JPH08507162A - 周期性または準周期性光学特性をもつ光学構成要素の製造方法 - Google Patents

周期性または準周期性光学特性をもつ光学構成要素の製造方法

Info

Publication number
JPH08507162A
JPH08507162A JP6519742A JP51974294A JPH08507162A JP H08507162 A JPH08507162 A JP H08507162A JP 6519742 A JP6519742 A JP 6519742A JP 51974294 A JP51974294 A JP 51974294A JP H08507162 A JPH08507162 A JP H08507162A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wave
medium
manufacturing
sound
diffraction grating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6519742A
Other languages
English (en)
Inventor
サツトン,フイリツプ
メイトランド,アーサー
フインドレイ,イワン・デイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
UK Secretary of State for Defence
Original Assignee
UK Secretary of State for Defence
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GB939305031A external-priority patent/GB9305031D0/en
Priority claimed from GB939316002A external-priority patent/GB9316002D0/en
Application filed by UK Secretary of State for Defence filed Critical UK Secretary of State for Defence
Publication of JPH08507162A publication Critical patent/JPH08507162A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124Geodesic lenses or integrated gratings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H3/00Holographic processes or apparatus using ultrasonic, sonic or infrasonic waves for obtaining holograms; Processes or apparatus for obtaining an optical image from them
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026Recording materials or recording processes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026Recording materials or recording processes
    • G03H2001/0264Organic recording material
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2260/00Recording materials or recording processes
    • G03H2260/50Reactivity or recording processes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S359/00Optical: systems and elements
    • Y10S359/901Acoustic holography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)

Abstract

(57)【要約】 回折格子、体積ホログラム、分布帰還ミラーなど周期性構造または準周期性構造が光ファイバ中にある光学構成要素を製造する方法。媒体の光学特性の周期性変化または準周期性変化を誘発する音波を光学媒体に当てる。この変化の少なくとも一部は、波を除去した後に保持される。この変化は定在音波の波腹に関連する応力によるものである。電気粘性液体中の進行波に関連する応力分布は、電界の印加による材料の凝結によって半永久的に保持することができる。

Description

【発明の詳細な説明】周期性または準周期性光学特性をもつ光学構成要素の製造方法 本発明は、周期性光学特性または準周期性光学特性を有する永久回折格子、体 積ホログラフ、分布帰還ミラーなど光学構成要素を光ファイバ中に製作すること に関する。本発明の様々な実施例は、周期性または準周期性の位相効果または振 幅効果、あるいはその両方に依存して、たとえば位相格子および振幅格子と、位 相ホログラフおよび振幅ホログラフの両方を提供する。 現在の所、永久回折格子およびホログラフは、機械加工技法、エッチング技法 、写真技法に基づく技法を使用して製作されている。非永久短命回折格子は、音 波を使用して、屈折率の変化を伴う圧縮と希薄の周期を生成して、透過媒体中に 製作されている。音響光学回折格子が製作されるセルは「ブラッグ・セル」とし て知られている。すべてのブラッグ・セルは、音響光学媒体内に回折格子を維持 するために適当なトランスデューサからの定音響入力を必要とする。 一時回折格子は、選択された媒体中で定在音波を生成する適当なトランスデュ ーサ手段による音波を使用して形成することができる。 ブラッグ・セル内に製作される音響光学格子は、セル内の境界条件に従って音 響トランスデューサによって生成される定在波の結果であっても、あるいは進行 波システムの結果であってもよい。あるケースでは、格子節および波腹は空間的 に定常なものであるが、他のケースでは、それらの位置は時間に依存する。 分布帰還ミラー(DFB)ミラーを製作する現在の方法は、ガラスまたは結晶 製基板[E Hecht 「0ptics」(第2版)Wiley International(1987年) 」上に付着させた半導体レーザ[H KogelnikおよびC V Shank「Coupled-Wave Theory of Distributed Feedback Lasers」J.Appl.Phys.43(5)2327 (1972年)]、光検出器[Kキシノら IEEE J.of Quantum Electronic s、QE27(8)2025(1991年)]、および多層レーザ・ミラーを中心とするも のである。現在の所、連続する光導波管またはファイバ内にDFBミラーを製作 する知られている方法はない。 本発明の目的は、音波または電波によって媒体中にもたらされる変化を使用し 、音波を除去した後に格子、体積ホログラフ、および分布帰還(DFB)ミラー が持続するようにこのような 変化を「フリーズ」させるための装置および方法を提供することである。 本発明の、一態様では、光ファイバ用の回折格子、体積ホログラフ、または分 布帰還ミラーなど周期性構造または準周期性構造を有する光学構成要素を製造し 、 a.音波源または電波源からの放射に光学媒体を当てて、媒体中で音波または 電波を生成し、 b.波の波腹の存在によって応力が発生する領域で媒体の構造を変化させ、波 の源を除去するときに、変化した構造の少なくとも一部が保持されるように媒体 を扱う方法を提供する。 他の態様では、光ファイバ用の回折格子、体積ホログラフ、または分布帰還ミ ラーなど周期性構造または準周期性構造を有する光学構成要素を製造し、 a.音波によって発生する高応力の領域において構造的に変化させることがで きるような光学媒体を選択し、 b.波の波腹の存在によって応力が発生する領域で媒体の構造を変化させ、波 の源を除去するときに、変化した構造の少なくとも一部が保持されるように、媒 体を音波源によって音波照射(insonify)して媒体中で音波を生成する方法を提 供する。 定在音波または定在電波を形成し、あるいはそのような波が媒体を通過するこ とによって、媒体の波の波腹の位置で応力が発生する。本発明者は、応力パター ンが媒体によって有効に記憶されるように媒体を慎重に処理することによって、 定在波の場合は周期的な局所応力のこの変動を利用できることに気付いた。 この方法は、媒体中の定在波または進行波を利用する。波が、波腹で媒体に発 生する応力が材料に損傷を及ぼすのに十分なものである場合、必要な格子、ホロ グラフ、またはDFBミラーを製作するための媒体の次の処理は必要とされない 。波腹領域に対する損傷が実用的な格子やホログラフをもたらすには不十分な媒 体では、波腹の位置で媒体の光学特性を変化させるような第2の材料を媒体に注 入することができる。第2の媒体は、定在音波の分布に従って空間屈折率が変動 する収束格子が形成されるように、第1の媒体との不均質混合物/溶剤を形成す るようなものでよい。 格子は、適当な粒子をシードされた媒体の定在音波の節の領域に光散乱粒子を 堆積させることによって形成することができる。次いで、波源をオフに切り替え たときに散乱粒子の格子パ ターンが媒体によって永久的に保持されるように媒体で変化を誘発する。 格子は、定在音波の分布の節および波腹のパターンによるものであり、かつ前 記パターンに従う屈折率の変動によって、媒体中に形成される。次いで、波源を オフに切り替え、あるいは除去したときに屈折率の変化の格子パターンが媒体に よって永久的に保持されるように媒体で変化を誘発する。あるそのような構成で は、反応混合物はマトリックス媒体から成り、その場合に、定在波によって発生 する応力の変動が周期的にマトリックスの形成を助け、かつ妨げるように、混合 物中で定在波を生成しながらマトリックス媒体を形成し、最終的に、波源を除去 して周期性格子構造を残す。 この方法の次のステップは、定在波を印加した後に次の化学成分を追加して、 マトリックス材料の凝結を推進することである。 他の構成では、格子材料を選択的にドーピングする。これを適用するには、凝 結中のゲル中で定在波を発生させ、次いで、ドーパントが定在波の波腹の高応力 領域に選択的に拡散する(あるいは前記領域から選択的に離れる)ようにドーパ ント材 料をゲルに接触させて導入する。 ガラス中に位相格子を製作するための構成では、まずガラスをその変態温度よ りも高い温度まで加熱し、次いで、ガラスが音響定在波の波腹の位置で複屈折を 発生させるように、ガラスをその変態温度よりも低い温度まで冷却しながら音響 定在波を印加する。ガラスの温度が変動したときに波腹間の空間を一定にするに は、ガラス温度に依存して音波の周波数を変化させることができる。 本発明は、適当な基板材料の表面を流体エッチング剤に接触させ、次いで、あ る構成では、エッチング剤が縦音波の波腹の位置で基板の表面に優先的に作用す るようにエッチング剤中で縦音波を発生させることによって、表面格子の製造に 応用することができる。 第2の構成では、エッチング剤が横音波の波腹の位置で基板の表面に優先的に 作用するように基板の表面で横表面音波(SAW)を発生させる。 上記の構成によって、定在波を除去した後に永久位相格子または永久振幅格子 が形成される。本発明の他の実施例では、以下のように半永久格子を製作する。 電気粘性媒体を使用し、こ の媒体に進行音波を印加する。次いで、媒体に電界を印加して、応力分布および 関連する屈折率分布の主要な微細形状を保持するように電気粘性材料の相を液体 から固体に変化させる。この格子は、音響定在波を除去した後に持続するが、電 界を印加しないかぎり持続しない。この構成は、進行波の一部を電子粘性媒体中 に捕獲し、次いで知られている電気光学技法を使用して、知られている波と比較 することができる整合フィルタ応用例に適している。 上記の構成はすべて、複数の音源および共振空洞を使用して、複雑な二次元パ ターンおよび三次元パターンを製作するように応用することができる。 複数のトランスデューサを使用し、個別のトランスデューサの位置を選択する ことによって、非常に複雑な格子を形成することができる。各トランスデューサ が駆動される周波数もオプションとして導入する場合、振動パターンの定在波性 をもたらす境界条件の限界内で、ほとんどどんな空間設計の格子でも製作するこ とができる。そのような格子は、堆積ホログラムの特性を有する。 他の態様で、本発明は、光ファイバ中に永久分布帰還ミラー を製造し、 a)分布ミラーが必要とされる位置で、ファイバ・コアの変態温度よりも高い温 度まで光ファイバの一部を加熱するステップと、 b)ファイバの加熱されている部分で定在波を生成するように光ファイバに沿っ て音波を送るステップと、 c)音波を維持しながら、加熱された部分を変態温度よりも低い温度まで冷却す るステップとを含む方法を提供する。 好都合なことに、光ファイバを加熱するための温度制御オーブンが提供され、 加熱される部分における定在音波の位置を安定化するために、光ファイバの加熱 される部分を通過して送られる音響エネルギーおよびその周波数が監視される。 DBFミラーは、1GHzないし10GHzの周波数範囲の高周波数音波を光 ファイバに注入することによって製作することが好ましい。 次に、例として添付の図面のみに関して本発明を説明する。 第1図は、一次元単一周波数拡散格子の製造への本発明の応用を示す図である 。 第2図は、本発明の一次元ゲル・タンク実施態様の図である。 第3図は、固体ゲルおよびドーパントを使用して位相格子を製作する簡易マト リックス破壊法を示す図である 第4図は、ゼラチン中の音響定在波の波腹での一連の単一の亀裂境界からのブ ラッグ回折を示す図である。 第5図は、音響波腹の位置での複数の平行の亀裂の存在に対応する第4図の修 正図である。 第6図は、ガラス中に格子を製作するための装置の図である。 第7図は、3つの異なるガラスのひずみに対する回折効率の変動のグラフであ る。 第8図は、第7図に示したのと同じガラスの相互作用長に対する回折効率の変 動のグラフである。 第9図は、2つの二次元格子を製作するための構成の概略図である。 第10図は、縦音波を使用して表面格子を製作するための装置の概略図である 。 第11図は、横音波を使用して表面格子を製作するための装置の概略図である 。 第12図は、光ファイバ中に永久分布帰還ミラーを製作するための装置の概略 図である。 第1図は、一次元回折格子を製作するための手段を示す。トランスデューサ( 10)は格子媒体(11)の一端に結合され、リフレクタ(12)はトランスデ ューサに対向する媒体の端に置かれている。トランスデューサは、定周波数fで 駆動され、トランスデューサ(10)とリフレクタ(12)の間の間隔Lは、節 間の間隔が格子の必要とされる線間隔に等しい媒体(11)中で定在音波(13 )が生成されるように構成されている。したがって、長さLは次式によって与え られる。 L=nv/2f (1) 上式で、vは媒体中(11)の音の速度であり、nは長さLでの格子線(すなわ ち、節)の数である。 第1の構成によれば、定在波の振幅は、波腹で媒体に発生する応力が媒体の弾 性限界を超え、それによって音波を除去した後に構造周期性が残るように選択さ れる。また、この構成では、音波の波腹の位置で、凝結したゲルを選択的に破壊 することができる。 第2図に示した他の構成では、コロイド分散系粒子が未凝結ゲルに添加され、 ゲル内に一様な懸濁が形成される。次いで、トランスデューサ(22)で形成さ れた一端壁と、リフレクタ (23)で形成された対向端壁とを有するタンク(21)にゲル(20)を入れ る。第1の構成と同様に、定在音波をゲル中で生成する。これによって、分散粒 子が定在波の節間で移行する。ゲルが凝結した後、分散粒子がより濃度の高い領 域から拡散しないように定在波を除去する。リフレクタ(23)の外側面(24 )は、面(24)からの反射によって他の定在波が生成されるのを妨げるように 傾斜されている。 第2図に示した装置は、本発明の他の構成に使用することができる。事前に選 択されたマトリックス媒体の成分部分の反応混合物でタンク(21)を満たす。 音波によって発生する応力の変動が周期的にマトリックスの形成を助け、かつ妨 げるように、定在波をこの「分子スープ」に印加する。ある種の分子は、適切に 形成するのに高度の混合を必要とする。たとえば、他の何らかの薬品を添加する ことによって混合物が凝結するときに音波を印加すると、微分速度で、分子が生 成され、したがって拡散格子が形成される。 第3図は、定在音波を照射された固体媒体の選択的ドーピングの構成を示す。 前述の構成と同様に、対向するトランスデューサ32とリフレクタ33によって 共振クロージャ31中のゲ ル30中で定在音波を発生させる。ゲル30の上に、ゲルに注入すべき材料34 が提供されている。そのような材料は分散性のものでよく、ゲル媒体よりも高い 屈折率を有しても、低い屈折率を有してもよく、あるいは、たとえばゼラチンに 導入される水のように、導入時に屈折率を低減するためのドーパントして働くこ ともできる。音波照射されたゲルへの材料の注入を促進するための熱を加えるこ とができる。図のように、材料は、音波パターンの波腹35で最も容易に進入す る。音波を除去すると、ゲルの周期性構造が維持される。 破壊プロセスでは、音響空洞中にゲルを置き、凝結できるようにする。次いで 、凝結したゲルを音響的に励起して、定在音波の波腹で小さな亀裂を与える。こ の亀裂自体が拡散格子を提供するが、亀裂が提供する空間に他の材料を挿入する ことによって効果を拡張することができる。波腹にある亀裂が同じ平面にある場 合、亀裂壁から散乱するすべての光は、第4図に示したように、実際上ブラッグ 回折に従う。理想的ケースでは、すべての亀裂41、42が正確に波腹で発生し 、音響柱によって占有された空間を横切って一連の連続平面不連続性を形成する 。実際は、第5図に示したように、亀裂が分離し、波腹のどちら かの側である距離だけ広がると思われる。この広がりの効果は、ブラッグ条件が 当てはまる一連の距離dが与えられることである。 あらゆる波腹の周りの広がりdに関して、次式で与えられる回折角度△θでの 対応する広がりがある。 上式は、格子の間隔がd=50μmで、亀裂の広がりが△d=5μmであり、H eNeレーザで照射する場合、値が△θ=0.422mradになる。これは、 実際の回折角度2×θB=8.44mradの20倍である。 亀裂の広がりは、ブラッグ条件(2)によって与えられるもの以外の方向に光 を散乱させる非平行亀裂も発生させる。そのような効果は不要なものであり、発 生する場合は、対策が必要 である。散乱表面としてのもの以外の亀裂壁を使用することが可能である。亀裂 を使用して異物を導入して散乱プロセスを助ける代わりに、亀裂を使用して、亀 裂壁を溶解する温度で、添加されたドーパントを含む他のゲルを導入する。次い で、これによって、ゲルが最初のゲルからドープされたゲルへしだいに遷移する 。この漸進的遷移の結果は、亀裂壁から得られる反射格子に対向して位相格子が 与えられることである。 建設的方法の場合、ゲルは音響空洞にも置かれる。ゲルが凝結するときにゲル を音響的に励起し、したがって、音響波腹でのゲル・マトリックスの形成を妨げ る。ゲルが凝結するときにゲルの化学組成を変化することができる場合、音響節 部位と波腹部位の間に屈折率の差を生じさせることができる。このプロセス全体 にわたって、空洞の音響長を変化させてはならず、したがって、固体ゲルと同じ 音響特性を有するゲル溶液が必要である。ゲル溶液と異なる音響特性の固体ゲル を有することのシステムに対する影響は、定在波条件が除去され、したがって固 定ゲルが撹乱されることである。 第6図は、この方法のガラスへの応用を示す。ガラスの矩形スラブ(60)は 、遠隔端に結合されたトランスデューサ (62)を含むリフレクタとして働くように研磨された一端(61)を有する。 ガラスが通過できるオーブン63は、ガラスをその変態温度よりも高い温度まで 加熱するように構成されている。位相格子を形成するために音響空洞の一端を介 して縦音波を導入する。次いで、定在音波を維持しながらガラスを冷却する。ガ ラスをその変態温度よりも低い温度まで冷却した後、音波を停止する。高応力の 波腹部分でガラスに誘発される残留応力によって永久位相格子が形成される。 変態温度以下のガラスがあり、それを圧縮する場合、ガラスは、局部温度を変 態領域に運ぶ断熱加熱を受ける。したがって、課された圧縮はガラスの構造内に 保持される。次いで、縦定在音波の希薄によって引き伸ばされるのと同様に、同 じガラスを引き伸ばした場合、ガラスが希薄によって断熱的に冷却されるので、 圧縮によって課された応力は除去されず、したがって変態領域外に移る。 ガラスの性質は、変態温度TTよりも高く、かつ焼きなまし温度TAよりも低い 温度では、ガラス自体に課されたどんな応力も保持するようなものである。2つ の温度TTとTAの間の範囲は変態範囲として知られており、約5℃ないし30℃ であ る。たとえば、Pyrexでは、変態範囲は525℃ないし560℃の範囲であ る。 本出願人は、第7および8図に示したように、3つの異なるガラス中に形成さ れた永久音響光学格子によるHeNeレーザからの放射の回折に関する回折効率 を計算した。図は、融解石英(a)、フォトダイオードを封止するために使用さ れるSchottガラス8532番(b)、Pyrex(登録商標)相当物であ るSchottガラス8330番に関する、残留応力に対する回折効力(第7図 )と相互作用長に対する回折効率(第8図)を示す。 この技法に関する潜在的な問題は、温度に対する音響の速度の変化の速度と温 度に対する音響空洞の長さLの変化の速度が異なる可能性があることである。 上式で、Vaはガラス中の音の速度であり、Lは音響空洞長である。温度に対す る変化のこれら2つの速度間の差の影響は、常に、音響空洞の長さにわたって同 じ数の波腹を生成するように調整されるように音響信号の周波数を変化させるこ とによっ て除去することができる。 本発明は、電気粘性媒体を使用することによる半永久格子の製作に応用するこ ともできる。進行音波が発生するときに通過する電気粘性媒体に電界を印加する 。この電界によって、高応力の領域で媒体の相が液体から固体へ変化し、したが って、音波を除去した後に、進行波のスナップショットを表す半永久格子が媒体 中に提供される。電界を除去した後、回折格子は消滅する。この技法によって、 次に、標準電気光学技法を使用して他の音響信号と比較できるように、電気粘性 媒体中に音波を保持することができる。 上述の構成では、単一周波数格子が製作されたが、本発明は、複数の音源を使 用して二次元干渉パターンおよび三次元干渉パターンを製作するように応用する こともできる。 第9図は、上述の一次元技法のどれかを使用して格子媒体90中に音波パター ンをフリーズさせて二次元格子を製作するための簡単な構成を示す。媒体90は 、表面取付けトランスデューサおよびリフレクタ対91、92および93、94 がそれぞれ、媒体の長軸および短軸上に位置する楕円の形をしている。 前述のように、本発明は、以下のことを含む多数の可能な使 用法を有する。 (a)スペクトル分析用の簡単な回折格子 (b)フーリエ・オプティクスで使用するための位相マスクおよび吸収マスク (c)音響光学信号処理によるrf信号処理用のフィルタ (d)偏光依存収束形レンズの製作 本発明は、音響技術に基づいてエッチング・プロセスを使用してガラス、金属 、またはその他の基板上に高品質の表面格子を製作することに応用することもで きる。第10および11図に概略的に示すように、流体エッチング剤を含むタン ク101に表面格子基板材料100を入れる。次いで、適当な波長の定在音波( 102、112)をエッチング剤中または基板材料の表面上で発生させる。定在 波の効果は、定在波波腹での格子基板の酸化速度を増すことである。この反応速 度の増加は、反応生成物が液体に輸送される速度が増し、それによって波腹部位 で基板に接触するエッチング剤の量が増えるためのものである。したがって、定 在音波の節と波腹とでエッチングの速度が異なり、したがって所与のエッチング 期間の後に、格子が形成される。 そのような格子の製作に影響を及ぼす因子は、格子基板とエッチング剤との反 応速度と、基板およびエッチング剤中での音の相対速度である。3つの因子は相 互に依存している。基板とエッチング剤との反応速度が音波による輸送速度より も速い場合、音響的に誘発される輸送の効果は無になる。反応速度が波腹での輸 送速度に匹敵し、あるいはそれよりも遅い場合、反応生成物の反応表面からの輸 送は有意になる。 基板との界面でのエッチング流体の撹乱と、したがって音波による輸送速度の 差は、2つの媒体中の音響の速度の差によるものである。トランスデューサ10 3とリフレクタ104の間のエッチング剤中で縦定在音波を生成する場合、剛性 固体中の音の速度が流体中の音の速度よりもずっと速いので、いかなる音波も格 子基板材料100に進入しない。したがって、音響反射によって問題が起こる恐 れがあり、格子媒体表面を音波波面に対して正確に垂直に置く必要がある。 格子表面100で横表面音波(SAW)を使用して定在波112を発生させる 場合、流体中の音響吸収率が、完全な固体中の音響吸収率よりも高いので、音響 撹乱はエッチング流体までは達しない。したがって、音の速度が液体中よりも固 体中の方 が高いため、同じ格子空間を製作するのに、縦液体波の場合よりもSAWの場合 の方が多量の音響エネルギーが必要とされる。 すべての場合に、音波が定在波である場合、音響的に混合されたエッチング媒 体のエッチング速度と定常エッチング媒体の静止速度には差がある。 表面回折格子を製作するために説明した本発明は、ホログラムの製作に応用す ることもできる。 本発明は、光ファイバ中で永久分布帰還ミラーを製造することに応用すること もできる。第12図に示したように、光ファイバ122の一部の周りの、ミラー が必要とされるファイバに沿った点に小形オーブン121を置く。オーブンの熱 による影響を受けないようにオーブンから十分離して、音源123を光ファイバ 122に結合し、源から離れたオーブンの側でマイクロフォン124(源123 によってファイバに沿って送られる音響エネルギーに反応する)をファイバに結 合する。次いで、導波管材料がその焼きなまし点よりも高い温度になる(あるい は、導波管材料が融解する)までオーブンの温度を増加する。これによって、温 度に対する音の速度の変化のために自動的に音響空洞が形成される。光ファイバ の焼きなまし(融解)領域 は、以下で与える長さ条件(4)を満たさなければならない。 以下で数式(3)によって与えられる周波数fac(GHzオーダー)の音源1 23をオンにして、加熱される領域の外側に永久的な損傷を与えずに誘電体の最 大周期性摂動を達成するように源の強度を増加する。光ファイバ中で生成される 定在音波によって、長さに対する光ファイバ媒体の屈折率の周期性変動がもたら される。光ファイバの加熱される部分内の屈折率のそのような変動は、ファイバ 内の回折格子に相当する。この段階では、次に、マイクロフォン124を使用し て、ファイバの加熱されている領域を介して最小音響エネルギーが送られるとき に、以下で与える共振条件(8)が達成されたことを検出することによって、加 熱される領域の長さを調整することができる。 次いで、オーブン121をオフに切り替え、定在音波を維持しながら光ファイ バ122を冷却して、加熱された領域の材料に格子を「フリーズ」させ、次いで 音波をオフにする。次いで、定在音波を除去すると、格子が永久的に光ファイバ 中に残る。 光ファイバ中の永久格子は、所定の位置にフリーズされる音波を使用して生成 される。ファイバ・コアに音波をフリーズするには、応力パターンが焼きなまさ れる(あるいはドーピング ・イオンが自由に移動できる)温度までファイバの適当な部分を加熱する。次い で、定在音波を印加した後、焼きなまし点よりも低い温度まで温度を下げる(固 体状態に戻す)ことによって応力パターンを所定の位置にフリーズする。 本発明は、光ファイバ内で類似の周波数範囲の進行音波を使用して短命格子ま たは分布帰還ミラーをファイバ内に製作することによって使用することができる 。進行波格子は、音源の帯域幅および動的範囲に応じて一連の周波数および帰還 効率にわたって調整することができるが、永久ミラーの場合と異なり、ファイバ の光学伝搬方向に局所化することはできない。 分布帰還ミラーの理論 音波は、光学導波管中の音の速度と前記導波管の周囲中の音の速度の差によっ て光学導波管に沿って導くことができる。次いで、誘導された音波を使用して、 上述の条件の下で永久回折格子を形成することができる。 そのような回折格子は、次式によって与えられる回折効率(E)を有する。 上式で、n1は屈折率に対する摂動の振幅、dは格子の深さ、n0は摂動がない ときの屈折率、λは自由空間中の入射光の波長、θBは、入射放射の波ベクトル と格子ベクトルの間の角度とみなされるブラッグ角度である。導波管内の分布帰 還ミラーの場合、ブラッグ角度、すなわち回折(反射)効率は次式で与えられる 。 摂動がないときの屈折率n0が1.5であり、光学波長λ=1.5μmである 場合、1%の反射効率を発生させる屈折率摂動はn1である(約10-7-1.に 等しい)。 回折された光束が入射光束の伝搬の逆方向を有するには、ブラッグ角度が−p iの値を有し、したがって、ブラッグ条件(cosθB=λ/2Δ)が次式のよ うになる。 Δ=λ/2 (6) 上式で、Δは媒体中の音波長(したがって格子波長)である。「音界の加熱・印 加およびフリーズ」法が最大反射率を達成するには、音響周波数が以下の条件を 満たさなければならない。 上式で、αは媒体の膨張係数、v(T2)は光ファイバ材料の焼きなまし温度T2 での音響の速度、T 1 はファイバの動作温度である。格子製作の効率を増加する 空洞の共振に関して、冷空洞長条件は次式で与えられる。 上式で、Nは正の整数である。 したがって、本発明は、必要に応じて異なる反射率および異なる波長の活動光 ファイバおよび非活動光ファイバ内にミラーを提供する方法も提供する。したが って、製作されるミラーは光学伝送線と一体であり、したがって結合損失は発生 しない。 音波の使用に関して本発明を説明したが、融解されたドープ・ガラス内で適当 な波長(数式6で与えられる)の定在電波を使用して活動イオンを再分散させ、 したがって格子を形成することも可能である。 光ファイバの音波照射による回折格子の製作では、ファイバ中で誘発ブリュア ン散乱(SBS)を使用することもできる。 この場合、入射コヒーレント光によって、ファイバ材料の電気ひずみが発生し、 その結果得られる定在音波が後方散乱効果を与える。次いで、これを上述のよう にフリーズさせることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),CA,GB,JP,US (72)発明者 メイトランド,アーサー イギリス国、セント・アンドリユーズ・ケ イ・ワイ・16・9・エス・エス、ノース・ ホウ、デパートメント・オブ・フイジク ス・アンド・アストロノミー、ユニバーシ テイ・オブ・セント・アンドリユーズ(番 地なし) (72)発明者 フインドレイ,イワン・デイ イギリス国、セント・アンドリユーズ・ケ イ・ワイ・16・9・エス・エス、ノース・ ホウ、デパートメント・オブ・フイジク ス・アンド・アストロノミー、ユニバーシ テイ・オブ・セント・アンドリユーズ(番 地なし)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.a.音波源または電波源からのエネルギーに光学媒体を当てて、媒体中で音 波を生成し、 b.波の波腹の存在によって応力が発生する領域で媒体の構造が変化し、波を 除去するときに、変化した構造の少なくとも一部が保持されるように媒体を扱う 、 ことを特徴とする、光ファイバ用の回折格子、体積ホログラフ、または分布帰 還ミラーなど周期性構造または準周期性構造を光ファイバ中に有する光学構成要 素を製造する方法。 2.a.音波または電波によって発生する高応力の領域において構造的に変化す ることができるような光学媒体を選択し、 b.波の波腹の存在によって応力が発生する媒体の領域で媒体の構造が変化し、 波の源を除去するときに、変化した構造の少なくとも一部が保持されるように、 音波源または電波源からのエネルギーに媒体を当てて、媒体中で音波を生成する 、 ことを特徴とする、回折格子、体積ホログラフ、または分布帰還ミラーなど周 期性構造または準周期性構造を有する光学構成要素を光ファイバ中に有する光学 構成要素を製造する方法。 3.波の波腹の位置で媒体の光学特性を変化させるような第2の材料を媒体に注 入することを特徴とする、請求項1に記載の回折格子または堆積ホログラフを製 造する方法。 4.第2の材料が、音響分布に従って空間屈折率が変動する収束格子が製作され るように、第1の媒体との不均質混合物/溶剤を形成する、請求項3に記載の回 折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 5.第2の材料を注入することによって、適当な粒子をシードされた媒体中の音 響パターンの節の領域に光散乱粒子が堆積されることを特徴とする、請求項3又 は4に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 6.反応混合物が、マトリックス媒体から成り、その場合に、定在波によって発 生する応力の変動が周期的にマトリックスの形成を助け、かつ妨げるように、マ トリックス媒体が形成される間に混合物中で定在波を生成し、最終的に、波を除 去して周期性格子構造を残すことを特徴とする、請求項1又は2に記載の回折格 子または堆積ホログラフを製造する方法。 7.定在音波を印加した後に更に化学成分を追加して、マトリックス材料の凝固 を推進する次のステップが含まれることを特 徴とする、請求項6に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 8.材料がドーパントによって選択的に処理されることを特徴とする、請求項1 に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 9.まず、凝結中のゲル中で定在波を発生させ、次いで、ドーパントが定在波の 波腹の高応力領域に選択的に拡散する(あるいは前記領域から選択的に離れる) ようにドーパント材料をゲルに接触させて導入することを特徴とする、請求項8 に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 10.ガラスである材料を選択し、まずガラスをその変態温度よりも高い温度ま で加熱し、次いで、ガラスが定在音波の波腹の位置で複屈折を発生させるように 、ガラスをその変態温度よりも低い温度まで冷却しながら音響定在波を印加する ことを特徴とする、請求項9に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する 方法。 11.ガラスの温度が変動したときに波腹間の空間を一定にするために、ガラス 温度に依存して音波の周波数を変化させることを特徴とする、請求項10に記載 の回折格子または堆積ホロ グラフを製造する方法。 12.波が定在波であることを特徴とする、請求項1から9のいずれか一項に記 載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 13.適当な光学基板を選択し、基板の表面を流体エッチング剤に接触させ、次 いで、エッチング剤が縦音波の波腹の位置で基板の表面に優先的に作用するよう にエッチング剤中で縦音波を発生させるステップを含むことを特徴とする、請求 項1に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 14.適当な光学基板を選択し、基板の表面を流体エッチング剤に接触させ、次 いで、エッチング剤が横音波の波腹の位置で基板の表面に優先的に作用するよう にエッチング剤中で横音波を発生させるステップを含むことを特徴とする、請求 項1に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 15.音波が進行波であることを特徴とする、請求項1から11のいずれか一項 に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 16.電気粘性媒体を選択し、この媒体に進行音波を印加し、次いで、媒体に電 界を印加して、応力分布および関連する屈折 率分布の重要な特徴を保持するように電気粘性材料の相を液体から固体に変化さ せるステップに従って半永久格子またはホログラフを生成することを特徴とする 、請求項15に記載の回折格子または堆積ホログラフを製造する方法。 17.複数の音源を使用して応用し、複雑な二次元パターンおよび三次元パター ンを製作することを特徴とする、請求項1から16のいずれか一項に記載の回折 格子または堆積ホログラフを製造する方法。 18.a)分布ミラーが必要とされる位置で、ファイバ・コアの変態温度よりも 高い温度まで光ファイバの一部を加熱するステップと、 b)ファイバの加熱されている部分で定在波を生成するように光ファイバに沿っ て音波を送るステップと、 c)音波を維持しながら、加熱された部分を変態温度よりも低い温度まで冷却す るステップとを含み、 屈折率が所定のファイバ長に沿って周期性変動を有し、それによって、ファイ バと一体のミラーを提供することを特徴とする、レーザ光を送るための光ファイ バを備える光ファイバ分布帰還ミラーを製造する方法。 19.光ファイバを加熱するための温度制御オーブンを提供し、加熱される部分 における音響定在波の位置を安定化するために、光ファイバの加熱される部分を 通過して送られる音響エネルギーおよびその周波数を監視することを特徴とする 、請求項18に記載の永久分布帰還ミラーを光ファイバ中で製造する方法。 20.音波が、1GHzないし10GHzの範囲の周波数を有するように選択さ れることを特徴とする、請求項18又は19に記載の永久分布帰還ミラーを光フ ァイバ中で製造する方法。 21.請求項1から20のいずれか一項に記載の方法によって製作されることを 特徴とする光学構成要素。
JP6519742A 1993-03-11 1994-03-08 周期性または準周期性光学特性をもつ光学構成要素の製造方法 Pending JPH08507162A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9305031.8 1993-03-11
GB939305031A GB9305031D0 (en) 1993-03-11 1993-03-11 Apparatus and method for manufacturing gratings and volume holographs
GB9316002.6 1993-08-02
GB939316002A GB9316002D0 (en) 1993-08-02 1993-08-02 Distributed feedback mirrors
PCT/GB1994/000447 WO1994020868A1 (en) 1993-03-11 1994-03-08 Method for manufacturing optical components with periodic or quasi-periodic optical properties

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08507162A true JPH08507162A (ja) 1996-07-30

Family

ID=26302571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6519742A Pending JPH08507162A (ja) 1993-03-11 1994-03-08 周期性または準周期性光学特性をもつ光学構成要素の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5696628A (ja)
EP (1) EP0640222A1 (ja)
JP (1) JPH08507162A (ja)
CA (1) CA2134771A1 (ja)
GB (1) GB2281410B (ja)
WO (1) WO1994020868A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2751914B2 (ja) * 1996-04-04 1998-05-18 日本電気株式会社 光導波路素子
US6829041B2 (en) * 1997-07-29 2004-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus having the same
DE10117772C2 (de) * 2001-04-09 2003-04-03 Advalytix Ag Mischvorrichtung und Mischverfahren für die Durchmischung kleiner Flüssigkeitsmengen
JP4558307B2 (ja) * 2003-11-28 2010-10-06 株式会社リコー 定着装置、及び画像形成装置
US8884820B2 (en) * 2010-06-22 2014-11-11 Raytheon Company Receiving station and methods for determining an angle-of-arrival of short-duration signals using surface-acoustic-wave (SAW) devices
CN103988089B (zh) * 2011-12-15 2017-12-05 国际壳牌研究有限公司 用光纤分布式声感测(das)组合检测横向声信号
US10088353B2 (en) 2012-08-01 2018-10-02 Shell Oil Company Cable comprising twisted sinusoid for use in distributed sensing
CN106646709A (zh) * 2016-12-15 2017-05-10 重庆卓美华视光电有限公司 一种光栅膜制造方法及设备

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1149209A (en) * 1980-07-09 1983-07-05 Paolo G. Cielo Evanescent-wave fiber reflector
JPS57208515A (en) * 1981-06-19 1982-12-21 Ricoh Co Ltd Manufacture of diffraction grating
DE3418856A1 (de) * 1984-05-21 1985-11-21 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar Verfahren zur beeinflussung von strukturprofilen in resistschichten

Also Published As

Publication number Publication date
WO1994020868A1 (en) 1994-09-15
EP0640222A1 (en) 1995-03-01
GB2281410A (en) 1995-03-01
US5696628A (en) 1997-12-09
GB9421271D0 (en) 1994-12-21
CA2134771A1 (en) 1994-09-15
GB2281410B (en) 1996-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6782179B2 (en) Surface plasmon polariton band gap structures
US7215861B2 (en) Optical control device
Russell et al. Hamiltonian optics of nonuniform photonic crystals
Paterson et al. Optically inscribed surface relief diffraction gratings on azobenzene‐containing polymers for coupling light into slab waveguides
US6870970B2 (en) Method of varying optical properties of photonic crystals on fast time scales using energy pulses
Katzir et al. Chirped gratings in integrated optics
Ding et al. All-optical modulation in chains of silicon nanoantennas
Kim et al. Tunable transmission resonant filter and modulator with vertical gratings
JPH08507162A (ja) 周期性または準周期性光学特性をもつ光学構成要素の製造方法
Kintaka et al. Grating-position-shifted cavity-resonator-integrated guided-mode resonance filter
Choi et al. Interferometric inscription of surface relief gratings on optical fiber using azo polymer film
Wang et al. Holography for one-step fabrication of three-dimensional metallodielectric photonic crystals with a single continuous wavelength laser beam
JP4373163B2 (ja) 光学用構造体の製造方法
Zhao et al. Hybrid grating-hole nanostructures produced by spatiotemporal modulation of femtosecond lasers: implications for near-field enhancement
US7515804B2 (en) Optical waveguide device
US7310463B2 (en) Optical structural body, its manufacturing method and optical element
Gailevičius et al. Spatial filters on demand based on aperiodic photonic crystals
NL9000164A (nl) Laseropbouw met gedistribueerde terugkoppeling en werkwijze ter vervaardiging daarvan.
Baba Photonic Crystal
CA2512327C (en) Fabrication of long-range periodic nanostructures in glass
Ludvigsen et al. Photonic crystal based integrated optics
Paipulas et al. Volumetric modifications in fused silica using Gaussian and Bessel femtosecond laser beams
Bykovskii Effect of Stimulated Radial Scattering Accompanied by Excitation of Converging Acoustic Waves in Optical Media Pumped by High-Power Nanosecond Pulses with Broad Spectrum
Seyedfaraji Improving the Raman amplifier bandwidth and gain using multi-micro ring photonic crystal structures
Kitzerow et al. Tuning of the optical properties in photonic crystals made of macroporous silicon