JPH08304604A - Production of laminated body - Google Patents

Production of laminated body

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JPH08304604A
JPH08304604A JP7114653A JP11465395A JPH08304604A JP H08304604 A JPH08304604 A JP H08304604A JP 7114653 A JP7114653 A JP 7114653A JP 11465395 A JP11465395 A JP 11465395A JP H08304604 A JPH08304604 A JP H08304604A
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JP
Japan
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refractive index
index layer
composition
group
high refractive
Prior art date
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Application number
JP7114653A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Asuka
政宏 飛鳥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH08304604A publication Critical patent/JPH08304604A/en
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Abstract

PURPOSE: To easily produce a laminated body comprising a coating film having a high antireflection effect and antistatic effect formed on a base body by applying a compsn. for an antistatic coating film having a specified compsn. to form a layer as a high refractive index layer. CONSTITUTION: The high refractive index layer consists of an aminoalkyl alkoxy silane compd. (A) expressed by formula I, an expoxyalkyl alkoxy silane compd. (B) expressed by formula II, zirconium tetra alkoxide expressed by Zr(OR<2> )4 , wherein R<2> is 1-5C alkyl group, nitric acid, org. solvent and water. This layer is formed by applying a compsn. for an antistatic coating film containing the compd. (A), compd. (B) and zirconium tetra alkoxide by (93 to 53):(35 to 5):(12 to 2) molar ratio. In formula I, Y is an org. group having an amino group, Y<1> is a hydrocarbon group, R is 1-5C alkyl group, m is an integer 1 to 5, and n is an integer 0 to 2. In formula II, Z is a glycidoxy group or epoxy cyclohexyl group, Y<2> is a hydrocarbon group, R<1> is 1-5C alkyl group, p is an integer 1 to 5 and t is an integer 0 to 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、積層体の製造方法に関
する。特に、基材上に反射防止効果および帯電防止効果
の高い被膜が形成された光透過率40%以上の積層体の
製造方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a laminate. In particular, the present invention relates to a method for producing a laminate in which a coating having a high antireflection effect and an antistatic effect is formed on a substrate and which has a light transmittance of 40% or more.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガラスや透明プラスチックス材料が外部
光線を反射する原因は、光が媒体から別の物質に入射さ
れる際、その屈折率の差により界面で反射するからであ
る。上記の場合では、媒体となる空気の屈折率と基材で
あるガラスや透明プラスチックス材料の屈折率が異なる
ため、その界面で光の反射および損失が起こる。
2. Description of the Related Art The reason why glass and transparent plastics materials reflect external light rays is that when light enters a different substance from the medium, it is reflected at the interface due to the difference in its refractive index. In the above case, since the refractive index of air as a medium and the refractive index of the glass or transparent plastics material as the base material are different, reflection and loss of light occur at the interface.

【0003】上記の光の反射および損失を軽減させるた
めに、フッ素樹脂系の材料を基材に塗布することにより
低屈折率の被膜を基材上に施す方法があった(特開平2
−123771号公報)。また、真空蒸着法、イオンプ
レーティング法、スパッタリング法などを用いて屈折率
の異なる薄膜を多層積層させる方法もあった。この方法
は膜厚制御や、広い波長範囲で反射防止効果が得られる
等の利点があるが、ある限られた空間で薄膜を製造する
ため大面積の基材には適さず、コストの点で工業的に不
向きであり、また、複雑な形状の基材には適用できない
という問題点があった。
In order to reduce the above-mentioned light reflection and loss, there has been a method of applying a fluororesin-based material to a base material to form a coating having a low refractive index on the base material (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2).
-123771). There is also a method of laminating thin films having different refractive indexes in multiple layers using a vacuum vapor deposition method, an ion plating method, a sputtering method, or the like. Although this method has advantages such as film thickness control and antireflection effect in a wide wavelength range, it is not suitable for a large-area substrate because it produces a thin film in a limited space, and it is costly. There is a problem that it is not industrially suitable and cannot be applied to a base material having a complicated shape.

【0004】ある基材の反射率を0にするための薄膜の
積層条件は、(1)、(2)式で表現される。 n1 =(no s 0.5 ・・・(1) n1 1 =(λ/4),(3λ/4),(5λ/4)・・・(2) no :空気の屈折率(no =1である)、ns :基材の
屈折率、n1 :薄膜の屈折率、t1 :薄膜の膜厚、λ:
入射光波長 このように、基材の屈折率に応じて、積層する薄膜の屈
折率と膜厚を制御する必要がある。
The conditions for laminating thin films for reducing the reflectance of a certain substrate to 0 are expressed by equations (1) and (2). n 1 = (n o n s ) 0.5 ... (1) n 1 t 1 = (λ / 4), (3λ / 4), (5λ / 4) ... (2) n o : Refraction of air Index (n o = 1), n s : refractive index of base material, n 1 : refractive index of thin film, t 1 : thin film thickness, λ:
Incident light wavelength As described above, it is necessary to control the refractive index and the film thickness of the thin films to be laminated according to the refractive index of the base material.

【0005】薄膜の屈折率を制御する方法に関する従来
技術としては、シランカップリング剤、各種の酸化物
ゾル及びエポキシ樹脂からなる組成物を基材に塗布し、
硬化後、酸またはアルカリ水溶液に浸漬して酸化物ゾル
を選択的に溶出させ、薄膜を多孔質化する方法(特開平
1−312501号公報)、シリコンアルコキシドに
MgF2 の微粒子を分散させたものを、基材に塗布し薄
膜化するもの(特開平2−256001号公報)、シ
リコンアルコキシドとポリエーテルと有機溶媒とよりな
る組成物を基材に塗布し、次いで膜中のポリエーテルを
有機溶媒で溶出させ、薄膜を多孔質化する方法(特開平
3−199043号公報)等があった。
As a conventional technique for controlling the refractive index of a thin film, a composition comprising a silane coupling agent, various oxide sols and an epoxy resin is applied to a substrate,
After curing, a method of making the thin film porous by immersing it in an aqueous acid or alkaline solution to selectively elute the oxide sol (Japanese Patent Laid-Open No. 1-312501), a method in which fine particles of MgF2 are dispersed in a silicon alkoxide is used. What is applied to a substrate to form a thin film (JP-A-2-256001), a composition comprising a silicon alkoxide, a polyether and an organic solvent is applied to the substrate, and then the polyether in the film is treated with an organic solvent. There is a method of making the thin film porous by elution (Japanese Patent Laid-Open No. 3-199043).

【0006】上記の方法は、酸化物ゾルの溶解度が低
いため溶出に時間がかかること、組成物の濃度を上げる
と薄膜の強度が低下すること、膜厚方向に屈折率分布が
生じ易いこと等の問題点があった。上記の方法は、M
gF2 の微粒子を分散させる工程が必要なこと、分散を
よくするために高性能な装置を必要とすること、制御で
きる屈折率の範囲が1.34〜1.46の範囲であり狭
くまたその精度も悪いこと等の問題点があった。上記
の方法は、ポリエーテルの有機溶媒への溶解度が低いた
め溶出に時間がかかること、薄膜が有機溶媒により膨潤
し薄膜強度が低下すること、膜厚方向に屈折率分布が生
じ易いこと等の問題点があった。
In the above method, the solubility of the oxide sol is low, so that elution takes time, the strength of the thin film decreases as the concentration of the composition increases, and the refractive index distribution easily occurs in the film thickness direction. There was a problem. The above method is
The step of dispersing fine particles of gF2 is required, a high-performance device is required for improving the dispersion, and the controllable refractive index range is narrow within the range of 1.34 to 1.46 and its accuracy is small. There were problems such as bad things. In the above method, since the solubility of polyether in an organic solvent is low, it takes time to elute, the thin film swells with an organic solvent to reduce the thin film strength, and the refractive index distribution easily occurs in the film thickness direction. There was a problem.

【0007】一方で、帯電防止層の付与についても多く
の検討がなされており、基材の表面に導電性の被膜を形
成して帯電を防止することが行われている。多くの場
合、この被膜には、基材であるガラスおよびプラスチッ
クスの質感や色が消失しないように、透明性が要求され
ている。
On the other hand, many studies have been made on the provision of an antistatic layer, and a conductive film is formed on the surface of a base material to prevent electrification. In many cases, this coating is required to be transparent so that the texture and color of the glass and plastics as the base materials are not lost.

【0008】このような導電性と透明性を有する被膜と
しては、以下のようなものが知られている。(1)界面
活性剤系の塗料が塗布されたもの。(2)塩化リチウム
や塩化マグネシウムのような無機塩や、カルボン酸基や
スルホン酸基を含む高分子電解質のようなイオン伝導性
物質を、合成樹脂やシリケート等の造膜性物質に分散さ
せてなる組成物を成膜したもの。例えば、特公昭58−
35867号公報には、造膜性物質としてアクリル系重
合体を使用し、イオン伝導性物質として硝酸リチウムが
配合された帯電防止被覆用組成物で、ポリエステルフイ
ルムを被覆したものが開示されている。また、Journal
of the American Ceramic Society,484〜486,Vol.72, N
o.3,(1989)には、リンモリブデン酸(H3 PMo12
4o・29H 2 O)を、テトラエトキシシランの加水分解物
の溶液に溶解したものを、ガラス板またはステンレス板
上に成膜したものが開示されている。(3)銀、ニッケ
ル、銅、錫などの金属またはその酸化物の粉末などの導
電性の微粒子を、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、テトラエトキシシラン等の造膜性物質に分散させて
なる組成物を成膜したもの。例えば、特公昭63−33
778号公報には、アンチモン含有酸化錫からなり粒径
が0.2ミクロン以下の導電性微粉末を塗料中の固形分
中50〜70重量%の割合で含有してなる塗料から、プ
ラスチック製品の帯電防止被膜が得られることが開示さ
れている。
A coating having such conductivity and transparency
Then, the following is known. (1) Interface
Activator-based paint applied. (2) Lithium chloride
And inorganic salts such as magnesium chloride, carboxylic acid groups,
Ionic conductivity like polyelectrolytes containing sulfonic acid groups
The substance is dispersed in a film-forming substance such as synthetic resin or silicate.
A film formed from the resulting composition. For example, Japanese Patent Publication Sho 58-
Japanese Patent No. 35867 discloses that an acrylic resin is used as a film-forming substance.
Lithium nitrate is used as an ion conductive material
It is a blended antistatic coating composition containing polyester fiber
The one coated with rum is disclosed. Also, Journal
of the American Ceramic Society, 484〜486, Vol.72, N
O.3, (1989), phosphomolybdic acid (H3PMo12O
4o・ 29H 2O) is a hydrolyzate of tetraethoxysilane
Glass plate or stainless steel plate dissolved in the solution
A film formed on the above is disclosed. (3) Silver and nickel
Conductors such as powders of metals such as copper, copper, tin or oxides thereof.
Acrylic resin, polyester resin
Disperse in a film-forming substance such as fat or tetraethoxysilane
A film formed from the composition. For example, Japanese Patent Publication No. 63-33
Japanese Patent No. 778 discloses that it is made of tin oxide containing antimony and has a particle size of
Of conductive fine powder with a particle size of 0.2 micron or less
The coating composition containing 50 to 70% by weight of
It is disclosed that an antistatic coating for plastic products is obtained.
Have been.

【0009】しかしながら、上記の(1)の被膜では、
表面抵抗が1010Ω/□以上のように高いばかりでな
く、経時的に表面抵抗値が高くなるという欠点がある。
上記(2)の被膜では、従来使用されてきたイオン伝導
性物質では湿度が低くなると導電性が低下し、十分な帯
電防止性が得られないという欠点がある。例えば、上記
の特公昭58−35867号公報に記載のものでは、表
面抵抗は、50%の相対湿度において、約1010Ω/□
という高い値であり、帯電防止性能が不十分である。ま
た、リンモリブデン酸(H3 PMo124o・29H2 O)
を、テトラエトキシシランの加水分解物の溶液に溶解し
たものは、プラスチック板上に塗布して成膜すると、被
膜にクラックが発生し、プラスチック製品には適用でき
ないという欠点がある。上記(3)の被膜では、十分な
帯電防止性を得るためには、膜中の導電性の微粒子の濃
度を高くする必要がある。その為、その微粒子による光
の散乱に基ずくヘイズが発生し、透明性を損なうという
欠点がある。
However, in the above film (1),
Surface resistance not only as high as 10 10 Ω / □ or more, over time there is a disadvantage that the surface resistance value becomes high.
The above-mentioned coating (2) has a drawback in that conventionally used ion conductive substances have low conductivity when humidity is low, and sufficient antistatic properties cannot be obtained. For example, in the above-mentioned Japanese Patent Publication No. 58-35867, the surface resistance is about 10 10 Ω / □ at a relative humidity of 50%.
That is, the antistatic performance is insufficient. In addition, phosphomolybdic acid (H 3 PMo 12 O 4o・ 29H 2 O)
However, when a solution of tetraethoxysilane in a solution of a hydrolyzate of tetraethoxysilane is applied onto a plastic plate to form a film, cracks occur in the film, which is not applicable to plastic products. In the coating film of (3), in order to obtain sufficient antistatic property, it is necessary to increase the concentration of conductive fine particles in the film. Therefore, there is a drawback that haze occurs due to the scattering of light by the fine particles and the transparency is impaired.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの問
題点を解決するものであり、その目的は、基材上に反射
防止効果および帯電防止効果の高い被膜が形成された、
光透過率40%以上の積層体を容易に製造し得る方法を
提供することにある。
The present invention is intended to solve these problems, and an object thereof is to form a coating film having a high antireflection effect and an antistatic effect on a substrate.
An object of the present invention is to provide a method capable of easily producing a laminate having a light transmittance of 40% or more.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の積層体の製造方
法は、基材の表面上に導電性を有する高屈折率層と、低
屈折率層を、低屈折率層が最外層となるように、複層積
層した積層体の製造方法であって、上記高屈折率層が、
特定の組成からなる帯電防止被覆用組成物を塗布するこ
とにより得られる層であることを特徴とする。
In the method for producing a laminate of the present invention, a high refractive index layer having conductivity and a low refractive index layer are formed on the surface of a substrate, and the low refractive index layer is the outermost layer. As described above, in the method for manufacturing a laminate having a multilayer structure, the high refractive index layer comprises:
It is a layer obtained by applying an antistatic coating composition having a specific composition.

【0012】本発明(請求項1の発明を、本発明とい
う)で使用されるアミノアルキルアルコキシシラン化合
物A(a)は、下記の一般式[I]で表される。
The aminoalkylalkoxysilane compound A (a) used in the present invention (the invention of claim 1 is referred to as the present invention) is represented by the following general formula [I].

【化3】 Embedded image

【0013】式中、Yはアミノ基を有する有機基を示
し、例えば、アミノ基そのもの、アミノ基の水素原子が
アミノアルキル基で置換された置換アミノ基などが挙げ
られる。Y1 は炭化水素基を示し、例えば、アルキル
基、置換アルキル基などが挙げられる。Rは炭素数1〜
5のアルキル基を示すが、炭素数が多くなると帯電防止
被覆用組成物の安定性が低下して長期保存性が悪くなる
ので、炭素数は1〜5に限定される。Rの例としては、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピ
ル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブ
チル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、ネオ−
ペンチル基などが挙げられる。mは1〜5の整数、nは
0〜2の整数である。
In the formula, Y represents an organic group having an amino group, and examples thereof include an amino group itself and a substituted amino group in which a hydrogen atom of the amino group is substituted with an aminoalkyl group. Y 1 represents a hydrocarbon group, and examples thereof include an alkyl group and a substituted alkyl group. R has 1 to 1 carbon atoms
The number of carbon atoms is limited to 1 to 5 because the stability of the antistatic coating composition decreases and the long-term storage stability deteriorates when the number of carbon atoms increases. As an example of R,
Methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group, neo-
Examples include a pentyl group. m is an integer of 1 to 5, and n is an integer of 0 to 2.

【0014】一般式[I]で表される化合物としては、
例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−
アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシ
シラン、N,N−ビス〔3−(トリメトキシシリル)プ
ロピル〕エチレンジアミン、N,N−ビス〔3−(メチ
ルジメトキシシリル)プロピル〕エチレンジアミンなど
が挙げられる。これらのうち、N−(β−アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランが特に好
ましい。アミノシラン化合物A(a)としては、単独で
使用されてもよいし2種以上併用されてもよい。
As the compound represented by the general formula [I],
For example, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-
Aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl)
-Γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-
Aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine, N, N-bis [3- (methyldimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine and the like can be mentioned. Of these, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane is particularly preferable. The aminosilane compound A (a) may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0015】本発明で使用されるエポキシアルキルアル
コキシシラン化合物B(b)は、下記の一般式[II]で
表される。
The epoxyalkylalkoxysilane compound B (b) used in the present invention is represented by the following general formula [II].

【化4】 [Chemical 4]

【0016】式中、Zはグリシドキシ基またはエポキシ
シクロヘキシル基を示し、Y2 は炭化水素基を示し、例
えば、アルキル基、置換アルキル基などが挙げられる。
1は炭素数1〜5のアルキル基を示すが、炭素数が多
くなると帯電防止被覆用組成物の安定性が低下して長期
保存性が悪くなるので、炭素数は1〜5に限定される。
1 の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、iso−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチ
ル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−
ペンチル基、ネオ−ペンチル基などが挙げられる。pは
1〜5の整数、tは0〜2の整数である。
In the formula, Z represents a glycidoxy group or an epoxycyclohexyl group, Y 2 represents a hydrocarbon group, and examples thereof include an alkyl group and a substituted alkyl group.
R 1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. However, when the carbon number increases, the stability of the antistatic coating composition decreases and the long-term storage stability deteriorates, so the carbon number is limited to 1 to 5. It
Examples of R 1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, iso-
Examples thereof include a pentyl group and a neo-pentyl group. p is an integer of 1 to 5 and t is an integer of 0 to 2.

【0017】一般式[II]で表される化合物としては、
例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルメチルジメトキシシランなどが挙げられ
る。これらの中、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシランが特に好ましい。また、エポキシアルキルアル
コキシシラン化合物B(b)としては上記のように定義
された範囲内の化合物が単独で使用されてもよいし2種
以上併用されてもよい。
As the compound represented by the general formula [II],
For example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxy. Examples include silane. Of these, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is particularly preferable. As the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b), compounds within the range defined above may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0018】本発明で使用されるジルコニウムテトラア
ルコキシド(c)は、一般式Zr(OR2 4 で表さ
れ、R2 は、炭素数1〜5のアルキル基を示すが、炭素
数が多くなると帯電防止被覆用組成物の安定性が低下し
て長期保存性が悪くなるので、炭素数は1〜5に限定さ
れる。R2 の例としては、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、sec
−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、i
so−ペンチル基、ネオ−ペンチル基などが挙げられ
る。
The zirconium tetraalkoxide (c) used in the present invention is represented by the general formula Zr (OR 2 ) 4 , and R 2 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. The number of carbon atoms is limited to 1 to 5 because the stability of the antistatic coating composition decreases and the long-term storage stability deteriorates. Examples of R 2 are methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec.
-Butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, i
Examples thereof include so-pentyl group and neo-pentyl group.

【0019】ジルコニウムテトラアルコキシド(c)と
しては、例えば、ジルコニウムテトラメトキシド、ジル
コニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−n−
プロポキシド、ジルコニウムテトラ−iso−プロポキ
シド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−sec−ブトキシド、ジルコニウムテトラ
−tert−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−n−ペ
ントキシド、ジルコニウムテトラ−iso−ペントキシ
ドなどが挙げられ、特にジルコニウムテトラ−n−ブト
キシド、ジルコニウムテトラ−iso−プロポキシドが
好ましい。本発明で使用されるジルコニウムテトラアル
コキシド(c)としては、前記のように定義された範囲
内の化合物が単独で使用されてもよいし、2種以上併用
されてもよい。
Examples of the zirconium tetraalkoxide (c) include zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide and zirconium tetra-n-.
Propoxide, zirconium tetra-iso-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium tetra-sec-butoxide, zirconium tetra-tert-butoxide, zirconium tetra-n-pentoxide, zirconium tetra-iso-pentoxide and the like, and the like. Zirconium tetra-n-butoxide and zirconium tetra-iso-propoxide are particularly preferable. As the zirconium tetraalkoxide (c) used in the present invention, a compound within the range defined above may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0020】本発明で使用される帯電防止被覆用組成物
において、アミノアルキルアルコキシシラン化合物A
(a)とエポキシアルキルアルコキシシラン化合物B
(b)とジルコニウムテトラアルコキシド(c)のモル
比は、93〜53:35〜5:12〜2に限定される。
この範囲をはずれると、該組成物のゲル化がおこった
り、耐水性が得られなかったりする。
In the antistatic coating composition used in the present invention, the aminoalkylalkoxysilane compound A is used.
(A) and epoxyalkylalkoxysilane compound B
The molar ratio of (b) and zirconium tetraalkoxide (c) is limited to 93-53: 35-5: 12-2.
If it deviates from this range, gelation of the composition may occur or water resistance may not be obtained.

【0021】また、本発明で使用される硝酸(d)は、
そのまま添加されてもよいし、硝酸水として添加されて
もよい。硝酸の添加量は、適宜決められるが、前記アミ
ノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)1モルに対
して、0.01〜0.5モルが好ましい。硝酸(d)は
少なくなると、帯電防止に十分な導電性が被膜に付与さ
れず、多くなると、均質な被膜が得られにくくなる。
The nitric acid (d) used in the present invention is
It may be added as it is or as nitric acid water. The addition amount of nitric acid is appropriately determined, but is preferably 0.01 to 0.5 mol with respect to 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). When the nitric acid (d) is small, the film does not have sufficient conductivity for antistatic, and when it is large, it is difficult to obtain a uniform film.

【0022】本発明で使用される有機溶媒(e)は、前
記アミノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)、エ
ポキシアルキルアルコキシシラン化合物B(b)、ジル
コニウムテトラアルコキシド(c)および水(f)と相
溶性があり、硝酸(d)を溶解するものであれば特に限
定されるものではなく、例えば、メチルアルコール、エ
チルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアル
コール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン類、テトラヒドロフランなどが挙げられ、
特にメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコールが好ましい。これらは単独で使用されても
よいし2種以上併用されてもよい。
The organic solvent (e) used in the present invention is compatible with the aminoalkylalkoxysilane compound A (a), the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b), the zirconium tetraalkoxide (c) and the water (f). It is not particularly limited as long as it is soluble and can dissolve nitric acid (d), and examples thereof include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol and butyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and tetrahydrofuran. And so on,
Particularly, methyl alcohol, ethyl alcohol and isopropyl alcohol are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

【0023】上記有機溶媒(e)の量は、前記アミノア
ルキルアルコキシシラン化合物A(a)1モルに対し
て、15〜100モルの割合で使用されることが好まし
い。有機溶媒(e)は少なくなると、該被覆用組成物が
均一に混合されにくく、不均質な組成物となり、多くな
ると、該被覆用組成物の固形分濃度が低くなりすぎ、被
膜にしたとき十分な帯電防止能を得られない。より好ま
しい添加量は、アミノアルキルアルコキシシラン化合物
A(a)1モルに対して18〜50モルの範囲である。
The amount of the organic solvent (e) is preferably 15 to 100 mol per 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). When the amount of the organic solvent (e) is small, the coating composition is difficult to be mixed uniformly, resulting in a heterogeneous composition, and when the amount is large, the solid content concentration of the coating composition becomes too low, which is sufficient when a film is formed. Antistatic ability cannot be obtained. A more preferable amount of addition is in the range of 18 to 50 mol per 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a).

【0024】本発明で使用される水(f)は、前記アミ
ノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)、エポキシ
アルキルアルコキシシラン化合物B(b)およびジルコ
ニウムテトラアルコキシド(c)の加水分解のために加
えられる。水(f)の量は、アミノアルキルアルコキシ
シラン化合物A(a)1モルに対して0.1〜5モルの
割合で使用されることが好ましい。水(f)は少なくな
ると、十分な加水分解がおこりにくく、多くなると該被
覆用組成物との相溶性が悪い。
The water (f) used in the present invention is added for the hydrolysis of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a), the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b) and the zirconium tetraalkoxide (c). . The amount of water (f) is preferably 0.1 to 5 mol per 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). When the amount of water (f) is small, sufficient hydrolysis is unlikely to occur, and when the amount is large, the compatibility with the coating composition is poor.

【0025】本発明で使用される水(f)には、加水分
解のための触媒として無機酸や有機酸等の酸を加えても
よい。
An acid such as an inorganic acid or an organic acid may be added to the water (f) used in the present invention as a catalyst for hydrolysis.

【0026】本発明で使用される帯電防止被覆用組成物
の構成は上述した通りであるが、さらに導電性を向上さ
せるためにポリエチレングリコール等の親水性高分子を
添加してもよい。また、被膜形成性を向上させるため
に、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセル
ロース誘導体を含有させてもよい。また同様の目的で、
シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル等の酸化物
コロイドを含有させてもよい。また、被膜の硬度を向上
させるなどのためにシリコン以外の金属のアルコキシド
を添加してもよい。また、前記のアミノアルキルアルコ
キシシラン化合物A(a)、エポキシアルキルアルコキ
シシラン化合物B(b)およびジルコニウムテトラアル
コキシド(c)の硬化のために公知の硬化触媒を加えて
もよい。
The composition of the antistatic coating composition used in the present invention is as described above, but a hydrophilic polymer such as polyethylene glycol may be added to further improve the conductivity. Further, in order to improve the film forming property, a cellulose derivative such as methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose or the like may be contained. For the same purpose,
An oxide colloid such as silica sol, alumina sol, zirconia sol may be contained. Further, an alkoxide of a metal other than silicon may be added in order to improve the hardness of the film. Further, a known curing catalyst may be added for curing the aminoalkylalkoxysilane compound A (a), the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b) and the zirconium tetraalkoxide (c).

【0027】さらに、高屈折率の層を得るため、平均粒
径が 1000 Å以下の超微粒子酸化タンタル(Ta
2 5 )、超微粒子酸化ジルコニウム(ZrO2 )、超
微粒子酸化亜鉛(ZnO)、もしくは超微粒子酸化チタ
ン(TiO2 )等の超微粒子の1つまたはこれらの混合
物を帯電防止被覆用組成物中に分散混合してもよい。
Further, in order to obtain a layer having a high refractive index, ultrafine tantalum oxide (Ta) having an average particle diameter of 1000 Å or less is used.
2 O 5 ), ultrafine particles of zirconium oxide (ZrO 2 ), ultrafine particles of zinc oxide (ZnO), ultrafine particles of titanium oxide (TiO 2 ), and the like, or a mixture thereof in an antistatic coating composition. May be dispersed and mixed.

【0028】本発明で使用される帯電防止被覆用組成物
の作製方法としては特に限定されるものではなく、例え
ば、上述した構成材料を一括して混合する方法、特定の
構成材料を分割して混合した後、残りの構成材料を添加
して混合する方法などが挙げられる。分割して混合する
方法としては、例えば、アミノアルキルアルコキシシラ
ン化合物A(a)を有機溶媒(e)の一部と混合してお
き、これに硝酸(d)と水(f)の一部を添加し、攪拌
混合を行って、アミノアルキルアルコキシシラン化合物
A(a)の加水分解溶液を得る。一方、エポキシアルキ
ルアルコキシシラン化合物B(b)とジルコニウムテト
ラアルコキシド(c)と有機溶媒(e)の残部とを混合
し、これに水(f)の残部を添加し、攪拌混合を行っ
て、エポキシアルキルアルコキシシラン化合物B(b)
とジルコニウムテトラアルコキシド(c)の加水分解溶
液を得る。この溶液を上記のアミノアルキルアルコキシ
シラン化合物A(a)の加水分解溶液に添加し、混合物
の加水分解物を作製し、帯電防止被覆用組成物とする。
The method for preparing the antistatic coating composition used in the present invention is not particularly limited. For example, a method of mixing the above-mentioned constituent materials at once, or dividing a specific constituent material After mixing, there may be mentioned a method of adding the remaining constituent materials and mixing. As a method of dividing and mixing, for example, the aminoalkylalkoxysilane compound A (a) is mixed with a part of the organic solvent (e), and nitric acid (d) and a part of water (f) are added thereto. Add and stir-mix to obtain a hydrolyzed solution of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). On the other hand, the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b), the zirconium tetraalkoxide (c), and the rest of the organic solvent (e) are mixed, the rest of the water (f) is added thereto, and the mixture is stirred and mixed to form an epoxy resin. Alkylalkoxysilane compound B (b)
And a hydrolyzed solution of zirconium tetraalkoxide (c) is obtained. This solution is added to the above-mentioned hydrolysis solution of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a) to prepare a hydrolyzate of the mixture, which is used as an antistatic coating composition.

【0029】本発明の積層体の製造方法では、この帯電
防止被覆用組成物を、基材に塗布し、乾燥することによ
り高屈折率層が、得られる。上記乾燥方法としては、特
に限定されるものではなく、室温にて自然乾燥しても良
いし加熱乾燥しても良い。また、乾燥した後、必要に応
じて、高温加熱処理しても良い。例えば、該被覆用組成
物をプラスチックス製品の表面に被覆し、室温で自然乾
燥を行った後、60〜150℃の温度で硬化させると、
帯電防止能を有する高屈折率層が形成されたプラスチッ
クス製品が得られる。
In the method for producing a laminate of the present invention, a high refractive index layer is obtained by applying this antistatic coating composition onto a substrate and drying. The drying method is not particularly limited, and may be natural drying at room temperature or heat drying. In addition, after drying, high temperature heat treatment may be performed, if necessary. For example, when the surface of a plastic product is coated with the coating composition, naturally dried at room temperature, and then cured at a temperature of 60 to 150 ° C.,
A plastic product having a high refractive index layer having an antistatic ability is obtained.

【0030】本発明の積層体の製造方法では、更に、低
屈折率層が、上記高屈折率層と交互に基材上に積層され
る。この低屈折率層は、上記高屈折率層より低屈折率を
有する層であれば特に限定されるものではない。例え
ば、フッ素樹脂による被覆層や、多孔質シリカ層、フッ
素含有無機化合物からなる被覆層、さらにフッ素含有無
機化合物の微粒子をバインダ中に分散混合させた層等が
挙げられる。尚、このフッ素含有無機化合物の具体的な
代表例としては、MgF2 、AlF3 、BaF2 、La
2 、CaF2 、Na3 AlF6 などが挙げられる。
In the method for producing a laminated body of the present invention, the low refractive index layer and the high refractive index layer are alternately laminated on the base material. The low refractive index layer is not particularly limited as long as it has a lower refractive index than the high refractive index layer. Examples thereof include a coating layer made of a fluororesin, a porous silica layer, a coating layer made of a fluorine-containing inorganic compound, and a layer in which fine particles of the fluorine-containing inorganic compound are dispersed and mixed in a binder. In addition, specific representative examples of the fluorine-containing inorganic compound include MgF 2 , AlF 3 , BaF 2 , and La.
F 2 , CaF 2 , Na 3 AlF 6 and the like can be mentioned.

【0031】本発明において、積層体を形成する基材と
しては、積層体の光透過率を40%以上にするような基
材であれば、特に限定されるものではなく、目的に応じ
てケイ酸ガラス、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガ
ラス、カリ石灰ガラス、鉛石灰ガラス、バリウムガラ
ス、ホウケイ酸ガラス等のケイ酸塩ガラス、アルミノシ
リケートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、
石英ガラスなどのガラス、綱玉等の短結晶、マグネシ
ア、サイアロン等の透光性セラミックス、ポリカーボネ
ート、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリウレ
タン、三酢酸セルロース等のプラスチックスが使用でき
る。特に、ケイ酸ガラス、ケイ酸アルカリガラス、ソー
ダ石灰ガラスが好ましい。また、基材の形状は、特に限
定されるものではない。
In the present invention, the base material forming the laminated body is not particularly limited as long as it is a base material which makes the light transmittance of the laminated body 40% or more, and depending on the purpose. Acid glass, alkali silicate glass, soda lime glass, potassium lime glass, lead lime glass, barium glass, silicate glass such as borosilicate glass, aluminosilicate glass, lithium aluminosilicate glass,
Glass such as quartz glass, short crystals such as balls, translucent ceramics such as magnesia and sialon, polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, polystyrene, polyester, polyurethane, cellulose triacetate and other plastics are used. it can. In particular, silicate glass, alkali silicate glass and soda lime glass are preferable. Further, the shape of the base material is not particularly limited.

【0032】本発明の積層体の製造方法は、基材の表面
上に、上記高屈折率層と低屈折率層を、低屈折率層が最
外層となるように、交互に複層積層させる。積層数の最
も少ない積層体の製造方法は、基材の表面に、まず、高
屈折率層を積層させ、乾燥後、その上に低屈折率層を積
層させ乾燥後、硬化させることにより行う方法である。
In the method for producing a laminate of the present invention, the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated on the surface of the base material so that the low refractive index layer is the outermost layer. . The method for producing the laminate having the smallest number of layers is a method in which a high refractive index layer is first laminated on the surface of the substrate, dried, and then a low refractive index layer is laminated on the dried layer, followed by drying and curing. Is.

【0033】本発明の積層体の製造方法では、最終的に
得られた積層体の光透過率が40%以上のものに限定さ
れる。
In the method for producing a laminated body of the present invention, the light transmittance of the finally obtained laminated body is limited to 40% or more.

【0034】それぞれの層の積層は、塗装によって行う
のが好ましい。基材への塗布方法はスピンコート法、デ
ィップ法、スプレー法、ロールコーター法、メニスカス
コーター法等の種々な方法が用いられ得る。
The layers are preferably laminated by painting. Various methods such as a spin coating method, a dipping method, a spraying method, a roll coater method, and a meniscus coater method can be used as the method of coating the substrate.

【0035】本発明2(請求項2の発明を、本発明2と
いう)で使用されるアミノアルキルアルコキシシラン化
合物A(a)およびエポキシアルキルアルコキシシラン
化合物B(b)は、本発明のものと、同様である。
The aminoalkylalkoxysilane compound A (a) and the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b) used in the present invention 2 (the invention of claim 2 is referred to as the present invention 2) are the same as those of the present invention. It is the same.

【0036】本発明2で使用されるチタニウムテトラア
ルコキシド(c1 )は、一般式Ti(OR3 4 で表さ
れ、R3 は、炭素数1〜5のアルキル基を示すが、炭素
数が多くなると帯電防止被覆用組成物の安定性が低下し
て長期保存性が悪くなるので、炭素数は1〜5に限定さ
れる。R3 の例としては、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、sec
−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、i
so−ペンチル基、ネオ−ペンチル基などが挙げられ
る。
The titanium tetraalkoxide (c 1 ) used in the present invention 2 is represented by the general formula Ti (OR 3 ) 4 , and R 3 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, When the amount is large, the stability of the antistatic coating composition is lowered and the long-term storage property is deteriorated. Therefore, the carbon number is limited to 1 to 5. Examples of R 3 are methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec.
-Butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, i
Examples thereof include so-pentyl group and neo-pentyl group.

【0037】チタニウムテトラアルコキシド(c1 )と
しては、例えば、チタニウムテトラメトキシド、チタニ
ウムテトラエトキシド、チタニウムテトラ−n−プロポ
キシド、チタニウムテトラ−iso−プロポキシド、チ
タニウムテトラ−n−ブトキシド、チタニウムテトラ−
sec−ブトキシド、チタニウムテトラ−tert−ブ
トキシド、チタニウムテトラ−n−ペントキシド、チタ
ニウムテトラ−iso−ペントキシドなどが挙げられ、
特にチタニウムテトラ−n−ブトキシド、チタニウムテ
トラ−iso−プロポキシドが好ましい。本発明で使用
されるチタニウムテトラアルコキシド(c1 )として
は、前記のように定義された範囲内の化合物が単独で使
用されてもよいし、2種以上併用されてもよい。
Examples of the titanium tetraalkoxide (c 1 ) include titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-iso-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra. −
sec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, titanium tetra-n-pentoxide, titanium tetra-iso-pentoxide and the like,
Particularly, titanium tetra-n-butoxide and titanium tetra-iso-propoxide are preferable. As the titanium tetraalkoxide (c 1 ) used in the present invention, compounds within the range defined above may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0038】本発明2で使用される帯電防止被覆用組成
物において、アミノアルキルアルコキシシラン化合物A
(a)とエポキシアルキルアルコキシシラン化合物B
(b)とチタニウムテトラアルコキシド(c1 )のモル
比は、93〜55:35〜5:10〜2に限定される。
この範囲をはずれると、該組成物のゲル化がおこった
り、耐水性が得られなかったりする。
In the antistatic coating composition used in the present invention 2, the aminoalkylalkoxysilane compound A is used.
(A) and epoxyalkylalkoxysilane compound B
The molar ratio of (b) and titanium tetraalkoxide (c 1 ) is limited to 93 to 55:35 to 5:10 to 2.
If it deviates from this range, gelation of the composition may occur or water resistance may not be obtained.

【0039】本発明2に使用される硝酸(d)は、その
まま添加されてもよいし、硝酸水として添加されてもよ
い。硝酸の添加量は、適宜決められるが、前記アミノア
ルキルアルコキシシラン化合物A(a)1モルに対し
て、0.01〜0.5モルが好ましい。硝酸(d)は少
なくなると、帯電防止に十分な導電性が被膜に付与され
ず、多くなると、均質な被膜が得られにくくなる。
The nitric acid (d) used in the present invention 2 may be added as it is or as nitric acid water. The addition amount of nitric acid is appropriately determined, but is preferably 0.01 to 0.5 mol with respect to 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). When the nitric acid (d) is small, the film does not have sufficient conductivity for antistatic, and when it is large, it is difficult to obtain a uniform film.

【0040】本発明2で使用される有機溶媒(e)は、
前記アミノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)、
エポキシアルキルアルコキシシラン化合物B(b)、チ
タニウムテトラアルコキシド(c1 )および水(f)と
相溶性があり、硝酸(d)を溶解するものであれば特に
限定されるものではなく、例えば、メチルアルコール、
エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルア
ルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケ
トン等のケトン類、テトラヒドロフランなどが挙げら
れ、特にメチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコールが好ましい。これらは単独で使用され
てもよいし2種以上併用されてもよい。
The organic solvent (e) used in the present invention 2 is
The aminoalkylalkoxysilane compound A (a),
There is no particular limitation as long as it is compatible with the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b), the titanium tetraalkoxide (c 1 ) and water (f) and dissolves the nitric acid (d). alcohol,
Examples thereof include alcohols such as ethyl alcohol, isopropyl alcohol, and butyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and tetrahydrofuran. Methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol are particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

【0041】上記有機溶媒(e)の量は、前記アミノア
ルキルアルコキシシラン化合物A(a)1モルに対し
て、15〜100モルの割合で使用されることが好まし
い。有機溶媒(e)は少なくなると、該被覆用組成物が
均一に混合されにくく、不均質な組成物となり、多くな
ると、該被覆用組成物の固形分濃度が低くなりすぎ、被
膜にしたとき十分な帯電防止能を得られない。より好ま
しい添加量は、アミノアルキルアルコキシシラン化合物
A(a)1モルに対して18〜50モルの範囲である。
The amount of the organic solvent (e) is preferably 15 to 100 mol per 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). When the amount of the organic solvent (e) is small, the coating composition is difficult to be mixed uniformly, resulting in a heterogeneous composition, and when the amount is large, the solid content concentration of the coating composition becomes too low, which is sufficient when a film is formed. Antistatic ability cannot be obtained. A more preferable amount of addition is in the range of 18 to 50 mol per 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a).

【0042】本発明2で使用される水(f)は、前記ア
ミノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)、エポキ
シアルキルアルコキシシラン化合物B(b)およびチタ
ニウムテトラアルコキシド(c1 )の加水分解のために
加えられる。水(f)の量は、アミノアルキルアルコキ
シシラン化合物A(a)1モルに対して0.1〜5モル
の割合で使用されることが好ましい。水(f)は少なく
なると、十分な加水分解がおこりにくく、多くなると該
被覆用組成物との相溶性が悪い。
The water (f) used in the present invention 2 is used for the hydrolysis of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a), the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b) and the titanium tetraalkoxide (c 1 ). Added. The amount of water (f) is preferably 0.1 to 5 mol per 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). When the amount of water (f) is small, sufficient hydrolysis is unlikely to occur, and when the amount is large, the compatibility with the coating composition is poor.

【0043】本発明2で使用される水(f)には、加水
分解のための触媒として無機酸や有機酸等の酸を加えて
もよい。
An acid such as an inorganic acid or an organic acid may be added to the water (f) used in the present invention 2 as a catalyst for hydrolysis.

【0044】本発明2で使用される帯電防止被覆用組成
物の構成は上述した通りであるが、さらに導電性を向上
させるためにポリエチレングリコール等の親水性高分子
を添加してもよい。また、被膜形成性を向上させるため
に、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセル
ロース誘導体を含有させてもよい。また同様の目的で、
シリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル等の酸化物
コロイドを含有させてもよい。また、被膜の硬度を向上
させるなどのためにシリコン以外の金属のアルコキシド
を添加してもよい。また、前記のアミノアルキルアルコ
キシシラン化合物A(a)、エポキシアルキルアルコキ
シシラン化合物B(b)およびチタニウムテトラアルコ
キシド(c1 )の硬化のために公知の硬化触媒を加えて
もよい。
The composition of the antistatic coating composition used in the present invention 2 is as described above, but a hydrophilic polymer such as polyethylene glycol may be added to further improve the conductivity. Further, in order to improve the film forming property, a cellulose derivative such as methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose or the like may be contained. For the same purpose,
An oxide colloid such as silica sol, alumina sol, zirconia sol may be contained. Further, an alkoxide of a metal other than silicon may be added in order to improve the hardness of the film. Further, a known curing catalyst may be added for curing the aminoalkylalkoxysilane compound A (a), the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b) and the titanium tetraalkoxide (c 1 ).

【0045】さらに、高屈折率の層を得るため、平均粒
径が 1000 Å以下の超微粒子酸化タンタル(Ta
2 5 )、超微粒子酸化ジルコニウム(ZrO2 )、超
微粒子酸化亜鉛(ZnO)、もしくは超微粒子酸化チタ
ン(TiO2 )等の超微粒子の1つまたはこれらの混合
物を帯電防止被覆用組成物中に分散混合してもよい。
Further, in order to obtain a layer having a high refractive index, ultrafine tantalum oxide (Ta) having an average particle diameter of 1000 Å or less is used.
2 O 5 ), ultrafine particles of zirconium oxide (ZrO 2 ), ultrafine particles of zinc oxide (ZnO), ultrafine particles of titanium oxide (TiO 2 ), and the like, or a mixture thereof in an antistatic coating composition. May be dispersed and mixed.

【0046】本発明2で使用される帯電防止被覆用組成
物の作製方法としては特に限定されるものではなく、例
えば、上述した構成材料を一括して混合する方法、特定
の構成材料を分割して混合した後、残りの構成材料を添
加して混合する方法などが挙げられる。分割して混合す
る方法としては、例えば、アミノアルキルアルコキシシ
ラン化合物A(a)を有機溶媒(e)の一部と混合して
おき、これに硝酸(d)と水(f)の一部を添加し、攪
拌混合を行って、アミノアルキルアルコキシシラン化合
物A(a)の加水分解溶液を得る。一方、エポキシアル
キルアルコキシシラン化合物B(b)とチタニウムテト
ラアルコキシド(c1 )と有機溶媒(e)の残部とを混
合し、これに水(f)の残部を添加し、攪拌混合を行っ
て、エポキシアルキルアルコキシシラン化合物B(b)
とチタニウムテトラアルコキシド(c1 )の加水分解溶
液を得る。この溶液を上記のアミノアルキルアルコキシ
シラン化合物A(a)の加水分解溶液に添加し、混合物
の加水分解物を作製し、帯電防止被覆用組成物とする。
The method for preparing the antistatic coating composition used in the present invention 2 is not particularly limited. For example, a method of mixing the above-mentioned constituent materials at once or dividing a specific constituent material is divided. And the like, and then the remaining constituent materials are added and mixed. As a method of dividing and mixing, for example, the aminoalkylalkoxysilane compound A (a) is mixed with a part of the organic solvent (e), and nitric acid (d) and a part of water (f) are added thereto. Add and stir-mix to obtain a hydrolyzed solution of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a). On the other hand, the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b), the titanium tetraalkoxide (c 1 ) and the rest of the organic solvent (e) are mixed, the rest of the water (f) is added thereto, and the mixture is stirred and mixed, Epoxyalkylalkoxysilane compound B (b)
To obtain a hydrolysis solution of titanium tetraalkoxide (c 1 ). This solution is added to the above-mentioned hydrolysis solution of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a) to prepare a hydrolyzate of the mixture, which is used as an antistatic coating composition.

【0047】本発明2の積層体の製造方法では、この帯
電防止被覆用組成物を、基材に塗布し、乾燥することに
より高屈折率層が、得られる。上記乾燥方法としては、
特に限定されるものではなく、室温にて自然乾燥しても
良いし加熱乾燥しても良い。また、乾燥した後、必要に
応じて、高温加熱処理しても良い。例えば、該被覆用組
成物をプラスチックス製品の表面に被覆し、室温で自然
乾燥を行った後、60〜150℃の温度で硬化させる
と、帯電防止能を有する高屈折率層が形成されたプラス
チックス製品が得られる。
In the method for producing a laminate of the present invention 2, a high refractive index layer is obtained by applying this antistatic coating composition onto a substrate and drying. As the drying method,
It is not particularly limited and may be naturally dried at room temperature or may be dried by heating. In addition, after drying, high temperature heat treatment may be performed, if necessary. For example, when the surface of a plastic product was coated with the coating composition, naturally dried at room temperature and then cured at a temperature of 60 to 150 ° C., a high refractive index layer having an antistatic ability was formed. Plastics products are obtained.

【0048】本発明2の積層体の製造方法では、更に、
低屈折率層が、上記高屈折率層と交互に基材上に積層さ
れる。この低屈折率層は、上記高屈折率層より低屈折率
を有する層であれば特に限定されるものではない。例え
ば、フッ素樹脂による被覆層や、多孔質シリカ層、フッ
素含有無機化合物からなる被覆層、さらにフッ素含有無
機化合物の微粒子をバインダ中に分散混合させた層等が
挙げられる。尚、このフッ素含有無機化合物の具体的な
代表例としては、MgF2 、AlF3 、BaF2 、La
2 、CaF2 、Na3 AlF6 などが挙げられる。
In the method for producing a laminated body of the present invention 2, further,
Low refractive index layers are laminated on the base material alternately with the high refractive index layers. The low refractive index layer is not particularly limited as long as it has a lower refractive index than the high refractive index layer. Examples thereof include a coating layer made of a fluororesin, a porous silica layer, a coating layer made of a fluorine-containing inorganic compound, and a layer in which fine particles of the fluorine-containing inorganic compound are dispersed and mixed in a binder. In addition, specific representative examples of the fluorine-containing inorganic compound include MgF 2 , AlF 3 , BaF 2 , and La.
F 2 , CaF 2 , Na 3 AlF 6 and the like can be mentioned.

【0049】本発明2において、積層体を形成する基材
としては、本発明1に記載の基材と同様である。
In the present invention 2, the substrate forming the laminate is the same as the substrate described in the present invention 1.

【0050】本発明2の積層体の製造方法は、基材の表
面上に、上記高屈折率層と低屈折率層を、低屈折率層が
最外層となるように、交互に複層積層させる。積層数の
最も少ない積層体の製造方法は、基材の表面に、まず、
高屈折率層を積層させ、乾燥後、その上に低屈折率層を
積層させ乾燥後、硬化させることにより行う方法であ
る。
In the method for producing a laminate of the present invention 2, the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated on the surface of the base material so that the low refractive index layer is the outermost layer. Let The manufacturing method of the laminated body with the smallest number of laminated layers is as follows.
In this method, a high refractive index layer is laminated, dried, and then a low refractive index layer is laminated thereon, dried, and cured.

【0051】本発明2の積層体の製造方法では、最終的
に得られた積層体の光透過率が40%以上のものに限定
される。
In the method for producing a laminate of the present invention 2, the light transmittance of the finally obtained laminate is limited to 40% or more.

【0052】それぞれの層の積層は、塗装によって行う
のが好ましい。基材への塗布方法はスピンコート法、デ
ィップ法、スプレー法、ロールコーター法、メニスカス
コーター法等の種々な方法が用いられ得る。
The layers are preferably laminated by painting. Various methods such as a spin coating method, a dipping method, a spraying method, a roll coater method, and a meniscus coater method can be used as the method of coating the substrate.

【0053】本発明3(請求項3の発明を、本発明3と
いう)は、基材の表面上に導電性を有する高屈折率層
と、低屈折率層を、低屈折率層が最外層となるように、
複層積層した積層体の製造方法であって、上記高屈折率
層が、請求項1または2記載の高屈折率層であり、さら
に上記低屈折率層が、一般式Si(OR4 4 (式中、
4 は炭素数1〜5のアルキル基)で表されるテトラア
ルコキシシラン1モル、pHが10.0〜12.0の塩
基性水2〜8モルおよび有機溶媒10〜30モルを混合
して得られる縮合組成物(C)と、一般式(R6 s
i(OR5 4-s (式中、R5 およびR6 は炭素数1〜
5のアルキル基、sは0〜3の整数)で表されるアルコ
キシシラン1モル、pHが0〜2.6の酸性水溶液3〜
8モルおよび有機溶媒10〜30モルを混合して得られ
る縮合組成物(D)とを、重量比(C)/(D)=0.
4〜2.4で混合し、得られた組成物を塗布することに
より得られる層からなることを特徴とする光透過率40
%以上の積層体の製造方法である。
The present invention 3 (the invention of claim 3 is referred to as the present invention 3) is a high refractive index layer having conductivity and a low refractive index layer on the surface of a substrate, and the low refractive index layer is the outermost layer. So that
A method for producing a laminate having a plurality of laminated layers, wherein the high refractive index layer is the high refractive index layer according to claim 1 or 2, and the low refractive index layer is the general formula Si (OR 4 ) 4 (In the formula,
R 4 is a mixture of 1 mol of a tetraalkoxysilane represented by an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, 2 to 8 mol of basic water having a pH of 10.0 to 12.0, and 10 to 30 mol of an organic solvent. The resulting condensation composition (C) and the general formula (R 6 ) s S
i (OR 5 ) 4-s (In the formula, R 5 and R 6 are each a carbon number of 1 to
Alkyl group of 5; s is an integer of 0 to 3) 1 mole of alkoxysilane represented by pH of 0 to 2.6;
8 mol and a condensation composition (D) obtained by mixing 10 to 30 mol of an organic solvent were used in a weight ratio (C) / (D) = 0.
A light transmittance of 40, which comprises a layer obtained by coating the composition obtained by mixing at 4 to 2.4.
% Of the laminated body.

【0054】本発明3の積層体の製造方法で用いられる
縮合組成物(C)は、Si(OR44 (式中、R4
炭素数1〜5のアルキル基)で表されるテトラアルコキ
シシラン、塩基性水及び有機溶媒を混合し、アルコキシ
シランを部分加水分解、重縮合させて得られる。
The condensation composition (C) used in the method for producing a laminate according to the third aspect of the present invention is a tetrahedral compound represented by Si (OR 4 ) 4 (wherein R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms). It is obtained by mixing alkoxysilane, basic water and an organic solvent, and partially hydrolyzing and polycondensing the alkoxysilane.

【0055】上記のSi(OR4 4 で表されるテトラ
アルコキシシランにおいて、R4 は、炭素数が多くなる
と、組成物の安定性が低下して長期保存性が悪くなるの
で、炭素数1〜5のアルキル基に限定され、例えば、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル
基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、ネオ−ペ
ンチル基などが挙げられる。
In the above tetraalkoxysilane represented by Si (OR 4 ) 4 , when R 4 has a large number of carbons, the stability of the composition decreases and the long-term storage stability deteriorates. To 5 alkyl groups, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, iso-pentyl group. Group, neo-pentyl group and the like.

【0056】Si(OR4 4 で表されるテトラアルコ
キシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラ
ン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−
ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テ
トラ−tert−ブトキシシラン、テトラ−n−ペント
キシシラン、テトラ−iso−ペントキシシラン、テト
ラネオペントキシシランなどが挙げられ、加水分解、重
縮合における反応性の点から、テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシランが好ましく、テトラエトキシシラ
ンが特に好ましい。
Examples of the tetraalkoxysilane represented by Si (OR 4 ) 4 include tetramethoxysilane and
Tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-
Butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetra-n-pentoxysilane, tetra-iso-pentoxysilane, tetraneopentoxysilane and the like are mentioned, and the reaction in hydrolysis and polycondensation. From the point of sex, tetramethoxysilane,
Tetraethoxysilane is preferred, and tetraethoxysilane is particularly preferred.

【0057】上記塩基性水とは、塩基種によりpHが1
0.0〜12.0に調整された水をいう。塩基種は、水
のpHを10.0〜12.0に調整できるものであれ
ば、特に限定されず、例えば、アンモニア、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等が挙げられ、pH調整の容易
さ、及び不純物が混入しにくいこと等からアンモニアが
特に好ましい。
The above basic water has a pH of 1 depending on the type of base.
It means water adjusted to 0.0 to 12.0. The base species is not particularly limited as long as it can adjust the pH of water to 10.0 to 12.0, and examples thereof include ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like. Ammonia is particularly preferable because it is less likely to contain impurities.

【0058】塩基性水のpHは、低くなると、得られる
コロイダルシリカの分子量が低下し、反射防止被膜の形
成が困難となり、高くなると、得られる縮合組成物
(C)の安定性が低下するので、10.0〜12.0に
限定され、10.3〜11.5が好ましく、10.8〜
11.4が特に好ましい。
When the pH of the basic water is low, the molecular weight of the colloidal silica obtained is low, making it difficult to form an antireflection coating, and when it is high, the stability of the condensation composition (C) obtained is low. It is limited to 10.0 to 12.0, preferably 10.3 to 11.5, and 10.8 to
11.4 is particularly preferred.

【0059】塩基性水は、少なくなると、得られるコロ
イダルシリカの分子量が低下し、反射防止層の形成が困
難となり、多くなると、縮合組成物(C)の安定性が低
下するので、上記のテトラアルコキシシラン1モルに対
して、2〜8モル添加され、3〜4モル添加するのが好
ましい。
When the amount of basic water is small, the molecular weight of the colloidal silica obtained is low, making it difficult to form an antireflection layer, and when it is high, the stability of the condensation composition (C) is low. 2 to 8 moles, preferably 3 to 4 moles, are added to 1 mole of alkoxysilane.

【0060】有機溶媒は、上記のテトラアルコキシシラ
ンおよび塩基性水と相溶性のあるものであれば特に限定
されるものではなく、例えば、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、エトキシエチ
ルアルコール、アリルアルコール等が挙げられるが、特
にイソプロピルアルコールが好ましい。
The organic solvent is not particularly limited as long as it is compatible with the above tetraalkoxysilane and basic water, and examples thereof include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, ethoxyethyl alcohol and allyl alcohol. Etc., but isopropyl alcohol is particularly preferable.

【0061】有機溶媒の添加量は、少なくなると、縮合
組成物(C)の安定性が低下し、多くなると、得られる
コロイダルシリカの分子量が低下し、反射防止被膜の形
成が困難となるので、上記のテトラアルコキシシラン1
モルに対して10〜30モルに限定され、組成物の安定
性の点から、テトラアルコキシシラン1モルに対して1
3〜18モルが好ましい。
When the amount of the organic solvent added is small, the stability of the condensation composition (C) is low, and when it is large, the molecular weight of the obtained colloidal silica is low and it becomes difficult to form an antireflection coating. The above tetraalkoxysilane 1
The amount is limited to 10 to 30 mol per mol, and from the viewpoint of stability of the composition, 1 mol per tetraalkoxysilane
3-18 mol is preferable.

【0062】縮合組成物(C)の調製方法は、特に限定
されず、例えば、上記のテトラアルコキシシラン、塩基
性水及び有機溶媒を、攪拌機に供給し混合し製造する方
法が挙げられる。攪拌機としては、特に限定されるわけ
ではなく、マグネチックスターラーのような簡便な攪拌
機で十分である。
The method for preparing the condensation composition (C) is not particularly limited, and examples thereof include a method in which the above-mentioned tetraalkoxysilane, basic water and an organic solvent are supplied to a stirrer and mixed to produce them. The stirrer is not particularly limited, and a simple stirrer such as a magnetic stirrer is sufficient.

【0063】縮合組成物(C)を調製する際の温度は、
低くなると、重縮合反応が不充分となり、高くなると、
縮合組成物(C)の安定性が低下するので、10〜30
℃で行うのが好ましく、20〜25℃が特に好ましい。
The temperature for preparing the condensation composition (C) is
When it becomes lower, the polycondensation reaction becomes insufficient, and when it becomes higher,
Since the stability of the condensation composition (C) decreases, it is 10 to 30.
It is preferably carried out at a temperature of 20 ° C., particularly preferably 20 to 25 ° C.

【0064】縮合組成物(C)を調製する際の時間は、
短くなると、重縮合反応の反応速度が低下し、長くなる
と、縮合組成物(C)の安定性が低下するので、1〜1
0時間が好ましく、2〜4時間が特に好ましい。従っ
て、縮合組成物(C)の調製は、10〜30℃で、1〜
10時間行うのが好ましく、20〜25℃で、2〜4時
間行うのが特に好ましい。
The time for preparing the condensation composition (C) is
When it is shortened, the reaction rate of the polycondensation reaction is lowered, and when it is lengthened, the stability of the condensation composition (C) is lowered.
0 hours are preferred, and 2-4 hours are particularly preferred. Therefore, the condensation composition (C) is prepared at 10 to 30 ° C.
It is preferably carried out for 10 hours, particularly preferably at 20 to 25 ° C. for 2 to 4 hours.

【0065】本発明3の積層体の製造方法で用いられる
縮合組成物(D)は、一般式(R6s Si(OR5
4-s (式中、R5 およびR6 は炭素数1〜5のアルキル
基、sは0〜3の整数)で表されるアルコキシシラン、
酸性水及び有機溶媒を混合し、アルコキシシランを部分
加水分解、重縮合させて得られる。
The condensation composition (D) used in the method for producing a laminate of the present invention 3 has the general formula (R 6 ) s Si (OR 5 ).
An alkoxysilane represented by 4-s (in the formula, R 5 and R 6 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, s is an integer of 0 to 3),
It is obtained by mixing acidic water and an organic solvent and partially hydrolyzing and polycondensing an alkoxysilane.

【0066】上記の一般式(R6 s Si(OR5
4-s で表されるアルコキシシランにおいて、R5 および
6 は、炭素数が多くなると、縮合組成物の安定性が低
下して長期安定性が悪くなるので、炭素数1〜5のアル
キル基に限定され、例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、se
c−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、
iso−ペンチル基、ネオ−ペンチル基などが挙げられ
る。なお、sは0〜3の整数を示す。
The above general formula (R 6 ) s Si (OR 5 )
In the alkoxysilane represented by 4-s , when R 5 and R 6 have a large number of carbon atoms, the stability of the condensation composition decreases and the long-term stability deteriorates. And a methyl group, an ethyl group, n-
Propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, se
c-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group,
Examples thereof include an iso-pentyl group and a neo-pentyl group. In addition, s shows the integer of 0-3.

【0067】(R6 s Si(OR5 4-s で表される
アルコキシシランは、特に限定されず、例えば、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−
プロポキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラ
ン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブ
トキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テ
トラ−n−ペントキシシラン、テトラ−iso−ペント
キシシラン、テトラ−ネオペントキシシラン、モノメチ
ルトリメトキシシラン、モノメチルトリエトキシシラ
ン、モノメチルトリ−n−プロポキシシラン、モノメチ
ルトリ−iso−プロポキシシラン、モノメチルトリ−
n−ブトキシシラン、モノメチルトリ−sec−ブトキ
シシラン、モノメチルトリ−tert−ブトキシシラ
ン、モノメチルトリ−n−ペントキシシラン、モノメチ
ルトリ−iso−ペントキシシラン、モノメチルトリ−
ネオペントキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
ジメチルジ−n−プロポキシシラン、ジメチルジ−is
o−プロポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシシラ
ン、ジメチルジ−sec−ブトキシシラン、ジメチルジ
−tert−ブトキシシラン、ジメチルジ−n−ペント
キシシラン、ジメチルジ−iso−ペントキシシラン、
ジメチルジ−ネオペントキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、トリメチルモノメトキシシラン、トリメチル
モノエトキシシラン、トリメチルモノ−n−プロポキシ
シラン、トリメチルモノ−iso−プロポキシシラン、
トリメチルモノ−n−ブトキシシラン、トリメチルモノ
−sec−ブトキシシラン、トリメチルモノ−tert
−ブトキシシラン、トリメチルモノ−n−ペントキシシ
ラン、トリメチルモノ−iso−ペントキシシラン、ト
リメチルモノ−ネオペントキシシラン、トリエチルエト
キシシランなどが挙げられ、反応性の点からテトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、モノメチルトリエ
トキシシランが好ましく、特に、テトラエトキシシラン
が好ましい。
The alkoxysilane represented by (R 6 ) s Si (OR 5 ) 4-s is not particularly limited, and examples thereof include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane and tetra-n-.
Propoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetra-n-pentoxysilane, tetra-iso-pentoxysilane, tetra-neo. Pentoxysilane, monomethyltrimethoxysilane, monomethyltriethoxysilane, monomethyltri-n-propoxysilane, monomethyltri-iso-propoxysilane, monomethyltri-
n-Butoxysilane, monomethyltri-sec-butoxysilane, monomethyltri-tert-butoxysilane, monomethyltri-n-pentoxysilane, monomethyltri-iso-pentoxysilane, monomethyltri-
Neopentoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane,
Dimethyldi-n-propoxysilane, dimethyldi-is
o-propoxysilane, dimethyldi-n-butoxysilane, dimethyldi-sec-butoxysilane, dimethyldi-tert-butoxysilane, dimethyldi-n-pentoxysilane, dimethyldi-iso-pentoxysilane,
Dimethyldi-neopentoxysilane, diethyldiethoxysilane, trimethylmonomethoxysilane, trimethylmonoethoxysilane, trimethylmono-n-propoxysilane, trimethylmono-iso-propoxysilane,
Trimethylmono-n-butoxysilane, trimethylmono-sec-butoxysilane, trimethylmono-tert
-Butoxysilane, trimethylmono-n-pentoxysilane, trimethylmono-iso-pentoxysilane, trimethylmono-neopentoxysilane, triethylethoxysilane, etc., and tetramethoxysilane, tetraethoxysilane from the viewpoint of reactivity. , Monomethyltriethoxysilane is preferable, and tetraethoxysilane is particularly preferable.

【0068】上記酸性水とは、酸性種によりpHが0〜
2.6に調整された水をいう。酸性種は、水のpHを、
0〜2.6に調整できるものであれば、特に限定され
ず、例えば、塩酸、硝酸、硫酸等が挙げられ、塩酸、硝
酸が好ましく、塩酸が特に好ましい。
The acidic water has a pH of 0 to 0 depending on the acidic species.
It means water adjusted to 2.6. Acidic species increase the pH of water
It is not particularly limited as long as it can be adjusted to 0 to 2.6, and examples thereof include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid and the like, hydrochloric acid and nitric acid are preferable, and hydrochloric acid is particularly preferable.

【0069】酸性水のpHは、高くなると、アルコキシ
シランの加水分解が不十分となるので、0〜2.6に限
定され、又、低すぎると、縮合組成物(D)の安定性が
低下することがあり、又、高すぎると、アルコキシシラ
ンの加水分解が不充分となることがあるので、1.0〜
1.7が好ましく、1.1〜1.2が、特に好ましい。
When the pH of the acidic water is high, the hydrolysis of the alkoxysilane is insufficient, so the pH is limited to 0 to 2.6, and when it is too low, the stability of the condensation composition (D) is lowered. If it is too high, hydrolysis of the alkoxysilane may be insufficient, so 1.0-
1.7 is preferable, and 1.1 to 1.2 is particularly preferable.

【0070】酸性水の添加量は、少なくなると、アルコ
キシシランの加水分解が不十分となり、更に、得られる
組成物の基材への塗布が困難となり、多くなると、縮合
組成物(D)の安定性が低下するので、(R6 s Si
(OR5 4-s で表されるアルコキシシラン1モルに対
して3〜8モルに限定され、4〜7モルが好ましい。
If the amount of the acidic water added is small, the hydrolysis of the alkoxysilane will be insufficient, and it will be difficult to apply the resulting composition to the substrate. If the amount is large, the stability of the condensation composition (D) will be improved. Properties are reduced, (R 6 ) s Si
It is limited to 3 to 8 mol, preferably 4 to 7 mol, per 1 mol of alkoxysilane represented by (OR 5 ) 4-s .

【0071】上記有機溶媒は、(R6 s Si(O
5 4-s で表されるアルコキシシラン及び酸性水に相
溶するものであれば、特に限定されず、例えば、縮合組
成物(C)の製造に用いられるものと同様のものが用い
られ、有機溶媒の添加量は、少なくなると、縮合組成物
(D)の安定性が低下し、多くなると、アルコキシシラ
ンが十分に加水分解されないので、(R6 s Si(O
5 4-s で表されるアルコキシシラン1モルに対し
て、10〜30モルに限定され、13〜18モルが好ま
しい。
The above organic solvent is (R 6 ) s Si (O
There is no particular limitation as long as it is compatible with the alkoxysilane represented by R 5 ) 4-s and acidic water, and for example, the same one as used in the production of the condensation composition (C) can be used. When the addition amount of the organic solvent is small, the stability of the condensation composition (D) is lowered, and when the addition amount is large, the alkoxysilane is not sufficiently hydrolyzed, so that (R 6 ) s Si (O
It is limited to 10 to 30 mol, preferably 13 to 18 mol, per 1 mol of alkoxysilane represented by R 5 ) 4-s .

【0072】縮合組成物(D)の調製方法は、特に限定
されず、例えば、(R6 s Si(OR5 4-s で表さ
れるアルコキシシラン、酸性水及び有機溶媒を、攪拌機
に供給し混合し調製する方法が挙げられる。攪拌機とし
ては、特に限定されるわけではなく、マグネチックスタ
ーラーのような簡便な攪拌機で十分である。
The method for preparing the condensation composition (D) is not particularly limited, and for example, an alkoxysilane represented by (R 6 ) s Si (OR 5 ) 4-s , acidic water and an organic solvent are added to a stirrer. The method of supplying, mixing and preparing is mentioned. The stirrer is not particularly limited, and a simple stirrer such as a magnetic stirrer is sufficient.

【0073】縮合組成物(D)を調製する際の温度は、
低くなると、重縮合反応が不充分となり、高くなると、
縮合組成物(D)の安定性が低下するので、10〜30
℃で行うのが好ましく、20〜25℃が特に好ましい。
The temperature for preparing the condensation composition (D) is
When it becomes lower, the polycondensation reaction becomes insufficient, and when it becomes higher,
Since the stability of the condensation composition (D) decreases, it is 10 to 30.
It is preferably carried out at a temperature of 20 ° C., particularly preferably 20 to 25 ° C.

【0074】縮合組成物(D)を製造する際の時間は、
短くなると、十分な分子量が得られなくなり、長くなる
と、縮合組成物(D)の安定性が低下するので、1〜1
0時間が好ましく、2〜4時間が特に好ましい。従っ
て、縮合組成物(D)の製造は、10〜30℃で、1〜
10時間行うのが好ましく、20〜25℃で、2〜4時
間行うのが特に好ましい。
The time for producing the condensation composition (D) is
When the length is short, a sufficient molecular weight cannot be obtained, and when the length is long, the stability of the condensation composition (D) decreases, so that 1 to 1
0 hours are preferred, and 2-4 hours are particularly preferred. Therefore, the condensation composition (D) is produced at 10 to 30 ° C.
It is preferably carried out for 10 hours, particularly preferably at 20 to 25 ° C. for 2 to 4 hours.

【0075】本発明3で使用される組成物の製造方法
は、上記縮合組成物(C)及び縮合組成物(D)を、重
量比(C)/(D)=0.4〜2.4で混合する。
In the method for producing the composition used in the third aspect of the present invention, the condensation composition (C) and the condensation composition (D) are mixed in a weight ratio (C) / (D) = 0.4 to 2.4. Mix with.

【0076】縮合組成物(C)が、少なくなると、得ら
れる被膜の多孔率が低下し、得られる積層体の反射防止
効果が低下し、多くなると、得られる被膜と基材との密
着性が低下するので、縮合組成物(C)と縮合組成物
(D)の重量比は、0.4〜2.4に限定され、組成物
の安定性及び被膜と基材の密着性の向上のため、1.5
〜2.3が好ましい。
When the amount of the condensation composition (C) is small, the porosity of the obtained coating film is low, and the antireflection effect of the obtained laminate is low, and when it is large, the adhesion between the obtained coating film and the substrate is low. Therefore, the weight ratio of the condensation composition (C) and the condensation composition (D) is limited to 0.4 to 2.4, for improving the stability of the composition and the adhesion between the coating and the substrate. , 1.5
~ 2.3 is preferred.

【0077】縮合組成物(C)と縮合組成物(D)を混
合する際の温度は、低くなると、コロイダルシリカとシ
リカゾルの重縮合が困難となり、得られる被膜の反射防
止効果が低下し、高くなると、得られる組成物の安定性
が低下するので、−10〜30℃で行うのが好ましく、
−8〜25℃が特に好ましい。
When the temperature at which the condensation composition (C) and the condensation composition (D) are mixed becomes low, polycondensation of the colloidal silica and silica sol becomes difficult, and the antireflection effect of the obtained coating is lowered, and the temperature is high. If so, the stability of the obtained composition is lowered, so it is preferable to carry out at -10 to 30 ° C,
-8-25 degreeC is especially preferable.

【0078】縮合組成物(C)と縮合組成物(D)を混
合する時間は、短くなると、コロイダルシリカとシリカ
ゾルの重縮合が不十分となり、得られる被膜の反射防止
効果が低下し、長くなると、ゾルの安定性が低下するの
で、0.5〜4時間が好ましく、特に2〜3時間が好ま
しい。従って、縮合組成物(C)と縮合組成物(D)の
混合は、−10〜30℃で、0.5〜4時間行うのが好
ましく、−8〜25℃で、2〜3時間行うのが特に好ま
しい。
When the time for mixing the condensation composition (C) and the condensation composition (D) is shortened, the polycondensation of the colloidal silica and silica sol becomes insufficient, and the antireflection effect of the obtained coating is lowered, and the time is prolonged. , The stability of the sol decreases, so that 0.5 to 4 hours are preferable, and 2 to 3 hours are particularly preferable. Therefore, the mixing of the condensation composition (C) and the condensation composition (D) is preferably performed at -10 to 30 ° C for 0.5 to 4 hours, and at -8 to 25 ° C for 2 to 3 hours. Is particularly preferable.

【0079】縮合組成物(C)と縮合組成物(D)を混
合する方法は、特に限定されず、例えば、縮合組成物
(C)及び縮合組成物(D)を、攪拌機に供給し攪拌混
合し製造する方法が挙げられる。攪拌機としては、特に
限定されるわけではなく、マグネチックスターラーのよ
うな簡便な攪拌機で十分である。
The method of mixing the condensation composition (C) and the condensation composition (D) is not particularly limited, and for example, the condensation composition (C) and the condensation composition (D) are fed to a stirrer and mixed by stirring. And a method of manufacturing the same. The stirrer is not particularly limited, and a simple stirrer such as a magnetic stirrer is sufficient.

【0080】本発明3の積層体の製造方法は、基材の表
面上に導電性を有する高屈折率層と、低屈折率層を、低
屈折率層が最外層となるように、複層積層した積層体の
製造方法であって、上記高屈折率層が請求項1または2
記載の高屈折率層であり、さらに上記低屈折率層が、上
記の組成物より得られる層からなる。上記の低屈折率層
を積層する方法は、上記の組成物を塗布し、硬化させる
ことにより行う。
The method for producing a laminate of the present invention 3 is a multilayer structure in which a conductive high refractive index layer and a low refractive index layer are provided on the surface of a base material, and the low refractive index layer is the outermost layer. A method for producing a laminated body, wherein the high refractive index layer is a layered product.
The high refractive index layer described above, and the low refractive index layer further comprises a layer obtained from the composition. The method for laminating the low refractive index layer is performed by applying the composition and curing the composition.

【0081】上記の積層に使用される基材および塗布方
法としては、特に限定されるものではなく、本発明記載
の基材および塗布方法と同様である。なお、塗布は、大
気中の湿度が高いと、得られる被膜が白濁するので、大
気中の相対湿度50%以下で行うのが好ましい。
The substrate and coating method used for the above-mentioned lamination are not particularly limited, and are the same as the substrate and coating method described in the present invention. It should be noted that the coating is preferably performed at a relative humidity of 50% or less in the atmosphere because the obtained coating becomes cloudy when the humidity in the atmosphere is high.

【0082】組成物を塗布する際、膜厚は、特に限定さ
れないが、反射防止効果を得たい波長と、以下の関係と
なる被膜が得られる様に組成物を塗布することは、反射
防止効果の向上を図ることができ、好適である。
When the composition is applied, the film thickness is not particularly limited, but it is necessary to apply the composition so that a coating having the following relationship with the wavelength for which the antireflection effect is desired is obtained. This is preferable because it can be improved.

【0083】d=(1/4+m/2)×λ/n d:被膜の膜厚 λ:反射防止効果を得たい波長 n:被膜の屈折率 m:0又は自然数D = (1/4 + m / 2) × λ / n d: film thickness of coating λ: wavelength at which antireflection effect is desired n: refractive index of coating m: 0 or natural number

【0084】なお、上記の組成物を塗布する際、必要に
応じて、溶媒により希釈し、組成物の粘度を調整するこ
とは、組成物の基材上への塗布効率が向上し好適であ
る。
When the above composition is applied, it is preferable to dilute it with a solvent to adjust the viscosity of the composition, if necessary, because the coating efficiency of the composition on the substrate is improved. .

【0085】かかる場合、用いられる溶媒は、上記の組
成物と相溶性を有するものであれば、特に限定されず、
例えば、イソプロピルアルコール、エトキシエタノー
ル、アリルアルコール等が挙げられ、得られる被膜の多
孔性の向上の点から、イソプロピルアルコール、エトキ
シエタノールが好ましい。
In such a case, the solvent used is not particularly limited as long as it is compatible with the above composition,
For example, isopropyl alcohol, ethoxy ethanol, allyl alcohol and the like can be mentioned, and from the viewpoint of improving the porosity of the obtained coating, isopropyl alcohol and ethoxy ethanol are preferable.

【0086】上記硬化方法としては、特に限定されるも
のではなく、室温にて自然乾燥して硬化させてもよい
し、加熱乾燥して硬化させてもよい。例えば、基材とし
てケイ酸ガラスを使用し、その表面に請求項1または2
に記載された高屈折率層が積層された材料の表面に、上
記の低屈折率層被覆用組成物を前記の方法で、積層し、
室温で自然乾燥を行った後、60〜300℃の温度で硬
化させると、組成物中のシリカゾルが硬化したシリコン
マトリックスとコロイダルシリカの収縮率の差異により
多孔質化された、反射防止性の被膜が形成された積層体
が得られる。また、例えば、基材としてプラスチックス
製品を使用し、その表面に請求項1または2に記載され
た高屈折率層が積層された材料の表面に、上記の低屈折
率層被覆用組成物を前記の方法で、積層し、室温で自然
乾燥を行った後、60〜150℃、好ましくは、80〜
100℃の温度で硬化させると、同様に多孔質化され
た、反射防止性の被膜が形成された積層体が得られる。
The above-mentioned curing method is not particularly limited, and may be naturally dried at room temperature to be cured, or may be dried by heating to be cured. For example, silicate glass is used as a substrate, and the surface thereof is defined by claim 1.
On the surface of the material having the high refractive index layer described in 1 above, the above low refractive index layer coating composition is laminated by the above method,
After air-drying at room temperature and then curing at a temperature of 60 to 300 ° C., the silica sol in the composition is made porous due to the difference in shrinkage ratio between the cured silicon matrix and colloidal silica, and an antireflection coating. A laminated body in which is formed is obtained. Further, for example, a plastic product is used as a substrate, and the composition for coating a low refractive index layer is provided on the surface of a material having the high refractive index layer according to claim 1 or 2 laminated thereon. After laminating by the above-mentioned method and naturally drying at room temperature, the temperature is 60 to 150 ° C., preferably 80 to
When it is cured at a temperature of 100 ° C., a laminate having an antireflection coating, which is also made porous, is obtained.

【0087】本発明1〜3の積層体の光透過率について
は、ASTM D−1003による全光線透過率により
測定する。
The light transmittance of the laminates of the present inventions 1 to 3 is measured by the total light transmittance according to ASTM D-1003.

【0088】本発明、本発明2及び本発明3の積層体の
製造方法において、高屈折率層および低屈折率層のそれ
ぞれの層の積層に際して、既に積層させた層を硬化させ
ておくと、次の層を形成するために塗液を塗布しても下
地の層からの溶出現象が起こらないという長所がある。
In the method for producing a laminate of the present invention, the present invention 2 and the present invention 3, when the respective layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated, the layers already laminated are cured. Even if a coating liquid is applied to form the next layer, there is an advantage that the elution phenomenon from the underlying layer does not occur.

【0089】本発明、本発明2及び本発明3の積層体の
製造方法において、高屈折率層および低屈折率層を交互
に複層積層し、多層積層体とすることにより、広い波長
範囲の光に対して、反射防止効果を発現することができ
る。
In the method for producing a laminate of the present invention, the present invention 2 and the present invention 3, a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated to form a multi-layer laminate, thereby providing a wide wavelength range. An antireflection effect can be exhibited with respect to light.

【0090】[0090]

【作用】本発明および本発明2で使用される帯電防止被
覆用組成物から上記のようにして作製された高屈折率層
は、硝酸からのプロトンが均一に存在しているので導電
性が高く、また、導電性微粒子の添加によるヘイズ等が
ないため透明性が高い。また、ジルコニウムテトラアル
コキシドまたはチタニウムテトラアルコキシドが、特定
量配合された組成物から得られた被膜であるので、被膜
が緻密なため耐水性が特に向上している。また、金属酸
化物系被膜が形成されているので、硬い材料で強く摩擦
しても傷が付きにくく、引っ掻き傷による外観低下をお
こしにくく、長期に渡って性能を維持できる。従って、
本発明および本発明2の製造方法によると、被膜形成前
の基材の光学特性を保持したまま、十分な帯電防止性能
を有する耐水性高屈折率層を得ることができる。本発明
および本発明2の積層体の製造方法によれば、さらに、
上記高屈折率層の表面に、低屈折率層が積層されている
ので、基材上に反射防止効果および帯電防止効果の高い
被膜が形成された光透過率40%以上の積層体を容易に
製造し得る。
The high refractive index layer produced as described above from the antistatic coating composition used in the present invention and the present invention 2 has high conductivity because protons from nitric acid are uniformly present. Moreover, since there is no haze due to the addition of the conductive fine particles, the transparency is high. Further, since the zirconium tetraalkoxide or the titanium tetraalkoxide is a coating film obtained from a composition in which a specific amount of the zirconium tetraalkoxide or titanium tetraalkoxide is mixed, the water resistance is particularly improved because the coating film is dense. Further, since the metal oxide film is formed, it is hard to be scratched by a hard material even if it is strongly rubbed, the appearance is less likely to be deteriorated due to scratches, and the performance can be maintained for a long time. Therefore,
According to the present invention and the production method of the present invention 2, it is possible to obtain a water resistant high refractive index layer having sufficient antistatic performance while maintaining the optical characteristics of the substrate before film formation. According to the method for producing a laminate of the present invention and the present invention 2, further,
Since the low refractive index layer is laminated on the surface of the high refractive index layer, a laminate having a light transmittance of 40% or more in which a coating having a high antireflection effect and an antistatic effect is formed on a substrate can be easily formed. Can be manufactured.

【0091】本発明3で使用される低屈折率層被覆用組
成物は、縮合組成物(C)では、アルコキシシランの重
縮合がかなり進みコロイダルシリカが形成されており、
縮合組成物(D)では、アルコキシシランの重縮合が比
較的進まず、シリカゾルの段階で抑えられており、この
両者の混合物である上記組成物は、コロイダルシリカと
シリカゾルの混合物となっている。この組成物を請求項
1または2記載の高屈折率層が積層された基材上に塗
布、硬化させることにより、シリカゾルとコロイダルシ
リカの重縮合反応を進行させ、シリカゾルとコロイダル
シリカの収縮率の差異により多孔化された被膜を得るこ
とができる。また、この被膜は、無機質であるので、ス
チールウールなどの硬い材料で摩擦しても傷が付き難
く、引っ掻き傷による外観低下をおこし難い。従って、
本発明3によると、基材上に反射防止効果および帯電防
止効果が高く、透明であり、また、耐擦傷性に優れた被
膜が形成された光透過率40%以上の積層体を容易に製
造し得る。
In the composition for coating a low refractive index layer used in the present invention 3, in the condensation composition (C), polycondensation of alkoxysilane is considerably advanced to form colloidal silica,
In the condensation composition (D), the polycondensation of the alkoxysilane does not proceed relatively and is suppressed at the stage of silica sol, and the above composition, which is a mixture of both, is a mixture of colloidal silica and silica sol. By coating this composition on a substrate on which the high refractive index layer according to claim 1 or 2 is laminated and curing the composition, the polycondensation reaction of silica sol and colloidal silica is promoted, and the shrinkage ratio of silica sol and colloidal silica is increased. Due to the difference, it is possible to obtain a porous film. Further, since this coating is an inorganic substance, it is less likely to be scratched even when it is rubbed with a hard material such as steel wool, and the appearance is not easily deteriorated due to scratches. Therefore,
According to the present invention 3, a laminate having a high antireflection effect and an antistatic effect on a substrate, being transparent, and having a coating film excellent in scratch resistance and having a light transmittance of 40% or more can be easily produced. You can

【0092】[0092]

【実施例】以下、本発明、本発明2および本発明3の実
施例を説明する。なお、結果に示した積層体に関する各
物性の評価方法は次の通りであった。
EXAMPLES Examples of the present invention, the present invention 2 and the present invention 3 will be described below. In addition, the evaluation method of each physical property regarding the laminated body shown in the result was as follows.

【0093】(1) 静電電位測定 評価試料を布で摩擦し、その後の静電電位を静電電位測
定器KSD−0102(春日電気社製)で測定した。 (2) 反射率 分光光度計(島津製作所社製、商品名「UV−3101
PC」)を用いて、被膜が積層されていない基材のみの
光線透過率を400〜800nmの範囲で測定し、その
最大透過率(TB )と、基材の屈折率より算出した両面
最小反射率(R E )とから、次式により基材の吸収率
(α)を算出する。 α=100−(TB +RE ) 次に、低屈折率層および高屈折率層が積層された積層体
の光線透過率を400〜800nmの範囲で測定し、そ
の最大透過率(TS )と、上式で得られた基材の吸収率
(α)とから、次式により片面最小反射率(R)を算出
する。 R=〔100−(TS +α)〕/2
(1) Electrostatic potential measurement The evaluation sample was rubbed with a cloth and the electrostatic potential after that was measured.
The measurement was performed with a meter KSD-0102 (manufactured by Kasuga Denki). (2) Reflectance Spectrophotometer (Shimadzu Corporation, trade name "UV-3101
PC ”), using only the substrate without the coating laminated
The light transmittance is measured in the range of 400 to 800 nm, and
Maximum transmittance (TB) And both sides calculated from the refractive index of the substrate
Minimum reflectance (R E) And the absorption rate of the substrate
Calculate (α). α = 100- (TB+ RE) Next, a laminated body in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated
The light transmittance of is measured in the range of 400 to 800 nm.
Maximum transmittance of (TS) And the absorption rate of the substrate obtained by the above formula
Calculate the one-sided minimum reflectance (R) from (α) using the following formula
I do. R = [100- (TS+ Α)] / 2

【0094】(3) 鉛筆硬度 得られた積層体の被膜層を、JIS K 5400に準
じて測定して評価した。 (4) 耐水性試験 得られた積層体を、蒸留水中に30分間浸漬した後、乾
燥し、上記(1) と同様にして静電電位測定を行った。 (5) 光透過性 得られた積層体を、ASTM D−1003によって、
光透過率を測定し以下のようにして判定した。 ○ 光透過率が40%以上であった。 × 光透過率が40%未満であった。
(3) Pencil hardness The coating layer of the obtained laminate was measured and evaluated according to JIS K5400. (4) Water resistance test The obtained laminated body was immersed in distilled water for 30 minutes, dried, and then subjected to electrostatic potential measurement in the same manner as in (1) above. (5) Light Transmittance The obtained laminate was measured by ASTM D-1003.
The light transmittance was measured and judged as follows. The light transmittance was 40% or more. × The light transmittance was less than 40%.

【0095】実施例1〜4、比較例1〜20 (1)高屈折率層被覆用組成物(帯電防止被覆用組成
物)(1)〜(11)の調製 以下の実施例1〜4および比較例1〜20において、導
電性を有する高屈折率層を得るための被覆用組成物の配
合は、アミノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)
としてN−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシランを用い、エポキシアルキルアルコキ
シシラン化合物B(b)としてγ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランを用い、ジルコニウムテトラアル
コキシド(c)として、ジルコニウムテトラ−n−ブト
キシドを用いた。配合量は、N−(β−アミノエチル)
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン:γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン:ジルコニウムテト
ラ−n−ブトキシドのモル比が表1に示したようになる
ように配合した。有機溶媒(e)としては、メチルアル
コールを使用し、水(f)は蒸留水を使用した。配合量
は、アミノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)1
モルに対して、メチルアルコールが20モル、水が3モ
ルとなるように配合した。硝酸(d)は、アミノアルキ
ルアルコキシシラン化合物A(a)1モルに対して表1
に示したモル数で配合した。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 20 (1) Preparation of high refractive index layer coating composition (antistatic coating composition) (1) to (11) The following Examples 1 to 4 and In Comparative Examples 1 to 20, the composition of the coating composition for obtaining the conductive high refractive index layer was prepared by aminoaminoalkoxysilane compound A (a).
As N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane as the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b), and zirconium tetraalkoxide (c) as Zirconium tetra-n-butoxide was used. The compounding amount is N- (β-aminoethyl)
-Γ-Aminopropyltrimethoxysilane: γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane: zirconium tetra-n-butoxide were mixed so that the molar ratio was as shown in Table 1. Methyl alcohol was used as the organic solvent (e), and distilled water was used as the water (f). The compounding amount is the aminoalkylalkoxysilane compound A (a) 1.
The amount of methyl alcohol was 20 mol and the amount of water was 3 mol with respect to the mol. The nitric acid (d) was added in Table 1 to 1 mol of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a).
Compounded in the number of moles shown in.

【0096】上記の高屈折率層被覆用組成物を得るため
の具体的な操作手順は以下の通りに行った。上述の所定
量のメチルアルコールの半量をガラスビーカーに供給
し、上述の所定量のN−(β−アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシランを加え、N−(β−ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
のアルコール溶液を得る。このアルコール溶液に、上述
の所定量の硝酸と、上述の所定量の水の3/4量を添加
し、室温で3時間、攪拌速度800rpmで攪拌して、
N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシランの加水分解物のアルコール水溶液を得た。
The specific operation procedure for obtaining the above composition for coating a high refractive index layer was carried out as follows. Half of the above-mentioned predetermined amount of methyl alcohol is supplied to a glass beaker, the above-mentioned predetermined amount of N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane is added, and N- (β-aminoethyl) -γ is added. Obtaining an alcoholic solution of aminopropyltrimethoxysilane. To this alcohol solution, the above-mentioned predetermined amount of nitric acid and the above-mentioned predetermined amount of water 3/4 amount were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours at a stirring speed of 800 rpm,
An alcohol aqueous solution of a hydrolyzate of N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane was obtained.

【0097】一方、上述の所定量のメチルアルコールの
半量をガラスビーカーに供給し、上述の所定量のγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランとジルコニウム
テトラ−n−ブトキシドを加えて、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシランとジルコニウムテトラ−n−
ブトキシドのアルコール溶液を得た。
On the other hand, half of the above-mentioned predetermined amount of methyl alcohol was supplied to a glass beaker, and the above-mentioned predetermined amounts of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and zirconium tetra-n-butoxide were added to the γ-glycid. Xypropyltrimethoxysilane and zirconium tetra-n-
An alcoholic solution of butoxide was obtained.

【0098】得られたアルコール溶液に、上述の所定量
の水の1/4量を添加し、室温で3時間、攪拌速度80
0rpmで攪拌して、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシランとジルコニウムテトラ−n−ブトキシドの
加水分解物のアルコール水溶液を得た。
To the obtained alcohol solution, 1/4 amount of the above-mentioned predetermined amount of water was added, and the stirring rate was 80 at room temperature for 3 hours.
By stirring at 0 rpm, an aqueous alcohol solution of a hydrolyzate of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and zirconium tetra-n-butoxide was obtained.

【0099】上記のN−(β−アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物と、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランとジルコニウ
ムテトラ−n−ブトキシドの加水分解物のそれぞれのア
ルコール水溶液を混合し、室温で3時間、攪拌速度80
0rpmで攪拌して、高屈折率層被覆用組成物を得た。
得られた高屈折率層被覆用組成物を表1に示すように、
それぞれ(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、
(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)
とする。
A hydrolyzate of the above N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-
Glycidoxypropyl trimethoxysilane and zirconium tetra-n-butoxide hydrolyzate were mixed with alcohol aqueous solutions, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours at a stirring rate of 80.
The mixture was stirred at 0 rpm to obtain a composition for coating a high refractive index layer.
The obtained high refractive index layer coating composition is shown in Table 1,
(1), (2), (3), (4), (5),
(6), (7), (8), (9), (10), (11)
And

【0100】(2)低屈折率層被覆用組成物(a)〜
(q)の調製 次に、表2および表3にモル比で示したそれぞれ所定量
のテトラエトキシシラン、アンモニアによりpHが調整
された塩基性水およびイソプロピルアルコールを、マグ
ネチックスターラーに供給、800rpmで2時間、2
0℃で混合し、縮合組成物(C)を得た。さらに、表2
および表3にモル比で示したそれぞれ所定量のテトラエ
トキシシラン、塩酸によりpHが調整された酸性水およ
びイソプロピルアルコールを、マグネチックスターラー
に供給、800rpmで2時間、20℃で混合し、縮合
組成物(D)を得た。
(2) Composition for coating low refractive index layer (a)
Preparation of (q) Next, a predetermined amount of each of tetraethoxysilane, basic water whose pH was adjusted by ammonia, and isopropyl alcohol shown in molar ratios in Tables 2 and 3 were supplied to a magnetic stirrer at 800 rpm. 2 hours, 2
The mixture was mixed at 0 ° C to obtain a condensation composition (C). Furthermore, Table 2
And a predetermined amount of each of tetraethoxysilane shown in Table 3 by molar ratio, acidic water whose pH is adjusted by hydrochloric acid and isopropyl alcohol are supplied to a magnetic stirrer and mixed at 800 rpm for 2 hours at 20 ° C. to form a condensation composition. The product (D) was obtained.

【0101】さらに、上記で得られた縮合組成物(C)
および縮合組成物(D)を、表2および表3に示した重
量比(縮合組成物(C)/縮合組成物(D))で、マグ
ネチックスターラーに供給、800rpmで2時間、2
0℃で混合し、低屈折率層被覆用組成物を調製した。得
られた低屈折率層被覆用組成物を、表2および表3に示
すように、それぞれ低屈折率層被覆用組成物(b)、
(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、
(i)、(j)、(k)、(l)、(m)、(n)、
(o)、(p)、(q)とする。また、市販の低屈折率
層被覆用組成物として、フッ素系樹脂(旭硝子社製、商
品名「サイトップ CTL−102A」)も使用した。
この「サイトップ CTL−102A」を低屈折率層被
覆用組成物(a)とする。
Further, the condensation composition (C) obtained above
And the condensation composition (D) at a weight ratio (condensation composition (C) / condensation composition (D)) shown in Tables 2 and 3 to a magnetic stirrer, and 2 hours at 800 rpm.
The mixture was mixed at 0 ° C. to prepare a composition for coating a low refractive index layer. The obtained low-refractive-index-layer coating composition was prepared as shown in Tables 2 and 3, respectively, with a low-refractive-index-layer coating composition (b),
(C), (d), (e), (f), (g), (h),
(I), (j), (k), (l), (m), (n),
Let (o), (p), and (q). Further, as a commercially available composition for coating a low refractive index layer, a fluororesin (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name “CYTOP CTL-102A”) was also used.
This "CYTOP CTL-102A" is used as a composition (a) for coating a low refractive index layer.

【0102】(3)積層体の製造 (実施例1〜4、比較例1〜20の積層体の製造)それ
ぞれ表4および表5に示した高屈折率層被覆用組成物
(1)〜(11)に、ポリカーボネート板(帝人社製、
商品名「パンライト」、40×10×1mm)を浸漬
し、100mm/分の速度で引き上げた後、室温で10
分間乾燥後、110℃で60分硬化させて、高屈折率層
が積層されたポリカーボネート板を得た。次に、得られ
た高屈折率層被覆積層体を、それぞれ表4および表5に
示した低屈折率層被覆用組成物(a)〜(q)に浸漬
し、100mm/分の速度で引き上げた後、室温で10
分間乾燥させ、次いで、110℃で60分硬化させて目
的とする積層体を得た。上記のようにして得られた積層
体を、前記測定法に基づき、各物性を評価し、結果を表
4および表5に示した。尚、比較例1〜6は、高屈折率
層被覆用組成物がゲル化してしまい、高屈折率層被覆用
組成物として使用できなかった。また、比較例7、1
1、14、15は、低屈折率層被覆用組成物がゲル化し
てしまい、低屈折率層被覆用組成物として使用できなか
った。また、比較例12、18は、低屈折率層の積層を
することができなかった。また、比較例13は、低屈折
率層の被覆時に膜が白濁して、透明な積層体が得られな
かった。
(3) Manufacture of Laminates (Manufacture of Laminates of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 20) High refractive index layer coating compositions (1) to () shown in Tables 4 and 5, respectively. 11), a polycarbonate plate (made by Teijin Limited,
Product name "Panlite", 40 x 10 x 1 mm) is dipped and pulled up at a speed of 100 mm / min, then at room temperature for 10
After drying for 1 minute, it was cured at 110 ° C. for 60 minutes to obtain a polycarbonate plate on which a high refractive index layer was laminated. Next, the obtained high refractive index layer-covered laminate was dipped in the low refractive index layer-coating compositions (a) to (q) shown in Tables 4 and 5, respectively, and pulled up at a speed of 100 mm / min. Then at room temperature for 10
It was dried for 1 minute and then cured at 110 ° C. for 60 minutes to obtain the target laminate. The physical properties of the laminate obtained as described above were evaluated based on the above-mentioned measurement methods, and the results are shown in Tables 4 and 5. In Comparative Examples 1 to 6, the composition for coating the high refractive index layer was gelated and could not be used as the composition for coating the high refractive index layer. In addition, Comparative Examples 7 and 1
Nos. 1, 14 and 15 could not be used as a composition for coating a low refractive index layer because the composition for coating a low refractive index layer was gelled. In Comparative Examples 12 and 18, the low refractive index layers could not be laminated. Further, in Comparative Example 13, the film was clouded when the low refractive index layer was coated, and a transparent laminate could not be obtained.

【0103】[0103]

【表1】 [Table 1]

【0104】[0104]

【表2】 [Table 2]

【0105】[0105]

【表3】 [Table 3]

【0106】[0106]

【表4】 [Table 4]

【0107】[0107]

【表5】 [Table 5]

【0108】実施例5〜8、比較例21〜34 (1)高屈折率層被覆用組成物(帯電防止被覆用組成
物)(12)〜(22)の調製 以下の実施例5〜8および比較例21〜34において、
導電性を有する高屈折率層を得るための被覆用組成物の
配合は、アミノアルキルアルコキシシラン化合物A
(a)としてN−(β−アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシランを用い、エポキシアルキルア
ルコキシシラン化合物B(b)としてγ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシランを用い、チタニウムテトラ
アルコキシド(c1 )として、チタニウムテトラ−n−
ブトキシドを用いた。配合量は、N−(β−アミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン:γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン:チタニウムテ
トラ−n−ブトキシドのモル比が表6に示したようにな
るように配合した。有機溶媒(e)としては、メチルア
ルコールを使用し、水(f)は蒸留水を使用した。配合
量は、アミノアルキルアルコキシシラン化合物A(a)
1モルに対して、メチルアルコールが20モル、水が3
モルとなるように配合した。硝酸(d)は、アミノアル
キルアルコキシシラン化合物A(a)1モルに対して表
6に示したモル数で配合した。
Examples 5 to 8 and Comparative Examples 21 to 34 (1) Preparation of high refractive index layer coating composition (antistatic coating composition) (12) to (22) The following Examples 5 to 8 and In Comparative Examples 21 to 34,
Aminoalkylalkoxysilane compound A is used for blending the coating composition to obtain a conductive high refractive index layer.
N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane is used as (a), γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is used as the epoxyalkylalkoxysilane compound B (b), and titanium tetraalkoxide (c) is used. 1 ) as titanium tetra-n-
Butoxide was used. The compounding amount is such that the molar ratio of N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane: γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane: titanium tetra-n-butoxide is as shown in Table 6. Blended into. Methyl alcohol was used as the organic solvent (e), and distilled water was used as the water (f). The compounding amount is an aminoalkylalkoxysilane compound A (a)
20 mol of methyl alcohol and 3 mol of water per 1 mol
It was blended so that it would be a mole. The nitric acid (d) was blended in the number of moles shown in Table 6 with respect to 1 mole of the aminoalkylalkoxysilane compound A (a).

【0109】上記の高屈折率層被覆用組成物を得るため
の具体的な操作手順は以下の通りに行った。上述の所定
量のメチルアルコールの半量をガラスビーカーに供給
し、上述の所定量のN−(β−アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシランを加え、N−(β−ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
のアルコール溶液を得る。このアルコール溶液に、上述
の所定量の硝酸と、上述の所定量の水の3/4量を添加
し、室温で3時間、攪拌速度800rpmで攪拌して、
N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシランの加水分解物のアルコール水溶液を得た。
The specific operation procedure for obtaining the above composition for coating a high refractive index layer was performed as follows. Half of the above-mentioned predetermined amount of methyl alcohol is supplied to a glass beaker, the above-mentioned predetermined amount of N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane is added, and N- (β-aminoethyl) -γ is added. Obtaining an alcoholic solution of aminopropyltrimethoxysilane. To this alcohol solution, the above-mentioned predetermined amount of nitric acid and the above-mentioned predetermined amount of water 3/4 amount were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours at a stirring speed of 800 rpm,
An alcohol aqueous solution of a hydrolyzate of N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane was obtained.

【0110】一方、上述の所定量のメチルアルコールの
半量をガラスビーカーに供給し、上述の所定量のγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランとチタニウムテ
トラ−n−ブトキシドを加えて、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシランとチタニウムテトラ−n−ブト
キシドのアルコール溶液を得た。
On the other hand, half of the above-mentioned predetermined amount of methyl alcohol was supplied to a glass beaker, and the above-mentioned predetermined amount of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and titanium tetra-n-butoxide were added to give γ-glycide. An alcohol solution of xypropyltrimethoxysilane and titanium tetra-n-butoxide was obtained.

【0111】得られたアルコール溶液に、上述の所定量
の水の1/4量を添加し、室温で3時間、攪拌速度80
0rpmで攪拌して、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシランとチタニウムテトラ−n−ブトキシドの加
水分解物のアルコール水溶液を得た。
To the obtained alcohol solution, 1/4 amount of the above-mentioned predetermined amount of water was added, and the stirring rate was 80 at room temperature for 3 hours.
The mixture was stirred at 0 rpm to obtain an aqueous alcohol solution of a hydrolysis product of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and titanium tetra-n-butoxide.

【0112】上記のN−(β−アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシランの加水分解物と、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランとチタニウム
テトラ−n−ブトキシドの加水分解物のそれぞれのアル
コール水溶液を混合し、室温で3時間、攪拌速度800
rpmで攪拌して、高屈折率層被覆用組成物を得た。得
られた高屈折率層被覆用組成物を表6に示すように、そ
れぞれ(12)、(13)、(14)、(15)、(1
6)、(17)、(18)、(19)、(20)、(2
1)、(22)とする。
The above-mentioned hydrolyzate of N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane and titanium tetra-n-butoxide hydrolyzate were mixed with aqueous alcohol solutions and stirred at room temperature for 3 hours at a stirring speed of 800.
By stirring at rpm, a composition for coating a high refractive index layer was obtained. The obtained composition for coating a high refractive index layer is, as shown in Table 6, (12), (13), (14), (15) and (1
6), (17), (18), (19), (20), (2
1) and (22).

【0113】(2)低屈折率層被覆用組成物の調製 前述の表2および表3に示した低屈折率層被覆用組成物
(a)〜(q)と同様のものを使用した。
(2) Preparation of Composition for Coating Low Refractive Index Layer The same compositions as those for coating low refractive index layer (a) to (q) shown in Tables 2 and 3 were used.

【0114】(3)積層体の製造 (実施例5〜8、比較例21〜34の積層体の製造)そ
れぞれ表7に示した高屈折率層被覆用組成物(12)〜
(22)に、ポリカーボネート板(帝人社製、商品名
「パンライト」、40×10×1mm)を浸漬し、10
0mm/分の速度で引き上げた後、室温で10分間乾燥
後、110℃で60分硬化させて、高屈折率層が積層さ
れたポリカーボネート板を得た。次に、得られた高屈折
率層被覆積層体を、それぞれ表7に示した低屈折率層被
覆用組成物(a)〜(q)に浸漬し、100mm/分の
速度で引き上げた後、室温で10分間乾燥させ、次い
で、110℃で60分硬化させて目的とする積層体を得
た。上記のようにして得られた積層体を、前記測定法に
基づき、各物性を評価し、結果を表7に示した。尚、比
較例21〜26は、高屈折率層被覆用組成物がゲル化し
てしまい、高屈折率層被覆用組成物として使用できなか
った。また、比較例30は、低屈折率層の被覆時に膜が
白濁して、透明な積層体が得られなかった。
(3) Manufacture of Laminates (Manufacture of Laminates of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 21 to 34) High refractive index layer coating compositions (12) to
A polycarbonate plate (manufactured by Teijin Ltd., trade name “Panlite”, 40 × 10 × 1 mm) is dipped in (22), and 10
After pulling up at a speed of 0 mm / min, it was dried at room temperature for 10 minutes and then cured at 110 ° C. for 60 minutes to obtain a polycarbonate plate on which a high refractive index layer was laminated. Next, the obtained high refractive index layer-coated laminate was dipped in each of the low refractive index layer coating compositions (a) to (q) shown in Table 7, and pulled up at a speed of 100 mm / min. It was dried at room temperature for 10 minutes and then cured at 110 ° C. for 60 minutes to obtain a target laminate. The physical properties of the laminate obtained as described above were evaluated based on the above-mentioned measurement methods, and the results are shown in Table 7. In Comparative Examples 21 to 26, the composition for coating the high refractive index layer was gelated and could not be used as the composition for coating the high refractive index layer. In Comparative Example 30, the film was clouded when the low refractive index layer was covered, and a transparent laminate could not be obtained.

【0115】[0115]

【表6】 [Table 6]

【0116】[0116]

【表7】 [Table 7]

【0117】[0117]

【発明の効果】本発明および本発明2の積層体の製造方
法は、前記した通りであり、本発明および本発明2で使
用される帯電防止被覆用組成物から上記のようにして作
製された高屈折率層は、硝酸からのプロトンが均一に存
在しているので導電性が高く、また、導電性微粒子の添
加によるヘイズ等がないため透明性が高い。また、ジル
コニウムテトラアルコキシドまたはチタニウムテトラア
ルコキシドが、特定量配合された組成物から得られた被
膜であるので、被膜が緻密なため耐水性が特に向上して
いる。また、金属酸化物系被膜が形成されているので、
硬い材料で強く摩擦しても傷が付きにくく、引っ掻き傷
による外観低下をおこしにくく、長期に渡って性能を維
持できる。従って、本発明および本発明2の製造方法に
よると、被膜形成前の基材の光学特性を保持したまま、
十分な帯電防止性能を有する耐水性高屈折率層を得るこ
とができる。本発明および本発明2の積層体の製造方法
によれば、さらに、上記高屈折率層の表面に、低屈折率
層が積層されているので、基材上に反射防止効果および
帯電防止効果の高い被膜が形成された光透過率40%以
上の積層体を容易に製造し得る。
The method for producing a laminate of the present invention and the present invention 2 is as described above, and it is produced from the antistatic coating composition used in the present invention and the present invention 2 as described above. The high refractive index layer has high conductivity because protons from nitric acid are uniformly present, and has high transparency because there is no haze and the like due to addition of conductive fine particles. Further, since the zirconium tetraalkoxide or the titanium tetraalkoxide is a coating film obtained from a composition in which a specific amount of the zirconium tetraalkoxide or titanium tetraalkoxide is mixed, the water resistance is particularly improved because the coating film is dense. Further, since the metal oxide film is formed,
It is a hard material that is hard to be scratched even when strongly rubbed, and is unlikely to cause a deterioration in appearance due to scratches, and its performance can be maintained for a long period of time. Therefore, according to the present invention and the production method of the present invention 2, while maintaining the optical characteristics of the substrate before the film formation,
A water resistant high refractive index layer having sufficient antistatic performance can be obtained. According to the present invention and the method for producing a laminate of the present invention 2, since the low refractive index layer is further laminated on the surface of the high refractive index layer, the antireflection effect and the antistatic effect can be achieved on the substrate. It is possible to easily manufacture a laminate having a high coating and a light transmittance of 40% or more.

【0118】本発明3の積層体の製造方法は、前記した
通りであり、本発明3で使用される低屈折率層被覆用組
成物は、縮合組成物(C)では、アルコキシシランの重
縮合がかなり進みコロイダルシリカが形成されており、
縮合組成物(D)では、アルコキシシランの重縮合が比
較的進まず、シリカゾルの段階で抑えられており、この
両者の混合物である上記組成物は、コロイダルシリカと
シリカゾルの混合物となっている。この組成物を請求項
1または2記載の高屈折率層が積層された基材上に塗
布、硬化させることにより、シリカゾルとコロイダルシ
リカの重縮合反応を進行させ、シリカゾルとコロイダル
シリカの収縮率の差異により多孔化された被膜を得るこ
とができる。また、この被膜は、無機質であるので、ス
チールウールなどの硬い材料で摩擦しても傷が付き難
く、引っ掻き傷による外観低下をおこし難い。従って、
本発明3によると、基材上に反射防止効果および帯電防
止効果が高く、透明であり、また、耐擦傷性に優れた被
膜が形成された光透過率40%以上の積層体を容易に製
造し得る。
The method for producing a laminate of the present invention 3 is as described above, and the composition for coating a low refractive index layer used in the present invention 3 is the condensation composition (C), which is polycondensation of alkoxysilane. Has progressed considerably and colloidal silica has been formed,
In the condensation composition (D), the polycondensation of the alkoxysilane does not proceed relatively and is suppressed at the stage of silica sol, and the above composition, which is a mixture of both, is a mixture of colloidal silica and silica sol. By coating this composition on a substrate on which the high refractive index layer according to claim 1 or 2 is laminated and curing the composition, the polycondensation reaction of silica sol and colloidal silica is promoted, and the shrinkage ratio of silica sol and colloidal silica is increased. Due to the difference, it is possible to obtain a porous film. Further, since this coating is an inorganic substance, it is less likely to be scratched even when it is rubbed with a hard material such as steel wool, and the appearance is not easily deteriorated due to scratches. Therefore,
According to the present invention 3, a laminate having a high antireflection effect and an antistatic effect on a substrate, being transparent, and having a coating film excellent in scratch resistance and having a light transmittance of 40% or more can be easily produced. You can

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材の表面上に導電性を有する高屈折率
層と、低屈折率層を、低屈折率層が最外層となるよう
に、複層積層した積層体の製造方法であって、上記高屈
折率層が、(a)下記の一般式[I]で表されるアミノ
アルキルアルコキシシラン化合物A、 【化1】 (式中、Yはアミノ基を有する有機基、Y1 は炭化水素
基、Rは炭素数1〜5のアルキル基、mは1〜5の整
数、nは0〜2の整数) (b)下記の一般式[II]で表されるエポキシアルキル
アルコキシシラン化合物B、 【化2】 (式中、Zはグリシドキシ基またはエポキシシクロヘキ
シル基、Y2 は炭化水素基、R1 は炭素数1〜5のアル
キル基、pは1〜5の整数、tは0〜2の整数) (c)一般式Zr(OR2 4 (式中、R2 は炭素数1
〜5 のアルキル基)で表されるジルコニウムテトラア
ルコキシド、(d)硝酸、(e)有機溶媒および(f)
水よりなり、アミノアルキルアルコキシシラン化合物A
(a)とエポキシアルキルアルコキシシラン化合物B
(b)とジルコニウムテトラアルコキシド(c)のモル
比が93〜53:35〜5:12〜2である帯電防止被
覆用組成物を塗布することにより得られる層からなるこ
とを特徴とする光透過率40%以上の積層体の製造方
法。
1. A method for producing a laminate in which a high refractive index layer having conductivity and a low refractive index layer are laminated on the surface of a base material so that the low refractive index layer is the outermost layer. Thus, the high refractive index layer comprises (a) an aminoalkylalkoxysilane compound A represented by the following general formula [I]: (In the formula, Y is an organic group having an amino group, Y 1 is a hydrocarbon group, R is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, m is an integer of 1 to 5, and n is an integer of 0 to 2) (b) An epoxyalkylalkoxysilane compound B represented by the following general formula [II]: (In the formula, Z is a glycidoxy group or an epoxycyclohexyl group, Y 2 is a hydrocarbon group, R 1 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, p is an integer of 1 to 5, and t is an integer of 0 to 2) (c ) General formula Zr (OR 2 ) 4 (In the formula, R 2 has 1 carbon atom.
~ 5 alkyl group), zirconium tetraalkoxide, (d) nitric acid, (e) organic solvent and (f)
Aminoalkylalkoxysilane compound A consisting of water
(A) and epoxyalkylalkoxysilane compound B
Light transmission comprising a layer obtained by applying an antistatic coating composition having a molar ratio of (b) and zirconium tetraalkoxide (c) of 93 to 53:35 to 5:12 to 2 A method for producing a laminate having a rate of 40% or more.
【請求項2】 基材の表面上に導電性を有する高屈折率
層と、低屈折率層を、低屈折率層が最外層となるよう
に、複層積層した積層体の製造方法であって、上記高屈
折率層が、(a)請求項1記載のアミノアルキルアルコ
キシシラン化合物A、(b)請求項1記載のエポキシア
ルキルアルコキシシラン化合物B、(c1 )一般式Ti
(OR3 4 (式中、R3 は炭素数1〜5のアルキル
基)で表されるチタニウムテトラアルコキシド、(d)
硝酸、(e)有機溶媒および(f)水よりなり、アミノ
アルキルアルコキシシラン化合物A(a)とエポキシア
ルキルアルコキシシラン化合物B(b)とチタニウムテ
トラアルコキシド(c1 )のモル比が93〜55:35
〜5:10〜2である帯電防止被覆用組成物を塗布する
ことにより得られる層からなることを特徴とする光透過
率40%以上の積層体の製造方法。
2. A method for producing a laminate in which a high refractive index layer having conductivity and a low refractive index layer are laminated on the surface of a base material so that the low refractive index layer is the outermost layer. The high refractive index layer comprises (a) the aminoalkylalkoxysilane compound A according to claim 1, (b) the epoxyalkylalkoxysilane compound B according to claim 1, and (c 1 ) the general formula Ti.
Titanium tetraalkoxide represented by (OR 3 ) 4 (wherein R 3 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), (d)
Consisting of nitric acid, (e) organic solvent and (f) water, and the molar ratio of aminoalkylalkoxysilane compound A (a), epoxyalkylalkoxysilane compound B (b) and titanium tetraalkoxide (c 1 ) is 93 to 55: 35
A method for producing a laminate having a light transmittance of 40% or more, which comprises a layer obtained by applying an antistatic coating composition of 5: 10-2.
【請求項3】 基材の表面上に導電性を有する高屈折率
層と、低屈折率層を、低屈折率層が最外層となるよう
に、複層積層した積層体の製造方法であって、上記高屈
折率層が、請求項1または2記載の高屈折率層であり、
さらに上記低屈折率層が、 一般式Si(OR4 4 (式中、R4 は炭素数1〜5の
アルキル基)で表されるテトラアルコキシシラン1モ
ル、pHが10.0〜12.0の塩基性水2〜8モルお
よび有機溶媒10〜30モルを混合して得られる縮合組
成物(C)と、 一般式(R6 s Si(OR5 4-s (式中、R5 およ
びR6 は炭素数1〜5のアルキル基、sは0〜3の整
数)で表されるアルコキシシラン1モル、pHが0〜
2.6の酸性水3〜8モルおよび有機溶媒10〜30モ
ルを混合して得られる縮合組成物(D)とを、 重量比(C)/(D)=0.4〜2.4で混合し、得ら
れた組成物を塗布することにより得られる層からなるこ
とを特徴とする光透過率40%以上の積層体の製造方
法。
3. A method for producing a laminate in which a high refractive index layer having conductivity and a low refractive index layer are laminated on the surface of a base material so that the low refractive index layer is the outermost layer. And the high refractive index layer is the high refractive index layer according to claim 1 or 2,
Further, the low refractive index layer has 1 mol of tetraalkoxysilane represented by the general formula Si (OR 4 ) 4 (wherein R 4 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), and the pH is 10.0 to 12. 0 of the basic water 2-8 mole and a condensation composition obtained by mixing the organic solvent 10 to 30 mole (C), and the general formula (R 6) s Si (oR 5) 4-s ( wherein, R 5 and R 6 are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, s is an alkoxysilane represented by 0 to 3), and the pH is 0 to
The condensation composition (D) obtained by mixing 3 to 8 mol of the acidic water of 2.6 and 10 to 30 mol of the organic solvent in a weight ratio (C) / (D) = 0.4 to 2.4. A method for producing a laminate having a light transmittance of 40% or more, which comprises a layer obtained by mixing and applying the obtained composition.
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