JPH0830783A - 2次元物体の認識方法 - Google Patents

2次元物体の認識方法

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JPH0830783A
JPH0830783A JP15974994A JP15974994A JPH0830783A JP H0830783 A JPH0830783 A JP H0830783A JP 15974994 A JP15974994 A JP 15974994A JP 15974994 A JP15974994 A JP 15974994A JP H0830783 A JPH0830783 A JP H0830783A
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JP
Japan
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model
image
distance
feature points
correspondence relation
Prior art date
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Pending
Application number
JP15974994A
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English (en)
Inventor
Tsuneyoshi Takahashi
常悦 高橋
Satoru Nomura
悟 野村
Kiyohide Abe
清秀 阿部
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Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 画像処理のパターンマッチングにおいて、離
散的弛緩法の条件を除き、演算量を少なくした2次元物
体の認識方法を提供する。 【構成】 モデル中の特徴点2点と画像中の特徴点2点
との対応関係により、幾何学的に変換したモデルを作り
変換したモデルと画像との対応関係を求める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、画像処理におけるパタ
ーン認識において、パターンマッチングを行なう場合の
2次元物体の認識方法に関する。
【0002】
【従来の技術】パターン認識におけるパターンマッチン
グでは、種々の方式のうち弛緩法を用いたマッチングが
多く利用される。この弛緩法では局所的な矛盾やあいま
いさを低減すべく局所的に並列して反復処理を行ない、
結果として大局的に整合を採るマッチング法であり、認
識したい画像であるモデルと検索する画像(ここでは単
に画像とする)との相互の特徴点を対応付けるものであ
る。離散的弛緩法では、モデルと画像との特徴点の対応
候補を絞るに際して、対応しない場合と対応する場合を
区別し、更に矛盾度と類似度を求めて対応する決定付け
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】離散的弛緩法の適用と
しては、2時期での航空写真からの変化抽出等の分野が
あるが、しかしながら以下の条件が満たされている必要
がある。 2枚の画像中に存在する同一物体は、略相似形であ
り、しかも回転は含まれず、許容される幾何学的変化へ
平行移動と縮尺変化である。 縮尺律の変化が判っている必要がある。 更に、条件判断を含む演算量が多くて、1回のマッチン
グに時間がかかるという問題もある。
【0004】本発明は、上述の問題に鑑み、離散的弛緩
法の条件や問題を除去するようにした2次元物体の認識
方法の提供を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明は、(1) パターン認識におけるパターンマッチ
ングにおいて、モデルの順番となる二特徴点同士の距離
と画像の順番となる二特徴点同士の距離とを算出して上
記モデルと画像との対応関係を求め、この対応関係に基
づき仮想的に幾何学的に変換したモデルを作り、このモ
デルと上記画像との対応関係を求めることを特徴とし、
また、(2) 幾何学的な変換には、ヘルマート変換式
及びアフィン変換式を用いることを特徴とする。
【0006】
【作用】画像とモデルとにつきヘルマート変換式やアフ
ィン変換式からなる幾何学変換を用いることにより回転
や平行移動等に対応することができ、しかも演算量が少
なくて高速処理が可能となる。
【0007】
【実施例】ここで、実施例を説明する。2枚の画像にて
前述の如く認識したい画像をモデル、検索する画像を単
に画像と称する。このモデルと画像とにあってそれぞれ
の特徴点を順に求める。例えば、物体内にある穴の中心
とか外形の頂点等である。この特徴点にあって、a
i (i=1,2,3,…,n)をモデル中の特徴点と
し、bk (k=1,2,3,…,m)を画像中の特徴点
とする。
【0008】この特徴点のうち順に決定された特徴点間
の距離を次に求める。すなわち、a i とai +1との距
離lai及びbk とbk +1との距離lbkをそれぞれ求め
る。こ の場合、i=n,k=mの場合には、lanはa
n とa0 との距離、lbkはb m とb0 との距離とする。
そして、この特徴点間の距離laiとlbkとの対応関係を
求め、モデルと画像との特徴点が対応するか否かを決定
する。ここで、対応関係の有無をPikにて表わす。Pik
が1の場合、|lai−lbk|≦lT (ここでlT は距離
に対する許容値である。)、Pikが0の場合は「その
他」のケースを表わす。こうして、モデルと画像との特
徴点の対応関係がPik=1にて明らかになる。
【0009】特徴点の対応関係Pik=1の場合には、次
にモデルと画像との無矛盾度、類似度を求める。この算
出に当って、モデル中の特徴点ai とai +1が画像の
特徴点bk とb k +1となるようにヘルマート変換式の
各係数を求める。
【0010】ここで、ヘルマート変換は幾何変換の一部
であり、現在ある画像を別の座標系に射影する操作であ
って、座標変換式において変換前の座標を(x,y)、
変換後の座標を(u,v)とした場合次式で示される。 u=ax−by+c v=bx+ay+d このヘルマート変換は、拡大、縮小、回転、平行移動を
合成した変換であり、微小部分において変換前の像と変
換後の像が相似である変換いわゆる等角変換の1次のも
のをいう。
【0011】ヘルマート変換によってai の変換後の座
標をci を求める。ここで、ci の求め方を図1にて例
示すれば、図1においてモデルの特徴点をa1 ,a2
3 とし画像の特徴点をb1 ,b2 ,b3 ,b4 ,b5
とした場合、特徴点a1 ,a2 とがb1 ,b2 とになる
ようci を求めると、図1(c)の如き対応する点
1 ,c2 が得られる。また、特徴点a1 とa2 とがb
4 とb2 となるようにci を求めると、図1(d)のご
とき対応点c1 ,c2 ,c3 が得られ、a1 とa2 がb
4 とb2 に対応し、a2 とa3 がb2 とb1 に対応し、
3 とa1 がb1 とb4 とに対応する。
【0012】このようにしてヘルマート変換式にてai
の変換座標ci を求め、このci を中心としてある許容
範囲内にbk が存在する場合をθi =1とし、その他の
場合をθi =0とする。無矛盾度はci 中心の範囲にb
k がある場合次式に与えられる。 すなわち、無矛盾度は、Pik=1の対応関係があるとき
求めたci (ai のヘルマート変換後の座標)の座標群
がbk の座標群に対して同時に対応することに対する矛
盾性を表わす。
【0013】また、ヘルマート変換後の座標ci の許容
範囲内にbk があるとき、θi =1であり、このθi
1のとき見つかったbk との距離|ci −bk |をSi
とし、θi =0のときのを0とするとき、類似度Bi
次式にて求められる。 すなわち、無矛盾度の算出にてci とbk が対応した座
標群に対しがbk がc i にどれだけ類似しているかが得
られる。そして、この結果無矛盾度Ri が許容値RT
の間でRi ≧RT であり、類似度Bi が最小のパターン
をモデルと同一パターンとする。
【0014】上述は幾何変換としてヘルマート変換を説
明したが、他の変換例としてアフィン変換でも良い。こ
の変換は回転、平行移動のみに対応する1次変換で、変
換前の画像座標(x,y)、変換後の画像座標(u,
v)したとき次式で示される。 u=ax+by+c v=dx+ey+f
【0015】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、画
像がモデルに対して、拡大、縮小、回転、平行移動全て
に対応でき、また演算用も少なくて高速処理が可能とな
り、また物体の特徴的な所を点として表現すれば認識が
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ヘルマート変換の説明図。
【符号の説明】
i モデルの特徴点 bk 画像の特徴点

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パターン認識におけるパターンマッチン
    グにおいて、 モデルの順番となる二特徴点同士の距離と画像の順番と
    なる二特徴点同士の距離とを算出して上記モデルと画像
    との対応関係を求め、 この対応関係に基づき仮想的に幾何学的に変換したモデ
    ルを作り、 このモデルと上記画像との対応関係を求める、 ことを特徴とする2次元物体の認識方法。
  2. 【請求項2】 幾何学的な変換には、ヘルマート変換式
    及びアフィン変換式を用いることを特徴とする請求項1
    の記載の2次元物体の認識方法。
JP15974994A 1994-07-12 1994-07-12 2次元物体の認識方法 Pending JPH0830783A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7027624B2 (en) 2001-03-29 2006-04-11 Nec Corporation Pattern collation device and pattern collating method thereof, and pattern collation program
JP2010113731A (ja) * 2007-03-09 2010-05-20 Omron Corp 認識処理方法およびこの方法を用いた画像処理装置

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Effective date: 20020402