JPH0836163A - Plasma address liquid crystal display device - Google Patents
Plasma address liquid crystal display deviceInfo
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- JPH0836163A JPH0836163A JP6169782A JP16978294A JPH0836163A JP H0836163 A JPH0836163 A JP H0836163A JP 6169782 A JP6169782 A JP 6169782A JP 16978294 A JP16978294 A JP 16978294A JP H0836163 A JPH0836163 A JP H0836163A
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマを利用して電
気光学材料層を駆動し、画素選択を行う画像表示装置で
あるプラズマアドレス液晶表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma addressed liquid crystal display device which is an image display device which drives a electro-optical material layer by using plasma to select pixels.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、液晶を駆動する画像表示装置とし
て、放電プラズマを利用したいわゆるプラズマアドレス
液晶表示装置が知られている。このプラズマアドレス液
晶表示装置の一例の概略的な構成を図３を用いて説明す
る。2. Description of the Related Art Conventionally, a so-called plasma addressed liquid crystal display device utilizing discharge plasma has been known as an image display device for driving a liquid crystal. A schematic configuration of an example of the plasma addressed liquid crystal display device will be described with reference to FIG.
【０００３】このプラズマアドレス液晶表示装置は、平
坦で非導電性があり、光学的に十分に透明な液晶側ガラ
ス６と、複数の放電電極１０が形成された基板ガラス１
１との間に、電気光学材料層である液晶層７を間挿する
と共に、上記液晶層７と上記基板ガラス１１との間の空
間を放電領域１５として成るものである。In this plasma addressed liquid crystal display device, a flat, non-conductive, optically sufficiently transparent liquid crystal side glass 6 and a substrate glass 1 on which a plurality of discharge electrodes 10 are formed are provided.
1, a liquid crystal layer 7 which is an electro-optical material layer is interposed, and a space between the liquid crystal layer 7 and the substrate glass 11 serves as a discharge region 15.
【０００４】上記液晶側ガラス６には、その一主面に帯
状の電極１４が形成されると共に、この電極１４に接し
てネマチック液晶等から成る液晶層７が配置されてい
る。この液晶層７は、薄い誘電体板である薄板ガラス８
によって上記液晶側ガラス６との間に挟持されている。
これにより、いわゆる液晶セル２０が構成された形にな
っている。尚、上記薄板ガラス８は液晶セル２０の液晶
層７とプラズマセル２１の放電領域１５との絶縁遮断層
として機能するものである。A band-shaped electrode 14 is formed on one main surface of the liquid crystal side glass 6, and a liquid crystal layer 7 made of nematic liquid crystal or the like is arranged in contact with the electrode 14. This liquid crystal layer 7 is a thin glass plate 8 which is a thin dielectric plate.
It is sandwiched between the liquid crystal side glass 6 and.
As a result, a so-called liquid crystal cell 20 is formed. The thin glass plate 8 functions as an insulation barrier layer between the liquid crystal layer 7 of the liquid crystal cell 20 and the discharge region 15 of the plasma cell 21.
【０００５】一方、上記基板ガラス１１にも複数の放電
電極１０が帯状電極として形成されると共に、周囲をシ
ール剤であるフリット１２によって支持することによ
り、上記薄板ガラス８から所定の間隔をもって配置され
る。これにより、上記基板ガラス１１と薄板ガラス８と
の間の空間が放電プラズマを発生する放電領域１５とな
っている。上記薄板ガラス８によって液晶セル２０から
遮断され、上記基板ガラス１１及び上記薄板ガラス８と
基板ガラス１１とによって挟持された領域はプラズマセ
ル２１と呼ばれる。尚、上記フリット１２とは粉末ガラ
スのことであり、塗布することにより形成される。On the other hand, a plurality of discharge electrodes 10 are formed as strip electrodes also on the substrate glass 11, and the periphery thereof is supported by a frit 12 which is a sealant so that the discharge electrodes 10 are arranged at a predetermined distance from the thin glass plate 8. It As a result, the space between the substrate glass 11 and the thin glass plate 8 serves as a discharge region 15 for generating discharge plasma. A region which is shielded from the liquid crystal cell 20 by the thin glass plate 8 and sandwiched between the substrate glass 11 and the thin glass plate 8 and the substrate glass 11 is called a plasma cell 21. The frit 12 is powder glass and is formed by coating.
【０００６】上記各放電電極１０は上記基板ガラス１１
上に等間隔で配置され、この放電電極１０上には隔壁、
いわゆるバリアリブ９が印刷形成されている。放電領域
１５は、この複数のバリアリブ９によって仕切られ、そ
れぞれ独立したプラズマ室Ｐ1 ，Ｐ2 ，・・・に分割さ
れている。各プラズマ室Ｐ1 ，Ｐ2 ，・・・にはイオン
化が可能なガスが封入されている。このイオン化可能な
ガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン、あるいは
これらの混合ガス等が用いられる。Each of the discharge electrodes 10 has the substrate glass 11
The discharge electrodes 10 are arranged at equal intervals on the barrier ribs,
So-called barrier ribs 9 are formed by printing. The discharge region 15 is partitioned by the plurality of barrier ribs 9 and divided into independent plasma chambers P 1 , P 2 , ... A gas that can be ionized is enclosed in each of the plasma chambers P 1 , P 2 , ... As the ionizable gas, helium, neon, argon, a mixed gas thereof or the like is used.
【０００７】上記バリアリブ９は複数の放電電極１０の
各帯状電極上に、各走査単位毎に形成されている。従っ
て、各プラズマ室Ｐ1 ，Ｐ2 ，・・・が各走査線に対応
している。上記バリアリブ９は印刷法、例えばアルミナ
等のセラミックを混入したガラスペーストをスクリーン
印刷法により複数回積層印刷することによって形成され
る。ここで、バリアリブ９は、放電領域１５のギャップ
間隔、即ち基板ガラス１１と薄板ガラス８との距離を規
制する役割も果たす。この放電領域１５のギャップ間隔
は、バリアリブ９を形成する際のスクリーン印刷の回数
や各印刷時のガラスペーストの量等を調節することによ
り制御することができる。通常は２００μｍ程度とされ
る。The barrier rib 9 is formed on each strip electrode of the plurality of discharge electrodes 10 for each scanning unit. Therefore, each plasma chamber P 1 , P 2 , ... Corresponds to each scanning line. The barrier ribs 9 are formed by printing a plurality of layers of glass paste mixed with a ceramic such as alumina by screen printing. Here, the barrier rib 9 also plays a role of regulating the gap distance of the discharge region 15, that is, the distance between the substrate glass 11 and the thin glass plate 8. The gap spacing of the discharge region 15 can be controlled by adjusting the number of times of screen printing when forming the barrier rib 9 and the amount of glass paste at each printing. Usually, it is about 200 μm.
【０００８】上記複数の放電電極１０は、例えば銀粉末
等を含有する電極ペーストを複数回積層印刷することに
より、基板ガラス１１上に直接形成することができる。
また、エッチング工程によって形成してもよい。具体的
には、放電電極１０は、例えば図４に示すように放電電
極１０1 、１０2 、１０3 と順次印刷される。このと
き、最下層の放電電極１０1 は上層の放電電極１０2 、
１０3 よりも広がり、幅広い形状になる。これは、基板
ガラス１１に直接に印刷される放電電極１０1 の電極ペ
ースト材料のダレが、電極ペースト上に印刷される放電
電極１０2 、１０3 の電極ペースト材料のダレよりも大
きいためである。The plurality of discharge electrodes 10 can be directly formed on the substrate glass 11 by laminating and printing an electrode paste containing silver powder or the like a plurality of times.
Alternatively, it may be formed by an etching process. Specifically, the discharge electrode 10 is sequentially printed with the discharge electrodes 10 1 , 10 2 , and 10 3 as shown in FIG. 4, for example. At this time, the lowermost discharge electrode 10 1 is the upper discharge electrode 10 2 ,
Wider than 10 3 and wide shape. This is because the sagging of the electrode paste material of the discharge electrode 10 1 directly printed on the substrate glass 11 is larger than the sagging of the electrode paste material of the discharge electrodes 10 2 , 10 3 printed on the electrode paste. .
【０００９】上記液晶側ガラス６の上記基板ガラス１１
と対向する主面上に所定の幅をもって形成された複数の
電極１４は、例えばインジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）
等の透明導電材料により形成されており、光学的に透明
である。また、各電極１４は互いに平行に配列され、例
えば画面に垂直に配列されている。一方、上記基板ガラ
ス１１の上記液晶側ガラス６と対向する主面上にも複数
の放電電極１０が形成されている。これら放電電極１０
も平行な帯状電極であるが、その配列方向は先の液晶側
ガラス６上に形成された電極１４と直交する方向であ
る。即ち、これら放電電極１０は画面に水平に配列され
ている。また、これら放電電極１０はアノード電極とカ
ソード電極とから成り、これらを対にして放電用電極が
構成されている。上述のように放電電極１０上にバリア
リブ９を印刷形成した場合には、これらバリアリブ９で
区切られた各プラズマ室Ｐ1 ，Ｐ2 ，・・・において
は、放電電極１０が共用されている。即ち、例えば放電
電極１０ａは、プラズマ室Ｐ1の放電用電極でもあり、
プラズマ室Ｐ2 の放電用電極でもある。The substrate glass 11 of the liquid crystal side glass 6
The plurality of electrodes 14 formed on the main surface facing each other with a predetermined width are, for example, indium tin oxide (ITO).
It is formed of a transparent conductive material such as, and is optically transparent. The electrodes 14 are arranged in parallel with each other, for example, perpendicular to the screen. On the other hand, a plurality of discharge electrodes 10 are also formed on the main surface of the substrate glass 11 facing the liquid crystal side glass 6. These discharge electrodes 10
Are parallel strip electrodes, but the array direction is orthogonal to the electrodes 14 formed on the liquid crystal side glass 6 described above. That is, these discharge electrodes 10 are arranged horizontally on the screen. The discharge electrode 10 is composed of an anode electrode and a cathode electrode, and these electrodes are paired to form a discharge electrode. When the barrier rib 9 is formed by printing on the discharge electrode 10 as described above, the discharge electrode 10 is shared by the plasma chambers P 1 , P 2 , ... Divided by the barrier rib 9. That is, for example, the discharge electrode 10a is also the discharge electrode of the plasma chamber P 1 ,
It is also the discharge electrode of the plasma chamber P 2 .
【００１０】ここで、カソード電極の壁面とアノード電
極の壁面とはプラズマ室Ｐを介して対向配置されてお
り、これを壁面電極構造又は側面電極構造と呼ぶ。この
側面電極構造においては、矢印Ｒで示すように、プラズ
マ放電経路は一方の放電電極１０の壁面から他方の放電
電極１０の壁面に対して直進する。しかし、放電電極１
０が比較的薄いと、側面放電に寄与する放電電極１０の
面積が小さくなるため、放電電極端への電界の集中によ
る異常放電が生じて正常な放電が行われない。この問題
は、上記放電電極１０の高さを１００μｍ以上とするこ
とにより解決される。Here, the wall surface of the cathode electrode and the wall surface of the anode electrode are arranged so as to face each other with the plasma chamber P in between, and this is called a wall surface electrode structure or a side surface electrode structure. In this side electrode structure, as indicated by arrow R, the plasma discharge path goes straight from the wall surface of one discharge electrode 10 to the wall surface of the other discharge electrode 10. However, the discharge electrode 1
When 0 is relatively thin, the area of the discharge electrode 10 that contributes to the side surface discharge becomes small, so abnormal discharge occurs due to the concentration of the electric field at the discharge electrode end, and normal discharge is not performed. This problem is solved by setting the height of the discharge electrode 10 to 100 μm or more.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】ところで、一般に、放
電電極１０の材料の熱膨張係数と基板ガラス１１の熱膨
張係数とは一致しない。従って、放電電極１０の厚みが
大きい場合には、放電電極１０の材料の熱膨張係数と基
板ガラス１１の熱膨張係数との不一致に起因する応力に
よって基板ガラス１１が反ってしまう問題が生じる。こ
れにより、薄板ガラス８の割れや液晶セル２０のシール
の剥がれが引き起こされる。By the way, generally, the coefficient of thermal expansion of the material of the discharge electrode 10 and the coefficient of thermal expansion of the substrate glass 11 do not match. Therefore, when the thickness of the discharge electrode 10 is large, there is a problem that the substrate glass 11 is warped due to the stress caused by the mismatch between the thermal expansion coefficient of the material of the discharge electrode 10 and the thermal expansion coefficient of the substrate glass 11. This causes breakage of the thin glass plate 8 and peeling of the seal of the liquid crystal cell 20.
【００１２】この場合、例えば１〜２ｍｍ程度の通常の
厚さの基板ガラス１１を用いたときには、放電電極１０
の厚さを１００μｍ以下にすることによって上記基板ガ
ラス１１を反らさない程度に上記基板ガラス１１の応力
の大きさを止めることができ、上記問題を解決すること
ができる。In this case, when the substrate glass 11 having a normal thickness of, for example, 1 to 2 mm is used, the discharge electrode 10
By setting the thickness of the substrate glass to 100 μm or less, the magnitude of the stress of the substrate glass 11 can be stopped to the extent that the substrate glass 11 is not warped, and the above problem can be solved.
【００１３】しかし、上述のように、放電電極１０の厚
さを１００μｍ以下にすると、側面放電に寄与する放電
電極１０の面積が小さくなり、上述した異常放電の問題
が生じる。However, as described above, if the thickness of the discharge electrode 10 is 100 μm or less, the area of the discharge electrode 10 that contributes to the side discharge becomes small, and the above-mentioned problem of abnormal discharge occurs.
【００１４】つまり、図４に示すように、積層印刷形成
された放電電極１０の内の最下層の放電電極１０1 にお
いて、上層の放電電極１０2 よりも広がった部分には電
界集中が起こり、異常放電が生じる問題がある。That is, as shown in FIG. 4, in the discharge electrode 10 1 of the lowermost layer among the discharge electrodes 10 formed by laminated printing, electric field concentration occurs in a portion wider than the discharge electrode 10 2 of the upper layer, There is a problem that abnormal discharge occurs.
【００１５】そこで、本発明は上述の実情に鑑み、基板
ガラスが反ったり、異常放電を生じたりすることのない
プラズマアドレス液晶表示装置を提供するものである。Therefore, in view of the above situation, the present invention provides a plasma addressed liquid crystal display device in which the substrate glass does not warp or abnormal discharge occurs.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】本発明に係るプラズマア
ドレス液晶表示装置は、第２の基板と第２電極との間に
下地層を有することにより上述した課題を解決する。The plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention solves the above-mentioned problems by having an underlayer between the second substrate and the second electrode.
【００１７】ここで、上記第２電極の厚さは４０〜１０
０μｍとすることを特徴とする。Here, the thickness of the second electrode is 40 to 10
It is characterized in that it is 0 μm.
【００１８】また、上記下地層を形成するペースト材料
の粘度は、上記第２電極を形成するペースト材料の粘度
よりも大きいことを特徴とする。Further, the viscosity of the paste material forming the underlayer is larger than the viscosity of the paste material forming the second electrode.
【００１９】ここで、上記第２電極を形成するペースト
材料の粘度をρ1 、上記下地層を形成するペースト材料
の粘度をρ2 とすると、 ρ2 ＝１．１ρ1 〜２．０ρ1 の関係をもつことを特徴とする。When the viscosity of the paste material forming the second electrode is ρ 1 and the viscosity of the paste material forming the underlayer is ρ 2 , ρ 2 = 1.1 ρ 1 to 2.0 ρ 1 Characterized by having a relationship.
【００２０】[0020]
【作用】本発明においては、第２の基板である基板ガラ
スと第２電極である放電電極との間に下地層を形成した
後、この下地層の上層に放電電極を形成する。In the present invention, after forming the underlayer between the substrate glass which is the second substrate and the discharge electrode which is the second electrode, the discharge electrode is formed on the underlayer.
【００２１】[0021]
【実施例】以下、本発明の好ましい実施例について、図
面を参照しながら説明する。図１には、本発明に係るプ
ラズマアドレス液晶表示装置の概略的な縦断面図を示
す。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic vertical sectional view of a plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention.
【００２２】この実施例に示すプラズマアドレス液晶表
示装置は、液晶セル２０及びプラズマセル２１と、これ
ら液晶セル２０とプラズマセル２１とを遮断する薄板ガ
ラス８とから構成される。基板ガラス１１上には、先ず
複数の下地層１３が等間隔で形成され、これら下地層１
３上に複数の放電電極１０が形成されている。さらに、
これらの放電電極１０上にはバリアリブ９がそれぞれ印
刷形成されている。また、上記バリアリブ９の周囲には
フリット１２が塗布されている。そして、上記バリアリ
ブ９の上部には薄板ガラス８が張り合わせられており、
これによって複数の放電領域１５が形成されている。上
記薄板ガラス８上には、上記複数の放電電極１０と直交
するように形成された複数の電極１４を備える液晶側ガ
ラス６との間に液晶層７が設けられている。The plasma addressed liquid crystal display device shown in this embodiment comprises a liquid crystal cell 20 and a plasma cell 21, and a thin glass plate 8 for blocking the liquid crystal cell 20 and the plasma cell 21. First, a plurality of base layers 13 are formed on the substrate glass 11 at equal intervals.
A plurality of discharge electrodes 10 are formed on the surface 3. further,
Barrier ribs 9 are formed by printing on these discharge electrodes 10. A frit 12 is applied around the barrier ribs 9. Then, the thin glass plate 8 is attached to the upper portion of the barrier rib 9,
Thereby, a plurality of discharge regions 15 are formed. A liquid crystal layer 7 is provided on the thin glass plate 8 and the liquid crystal side glass 6 having a plurality of electrodes 14 formed so as to intersect the plurality of discharge electrodes 10 at right angles.
【００２３】次に、上記プラズマセル２１内の放電電極
１０の具体的な構成を図２に示す。上記基板ガラス１１
上には、一層の下地層１３が印刷形成される。この下地
層１３のペースト材料としては、上記放電電極１０の電
極ペースト材料の粘度よりも大きい粘度をもつ、即ちダ
レの小さいものを使用する。この下地層１３上には、複
数層の放電電極１０が印刷形成される。図２では、３層
の放電電極１０1 、１０2 、１０3 が印刷形成された場
合を示す。このとき、大きな粘度のペースト材料による
下地層１３によって、この下地層１３上に形成される放
電電極１０の電極ペースト材料のダレが抑えられるの
で、上記基板ガラス１１上に直接に形成される下地層１
３とこの下地層１３の上層に形成される複数の放電電極
１０との幅がほぼ同じになる。Next, a specific structure of the discharge electrode 10 in the plasma cell 21 is shown in FIG. The substrate glass 11
An underlayer 13 of one layer is formed by printing. As the paste material of the base layer 13, a paste material having a viscosity higher than that of the electrode paste material of the discharge electrode 10, that is, a material having a small sag is used. A plurality of layers of discharge electrodes 10 are formed on the base layer 13 by printing. FIG. 2 shows a case where three layers of discharge electrodes 10 1 , 10 2 , and 10 3 are formed by printing. At this time, since the base layer 13 made of the paste material having a large viscosity suppresses the sagging of the electrode paste material of the discharge electrode 10 formed on the base layer 13, the base layer formed directly on the substrate glass 11 is formed. 1
3 and the plurality of discharge electrodes 10 formed on the underlying layer 13 have substantially the same width.
【００２４】これにより、従来の１層目の放電電極の上
層の放電電極よりも広がった部分に起こっていた電界集
中が起こらず、異常放電が生じなくなる。また、この結
果、放電電極１０の厚さが１００μｍ以下であっても安
定した側面放電を行わせることが可能となる。As a result, the electric field concentration, which has occurred in the portion of the upper layer of the conventional first discharge electrode that is wider than the discharge electrode, does not occur, and abnormal discharge does not occur. Further, as a result, it becomes possible to perform stable side discharge even when the thickness of the discharge electrode 10 is 100 μm or less.
【００２５】但し、側面放電に寄与する放電電極１０の
面積が小さすぎる場合には放電がちらつく問題が生じる
ので、放電電極１０の厚さは４０〜１００μｍとするこ
とが好ましい。However, if the area of the discharge electrode 10 that contributes to the side surface discharge is too small, the discharge may flicker, so the thickness of the discharge electrode 10 is preferably 40 to 100 μm.
【００２６】さらに、上記下地層１３のペースト材料の
粘度をρ2 とし、上記放電電極１０の電極ペースト材料
の粘度をρ1 とした場合に、粘度ρ2 の値は以下の
（１）式に示す範囲内の値に設定する。Further, when the viscosity of the paste material of the underlayer 13 is ρ 2 and the viscosity of the electrode paste material of the discharge electrode 10 is ρ 1 , the value of the viscosity ρ 2 is given by the following equation (1). Set to a value within the range shown.
【００２７】 ρ2 ＝１．１ρ1 〜２．０ρ1 ・・・（１） 下地層１３のペースト材料の粘度ρ2 の値が上記（１）
式に示した範囲の値よりも小さい場合には、上記下地層
１３を形成したときに、この下地層１３の幅が上層に形
成される放電電極１０の幅よりも広くなり、電極ペース
ト材料のダレを抑える役割を果たさなくなる。Ρ 2 = 1.1 ρ 1 to 2.0 ρ 1 (1) The value of the viscosity ρ 2 of the paste material of the underlayer 13 is the above (1).
When the value is smaller than the value in the range shown in the formula, the width of the underlayer 13 becomes wider than the width of the discharge electrode 10 formed in the upper layer when the underlayer 13 is formed. It will no longer play the role of suppressing dripping.
【００２８】尚、上記下地層１３のペースト材料として
は上記放電電極１０のダレを抑えることができるもので
あれば良い。It should be noted that the paste material for the underlayer 13 may be any as long as it can suppress the sagging of the discharge electrode 10.
【００２９】次に、基板ガラス１１上の下地層１３、放
電電極１０、及びバリアリブ９の形成工程の一例につい
て具体的に説明する。この形成工程の印刷においては、
幅１７０μｍ、ピッチ４１０μｍのストライプパターン
を有した、メッシュ番号３２５、線径２３μｍ、バイア
ス角３０度、空間率５０％のスクリーンを用いている。Next, an example of a process of forming the underlayer 13, the discharge electrode 10 and the barrier rib 9 on the substrate glass 11 will be specifically described. In the printing of this forming process,
A screen having a stripe pattern having a width of 170 μm and a pitch of 410 μm, a mesh number of 325, a wire diameter of 23 μm, a bias angle of 30 degrees and a porosity of 50% is used.
【００３０】先ず、下地層１３のペースト材料としてガ
ラスペーストＥＬＤ−５１１（奥野製薬社製）を用い
て、下地層１３を基板ガラス１１上に２０μｍの厚さで
一層印刷し、１５０°Ｃで乾燥させる。First, using the glass paste ELD-511 (manufactured by Okuno Chemical Industries Co., Ltd.) as a paste material for the underlayer 13, the underlayer 13 was printed on the substrate glass 11 in a thickness of 20 μm and dried at 150 ° C. Let
【００３１】次に、放電電極１０の電極ペースト材料と
してニッケルペースト９５３５Ｍ（デュポン社製）を用
いて、上記印刷形成された下地層１３上に放電電極１０
を厚さ５０μｍになるように積層印刷する。このとき、
一層印刷する毎に１５０°Ｃで乾燥させる。Next, using the nickel paste 9535M (manufactured by DuPont) as the electrode paste material of the discharge electrode 10, the discharge electrode 10 is formed on the above-mentioned printed underlayer 13.
Is laminated and printed to have a thickness of 50 μm. At this time,
It is dried at 150 ° C. after each printing.
【００３２】さらに、上記放電電極１０上に、ガラスペ
ーストＥＬＤ−５１１（奥野製薬社製）をバリアリブ９
として厚さ２００μｍになるように積層印刷する。この
とき、一層印刷する毎に１５０°Ｃで乾燥させる。Further, a glass paste ELD-511 (manufactured by Okuno Chemical Industries Co., Ltd.) is applied on the discharge electrode 10 as a barrier rib 9.
As a result, laminated printing is performed so that the thickness becomes 200 μm. At this time, it is dried at 150 ° C. for each printing.
【００３３】この後、上記下地層１３、放電電極１０、
及びバリアリブ９が作製された基板ガラス１１を空気雰
囲気下において４９０°Ｃで焼成する。さらに、空気を
窒素に置換して昇温させ、窒素雰囲気下において５８０
°Ｃで焼成する。After that, the underlayer 13, the discharge electrode 10,
The substrate glass 11 on which the barrier ribs 9 are formed is fired at 490 ° C. in an air atmosphere. Further, the air is replaced with nitrogen to raise the temperature, and the temperature is increased to 580 in a nitrogen atmosphere.
Bake at ° C.
【００３４】上記焼成した基板ガラス１１を放電電極１
０の活性化のためにエチレングリコールに５分間浸漬
し、さらにその後、濃度３０〜３５％の過酸化水素水
（関東化学社製）に３分間浸漬する。この浸漬した基板
ガラス１１を水洗し、乾燥した後、薄板ガラス８及び液
晶セル２０を取り付けてプラズマアドレス液晶表示装置
を作製する。The baked substrate glass 11 is used as the discharge electrode 1
For activation of 0, it is immersed in ethylene glycol for 5 minutes, and then immersed in hydrogen peroxide solution (Kanto Chemical Co., Inc.) having a concentration of 30 to 35% for 3 minutes. The immersed substrate glass 11 is washed with water and dried, and then the thin glass plate 8 and the liquid crystal cell 20 are attached to produce a plasma addressed liquid crystal display device.
【００３５】このように作製されたプラズマアドレス液
晶表示装置においては、基板ガラス１１の反りによる液
晶セル２０のシールの剥がれ及び薄板ガラス８の割れは
発生しない。また、このプラズマアドレス液晶表示装置
の放電の安定性及び均一性は良好であり、放電開始電圧
は２１０Ｖである。In the plasma addressed liquid crystal display device thus manufactured, the peeling of the seal of the liquid crystal cell 20 and the cracking of the thin glass plate 8 due to the warp of the substrate glass 11 do not occur. Further, the stability and uniformity of discharge of this plasma addressed liquid crystal display device are good, and the discharge start voltage is 210V.
【００３６】また、上述の形成工程において、上記放電
電極１０の厚さを７０μｍ又は９０μｍとし、他の条件
は全て同じにしてプラズマアドレス液晶表示装置を作製
した場合にも、上記放電電極１０の厚さを５０μｍとし
た場合と同様に、基板ガラス１１の反りによる液晶セル
２０のシールの剥がれ及び薄板ガラス８の割れは発生せ
ず、また、このプラズマアドレス液晶表示装置の放電の
安定性及び均一性は良好である。上述の結果から、放電
電極１０の厚さは４０〜１００μｍとすることが好まし
い。Also, in the above-mentioned forming process, when the thickness of the discharge electrode 10 is set to 70 μm or 90 μm and the plasma address liquid crystal display device is manufactured under all other conditions, the thickness of the discharge electrode 10 is set. As in the case where the thickness is 50 μm, the peeling of the seal of the liquid crystal cell 20 and the cracking of the thin glass plate 8 due to the warp of the substrate glass 11 do not occur, and the stability and uniformity of the discharge of this plasma addressed liquid crystal display device are not generated. Is good. From the above results, it is preferable that the thickness of the discharge electrode 10 is 40 to 100 μm.
【００３７】尚、上述の形成工程において、上記放電電
極１０の厚さを３５μｍとし、他の条件は全て同じにし
てプラズマアドレス液晶表示装置を作製した場合には、
安定な放電を行わせることができない。また、上記放電
電極１０の厚さを１５０μｍとした場合には、液晶セル
２０のシールの剥がれ及び薄板ガラス８の割れが発生す
る。さらに、ガラスペーストの下地層１３を印刷形成せ
ず、他の条件は全て同じにして放電電極１０の厚さが１
００μｍ以下のプラズマアドレス液晶表示装置を作製し
た場合には、アノード・カソード間の電圧を増加させた
ときに、電極端への電界集中が原因と考えられる異常放
電が発生し、安定した放電を行わせることができない。In the above-mentioned forming process, when the discharge electrode 10 has a thickness of 35 μm and all other conditions are the same, a plasma addressed liquid crystal display device is manufactured.
Stable discharge cannot be performed. Further, when the thickness of the discharge electrode 10 is 150 μm, peeling of the seal of the liquid crystal cell 20 and cracking of the thin glass plate 8 occur. Further, the underlayer 13 of glass paste was not formed by printing, and the other conditions were the same, and the thickness of the discharge electrode 10 was 1 or less.
When a plasma-addressed liquid crystal display device having a size of 00 μm or less is produced, when the voltage between the anode and the cathode is increased, an abnormal discharge, which is considered to be caused by the electric field concentration at the electrode end, occurs and a stable discharge is performed. I can't let you.
【００３８】[0038]
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係るプラズマアドレス液晶表示装置は、第２の基板
と第２電極との間に下地層を有し、この下地層を形成す
るペースト材料の粘度は、上記第２電極を形成するペー
スト材料の粘度よりも大きいことにより、第２電極にお
いて電界集中による異常放電を抑えることができる。ま
た、第２の基板におけるバックライト照明のための開口
部の面積が広くなるので、バックライト照明の照度を高
めることができる。As is apparent from the above description, the plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention has an underlayer between the second substrate and the second electrode and forms this underlayer. Since the viscosity of the paste material is higher than the viscosity of the paste material forming the second electrode, abnormal discharge due to electric field concentration at the second electrode can be suppressed. Moreover, since the area of the opening for backlight illumination in the second substrate is widened, the illuminance of the backlight illumination can be increased.
【００３９】また、上記第２電極の厚さは４０〜１００
μｍとすることにより、基板ガラスが反らず、薄板ガラ
スの割れや液晶セルのシールの剥がれの発生を防止する
ことができる。The thickness of the second electrode is 40-100.
By setting the thickness to μm, the substrate glass does not warp, and it is possible to prevent the thin glass plate from breaking and the seal of the liquid crystal cell from peeling off.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図１】本発明に係るプラズマアドレス液晶表示装置の
概略的な構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a plasma addressed liquid crystal display device according to the present invention.
【図２】放電電極の具体的な構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a specific configuration of a discharge electrode.
【図３】従来のプラズマアドレス液晶表示装置の概略的
な構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional plasma addressed liquid crystal display device.
【図４】従来の放電電極の具体的な構成を示す図であ
る。FIG. 4 is a diagram showing a specific configuration of a conventional discharge electrode.
６ 液晶側ガラス ７ 液晶層 ８ 薄板ガラス ９ バリアリブ １０ 放電電極 １１ 基板ガラス １２ フリット １３ 下地層 １４ 電極 １５ 放電領域 6 Liquid Crystal Glass 7 Liquid Crystal Layer 8 Thin Glass 9 Barrier Rib 10 Discharge Electrode 11 Substrate Glass 12 Frit 13 Underlayer 14 Electrode 15 Discharge Area
Claims (4)
極を有する第１の基板と、上記第１の基板上の第１電極
と対向する主面上に上記第１電極と略直交し且つ互いに
略平行な複数の第２電極を有する第２の基板と、上記複
数の第２電極上にそれぞれ形成する隔壁と、上記隔壁上
に貼付される誘電体板と、上記第１の基板の第１電極に
接触して、上記第１電極と上記誘電体板との間に形成さ
れる電気光学材料層とを備え、プラズマ放電によって書
き込みを行うプラズマアドレス液晶表示装置において、 上記第２の基板と上記第２電極との間に下地層を有する
ことを特徴とするプラズマアドレス液晶表示装置。1. A first substrate having a plurality of first electrodes substantially parallel to each other on one main surface, and the first electrode substantially on the main surface facing the first electrode on the first substrate. A second substrate having a plurality of second electrodes that are orthogonal to each other and substantially parallel to each other; a partition formed on each of the plurality of second electrodes; a dielectric plate attached to the partition; A plasma addressed liquid crystal display device, comprising: an electro-optical material layer formed between the first electrode and the dielectric plate, in contact with a first electrode of a substrate, wherein writing is performed by plasma discharge. 2. A plasma addressed liquid crystal display device comprising an underlayer between the substrate and the second electrode.
とすることを特徴とする請求項１記載のプラズマアドレ
ス液晶表示装置。2. The thickness of the second electrode is 40 to 100 μm.
The plasma addressed liquid crystal display device according to claim 1, wherein
度は、上記第２電極を形成するペースト材料の粘度より
も大きいことを特徴とする請求項１記載のプラズマアド
レス液晶表示装置。3. The plasma addressed liquid crystal display device according to claim 1, wherein the viscosity of the paste material forming the underlayer is higher than the viscosity of the paste material forming the second electrode.
粘度をρ1 、上記下地層を形成するペースト材料の粘度
をρ2 とするときに、 ρ2 ＝１．１ρ1 〜２．０ρ1 の関係をもつことを特徴とする請求項３記載のプラズマ
アドレス液晶表示装置。4. When the viscosity of the paste material forming the second electrode is ρ 1 and the viscosity of the paste material forming the underlayer is ρ 2 , ρ 2 = 1.1 ρ 1 to 2.0 ρ 1 4. The plasma addressed liquid crystal display device according to claim 3, having the following relationship.
Priority Applications (10)
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|---|---|---|---|
| JP16978294A JP3672594B2 (en) | 1994-07-21 | 1994-07-21 | Plasma address liquid crystal display |
| SG1995000887A SG64844A1 (en) | 1994-07-21 | 1995-07-18 | Plasma-addressed display device |
| CA002154219A CA2154219A1 (en) | 1994-07-21 | 1995-07-19 | Plasma-addressed display device |
| MYPI95002066A MY114526A (en) | 1994-07-21 | 1995-07-20 | Plasma-addressed display device |
| EP95111447A EP0693702A1 (en) | 1994-07-21 | 1995-07-20 | Plasma-addressed display device |
| US08/504,415 US5684361A (en) | 1994-07-21 | 1995-07-20 | Plasma discharge chamber arrangement for plasma-addressed display device |
| KR1019950021271A KR100371257B1 (en) | 1994-07-21 | 1995-07-20 | Plasma address display device and its manufacturing method |
| CN95115812A CN1097253C (en) | 1994-07-21 | 1995-07-21 | Plasma-addressed display device |
| TW084107568A TW325572B (en) | 1994-07-21 | 1995-07-21 | Plasma-addressed display device and manufacturing method thereof |
| US08/871,134 US5772486A (en) | 1994-07-21 | 1997-06-06 | Method for manufacturing a plasma-addressed display device |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100525148B1 (en) * | 1997-02-28 | 2005-12-21 | 소니 가부시끼 가이샤 | Plasma addressed liquid crystal display |
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| JP2008084840A (en) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Toray Ind Inc | Manufacturing method of member for plasma display and member for plasma display |
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1994
- 1994-07-21 JP JP16978294A patent/JP3672594B2/en not_active Expired - Fee Related
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1995
- 1995-07-21 TW TW084107568A patent/TW325572B/en not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Publication date |
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