JPH0850078A - 光ブランチングデバイスの透過損失の偏波依存性測定方法 - Google Patents
光ブランチングデバイスの透過損失の偏波依存性測定方法Info
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- JPH0850078A JPH0850078A JP6184961A JP18496194A JPH0850078A JP H0850078 A JPH0850078 A JP H0850078A JP 6184961 A JP6184961 A JP 6184961A JP 18496194 A JP18496194 A JP 18496194A JP H0850078 A JPH0850078 A JP H0850078A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ２以上の出射ポート３ａ、３ｂを有する光ブ
ランチングデバイス３の透過損失の偏波依存性（ＰＤ
Ｌ）を測定する方法であって、光源１から出射された光
を、偏波コントローラ２でその偏波状態を制御した後、
光ブランチングデバイス３に入射させ、光ブランチング
デバイス３の全ての出射ポート３ａ、３ｂからの出力を
それぞれ受光器４、５で測定し、その測定値から各出射
ポート３ａ、３ｂの結合度を求め、偏波状態を変化させ
た時に得られる結合度の変動から透過損失の偏波依存性
を求める。 【効果】 光源の出力変動および偏波コントローラを透
過する光量の変動が測定値に影響せず、また受光器の感
度の偏波依存性による測定誤差を大幅に低減させること
ができ、ＰＤＬの測定を高精度に行なうことができる。
ランチングデバイス３の透過損失の偏波依存性（ＰＤ
Ｌ）を測定する方法であって、光源１から出射された光
を、偏波コントローラ２でその偏波状態を制御した後、
光ブランチングデバイス３に入射させ、光ブランチング
デバイス３の全ての出射ポート３ａ、３ｂからの出力を
それぞれ受光器４、５で測定し、その測定値から各出射
ポート３ａ、３ｂの結合度を求め、偏波状態を変化させ
た時に得られる結合度の変動から透過損失の偏波依存性
を求める。 【効果】 光源の出力変動および偏波コントローラを透
過する光量の変動が測定値に影響せず、また受光器の感
度の偏波依存性による測定誤差を大幅に低減させること
ができ、ＰＤＬの測定を高精度に行なうことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ブランチングデバイス
の透過損失の偏波依存性を高精度で測定できるようにし
た方法に関する。
の透過損失の偏波依存性を高精度で測定できるようにし
た方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバカプラや導波路型光部品とい
った光分岐結合器および光合分波器を総称して光ブラン
チングデバイスという。光増幅器の実用化に伴い、特に
多段増幅においては光学系を構成する各光ブランチング
デバイスの透過損失の偏波依存性（ＰＤＬ：Polarizati
on Dependent Loss，以下ＰＤＬと略記する）が増幅
器の性能に大きく影響することがわかってきた。したが
って光ブランチングデバイスのＰＤＬを低減することが
望ましく、そのためにはＰＤＬを高精度で測定すること
が求められている。
った光分岐結合器および光合分波器を総称して光ブラン
チングデバイスという。光増幅器の実用化に伴い、特に
多段増幅においては光学系を構成する各光ブランチング
デバイスの透過損失の偏波依存性（ＰＤＬ：Polarizati
on Dependent Loss，以下ＰＤＬと略記する）が増幅
器の性能に大きく影響することがわかってきた。したが
って光ブランチングデバイスのＰＤＬを低減することが
望ましく、そのためにはＰＤＬを高精度で測定すること
が求められている。
【０００３】ここでは測定の対象となる光ブランチング
デバイスとして光ファイバカプラを例にとり、従来より
一般に用いられている光ファイバカプラのＰＤＬを測定
するための測定系を図３に示す。この測定系は光源１
１、偏波コントローラ１２、光ファイバカプラ１３、お
よび受光器１４から構成されている。光源１１からの光
は偏波コントローラ１２で任意の偏波状態とされた後、
光ファイバカプラ１３に入射され、光ファイバカプラ１
３を経て出射された透過光量が受光器１４で測定され
る。そして光ファイバカプラ１３に入射される光の偏波
状態を変化させて得られる透過光量の最大値と最小値の
比を求めることによってＰＤＬを得るものである。
デバイスとして光ファイバカプラを例にとり、従来より
一般に用いられている光ファイバカプラのＰＤＬを測定
するための測定系を図３に示す。この測定系は光源１
１、偏波コントローラ１２、光ファイバカプラ１３、お
よび受光器１４から構成されている。光源１１からの光
は偏波コントローラ１２で任意の偏波状態とされた後、
光ファイバカプラ１３に入射され、光ファイバカプラ１
３を経て出射された透過光量が受光器１４で測定され
る。そして光ファイバカプラ１３に入射される光の偏波
状態を変化させて得られる透過光量の最大値と最小値の
比を求めることによってＰＤＬを得るものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の方
法では、（１）光源１１の出力変動、（２）偏波コント
ローラ１２を透過する光量の変動、および（３）受光器
１４の感度の偏波依存性に起因する光量の変動が誤差と
して測定されてしまうという問題があった。そこで、こ
のような測定誤差を小さくするために以下のような方法
が行われていた。 すなわち、（１）光源１１の出力変動を小さくするため
に、出力安定性の良い光源が用いられる。そして複数の
波長でのＰＤＬを測定する場合には、波長可変レーザま
たはスーパルミネッセントダイオードなどの高輝度な広
帯域光源にバンドパスフィルタを組み合わせたものが用
いられる。 （２）偏波コントローラ１２は１／２波長板と１／４波
長板からなり、これらを回転させて任意の偏波状態を作
り出せるようになっているが、これらの波長板の回転に
伴って透過光量が変動しないようにするために、各波長
板は高度に軸合わせされる。 （３）受光器の感度の偏波依存性を小さくするために、
受光面を特別に調整したり多くの受光器の中から偏波依
存性の小さいものを選別したりする、受光面を高速で回
転させる、あるいは受光面の前方に１／２波長板を設け
これを回転させることによって、受光面を回転させるの
と等価な効果を得るなどの方法が行われていた。 しかしながら、これらの方法を行なうことによって測定
の誤差を低減させることはできるが、そのために測定装
置が複雑かつ高価なものとなり、また装置の構成にあた
っては高度な技術を要するという不都合があった。
法では、（１）光源１１の出力変動、（２）偏波コント
ローラ１２を透過する光量の変動、および（３）受光器
１４の感度の偏波依存性に起因する光量の変動が誤差と
して測定されてしまうという問題があった。そこで、こ
のような測定誤差を小さくするために以下のような方法
が行われていた。 すなわち、（１）光源１１の出力変動を小さくするため
に、出力安定性の良い光源が用いられる。そして複数の
波長でのＰＤＬを測定する場合には、波長可変レーザま
たはスーパルミネッセントダイオードなどの高輝度な広
帯域光源にバンドパスフィルタを組み合わせたものが用
いられる。 （２）偏波コントローラ１２は１／２波長板と１／４波
長板からなり、これらを回転させて任意の偏波状態を作
り出せるようになっているが、これらの波長板の回転に
伴って透過光量が変動しないようにするために、各波長
板は高度に軸合わせされる。 （３）受光器の感度の偏波依存性を小さくするために、
受光面を特別に調整したり多くの受光器の中から偏波依
存性の小さいものを選別したりする、受光面を高速で回
転させる、あるいは受光面の前方に１／２波長板を設け
これを回転させることによって、受光面を回転させるの
と等価な効果を得るなどの方法が行われていた。 しかしながら、これらの方法を行なうことによって測定
の誤差を低減させることはできるが、そのために測定装
置が複雑かつ高価なものとなり、また装置の構成にあた
っては高度な技術を要するという不都合があった。
【０００５】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、光ファイバカプラまたは導波路型光部品といった光
分岐結合器または光合分波器のＰＤＬについて、簡単な
構成の装置を用いて精度の高い測定を行なうことができ
るようにした方法の提供を目的とする。
で、光ファイバカプラまたは導波路型光部品といった光
分岐結合器または光合分波器のＰＤＬについて、簡単な
構成の装置を用いて精度の高い測定を行なうことができ
るようにした方法の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明の方法は、２以上の出射ポートを有する光ブラ
ンチングデバイスの透過損失の偏波依存性を測定する方
法であって、光源から出射された光を、偏波コントロー
ラでその偏波状態を制御した後、光ブランチングデバイ
スに入射させ、該光ブランチグングデバイスの全ての出
射ポートからの出力をそれぞれ測定し、該測定値から各
出射ポートの結合度を求め、偏波状態を変化させた時に
得られる上記結合度の変動から透過損失の偏波依存性を
求めることを特徴とするものである。
に本発明の方法は、２以上の出射ポートを有する光ブラ
ンチングデバイスの透過損失の偏波依存性を測定する方
法であって、光源から出射された光を、偏波コントロー
ラでその偏波状態を制御した後、光ブランチングデバイ
スに入射させ、該光ブランチグングデバイスの全ての出
射ポートからの出力をそれぞれ測定し、該測定値から各
出射ポートの結合度を求め、偏波状態を変化させた時に
得られる上記結合度の変動から透過損失の偏波依存性を
求めることを特徴とするものである。
【０００７】
【実施例】以下、本発明を詳しく説明する。図１は本発
明の測定方法を実施するために好適に用いられる測定系
の例を示したものである。この測定系において、光源１
から出射された光は、偏波コントローラ２によって任意
の偏波状態とされた後、光ファイバカプラ３に入射され
る。光ファイバカプラ３は波長分割多重（ＷＤＭ：Wave
length Division Multiplexing，以下ＷＤＭと略記す
る）型の光ファイバカプラで、２本の光ファイバを加熱
溶融し、中央部を細径化してなるもので、この光ファイ
バカプラ３の２つの出射ポート３ａおよび３ｂには、そ
れぞ受光器４および５が設けられている。そしてポート
３ａ、３ｂからの出射光が、それぞれの受光器４、５で
測定される。ここで、ＷＤＭ型光ファイバカプラ３の２
つの出射ポートのうちの一方は、使用波長のうちの１つ
の波長の入射光に対する透過ポート３ａで、他方は遮断
ポート３ｂであるとする。
明の測定方法を実施するために好適に用いられる測定系
の例を示したものである。この測定系において、光源１
から出射された光は、偏波コントローラ２によって任意
の偏波状態とされた後、光ファイバカプラ３に入射され
る。光ファイバカプラ３は波長分割多重（ＷＤＭ：Wave
length Division Multiplexing，以下ＷＤＭと略記す
る）型の光ファイバカプラで、２本の光ファイバを加熱
溶融し、中央部を細径化してなるもので、この光ファイ
バカプラ３の２つの出射ポート３ａおよび３ｂには、そ
れぞ受光器４および５が設けられている。そしてポート
３ａ、３ｂからの出射光が、それぞれの受光器４、５で
測定される。ここで、ＷＤＭ型光ファイバカプラ３の２
つの出射ポートのうちの一方は、使用波長のうちの１つ
の波長の入射光に対する透過ポート３ａで、他方は遮断
ポート３ｂであるとする。
【０００８】本発明の測定方法は、あらゆる偏波状態の
光を光ファイバカプラ３に入射させたときに得られる結
合度の変動を測定し、その最大値および最小値の比から
ＰＤＬを求めるものである。ここで出射ポート３ａの結
合度は、光ファイバカプラ３の出射ポート３ａおよび３
ｂにおける出射光量をそれぞれＰ、Ｑとすると、（Ｐ／
Ｐ＋Ｑ）×１００（％）で表される。またこの結合度は
波長依存性を有する。
光を光ファイバカプラ３に入射させたときに得られる結
合度の変動を測定し、その最大値および最小値の比から
ＰＤＬを求めるものである。ここで出射ポート３ａの結
合度は、光ファイバカプラ３の出射ポート３ａおよび３
ｂにおける出射光量をそれぞれＰ、Ｑとすると、（Ｐ／
Ｐ＋Ｑ）×１００（％）で表される。またこの結合度は
波長依存性を有する。
【０００９】本発明の測定原理について、図１の測定系
の例に基づいて説明する。光ファイバカプラ３のＰＤＬ
は以下のモデルで表すことができる。光ファイバカプラ
３の結合部において２本のコアを含む面を偏波面とする
偏波と、これに直交する面を偏波面とする偏波とでは伝
搬定数が異なっているために、これら２つの偏波に対す
る結合度の波長依存性には若干のずれが生じる。すなわ
ち、これら２つの偏波の結合度は波長方向に若干シフト
した波長依存性を有する。このことが、光ファイバカプ
ラ３の結合度が偏波依存性を持つ原因となり、ＰＤＬが
生じることとなる。そして、これらの偏波の互いに直交
する２つの偏波軸をそれぞれＸ軸、Ｙ軸とすると、偏波
コントローラで偏波状態を変化させた時に、結合度の最
大値は偏波軸がＸ軸またはＹ軸の位置で得られ、それに
対して最小値はＹ軸またはＸ軸の位置で得られる。した
がって、ＰＤＬを得るために、結合度の最大値と最小値
の比を求めるということは、すなわちこのＸ軸偏波の結
合度とＹ軸偏波の結合度の比を求めることである。
の例に基づいて説明する。光ファイバカプラ３のＰＤＬ
は以下のモデルで表すことができる。光ファイバカプラ
３の結合部において２本のコアを含む面を偏波面とする
偏波と、これに直交する面を偏波面とする偏波とでは伝
搬定数が異なっているために、これら２つの偏波に対す
る結合度の波長依存性には若干のずれが生じる。すなわ
ち、これら２つの偏波の結合度は波長方向に若干シフト
した波長依存性を有する。このことが、光ファイバカプ
ラ３の結合度が偏波依存性を持つ原因となり、ＰＤＬが
生じることとなる。そして、これらの偏波の互いに直交
する２つの偏波軸をそれぞれＸ軸、Ｙ軸とすると、偏波
コントローラで偏波状態を変化させた時に、結合度の最
大値は偏波軸がＸ軸またはＹ軸の位置で得られ、それに
対して最小値はＹ軸またはＸ軸の位置で得られる。した
がって、ＰＤＬを得るために、結合度の最大値と最小値
の比を求めるということは、すなわちこのＸ軸偏波の結
合度とＹ軸偏波の結合度の比を求めることである。
【００１０】２つの偏波面の直交する軸をそれぞれＸ
軸、Ｙ軸とすると、結合度Ｃの波長に対する特性は以下
の式で表すことができる。 Ｃx＝ｓｉｎ2（ｋ（ｗ−（ｗ0＋ｄ／２））） Ｃy＝ｓｉｎ2（ｋ（ｗ−（ｗ0−ｄ／２））） ここで、ｗは波長、ｗ0は両偏波の結合度が極小を示す
波長の平均、ｄは両偏波間での結合度のずれの波長シフ
ト量、ｋは定数をそれぞれ示す。
軸、Ｙ軸とすると、結合度Ｃの波長に対する特性は以下
の式で表すことができる。 Ｃx＝ｓｉｎ2（ｋ（ｗ−（ｗ0＋ｄ／２））） Ｃy＝ｓｉｎ2（ｋ（ｗ−（ｗ0−ｄ／２））） ここで、ｗは波長、ｗ0は両偏波の結合度が極小を示す
波長の平均、ｄは両偏波間での結合度のずれの波長シフ
ト量、ｋは定数をそれぞれ示す。
【００１１】ＷＤＭ型光ファイバカプラの場合、結合度
が極小を示す波長の付近では、この光ファイバカプラの
透過損失Ｐの波長依存性は二次関数で次のように近似す
ることができる。 Ｐx＝ｍ（ｗ＋（ｗ0＋ｄ／２））2 Ｐy＝ｍ（ｗ＋（ｗ0−ｄ／２））2 ここで、ｍは定数を示す。
が極小を示す波長の付近では、この光ファイバカプラの
透過損失Ｐの波長依存性は二次関数で次のように近似す
ることができる。 Ｐx＝ｍ（ｗ＋（ｗ0＋ｄ／２））2 Ｐy＝ｍ（ｗ＋（ｗ0−ｄ／２））2 ここで、ｍは定数を示す。
【００１２】図１の測定系において、受光器４、５には
通常、感度に対して偏波依存性が存在し、２つの偏波軸
Ｘ，Ｙに対応した受光器４の受光感度の誤差をそれぞれ
ｒx，ｒyとすると、透過ポート３ａにおける２つの偏波
の受光量Ｑはそれぞれつぎのように表される。 Ｑx＝ｒx｛１−ｍ（ｗ＋（ｗ0＋ｄ／２））2｝ Ｑy＝ｒy｛１−ｍ（ｗ＋（ｗ0−ｄ／２））2｝
通常、感度に対して偏波依存性が存在し、２つの偏波軸
Ｘ，Ｙに対応した受光器４の受光感度の誤差をそれぞれ
ｒx，ｒyとすると、透過ポート３ａにおける２つの偏波
の受光量Ｑはそれぞれつぎのように表される。 Ｑx＝ｒx｛１−ｍ（ｗ＋（ｗ0＋ｄ／２））2｝ Ｑy＝ｒy｛１−ｍ（ｗ＋（ｗ0−ｄ／２））2｝
【００１３】また遮断ポート３ｂへの透過光は、透過ポ
ート３ａに比べて１０ｄＢ以上小さいため、受光器５の
受光感度の誤差は無視することができる。したがって、
遮断ポート３ｂにおける２つの偏波の受光量Ｒはそれぞ
れつぎのように表される。 Ｒx＝ｍ（ｗ＋（ｗ0＋ｄ／２））2 Ｒy＝ｍ（ｗ＋（ｗ0−ｄ／２））2 これら両ポート３ａ、３ｂにおける出力からこのカプラ
の結合度が求められる。ここで、光ファイバカプラ３の
過剰損失に偏波依存性がないと仮定すると、透過損失の
ＰＤＬは偏光状態を変化させてあらゆる偏光を入射した
ときの結合度の変動から求めることができる。
ート３ａに比べて１０ｄＢ以上小さいため、受光器５の
受光感度の誤差は無視することができる。したがって、
遮断ポート３ｂにおける２つの偏波の受光量Ｒはそれぞ
れつぎのように表される。 Ｒx＝ｍ（ｗ＋（ｗ0＋ｄ／２））2 Ｒy＝ｍ（ｗ＋（ｗ0−ｄ／２））2 これら両ポート３ａ、３ｂにおける出力からこのカプラ
の結合度が求められる。ここで、光ファイバカプラ３の
過剰損失に偏波依存性がないと仮定すると、透過損失の
ＰＤＬは偏光状態を変化させてあらゆる偏光を入射した
ときの結合度の変動から求めることができる。
【００１４】結合度は光ファイバカプラ３に入射する光
量の変動に関係なく求められるので、このような測定系
においては、光源１の出力変動を考慮する必要がなく、
光源１の出力安定化のための複雑な光源機構を用いなく
て済む。また偏波コントローラ２における透過光量の変
動も考慮しなくてよいので、従来のような波長板の高度
な軸合わせをしなくて済む。
量の変動に関係なく求められるので、このような測定系
においては、光源１の出力変動を考慮する必要がなく、
光源１の出力安定化のための複雑な光源機構を用いなく
て済む。また偏波コントローラ２における透過光量の変
動も考慮しなくてよいので、従来のような波長板の高度
な軸合わせをしなくて済む。
【００１５】また、透過ポート３ａにおけるＰＤＬは、 ＰＤＬ＝｜（Ｑx／（Ｑx＋Ｒx））／（Ｑy／（Ｑy＋
Ｒy））｜ で表される。これをｄＢ表示して一次近似を行なうと、
ＰＤＬ＝｜α・２ｄｍ（ｗ−ｗ0）＋β｜となる。ここ
でβは測定誤差であり、ｒx、ｒy、ｍおよびｄからなる
式で表されるものである。受光器４の受光感度の偏波依
存性を０．０３ｄＢとし、一般的ＷＤＭの特性値を代入
すると、受光器４の感度誤差による測定誤差βは０．０
０００２ｄＢとなり、測定結果にほとんど影響を与えな
いことが認められる。
Ｒy））｜ で表される。これをｄＢ表示して一次近似を行なうと、
ＰＤＬ＝｜α・２ｄｍ（ｗ−ｗ0）＋β｜となる。ここ
でβは測定誤差であり、ｒx、ｒy、ｍおよびｄからなる
式で表されるものである。受光器４の受光感度の偏波依
存性を０．０３ｄＢとし、一般的ＷＤＭの特性値を代入
すると、受光器４の感度誤差による測定誤差βは０．０
０００２ｄＢとなり、測定結果にほとんど影響を与えな
いことが認められる。
【００１６】これに比較して、図３に示す従来のＰＤＬ
測定系を用いて同様の計算を行った場合は、ポート１３
のＰＤＬは、ＰＤＬ＝｜Ｑx／Ｑy｜＝｜α・２ｄｍ（ｗ
−ｗ0）＋β｜であり、β＝［ｒx／ｒy］ｄＢが、受光
器１４のＰＤＬによる誤差に起因する測定誤差として測
定値に影響する。一般的なＷＤＭの場合は１≒αとな
り、受光器１４の受光感度の偏波依存性を０．０３ｄＢ
とすると、この受光器１４の受光感度の誤差０．０３ｄ
ＢがそのままＰＤＬの測定誤差として測定されてしま
う。
測定系を用いて同様の計算を行った場合は、ポート１３
のＰＤＬは、ＰＤＬ＝｜Ｑx／Ｑy｜＝｜α・２ｄｍ（ｗ
−ｗ0）＋β｜であり、β＝［ｒx／ｒy］ｄＢが、受光
器１４のＰＤＬによる誤差に起因する測定誤差として測
定値に影響する。一般的なＷＤＭの場合は１≒αとな
り、受光器１４の受光感度の偏波依存性を０．０３ｄＢ
とすると、この受光器１４の受光感度の誤差０．０３ｄ
ＢがそのままＰＤＬの測定誤差として測定されてしま
う。
【００１７】（実施例）図１に示した測定系を用いて、
１４５３ｎｍ／１５５８ｎｍを使用波長とするＷＤＭカ
プラを測定した。光源は波長可変レーザであり、測定に
用いた受光器の受光感度の偏波依存性は０．０３ｄＢで
ある。測定は数回繰り返して行い、波長１５５８ｎｍ付
近で図２に示すような結果が得られた。ＰＤＬの測定結
果の再現性は±０．００１ｄＢ以内であり、高精度な測
定装置と同等以上の効果が認められた。
１４５３ｎｍ／１５５８ｎｍを使用波長とするＷＤＭカ
プラを測定した。光源は波長可変レーザであり、測定に
用いた受光器の受光感度の偏波依存性は０．０３ｄＢで
ある。測定は数回繰り返して行い、波長１５５８ｎｍ付
近で図２に示すような結果が得られた。ＰＤＬの測定結
果の再現性は±０．００１ｄＢ以内であり、高精度な測
定装置と同等以上の効果が認められた。
【００１８】尚、本実施例においては光ブランチングデ
バイスの例としてＷＤＭ型の光ファイバカプラについて
説明したが、本発明はこれに限られるものではなく他の
光ブランチングデバイスについても同様に適用すること
ができ、同様の効果が得られるものである。
バイスの例としてＷＤＭ型の光ファイバカプラについて
説明したが、本発明はこれに限られるものではなく他の
光ブランチングデバイスについても同様に適用すること
ができ、同様の効果が得られるものである。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明の透過損失の
偏波依存性測定方法は、２以上の出射ポートを有する光
ブランチングデバイスの透過損失の偏波依存性を測定す
る方法であって、光源から出射された光を、偏波コント
ローラでその偏波状態を制御した後、光ブランチングデ
バイスに入射させ、該光ブランチングデバイスの全ての
出射ポートからの出力をそれぞれ測定し、該測定値から
各出射ポートの結合度を求め、偏波状態を変化させた時
に得られる上記結合度の変動から透過損失の偏波依存性
を求めることを特徴とするものである。したがって、光
源の出力変動および偏波コントローラを透過する光量の
変動が測定値に影響せず、また受光器の感度の偏波依存
性による測定誤差を大幅に低減させることができ、ＰＤ
Ｌの測定を高精度に行なうことができる。よって測定装
置を簡単かつ安価に構成することができる。
偏波依存性測定方法は、２以上の出射ポートを有する光
ブランチングデバイスの透過損失の偏波依存性を測定す
る方法であって、光源から出射された光を、偏波コント
ローラでその偏波状態を制御した後、光ブランチングデ
バイスに入射させ、該光ブランチングデバイスの全ての
出射ポートからの出力をそれぞれ測定し、該測定値から
各出射ポートの結合度を求め、偏波状態を変化させた時
に得られる上記結合度の変動から透過損失の偏波依存性
を求めることを特徴とするものである。したがって、光
源の出力変動および偏波コントローラを透過する光量の
変動が測定値に影響せず、また受光器の感度の偏波依存
性による測定誤差を大幅に低減させることができ、ＰＤ
Ｌの測定を高精度に行なうことができる。よって測定装
置を簡単かつ安価に構成することができる。
【図１】 本発明に用いられる測定系の例を示した概略
構成図である。
構成図である。
【図２】 本発明の測定方法を用いてＷＤＭカプラのＰ
ＤＬ測定を行った実施例の結果を示すグラフである。
ＤＬ測定を行った実施例の結果を示すグラフである。
【図３】 従来、用いられていた測定系の例を示した概
略構成図である。
略構成図である。
１…光源、２…偏波コントローラ、３…光ファイバカプ
ラ（光ブランチングデバイス）、３ａ、３ｂ…出射ポー
ト
ラ（光ブランチングデバイス）、３ａ、３ｂ…出射ポー
ト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 文生 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉工場内 (72)発明者 山内 良三 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 ２以上の出射ポートを有する光ブランチ
ングデバイスの透過損失の偏波依存性を測定する方法で
あって、光源から出射された光を、偏波コントローラで
その偏波状態を制御した後、光ブランチングデバイスに
入射させ、該光ブランチングデバイスの全ての出射ポー
トからの出力をそれぞれ測定し、該測定値から各出射ポ
ートの結合度を求め、偏波状態を変化させた時に得られ
る上記結合度の変動から透過損失の偏波依存性を求める
ことを特徴とする光ブランチングデバイスの透過損失の
偏波依存性測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06184961A JP3098162B2 (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 光ブランチングデバイスの透過損失の偏波依存性測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06184961A JP3098162B2 (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | 光ブランチングデバイスの透過損失の偏波依存性測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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-
1994
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|---|---|---|---|---|
| EP1376093A2 (en) * | 2002-06-18 | 2004-01-02 | Agilent Technologies, Inc. | Method and apparatus for measuring polarization-resolved optical scattering parameters of an optical device |
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