JPH08326835A - アクティブ除振装置 - Google Patents

アクティブ除振装置

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JPH08326835A
JPH08326835A JP7157051A JP15705195A JPH08326835A JP H08326835 A JPH08326835 A JP H08326835A JP 7157051 A JP7157051 A JP 7157051A JP 15705195 A JP15705195 A JP 15705195A JP H08326835 A JPH08326835 A JP H08326835A
Authority
JP
Japan
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vibration
piezoelectric element
piezo elements
horizontal
crossbeams
Prior art date
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Pending
Application number
JP7157051A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Kajiwara
浩一 梶原
Masaki Hayatsu
昌樹 早津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Plant Technologies Ltd
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Publication date
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Publication of JPH08326835A publication Critical patent/JPH08326835A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】簡単な構成で、設置する精密機器のレイアウト
変更にも容易に対応することができるアクティブ除振装
置を提供する。 【構成】半導体製造装置10は架台14上に設置され、
この架台を構成する横梁18、18、…の各辺には、電
圧を印加するとその印加電圧に比例して伸縮するピエゾ
素子22、22、…が設置されている。また、前記横梁
…の2辺には、横梁の水平、方向の振動をそれぞれ計測
する加速度計26、26、…が設けられ、計測された横
梁水平、垂直方向の振動の計測値は、制御装置28の演
算装置に出力され、演算装置はこの計測値に基づいて、
前記横梁18、18、…に発生した振動を打ち消すピエ
ゾ素子22、22、…の印加電圧を算出する。そして、
その算出された各ピエゾ素子22、22、…の印加電圧
に基づいて制御装置28が、各ピエゾ素子22に電圧を
印加する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アクティブ除振装置に
係り、特に半導体製造装置等の精密機器を載置する架台
のアクティブ除振装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体製造装置等の精密機器の除
振を行う場合は、建屋の床上に除振装置を設置し、その
上に精密機器を設置するように構成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ような構成にあっては、床上に重量のある除振装置を配
置するため、荷重面で建屋の床を予め補強する必要があ
り、精密機器のレイアウト変更が発生する度に床を新た
に補強しなければならない欠点がある。本発明はこのよ
うな事情を鑑みてなされたもので、簡単な構成で、設置
する精密機器のレイアウト変更にも容易に対応すること
ができるアクティブ除振装置を提供することを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決する為の手段】本発明は、前記目的を達成
するために、架台に支持された床上に設置した嫌振機器
に振動が伝達しないようにするアクティブ除振装置であ
って、前記架台を構成する梁に設けられ、電圧を印加す
ることにより歪を発生させる圧電素子と、前記圧電素子
を設けた梁に設けられ、該梁の振動を計測する計測手段
と、前記計測手段の計測結果に基づいて前記圧電素子に
印加する電圧値を制御し、前記振動により前記梁に生じ
た歪を抑止する方向の歪を前記圧電素子に発生させる制
御手段と、からなることを特徴とする。
【0005】
【作用】架台に振動が発生すると、その振動により架台
を構成する梁に曲げ歪が発生する。従って、架台の振動
を計測し、振動により生じる梁の歪と逆の歪を圧電素子
に発生させれば架台に発生する振動を除去することがで
きる。本発明によれば、計測手段は架台に発生する振動
を計測し、その計測値を制御装置に出力する。制御装置
はこの計測手段の計測値に基づいて、前記架台に発生し
た振動を打ち消す圧電素子の印加電圧を算出し、その算
出した印加電圧を圧電素子に印加する。電圧が印加され
た圧電素子は伸縮し、振動により生じる梁の歪と逆の歪
を梁に生じさせる。これにより、架台に発生する振動が
除去される。
【0006】
【実施例】以下添付図面に従って本発明に係るアクティ
ブ除振装置の好ましい実施例について詳説する。図1に
は、本発明に係るアクティブ除振装置が適用される半導
体製造工場内の建屋レイアウトの要部が示され、図2に
は、図1の平面図が示されている。
【0007】図1及び図2に示されるように、半導体製
造装置10は、工場内のグレーチング床12上に設置さ
れ、グレーチング床12は架台14により支持される。
前記架台14は、角柱状の横梁18、18、…及び縦梁
20、20、…を複数組み合わせて略矩形状に構成され
ている。この架台14を構成する各横梁18、18、…
の4辺には、図3及び図4に示すように、圧電素子であ
るピエゾ素子22、22、…がそれぞれ取り付けられて
いる。このピエゾ素子22、22、…は、前記横梁1
8、18、…の各辺の略中央位置に取り付けられると共
に、横梁18、18、…の長手方向に沿って配設され、
両端部をブラケット24、24、…により支持されてい
る。
【0008】前記ピエゾ素子22、22、…は、電圧が
印加されると、その印加電圧に比例した歪が発生する性
質を有している。図5には、ピエゾ素子22、22、…
の印加電圧Vと発生する延びLの関係が示されている。
同図に示されるように、予めピエゾ素子22、22、…
にバイアス電圧を印加しておき、その中立点Pで印加電
圧を増減させれば、前記ピエゾ素子22、22、…を伸
縮させることができる。
【0009】また、前記横梁18、18、…の2辺に
は、図1及び図2に示されるように、加速度計26、2
6、…が設置されている。この加速度計26、26、…
は、横梁18、18、…の水平方向と垂直方向の振動を
計測し、その計測値を前記架台14内に設置された制御
装置28に出力する。前記制御装置28は、図示しない
演算装置を内蔵し、前記各加速度計26、26、…で計
測された横梁18、18、…の水平方向と垂直方向の振
動に基づいて、振動により横梁18、18、…に生じて
いる歪と逆の歪を各ピエゾ素子22、22、…が発生す
るように各ピエゾ素子22、22、…に印加する印加電
圧を算出する。そして、前記制御装置28は、前記演算
装置で算出された印加電圧を各ピエゾ素子22、22、
…に印加し、各ピエゾ素子22、22、…を伸縮させ
る。
【0010】前記の如く構成される本発明に係るアクテ
ィブ除振装置の実施例の作用は次の通りである。例え
ば、工場の外を通過するトラック16等の交通振動が地
盤振動となり、その地盤振動が架台14を構成する横梁
18、18、…及び縦梁20、20、…に伝達される
と、横梁18、18、…及び縦梁20、20、…には、
その振動による曲げ歪が発生する。この地盤振動を架台
14上に設置された半導体製造装置10に伝達させない
ためには、横梁18、18、…に生じる曲げ歪と逆の曲
げ歪を圧電素子22、22、…で発生させればよい。
【0011】そこで、本実施例によれば、図1に示すよ
うに、まず、加速度計26、26、…で各横梁18、1
8、…に発生した水平方向の振動及び垂直方向の振動を
計測する。各加速度計26、26、…で計測された振動
の計測値は、制御装置28の演算装置に出力される。演
算装置は、各加速度計26、26、…の計測値に基づい
て各圧電素子22、22、…に印加する最適な印加電圧
を算出する。この際、演算装置は、振動により各横梁1
8、18、…に生じる歪と逆の歪が発生するようなピエ
ゾ素子22、22、…の印加電圧を算出する。
【0012】制御装置28は、前記演算装置で算出され
た各ピエゾ素子22、22、…の印加電圧に基づいて各
ピエゾ素子22、22、…に電圧を印加し、各ピエゾ素
子22、22、…を伸縮させる。例えば、図6に示され
るように、地盤振動が横梁18に伝達され、その横梁1
8が上方に反って曲がった場合、横梁18の上側に設置
したピエゾ素子22は延び、下側に設置したピエゾ素子
22は縮む。従って、横梁18の上側に設置したピエゾ
素子22には、その延びが減少するように印加電圧を減
少させ、横梁18の下側に設置したピエゾ素子22に
は、その延びが増加するように印加電圧を増加させれば
横梁18に発生する歪は除去される。
【0013】これにより、各横梁18、18、…に発生
する歪は打ち消されて、横梁18、18、…に伝達され
る振動は除去される。このように、本実施例のアクティ
ブ除振装置によれば、半導体製造装置10を設置する架
台14自体を除振構造としたため、半導体製造装置10
のレイアウト変更にも容易に対応することができる。
【0014】また、本実施例のアクティブ除振装置を適
用することで、微振動により発生する半導体製造装置1
0の歩留り低下を向上させることができる。なお、本実
施例では、架台14を構成する横梁18、18、…に、
ピエゾ素子22、22、…及び加速度計26、26、…
を設置する構成としたが、架台14の縦梁20、20、
…にピエゾ素子22、22、…及び加速度計26、2
6、…を設置する構成にしてもよい。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のアクティ
ブ除振装置によれば、精密機器を設置する架台自体を除
振構造としたため、従来のように、床上に新たに除振装
置を設置する必要がない。したがって、除振装置の荷重
による床の補強の必要がなくなるので、精密機器のレイ
アウト変更にも容易に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るアクティブ除振装置が適用される
半導体製造工場内の建屋レイアウトの要部を示す図
【図2】図1の平面図
【図3】本発明に係るアクティブ除振装置の要部拡大図
【図4】図3のAーA断面図
【図5】ピエゾ素子の印加電圧と発生する延びの関係を
説明するグラフ
【図6】ピエゾ素子の動作原理を説明する説明図
【符号の説明】
10…半導体製造装置 12…グレーチング床 14…架台 18…横梁 20…縦梁 22…ピエゾ素子 26…加速度計

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 架台に支持された床上に設置した嫌振機
    器に振動が伝達しないようにするアクティブ除振装置で
    あって、 前記架台を構成する梁に設けられ、電圧を印加すること
    により歪を発生させる圧電素子と、 前記圧電素子を設けた梁に設けられ、該梁の振動を計測
    する計測手段と、 前記計測手段の計測結果に基づいて前記圧電素子に印加
    する電圧値を制御し、前記振動により前記梁に生じた歪
    を抑止する方向の歪を前記圧電素子に発生させる制御手
    段と、からなることを特徴とするアクティブ除振装置。
JP7157051A 1995-05-31 1995-05-31 アクティブ除振装置 Pending JPH08326835A (ja)

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