JPH08330463A - Manufacture of ball grid array type semiconductor device - Google Patents

Manufacture of ball grid array type semiconductor device

Info

Publication number
JPH08330463A
JPH08330463A JP7133670A JP13367095A JPH08330463A JP H08330463 A JPH08330463 A JP H08330463A JP 7133670 A JP7133670 A JP 7133670A JP 13367095 A JP13367095 A JP 13367095A JP H08330463 A JPH08330463 A JP H08330463A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
semiconductor device
small holes
grid array
inner lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7133670A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2665201B2 (en
Inventor
Naoto Kimura
直人 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP7133670A priority Critical patent/JP2665201B2/en
Publication of JPH08330463A publication Critical patent/JPH08330463A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2665201B2 publication Critical patent/JP2665201B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE: To shorten the time required for boring of a hole for fusing and connecting a solder ball to an inner lead, and reduce the manufacture cost of a semiconductor device with a boring means which is not worn away. CONSTITUTION: Out of molds for injection molding of resin, the lower mold 7 is one where a specified number of projections 12 for formation of small holes 10 for connection of solder balls are arranged at the face for formation of cavities, and resin is injected into this mold, so small holes for solder balls 11 connected to an inner lead 4 are made, in vertical direction to the inner lead 4, at the bottom of a package after injection of resin, and resin burrs 13 are produced at the same time at the bottoms of the tips of these small holes 10. The method of removing these resin burrs is performed as follows. The thin resin burrs are removed by applying a laser beam 14 to it or injecting the jet water by high-pressure water jet from small bores for removal with hydraulic pressure, and then the electric connection between the inner lead and the solder ball is performed, so extremely high-speed processing work can be performed, and it is effective for reduction of manufacture cost.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はボールグリッドアレイ型
半導体装置の製造方法に係わり、特にハンダボールを配
設する小ホールの配設方法を改善したボールグリッドア
レイ型半導体装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a ball grid array type semiconductor device, and more particularly to a method for manufacturing a ball grid array type semiconductor device in which a small hole for mounting solder balls is improved.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の半導体装置は集積度の向上ととも
にその利用分野も工業用機器、民生用機器を含む幅広い
分野の機器に使用されるようになってきた。そのため小
型化、薄型化、低価格および多ピン化等のそれぞれの機
器に使用し易い形状のパッケージを備えた半導体装置が
製品化されている。
2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor devices have come to be used in a wide range of fields including industrial equipment and consumer equipment, as the degree of integration has improved. For this reason, a semiconductor device having a package having a shape that is easy to use for each device such as miniaturization, thinning, low cost, and multi-pin has been commercialized.

【0003】これらの半導体装置のなかのパッケージ形
態のひとつにボールグリッドアレイ型半導体装置があ
る。この種の半導体装置における一例が特開昭61−7
3353号公報に記載さている。同公報記載の半導体装
置の断面図を示した図2を参照すると、半導体チップ1
をアイランド2に搭載し、その電極を金属細線3でイン
ナーリード4にワイヤボンディングしたリードフレーム
のアウターリードを、パッケージの外部へ出さないよう
に製造時にアウターリードを切断したプラスチックパッ
ケージ16とし、このパッケージ16内にはインナーリ
ード4のみを残し、このパッケージ16内部のインナー
リード4と外部の基板17の導体パターンとの導通をと
るために、パッケージ16の底面にインナーリード4と
連通する孔(小ホール)10を穿設し、この小ホール1
0にハンダ11を取り付けてある。
One of the package forms of these semiconductor devices is a ball grid array type semiconductor device. An example of this type of semiconductor device is Japanese Patent Laid-Open No. 61-7.
No. 3353. Referring to FIG. 2, which is a sectional view of the semiconductor device described in the publication, a semiconductor chip 1
Is mounted on the island 2, and its electrodes are wire-bonded to the inner leads 4 with the fine metal wires 3. The outer leads of the lead frame are cut into plastic packages 16 at the time of manufacture so as not to go out of the package. Only the inner leads 4 are left in the package 16, and holes (small holes) communicating with the inner leads 4 are formed on the bottom surface of the package 16 in order to establish conduction between the inner leads 4 inside the package 16 and the conductor pattern of the external board 17. ) 10 was drilled and this small hall 1
The solder 11 is attached to the wire 0.

【0004】この種の従来のボールグリッドアレイ型半
導体装置におけるハンダボール用の小ホールの穿孔方法
の概要は、この樹脂封止された半導体装置の底面図を示
した図2(a)および断面図を示した図2(c)を参照
すると、所定のインナーリードに対応する底面側のあら
かじめ定めた位置に対して、穿孔装置を水平方向に走査
させながら、0.5〜0.8mm程度の極小径ドリル1
8を用いて1つずつ順次に穿孔していく。
An outline of a method for drilling small holes for solder balls in a conventional ball grid array type semiconductor device of this kind is shown in FIG. 2A and a sectional view showing a bottom view of the resin-sealed semiconductor device. Referring to FIG. 2 (c), while the punching device is horizontally scanned with respect to a predetermined position on the bottom surface side corresponding to a predetermined inner lead, Small diameter drill 1
The holes are pierced one by one using No. 8.

【0005】この穿孔する小ホール10の深さは、イン
ナーリード4の裏面に達する程度に掘り下げていた。
The depth of the small hole 10 to be drilled is so deep that it reaches the back surface of the inner lead 4.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のボール
グリッド型半導体装置の製造方法では、ハンダボールを
インナーリードと溶融接続させるための小ホールを、極
小径のドリルを用いて半導体装置の底面側樹脂を穿孔す
るため、その穿孔時間は1ホール辺り約0.8秒という
長時間を要していた。
In the above-mentioned conventional method of manufacturing a ball grid type semiconductor device, a small hole for melting and connecting a solder ball to an inner lead is formed on the bottom side of the semiconductor device by using an extremely small diameter drill. In order to perforate the resin, the perforation time required a long time of about 0.8 seconds per hole.

【0007】例えば、代表的なボールグリッドアレイ型
半導体装置の208ホール仕様の場合の時間を測定して
みると、1個を穿孔するためには約3分を要し、大量生
産で低コストが要求される半導体装置では製造コストが
高くなる欠点があった。
For example, when measuring the time in the case of a 208-hole specification of a typical ball grid array type semiconductor device, it takes about 3 minutes to pierce one device, and mass production leads to low cost. The required semiconductor device has a disadvantage that the manufacturing cost is increased.

【0008】さらに、半導体装置の封入樹脂は、シリカ
あるいはエポキシ樹脂の成分を有しているので、ドリル
による加工性が悪く、ドリルの刃先がピッチングおよび
摩耗を起していた。
Further, since the encapsulating resin of the semiconductor device contains a component of silica or epoxy resin, the workability of the drill is poor and the cutting edge of the drill causes pitching and wear.

【0009】そのため、約1000ホールの穿孔で破損
してしまうため、ドリルの刃先を頻繁に交換しなければ
ならず、加工工具費用が現時点で半導体装置1個当り約
80円もかかり製造コストのさらなる高騰の要因の1つ
になる欠点を有していた。
As a result, the hole is broken by drilling about 1000 holes, and therefore the cutting edge of the drill must be frequently replaced, and the processing tool cost is about 80 yen per semiconductor device at present, and the manufacturing cost is further increased. It had the drawback of becoming one of the factors of the soaring price.

【0010】本発明の目的は、上述の欠点に鑑みなされ
たものであり、ハンダボールをインナーリードと溶融接
続させるためのホールの穿孔時間を短縮し、かつ摩耗し
ない穿孔手段を用いることにより半導体製造コストの低
減を図ったボールグリッドアレイ型半導体装置の製造方
法を提供することにある。
The object of the present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and shortens the time for drilling holes for melting and connecting solder balls to inner leads, and uses a piercing means which does not wear to manufacture semiconductors. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a ball grid array type semiconductor device which is intended to reduce the cost.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明のボールグリッド
アレイ型半導体装置の特徴は、リードフレームのアイラ
ンドに半導体チップを搭載しその電極とインナリードと
を金属細線でワイヤボンディングした後に、所定のパッ
ケージ形状に合わせたキャビティ部を有する上金型およ
び下金型により挟んで型締めし、前記上金型の前記キャ
ビティの一方の端部に設けられたゲートから樹脂をこの
キャビティ内部に流入させて充填し樹脂封止した樹脂封
止型半導体装置であって、この半導体装置下面から前記
インナーリードごとにその裏面に達する小ホールを配設
し、これらの小ホールに前記インナーリードと接続され
るハンダボールを形成したボールグリッドアレイ型半導
体装置の製造方法において、前記小ホールの配設は、前
記キャビティを形成する前記下金型に代えてその表面に
前記小ホールに対応する突起部をそれぞれ配設した下金
型を用い、前記樹脂を前記キャビティ内に流入させるこ
とによってその流入圧力で前記インナーリードを前記突
起部の先端にそれぞれ押し付けることによって、前記イ
ンナーリード裏面と前記小ホール底部との間に形成され
る薄い樹脂バリを有する前記小ホールをそれぞれ配設す
ることにある。
A feature of the ball grid array type semiconductor device of the present invention is that a semiconductor chip is mounted on an island of a lead frame, and its electrodes and inner leads are wire-bonded with a thin metal wire. The mold is sandwiched and clamped between an upper mold and a lower mold having a cavity portion corresponding to a shape, and a resin flows into the cavity from a gate provided at one end of the cavity of the upper mold to be filled. A resin-sealed semiconductor device in which small holes are provided from the lower surface of the semiconductor device to the back surface of each of the inner leads, and solder balls connected to the inner leads in these small holes. In the method for manufacturing a ball grid array type semiconductor device in which the small holes are formed, the arrangement of the small holes includes forming the cavity. Instead of the lower mold, using a lower mold in which projections corresponding to the small holes are provided on the surface thereof, and allowing the resin to flow into the cavity, the inner lead is formed by the inflow pressure. The small holes each having a thin resin burr formed between the back surface of the inner lead and the bottom of the small hole are respectively provided by pressing the small holes against the tips of the protrusions.

【0012】また、前記所定の形状に整形された半導体
装置の前記小ホール底部に形成された前記薄い樹脂バリ
をレーザー光を照射することにより焼失して除去した
後、前記インナーリードと前記ハンダボールの電気的接
続を行なうこともできる。
Further, after the thin resin burr formed on the bottom of the small hole of the semiconductor device shaped into the predetermined shape is removed by burning out by irradiating a laser beam, the inner lead and the solder ball are removed. Can be electrically connected.

【0013】さらに、前記レーザー光の照射に代えて、
所定の小口径を有する高圧ウォータージェットによる噴
射水を注入しその水圧で前記薄い樹脂バリを除去するこ
ともできる。
Further, instead of the laser light irradiation,
It is also possible to inject jet water by a high-pressure water jet having a predetermined small diameter and remove the thin resin burr by the water pressure.

【0014】[0014]

【実施例】まず、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。図1(a)は本発明のボールグリッ
ドアレイ型半導体装置の製造方法を説明するための工程
であって、樹脂注入時の半導体装置の断面図であり、図
1(b)はホール底部に形成される薄い樹脂バリ除去工
程の半導体装置の断面図であり、図1(c)はハンダボ
ールを溶融接続した状態の半導体装置の断面図である。
First, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1A is a step for explaining a method of manufacturing a ball grid array type semiconductor device of the present invention, which is a cross-sectional view of the semiconductor device at the time of resin injection, and FIG. 1B is formed at the bottom of the hole. FIG. 1C is a cross-sectional view of the semiconductor device in the thin resin burr removal step performed, and FIG. 1C is a cross-sectional view of the semiconductor device in a state in which solder balls are melt-connected.

【0015】図1(a)〜(c)を参照すると、この半
導体装置の製造方法は、半導体チップ1をリードフレー
ムのアイランド2に搭載しその電極を金属細線3でイン
ナリード4にワイヤボンディングした後に、所定のパッ
ケージ形状に合わせたキャビティ部5を有する上金型6
および下金型7により挟んで型締めし、封止工程におい
て上金型6のキャビティ部5の一方の端部に設けられた
ゲート8から樹脂9をこのキャビティ内部に流入させて
充填し樹脂封止した樹脂封止型半導体装置であって、こ
の半導体装置の下面からインナーリード4ごとにその裏
面に達する小ホール10を配設し、これらの小ホール1
0にインナーリード4と接続されるハンダボール11を
形成している。本発明の方法をさらに具体的に述べる
と、小ホール10の配設は、キャビティ部5を形成する
下金型7の表面に小ホールに対応する突起部12をそれ
ぞれ配設した下金型を用い、樹脂9をキャビティ部5内
に流入させる。
Referring to FIGS. 1A to 1C, in this method of manufacturing a semiconductor device, a semiconductor chip 1 is mounted on an island 2 of a lead frame, and its electrode is wire-bonded to an inner lead 4 with a thin metal wire 3. Later, an upper mold 6 having a cavity 5 adapted to a predetermined package shape
And a lower mold 7 to clamp the mold, and in a sealing step, a resin 9 flows into the cavity from a gate 8 provided at one end of the cavity 5 of the upper mold 6 to fill the cavity. A small hole 10 reaching the back surface of each of the inner leads 4 from the lower surface of the semiconductor device.
A solder ball 11 connected to the inner lead 4 is formed at 0. To describe the method of the present invention more specifically, the arrangement of the small holes 10 is performed by lowering the lower molds each having the projections 12 corresponding to the small holes on the surface of the lower mold 7 forming the cavity 5. The resin 9 is used to flow into the cavity 5.

【0016】この樹脂は熱硬化性樹脂で、例えば公知の
技術である、エポキシペレット(Eペレット)を低圧ト
ランスファモールド法を用いて樹脂封止される。すなわ
ち、樹脂封入は、半導体チップ1を搭載したリードフレ
ームがが、150°〜180°Cの高温に加熱したパッ
ケージ上金型6および下金型7で挟まれてセットされ、
モールドプレスで型締めし、流動性のある熱可塑性樹脂
を60〜120Kg/cm2 の低圧で金型内に注入して
パッケージをトランスファ成形する。
This resin is a thermosetting resin. For example, epoxy pellets (E pellets), which are a known technique, are sealed with a low-pressure transfer molding method. That is, in the resin encapsulation, the lead frame on which the semiconductor chip 1 is mounted is set by being sandwiched between the upper mold 6 and the lower mold 7 of the package heated to a high temperature of 150 ° to 180 ° C.
The mold is clamped by a mold press, and a thermoplastic resin having fluidity is injected into the mold at a low pressure of 60 to 120 kg / cm 2 to transfer-mold the package.

【0017】注入圧力により樹脂流は樹脂流入路内のリ
ードフレームの上側を流れ、インナリード4間のスキ
間、あるいはインナリード4とアイランド2間のスキ間
からリードフレームの下面のキャビティ部5内にも充填
される。
Due to the injection pressure, the resin flow flows above the lead frame in the resin inflow passage, and flows from the gap between the inner leads 4 or the gap between the inner leads 4 and the island 2 into the cavity 5 on the lower surface of the lead frame. Is also filled.

【0018】キャビティ部5に流入した樹脂9はリード
フレームのインナーリード4を下金型6へ注入圧力で押
し下げる方向に力が作用する。このとき注入される樹脂
9は、図中の矢印で示した方向に流れ、わずかにインナ
ーリード4と突起部12の先端部の間にも入り込む。
The resin 9 that has flowed into the cavity 5 exerts a force in a direction in which the inner lead 4 of the lead frame is pushed down into the lower mold 6 by the injection pressure. The resin 9 injected at this time flows in the direction shown by the arrow in the figure, and slightly enters between the inner lead 4 and the tip of the protrusion 12.

【0019】その後、樹脂9の硬化が完了するまで型締
めされた状態で保持され、樹脂9が硬化した後下金型7
が開き樹脂封止済みのパケージを金型から取り出す。こ
の樹脂封止されたパッケージの下面からインナーリード
4底面方向に突起部12により小ホール10がそれぞれ
開口された状態になる。
Thereafter, the mold 9 is held in a clamped state until the curing of the resin 9 is completed.
Opens and the resin-sealed package is removed from the mold. The small holes 10 are respectively opened by the projections 12 from the lower surface of the resin-sealed package toward the bottom surface of the inner leads 4.

【0020】これらのホール10が開口される位置、す
なわち下金型7の突起部12の配置は、例えば1つのイ
ンナーリードに対して1ホールを垂直に開口する任意の
位置でよいが、ハンダボール11を等間隔、等ピッチで
配設するためにはインナーリードは等間隔並列配置のリ
ードフレームが適当である。
The positions where these holes 10 are opened, that is, the positions of the projections 12 of the lower mold 7 may be, for example, any positions where one hole is opened perpendicularly to one inner lead. In order to dispose the leads 11 at equal intervals and at equal pitches, it is appropriate that the inner leads be lead frames arranged in parallel at equal intervals.

【0021】また、これらの小ホール10は通常のプリ
ント基板における抵抗等のリード取り付け孔と同じ大き
さ(直径)の開口で充分である。
It is sufficient that these small holes 10 have the same size (diameter) as a lead mounting hole for a resistor or the like on a normal printed circuit board.

【0022】上述した樹脂節工程における下金型7によ
る小ホール10の開口方法では、開口された小ホール1
0の底部にはインナーリード4との間に薄い樹脂バリ1
3が形成されているので、これを除去する必要がある。
すなわちこの薄い樹脂バリ13によりハンダボール11
とリーンナーリード4との電気的接続が出来ないからで
ある。
In the above-described method for opening the small holes 10 by the lower mold 7 in the resin knotting step, the opened small holes 1
At the bottom of 0, there is a thin resin burr 1 between the inner lead 4
3 is formed, it is necessary to remove it.
That is, the solder ball 11 is formed by the thin resin burr 13.
This is because electrical connection between the power supply and the leaner lead 4 cannot be made.

【0023】この薄い樹脂バリ13を除去するために、
レーザー光線14を照射して樹脂バリ13を焼き切る。
このレーザー光線14は極めて高速で加工作業が出来る
ので有効であり、例えば、ボールグリッドアレイ型半導
体装置の208ホール仕様の場合では、半導体装置1個
当りで約1.5秒で加工出来るので1小ホール当りでは
0.007秒であり、ドリル加工の場合と比較すると約
100倍の加工能率の工場が出来ることになる。
In order to remove this thin resin burr 13,
The resin burr 13 is burned off by irradiation with a laser beam 14.
The laser beam 14 is effective because it can be processed at an extremely high speed. For example, in the case of a 208-hole specification of a ball grid array type semiconductor device, it can be processed in about 1.5 seconds per semiconductor device, so that one small hole is required. It is 0.007 seconds per hit, and a factory with a processing efficiency of about 100 times compared to the case of drilling can be made.

【0024】次に、公知の技術であるハンダボール法に
よりハンダボール11を小ホール10に配置した後、赤
外線リフロー炉内で加熱しハンダボール11とインナー
リード4とをそれぞれ溶融接続することによって電気的
接続をする。
Next, after the solder balls 11 are arranged in the small holes 10 by a known technique, a solder ball method, the solder balls 11 are heated in an infrared reflow furnace, and the solder balls 11 and the inner leads 4 are melted and connected to each other. Make a proper connection.

【0025】この接合により、半導体チップ1の入出力
信号線の電気的接続は、入出力信号用の電極群と金属細
線3とハンダボール11とを介してそれぞれ接続される
ことになる。
By this bonding, the electrical connection of the input / output signal lines of the semiconductor chip 1 is connected via the electrode group for input / output signals, the thin metal wires 3 and the solder balls 11.

【0026】ハンダボール11が接合されたパッケージ
のリードフレームは、その後成形工程においてそれぞれ
のアウターリードがパッケージの側面から外部へ突き出
た個所で側面に沿って切断分離されて個々のパッケージ
となる。
The lead frame of the package to which the solder balls 11 are bonded is cut and separated along the side surface at the place where the respective outer leads protrude from the side surface of the package to the outside in a molding step, to become individual packages.

【0027】上述のように形成されたハンダボール群を
有するパッケージは、これらのハンダボール11を使用
して、LSI試験装置に実装され、搭載された半導体チ
ップ1の電気的特性試験を実施することによって良品を
選別する。
The package having the solder ball group formed as described above is mounted on an LSI test apparatus using these solder balls 11, and the electrical characteristics test of the mounted semiconductor chip 1 is performed. Good products are sorted by

【0028】なお、本実施例では、薄い樹脂バリ13を
除去するためにレーザー光線14を用いて説明したが、
必しもレーザー光線である必要はなく、高圧ウォーター
ジェット水を樹脂バリに噴射して除去することも出来
る。その場合ジェット水の噴射ト水圧は100kg/c
2 であり、上述の例と同様にボールグリッドアレイ型
半導体装置の208ホール仕様の場合では、半導体装置
1個当りで約30秒で加工出来るので1小ホール当りで
は0.144秒であり、レーザー照射よりも当然劣るが
ドリル加工の場合と比較すると約6倍の加工能率の向上
が出来る。
Although the present embodiment has been described using the laser beam 14 to remove the thin resin burr 13,
It is not necessary to use a laser beam, and high-pressure water jet water can be sprayed onto the resin burr to remove the water. In that case, the jet pressure of jet water is 100kg / c.
m 2 and, in the case of the 208-hole specification of the ball grid array type semiconductor device as in the above example, since it is possible to process about 30 seconds per semiconductor device, it is 0.144 seconds per one small hole. Although it is naturally inferior to the laser irradiation, the processing efficiency can be improved about 6 times as compared with the case of drilling.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のボールグ
リッドアレイ型半導体装置の製造方法は、樹脂注入成形
用の金型のうち、下金型のキャビティ形成面にハンダボ
ール接続用の小ホールを形成するための突起部を所定の
数だけ配設した金型を有し、この金型を用いて樹脂封入
を行なうので、樹脂封入後のパッケージ底面にはインナ
ーリードと接続するハンダボール用の小ホールがインナ
ーリードと垂直方向に形成され、この小ホールの先端底
面のインナーリードとの間には薄い樹脂バリも同時に生
じ、この樹脂バリを除去する方法としてレーザー光を照
射することにより焼失して除去するか、または所定の小
口径を有する高圧ウォータージェットによる噴射水を注
入しその水圧で薄い樹脂バリを除去した後、インナーリ
ードとハンダボールの電気的接続を行なうので、極めて
高速な加工作業が出来る。したがって、製造コストの低
減に有効な方法である。
As described above, the method of manufacturing a ball grid array type semiconductor device according to the present invention provides a small hole for connecting a solder ball to a cavity forming surface of a lower die among resin injection molding dies. It has a mold in which a predetermined number of protrusions for forming the resin are formed, and the resin is sealed using this mold. A small hole is formed perpendicularly to the inner lead, and a thin resin burr is also formed between the small hole and the inner lead on the bottom surface of the tip of the small hole. Or remove the thin resin burrs by injecting water with a high-pressure water jet having a predetermined small diameter, and then remove the inner lead and solder board. Because of making electrical connection, it is extremely fast processing operations. Therefore, this is an effective method for reducing the manufacturing cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(a)本発明のボールグリッドアレイ型半導体
装置の製造方法を説明するための工程であって、樹脂注
入時の断面図である。 (b)ホール底部に形成される薄い樹脂バリ除去工程の
半導体装置の断面図である。 (c)はハンダボールを溶融接続した状態の電面図であ
る。
FIG. 1 (a) is a step for explaining the method for manufacturing a ball grid array type semiconductor device of the present invention, and is a cross-sectional view during resin injection. (B) It is sectional drawing of the semiconductor device of the thin resin burr removal process formed in the hole bottom part. (C) is an electrogram showing a state in which the solder balls are fusion-connected.

【図2】従来のボールグリッドアレイ型半導体装置の一
例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a conventional ball grid array type semiconductor device.

【図3】(a)ハンダボール用のホールの穿孔方法の説
明用の樹脂封止された半導体装置の主要部の底面図であ
る。 (b)その断面図である。
FIG. 3A is a bottom view of a main part of a resin-sealed semiconductor device for explaining a method of forming a hole for a solder ball. (B) It is sectional drawing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 アイランド 3 金属細線 4 インナーリード 5 キャビティ部 6 上金型 7 下金型 8 ゲート 9 樹脂 10 小ホール 11 ハンダボール 12 突起部 13 薄い樹脂バリ 14 レーザー光線 16 パッケージ 17 樹脂基板 18 ドリル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor chip 2 Island 3 Fine metal wire 4 Inner lead 5 Cavity part 6 Upper die 7 Lower die 8 Gate 9 Resin 10 Small hole 11 Solder ball 12 Protrusion part 13 Thin resin burr 14 Laser beam 16 Package 17 Resin substrate 18 Drill

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リードフレームのアイランドに半導体チ
ップを搭載しその電極とインナリードとを金属細線でワ
イヤボンディングした後に、所定のパッケージ形状に合
わせたキャビティ部を有する上金型および下金型により
挟んで型締めし、前記上金型の前記キャビティの一方の
端部に設けられたゲートから樹脂をこのキャビティ内部
に流入させて充填し樹脂封止した樹脂封止型半導体装置
であって、この半導体装置下面から前記インナーリード
ごとにその裏面に達する小ホールを配設し、これらの小
ホールに前記インナーリードと接続されるハンダボール
を形成したボールグリッドアレイ型半導体装置の製造方
法において、前記小ホールの配設は、前記キャビティを
形成する前記下金型に代えてその表面に前記小ホールに
対応する突起部をそれぞれ配設した下金型を用い、前記
樹脂を前記キャビティ内に流入させることによってその
流入圧力で前記インナーリードを前記突起部の先端にそ
れぞれ押し付けることによって、前記インナーリード裏
面と前記小ホール底部との間に形成される薄い樹脂バリ
を有する前記小ホールをそれぞれ配設することを特徴と
するボールグリッドアレイ型半導体装置の製造方法。
1. A semiconductor chip is mounted on an island of a lead frame and its electrodes and inner leads are wire-bonded with a thin metal wire, and then sandwiched between an upper mold and a lower mold having a cavity portion conforming to a predetermined package shape. A resin-sealed semiconductor device in which a resin is flowed into the interior of the cavity from a gate provided at one end of the cavity of the upper mold, and is filled and sealed with a resin. A method for manufacturing a ball grid array type semiconductor device, comprising: arranging small holes reaching the back surface of each inner lead from the lower surface of the device, and forming solder balls connected to the inner leads in these small holes. In the arrangement, a projection corresponding to the small hole is provided on the surface of the lower mold forming the cavity instead of the lower mold. Using the lower molds respectively disposed, the resin is caused to flow into the cavity, and the inner leads are pressed against the tips of the protrusions by the inflow pressure, whereby the inner lead back surface and the small holes are pressed. A method of manufacturing a ball grid array type semiconductor device, wherein the small holes each having a thin resin burr formed between the bottom and the bottom are provided.
【請求項2】 前記所定の形状に整形された半導体装置
の前記小ホール底部に形成された前記薄い樹脂バリをレ
ーザー光を照射することにより焼失して除去した後、前
記インナーリードと前記ハンダボールの電気的接続を行
なう請求項1記載のボールグリッドアレイ型半導体装置
の製造方法。
2. The inner lead and the solder ball are removed after the thin resin burr formed on the bottom of the small hole of the semiconductor device shaped into the predetermined shape is burned and removed by irradiating with laser light. 2. The method for manufacturing a ball grid array type semiconductor device according to claim 1, wherein the electrical connection is performed.
【請求項3】 前記レーザー光の照射に代えて、所定の
小口径を有する高圧ウォータージェットによる噴射水を
注入しその水圧で前記薄い樹脂バリを除去する請求項2
記載のボールグリッドアレイ型半導体装置の製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein instead of the laser beam irradiation, water jet is injected by a high-pressure water jet having a predetermined small diameter, and the thin resin burr is removed by the water pressure.
The manufacturing method of the ball grid array type semiconductor device described in the above.
JP7133670A 1995-05-31 1995-05-31 Method of manufacturing ball grid array type semiconductor device Expired - Fee Related JP2665201B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7133670A JP2665201B2 (en) 1995-05-31 1995-05-31 Method of manufacturing ball grid array type semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7133670A JP2665201B2 (en) 1995-05-31 1995-05-31 Method of manufacturing ball grid array type semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08330463A true JPH08330463A (en) 1996-12-13
JP2665201B2 JP2665201B2 (en) 1997-10-22

Family

ID=15110171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7133670A Expired - Fee Related JP2665201B2 (en) 1995-05-31 1995-05-31 Method of manufacturing ball grid array type semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2665201B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0874400A1 (en) * 1997-04-21 1998-10-28 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor device
KR100343228B1 (en) * 1999-10-12 2002-07-10 김정식 Method of manufacturing a ball grid array package

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0874400A1 (en) * 1997-04-21 1998-10-28 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor device
US6084300A (en) * 1997-04-21 2000-07-04 Oki Electric Industry Co., Ltd. Compact resin-sealed semiconductor device
KR100343228B1 (en) * 1999-10-12 2002-07-10 김정식 Method of manufacturing a ball grid array package

Also Published As

Publication number Publication date
JP2665201B2 (en) 1997-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY111086A (en) A semiconductor device, a method of producing the same, a lead frame and a mounting board therefor
KR19990013284A (en) Capsule sealing ball bonding device and method
JP2665201B2 (en) Method of manufacturing ball grid array type semiconductor device
JP2000114206A (en) Manufacture of semiconductor package
JP2011040625A (en) Method of manufacturing semiconductor device
KR20010038119A (en) Mold apparatus for BGA package
CN100394569C (en) Method for preventing overflow of glue of package element
JP2003007956A (en) Resin-sealing semiconductor device and manufacturing method therefor
JP4132792B2 (en) Capillary structure used for wire bonding
JPH088278A (en) Method of manufacturing semiconductor device
JP2008252005A (en) Deburring method, and manufacturing method of semiconductor device
JPH05243303A (en) Production of semiconductor device nad resin sealing die for semiconductor device
JP2008060193A (en) Lead frame and manufacturing method of semiconductor device using the same
JPH09223706A (en) Manufacture of semiconductor and its manufacturing equipment
JP3087395B2 (en) Electronic component manufacturing method
KR100715978B1 (en) Wire bonding capillary with a device for producing spark
KR100439188B1 (en) equipment for molding of semiconductor package
JPH11297921A (en) Frame for semiconductor device and manufacture thereof, and manufacture of semiconductor device using frame therefor
JPH05293846A (en) Molding apparatus
JP2001007260A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JP2003229445A (en) Method of manufacturing semiconductor device
JPH09129661A (en) Molding device and molding
JP2000124167A (en) Manufacture of semiconductor device
ITMI951076A1 (en) MANUFACTURING PROCESS OF HYBRID CIRCUITAL MODULES INCLUDING ELECTRONIC CHIP DEVICES
KR100723211B1 (en) Packaging method of IC chip

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970520

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees