JPH08336757A - Manufacture of embossing roll - Google Patents
Manufacture of embossing rollInfo
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- JPH08336757A JPH08336757A JP7141844A JP14184495A JPH08336757A JP H08336757 A JPH08336757 A JP H08336757A JP 7141844 A JP7141844 A JP 7141844A JP 14184495 A JP14184495 A JP 14184495A JP H08336757 A JPH08336757 A JP H08336757A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10559—Shape of the cross-section
- B32B17/10577—Surface roughness
- B32B17/10587—Surface roughness created by embossing
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、シート又はフィルムの
表面に凹凸形状を形成させるために使用するエンボスロ
ールの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an embossing roll used for forming an uneven shape on the surface of a sheet or film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、エンボスロールの製造方法は、専
ら熟練工による彫金に頼っていた。また、フィルムを中
間膜とした合わせ構成体などを製造する際の脱気性の改
善のために、エンボスロールに適度なブラスト加工をし
たロールを用いていたが、構成体の形状の複雑化に伴
い、又構成体の製造工程の加速化によって、フィルム表
面に付与する凹凸形状には種々の要点（凹凸の頂点位置
の不一定、凹凸形状のシャープさ、凹凸形状のメイン形
状とサブ凹凸形状）が必要であることが判明してきた
が、その様なエンボスロールを得ることは更に専門的な
熟練が必要であった。2. Description of the Related Art Conventionally, the method of manufacturing embossing rolls has relied solely on engraving by skilled workers. In addition, in order to improve the degassing property when manufacturing a laminated structure with the film as an intermediate film, a roll that was appropriately blasted was used for the embossing roll, but with the complication of the shape of the structure Also, due to the acceleration of the manufacturing process of the structure, various points (uneven position of the peaks of the unevenness, sharpness of the uneven shape, main shape and sub uneven shape of the uneven shape) are added to the uneven shape given to the film surface. It has been found necessary, but obtaining such embossing rolls requires more specialized skill.
【０００３】例えば、シャープな凹凸形状（エンボス）
を有する中間膜の特許出願（特開平３−１５８４１０号
公報）に、エンボスロールの製造方法が記載されている
が、ブラスト材の＃３０番でブラストした後、粗さが大
きすぎるため平均エンボス粗さが３５μｍとなるように
バーチカル研削しメインエンボスを得た後、更に＃１２
０番ブラスト材にてブラストして細かなサブエンボスを
付与する等の煩雑な工程を必要としている。For example, a sharp uneven shape (emboss)
A patent application (Japanese Patent Laid-Open No. 3-158410) for an intermediate film having a film has a method for producing an embossing roll. However, after blasting with # 30 of the blasting material, the average embossing roughness is too large. Vertical grinding to obtain a main embossing of 35 μm, and then # 12
A complicated process such as blasting with No. 0 blast material to give fine sub-embossing is required.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】したがって、従来のエ
ンボスロールの製造方法によれば、専門的な熟練と製造
日数と多額の製造費用とを必要としていた。Therefore, according to the conventional method for manufacturing an embossing roll, specialized skill, the number of manufacturing days, and a large manufacturing cost are required.
【０００５】本発明はこのような観点に鑑みて鋭意研究
した結果完成された発明であり、フィルムを中間膜とし
た合わせ構成体などを製造する際の脱気性等の改善のた
めに、フィルム表面に目的とする凹凸形状（凹凸の頂点
位置の不一定、凹凸形状のシャープさ、凹凸形状のメイ
ン形状とサブ形状など）を形成させることが出来る簡便
なエンボスロールの製造方法を提供するものである。The present invention has been completed as a result of earnest research in view of such viewpoints, and in order to improve deaeration and the like when manufacturing a laminated structure having a film as an intermediate film, the film surface is improved. The present invention provides a simple method for producing an embossing roll capable of forming a desired uneven shape (uneven position of uneven peak positions, sharpness of uneven shape, main shape and sub shape of uneven shape). .
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、エ
ンボスロールの表面に、ブラストショットのみで、該エ
ンボスロールの表面を表面粗さ計にて測定して得られる
負荷曲線において、該エンボスロールの任意の方向に対
するカッティングレベル５０％での相対負荷長さが測定
長さの５０〜８０％である凹凸形状を形成させるエンボ
スロールの製造方法であって、ブラストショットに粒子
径の細かい基本的ブラスト材（Ａ）及び粒子径の粗いブ
ラスト材（Ｂ）を使用し、該ブラスト材が以下の（１）
及び（２）の各条件を満たすことを特徴とするエンボス
ロールの製造方法を提供するものである。 （１）粒子
径の粗いブラスト材（Ｂ）の粒子径の大きさが、粒子径
の細かい基本的ブラスト材（Ａ）の２倍であること。 （２）粒子径の細かい基本的ブラスト材（Ａ）と粒子径
の粗いブラスト材（Ｂ）との混合比率において、粒子径
の粗いブラスト材（Ｂ）の混合量（重量％）が粒子径の
細かい基本的ブラスト材（Ａ）の混合量（重量％）の
１．５〜３．５％であること。That is, according to the present invention, the embossing roll has a load curve obtained by measuring the surface of the embossing roll only with a blast shot and measuring the surface of the embossing roll with a surface roughness meter. A method for producing an embossing roll for forming a concavo-convex shape in which a relative load length at a cutting level of 50% with respect to an arbitrary direction is 50 to 80% of a measured length, and a basic blast having a fine particle diameter in a blast shot. The material (A) and the blast material (B) having a coarse particle diameter are used, and the blast material has the following (1)
And a method for manufacturing an embossing roll, which satisfies the conditions (2). (1) The particle size of the blast material (B) having a coarse particle diameter is twice as large as that of the basic blast material (A) having a small particle diameter. (2) In the mixing ratio of the basic blast material (A) having a small particle diameter and the blast material (B) having a coarse particle diameter, the mixing amount (% by weight) of the blast material (B) having a coarse particle diameter is It is 1.5 to 3.5% of the mixing amount (% by weight) of the fine basic blast material (A).
【０００７】まず、本発明に規定する負荷曲線は、ＪＩ
Ｓ Ｂ ０６０１−１９８２に定義されている。図２に
は、エンボスロール表面の凹凸について、表面粗さ計に
て測定した結果得られた負荷曲線の一例が示されてい
る。この負荷曲線は、表面粗さ計を使用してエンボスロ
ール表面の粗さを測定することにより、図２（ａ）に示
すような断面曲線を得（図中、中心線はエンボスロール
表面と常に一定間隔となる）、断面曲線の最高点（突起
の最高点）をカッティングレベル０％、断面曲線の最低
点（凹部の最下点）をカッティングレベル１００％とし
て、カッティングレベル０〜１００％にわたって中心線
（カッティングレベル５０％）と平行な直線が断面曲線
を横切る際の、その断面曲線を横切る長さの測定長さに
対する比率を示したものである。First, the load curve specified in the present invention is the JI
SB 0601-1982. FIG. 2 shows an example of a load curve obtained as a result of measuring the unevenness of the embossing roll surface with a surface roughness meter. This load curve is obtained by measuring the roughness of the embossing roll surface using a surface roughness meter to obtain a sectional curve as shown in FIG. 2 (a) (in the figure, the center line is always the embossing roll surface and Centered over the cutting level of 0 to 100%, with the highest point of the section curve (the highest point of the protrusion) as the cutting level 0% and the lowest point of the section curve (the lowest point of the recess) as the cutting level 100%. It shows the ratio of the length across the cross-section curve to the measured length when a straight line parallel to the line (cutting level 50%) crosses the cross-section curve.
【０００８】本発明において、カッティングレベル５０
％での相対負荷長さが測定長さの５０〜８０％であると
は、図３（ａ）において、中心線が断面曲線を横切る長
さ（ａ1＋ａ2＋ａ3＋ａ4…）の測定長さ（ａ1＋ａ2＋ａ
3＋ａ4…＋ｂ1＋ｂ2＋ｂ3＋ｂ4…）に対する比率が５０
〜８０％であることを意味し、これは、図２の負荷曲線
においてカッティングレベル５０％での相対負荷長さが
５０〜８０％であることを意味する。In the present invention, a cutting level of 50
The relative load length in% is 50 to 80% of the measured length means that the length (a 1 + a 2 + a 3 + a 4 ...) in which the center line crosses the sectional curve in FIG. Length (a 1 + a 2 + a
3 + a 4 ... + b 1 + b 2 + b 3 + b 4 ...) the ratio is 50
˜80%, which means that the relative load length at the cutting level 50% in the load curve of FIG. 2 is 50-80%.
【０００９】本発明は、粒子径の細かい基本的ブラスト
材（Ａ）及び粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）を使用し
て、ブラストショットのみで、上記のカッティングレベ
ル５０％での相対負荷長さが測定長さの５０〜８０％で
ある凹凸形状を、エンボスロールの表面に形成させるも
のである。The present invention uses a basic blast material (A) having a small particle diameter and a blast material (B) having a coarse particle diameter, and only by blast shot, the relative load length at the above cutting level of 50%. Is to form a concavo-convex shape having 50 to 80% of the measured length on the surface of the embossing roll.
【００１０】そして、これらのブラスト材は以下の条件
（１）及び（２）を満たさなければならない。すなわ
ち、（１）粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）の粒子径の大
きさが、粒子径の細かい基本的ブラスト材（Ａ）の２倍
であること、及び、（２）粒子径の細かい基本的ブラス
ト材（Ａ）と粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）との混合比
率において、粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）の混合量
（重量％）が粒子径の細かい基本的ブラスト材（Ａ）の
混合量（重量％）の１．５〜３．５％であることであ
る。These blast materials must satisfy the following conditions (1) and (2). That is, (1) the particle size of the coarse blast material (B) is twice as large as that of the basic blast material (A) having a small particle diameter, and (2) the basic particle having a small particle diameter. The basic blast material (A) in which the mixing amount (% by weight) of the blast material (B) having a coarse particle diameter is small in the mixing ratio of the blast material (A) having a coarse particle diameter and the blast material (B) having a coarse particle diameter. It is 1.5 to 3.5% of the mixed amount (wt%).
【００１１】具体的には、例えば、基本的なブラスト材
（Ａ）に、ＪＩＳ Ｒ６００１：１２０番（粒度分布が
平均１０６μｍ）を用い、この中に、粒子径の粗いブラ
スト材（Ｂ）として、ＪＩＳ Ｒ６００１：７０番（平
均粒子径２１２μｍ）のブラスト材を、重量％で、１．
５〜３．５％、好ましくは１．７〜３．１％混入し、ブ
ラストショットのみで、エンボスロール表面に、目的
（カッティングレベル５０％での相対負荷長さが測定長
さの５０〜８０％）の凹凸形状を形成させることが出来
る。Specifically, for example, JIS R6001: 120 (with a particle size distribution of 106 μm on average) is used as the basic blast material (A), and as the blast material (B) having a coarse particle diameter, JIS R6001: No. 70 (average particle diameter 212 μm) blast material, in% by weight, 1.
5 to 3.5%, preferably 1.7 to 3.1% is mixed, and only by blast shot, the target (relative load length at a cutting level of 50% is 50 to 80% of the measurement length). %) Can be formed.
【００１２】ここでは、エンボスの凹凸形状をブラスト
ショットのみにて形成させるため、凹凸の頂点の位置が
一定することなく、ブラスト材に鋭角的なサンドブラス
トを用いることによって、凹凸形状のシャープさを得る
ことが出来る。Since the embossed uneven shape is formed only by blast shots here, the sharpness of the uneven shape is obtained by using a sharp sandblast as the blast material without the positions of the peaks of the unevenness being constant. You can
【００１３】[0013]
【作用】上記ブラスト材（Ａ）及び（Ｂ）が均一に混合
されて均一にブラストショットされる場合、目的のカッ
ティングレベル５０％での相対負荷長さが測定長さの５
０〜８０％の凹凸を得るには、例えば、細かい基本的な
エンボス形状が、１７〜１９μｍ（エンボス粗さ：ＩＳ
Ｏ−Ｒｚ）であり、また粗いメインのエンボス形状（３
０〜３５μｍ：エンボス粗さ：ＩＳＯ−Ｒｚ）は頂点間
隔で３００〜４００μｍピッチに存在していれば良い。
１ｍ／ｍ2当たり、１９μｍの粗さの凹凸は２７７０個
程度必要で、３５μｍの粗さの凹凸は４００μｍピッチ
では６．２５個と推定出来る。この時の、粒子径の細か
い基本的ブラスト材（Ａ）と粒子径の粗いブラスト材
（Ｂ）の混合比率は、粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）の
混合量（重量％）が粒子径の細かい基本的ブラスト材
（Ａ）の混合量（重量％）の１．７５％となる。本発明
者は、この推定に基づき実験を繰り返したところほぼ推
定通りの結果を得ることができた。When the blast materials (A) and (B) are uniformly mixed and blast shot uniformly, the relative load length at the target cutting level of 50% is 5 of the measurement length.
To obtain the unevenness of 0 to 80%, for example, a fine basic embossed shape is 17 to 19 μm (embossed roughness: IS
O-Rz) and the main embossed shape (3
It is sufficient that 0 to 35 μm: emboss roughness: ISO-Rz) exist at a pitch of 300 to 400 μm at apex intervals.
It is estimated that about 2770 irregularities having a roughness of 19 μm are required per 1 m / m 2 , and irregularities having a roughness of 35 μm can be estimated to be 6.25 at a 400 μm pitch. At this time, the mixing ratio of the basic blast material (A) having a small particle diameter and the blast material (B) having a coarse particle diameter is such that the mixing amount (% by weight) of the blast material (B) having a coarse particle diameter is the particle diameter. It is 1.75% of the mixing amount (% by weight) of the fine basic blast material (A). The inventor repeated the experiment based on this estimation, and was able to obtain almost the expected result.
【００１４】[0014]
【実施例】次に、本発明を下記実施例によりさらに具体
的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。EXAMPLES Next, the present invention will be explained more specifically by the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
【００１５】［実施例１］エンボスロールに、基本的な
ブラスト材（Ａ）のＪＩＳ Ｒ６００１：１２０番の中
に、粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）のＪＩＳ Ｒ６００
１：７０番を３．１％混入させ、ブラストショットを実
施した。[Embodiment 1] A basic blasting material (A) JIS R6001: No. 120 in an embossing roll, and a blasting material (B) JIS R600 having a coarse particle diameter.
Blast shot was carried out by mixing 3.1% of No. 70 with 3.1%.
【００１６】ブラスト条件として、エンボスロールは周
速１０ｍ／ｍｉｎで回転させ、空気圧３ｋｇ／ｃｍ2 に
て、エンボスロールより３０ｃｍの距離、噴出口は１５
秒／ｍｉｎで移動し上記混合ブラスト材を噴射した。As a blast condition, the embossing roll is rotated at a peripheral speed of 10 m / min, the air pressure is 3 kg / cm 2 , the distance is 30 cm from the embossing roll, and the ejection port is 15
The mixed blast material was sprayed by moving at a speed of 2 seconds / min.
【００１７】噴射後のエンボスロール表面の粗さを測定
したところ、カッティングレベル５０％での相対負荷長
さが測定長さの５０％のエンボスロールが得られた。When the roughness of the surface of the embossing roll after jetting was measured, an embossing roll whose relative load length at a cutting level of 50% was 50% of the measured length was obtained.
【００１８】［実施例２］エンボスロールに、基本的な
ブラスト材（Ａ）のＪＩＳ Ｒ６００１：１２０番の中
に、粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）のＪＩＳ Ｒ６００
１：７０番を１．７５％混入させ、ブラストショットを
実施した。Example 2 A basic blasting material (A) JIS R6001: No. 120 in an embossing roll, and a blasting material (B) JIS R600 having a coarse particle diameter.
Blast shot was carried out by mixing 1.75% of No. 70.
【００１９】ブラスト条件は実施例１と同様にし、噴射
後のエンボスロール表面の粗さを測定したところ、カッ
ティングレベル５０％での相対負荷長さが測定長さの７
８％のエンボスロールが得られた。The blasting conditions were the same as in Example 1, and the roughness of the surface of the embossing roll after injection was measured. The relative load length at a cutting level of 50% was 7 of the measured length.
An 8% embossing roll was obtained.
【００２０】［比較例１］エンボスロールに、ＪＩＳ
Ｒ６００１に規定される研磨材粒度３０番のアルミナ質
ブラスト材を用いて、５ｋｇ／ｃｍ2の空気圧にて、４
回のブラスト処理を行ない、約７５μｍ（ＩＳＯ−Ｒ
ｚ）の山高さを持つランダムエンボスを形成した。次い
でバーチカル研削により、研削後の山高さが約３５μｍ
になるまでラッピングを行ない、さらに、ＪＩＳ Ｒ６
００１：１２０番のアルミナ質ブラスト材を用いて、３
ｋｇ／ｃｍ2の空気圧にて、２回のブラスト処理を行な
い、特開平３−１５８４１０号公報の実施例１に記載さ
れているエンボスロールを製造した。[Comparative Example 1] The embossing roll was made according to JIS
Using an alumina blast material with an abrasive grain size of 30 specified by R6001 at an air pressure of 5 kg / cm 2 , 4
Blasted once, and about 75 μm (ISO-R
A random embossing having a mountain height of z) was formed. Then, by vertical grinding, the peak height after grinding is approximately 35 μm.
Wrapping until it becomes JIS R6
001: No. 120 using alumina blast material, 3
The embossing roll described in Example 1 of JP-A-3-158410 was manufactured by performing blasting treatment twice with an air pressure of kg / cm 2 .
【００２１】上記で製造されたエンボスロールについ
て、表１にて比較評価した。それぞれのエンボスロール
の費用比較では格段の差があったが、それぞれのエンボ
スロールを用いて、ＰＶＢを主原料とする中間膜を製造
し、中間膜としての性能を評価したところ全く問題のな
い性能であった。The embossing rolls produced above were compared and evaluated in Table 1. There was a marked difference in the cost comparison of each embossing roll, but when each embossing roll was used to manufacture an interlayer film using PVB as the main raw material and the performance as an interlayer film was evaluated, there was no problem at all. Met.
【００２２】[0022]
【表１】 [Table 1]
【００２３】[0023]
【発明の効果】本発明によれば、エンボスロールの表面
に、目的とするカッティングレベル５０％での相対負荷
長さが測定長さの５０〜８０％の凹凸形状を、ブラスト
ショットのみで形成させるため、常に安価でかつ容易
に、目的とするエンボスロールを製造することが出来
る。According to the present invention, an uneven shape having a relative load length of 50% to 80% of the measured length at a target cutting level of 50% is formed on the surface of an embossing roll only by blast shot. Therefore, the desired embossing roll can always be manufactured inexpensively and easily.
【００２４】さらに、本発明によれば、本発明のエンボ
スロールにより製造されたポリビニルブチラールを用い
たフィルムの構成体の加工性能をアップすることが出来
る。Furthermore, according to the present invention, it is possible to improve the processing performance of the film constituent using the polyvinyl butyral produced by the embossing roll of the present invention.
【図１】実施例１〜３で得られたエンボスロール表面の
負荷曲線である。FIG. 1 is a load curve of the embossing roll surface obtained in Examples 1 to 3.
【図２】エンボスロール表面の負荷曲線である。FIG. 2 is a load curve of the embossing roll surface.
【図３】（ａ）はエンボスロール表面の断面曲線、
（ｂ）はその説明図である。FIG. 3 (a) is a sectional curve of the embossing roll surface,
(B) is the explanatory view.
Claims (1)
ットのみで、該エンボスロールの表面を表面粗さ計にて
測定して得られる負荷曲線において、該エンボスロール
の任意の方向に対するカッティングレベル５０％での相
対負荷長さが測定長さの５０〜８０％である凹凸形状を
形成させるエンボスロールの製造方法であって、ブラス
トショットに粒子径の細かい基本的ブラスト材（Ａ）及
び粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）を使用し、該ブラスト
材が以下の（１）及び（２）の各条件を満たすことを特
徴とするエンボスロールの製造方法。 （１）粒子径の粗いブラスト材（Ｂ）の粒子径の大きさ
が、粒子径の細かい基本的ブラスト材（Ａ）の２倍であ
ること。 （２）粒子径の細かい基本的ブラスト材（Ａ）と粒子径
の粗いブラスト材（Ｂ）との混合比率において、粒子径
の粗いブラスト材（Ｂ）の混合量（重量％）が粒子径の
細かい基本的ブラスト材（Ａ）の混合量（重量％）の
１．５〜３．５％であること。1. A load curve obtained by measuring the surface of the embossing roll only with a blast shot and measuring the surface of the embossing roll with a surface roughness meter at a cutting level of 50% in any direction of the embossing roll. Is a method for manufacturing an embossing roll having a relative load length of 50 to 80% of the measured length, which comprises a basic blast material (A) having a fine particle diameter and a blast having a coarse particle diameter in a blast shot. Material (B) is used, The said blast material satisfy | fills each following conditions (1) and (2), The manufacturing method of the embossing roll characterized by the above-mentioned. (1) The particle size of the blast material (B) having a coarse particle diameter is twice as large as that of the basic blast material (A) having a small particle diameter. (2) In the mixing ratio of the basic blast material (A) having a small particle diameter and the blast material (B) having a coarse particle diameter, the mixing amount (% by weight) of the blast material (B) having a coarse particle diameter is It is 1.5 to 3.5% of the mixing amount (% by weight) of the fine basic blast material (A).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7141844A JPH08336757A (en) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | Manufacture of embossing roll |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7141844A JPH08336757A (en) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | Manufacture of embossing roll |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08336757A true JPH08336757A (en) | 1996-12-24 |
Family
ID=15301479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7141844A Pending JPH08336757A (en) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | Manufacture of embossing roll |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08336757A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000056503A1 (en) * | 1999-03-24 | 2000-09-28 | Sintokogio, Ltd. | Shot peening method and device therefor |
| JP2000301457A (en) * | 1999-04-16 | 2000-10-31 | Sintokogio Ltd | Shot peening processing method and device therefor |
| JP2000317841A (en) * | 1999-05-13 | 2000-11-21 | Sintokogio Ltd | Shot peening method |
-
1995
- 1995-06-08 JP JP7141844A patent/JPH08336757A/en active Pending
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