JPH08310996A - Production of benzoic acid group-bearing (meth)acrylic ester - Google Patents

Production of benzoic acid group-bearing (meth)acrylic ester

Info

Publication number
JPH08310996A
JPH08310996A JP8052866A JP5286696A JPH08310996A JP H08310996 A JPH08310996 A JP H08310996A JP 8052866 A JP8052866 A JP 8052866A JP 5286696 A JP5286696 A JP 5286696A JP H08310996 A JPH08310996 A JP H08310996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
group
acrylic acid
ester
benzoic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8052866A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Nishikawa
秀幸 西川
Haruyoshi Gotou
春良 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP8052866A priority Critical patent/JPH08310996A/en
Publication of JPH08310996A publication Critical patent/JPH08310996A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain the subject ester useful as a raw material for functional high polymers such as polymeric liquid crystals, by using, as solvent, acrylic acid or methacrylic acid alone, without the need of using any highly toxic solvent and highly lacrimatory and hard-to-handle acrylic chloride. CONSTITUTION: In obtaining the objective ester from (B) acrylic acid or methacrylic acid and (C) a hydroxyalkyl-bearing benzoic acid derivative [e.g. a compound of the formula (R is an alkylene; X is O or S), e.g. 3- methoxybutylene] in the presence of (A) an acid catalyst (e.g. sulfuric acid), the component B alone is used as solvent. It is preferable that the molar ratio B/C be (1.0-100), the amount of the component A account for 0.5-50mol% of the component C, and the reaction be carried out at 50-80 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高分子液晶等の機能
性高分子の原料となる、芳香環を含む(メタ)アクリル
酸エステルの製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a process for producing a (meth) acrylic acid ester containing an aromatic ring, which is a raw material for functional polymers such as polymer liquid crystals.

【0002】[0002]

【従来の技術】分子中に安息香酸部を含まない(メタ)
アクリル酸エステル(アクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステル)の製造方法は、古くから知られてお
り、例えば特公昭60−42777号公報には、酸触媒
存在下で(メタ)アクリル酸とアルコールを用いた(メ
タ)アクリル酸エステルの製造方法に関しての記載があ
る。この方法は、ヒドロキシルアルキル基を有する安息
香酸誘導体から(メタ)アクリル酸エステルを製造する
方法にも応用されており、例えば、M.Portugall らの研
究報告〔Makromol.Chem. 183巻, 2311頁(1982 年) 〕に
記載されている。水との共沸溶媒であるクロロホルム共
存下、過剰の(メタ)アクリル酸を用いる方法により製
造することができる。しかし、この方法で用いられてい
るクロロホルムは、毒性が強いことが知られている。ま
た、100℃以下の水との共沸溶媒として一般的に用い
られているベンゼンも、同様に毒性が強い。そのため
に、これら毒性の強い溶媒を使用しない製造技術が望ま
れていた。
2. Description of the Related Art No benzoic acid moiety is contained in a molecule (meta)
A method for producing an acrylic ester (acrylic ester or methacrylic ester) has been known for a long time. For example, Japanese Patent Publication No. 60-42777 uses (meth) acrylic acid and alcohol in the presence of an acid catalyst. There is a description regarding a method for producing a (meth) acrylic acid ester. This method has also been applied to a method for producing a (meth) acrylic acid ester from a benzoic acid derivative having a hydroxylalkyl group. For example, a research report by M. Portugall et al. [Makromol. Chem. 183, 2311 ( 1982)]]. It can be produced by a method using excess (meth) acrylic acid in the presence of chloroform, which is an azeotropic solvent with water. However, chloroform used in this method is known to be highly toxic. Further, benzene, which is generally used as an azeotropic solvent with water at 100 ° C. or lower, is also highly toxic. Therefore, a manufacturing technique that does not use these highly toxic solvents has been desired.

【0003】また別の方法として、例えば、D.J.Broer
らの研究報告〔Makromol.Chem.190巻, 2255頁(1989 年)
〕に記載されている(メタ)アクリル酸クロライドを
用いる方法が知られている。しかし、この方法も(メ
タ)アクリル酸クロライドが催涙性が強く取扱いが困難
であり、その上、反応で副生成物が生成する点が問題と
なっていた。
As another method, for example, DJ Broer
Et al. [Makromol. Chem. 190, 2255 (1989)]
] The method of using the (meth) acrylic acid chloride described in] is known. However, this method also has a problem that (meth) acrylic acid chloride has a strong tearing property and is difficult to handle, and further, a by-product is generated in the reaction.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体の
(メタ)アクリル酸エステルを製造する場合に、毒性の
強い水との共沸溶媒であるクロロホルムやベンゼンを使
用しないで、かつ催涙性が強く取扱いが困難な上に、反
応で副生成物が生成する、アルリル酸クロライドを使用
しない製造方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to produce chloroform, which is an azeotropic solvent with highly toxic water when producing a (meth) acrylic acid ester of a benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group. It is an object of the present invention to provide a production method that does not use benzene or benzene, has strong tearing property, is difficult to handle, and produces a by-product in the reaction, and does not use an allyl chloride.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
重ねた結果、下記の製造方法により本発明の目的が達成
できることを見出した。 (1)酸触媒の存在下、アクリル酸またはメタクリル酸
とヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体から該
ヒドロキシ基のアクリル酸エステルまたは、メタクリル
酸エステルを製造する方法において、該安息香酸誘導体
の溶媒としてアクリル酸または、メタクリル酸のみを用
いることを特徴とするエステルの製造方法。 (2)ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体が
下記一般式(1)で表わされる化合物であることを特徴
とする(1) 項記載のエステルの製造方法。 一般式(1)
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the object of the present invention can be achieved by the following production method. (1) In the method for producing an acrylic acid ester of a hydroxy group or a methacrylic acid ester from acrylic acid or methacrylic acid and a benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group in the presence of an acid catalyst, acrylic is used as a solvent for the benzoic acid derivative. A method for producing an ester, which comprises using only an acid or methacrylic acid. (2) The method for producing an ester according to item (1), wherein the benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group is a compound represented by the following general formula (1). General formula (1)

【0006】[0006]

【化2】 Embedded image

【0007】Rはアルキレン基を表わす。Xは酸素原子
または、硫黄原子を表わす。 (3)アクリル酸またはメタクリル酸の使用量は、安息
香酸誘導体に対して、モル比で、1.0倍以上、100
倍以内である(1) 項記載の方法。
R represents an alkylene group. X represents an oxygen atom or a sulfur atom. (3) The amount of acrylic acid or methacrylic acid used is 1.0 times or more the molar ratio of 100 or more with respect to the benzoic acid derivative.
Method within the range of (1)

【0008】本発明において、好ましい態様は以下の通
りである。 (4)アクリル酸またはメタクリル酸の使用量は、安息
香酸誘導体に対して、モル比で、5倍以上、100倍以
内である(3) 項記載の方法。 (5)アクリル酸またはメタクリル酸の使用量は、安息
香酸誘導体に対して、モル比で、10倍以上、100倍
以内である(4) 項記載の方法。 (6)酸触媒の使用量は、安息香酸誘導体に対して、
0.1〜200モル%である(1) 項記載の方法。 (7)酸触媒の使用量は、安息香酸誘導体に対して、
0.5〜50モル%である(6) 項記載の方法。 (8)製造が30〜100℃で行われる(1) 項記載の方
法。 (9)製造が50〜80℃で行われる(8) 項記載の方
法。 (10)Rの炭素数が2〜30のアルキレン基である(2)
項記載の方法。
The preferred embodiments of the present invention are as follows. (4) The method according to item (3), wherein the amount of acrylic acid or methacrylic acid used is 5 times or more and 100 times or less in molar ratio with respect to the benzoic acid derivative. (5) The method according to item (4), wherein the amount of acrylic acid or methacrylic acid used is 10 times or more and 100 times or less in molar ratio with respect to the benzoic acid derivative. (6) The amount of the acid catalyst used is based on the benzoic acid derivative.
The method according to item (1), which is 0.1 to 200 mol%. (7) The amount of the acid catalyst used is based on the benzoic acid derivative.
The method according to item (6), which is 0.5 to 50 mol%. (8) The method according to item (1), wherein the production is carried out at 30 to 100 ° C. (9) The method according to item (8), wherein the production is carried out at 50 to 80 ° C. (10) R is an alkylene group having 2 to 30 carbon atoms (2)
The method described in the section.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
(メタ)アクリル酸の使用量は、ヒドロキシアルキル基
を有する安息香酸誘導体の仕込みモル量に対して、モル
比で1.0倍より多く100倍以内が好ましい、モル比
で5倍以上がより好ましい。さらに好ましくはモル比で
10倍以上である。(メタ)アクリル酸の使用量がモル
比で5倍より少ない場合には、副生成物の生成率がやや
増加し、過剰でない場合には、副生成物の生成率は著し
く増加する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
The amount of (meth) acrylic acid used is preferably more than 1.0 times and 100 times or less, more preferably 5 times or more in terms of molar ratio with respect to the charged molar amount of the benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group. . More preferably, the molar ratio is 10 times or more. When the amount of (meth) acrylic acid used is less than 5 times the molar ratio, the production rate of by-products slightly increases, and when it is not excessive, the production rate of by-products significantly increases.

【0010】酸触媒としては、例えば無機酸(例えば、
塩化水素、硫酸)、有機酸(例えばスルホン酸(例え
ば、置換または無置換のアルキルスルホン酸(例えば、
メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸)、
置換または無置換のベンゼンスルホン酸(例えば、パラ
トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸))、カルボ
ン酸(例えば、芳香族カルボン酸(例えば、パーフルオ
ロ安息香酸)、脂肪族カルボン酸(例えば、トリフルオ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸))および固体酸(例えば、ア
ンバーリスト、活性白土)が挙げられるが、この中でも
とくに硫酸およびスルホン酸が好ましい。酸触媒の添加
量は、ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸体の仕込
みモル量に対して0.1〜200モル%以上が好まし
く、更に好ましくは、0.5〜50モル%以上である。
酸触媒の添加量によって影響をうけるのは反応速度のみ
である。それゆえに、添加量が0.1モル%以下の時は
反応が終了するまでに長時間必要である。
As the acid catalyst, for example, an inorganic acid (for example,
Hydrogen chloride, sulfuric acid, organic acid (eg sulfonic acid (eg substituted or unsubstituted alkyl sulfonic acid (eg
Methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid),
Substituted or unsubstituted benzenesulfonic acid (eg, paratoluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid), carboxylic acid (eg, aromatic carboxylic acid (eg, perfluorobenzoic acid)), aliphatic carboxylic acid (eg, trifluoroacetic acid) , Trichloroacetic acid)) and solid acids (eg amberlyst, activated clay), of which sulfuric acid and sulfonic acid are particularly preferred. The addition amount of the acid catalyst is preferably 0.1 to 200 mol% or more, and more preferably 0.5 to 50 mol% or more with respect to the charged molar amount of the benzoic acid compound having a hydroxyalkyl group.
Only the reaction rate is affected by the addition amount of the acid catalyst. Therefore, when the addition amount is 0.1 mol% or less, it takes a long time to complete the reaction.

【0011】本発明は、安息香酸誘導体の溶媒として、
一般的溶媒(例えば、アルコール系溶媒(例えば、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール)、芳香族系溶
媒(例えば、ベンゼン、トルエン、ピリジン)、エーテ
ル系溶媒(例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン)、エステル系溶媒(例えば、酢酸エチル)、ハロ
ゲン系溶媒(例えば、ジクロロメタン、クロロホル
ム)、ケトン系溶媒(例えば、アセトン)、鎖状炭化水
素系溶媒(例えば、ヘキサン、ペンタン)、非プロトン
系極性溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド))等を用いないことに特徴がある。
The present invention provides a solvent for a benzoic acid derivative,
General solvents (for example, alcohol solvents (for example, methanol, ethanol, isopropanol), aromatic solvents (for example, benzene, toluene, pyridine), ether solvents (for example, diethyl ether, tetrahydrofuran), ester solvents (for example) , Ethyl acetate), halogenated solvents (eg dichloromethane, chloroform), ketone solvents (eg acetone), chain hydrocarbon solvents (eg hexane, pentane), aprotic polar solvents (eg dimethylformamide, It is characterized by not using dimethyl sulfoxide)) or the like.

【0012】反応温度は、30〜100℃、好ましくは
50〜80℃である。反応で生成する水の系外への除去
は必ずしも必要でないが、原料の残存が問題となる場合
においては、水を除去することが好ましい。その場合
は、反応が平衡に達した後、水を(メタ)アクリル酸と
共に系外に除く方法を用いることができる。水を系外に
除く際には、温度を好ましい50〜80℃にするため
に、減圧下で行うことが好ましい。重合禁止剤は(メ
タ)アクリル酸の重合禁止剤として通常用いられている
もの、例えば、フェノチアジン、ヒドロキノン、ヒドロ
キノンモノメチルエーテル、ニトロベンゼン、t−ブチ
ルカテコールのほか、塩化銅、硫化銅などの無機塩など
を、そのまま適用することができる。重合禁止剤の添加
量は、(メタ)アクリル酸の使用重量に対して、10〜
10,000ppm が好ましく、更に好ましくは100〜
1,000ppm である。
The reaction temperature is 30 to 100 ° C, preferably 50 to 80 ° C. Although it is not always necessary to remove the water generated by the reaction to the outside of the system, it is preferable to remove the water when the remaining raw materials pose a problem. In that case, a method can be used in which water is removed from the system together with (meth) acrylic acid after the reaction reaches equilibrium. When water is removed from the system, it is preferably performed under reduced pressure in order to keep the temperature at 50 to 80 ° C. The polymerization inhibitor is usually used as a (meth) acrylic acid polymerization inhibitor, for example, phenothiazine, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, nitrobenzene, t-butylcatechol, and inorganic salts such as copper chloride and copper sulfide. Can be applied as is. The amount of the polymerization inhibitor added is 10 to the weight of the (meth) acrylic acid used.
10,000 ppm is preferable, and more preferably 100-
It is 1,000 ppm.

【0013】本発明に用いられるヒドロキシアルキル基
を有する安息香酸誘導体は、安息香酸が、ヒドロキシア
ルキル基を含む置換基で置換されたものである。ヒドロ
キシアルキル基を含む置換基は、ヒドロキシアルキル基
を含む物であればいかなるものでもよく、例えば、アリ
ール基、複素環基を含んでいても良いし、エーテル基、
エステル基、カルボニル基、チオエーテル基、スルホキ
シド基、スルホニル基、アミド基のような官能基を有し
ていても良い。またヒドロキシアルキル基は、置換基で
置換されていてもよく、例えば、アルコキシ基、アルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子が挙げら
れる。アルコキシ基、アルキル基、アルコキシカルボニ
ル基の炭素数は1〜20個が好ましく、更に好ましくは
1〜10個である。ヒドロキシアルキル基を含む置換基
で置換された安息香酸は、他の置換基で置換されていて
もよく、例えば、アルコキシ基、アルキル基、アルコキ
シカルボニル基、ニトロ基、ハロゲン原子が挙げられ
る。アルコキシ基、アルキル基、アルコキシカルボニル
基の炭素数は1〜20個が好ましく、更に好ましくは1
〜10個である。
The benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group used in the present invention is benzoic acid substituted with a substituent containing a hydroxyalkyl group. The substituent containing a hydroxyalkyl group may be any as long as it contains a hydroxyalkyl group, for example, an aryl group, a heterocyclic group may be contained, an ether group,
It may have a functional group such as an ester group, a carbonyl group, a thioether group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, and an amide group. The hydroxyalkyl group may be substituted with a substituent, and examples thereof include an alkoxy group, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group and a halogen atom. The alkoxy group, alkyl group and alkoxycarbonyl group each preferably have 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 10 carbon atoms. The benzoic acid substituted with a substituent containing a hydroxyalkyl group may be substituted with another substituent, and examples thereof include an alkoxy group, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group and a halogen atom. The alkoxy group, alkyl group and alkoxycarbonyl group preferably have 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 carbon atom.
It is 10 pieces.

【0014】本発明に用いられる化合物としては、一般
式(1)により表わされるものが好ましい。 一般式(1)
As the compound used in the present invention, those represented by the general formula (1) are preferable. General formula (1)

【0015】[0015]

【化3】 Embedded image

【0016】Rはアルキレン基を表わす。Xは酸素原子
または硫黄原子を表わす。
R represents an alkylene group. X represents an oxygen atom or a sulfur atom.

【0017】以下、一般式(1)について、更に詳しく
説明する。Rで表わされるアルキレン基は、無置換で
も、置換されていてもよく炭素数2ないし30、好まし
くは2ないし20のものであり、例えば無置換アルキレ
ン基(例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペン
チレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレ
ン、デシレン、2−エチルブチレン、3−エチルブチレ
ン)、置換アルキレン基(置換基としては例えば、アシ
ルアミノ基、アルコキシ基、ビニル基、フェニル基、ア
シルオキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル
基、アシル基、ハロゲン原子が挙げられ、これらの中
で、アシルアミノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、
アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシル基の
炭素数は1〜20個が好ましく、1〜10個が更に好ま
しい。更に具体的に例えば、3−メトキシブチレン、2
−アセトキシプロピレン、2−メチルチオブチレン、4
−メトキシカルボニルヘキシレン、3−アセチルブチレ
ン、5−クロロヘキシレン)が挙げられる。また、アル
キレン基の炭素原子は他の原子で置き替わってもよく、
例えば酸素原子(例えば、2−エチレンオキシエチレ
ン)、硫黄原子(例えば、2−エチレンチオエチレン)
が挙げられる。また、Xは、芳香環のどの位置に置換し
ていてもよい。以下に本発明に用いられる化合物と、本
発明で得られる化合物の具体例を示す。但し、本発明の
範囲はこれらのみに限定されるものではない。なおQ=
Hは本発明の一般式(1)で表わされる化合物であり、
その他は、目的とするエステル化合物である。
The general formula (1) will be described in more detail below. The alkylene group represented by R may be unsubstituted or substituted and has 2 to 30 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms. For example, an unsubstituted alkylene group (for example, ethylene, propylene, butylene, pentylene, Hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, 2-ethylbutylene, 3-ethylbutylene), substituted alkylene groups (substituents include, for example, acylamino groups, alkoxy groups, vinyl groups, phenyl groups, acyloxy groups, alkylthio groups, alkoxy groups). Examples thereof include a carbonyl group, an acyl group and a halogen atom. Among these, an acylamino group, an alkoxy group, an acyloxy group,
The alkylthio group, alkoxycarbonyl group, and acyl group each preferably have 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 10 carbon atoms. More specifically, for example, 3-methoxybutylene, 2
-Acetoxypropylene, 2-methylthiobutylene, 4
-Methoxycarbonylhexylene, 3-acetylbutylene, 5-chlorohexylene). Further, the carbon atom of the alkylene group may be replaced with another atom,
For example, oxygen atom (for example, 2-ethyleneoxyethylene), sulfur atom (for example, 2-ethylenethioethylene)
Is mentioned. Further, X may be substituted at any position on the aromatic ring. Specific examples of the compound used in the present invention and the compound obtained in the present invention are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to these. Q =
H is a compound represented by the general formula (1) of the present invention,
Others are target ester compounds.

【0018】[0018]

【化4】 [Chemical 4]

【0019】[0019]

【化5】 Embedded image

【0020】[0020]

【化6】 [Chemical 6]

【0021】[0021]

【化7】 [Chemical 7]

【0022】[0022]

【化8】 Embedded image

【0023】[0023]

【化9】 [Chemical 9]

【0024】[0024]

【化10】 [Chemical 10]

【0025】[0025]

【化11】 [Chemical 11]

【0026】[0026]

【化12】 [Chemical 12]

【0027】[0027]

【実施例】以下実施例および比較例により本発明を具体
的に説明する。 実施例1 No.21の合成 300mlの丸底フラスコにアクリル酸140g(20mo
l)、硫酸0.98g(0.01mol)、ヒドロキノンモノ
メチルエーテル0.50gおよび No.3 21.0g
(1mol)を仕込み、65℃で7時間反応を行った。冷却
後、反応液を500mlの水に注ぎ得られた結晶をアセト
ン/水溶媒で再結晶化し、 No.21 21.9g(83
%)を得た。 No. 21の同定データ1 H-NMR(CDCl3) δ:8.1(d,2H), 6.9(d,2H), 6.4(d, 1H),
6.1(dd,1H), 5.8(d,1H), 4.2(t,2H), 4.0(t,2H), 1.6-
1.9(m, 4H) 融点:120−122℃
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples and Comparative Examples. Example 1 Synthesis of No. 21 Acrylic acid 140g (20mo
l), sulfuric acid 0.98 g (0.01 mol), hydroquinone monomethyl ether 0.50 g and No. 3 21.0 g
(1 mol) was charged and reacted at 65 ° C. for 7 hours. After cooling, the reaction solution was poured into 500 ml of water and the obtained crystals were recrystallized with an acetone / water solvent to give No. 21 21.9 g (83
%) Was obtained. Identification data of No. 21 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.1 (d, 2H), 6.9 (d, 2H), 6.4 (d, 1H),
6.1 (dd, 1H), 5.8 (d, 1H), 4.2 (t, 2H), 4.0 (t, 2H), 1.6-
1.9 (m, 4H) Melting point: 120-122 ° C

【0028】実施例2 No.21の合成 実施例1と同様に65℃で7時間反応を行った後、65
℃で減圧下、2時間かけて水−アクリル酸の混合液を除
去した。冷却後反応液と500mlの水に注ぎ析出した結
晶を減圧ろ過し、水で洗浄した。風乾後、 No.21 2
5.1g(95%)を得た。
Example 2 Synthesis of No. 21 Reaction was carried out at 65 ° C. for 7 hours in the same manner as in Example 1, and then 65
The water-acrylic acid mixture was removed over 2 hours at reduced pressure at ℃. After cooling, the reaction mixture was poured into 500 ml of water and the precipitated crystals were filtered under reduced pressure and washed with water. After air drying, No. 21 2
Obtained 5.1 g (95%).

【0029】実施例3 No.22の合成 No.4を用いて、実施例2と同様に反応を行いNo. 22
26.4g(95%)を得た。 No.22の同定データ1 H-NMR(CDCl3) δ:8.1(d,2H), 6.9(d,2H), 6.4(d, 1H),
6.1(dd,1H), 5.8(d,1H), 4.2(t,2H), 4.0(t,2H), 1.6-
1.9(m, 4H), 1.4-1.6(m, 2H) 相転移温度:結晶相−99℃−液晶相−112℃−等方
性液体
Example 3 Synthesis of No. 22 Using No. 4, the same reaction as in Example 2 was carried out.
26.4 g (95%) were obtained. Identification data of No. 22 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.1 (d, 2H), 6.9 (d, 2H), 6.4 (d, 1H),
6.1 (dd, 1H), 5.8 (d, 1H), 4.2 (t, 2H), 4.0 (t, 2H), 1.6-
1.9 (m, 4H), 1.4-1.6 (m, 2H) Phase transition temperature: Crystal phase-99 ° C-Liquid crystal phase-112 ° C-Isotropic liquid

【0030】実施例4 No.23の合成 No.5を用いて、実施例2と同様に反応を行い No.23
27.4g(94%)を得た。 No.23の同定データ1 H-NMR(CDCl3) δ:8.1(d,2H), 6.9(d,2H), 6.4(d, 1H),
6.1(dd,1H), 5.8(d,1H), 4.2(t,2H), 4.0(t,2H), 1.6-
1.9(m, 4H), 1.4-1.6(m, 4H) 相転移温度:結晶相−89℃−液晶相−113℃−等方
性液体
Example 4 Synthesis of No. 23 Using No. 5, the same reaction as in Example 2 was carried out.
27.4 g (94%) were obtained. Identification data of No. 23 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.1 (d, 2H), 6.9 (d, 2H), 6.4 (d, 1H),
6.1 (dd, 1H), 5.8 (d, 1H), 4.2 (t, 2H), 4.0 (t, 2H), 1.6-
1.9 (m, 4H), 1.4-1.6 (m, 4H) Phase transition temperature: Crystal phase-89 ℃ -Liquid crystal phase-113 ℃ -Isotropic liquid

【0031】実施例5 No.25の合成 No.7を用いて、実施例2と同様に反応を行い No.25
30.4g(95%)を得た。 No.25の同定データ1 H-NMR(CDCl3) δ:8.1(d,2H), 6.9(d,2H), 6.4(d, 1H),
6.1(dd,1H), 5.8(d,1H), 4.2(t,2H), 4.0(t,2H), 1.6-
1.9(m, 4H), 1.4-1.6(m, 8H) 相転移温度:結晶相−75℃−液晶相−112℃−等方
性液体
Example 5 Synthesis of No.25 Using No.7, the reaction was carried out in the same manner as in Example No.25.
30.4 g (95%) was obtained. Identification data of No. 25 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.1 (d, 2H), 6.9 (d, 2H), 6.4 (d, 1H),
6.1 (dd, 1H), 5.8 (d, 1H), 4.2 (t, 2H), 4.0 (t, 2H), 1.6-
1.9 (m, 4H), 1.4-1.6 (m, 8H) Phase transition temperature: Crystal phase-75 ℃ -Liquid crystal phase-112 ℃ -Isotropic liquid

【0032】実施例6 No.26の合成 No.8を用いて実施例2と同様に反応を行い No.26
31.4g(94%)を得た。 No.26の同定データ1 H-NMR(CDCl3) δ:8.1(d,2H), 6.9(d,2H), 6.4(d, 2H),
6.1(dd,1H), 5.8(d,1H), 4.2(t,2H), 4.0(t,2H), 1.6-
1.9(m, 4H), 1.3-1.6(m, 10H) 相転移温度:結晶相−99℃−液晶相−115℃−等方
性液体
Example 6 Synthesis of No.26 No.26 was carried out in the same manner as in Example 2 using No.8.
31.4 g (94%) were obtained. Identification data of No. 26 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.1 (d, 2H), 6.9 (d, 2H), 6.4 (d, 2H),
6.1 (dd, 1H), 5.8 (d, 1H), 4.2 (t, 2H), 4.0 (t, 2H), 1.6-
1.9 (m, 4H), 1.3-1.6 (m, 10H) Phase transition temperature: Crystal phase-99 ° C-Liquid crystal phase-115 ° C-Isotropic liquid

【0033】実施例7 No.41の合成 No.5とメタアクリル酸を用いて実施例2と同様に反応
を行い No.41 26.5g(96%)を得た。 No.41の同定データ1 H-NMR(CDCl3) δ:8.1(d,2H), 6.9(d,2H), 6.1(s, 1H),
5.5(s,1H), 4.2(t,2H),4.0(t,2H), 1.9(s,3H), 1.6-1.
9(m, 4H), 1.4-1.6(m, 4H) 相転移温度:結晶相−65℃−液晶相−100℃−等方
性液体
Example 7 Synthesis of No. 41 Using No. 5 and methacrylic acid, the reaction was carried out in the same manner as in Example 2 to obtain 26.5 g (96%) of No. 41. Identification data of No. 41 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.1 (d, 2H), 6.9 (d, 2H), 6.1 (s, 1H),
5.5 (s, 1H), 4.2 (t, 2H), 4.0 (t, 2H), 1.9 (s, 3H), 1.6-1.
9 (m, 4H), 1.4-1.6 (m, 4H) Phase transition temperature: Crystal phase-65 ° C-Liquid crystal phase-100 ° C-Isotropic liquid

【0034】実施例8 No.62の合成 No.56を用いて実施例2と同様に反応を行い No.62
25.8g(92%)を得た。 No.62の同定データ1 H-NMR(CDCl3) δ:7.9(d,2H), 7.0(d,2H), 6.4(d, 1H),
6.2(dd,1H), 5.9(d,1H), 4.3(t,2H), 4.2(t,2H), 3.8
(t, 2H), 3.7(t, 2H) 融点:156−158℃
Example 8 Synthesis of No. 62 No. 62 was carried out in the same manner as in Example 2 using No. 56.
25.8 g (92%) was obtained. Identification data of No. 62 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.9 (d, 2H), 7.0 (d, 2H), 6.4 (d, 1H),
6.2 (dd, 1H), 5.9 (d, 1H), 4.3 (t, 2H), 4.2 (t, 2H), 3.8
(t, 2H), 3.7 (t, 2H) Melting point: 156-158 ° C

【0035】比較例1 No.21の合成(共沸溶媒にトルエンを用いた場合) 500mlの丸底フラスコにアクリル酸140g(20mo
l)、パラトルエンスルホン酸1.0g、ヒドロキノンモ
ノメチルエーテル0.50g、 No.3 21.0g
(1.0mol)およびトルエン100mlを仕込み、反応温
度120℃で1時間反応を行った。エステル化にともな
って発生する水は、トルエンとの共沸により反応系から
除去した。また、水と分離したトルエンは反応系に戻し
た。反応後のフラスコにはポリマーと思われる白い不溶
物が多く付着していた。 No.21の収率:76% 比較例2 No.21の合成(共沸溶媒にヘキサンを用いた場合) 500mlの丸底フラスコにアクリル酸140g(20mo
l)、パラトルエンスルホン酸1.0g、ヒドロキノンモ
ノメチルエーテル0.50g、 No.3 21.0g
(1.0mol)およびn−ヘキサン100mlを仕込み、反
応温度80℃で6時間反応を行った。エステル化にとも
なって発生する水は、n−ヘキサンとの共沸により反応
系から除去した。また、水と分離したn−ヘキサンは反
応系に戻した。反応系には、溶解しない No.21の結晶
が残ったままであった。 No.21の収率:23% 比較例3 No.21の合成(アクリル酸クロライドを用いた場合) アクリル酸クロライドと No.3を用いて、D.J.Broer ら
の研究報告〔Makromol.Chem, 190巻, 2255頁(1989 年)
〕に記載されている合成方法に従い合成を行った。 N
o.21の収率:83% 比較例4 No.21の合成(アクリル酸を等量用いた場合) 200mlの丸底フラスコにアクリル酸7.0g(1.0
mol)、パラトルエンスルホン酸1.0g、ヒドロキノン
モノメチルエーテル0.50g、 No.3 21.0g
(1.0mol)およびクロロホルム100mlを仕込み、反
応温度65℃で12時間反応を行った。エステル化にと
もなって発生する水は、クロロホルムとの共沸により反
応系から除去した。また水と分離したクロロホルムは反
応系に戻した。 No.21の収率:75% 以上の結果を表1に示す。なお、生成物の選択率は反応
液をサンプリングしてHPLC(溶離液:THF/H2O=50/50,検
出波長:254nm) により求めた。
Comparative Example 1 Synthesis of No. 21 (when toluene is used as azeotropic solvent) Acrylic acid 140 g (20 mol) was added to a 500 ml round bottom flask.
l), paratoluenesulfonic acid 1.0 g, hydroquinone monomethyl ether 0.50 g, No. 3 21.0 g
(1.0 mol) and 100 ml of toluene were charged, and the reaction was carried out at a reaction temperature of 120 ° C. for 1 hour. The water generated by the esterification was removed from the reaction system by azeotropic distillation with toluene. The toluene separated from water was returned to the reaction system. After the reaction, a large amount of white insoluble matter, which seems to be a polymer, was attached to the flask. Yield of No. 21: 76% Comparative Example 2 Synthesis of No. 21 (when hexane was used as an azeotropic solvent) Acrylic acid 140 g (20 mol) was added to a 500 ml round bottom flask.
l), paratoluenesulfonic acid 1.0 g, hydroquinone monomethyl ether 0.50 g, No. 3 21.0 g
(1.0 mol) and 100 ml of n-hexane were charged, and the reaction was carried out at a reaction temperature of 80 ° C. for 6 hours. Water generated by the esterification was removed from the reaction system by azeotropic distillation with n-hexane. The n-hexane separated from water was returned to the reaction system. No. 21 crystals that did not dissolve remained in the reaction system. Yield of No. 21: 23% Comparative Example 3 Synthesis of No. 21 (when acrylic acid chloride is used) A report of DJ Broer et al. [Makromol. Chem, vol. 2255 (1989)
] The synthesis was performed according to the synthetic method described in. N
Yield of o.21: 83% Comparative Example 4 Synthesis of No. 21 (when using equal amount of acrylic acid) Acrylic acid 7.0 g (1.0
mol), paratoluenesulfonic acid 1.0 g, hydroquinone monomethyl ether 0.50 g, No.3 21.0 g
(1.0 mol) and 100 ml of chloroform were charged, and the reaction was carried out at a reaction temperature of 65 ° C. for 12 hours. Water generated by esterification was removed from the reaction system by azeotropic distillation with chloroform. Chloroform separated from water was returned to the reaction system. Yield of No. 21: 75% The above results are shown in Table 1. The selectivity of the product was determined by HPLC (eluent: THF / H 2 O = 50/50, detection wavelength: 254 nm) by sampling the reaction solution.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】表1によれば、本発明では目的物の選択性
もよく、その上単離収率もよい。これに対して、共沸溶
媒にトルエン、n−ヘキサンを用いた比較例1、2で
は、ポリマー化や、原料であるヒドロキシ体の溶解性の
理由により、単離収率が低下している。また、アクリル
酸クロライドを用いた比較例3は、目的物の選択性及び
副生成物の量に関しても、本発明より劣る。そして等量
のアクリル酸を用いた比較例4では、2量化由来の副生
成物の増加が認められ、目的物の収率もそれにともない
減少している。
According to Table 1, in the present invention, the selectivity of the desired product is good and the isolation yield is also good. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 in which toluene and n-hexane were used as the azeotropic solvent, the isolation yield was lowered due to polymerization and the solubility of the hydroxy compound as a raw material. In addition, Comparative Example 3 using acrylic acid chloride is inferior to the present invention in terms of the selectivity of the target product and the amount of by-products. Then, in Comparative Example 4 in which an equal amount of acrylic acid was used, an increase in by-products derived from dimerization was observed, and the yield of the target product also decreased accordingly.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明は、ヒドロキシアルキル基を有す
る安息香酸誘導体の(メタ)アクリル酸エステルを製造
する場合に、毒性の強い水との共沸溶媒であるクロロホ
ルムやベンゼンを使用しないで、かつ、催涙性が強く取
扱いが困難な上に、反応で副生成物が生成する、アクリ
ル酸クロライドを使用しない製造方法を提供することが
できる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention does not use chloroform or benzene which is an azeotropic solvent with highly toxic water when producing a (meth) acrylic acid ester of a benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group, and It is possible to provide a production method which does not use acrylic acid chloride and has strong tearing property, is difficult to handle, and produces a by-product in the reaction.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 323/62 7419−4H C07C 323/62 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C07C 323/62 7419-4H C07C 323/62 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸触媒の存在下、アクリル酸またはメタ
クリル酸とヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導
体から該ヒドロキシ基のアクリル酸エステルまたは、メ
タクリル酸エステルを製造する方法において、該安息香
酸誘導体の溶媒としてアクリル酸または、メタクリル酸
のみを用いることを特徴とするエステルの製造方法。
1. A method for producing an acrylic acid ester or methacrylic acid ester of a hydroxy group from acrylic acid or methacrylic acid and a benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group in the presence of an acid catalyst, wherein a solvent for the benzoic acid derivative is used. A method for producing an ester, characterized in that only acrylic acid or methacrylic acid is used as the ester.
【請求項2】 ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸
誘導体が下記一般式(1)で表わされる化合物であるこ
とを特徴とする請求項1記載のエステルの製造方法。 一般式(1) 【化1】 Rはアルキレン基を表わす。Xは酸素原子または、硫黄
原子を表わす。
2. The method for producing an ester according to claim 1, wherein the benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group is a compound represented by the following general formula (1). General formula (1) R represents an alkylene group. X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【請求項3】 アクリル酸またはメタクリル酸の使用量
は、安息香酸誘導体1モルに対して、モル比で、1.0
倍以上、100倍以内である請求項1記載の方法。
3. The amount of acrylic acid or methacrylic acid used is 1.0 in terms of molar ratio with respect to 1 mol of the benzoic acid derivative.
The method according to claim 1, wherein the method is at least 100 times and at least 200 times.
JP8052866A 1995-03-16 1996-03-11 Production of benzoic acid group-bearing (meth)acrylic ester Pending JPH08310996A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8052866A JPH08310996A (en) 1995-03-16 1996-03-11 Production of benzoic acid group-bearing (meth)acrylic ester

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5751495 1995-03-16
JP7-57514 1995-03-16
JP8052866A JPH08310996A (en) 1995-03-16 1996-03-11 Production of benzoic acid group-bearing (meth)acrylic ester

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08310996A true JPH08310996A (en) 1996-11-26

Family

ID=26393533

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8052866A Pending JPH08310996A (en) 1995-03-16 1996-03-11 Production of benzoic acid group-bearing (meth)acrylic ester

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08310996A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120214740A1 (en) * 2007-10-12 2012-08-23 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Medicinal Compositions Containing Highly Functionalized Chimeric Protein

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120214740A1 (en) * 2007-10-12 2012-08-23 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Medicinal Compositions Containing Highly Functionalized Chimeric Protein

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU646311B2 (en) Improved process for the synthesis of (4R-CIS)-1,1-dimethylethyl-6-cyanomethyl-2,2-dimethyl-1,3-di oxane-4-acetate
KR102421025B1 (en) New Trityl Protective Agent
CN111848473B (en) Aryl alkenyl thioether compound and preparation method thereof
JPH08310996A (en) Production of benzoic acid group-bearing (meth)acrylic ester
US5679834A (en) Production process of (meth) acrylic acid ester having benzoic acid group
EP0659735B1 (en) Process for producing aniline derivative
JP3646223B2 (en) Method for producing aromatic compound by electrophilic reaction and aromatic compound
JPH0789924A (en) Production of carbamate compounds
JPH101463A (en) Production of n-lauroyl-l-glutamic acid-di-n-butylamide
JP3887893B2 (en) Process for producing 4- [2- (4- (trifluoromethoxy) phenyl) ethylamino] pyrimidine derivative, production intermediate and process for producing the same
JPH0667941B2 (en) 6-Aryloxy-1H-pyrazolo [1,5-b] -1,2,4-triazole compound
JP4088703B2 (en) Method for producing N-acyl (meth) acrylamide derivative, method for producing intermediate thereof, and intermediate thereof
KR0163206B1 (en) Process for producing an aromatic compound by electrophilic reaction and aromatic compound derivatives
JP2966953B2 (en) Dicarbonate compound and method for producing the same
JPH04364175A (en) Production of nitrogen-containing 6-membered ring compound
US5631406A (en) Chemical compounds
JP2001039926A (en) Alicyclic di(meth)acrylate and its production
JP2004010591A (en) New unsaturated acid ester and method for producing the same
JPH0674250B2 (en) Method for producing thiocarbamate derivative
JPH0713061B2 (en) 3-aryloxy-5-aminopyrazole compounds
JPH0812658A (en) Production of sydnones
JP2005263748A (en) Homophenylalanine derivative having reactive diazirine group
JPS5932444B2 (en) Improved Arndt-Eistelt synthesis method
JPH03141236A (en) Production of 2,5-disubstituted hydroquinones
JP2003128661A (en) Acrylate ester derivative

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060215

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060325

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061220

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070509