JPH0830721B2 - Voltage detector - Google Patents

Voltage detector

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JPH0830721B2
JPH0830721B2 JP62174536A JP17453687A JPH0830721B2 JP H0830721 B2 JPH0830721 B2 JP H0830721B2 JP 62174536 A JP62174536 A JP 62174536A JP 17453687 A JP17453687 A JP 17453687A JP H0830721 B2 JPH0830721 B2 JP H0830721B2
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optical material
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紳一郎 青島
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、被測定物、例えば集積回路等の所定部分の
電圧を検出するための電圧検出装置に関し、特に被測定
物の所定部分の電圧によって光ビームの偏光状態が変化
することを利用して電圧を検出する型式の電圧検出装置
に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a voltage detecting device for detecting a voltage of a predetermined portion of an object to be measured, for example, an integrated circuit or the like, and in particular, to a voltage of a predetermined portion of the device to be measured. The present invention relates to a voltage detecting device of a type that detects a voltage by utilizing the fact that the polarization state of a light beam changes due to the change.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、集積回路などの被測定物の所定部分の電圧を検
出するのに、種々の電圧検出装置が用いられている。
Conventionally, various voltage detection devices have been used to detect the voltage of a predetermined portion of an object to be measured such as an integrated circuit.

この種の電圧検出装置のうちで、光ビームの偏光状態
が被測定物の所定部分の電圧によって変化することを利
用して被測定物の電圧を検出する型式の電圧検出装置が
近年開発されている。
Among this type of voltage detecting device, a type of voltage detecting device has been recently developed which detects the voltage of the DUT by utilizing the fact that the polarization state of the light beam changes depending on the voltage of a predetermined portion of the DUT. There is.

例えば本願の出願人により「電圧検出装置」の名称で
昭和62年5月30日に出願された特許出願に記載の電圧検
出装置では、被測定物の電圧によって屈折率が変化する
電気光学材料を微小断面形状の光プローブ内に収納し、
この光プローブの電気光学材料に所定の偏光成分をもつ
光ビームを入射させ、電気光学材料の屈折率変化に伴な
う光ビームの偏光状態の変化量を検出することで、被測
定物の1つの測定位置の電圧を検出するようになってい
る。
For example, in the voltage detection device described in the patent application filed on May 30, 1987 by the applicant of the present application under the name of “voltage detection device”, an electro-optic material whose refractive index changes depending on the voltage of a measured object is used. Stored in an optical probe with a minute cross-section,
By injecting a light beam having a predetermined polarization component into the electro-optical material of this optical probe and detecting the amount of change in the polarization state of the light beam due to the change in the refractive index of the electro-optical material, It is designed to detect the voltage at one measurement position.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところで、使用者にとって集積回路などの被測定物の
二次元的な各位置における電圧を同時に測定することを
望む場合がある。しかしながら、上述のような電圧検出
装置では、被測定物の二次元的な各位置における電圧を
同時には検出することができないという問題があった。
By the way, there are cases where the user desires to simultaneously measure the voltage at each two-dimensional position of an object to be measured such as an integrated circuit. However, the voltage detection device as described above has a problem that it is not possible to simultaneously detect the voltages at two-dimensional positions of the object to be measured.

本発明は、被測定物の二次元的な各位置における電圧
を同時に検出することの可能な電圧検出装置を提供する
ことを目的とする。
An object of the present invention is to provide a voltage detection device capable of simultaneously detecting voltages at two-dimensional positions of a measured object.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、電圧が加わることによって屈折率が変化す
る電気光学材料を用いた型式の電圧検出装置を改良する
ものである。第1の発明では、前記電気光学材料は、電
圧の検出されるべき被測定物の複数の二次元的位置を覆
うように位置決めされ、被測定物の前記複数の二次元的
位置に対応した前記電気光学材料の各二次元的部分に
は、光源からの光ビームが平行光となって一様に入射
し、前記電気光学材料の前記複数の二次元的部分からの
出射光の偏光状態の変化を検出器により検出するように
なっている。
The present invention is to improve a type of voltage detecting device using an electro-optical material whose refractive index changes when a voltage is applied. In the first invention, the electro-optical material is positioned so as to cover a plurality of two-dimensional positions of an object to be measured whose voltage is to be detected, and the electro-optical material corresponds to the plurality of two-dimensional positions of the object to be measured. A light beam from a light source is made into parallel light and uniformly enters each two-dimensional portion of the electro-optical material, and changes in polarization state of light emitted from the plurality of two-dimensional portions of the electro-optical material. Is detected by a detector.

第2の発明ではさらに、被測定物の配線形状を観測す
るために前記光源(パルス光源)とは異なる波長の光ビ
ームを出力する観測用光源と、該観測用光源からの光ビ
ームと前記パルス光源からの光ビームとを切換えて前記
電気光学材料に入射させる切換手段と、被測定物の配線
形状を観測する際には、前記偏光状態の変化を検出する
際と異なる位相に出射光の位相を調整する位相補償手段
と、前記出射光の偏光状態の変化に基づいて観測される
被測定物の二次元的位置の電圧を前記検出器により観測
された被測定物の配線形状に重畳させて表示する表示手
段と、被測定物の二次元的位置の電圧変化をサンプリン
グ測定するために前記パルス光源からの光ビームの電気
光学材料への入射タイミングをずらす可変遅延手段とを
備えていることを特徴とするものである。
In the second invention, an observation light source that outputs a light beam having a wavelength different from that of the light source (pulse light source) for observing the wiring shape of the DUT, a light beam from the observation light source, and the pulse Switching means for switching the light beam from the light source to be incident on the electro-optical material, and when observing the wiring shape of the DUT, the phase of the emitted light is in a phase different from that when detecting the change in the polarization state. And a phase compensation means for adjusting the voltage of the two-dimensional position of the DUT observed based on the change of the polarization state of the emitted light is superimposed on the wiring shape of the DUT observed by the detector. Display means for displaying, and variable delay means for shifting the incident timing of the light beam from the pulsed light source to the electro-optical material in order to sample and measure the voltage change at the two-dimensional position of the object to be measured. Special It is an.

〔作用〕[Action]

本発明では、電圧の検出されるべき被測定物の複数の
二次元的位置を覆うように電気光学材料を位置決めし、
被測定物の複数の二次元的位置に対応した電気光学材料
の各二次元的部分に光源からの光ビームを一様に入射さ
せる。電気光学材料の各二次元的部分の屈折率は、各二
次元的部分に対応した被測定物の各二次元的位置の電圧
によって変化しているので、電気光学材料の各二次元的
部分に入射した光ビームは各々の偏光状態が電気光学材
料の各二次元的部分の屈折率変化に伴なって変化し電気
光学材料から出射光として出力され検出器、例えば二次
元の光検出器アレイあるいはストリークカメラに入射す
る。これにより、検出器において被測定物の二次元的位
置の電圧を同時に検出することができる。
In the present invention, the electro-optical material is positioned so as to cover a plurality of two-dimensional positions of the measured object whose voltage is to be detected,
A light beam from a light source is made to uniformly enter each two-dimensional portion of the electro-optical material corresponding to a plurality of two-dimensional positions of the measured object. Since the refractive index of each two-dimensional portion of the electro-optical material changes depending on the voltage of each two-dimensional position of the measured object corresponding to each two-dimensional portion, The polarization state of the incident light beam changes in accordance with the change in the refractive index of each two-dimensional portion of the electro-optical material and is output from the electro-optical material as emitted light, so that a detector such as a two-dimensional photodetector array or It is incident on the streak camera. As a result, the detector can simultaneously detect the voltage at the two-dimensional position of the measured object.

さらに第2の発明では、被測定物の配線形状に重畳さ
せて被測定物の二次元的位置の電圧分布を表示するよう
になっている。これには先づ被測定物の配線形状を観測
するために、切換手段によって観測用光源からの光ビー
ムが電気光学材料に入射するよう切換え、位相補償手段
によって出射光の位相を観測用に調整する。このような
切換え、調整がなされると、観測用光源からの光ビーム
は平行光として電気光学材料に入射し、電気光学材料を
透過して被測定物の表面に入射する。なお、電気光学材
料の底面には、観測用光源からの光ビームを透過させる
が、電圧検出用の光源からの光ビームを反射する誘電体
多層膜鏡が設けられているものとする。被測定物の表面
に入射した観測用光源からの光ビームは被測定物の表面
の配線形状により一部が反射されて電気光学材料から出
射光として出力される。電気光学材料から出力された出
射光は、位相補償手段を介して二次元の検出器に加わ
り、検出器において被測定物の配線形状の可視像データ
として検出される。このようにして配線形状の可視像デ
ータを検出した後、被測定物の二次元的位置の電圧を検
出するために、切換手段によりパルス光源からの光ビー
ムが電気光学材料に入射するよう切換え、位相補償手段
によって出射光の位相を電圧検出用に調整する。このと
き被測定物の動作はパルス光と同期している必要があ
る。このような切換え、調整がなされると、第1の発明
と同様にして検出器において1つのサンプリングタイミ
ングにおける被測定物の二次元的位置の電圧が検出され
る。次いで表示手段は、検出器において調整された被測
定物の配線形状の可視像データをディスプレイなどに表
示するとともにこれに重畳させて1つのサンプリングタ
イミングにおける被測定物の電圧分布を表示する。次い
で可変遅延手段によってパルス光源からの光ビームを少
し遅延させて前のサンプリングタイミングとは少しずれ
たタイミングで被測定物の二次元的位置の電圧を検出
し、表示手段により表示する。これにより表示画面上で
は、被測定物の配線形状に重畳させて、被測定物の二次
元的位置の電圧分布の時間的変化を目視によって観察で
きることになる。
Further, in the second invention, the voltage distribution at the two-dimensional position of the measured object is displayed by being superimposed on the wiring shape of the measured object. First, in order to observe the wiring shape of the DUT, the switching means switches the light beam from the observation light source to enter the electro-optic material, and the phase compensation means adjusts the phase of the emitted light for observation. To do. Upon such switching and adjustment, the light beam from the observation light source enters the electro-optical material as parallel light, passes through the electro-optical material, and enters the surface of the object to be measured. It is assumed that the bottom surface of the electro-optical material is provided with a dielectric multilayer mirror that transmits the light beam from the observation light source but reflects the light beam from the voltage detection light source. A part of the light beam from the observation light source that has entered the surface of the object to be measured is reflected by the wiring shape on the surface of the object to be measured and is output from the electro-optic material as emitted light. The emitted light output from the electro-optical material is applied to the two-dimensional detector via the phase compensating means, and is detected by the detector as visible image data of the wiring shape of the measured object. After detecting the visible image data of the wiring shape in this way, in order to detect the voltage at the two-dimensional position of the object to be measured, the switching means switches the light beam from the pulse light source to enter the electro-optical material. The phase of the outgoing light is adjusted by the phase compensating means for voltage detection. At this time, the operation of the DUT needs to be synchronized with the pulsed light. When such switching and adjustment are performed, the voltage at the two-dimensional position of the measured object at one sampling timing is detected by the detector in the same manner as in the first aspect of the invention. Then, the display unit displays the visible image data of the wiring shape of the measured object adjusted by the detector on a display or the like and superimposes it on the display to display the voltage distribution of the measured object at one sampling timing. Then, the light beam from the pulse light source is delayed a little by the variable delay means, and the voltage at the two-dimensional position of the object to be measured is detected at a timing slightly deviated from the previous sampling timing and displayed by the display means. As a result, on the display screen, it is possible to visually observe the temporal change of the voltage distribution at the two-dimensional position of the object to be measured by superimposing it on the wiring shape of the object to be measured.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明に係る電圧検出装置の第1の実施例の
構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a first embodiment of a voltage detecting device according to the present invention.

第1図の電圧検出装置1では、電気光学材料2は、集
積回路などの被測定物3に接近させてあるいは被測定物
3に接触させて固定されている。この電気光学材料2
は、その断面が被測定物3の複数の二次元的位置を覆う
大きさに切出されている。なお電気光学材料2の底面に
は、金属あるいは誘電体多層膜の反射鏡8が形成されて
いる。
In the voltage detecting device 1 shown in FIG. 1, the electro-optical material 2 is fixed by approaching the device under test 3 such as an integrated circuit or by contacting the device 3 under test. This electro-optic material 2
Has a cross section cut into a size that covers a plurality of two-dimensional positions of the DUT 3. A reflecting mirror 8 made of a metal or a dielectric multilayer film is formed on the bottom surface of the electro-optical material 2.

また電圧検出装置1は、非常に短かいパルス幅の光ビ
ームを出力するパルス光源4と、パルス光源4からの光
ビームを可変的に遅延させる可変遅延手段5と、可変遅
延手段5によって遅延された光ビームを二次元的な広が
りに拡大し平行光とする拡大光学系6と、拡大光学系6
により平行光とされた光ビームから所定の偏光成分を抽
出する偏光子7と、偏光子7により抽出された所定の偏
光成分をもつ平行光すなわち光ビームを電気光学材料2
に入射させるとともに、電気光学材料2の底面に形成さ
れた反射鏡8で反射され電気光学材料2から出力される
出射光を電圧検出のために分割して結像光学系9に向か
わせるビームスプリッタ10と、結像光学系9からの出射
光の位相を調節する位相補償器11と、位相補償器11によ
り位相の調節された出射光のうち所定の偏光成分の光ビ
ームだけを通過させる検光子12と、検光子12を通過した
出射光が入射する検出器13とを備えている。
Further, the voltage detection device 1 includes a pulse light source 4 that outputs a light beam having a very short pulse width, a variable delay unit 5 that variably delays the light beam from the pulse light source 4, and a variable delay unit 5 that delays the light beam. And a magnifying optical system 6 that magnifies the expanded light beam into a two-dimensional spread into parallel light.
The polarizer 7 that extracts a predetermined polarization component from the light beam that has been made into parallel light by the parallel light, and the parallel light having the predetermined polarization component that is extracted by the polarizer 7, that is, the light beam, is electro-optical material 2.
A beam splitter that makes the light emitted from the electro-optic material 2 reflected by a reflecting mirror 8 formed on the bottom surface of the electro-optic material 2 and directed toward the imaging optical system 9 while being incident on the imaging optical system 2. 10, a phase compensator 11 that adjusts the phase of light emitted from the imaging optical system 9, and an analyzer that passes only a light beam of a predetermined polarization component of the light emitted from the light whose phase is adjusted by the phase compensator 11. 12 and a detector 13 on which the emitted light that has passed through the analyzer 12 is incident.

電気光学材料2に入射する平行光は、拡大光学系6に
より二次元的な広がりをもっており、所定の広がりをも
って電気光学材料2に一様に入射するようになってい
る。また電気光学材料2に一様に入射した平行光は、電
気光学材料2の断面が被測定物3の複数の二次元的位置
を覆う大きさに切出されているので、被測定物3の複数
の二次元的位置の電圧による電気光学材料2のこれら二
次元的位置に対応した二次元的部分の屈折率変化によっ
て偏光状態が変化し、電気光学材料2から出射光として
出力されるようになっている。すなわち電気光学材料2
から出力される出射光は、平行光と同じ広がりをもって
おり、その各部分の偏光状態の変化が被測定物3の各二
次元的位置の電圧を反映している。
The collimated light incident on the electro-optical material 2 has a two-dimensional spread by the magnifying optical system 6, and is uniformly incident on the electro-optic material 2 with a predetermined spread. Further, the parallel light that is uniformly incident on the electro-optical material 2 is cut out in a size that the cross section of the electro-optical material 2 covers a plurality of two-dimensional positions of the DUT 3, so that the The polarization state is changed by the change in the refractive index of the two-dimensional portion of the electro-optical material 2 corresponding to these two-dimensional positions due to the voltage at the plurality of two-dimensional positions, so that the electro-optical material 2 is output as emitted light. Has become. That is, the electro-optical material 2
The emitted light output from the light source has the same spread as the parallel light, and the change in the polarization state of each part reflects the voltage at each two-dimensional position of the DUT 3.

位相補償器11は、出射光の位相を調節し、検光子12に
よって抽出される出射光の偏光成分を偏光子7によって
抽出される平行光の偏光成分と所定の角度に設定するも
のであり、検光子12によって抽出される出射光の偏光成
分を偏光子7によって抽出される平行光の偏光成分と同
じにしたりあるいは直交させたりすることができる。
The phase compensator 11 adjusts the phase of the emitted light and sets the polarization component of the emitted light extracted by the analyzer 12 to a predetermined angle with the polarization component of the parallel light extracted by the polarizer 7, The polarization component of the emitted light extracted by the analyzer 12 can be the same as or orthogonal to the polarization component of the parallel light extracted by the polarizer 7.

検出器13は、CCDカメラ、フォトダイオードアレイ、
ビジコンカメラなどの二次元検出器であって、検光子12
の出射光強度を検出して電気光学材料2の屈折率変化か
ら被測定物3の二次元的位置の電圧を同時に検出するよ
うになっている。
The detector 13 is a CCD camera, a photodiode array,
A two-dimensional detector such as a vidicon camera,
Is detected and the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 is simultaneously detected from the change in the refractive index of the electro-optical material 2.

パルス光源4と二次元の検出器13とを組合せて用いる
場合には、被測定物3の各二次元的位置の電圧は光パル
スに同期して周期的に変化するものでなければならな
い。すなわちパルス光源4からの光ビームをビームスプ
リッタ17で2つに分割し、一方をサンプリング測定のた
めに可変遅延手段5に入射させ、他方を検出器18に入射
して光電変換する。光電変換された信号はトリガ回路19
を介して駆動回路29に達して被測定物3を光パルスに同
期して周期的に動作させる。このように繰返して変化す
る電圧をサンプリングを行なうことにより検出する。こ
のサンプリングは、パルス光源4からの光ビームを可変
遅延手段5によって徐々に遅延させることによってなさ
れ、このような可変遅延手段5の制御は、コンピュータ
14によってなされる。すなわち、検出器13によって被測
定物3の各二次元的位置の電圧をあるタイミングで検出
した後、コンピュータ14はこのときの各二次元的位置の
電圧をデータ処理し、メモリ(図示せず)に記憶すると
ともに駆動回路15を制御し、駆動回路15により可変遅延
手段5を駆動して、パルス光源4からの光ビームを遅延
させて、サンプリングのタイミングを少しずらすように
なっている。これにより、被測定物3の各二次元的位置
の電圧の時間的変化を検出することができる。
When the pulse light source 4 and the two-dimensional detector 13 are used in combination, the voltage at each two-dimensional position of the DUT 3 must change periodically in synchronization with the light pulse. That is, the light beam from the pulse light source 4 is divided into two by the beam splitter 17, one of which is made incident on the variable delay means 5 for sampling measurement, and the other is made incident on the detector 18 and photoelectrically converted. The photoelectrically converted signal is the trigger circuit 19
A drive circuit 29 is reached via the switch to periodically operate the DUT 3 in synchronization with the optical pulse. The voltage that repeatedly changes in this manner is detected by sampling. This sampling is performed by gradually delaying the light beam from the pulse light source 4 by the variable delay means 5, and such control of the variable delay means 5 is performed by a computer.
Made by 14. That is, after detecting the voltage of each two-dimensional position of the DUT 3 by the detector 13 at a certain timing, the computer 14 processes the voltage of each two-dimensional position at this time and stores it in a memory (not shown). The driving circuit 15 is controlled and the variable delay means 5 is driven by the driving circuit 15 to delay the light beam from the pulse light source 4 to slightly shift the sampling timing. As a result, it is possible to detect a temporal change in the voltage at each two-dimensional position of the DUT 3.

このような構成の電圧検出装置1では、先づ位相補償
器11を調整して、検光子12によって抽出される出射光の
偏光成分を偏光子7によって抽出される平行光の偏光成
分と直交させる。これにより、電気光学材料2からの出
射光の偏光状態が電気光学材料2に入射する平行光と同
じであるとき(電気光学材料2に電圧が加わっていない
とき)、出射光が検光子12を通過しないようにする。こ
のように位相補償器11を設定した後、被測定物3の二次
元的位置の電圧測定を開始する。
In the voltage detection device 1 having such a configuration, the phase compensator 11 is first adjusted so that the polarization component of the outgoing light extracted by the analyzer 12 is orthogonal to the polarization component of the parallel light extracted by the polarizer 7. . Thus, when the polarization state of the emitted light from the electro-optical material 2 is the same as the parallel light incident on the electro-optical material 2 (when no voltage is applied to the electro-optical material 2), the emitted light causes the analyzer 12 to pass through. Do not pass. After setting the phase compensator 11 in this way, the voltage measurement at the two-dimensional position of the DUT 3 is started.

電気光学材料2は、その断面が被測定物3の各二次元
的位置を覆う大きさに切出されているので、被測定物3
の各二次元的位置の電圧により、これらの二次元的位置
に対応した電気光学材料2の局所的部分の屈折率が変化
する。従って電気光学材料2に一様に入射した平行光
は、被測定物3の各二次元的位置に対応した電気光学材
料2の二次元的部分の屈折率変化によって偏光状態が変
化し、電気光学材料2から出射光として出力される。こ
れらの出射光はさらに、ビームスプリッタ10,結像光学
系9を介して位相補償手段11に加わり、位相補償器11で
位相が調整されて検光子12に入射する。位相補償器11
は、検光子12が偏光子7の偏光成分と直交する偏光成分
の光ビームだけを通過させるよう調整されているので、
検光子12に入射した各出射光の強度は、検光子12により
sin2〔(π/2)・Vij/V0〕に比例したものとなり検出器
13に加わることになる。ここでVijは被測定物3の各二
次元的位置(i,j)の電圧、V0は半波長電圧である。
The cross section of the electro-optical material 2 is cut to a size that covers each two-dimensional position of the DUT 3, so that the DUT 3 is
The voltage at each of the two-dimensional positions changes the refractive index of the local portion of the electro-optical material 2 corresponding to these two-dimensional positions. Therefore, the parallel light uniformly incident on the electro-optical material 2 changes its polarization state due to the change in the refractive index of the two-dimensional portion of the electro-optical material 2 corresponding to each two-dimensional position of the DUT 3, and the electro-optical material is changed. The material 2 outputs the emitted light. These emitted lights are further applied to the phase compensating means 11 via the beam splitter 10 and the imaging optical system 9, and the phases are adjusted by the phase compensator 11 to be incident on the analyzer 12. Phase compensator 11
Is adjusted so that the analyzer 12 passes only the light beam of the polarization component orthogonal to the polarization component of the polarizer 7,
The intensity of each outgoing light incident on the analyzer 12 is determined by the analyzer 12.
It becomes proportional to sin 2 [(π / 2) ・ V ij / V 0 ]
Will be joining 13. Here, V ij is the voltage at each two-dimensional position (i, j) of the DUT 3, and V 0 is the half-wave voltage.

このように各出射光は、被測定物3の各二次元的位置
の電圧変化に伴なう電気光学材料2の局所的部分の屈折
率変化によって変わるので、これに基づき検出器13にお
いて集積回路などの被測定物の二次元的位置の電圧を同
時に検出することができる。
In this way, each emitted light changes due to the change in the refractive index of the local portion of the electro-optical material 2 accompanying the change in the voltage at each two-dimensional position of the DUT 3, and accordingly, the integrated circuit in the detector 13 is based on this. It is possible to simultaneously detect the voltage at the two-dimensional position of the measured object such as.

検出器13においてあるタイミングでの被測定物3の二
次元的位置の電圧を検出したときにその結果はコンピュ
ータ14のメモリに記憶され、さらに次のタイミングでの
電圧を検出するため、コンピュータ14は駆動回路15を制
御して可変遅延手段5を駆動し、パルス光源4からの光
ビームを所定量遅延させサンプリングのタイミングを少
しずらして、同様の電圧検出処理を繰返す。このように
して、被測定物3の二次元的位置の電圧を時間的変化を
サンプリング測定する。サンプリング測定された結果
は、コンピュータ14のメモリに記憶されているので、所
定時間内のサンプリング測定が終了した時点でコンピュ
ータ14はディスプレイ16にこれらの電圧検出結果を表示
し、全ての処理を終了する。
When the detector 13 detects the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 at a certain timing, the result is stored in the memory of the computer 14, and the computer 14 further detects the voltage at the next timing. The drive circuit 15 is controlled to drive the variable delay means 5, the light beam from the pulse light source 4 is delayed by a predetermined amount, the sampling timing is slightly shifted, and similar voltage detection processing is repeated. In this way, the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 is measured by sampling the change over time. Since the results of the sampling measurement are stored in the memory of the computer 14, the computer 14 displays these voltage detection results on the display 16 at the time when the sampling measurement within a predetermined time is finished, and the whole process is finished. .

第1図の電圧検出装置1では、パルス光源4と、CCD
カメラ、フォトダイオードアレイ、ビジコンカメラなど
の二次元の検出器13とを組合せて被測定物3の二次元的
位置の周期的に繰返して変化する電圧をサンプリングを
行なうことにより検出したが、被測定物の二次元的位置
の電圧変化が周期的なものでない場合には、第1図の電
圧検出装置1を用いることはできない。
In the voltage detection device 1 of FIG. 1, the pulse light source 4 and the CCD
In combination with a two-dimensional detector 13 such as a camera, a photodiode array, or a vidicon camera, the voltage which cyclically and repeatedly changes at the two-dimensional position of the DUT 3 is detected by sampling. If the voltage change at the two-dimensional position of the object is not periodic, the voltage detection device 1 of FIG. 1 cannot be used.

第2図は被測定物の二次元的位置の電圧をストリーク
カメラを用いて検出する電圧検出装置の部分概略構成図
である。
FIG. 2 is a partial schematic configuration diagram of a voltage detection device for detecting a voltage at a two-dimensional position of an object to be measured using a streak camera.

第2図の電圧検出装置20では、第1図の二次元の検出
器13のかわりに、位相補償器11,検光子12を通過した出
射光を案内する光ファイバの束21と、光ファイバの束21
によって案内された出射光が入射するストリークカメラ
22とが設けられている。またこのときに光源としてはパ
ルス光源4を用いても良いし、直流光源を用いても良
い。
In the voltage detection device 20 of FIG. 2, instead of the two-dimensional detector 13 of FIG. 1, a phase compensator 11, a bundle of optical fibers 21 for guiding the emitted light that has passed through the analyzer 12, and an optical fiber bundle 21 Bunch 21
Streak camera into which outgoing light guided by
22 and are provided. At this time, the pulse light source 4 or the DC light source may be used as the light source.

第2図からもわかるように光ファイバの束は、出射光
の二次元的配列を一次元的配列に変換してストリークカ
メラ22のスリット23に入射させるようになっている。
As can be seen from FIG. 2, the bundle of optical fibers converts the two-dimensional array of emitted light into a one-dimensional array and makes it enter the slit 23 of the streak camera 22.

このような構成の電圧検出装置20では、第1図の電圧
検出装置1と同様にして位相補償器11を調節した後、電
気光学材料2にパルス光源4あるいは直流光源から平行
光を入射させ、電気光学材料2から出力され位相補償器
11,検光子12を通過した出射光を二次元的配列の光ファ
イバの束21に入射させる。光ファイバの束21は、ストリ
ークカメラ22のスリット23のところで一次元的配列にな
っているので、被測定物3の二次元的位置の電圧情報
は、一次元情報に変換されてストリークカメラ22に入射
し、ストリークカメラ22において高時間分解能で検出さ
れる。なお、ストリークカメラを用いる場合には、可変
遅延手段5は必要なく、被測定物3の電圧変化は単発現
象であっても計測できる。
In the voltage detection device 20 having such a configuration, the phase compensator 11 is adjusted in the same manner as the voltage detection device 1 of FIG. 1, and then collimated light is made incident on the electro-optical material 2 from the pulse light source 4 or the DC light source. Phase compensator output from electro-optic material 2
11, the emitted light that has passed through the analyzer 12 is made incident on the bundle 21 of optical fibers in a two-dimensional array. Since the bundle 21 of optical fibers is one-dimensionally arranged at the slit 23 of the streak camera 22, the voltage information of the two-dimensional position of the DUT 3 is converted into one-dimensional information and is transmitted to the streak camera 22. The light enters and is detected by the streak camera 22 with high time resolution. When the streak camera is used, the variable delay means 5 is not necessary, and the voltage change of the DUT 3 can be measured even if it is a single-shot phenomenon.

上述の実施例では、被測定物3の二次元的位置の電圧
だけを検出し、ディスプレイ16に表示するようにしてい
るが、使用者にとってはさらに集積回路などの被測定物
3の配線形状を同時に観測し、観測された配線形状に重
畳させて各二次元的位置の電圧を表示することを望む場
合がある。
In the above-described embodiment, only the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 is detected and displayed on the display 16. However, for the user, the wiring shape of the DUT 3 such as an integrated circuit can be further determined. It may be desired to observe at the same time and superimpose on the observed wiring shape to display the voltage at each two-dimensional position.

第3図は、被測定物の配線形状に重畳させて二次元的
位置の電圧を表示しうるようにした電圧検出装置の構成
図である。なお第3図において第1図と同様の箇所には
同じ符号を付して説明を省略する。
FIG. 3 is a configuration diagram of a voltage detection device that can display a voltage at a two-dimensional position by superimposing it on the wiring shape of the object to be measured. In FIG. 3, the same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

第3図の電圧検出装置30において、被測定物3の配線
形状を観測するためにパルス光あるいは直流光を出力す
る観測用光源31がパルス光源4とは別に設けられてい
る。観測用光源31から出力される光ビームの波長は、パ
ルス光源4から出力される光ビームの波長と異なってお
り、パルス光源4からの光ビームは電気光学材料2の底
面に形成された誘電体多層膜鏡32によって反射される
が、光源31からの光ビームは誘電体多層膜鏡を透過して
被測定物3の表面に入射するようになっている。
In the voltage detection device 30 of FIG. 3, an observation light source 31 that outputs pulsed light or DC light for observing the wiring shape of the DUT 3 is provided separately from the pulsed light source 4. The wavelength of the light beam output from the observation light source 31 is different from the wavelength of the light beam output from the pulse light source 4, and the light beam from the pulse light source 4 is a dielectric formed on the bottom surface of the electro-optical material 2. Although reflected by the multilayer mirror 32, the light beam from the light source 31 is transmitted through the dielectric multilayer mirror and is incident on the surface of the DUT 3.

観測用光源31からの光ビームとパルス光源4からの光
ビームとは、コンピュータ14の制御の下で切換手段33に
よって切換えられるようになっており、切換手段33は、
被測定物3の配線形状を観測する際には、観測用光源31
からの光ビームを選択して電気光学材料2を介して被測
定物3に入射させる一方、被測定物3の二次元的位置の
電圧を検出する際には、パルス光源4からの光ビームを
選択して電気光学材料2に入射させるようになってい
る。
The light beam from the observation light source 31 and the light beam from the pulse light source 4 are switched by the switching means 33 under the control of the computer 14, and the switching means 33 is
When observing the wiring shape of the DUT 3, the observation light source 31
The light beam from the pulse light source 4 is selected when the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 is detected while the light beam from the B is selected to be incident on the DUT 3 through the electro-optic material 2. It is adapted to be selected and made incident on the electro-optical material 2.

また位相補償器11は、コンピュータ14によって調整さ
れるようになっており、被測定物3の配線形状を観測す
るときには、検光子12が偏光子7の偏光成分と同じ偏光
成分の出射光を通過させるように調整され、被測定物3
の二次元的位置の電圧を検出する際には、検光子12が偏
光子7の偏光成分と直交した偏光成分の出射光を通過さ
せるように調整されるようになっている。
The phase compensator 11 is adapted to be adjusted by the computer 14, and when observing the wiring shape of the DUT 3, the analyzer 12 passes the emitted light of the same polarization component as the polarization component of the polarizer 7. 3 to be measured.
When the voltage at the two-dimensional position is detected, the analyzer 12 is adjusted so as to pass the emitted light of the polarization component orthogonal to the polarization component of the polarizer 7.

このような構成の電圧検出装置30では、先づ被測定物
3の配線形状を観測するためにコンピュータ14は、切換
手段33を制御して観測用光源31からの光ビームを被測定
物3の表面に平行光として入射させるとともに、検光子
12が偏光子7の偏光成分と同じ偏光成分の出射光を通過
させるよう位相補償器11を調整する。
In the voltage detection device 30 having such a configuration, the computer 14 controls the switching means 33 in order to observe the wiring shape of the DUT 3 in advance so that the light beam from the observation light source 31 is emitted to the DUT 3. The light is incident on the surface as parallel light and the analyzer
The phase compensator 11 is adjusted so that 12 passes the emitted light of the same polarization component as the polarization component of the polarizer 7.

これにより観測用光源31からの光ビームは、可変遅延
手段5,拡大光学系6,偏光子7,ビームスプリッタ10を介し
て電気光学材料2に平行光として入射し、さらに誘電体
多層膜鏡32を透過して被測定物3の表面に入射する。被
測定物3の表面に入射した平行光は被測定物3の表面の
配線形状、材質により一部が反射されて誘電体多層膜鏡
32,電気光学材料2を戻り、ビームスプリッタ10,結像光
学系9,位相補償器11を介して出射光として検光子12に入
射する。ところで位相補償器11は、検光子12が偏光子7
の偏光成分と同じ偏光成分の出射光を通過させるように
調整されているので、検光子12に入射した出射光はその
まま検光子12を通過してCCDカメラなどの二次元の検出
器13に加わる。検出器13に加わった出射光は、被測定物
3の配線形状の可視像情報を有しているので、検出器13
では、これを光電変換し、配線形状の可視像データを得
ることができる。この可視像データは、コンピュータ14
に送られコンピュータ14のメモリ(図示せず)に記憶さ
れる。
As a result, the light beam from the observation light source 31 enters the electro-optical material 2 as parallel light through the variable delay means 5, the expanding optical system 6, the polarizer 7 and the beam splitter 10, and further the dielectric multilayer film mirror 32. And is incident on the surface of the DUT 3. The parallel light incident on the surface of the DUT 3 is partially reflected by the wiring shape and material of the surface of the DUT 3, and the dielectric multilayer mirror
32, the electro-optic material 2 is returned, and is incident on the analyzer 12 as outgoing light through the beam splitter 10, the imaging optical system 9, and the phase compensator 11. By the way, in the phase compensator 11, the analyzer 12 has the polarizer 7
Since it is adjusted so as to pass the emitted light of the same polarized component as the polarized component of, the emitted light incident on the analyzer 12 passes through the analyzer 12 as it is and is added to the two-dimensional detector 13 such as a CCD camera. . The emitted light applied to the detector 13 has visible image information of the wiring shape of the DUT 3, so that the detector 13
Then, this can be photoelectrically converted to obtain visible image data of the wiring shape. This visible image data is stored in the computer 14
And is stored in the memory (not shown) of the computer 14.

このようにして被測定物3の配線形状の可視像データ
を得た後、コンピュータ14は、可変遅延手段5を初期設
定し、切換手段33を制御してパルス光源4からの光ビー
ムが電気光学材料2に平行光として入射するようにし、
さらに、検光子12が偏光子7の偏光成分と直交する偏光
成分の出射光を通過させるように位相補償器11を調整し
て、被測定物3の二次元的位置の電圧を同時に検出す
る。この際、パルス光源4からの光ビームは電気光学材
料2に平行光として入射した後、誘電体多層膜鏡32によ
り反射され、電気光学材料2の屈折率変化に伴なって偏
光状態が変化し出射光として位相補償器11,検光子12に
入射する。検光子12では、所定の偏光成分の出射光だけ
を通過させて二次元の検出器13に入射させる。検出器13
では、可変遅延手段5で設定されたタイミングにおける
被測定物3の二次元的位置の電圧をサンプリングして同
時に検出する。1つのタイミングでの電圧検出結果はコ
ンピュータ14に送られメモリに記憶される。しかる後
に、以前にメモリに記憶された被測定物3の配線形状の
可視像データに重畳させて1つのタイミングでサンプリ
ングされた被測定物3の二次元的位置の電圧検出結果を
ディスプレイ16に表示する。
After obtaining the visible image data of the wiring shape of the DUT 3 in this manner, the computer 14 initializes the variable delay means 5 and controls the switching means 33 so that the light beam from the pulse light source 4 is electrically turned on. The parallel light is made incident on the optical material 2,
Further, the phase compensator 11 is adjusted so that the analyzer 12 allows the outgoing light of the polarization component orthogonal to the polarization component of the polarizer 7 to pass, and the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 is simultaneously detected. At this time, the light beam from the pulse light source 4 is incident on the electro-optical material 2 as parallel light, and then is reflected by the dielectric multilayer film mirror 32, and the polarization state changes as the refractive index of the electro-optical material 2 changes. The emitted light enters the phase compensator 11 and the analyzer 12. The analyzer 12 passes only the emitted light of a predetermined polarization component and makes it incident on the two-dimensional detector 13. Detector 13
Then, the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 at the timing set by the variable delay means 5 is sampled and simultaneously detected. The voltage detection result at one timing is sent to the computer 14 and stored in the memory. Thereafter, the voltage detection result of the two-dimensional position of the DUT 3 sampled at one timing by superimposing it on the visible image data of the wiring shape of the DUT 3 previously stored in the memory is displayed on the display 16. indicate.

第4図(a)は被測定物3の配線形状に重畳されてデ
ィスプレイ16に表示された1つのサンプリングタイミン
グでの被測定物3の二次元的位置の電圧検出結果を示す
ものである。第4図(a)では、被測定物3の配線形状
WFに重畳して二次元的位置の電圧分布G1,G2,G3が表示さ
れている。
FIG. 4A shows the voltage detection result of the two-dimensional position of the DUT 3 at one sampling timing displayed on the display 16 so as to be superimposed on the wiring shape of the DUT 3. In FIG. 4A, the wiring shape of the DUT 3
The voltage distributions G1, G2, and G3 at two-dimensional positions are displayed so as to be superimposed on WF.

このように1つのサンプリングタイミングでの電圧検
出結果を配線形状に重畳させて表示した後、コンピュー
タ14は、駆動回路15を制御して、可変遅延手段5を駆動
し、パルス光源4からの光ビームの遅延を変化させて、
サンプリングタイミングを少しずらし、同様の電圧検出
処理を行ない、ディスプレイ16に同様の表示を行なう。
After the voltage detection result at one sampling timing is superimposed and displayed on the wiring shape in this way, the computer 14 controls the drive circuit 15 to drive the variable delay means 5 to output the light beam from the pulse light source 4. By changing the delay of
The sampling timing is slightly shifted, the same voltage detection processing is performed, and the same display is performed on the display 16.

第4図(b)はサンプリングタイミングを少しずらせ
て検出された被測定物3の二次元的位置の電圧を被測定
物3の配線形状に重畳させて表示した状態を示してい
る。第4図(b)において電圧分布G1′,G2′,G3′は、
被測定物3の配線形状WF上で第4図(a)の電圧分布G
1,G2,G3が時間変化したものである。
FIG. 4B shows a state in which the voltage at the two-dimensional position of the DUT 3 detected by slightly shifting the sampling timing is superimposed and displayed on the wiring shape of the DUT 3. In FIG. 4 (b), the voltage distributions G1 ', G2', G3 'are
Voltage distribution G in Fig. 4 (a) on the wiring shape WF of DUT 3.
1, G2, G3 are time-varying.

第4図(a),(b)からわかるように、第3図の電
圧検出装置30では、ディスプレイ16上で被測定物3の配
線形状WF上での電圧分布の時間変化を目視により容易に
把持することができて、電圧検出結果を容易に理解する
ことが可能となる。
As can be seen from FIGS. 4 (a) and 4 (b), in the voltage detection device 30 of FIG. 3, it is easy to visually check the time variation of the voltage distribution on the wiring shape WF of the DUT 3 on the display 16. It can be grasped and the voltage detection result can be easily understood.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上に説明したように、第1の発明では、被測定物の
複数の二次元的位置に対応した電気光学材料の各二次元
的部分には光源からの光ビームが平行光となって一様に
入射し、電気光学材料の各二次元的部分からの出射光の
偏光状態の変化を検出器により検出するようにしている
ので、被測定物の二次元的位置における電圧を同時に検
出することができる。
As described above, in the first aspect of the invention, the light beam from the light source becomes uniform light in each two-dimensional portion of the electro-optical material corresponding to the plurality of two-dimensional positions of the measured object. Since the detector detects changes in the polarization state of the light emitted from each two-dimensional portion of the electro-optical material, it is possible to detect the voltage at the two-dimensional position of the DUT at the same time. it can.

さらに第2の発明では、被測定物の配線形状に重畳さ
せて被測定物の二次元的位置の電圧分布を表示するよう
にしているので、二次元位置の電圧検出結果を容易に理
解することができる。
Further, in the second invention, since the voltage distribution of the two-dimensional position of the measured object is displayed by being superimposed on the wiring shape of the measured object, it is possible to easily understand the voltage detection result of the two-dimensional position. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はパルス光源と二次元の検出器とを用いた本発明
の電圧検出装置の構成図、第2図はストリークカメラを
用いた本発明の電圧検出装置の部分構成図、第3図は被
測定物の配線形状に重畳させて電圧分布を表示しうる電
圧検出装置の構成図、第4図(a),(b)はそれぞれ
第3図の電圧検出装置において表示される異なるサンプ
リングタイミングでの表示例を示す図である。 1,20,30……電圧検出装置、 2……電気光学材料、3……被測定物、 4……パルス光源、5……可変遅延手段、 6……拡大光学系、7……偏光子、11……位相補償器、 12……検光子、13……検出器、 14……コンピュータ、16……ディスプレイ、 21……光ファイバの束、22……ストリークカメラ、 31……観測用光源、32……誘電体多層膜鏡、 33……切換手段
FIG. 1 is a configuration diagram of a voltage detection device of the present invention using a pulse light source and a two-dimensional detector, FIG. 2 is a partial configuration diagram of the voltage detection device of the present invention using a streak camera, and FIG. The configuration diagram of the voltage detection device capable of displaying the voltage distribution by superimposing it on the wiring shape of the DUT, FIGS. 4A and 4B show different sampling timings displayed in the voltage detection device of FIG. 3, respectively. It is a figure which shows the example of a display of. 1,20,30 ... Voltage detector, 2 ... electro-optical material, 3 ... measurement object, 4 ... pulse light source, 5 ... variable delay means, 6 ... magnifying optical system, 7 ... polarizer , 11 …… phase compensator, 12 …… analyzer, 13 …… detector, 14 …… computer, 16 …… display, 21 …… bundle of optical fibers, 22 …… streak camera, 31 …… observation light source , 32 ... Dielectric multilayer mirror, 33 ... Switching means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 C 7735−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/66 C 7735-4M

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電圧が加わることによって屈折率が変化す
る電気光学材料を用いた型式の電圧検出装置において、
前記電気光学材料は、該電気光学材料単体で、電圧の検
出されるべき被測定物の複数の二次元的位置を覆うよう
な大きさのものであって、電圧の検出されるべき被測定
物の複数の二次元的位置を覆うように位置決めされ、被
測定物の前記複数の二次元的位置に対応した前記電気光
学材料の各二次元的部分には、光源からの二次元的拡が
りをもつ光ビームが入射し、前記電気光学材料の前記複
数の二次元的部分からの出射光の偏光状態の変化を検出
器により検出するようになっていることを特徴とする電
圧検出装置。
1. A voltage detecting device of a type using an electro-optical material, the refractive index of which changes when a voltage is applied,
The electro-optical material is a single electro-optical material and has a size such that it covers a plurality of two-dimensional positions of the measured object whose voltage is to be detected, and the measured object whose voltage is to be detected. Each of the two-dimensional portions of the electro-optical material corresponding to the plurality of two-dimensional positions of the object to be measured have a two-dimensional spread from the light source. A voltage detection device, wherein a light beam is incident and a change in polarization state of light emitted from the plurality of two-dimensional portions of the electro-optical material is detected by a detector.
【請求項2】前記光源は、短かいパルス幅の光ビームを
出力するパルス光源であり、前記検出器は二次元の光電
変換検出器であって、前記二次元の光電変換検出器は、
被測定物の二次元的位置の電圧変化をサンプリング測定
するようになっていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の電圧検出装置。
2. The light source is a pulsed light source that outputs a light beam having a short pulse width, the detector is a two-dimensional photoelectric conversion detector, and the two-dimensional photoelectric conversion detector is
The voltage detecting apparatus according to claim 1, wherein the voltage change at a two-dimensional position of the object to be measured is sampled and measured.
【請求項3】前記光源は、直流光源またはパルス光源で
あり、前記検出器は高速応答検出器であって、前記出射
光は、二次元的配列を一次元的配列に変換する光ファイ
バの束によって前記高速応答検出器に案内されるように
なっていることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
載の電圧検出装置。
3. The light source is a DC light source or a pulsed light source, the detector is a fast response detector, and the emitted light is a bundle of optical fibers for converting a two-dimensional array into a one-dimensional array. The voltage detection device according to claim 1, wherein the voltage detection device is guided to the high-speed response detector.
【請求項4】前記高速応答検出器は、ストリークカメラ
であることを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の
電圧検出装置。
4. The voltage detection device according to claim 3, wherein the fast response detector is a streak camera.
【請求項5】前記電気光学材料の底面には、金属または
誘電体多層膜の反射鏡が形成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項に記載の電圧検出装置。
5. The voltage detecting device according to claim 1, wherein a reflecting mirror made of a metal or dielectric multilayer film is formed on the bottom surface of the electro-optical material.
【請求項6】電圧が加わることによって屈折率が変化す
る電気光学材料を用いた型式の電圧検出装置において、
前記電気光学材料は、電圧の検出されるべき被測定物の
複数の二次元的位置を覆うように位置決めされ、被測定
物の前記複数の二次元的位置に対応した前記電気光学材
料の各二次元的部分には、パルス光源からの短かいパル
ス幅の光ビームが並列的に入射し、前記電気光学材料の
前記複数の二次元的部分から出射光の偏光状態の変化を
検出器により検出するようになっており、さらに被測定
物の配線形状を観測するために前記パルス光源とは異な
る波長の光ビームを出力する観測用光源と、該観測用光
源からの光ビームと前記パルス光源からの光ビームを切
換えて前記電気光学材料に入射させる切換手段と、被測
定物の配線形状を観測する際には、前記偏光状態の変化
を検出する際と異なる位相に出射光の位相を調整する位
相補償手段と、前記出射光の偏光状態の変化に基づいて
測定される被測定物の二次元的位置の電圧を前記検出器
により観測された被測定物の配線形状に重畳させて表示
する表示手段とを備えていることを特徴とする電圧検出
装置。
6. A voltage detecting device of a type using an electro-optical material, the refractive index of which changes when a voltage is applied,
The electro-optical material is positioned so as to cover a plurality of two-dimensional positions of the measured object whose voltage is to be detected, and each of the two electro-optical materials corresponding to the plurality of two-dimensional positions of the measured object. A short pulse width light beam from a pulse light source is incident on the two-dimensional portion in parallel, and a change in the polarization state of the emitted light from the plurality of two-dimensional portions of the electro-optical material is detected by a detector. The observation light source that outputs a light beam having a wavelength different from that of the pulse light source for observing the wiring shape of the DUT, and the light beam from the observation light source and the pulse light source. Switching means for switching the light beam to be incident on the electro-optical material, and a phase for adjusting the phase of the emitted light at a phase different from that at the time of detecting the change in the polarization state when observing the wiring shape of the DUT. Compensation means and before Display means for displaying the voltage of the two-dimensional position of the measured object measured based on the change of the polarization state of the emitted light by superimposing it on the wiring shape of the measured object observed by the detector. A voltage detection device characterized by the above.
【請求項7】前記電気光学材料の底面には、誘電体多層
膜鏡が形成され、該誘電体多層膜鏡は、前記観測用光源
からの光ビームを透過する一方、前記パルス光源からの
光ビームを反射するようになっていることを特徴とする
特許請求の範囲第6項に記載の電圧検出装置。
7. A dielectric multi-layered film mirror is formed on the bottom surface of the electro-optical material, and the dielectric multi-layered film mirror transmits the light beam from the observation light source while transmitting light from the pulse light source. The voltage detection device according to claim 6, wherein the voltage detection device is configured to reflect a beam.
【請求項8】前記位相補償手段は、被測定物の配線形状
を観測する際には、前記電気光学材料からの出射光がそ
のままの状態で前記検出器に加わるよう前記出射光の位
相を調整する一方、被測定物の二次元的位置の電圧を検
出する際には、前記電気光学材料からの出射光から偏光
状態の変化分だけを抽出して前記検出器に加えるように
前記出射光の位相を調整するようになっていることを特
徴とする特許請求の範囲第6項に記載の電圧検出装置。
8. The phase compensating means adjusts the phase of the emitted light so that the emitted light from the electro-optical material is applied to the detector as it is when observing the wiring shape of an object to be measured. On the other hand, when detecting the voltage at the two-dimensional position of the DUT, only the change in the polarization state is extracted from the emitted light from the electro-optical material and the emitted light is added to the detector. 7. The voltage detecting device according to claim 6, wherein the voltage is adjusted.
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JP3462272B2 (en) * 1994-09-07 2003-11-05 浜松ホトニクス株式会社 Array electrode substrate inspection equipment
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