JPH0836892A - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Non-volatile semiconductor memory

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Publication number
JPH0836892A
JPH0836892A JP6171117A JP17111794A JPH0836892A JP H0836892 A JPH0836892 A JP H0836892A JP 6171117 A JP6171117 A JP 6171117A JP 17111794 A JP17111794 A JP 17111794A JP H0836892 A JPH0836892 A JP H0836892A
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JP
Japan
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erase
semiconductor memory
write
memory device
status register
Prior art date
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Pending
Application number
JP6171117A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsunori Koshiyou
辰記 古庄
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Renesas Design Corp
Mitsubishi Electric Corp
Mitsubishi Electric Semiconductor Systems Corp
Original Assignee
Renesas Design Corp
Mitsubishi Electric Corp
Mitsubishi Electric Semiconductor Systems Corp
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Publication date
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a non-volatile semiconductor memory capable of performing a test in which reliability for defective erasing or defective writing is high. CONSTITUTION:When a function of a status register 18 is tested, a test mode signal is outputted from a test mode circuit 8, and an erasing pulse counter 7 is operated. The erasing pulse counter 7 counts an erasing pulse outputted from a program/erasing voltage generating circuit 5 only one time, a counted value is outputted to the program/erasing voltage generating circuit 5. The program/erasing voltage generating circuit 5 outputs an erasing pulse to a memory cell in a memory cell array 15 only one time in accordance with a counted value of the erasing pulse counter 7, and a state of erasing error is caused. The status register 18 is tested by reading out data of the status register 18 in this state, a test for an erasing error is performed using the status register 18 operating normally.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、不揮発性半導体記憶装
置に関し、特に、消去エラーまたは書込エラーをテスト
するテストモードを有する不揮発性半導体記憶装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly to a nonvolatile semiconductor memory device having a test mode for testing an erase error or a write error.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下、従来の不揮発性半導体記憶装置で
あるフラッシュメモリについて説明する。図10は、従
来の不揮発性半導体記憶装置の消去部の構成を示すブロ
ック図である。
2. Description of the Related Art A flash memory, which is a conventional nonvolatile semiconductor memory device, will be described below. FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of an erasing unit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【0003】図10を参照して、消去部は、消去パルス
発生回路101、消去パルスカウンタ102を含む。消
去パルス発生回路101に消去命令103が入力される
と、消去パルス発生回路101は、消去パルスをメモリ
セル104へ出力する。このとき消去パルスカウンタ1
02が消去パルスの発生回数をカウントする。消去パル
ス発生回路101は、消去パルスカウンタ102のカウ
ント数が5000回になるまで消去パルスを発生する。
メモリセル104は入力した消去パルスに応じて消去動
作を行なう。
Referring to FIG. 10, the erase unit includes an erase pulse generating circuit 101 and an erase pulse counter 102. When the erase command 103 is input to the erase pulse generation circuit 101, the erase pulse generation circuit 101 outputs an erase pulse to the memory cell 104. At this time, the erase pulse counter 1
02 counts the number of times the erase pulse is generated. The erase pulse generation circuit 101 generates an erase pulse until the count number of the erase pulse counter 102 reaches 5000 times.
The memory cell 104 performs an erase operation according to the input erase pulse.

【0004】次に、従来の不揮発性半導体記憶装置の書
込部について説明する。図11は、従来の不揮発性半導
体記憶装置の書込部の構成を示すブロック図である。
Next, the writing section of the conventional nonvolatile semiconductor memory device will be described. FIG. 11 is a block diagram showing a configuration of a writing unit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【0005】図11を参照して、書込部は、書込パルス
発生回路111、書込パルスカウンタ112を含む。書
込パルス発生回路111は、書込命令113が入力され
ると書込パルスをメモリセル104へ出力する。このと
き同時に書込パルスカウンタ112により書込パルスの
出力回数がカウントされる。書込パルス発生回路111
は書込パルスカウンタ112のカウント値が25回にな
るまで書込パルスを発生させる。メモリセル104は入
力した書込パルスにより書込動作を行なう。
Referring to FIG. 11, the writing unit includes a write pulse generating circuit 111 and a write pulse counter 112. Write pulse generation circuit 111 outputs a write pulse to memory cell 104 when write command 113 is input. At this time, the write pulse counter 112 simultaneously counts the number of write pulse outputs. Write pulse generation circuit 111
Generates a write pulse until the count value of the write pulse counter 112 reaches 25 times. The memory cell 104 performs a write operation by the input write pulse.

【0006】次に、従来の不揮発性半導体記憶装置のメ
モリセル部の構成について説明する。図12は、従来の
不揮発性半導体記憶装置のメモリセル部の構成を示す図
である。
Next, the structure of the memory cell portion of the conventional nonvolatile semiconductor memory device will be described. FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a memory cell portion of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【0007】図12を参照して、メモリセル部は、セン
スアンプ110、NMOSトランジスタQ11、Q1
2、Q14、フラッシュメモリのメモリセルとなるメモ
リトランジスタQ13を含む。トランジスタQ14の一
端には電源電圧より高い高電圧VPPが供給される。トラ
ンジスタQ14の他端はセンスアンプ110およびトラ
ンジスタQ11と接続される。トランジスタQ14のゲ
ートには書込信号WEが入力される。トランジスタQ1
1およびQ12は直列に接続され、それぞれのゲートに
セレクトゲート信号SG1、SG2が入力される。トラ
ンジスタQ12の一端はメモリトランジスタQ13と接
続される。メモリトランジスタQ13のゲートはワード
線WLと接続される。
Referring to FIG. 12, the memory cell portion includes a sense amplifier 110 and NMOS transistors Q11 and Q1.
2, Q14, and a memory transistor Q13 serving as a memory cell of the flash memory. A high voltage V PP higher than the power supply voltage is supplied to one end of the transistor Q14. The other end of transistor Q14 is connected to sense amplifier 110 and transistor Q11. Write signal WE is input to the gate of transistor Q14. Transistor Q1
1 and Q12 are connected in series, and select gate signals SG1 and SG2 are input to their respective gates. One end of the transistor Q12 is connected to the memory transistor Q13. The gate of memory transistor Q13 is connected to word line WL.

【0008】上記の構成により、メモリセル部は、書込
信号WEが“H”で入力され、トランジスタQ14がオ
ンすると、高電圧VPPがトランジスタQ11およびQ1
2を介してメモリトランジスタQ13に供給される。こ
の結果、メモリトランジスタQ13へのデータの書込動
作が実行される。
With the above structure, when the write signal WE is input at "H" and the transistor Q14 is turned on, the high voltage V pp is applied to the memory cell portion as the high voltage V PP.
2 to the memory transistor Q13. As a result, the data writing operation to the memory transistor Q13 is executed.

【0009】上記のように構成された不揮発性半導体記
憶装置は、内部にステータスレジスタを具備し、そのレ
ジスタの内容をリードすることによりデバイスの内部動
作状態、または、消去エラー/書込エラーの発生等を知
ることができる。この機能は、フラッシュメモリ特有の
機能である。上記の消去エラー/書込エラーについて
は、たとえば、8入出力のデバイスにおいて、消去エラ
ーをD5ピン(ステータスレジスタ5)、書込エラーを
D4ピン(ステータスレジスタ4)からそれぞれ検出す
ることができる。たとえば、各ピンから読出されたデー
タが“0”のとき、消去または書込が成功しており、
“1”のときエラーが発生し、書込不良または消去不良
の状態にある。
The nonvolatile semiconductor memory device configured as described above has a status register inside, and by reading the contents of the register, the internal operating state of the device or the occurrence of an erase error / write error occurs. Etc. can be known. This function is unique to the flash memory. Regarding the erase error / write error, for example, in an 8-input / output device, an erase error can be detected from the D5 pin (status register 5) and a write error can be detected from the D4 pin (status register 4). For example, when the data read from each pin is “0”, erasing or writing has succeeded,
When it is "1", an error has occurred, and there is a write failure or erase failure.

【0010】次に、上記のように構成された不揮発性半
導体記憶装置の消去テストの方法について説明する。図
13は、従来の不揮発性半導体記憶装置の消去テストの
方法を説明するめたのフローチャートである。
Next, an erase test method for the nonvolatile semiconductor memory device configured as described above will be described. FIG. 13 is a flowchart for explaining a conventional erase test method for a nonvolatile semiconductor memory device.

【0011】まず、ステップS101において、消去コ
マンド“30H”が入力される。次に、ステップS10
2において、再び消去コマンド“30H”が入力され
る。消去は、上記2回のコマンド入力によって行なわ
れ、デバイス内部で自動的に消去動作が行なわれる。上
記コマンドのデータは製品によって異なる場合もある。
First, in step S101, an erase command "30H" is input. Next, step S10
In 2, the erase command “30H” is input again. Erasing is performed by inputting the command twice, and the erasing operation is automatically performed inside the device. The data of the above command may differ depending on the product.

【0012】次に、ステップS103において、内部動
作がレディ状態になったか否かを確認する。内部動作が
レディ状態になっていなければステップS103を繰り
返し、レディ状態になった場合ステップS104に移行
する。
Next, in step S103, it is confirmed whether or not the internal operation is in the ready state. If the internal operation is not in the ready state, step S103 is repeated, and if it is in the ready state, the process proceeds to step S104.

【0013】内部動作がレディ状態になった後、ステッ
プS104において、ステータスレジスタ5のデータが
読出される。次に、ステップS104において、ステー
タスレジスタ5のデータが“0”であるか否かが確認さ
れる。“0”のとき、消去動作が成功しており、“1”
のとき消去は完全に行なわれておらず、消去不良が発生
していることがわかる。
After the internal operation becomes ready, the data in the status register 5 is read in step S104. Next, in step S104, it is confirmed whether or not the data in the status register 5 is "0". When it is "0", the erase operation is successful, and "1"
At this time, it can be seen that the erasing has not been completely performed and an erasing failure has occurred.

【0014】次に、上記の消去テストの方法に対応した
デバイス内部での動作について説明する。図14は、従
来の不揮発性半導体記憶装置の消去テスト時の内部動作
を説明するためのフローチャートである。
Next, the operation inside the device corresponding to the above erase test method will be described. FIG. 14 is a flowchart for explaining the internal operation of the conventional nonvolatile semiconductor memory device during the erase test.

【0015】まず、ステップS111において、すべて
のメモリセルに“0”のデータが書込まれる。次に、ス
テップS112において、アドレスが0番地に設定され
る。次に、ステップS113において、カウント値Xが
“0”に設定される。
First, in step S111, data "0" is written in all memory cells. Next, in step S112, the address is set to address 0. Next, in step S113, the count value X is set to "0".

【0016】次に、ステップS114において、カウン
ト値Xがインクリメントされる。次に、ステップS11
5において、メモリセルに消去パルスが印加される。次
に、ステップS116において、カウント値Xが500
0回になっているか否かを確認する。カウント値Xが5
000回となっている場合はステップS121へ移行
し、5000回になっていない場合はステップS117
へ移行する。
Next, in step S114, the count value X is incremented. Next, step S11
At 5, an erase pulse is applied to the memory cell. Next, in step S116, the count value X is 500.
Check if it is 0 times. Count value X is 5
If it is 000 times, the process proceeds to step S121, and if it is not 5,000 times, step S117.
Move to.

【0017】次に、ステップS117において、ベリフ
ァイ動作を実行する。ベリファイ結果がフェイルの場合
はステップS114へ移行し、パスの場合はステップS
118へ移行する。ベリファイ結果がパスの場合ステッ
プS118において、アドレスが最終アドレスに達して
いるか否かを確認する。最終アドレスに達していない場
合はステップS121へ移行し、最終アドレスに達して
いる場合はステップS119へ移行する。
Next, in step S117, a verify operation is executed. If the verify result is fail, the process proceeds to step S114, and if the verify result is pass, the process proceeds to step S114.
Transition to 118. If the verification result is "pass", in step S118, it is confirmed whether or not the address has reached the final address. If it has not reached the final address, the process proceeds to step S121, and if it has reached the final address, the process proceeds to step S119.

【0018】最終アドレスに達していない場合ステップ
S121において、アドレスをインクリメントし、ステ
ップS117へ移行し以降の処理を継続する。一方、最
終アドレスに達している場合、ステップS119におい
て、パスラッチが行なわれ、ステータスレジスタ5に
“0”のデータが格納される。次に、ステップS120
において内部動作がレディの状態となる。
If the final address has not been reached, the address is incremented in step S121 and the process proceeds to step S117 to continue the subsequent processing. On the other hand, if the final address has been reached, the path latch is performed in step S119, and the data of "0" is stored in the status register 5. Next, step S120.
In, the internal operation becomes ready.

【0019】一方、ステップS116において、カウン
ト値Xが5000回に達している場合ステップS122
において、ベリファイ動作が行なわれる。ベリファイ結
果がパスの場合はステップS118へ移行し、フェイル
の場合はステップS123へ移行する。ベリファイ結果
がフェイルの場合ステップS123において、フェイル
ラッチが行なわれ、ステータスレジスタ5に“1”のデ
ータが格納される。次に、ステップS124において、
内部動作をレディ状態にする。
On the other hand, in step S116, if the count value X has reached 5000 times, step S122
At, the verify operation is performed. If the verify result is pass, the process proceeds to step S118, and if the verify result is fail, the process proceeds to step S123. If the verify result is fail, fail latch is performed in step S123, and "1" data is stored in the status register 5. Next, in step S124,
Makes internal operation ready.

【0020】以上の動作により、アドレス0番地から最
終番地までの消去動作が実行され、内部動作がレディ状
態になる。次に、ステータスレジスタの内容を読出し、
ステータスレジスタ5のデータが“0”であれば消去動
作が成功しており、“1”のときは消去動作が完全に行
なわれておらず、消去不良であることがわかる。
By the above operation, the erase operation from the address 0 to the final address is executed, and the internal operation becomes ready. Next, read the contents of the status register,
If the data in the status register 5 is "0", the erasing operation has succeeded, and if the data is "1", the erasing operation has not been performed completely, which indicates that the erasing is defective.

【0021】次に、従来の不揮発性半導体記憶装置の書
込テストの方法について説明する。図15は、従来の不
揮発性半導体記憶装置の書込テストの方法を説明するた
めのフローチャートである。
Next, the method of the conventional nonvolatile semiconductor memory device write test will be described. FIG. 15 is a flowchart for explaining a conventional write test method for a nonvolatile semiconductor memory device.

【0022】図15を参照して、まず、ステップS13
1において、コマンド“10H”が入力される。次に、
ステップS132において、書込アドレスおよびデータ
が入力される。以上の動作によりデバイス内部で自動的
に書込動作が行なわれる。
Referring to FIG. 15, first, step S13
In 1, the command “10H” is input. next,
In step S132, the write address and data are input. By the above operation, the write operation is automatically performed inside the device.

【0023】次に、ステップS133において、内部動
作がレディ状態となっているか否かを確認する。レディ
状態になっていない場合はステップS133を繰り返
し、レディ状態となっている場合はステップS134へ
移行する。次に、ステップS134において、ステータ
スレジスタ4のデータをリードする。次に、ステップS
135において、ステータスレジスタ4のデータが
“0”であるか否かを確認する。ステータスレジスタ4
のデータが“0”の場合プログラム(書込)が終了して
おり、“0”以外の場合プログラム不良となっている。
Next, in step S133, it is confirmed whether or not the internal operation is in the ready state. If it is not in the ready state, step S133 is repeated, and if it is in the ready state, the process proceeds to step S134. Next, in step S134, the data in the status register 4 is read. Next, step S
At 135, it is confirmed whether the data in the status register 4 is "0". Status register 4
If the data is "0", the programming (writing) is completed, and if it is not "0", the program is defective.

【0024】次に、上記の書込テストの方法による不揮
発性半導体記憶装置内部の動作について説明する。図1
6は、従来の不揮発性半導体記憶装置の書込テスト時の
内部動作を説明するためのフローチャートである。
Next, the operation inside the nonvolatile semiconductor memory device according to the above write test method will be described. FIG.
FIG. 6 is a flow chart for explaining the internal operation of the conventional nonvolatile semiconductor memory device during the write test.

【0025】図16を参照して、まずステップS141
において、カウント値Xが“0”にセットされる。次
に、ステップ142において、カウント値Xがインクリ
メントされる。次に、ステップS143において、メモ
リセルに書込パルスが印加される。次に、ステップS1
44において、カウント値Xが25回となっているか否
かを確認する。25回になっていない場合はステップS
145へ移行し、25回になっている場合はステップS
148へ移行する。
Referring to FIG. 16, first, step S141
At, the count value X is set to "0". Next, in step 142, the count value X is incremented. Next, in step S143, a write pulse is applied to the memory cell. Next, step S1
At 44, it is confirmed whether or not the count value X is 25 times. If not 25 times, step S
If it is 25 times, go to step 145 and step S
Transition to 148.

【0026】カウント値Xが25回となっていない場合
ステップS145において、ベリファイ動作が行なわれ
る。ベリファイ結果がフェイルの場合はステップS14
2へ移行し、パスの場合はステップS146へ移行す
る。次に、ベリファイ結果がパスの場合ステップS14
6において、ステータスレジスタ4にパスラッチが行な
われ、ステータスレジスタ4に“0”のデータが格納さ
れる。次に、ステップS147において、内部動作がレ
ディ状態にされる。
If the count value X is not 25, the verify operation is performed in step S145. If the verify result is fail, step S14
2, the process proceeds to step S146 if it is a pass. Next, if the verify result is pass, step S14
In 6, the status register 4 is pass-latched and the status register 4 stores "0" data. Next, in step S147, the internal operation is set to the ready state.

【0027】一方、ステップS144において、カウン
ト値Xが25回となっている場合ステップS148にお
いて、ベリファイ動作が行なわれる。ベリファイ結果が
パスの場合はステップS146へ移行し、フェイルの場
合はステップS149へ移行する。ベリファイ結果がフ
ェイルの場合ステップS149において、ステータスレ
ジスタ4にフェイルラッチが行なわれ、ステータスレジ
スタ4に“1”のデータが格納される。次に、ステップ
S150において、内部動作がレディ状態にされる。
On the other hand, if the count value X is 25 times in step S144, the verify operation is performed in step S148. If the verify result is pass, the process proceeds to step S146, and if the verify result is fail, the process proceeds to step S149. If the verify result is fail, fail latch is performed in the status register 4 in step S149, and "1" data is stored in the status register 4. Next, in step S150, the internal operation is set to the ready state.

【0028】上記の動作により、内部動作がレディ状態
になった後、ステータスレジスタを読出し、ステータス
レジスタ4のデータが“0”のとき書込動作が成功して
おり、“1”のとき書込動作が失敗し、書込不良となっ
ていることがわかる。
By the above operation, after the internal operation becomes the ready state, the status register is read, and when the data of the status register 4 is "0", the writing operation is successful, and when it is "1", the writing operation is successful. It can be seen that the operation has failed and writing has failed.

【0029】[0029]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
不揮発性半導体記憶装置では、消去または書込動作時、
ステータスレジスタ2はデバイスが本当に不良になった
ときにしかフェイルラッチ(データ“1”)が行なわれ
ず、良品デバイスにおいて、ステータスレジスタの機能
が正しく動作しているか否かの検査を行なうことができ
なかった。つまり、消去または書込動作のエラーのチェ
ックはできるが、ステータスレジスタ自体のチェックを
行なうことができず、ステータスレジスタ自体が不良の
場合、各テスト結果自体が本当に正しいかどうかを確認
することができず、信頼性が悪いという問題点があっ
た。
As described above, in the conventional nonvolatile semiconductor memory device, during the erase or write operation,
The status register 2 is fail latched (data “1”) only when the device really becomes defective, and it is not possible to inspect whether or not the function of the status register is operating properly in a non-defective device. It was In other words, you can check for errors in the erase or write operation, but you cannot check the status register itself. If the status register itself is defective, you can check whether each test result is really correct. However, there was a problem that reliability was poor.

【0030】本発明は上記課題を解決するためのもので
あって、消去不良または書込不良に対する信頼性の高い
テストを行なうことができる不揮発性半導体記憶装置を
提供することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above problems, and an object thereof is to provide a non-volatile semiconductor memory device capable of performing a highly reliable test for an erase failure or a write failure.

【0031】[0031]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の不揮発性
半導体記憶装置は、消去エラーをテストするテストモー
ドを有する不揮発性半導体記憶装置であって、外部から
入力される制御信号に応じて、消去エラー発生信号を出
力する消去エラー発生信号出力手段と、消去エラー発生
信号に応じて消去エラー状態を作り出す消去エラー発生
手段とを含む。
A non-volatile semiconductor memory device according to claim 1 is a non-volatile semiconductor memory device having a test mode for testing an erase error, wherein the non-volatile semiconductor memory device responds to a control signal input from the outside. An erasing error occurrence signal output means for outputting an erasing error occurrence signal and an erasing error occurrence means for producing an erasing error state according to the erasing error occurrence signal are included.

【0032】請求項2記載の不揮発性半導体記憶装置
は、請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置の構成に加
え、上記不揮発性半導体記憶装置は、複数の不揮発性メ
モリセルを含み、上記消去エラー発生手段は、消去エラ
ー発生信号に応じて、複数のメモリセルに1回のみ消去
パルスを出力する消去パルス出力手段を含む。
According to a second aspect of the present invention, in addition to the configuration of the non-volatile semiconductor memory device according to the first aspect, the non-volatile semiconductor memory device includes a plurality of non-volatile memory cells, and the erasing error occurs. The generating means includes an erase pulse output means for outputting an erase pulse only once to the plurality of memory cells in response to the erase error generating signal.

【0033】請求項3記載の不揮発性半導体記憶装置
は、請求項2記載の不揮発性半導体記憶装置の構成に加
え、上記消去パルス発生手段は、消去エラー発生信号に
応じて動作し、消去パルスを1回のみカウントするカウ
ント手段と、カウント手段のカウント数に応じて、消去
パルスを出力する出力手段とを含む。
According to a third aspect of the present invention, in addition to the configuration of the non-volatile semiconductor memory device according to the second aspect, the erase pulse generating means operates in response to an erase error generation signal to generate an erase pulse. It includes a counting unit that counts only once and an output unit that outputs an erase pulse according to the count number of the counting unit.

【0034】請求項4記載の不揮発性半導体記憶装置
は、書込エラーをテストするテストモードを有する半導
体記憶装置であって、外部から入力される制御信号に応
じて書込エラー発生信号を出力する出力手段と、書込エ
ラー発生信号に応じて書込エラー状態を作り出す書込エ
ラー発生手段とを含む。
A nonvolatile semiconductor memory device according to a fourth aspect is a semiconductor memory device having a test mode for testing a write error, and outputs a write error occurrence signal according to a control signal input from the outside. It includes an output means and a write error generating means for generating a write error state according to the write error generating signal.

【0035】請求項5記載の不揮発性半導体記憶装置
は、請求項4に記載の不揮発性半導体記憶装置の構成に
加え、上記不揮発性半導体記憶装置は、複数の不揮発性
メモリセルを含み、上記書込エラー発生手段は、書込エ
ラー発生信号に応じて複数のメモリセルへの書込パルス
の印加を停止させる停止手段を含む。
According to a fifth aspect of the present invention, in addition to the configuration of the non-volatile semiconductor memory device according to the fourth aspect, the non-volatile semiconductor memory device includes a plurality of non-volatile memory cells. The write error generating means includes stop means for stopping the application of the write pulse to the plurality of memory cells according to the write error generating signal.

【0036】[0036]

【作用】請求項1ないし請求項3記載の不揮発性半導体
記憶装置においては、消去エラー発生手段により消去エ
ラー状態を作り出すことができるので、意図的に消去エ
ラー状態を発生させ、そのときのステータスレジスタの
データを確認することによりステータスレジスタの機能
を検査することが可能となる。
In the nonvolatile semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 3, since the erase error state can be created by the erase error generating means, the erase error state is intentionally generated, and the status register at that time is generated. The function of the status register can be inspected by checking the data of.

【0037】請求項4および請求項5記載の不揮発性半
導体記憶装置においては、書込エラー発生手段により書
込エラー状態を作り出すことができるので、意図的に書
込エラー状態を発生させ、そのときのステータスレジス
タのデータを確認することにより、ステータスレジスタ
の検査を行なうことが可能となる。
In the non-volatile semiconductor memory device according to the fourth and fifth aspects, since the write error state can be created by the write error generating means, the write error state is intentionally generated. The status register can be inspected by checking the data in the status register.

【0038】[0038]

【実施例】以下、本発明の第1の実施例の不揮発性半導
体記憶装置であるフラッシュメモリについて図面を参照
しながら説明する。図1は、本発明の第1の実施例の不
揮発性半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A flash memory which is a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【0039】図1を参照して、不揮発性半導体記憶装置
は、制御回路1、コマンドレジスタ2、コマンドデコー
ダ3、ベリファイ電圧発生回路4、プログラム・消去電
圧発生回路5、消去パルスカウンタ6、7、テストモー
ド回路8、書込回路9、センスアンプ10、アドレスレ
ジスタ11、Yデコーダ12、Xデコーダ13、Yゲー
ト14、メモリセルアレイ15、ソース線スイッチ1
6、入出力バッファ17、ステータスレジスタ18を含
む。
Referring to FIG. 1, the nonvolatile semiconductor memory device includes a control circuit 1, a command register 2, a command decoder 3, a verify voltage generating circuit 4, a program / erase voltage generating circuit 5, erase pulse counters 6, 7, Test mode circuit 8, write circuit 9, sense amplifier 10, address register 11, Y decoder 12, X decoder 13, Y gate 14, memory cell array 15, source line switch 1
6, an input / output buffer 17 and a status register 18.

【0040】制御回路1には、ライトイネーブル信号/
WE、チップイネーブル信号/CE、アウトプットイネ
ーブル信号/OEがそれぞれ入力され、装置全体の動作
の制御を行なう。コマンドレジスタ2は、入出力バッフ
ァ17から入力されたデータをラッチする。コマンドデ
コーダ3は、コマンドレジスタ2に格納されたデータに
応じて内部動作の設定を行なう。ベリファイ電圧発生回
路4およびプログラム・消去電圧発生回路5は、書込ま
たは消去時に電源電圧VCCとは異なるベリファイ電圧、
プログラム電圧、消去電圧を発生させる。消去パルスカ
ウンタ6は、通常動作時メモリセルに印加される消去パ
ルスのカウント値をカウントするとともに、リミット値
(たとえば、3000回)の設定を行なう。テストモー
ド回路8は、コマンドデコーダ3からテストモードの指
令信号を受け、消去エラーを発生させるための消去エラ
ー発生信号となるテストモード信号を消去パルスカウン
タ7へ出力する。消去パルスカウンタ7は、テストモー
ド信号に応じて動作し、消去時消去パルスを1回のみカ
ウントする。書込回路9は、書込時にメモリセルアレイ
15に所定の電圧を供給する。センスアンプ10は、メ
モリセルアレイ15内の所定のメモリセルのデータを増
幅し、入出力バッファ17へ出力する。
The control circuit 1 has a write enable signal /
WE, chip enable signal / CE, and output enable signal / OE are input to control the operation of the entire device. The command register 2 latches the data input from the input / output buffer 17. The command decoder 3 sets the internal operation according to the data stored in the command register 2. The verify voltage generating circuit 4 and the program / erase voltage generating circuit 5 have a verify voltage different from the power supply voltage V CC during writing or erasing,
Generates program voltage and erase voltage. The erase pulse counter 6 counts the count value of the erase pulse applied to the memory cell during normal operation and sets a limit value (for example, 3000 times). The test mode circuit 8 receives a test mode command signal from the command decoder 3 and outputs a test mode signal, which is an erase error generation signal for generating an erase error, to the erase pulse counter 7. The erase pulse counter 7 operates according to the test mode signal and counts the erase pulse during erase only once. The writing circuit 9 supplies a predetermined voltage to the memory cell array 15 during writing. The sense amplifier 10 amplifies the data of a predetermined memory cell in the memory cell array 15 and outputs it to the input / output buffer 17.

【0041】アドレスレジスタ11にはアドレス信号A
が入力され、アドレス信号Aをラッチし、Yアドレス信
号をYデコーダ12へ出力し、Xアドレス信号をXデコ
ーダ13へ出力する。Yデコーダ12は、セレクトゲー
トを選択するためのデコーダであり、入力したYアドレ
ス信号に応じてYゲート14内の所定のゲートを選択す
る。Xデコーダ13は入力したXアドレス信号に応じて
メモリセルアレイ15内の所定のワード線を活性化させ
る。メモリセルアレイ15内には複数のメモリセルが配
置され、Xデコーダ13およびYデコーダ14により所
定のメモリセルが選択される。ソース線スイッチ16
は、消去時にメモリセルアレイ15内の所定のメモリセ
ルに所定の電圧を印加する。入出力バッファ17には入
出力データDQが入力または出力され、外部からのデー
タの取込みまたは内部データの出力を行なう。また、各
回路には電源電圧VCCおよび接地電圧VSSが供給され、
さらに、コマンドデコーダ3、ベリファイ電圧発生回路
4、プログラム・消去電圧発生回路5、書込回路9、ソ
ース線スイッチ16には、電源電圧VCCをさらに昇圧し
た高電圧VPPが供給される。
The address signal A is sent to the address register 11.
Is input, the address signal A is latched, the Y address signal is output to the Y decoder 12, and the X address signal is output to the X decoder 13. The Y decoder 12 is a decoder for selecting a select gate, and selects a predetermined gate in the Y gate 14 according to the input Y address signal. The X decoder 13 activates a predetermined word line in the memory cell array 15 according to the input X address signal. A plurality of memory cells are arranged in the memory cell array 15, and a predetermined memory cell is selected by the X decoder 13 and the Y decoder 14. Source line switch 16
Applies a predetermined voltage to a predetermined memory cell in the memory cell array 15 at the time of erasing. Input / output data DQ is input or output to / from the input / output buffer 17, and external data is taken in or internal data is output. The power supply voltage V CC and the ground voltage V SS are supplied to each circuit,
Further, the command decoder 3, the verify voltage generation circuit 4, the program / erase voltage generation circuit 5, the write circuit 9, and the source line switch 16 are supplied with a high voltage V PP obtained by further boosting the power supply voltage V CC .

【0042】次に、図1に示す不揮発性半導体記憶装置
の消去部について説明する。図2は、図1に示す不揮発
性半導体記憶装置の消去部の構成を示すブロック図であ
る。
Next, the erase section of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be described. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the erasing unit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【0043】図2を参照して、不揮発性半導体記憶装置
の消去部は、消去パルス発生回路5a、消去パルスカウ
ンタ6a、7a、テストモード回路8を含む。消去パル
ス発生回路5aは、図1に示すプログラム・消去電圧発
生回路5内部に具備され、入力された消去命令20に応
じて消去パルスをメモリセルアレイ15a内のメモリセ
ルへ出力する。消去パルスカウンタ6aは、図1に示す
消去パルスカウンタ6内に具備され、通常動作時の消去
パルスの発生回数をカウントし、カウント値Xが300
0回になるまでカウントし、カウント結果を消去パルス
発生回路5aへ出力する。消去パルスカウンタ7aは、
図1に示す消去パルスカウンタ7内に具備され、テスト
モード回路8から出力されるテストモード信号に応じて
動作し、ステータスレジスタ18の機能チェック時に消
去パルスの数を1回のみカウントし、カウント結果を消
去パルス発生回路5aへ出力する。
Referring to FIG. 2, the erase portion of the nonvolatile semiconductor memory device includes an erase pulse generating circuit 5a, erase pulse counters 6a and 7a, and a test mode circuit 8. The erase pulse generating circuit 5a is provided inside the program / erase voltage generating circuit 5 shown in FIG. 1 and outputs an erase pulse to the memory cells in the memory cell array 15a in response to the input erase command 20. The erase pulse counter 6a is provided in the erase pulse counter 6 shown in FIG. 1, counts the number of times the erase pulse is generated during normal operation, and the count value X is 300.
It counts up to 0 times and outputs the count result to the erase pulse generating circuit 5a. The erase pulse counter 7a is
The erase pulse counter 7 shown in FIG. 1 is provided, operates according to a test mode signal output from the test mode circuit 8, and counts the number of erase pulses only once when the function of the status register 18 is checked. To the erase pulse generation circuit 5a.

【0044】以上の構成により、消去パルス発生回路5
aは、通常の消去不良チェック時は消去パルスカウンタ
6aにより消去パルスがカウントされ、カウント値Xが
3000回になるまで消去パルス発生回路5aから消去
パルスが発生される。一方、ステータスレジスタ18の
機能をチェックする場合は、消去エラー発生信号となる
テストモード信号に応じて、消去パルスカウンタ7aが
動作し、消去パルスカウンタ7aにより消去パルスが1
回のみカウントされ、消去パルス発生回路5aは消去パ
ルスを1回のみメモリセルへ出力する。
With the above configuration, the erase pulse generating circuit 5
In the case of normal erase failure check, the erase pulse is counted by the erase pulse counter 6a, and the erase pulse is generated from the erase pulse generating circuit 5a until the count value X reaches 3000 times. On the other hand, when checking the function of the status register 18, the erase pulse counter 7a operates in response to the test mode signal which is the erase error occurrence signal, and the erase pulse counter 7a outputs 1 erase pulse.
Only once, the erase pulse generation circuit 5a outputs the erase pulse to the memory cell only once.

【0045】次に、上記のように構成された不揮発性半
導体記憶装置を用いて消去テスト時のステータスレジス
タの機能を検査する方法について説明する。図3は、図
1に示す不揮発性半導体記憶装置の消去テスト時のステ
ータスレジスタの検査方法を説明するためのフローチャ
ートである。
Next, a method of inspecting the function of the status register at the time of an erase test using the nonvolatile semiconductor memory device configured as described above will be described. FIG. 3 is a flow chart for explaining a method of inspecting the status register during the erase test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【0046】図3を参照して、まず、ステップS1にお
いて、テストモードに設定する。ステータスレジスタの
機能チェックは、このテストモードによって行なうよう
にする。テストモードの設定は、たとえば、所定のピン
を高電圧にしたり、製品規格外のコマンドを入力するこ
とによって行なう。次に、ステップS2およびS3にお
いて、消去コマンド“30H”を2回入力する。次に、
ステップS4において、内部動作がレディ状態となった
か否かを確認する。レディ状態になっていない場合はス
テップS4を繰り返し、レディ状態となっている場合は
ステップS5へ移行する。次に、ステップS5におい
て、ステータスレジスタ5の内容を読出す。次に、ステ
ップS6において、ステータスレジスタ5のデータが
“1”となっているか否かを確認する。ステータスレジ
スタ5のデータが“1”となっている場合はデバイスは
良品であり、“0”のときはステータスレジスタの機能
が正常に機能しておらず、デバイスが不良であることが
わかる。
Referring to FIG. 3, first, in step S1, the test mode is set. The function check of the status register should be performed in this test mode. The test mode is set by, for example, setting a predetermined pin to a high voltage or inputting a command out of product specifications. Next, in steps S2 and S3, the erase command "30H" is input twice. next,
In step S4, it is confirmed whether or not the internal operation is in the ready state. If it is not ready, step S4 is repeated, and if it is ready, the process proceeds to step S5. Next, in step S5, the contents of the status register 5 are read. Next, in step S6, it is confirmed whether or not the data in the status register 5 is "1". When the data in the status register 5 is "1", the device is non-defective, and when the data is "0", the function of the status register is not functioning normally and the device is defective.

【0047】次に、上記の消去テストにおけるステータ
スレジスタの検査時の内部動作について説明する。図4
は、図1に示す不揮発性半導体記憶装置の消去テストに
おけるステータスレジスタの検査時の内部動作を説明す
るためのフローチャートである。
Next, the internal operation at the time of checking the status register in the erase test will be described. FIG.
3 is a flowchart for explaining an internal operation at the time of checking a status register in an erase test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【0048】図4を参照して、まずステップS11にお
いて、すべてのメモリセルに“0”を書込む。次に、ス
テップS12において、アドレスを0番地にセットす
る。次に、ステップS13において、消去パルスをメモ
リセルに印加する。次に、ステップS14において、消
去パルスを印加したメモリセルのベリファイ動作を行な
う。次に、ステップS15において、ステータスレジス
タ5にフェイルラッチが行なわれ、“1”のデータが格
納される。次にステップS16において、内部動作がレ
ディ状態となる。上記の動作では、テストモードの設
定、つまり、たとえば、外部から所定のピンが高電圧に
され、テストモード回路8からテストモード信号が出力
されることにより、消去パルスカウンタ7aが動作し、
消去パルスは1回のみカウントされ、消去パルス発生回
路5aからメモリセルへは1回のみ消去パルスが印加さ
れる。通常、消去パルス1回で消去が完全に行なわれる
ことはなく、必ず消去ベリファイ結果はフェイルとな
る。したがって、ステータスレジスタ5のデータが
“1”のときデバイスは良品であり、“0”のときステ
ータスレジスタの機能が正常に動作しておらず、デバイ
スが不良であることがわかる。
Referring to FIG. 4, first, in step S11, "0" is written in all memory cells. Next, in step S12, the address is set to address 0. Next, in step S13, an erase pulse is applied to the memory cell. Next, in step S14, the verify operation of the memory cell to which the erase pulse is applied is performed. Next, in step S15, fail latch is performed in the status register 5 and the data of "1" is stored. Next, in step S16, the internal operation becomes ready. In the above-mentioned operation, the erase pulse counter 7a operates by setting the test mode, that is, by externally setting a predetermined pin to a high voltage and outputting the test mode signal from the test mode circuit 8,
The erase pulse is counted only once, and the erase pulse is applied only once from the erase pulse generating circuit 5a to the memory cell. Normally, one erase pulse does not completely erase, and the erase verify result always fails. Therefore, it can be seen that when the data in the status register 5 is "1", the device is a good product, and when the data is "0", the function of the status register is not operating normally and the device is defective.

【0049】上記のように、第1の実施例では、ステー
タスレジスタの機能チェックとして、消去テスト時の消
去パルスの印加を1回のみにしているため、意図的に消
去エラー状態を作り出すことができ、ステータスレジス
タの機能を検査することが可能となる。この結果、消去
不良に対する信頼性の高いテストを行なうことができ
る。
As described above, in the first embodiment, the function of the status register is checked by applying the erase pulse only once during the erase test, so that an erase error state can be intentionally created. , It becomes possible to check the function of the status register. As a result, a highly reliable test for erasing defects can be performed.

【0050】次に、図1に示す不揮発性半導体記憶装置
の書込部について説明する。図5は、図1に示す不揮発
性半導体記憶装置の書込部の構成を示すブロック図であ
る。
Next, the writing section of the non-volatile semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be described. FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a writing unit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【0051】図5を参照して、書込部は、書込パルス発
生回路5b、書込パルスカウンタ6b、7b、テストモ
ード回路8を含む。書込パルス発生回路5bは、図1に
示すプログラム・消去電圧発生回路5内部に具備され、
書込命令21に応じて書込パルスをメモリセル15bに
出力する。書込パルスカウンタ6bは、通常動作におい
て使用され、書込パルス発生回路5bから出力される書
込パルスの回数を最大25回までカウントし、カウント
結果を書込パルス発生回路5bへ出力する。書込パルス
カウンタ7bは、テストモード回路8から出力されるテ
ストモード信号に応じて動作し、ステータスレジスタの
機能をチェックする場合、書込パルスを1回のみカウン
トし、カウント結果を書込パルス発生回路5bへ出力す
る。
Referring to FIG. 5, the writing unit includes a write pulse generating circuit 5b, write pulse counters 6b and 7b, and a test mode circuit 8. The write pulse generating circuit 5b is provided inside the program / erase voltage generating circuit 5 shown in FIG.
A write pulse is output to memory cell 15b in response to write command 21. The write pulse counter 6b is used in normal operation, counts the number of write pulses output from the write pulse generation circuit 5b up to 25 times, and outputs the count result to the write pulse generation circuit 5b. The write pulse counter 7b operates according to the test mode signal output from the test mode circuit 8, and when checking the function of the status register, counts the write pulse only once and generates the count result as the write pulse. Output to the circuit 5b.

【0052】以上の構成により、通常の書込テスト時に
は、書込パルスカウンタ6bにより最大25回まで書込
パルスがカウントされ、ステータスレジスタの機能のチ
ェックを行なう場合は書込パルスカウンタ7bにより1
回のみ書込パルスがカウントされ、書込パルスは1回の
み出力される。
With the above configuration, the write pulse counter 6b counts the write pulse up to 25 times in the normal write test, and the write pulse counter 7b outputs 1 when the function of the status register is checked.
The write pulse is counted only once, and the write pulse is output only once.

【0053】次に、図1に示す不揮発性半導体記憶装置
の書込テスト時のステータスレジスタの検査方法につい
て説明する。図6は、図1に示す不揮発性半導体記憶装
置の書込テスト時のステータスレジスタの検査方法を説
明するためのフローチャートである。
Next, a method of inspecting the status register during the write test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be described. FIG. 6 is a flow chart for explaining a method of inspecting the status register during the write test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【0054】図6を参照して、まず、ステップS21に
おいて、テストモードの設定を行なう。ステータスレジ
スタの機能チェックはテストモードによって行なう。テ
ストモードの設定は、上記消去テスト時のステータスレ
ジスタの機能チェックと同様に行なう。
Referring to FIG. 6, first, in step S21, a test mode is set. The function check of the status register is performed in the test mode. The test mode is set in the same way as the function check of the status register during the erase test.

【0055】次に、ステップS22において、書込コマ
ンド“10H”を入力する。次に、ステップS23にお
いて、アドレスを0番地に設定し、データとして“0”
を入力する。次に、ステップS24において、内部動作
がレディ状態となっていない場合はステップS24を繰
り返し、レディ状態となっている場合はステップS25
へ移行する。次に、ステップS25において、ステータ
スレジスタ4のデータをリードする。次に、ステップS
26において、ステータスレジスタ4のデータが“1”
となっているか否かを確認する。ステータスレジスタが
1となっている場合はステータスレジスタは正常に動作
しており、デバイスは良品であり、“0”となっている
場合はステータスレジスタが正常に動作しておらず、デ
バイスは不良であることがわかる。
Next, in step S22, the write command "10H" is input. Next, in step S23, the address is set to the address 0 and "0" is set as the data.
Enter Next, in step S24, if the internal operation is not in the ready state, step S24 is repeated, and if it is in the ready state, step S25.
Move to. Next, in step S25, the data in the status register 4 is read. Next, step S
26, the data of the status register 4 is “1”
Check whether or not. If the status register is 1, the status register is operating normally, and the device is a good product. If the status register is 0, the status register is not operating normally and the device is defective. I know there is.

【0056】次に、上記の検査時の内部動作について説
明する。図7は、図1に示す不揮発性半導体記憶装置の
書込テストにおけるステータスレジスタの検査時の内部
動作を説明するためのフローチャートである。
Next, the internal operation during the above inspection will be described. FIG. 7 is a flow chart for explaining the internal operation at the time of checking the status register in the write test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【0057】図7を参照して、まず、ステップS31に
おいて、テストモードが設定されているため、書込パル
スカウンタ7bが動作し、書込パルスが1回のみメモリ
セルへ印加される。次に、ステップS32においてベリ
ファイ動作が行なわれる。次に、ステップS33におい
て、ステータスレジスタ4にフェイルラッチが行なわ
れ、ステータスレジスタ4のデータとして“1”が格納
される。次に、ステップS34において、内部動作がレ
ディ状態にされる。
Referring to FIG. 7, first, in step S31, since the test mode is set, write pulse counter 7b operates and the write pulse is applied to the memory cell only once. Then, in step S32, a verify operation is performed. Next, in step S33, fail latch is performed in the status register 4 and "1" is stored as the data in the status register 4. Next, in step S34, the internal operation is set to the ready state.

【0058】以上の動作により、書込パルス発生回路5
bは、メモリセルに1回のみ書込パルスを出力するた
め、1回の書込では十分に書込めない場合、書込不良と
なり、ステータスレジスタ4には“1”のデータが格納
される。したがって、ステータスレジスタ4のデータが
“0”の場合ステータスレジスタは正常に動作していな
いことがわかり、ステータスレジスタの機能を検査する
ことが可能となる。この結果、書込不良に対する信頼性
の高いテストを行なうことが可能となる。
By the above operation, the write pulse generating circuit 5
Since b outputs a write pulse to the memory cell only once, if writing cannot be performed sufficiently by writing once, a write error occurs and the status register 4 stores "1" data. Therefore, when the data in the status register 4 is "0", it is understood that the status register is not operating normally, and the function of the status register can be inspected. As a result, it is possible to carry out a highly reliable test for writing defects.

【0059】上記実施例では、書込パルスを1回のみ印
加することにより意図的に書込エラー状態を作り出した
が、通常の書込動作は、書込パルス1回のみで行なうこ
とができる場合がある。したがって、1回のみの書込パ
ルスの印加により書込が完了した場合、ステータスレジ
スタの機能をチェックできない場合がある。そこで、よ
り完全に書込不良状態を作り出すことができる不揮発性
半導体記憶装置について以下に説明する。図8は、本発
明の第2の実施例の不揮発性半導体記憶装置の構成を示
すブロック図である。
In the above embodiment, the write error state was intentionally created by applying the write pulse only once, but the normal write operation can be performed by only one write pulse. There is. Therefore, when writing is completed by applying the write pulse only once, the function of the status register may not be checked. Therefore, a non-volatile semiconductor memory device that can more completely create a defective write state will be described below. FIG. 8 is a block diagram showing the configuration of the nonvolatile semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

【0060】図8に示す不揮発性半導体記憶装置と図1
に示す不揮発性半導体記憶装置で異なる点は、書込回路
9がテストモード回路8から出力されるテストモード信
号TEおよび制御回路1から出力される書込信号WEに
応じて書込動作を行なう点である。その他の点は図1に
示す不揮発性半導体記憶装置と同様であるので同一部分
には同一付号を付し以下その説明を省略する。
The nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 8 and FIG.
The non-volatile semiconductor memory device shown in FIG. 6 is different in that write circuit 9 performs a write operation according to test mode signal TE output from test mode circuit 8 and write signal WE output from control circuit 1. Is. Since the other points are similar to those of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 1, the same parts are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted below.

【0061】次に、第2の実施例のメモリセル部につい
てさらに詳細に説明する。図9は、図8に示す不揮発性
半導体記憶装置のメモリセル部の構成を示す図である。
Next, the memory cell portion of the second embodiment will be described in more detail. FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a memory cell portion of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【0062】図9を参照して、メモリセル部は、センス
アンプ10、NMOSトランジスタQ4、Q1、Q2、
NORゲート1、インバータG2、メモリトランジスタ
Q3を含む。
Referring to FIG. 9, the memory cell portion includes a sense amplifier 10, NMOS transistors Q4, Q1, Q2,
It includes a NOR gate 1, an inverter G2, and a memory transistor Q3.

【0063】インバータG2、NORゲートG1、トラ
ンジスタQ4は図8に示す書込回路9内部に具備され
る。インバータG2には、書込信号WEが入力され、そ
の出力がNORゲートG1に入力される。NORゲート
G1には、さらに、テストモード信号TEが入力され
る。NORゲートG1は、入力した2つ信号の否定論理
和をトランジスタQ4のゲートへ出力する。トランジス
タQ4の一端は高電圧VPPと接続され、他端はセンスア
ンプ10およびトランジスタQ1と接続される。トラン
ジスタQ1およびQ2は、Yゲート14内部に具備さ
れ、直列に接続される。トランジスタQ1およびQ2の
各ゲートにはそれぞれセレクトゲート信号SG1、SG
2が入力される。トランジスタQ2はメモリトランジス
タQ3と接続され、メモリトランジスタQ3のゲートは
ワード線WLと接続される。
Inverter G2, NOR gate G1 and transistor Q4 are provided inside write circuit 9 shown in FIG. The write signal WE is input to the inverter G2, and its output is input to the NOR gate G1. A test mode signal TE is further input to the NOR gate G1. The NOR gate G1 outputs the NOR of the two input signals to the gate of the transistor Q4. Transistor Q4 has one end connected to high voltage V PP and the other end connected to sense amplifier 10 and transistor Q1. The transistors Q1 and Q2 are provided inside the Y gate 14 and are connected in series. Select gate signals SG1 and SG are applied to the gates of the transistors Q1 and Q2, respectively.
2 is input. Transistor Q2 is connected to memory transistor Q3, and the gate of memory transistor Q3 is connected to word line WL.

【0064】次に、上記のように構成された書込部の動
作について説明する。通常動作時、テストモード信号T
Eは“L”であり、書込信号WEが“H”となったと
き、トランジスタQ4がオンし、メモリトランジスタQ
3への書込が行なわれる。第2の実施例のステータスレ
ジスタの検査時には、テストモード信号TEが“H”と
なるので、書込信号WEが“H”および“L”のいずれ
になってもトランジスタQ4はオンしない。したがっ
て、外部から“0”のデータを入力しても、トランジス
タQ4が常にオンしないので、メモリトランジスタQ3
への書込は行なわれない。以上のように、書込エラーを
発生させるための書込エラー発生信号としてテストモー
ド信号TEを入力し、テストモード信号TEのレベルに
よりメモリトランジスタQ3への書込動作を制御してい
るので、擬似的に書込不良を発生させることが可能とな
る。
Next, the operation of the writing section configured as described above will be described. During normal operation, test mode signal T
E is "L", and when the write signal WE becomes "H", the transistor Q4 turns on and the memory transistor Q
Writing to 3 is performed. Since the test mode signal TE becomes "H" during the inspection of the status register of the second embodiment, the transistor Q4 is not turned on even when the write signal WE becomes "H" or "L". Therefore, the transistor Q4 is not always turned on even when the data of "0" is input from the outside, so that the memory transistor Q3
Is not written to. As described above, since the test mode signal TE is input as the write error generation signal for generating the write error and the write operation to the memory transistor Q3 is controlled by the level of the test mode signal TE, the pseudo operation is performed. It is possible to cause defective writing.

【0065】上記のように、擬似的な書込エラー状態を
作り出し、図6および図7に示すフローチャートに従
い、ステータスレジスタ4のデータを読出することによ
りステータスレジスタの機能をチェックすることができ
る。つまり、上記の書込エラー状態のとき、ステータス
レジスタ4のデータはフェイルラッチ(データ“1”)
となっていなければならず、ステータスレジスタ4のデ
ータが“1”であれば、ステータスレジスタは正常に動
作しており、デバイスが良品であることがわかり、
“0”のときステータスレジスタは正常に動作しておら
ず、そのデバイスは不良デバイスであることがわかる。
As described above, it is possible to check the function of the status register by creating a pseudo write error state and reading the data of the status register 4 according to the flow charts shown in FIGS. That is, in the above write error state, the data in the status register 4 is the fail latch (data “1”).
If the data in the status register 4 is “1”, it means that the status register is operating normally and the device is a good product.
When it is "0", the status register is not operating normally, and it can be seen that the device is a defective device.

【0066】上記のように第2の実施例では、確実に書
込エラー状態を発生させることができるので、ステータ
スレジスタの機能を完全に確認することができ、書込不
良に対するより信頼性の高いテストを行なうことが可能
となる。
As described above, in the second embodiment, since the write error state can be surely generated, the function of the status register can be completely confirmed, and the reliability against the write failure is higher. It becomes possible to carry out a test.

【0067】上記各実施例では、フラッシュメモリにつ
いて述べたが、他の不揮発性半導体記憶装置においても
本発明を同様に適用することが可能である。
In each of the above embodiments, the flash memory has been described, but the present invention can be similarly applied to other nonvolatile semiconductor memory devices.

【0068】[0068]

【発明の効果】請求項1ないし請求項3記載の不揮発性
半導体記憶装置においては、消去エラー発生手段により
消去エラー状態を作り出すことができるので、ステータ
スレジスタの機能検査を行なうことが可能となり、消去
エラーに対する信頼性の高いテストを行なうことが可能
となる。
In the non-volatile semiconductor memory device according to the first to third aspects, since the erase error state can be created by the erase error generating means, it becomes possible to perform a function test of the status register and erase. It becomes possible to perform a reliable test for an error.

【0069】請求項4および請求項5記載の不揮発性半
導体記憶装置においては、書込エラー発生手段により書
込エラー状態を作り出すことができるので、ステータス
レジスタの機能検査を行なうことができ、書込エラーに
対する信頼性の高いテストを行なうことが可能となる。
In the non-volatile semiconductor memory device according to the fourth and fifth aspects, since the write error state can be created by the write error generating means, the function check of the status register can be performed and the write operation can be performed. It becomes possible to perform a reliable test for an error.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例の不揮発性半導体記憶
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す不揮発性半導体記憶装置の消去部
の構成を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of an erasing section of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【図3】 図1に示す不揮発性半導体記憶装置の消去テ
スト時のステータスレジスタの検査方法を説明するため
のフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart for explaining a method of checking a status register during an erase test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【図4】 図1に示す不揮発性半導体記憶装置の消去テ
ストにおけるステータスレジスタの検査時の内部動作を
説明するためのフローチャートである。
4 is a flow chart for explaining an internal operation at the time of checking a status register in an erase test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【図5】 図1に示す不揮発性半導体記憶装置の書込部
の構成を示すブロック図である。
5 is a block diagram showing a configuration of a writing unit of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【図6】 図1に示す不揮発性半導体記憶装置の書込テ
スト時のステータスレジスタの検査方法を説明するため
のフローチャートである。
6 is a flowchart for explaining a method of checking a status register during a write test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【図7】 図1に示す不揮発性半導体記憶装置の書込テ
ストにおけるステータスレジスタの検査時の内部動作を
説明するためのフローチャートである。
7 is a flowchart for explaining an internal operation at the time of checking the status register in the write test of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【図8】 本発明の第2の実施例の不揮発性半導体記憶
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図9】 図8に示す不揮発性半導体記憶装置のメモリ
セル部の構成を示す図である。
9 is a diagram showing a configuration of a memory cell portion of the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.

【図10】 従来の不揮発性半導体記憶装置の消去部の
構成を示すブロック図である。
FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of an erasing section of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【図11】 従来の不揮発性半導体記憶装置の書込部の
構成を示すブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram showing a configuration of a writing unit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【図12】 従来の不揮発性半導体記憶装置のメモリセ
ル部の構成を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a memory cell portion of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【図13】 従来の不揮発性半導体記憶装置の消去テス
トの方法を説明するためのフローチャートである。
FIG. 13 is a flowchart for explaining a conventional erase test method for a nonvolatile semiconductor memory device.

【図14】 従来の不揮発性半導体記憶装置の消去テス
ト時の内部動作を説明するためのフローチャートであ
る。
FIG. 14 is a flowchart for explaining an internal operation during an erase test of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【図15】 従来の不揮発性半導体記憶装置の書込テス
トの方法を説明するためのフローチャートである。
FIG. 15 is a flow chart for explaining a conventional write test method for a nonvolatile semiconductor memory device.

【図16】 従来の不揮発性半導体記憶装置の書込テス
ト時の内部動作を説明するためのフローチャートであ
る。
FIG. 16 is a flowchart illustrating an internal operation of a conventional nonvolatile semiconductor memory device during a write test.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 制御回路、2 コマンドレジスタ、3 コマンドデ
コーダ、4 ベリファイ電圧発生回路、5 プログラム
・消去電圧発生回路、6、7 消去パルスカウンタ、8
テストモード回路、9 書込回路、10 センスアン
プ、11 アドレスレジスタ、12 Yデコーダ、13
Xデコーダ、14 Yゲート、15メモリセルアレ
イ、16 ソース線スイッチ、17 入出力バッファ、
18 ステータスレジスタ。
1 control circuit, 2 command register, 3 command decoder, 4 verify voltage generation circuit, 5 program / erase voltage generation circuit, 6, 7 erase pulse counter, 8
Test mode circuit, 9 write circuit, 10 sense amplifier, 11 address register, 12 Y decoder, 13
X decoder, 14 Y gate, 15 memory cell array, 16 source line switch, 17 input / output buffer,
18 Status register.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 消去エラーをテストするテストモードを
有する不揮発性半導体記憶装置であって、 外部から入力される制御信号に応じて、消去エラー発生
信号を出力する出力手段と、 前記消去エラー発生信号に応じて消去エラー状態を作り
出す消去エラー発生手段とを含む不揮発性半導体記憶装
置。
1. A non-volatile semiconductor memory device having a test mode for testing an erase error, comprising: output means for outputting an erase error occurrence signal in response to a control signal input from the outside; and the erase error occurrence signal. A non-volatile semiconductor memory device including an erasing error generating means for generating an erasing error state according to the above.
【請求項2】 前記不揮発性半導体記憶装置は、 複数の不揮発性メモリセルを含み、 前記消去エラー発生手段は、 前記消去エラー発生信号に応じて、前記複数のメモリセ
ルに1回のみ消去パルスを出力する消去パルス出力手段
を含む請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
2. The non-volatile semiconductor memory device includes a plurality of non-volatile memory cells, and the erase error generating means applies an erase pulse only once to the plurality of memory cells in response to the erase error generating signal. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an erase pulse output means for outputting.
【請求項3】 前記消去パルス発生手段は、 前記消去エラー発生信号に応じて動作し、前記消去パル
スを1回のみカウントするカウント手段と、 前記カウント手段のカウント数に応じて、前記消去パル
スを出力する出力手段とを含む請求項2に記載の不揮発
性半導体記憶装置。
3. The erasing pulse generating means operates in response to the erasing error generating signal and counts the erasing pulse only once, and the erasing pulse is generated in accordance with the count number of the counting means. The non-volatile semiconductor memory device according to claim 2, further comprising output means for outputting.
【請求項4】 書込エラーをテストするテストモードを
有する半導体記憶装置であって、 外部から入力される制御信号に応じて、書込エラー発生
信号を出力する出力手段と、 前記書込エラー発生信号に応じて書込エラー状態を作り
出す書込エラー発生手段とを含む不揮発性半導体記憶装
置。
4. A semiconductor memory device having a test mode for testing a write error, comprising: output means for outputting a write error occurrence signal in response to a control signal input from the outside; and the write error occurrence. A non-volatile semiconductor memory device including a write error generating means for generating a write error state according to a signal.
【請求項5】 前記不揮発性半導体記憶装置は、 複数の不揮発性メモリセルを含み、 前記書込エラー発生手段は、 前記書込エラー発生信号に応じて、複数のメモリセルへ
の書込パルスの印加を停止させる停止手段を含む請求項
4記載の不揮発性半導体記憶装置。
5. The non-volatile semiconductor memory device includes a plurality of non-volatile memory cells, and the write error generation means generates a write pulse for a plurality of memory cells according to the write error generation signal. The non-volatile semiconductor memory device according to claim 4, further comprising stop means for stopping the application.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016115045A (en) * 2014-12-12 2016-06-23 三菱電機株式会社 Communication module and module testing system
US10486315B2 (en) 2016-10-11 2019-11-26 Fanuc Corporation Machine tool

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