施例1において、製造例1で得た化合物Aに代えて、
製造例2で得た化合物Bを用いた他は実施例1と同様に
反応を行い、エポキシ樹脂(以下、エポキシ樹脂Bとい
う)115.5gを得た(収率92.1%、化合物Bの
全ての水酸基にエピクロルヒドリンが反応した場合の重
量を100%として) 。なお、エポキシ樹脂Bの、軟化
点は98−101℃、エポキシ当量222であった。Example 2 Instead of the compound A obtained in Production Example 1 in Example 1,
The reaction was performed in the same manner as in Example 1 except that the compound B obtained in Production Example 2 was used to obtain 115.5 g of an epoxy resin (hereinafter referred to as the epoxy resin B) (yield 92.1%; (The weight when all the hydroxyl groups are reacted with epichlorohydrin is 100%). The softening point of the epoxy resin B was 98-101 ° C. and the epoxy equivalent was 222.
【0046】実施例3 実施例1において、製造例1で得た化合物Aの81.5
5gに代えて、製造例3で得た化合物Cの90.62g
を用いた他は実施例1と同様に反応を行い、エポキシ樹
脂(以下、エポキシ樹脂Cという)121.6gを得た
(収率90.3%、化合物Cの全ての水酸基にエピクロ
ルヒドリンが反応した場合の重量を100%として) 。
なお、エポキシ樹脂Cの、軟化点は97−100℃、エ
ポキシ当量236であった。Example 3 In Example 1, 81.5 of the compound A obtained in Preparation Example 1 was used.
Instead of 5 g, 90.62 g of the compound C obtained in Production Example 3
The same reaction as in Example 1 was carried out to obtain 121.6 g of an epoxy resin (hereinafter referred to as epoxy resin C) (yield 90.3%, epichlorohydrin reacted with all hydroxyl groups of compound C). If the weight is 100%).
The softening point of the epoxy resin C was 97-100 ° C and the epoxy equivalent was 236.
【0047】実施例4 エポキシ樹脂Aを90gと、硬化剤としてノボラックフ
ェノール樹脂(バーカムTD2121、大日本インキ化
学工業(株)製)60gを110℃で2〜4分間予備混
合した後、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン2
g、その他にエステル系ワックス(ヘキスト社製、Wa
x OP)2g、カーボンブラック(三菱化成(株)
製、MA−100)0.5g、シリカ(タツモリ
(株)、CRS−1101−01)350gを加えて、
ミキシングロール6×12inch((株)井上製作所
製)を用いて、90℃で6〜10分間加熱ロール混練し
た。次いで粉砕、粒度調整したものを圧縮成形機(油圧
成形機、MF−O型、丸七鉄工所(株)製)により、1
70℃、280kg/cm2 、4分の条件で圧縮成形
し、さらに175℃で8時間硬化させて硬化物を得た。Example 4 90 g of epoxy resin A and 60 g of novolac phenol resin (Barcam TD2121, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) as a curing agent were premixed at 110 ° C. for 2 to 4 minutes, and then a curing accelerator. As triphenylphosphine 2
g, other ester-based wax (Hoechst, Wa
x OP) 2g, carbon black (Mitsubishi Kasei Co., Ltd.)
Manufactured by MA-100) (0.5 g) and silica (Tatsumori Co., Ltd., CRS-1101-01) (350 g) were added,
Using a mixing roll 6 × 12 inch (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.), heating roll kneading was performed at 90 ° C. for 6 to 10 minutes. Then, pulverize and adjust the particle size with a compression molding machine (hydraulic molding machine, MF-O type, manufactured by Marushichi Iron Works Co., Ltd.)
It was compression molded under the conditions of 70 ° C., 280 kg / cm 2, and 4 minutes, and further cured at 175 ° C. for 8 hours to obtain a cured product.
【0048】実施例5 実施例4において、エポキシ樹脂Aに代えて、エポキシ
樹脂Bを用いた他は実施例4と同様にして成形した硬化
物を得た。Example 5 A cured product molded in the same manner as in Example 4 except that epoxy resin B was used instead of epoxy resin A in Example 4 was obtained.
【0049】実施例6 実施例4において、エポキシ樹脂Aの90gに代えて、
エポキシ樹脂Bの93gを用い、硬化剤の使用量を57
gに代えた他は実施例4と同様にして成形した硬化物を
得た。Example 6 In Example 4, instead of 90 g of epoxy resin A,
Using 93 g of epoxy resin B, the amount of curing agent used is 57
A cured product formed in the same manner as in Example 4 except that g was replaced with g was obtained.
【0050】比較例1 実施例4において、エポキシ樹脂Aの90gに代えて、
エポキシ当量205のクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂(YDCN 702P、東都化成(株)製)100
gを用い、硬化剤の使用量を50gに代えた他は実施例
4と同様にして成形した硬化物を得た。Comparative Example 1 In Example 4, instead of 90 g of the epoxy resin A,
Epoxy equivalent 205 cresol novolac type epoxy resin (YDCN 702P, Toto Kasei Co., Ltd.) 100
g was used, and the amount of the curing agent used was changed to 50 g to obtain a cured product molded in the same manner as in Example 4.
【0051】実施例および比較例で得られた成形した硬
化物を以下の試験に供し、各種物性を測定した。結果を
表1に示す。The molded cured products obtained in the examples and comparative examples were subjected to the following tests to measure various physical properties. The results are shown in Table 1.
【0052】(熱板ゲルタイム)170℃の熱板上で成
形材料がゲル化するまでの時間(秒)を測定した。(Hot plate gel time) The time (seconds) until the molding material gelled on the hot plate at 170 ° C. was measured.
【0053】(体積固有抵抗)円板(100mmΦ×2
mm)の形にした硬化物を、常温で、HIGH RES
ISTANCE METER 4329−A型(ヒュー
レットパッカード社製)装置を用いてJISK6911
に従って測定した(単位:×1015Ωcm)。(Volume resistivity) Disc (100 mmΦ × 2
mm) in the cured product at room temperature
JISK6911 using an ISTANCE METER 4329-A type (manufactured by Hewlett Packard)
(Unit: × 10 15 Ωcm).
【0054】(曲げ強度)常温で、オートグラフDSS
−2000((株)島津製作所製)装置を用いてJIS
K6911に従って測定した(単位:kgf/mm
2 )。(Bending strength) Autograph DSS at room temperature
-2000 (manufactured by Shimadzu Corporation)
Measured according to K6911 (unit: kgf / mm
2 ).
【0055】(ガラス転移点)TMA−30型((株)
島津製作所製)装置を用いて、温度・線膨張量曲線を測
定し、屈曲点の温度をガラス転移点(℃)とした。
(℃)(Glass transition point) TMA-30 type (Co., Ltd.)
A temperature / linear expansion curve was measured using a device manufactured by Shimadzu Corporation, and the temperature at the bending point was taken as the glass transition point (° C).
(℃)
【0056】[0056]
【表1】 [Table 1]
【0057】表1の結果から、エポキシ樹脂A〜Cを用
いた本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、従来のク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂を用いた場合のエポ
キシ樹脂組成物の硬化物に比べてガラス転移点が高いこ
と(耐熱性に優れること)が認められる。また、その他
の性能については、同等またはそれ以上の性能を有して
いることが認められる。なお、表1中、*1はクレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂(YDCN 702P、東
都化成(株)製、エポキシ当量205)を表す。From the results shown in Table 1, the cured product of the epoxy resin composition of the present invention using the epoxy resins A to C is compared with the cured product of the epoxy resin composition using the conventional cresol novolac type epoxy resin. Have a high glass transition point (excellent heat resistance). Regarding other performances, it is recognized that they have equivalent or higher performances. In Table 1, * 1 represents a cresol novolac type epoxy resin (YDCN 702P, Toto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 205).
Claims (3)
アルキル基を、R2 は水素原子、ヒドロキシ基または炭
素数1〜4のアルキル基を、nは1または2の整数を示
す。)で表されるエポキシ樹脂。1. General formula (1): (In the formula, G is a glycidyl group, R 1 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom, a hydroxy group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 1 or 2. The epoxy resin represented by.
水素原子、ヒドロキシ基または炭素数1〜4のアルキル
基を、nは1または2の整数を示す。)で表される多価
フェノール系化合物とエピハロヒドリンを反応させるこ
とを特徴とする請求項1記載のエポキシ樹脂の製造方
法。2. General formula (2): (In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom, a hydroxy group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or 2.) The method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein the polyhydric phenol compound is reacted with epihalohydrin.
してノボラック型フェノール樹脂、および硬化促進剤を
含有してなるエポキシ樹脂組成物。3. An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to claim 1, a novolac-type phenol resin as a curing agent, and a curing accelerator.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6210588A JPH0853532A (en) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | Epoxy resin, its production and epoxy resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6210588A JPH0853532A (en) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | Epoxy resin, its production and epoxy resin composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0853532A true JPH0853532A (en) | 1996-02-27 |
Family
ID=16591811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6210588A Pending JPH0853532A (en) | 1994-08-10 | 1994-08-10 | Epoxy resin, its production and epoxy resin composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0853532A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022149594A1 (en) * | 2021-01-08 | 2022-07-14 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | Method for producing thermosetting resin composition, thermosetting resin composition, and electronic component device |
-
1994
- 1994-08-10 JP JP6210588A patent/JPH0853532A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2022149594A1 (en) * | 2021-01-08 | 2022-07-14 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | Method for producing thermosetting resin composition, thermosetting resin composition, and electronic component device |
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