JPH08294852A - Glass plate polishing device - Google Patents

Glass plate polishing device

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Publication number
JPH08294852A
JPH08294852A JP10426695A JP10426695A JPH08294852A JP H08294852 A JPH08294852 A JP H08294852A JP 10426695 A JP10426695 A JP 10426695A JP 10426695 A JP10426695 A JP 10426695A JP H08294852 A JPH08294852 A JP H08294852A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass master
turntable
polishing
groove
vacuum suction
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP10426695A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Ito
貴之 伊藤
Yoshihiro Yamaguchi
喜弘 山口
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP10426695A priority Critical patent/JPH08294852A/en
Publication of JPH08294852A publication Critical patent/JPH08294852A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a glass plate polishing device which can yield high quality glass plates polished precisely and uniformly. CONSTITUTION: In a glass plate polishing device, a glass plate 40 is supported fast on a turntable 31 by means of vacuum suction and polished, wherein a ring-shaped groove 31a for vacuum suction and a ring-shaped atmosphere releasing groove 31b having a smaller radius than the vacuum suction groove 31a are formed on the oversurface of the turntable 31. When vacuum sucked in this polishing device, glass plate is not deformed substantially, and there is less turn-around of the polish etc., to the rear of the glass plate, so that it is possible to yield high quality glass plates which are polished precisely and uniformly.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス原盤研磨装置に
関する。詳しくは、環状の真空吸着用溝及び大気解放用
溝が形成されたターンテーブルを用いることにより、
ガラス原盤を精度良く研磨することを可能とするもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass master polishing apparatus. Specifically, by using a turntable in which an annular vacuum suction groove and an atmosphere release groove are formed,
This makes it possible to polish a glass master disc with high precision.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガラス原盤研磨装置は、光ディスク等に
用いられるガラス原盤を研磨する装置であり、ガラス原
盤を研磨する際にガラス原盤を真空吸着によって支持固
定する円盤状のターンテーブルを備えている。このター
ンテーブルの上面、すなわちガラス原盤と接する側の主
面には、例えば、図5に示すように、ターンテーブル1
00と同心の2つの溝、すなわち第1の環状の溝101
と、第1の環状の溝101よりも半径の小さい第2の環
状の溝102とが形成されていると共に、ターンテーブ
ル100の中心から第1の環状の溝101に至る放射状
の複数の溝103が形成されている。そして、放射状の
複数の溝103の中心部、すなわちターンテーブル10
0の中心部には、真空装置に通ずる開口部104が形成
されている。
2. Description of the Related Art A glass master disk polishing apparatus is an apparatus for polishing a glass master disk used for an optical disk or the like, and has a disk-shaped turntable for supporting and fixing the glass master disk by vacuum suction when polishing the glass master disk. . On the upper surface of this turntable, that is, on the main surface in contact with the glass master, for example, as shown in FIG.
00 and two concentric grooves, that is, the first annular groove 101.
And a second annular groove 102 having a radius smaller than that of the first annular groove 101, and a plurality of radial grooves 103 extending from the center of the turntable 100 to the first annular groove 101. Are formed. The center of the radial grooves 103, that is, the turntable 10
An opening 104 communicating with the vacuum device is formed at the center of 0.

【0003】そして、このようなターンテーブル100
を備えたガラス原盤研磨装置でガラス原盤を研磨すると
きは、図6に示すように、ターンテーブル100の上に
ガラス原盤110を配して、図6中矢印Bに示すよう
に、真空装置によってターンテーブル100の開口部1
04から排気する。これにより、ターンテーブル100
とガラス原盤110の間隙、すなわちターンテーブル1
00の環状の溝101,102及び放射状の溝103の
部分が真空状態となり、ガラス原盤110がターンテー
ブル100上に真空吸着されて固定される。そして、こ
のようにターンテーブル100上にガラス原盤110を
真空吸着によって支持固定した上で、図6中矢印M1に
示すようにターンテーブル100をガラス原盤110と
共に回転させながら、ガラス原盤110の表面110a
に研磨剤を散布して、ガラス原盤110を研磨する。
Then, such a turntable 100
When the glass master disk is polished by the glass master disk polishing apparatus equipped with, the glass master disk 110 is arranged on the turntable 100 as shown in FIG. 6, and the vacuum master is used as shown by an arrow B in FIG. Opening 1 of turntable 100
Exhaust from 04. This makes the turntable 100
And the glass master disk 110, that is, the turntable 1
The annular grooves 101 and 102 of 00 and the radial grooves 103 are in a vacuum state, and the glass master 110 is vacuum-adsorbed and fixed on the turntable 100. Then, the glass master 110 is supported and fixed on the turntable 100 by vacuum suction, and the surface 110a of the glass master 110 is rotated while rotating the turntable 100 together with the glass master 110 as shown by an arrow M1 in FIG.
The glass master 110 is polished by spraying an abrasive on the glass.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来のガラス原盤研磨装置では、ガラス原盤をタ
ーンテーブル上に真空吸着させたときに、ターンテーブ
ルの環状の溝及び放射状の溝の影響によって、ガラス原
盤が変形してしまっていた。したがって、従来のガラス
原盤研磨装置では、このようなターンテーブルの形状の
影響によるガラス原盤の変形のために、ガラス原盤の表
面を高精度に均一に研磨することができないという問題
が生じていた。
However, in the conventional glass master disk polishing apparatus as described above, when the glass master disk is vacuum-adsorbed on the turntable, it is affected by the circular groove and the radial groove of the turntable. , The glass master was deformed. Therefore, in the conventional glass master disk polishing apparatus, there is a problem that the surface of the glass master disk cannot be highly accurately and uniformly polished due to the deformation of the glass master disk due to the influence of the shape of the turntable.

【0005】また、従来のガラス原盤研磨装置では、真
空吸着する際にターンテーブルの中心の開口部から排気
するので、ガラス原盤を研磨するためにガラス原盤の表
面に散布した研磨剤等が、ガラス原盤の裏面に回り込み
易かった。そして、このようにガラス原盤の裏面に回り
込んだ研磨剤は、ガラス原盤の裏面及びターンテーブル
の上面を汚染してしまい、ガラス原盤の品質及び精度に
悪影響を与えていた。
Further, in the conventional glass master polishing apparatus, when the vacuum suction is performed, the air is exhausted from the opening in the center of the turntable. Therefore, the abrasive or the like scattered on the surface of the glass master for polishing the glass master is not It was easy to get around the back of the master. Then, the polishing agent thus sneaking around on the back surface of the glass master disk contaminates the back surface of the glass master disk and the top surface of the turntable, which adversely affects the quality and accuracy of the glass master disk.

【0006】このように、従来のガラス原盤研磨装置で
は、ガラス原盤の変形の問題や、研磨剤等のガラス原盤
裏面への回り込みの問題等により、ガラス原盤を精度良
く研磨することが困難であった。
As described above, in the conventional glass master disk polishing apparatus, it is difficult to polish the glass master disk with high precision because of problems such as deformation of the glass master disk and sneaking of an abrasive or the like to the back surface of the glass master disk. It was

【0007】そこで、本発明は、従来のこのような実情
に鑑みて提案されたものであり、ガラス原盤を真空吸着
させたときに生じるガラス原盤の変形が少なく、且つ研
磨剤等のガラス原盤裏面への回り込みが防止され、ガラ
ス原盤を精度良く研磨することができるガラス原盤研磨
装置を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and the deformation of the glass master disk caused when the glass master disk is vacuum-sucked is small, and the back surface of the glass master disk such as an abrasive is reduced. It is an object of the present invention to provide a glass master disk polishing device capable of preventing the glass master disk from wrapping around and polishing the glass master disk with high accuracy.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに完成された本発明に係るガラス原盤研磨装置は、ガ
ラス原盤をターンテーブル上に真空吸着によって支持固
定して上記ガラス原盤を研磨するガラス原盤研磨装置で
あって、上記ガラス原盤と接する側の上記ターンテーブ
ルの主面に、環状の真空吸着用溝と、上記真空吸着用溝
よりも半径の小さい環状の大気解放用溝とが形成されて
いることを特徴とするものである。
The glass master polishing apparatus according to the present invention, which has been completed to achieve the above object, polishes the glass master by supporting and fixing the glass master on a turntable by vacuum suction. A glass master polishing apparatus, wherein an annular vacuum suction groove and an annular atmosphere release groove having a smaller radius than the vacuum suction groove are formed on the main surface of the turntable on the side in contact with the glass master. It is characterized by being.

【0009】[0009]

【作用】本発明に係るガラス原盤研磨装置では、真空吸
着が環状の1つの溝すなわち真空吸着用溝の部分だけに
よって行われる。したがって、ガラス原盤を研磨する際
にガラス原盤をターンテーブルに真空吸着しても、ガラ
ス原盤には殆ど変形が生じない。
In the glass master polishing apparatus according to the present invention, vacuum suction is performed only by one annular groove, that is, the vacuum suction groove. Therefore, even if the glass master disk is vacuum-sucked to the turntable when the glass master disk is polished, the glass master disk is hardly deformed.

【0010】また、本発明に係るガラス原盤研磨装置で
は、ターンテーブルの中心近傍には溝がなく、ターンテ
ーブルに形成された溝は、環状の真空吸着用溝と大気解
放用溝だけであり、ガラス原盤を真空吸着する際は、環
状の真空吸着用溝内を排気する。したがって、ガラス原
盤を真空吸着する際に、ターンテーブルの中心近傍に研
磨剤等が吸い込まれるようなことがない。
In the glass master polishing apparatus according to the present invention, there is no groove near the center of the turntable, and the grooves formed on the turntable are only the annular vacuum suction groove and the atmosphere release groove. When vacuum sucking the glass master, the inside of the annular vacuum suction groove is evacuated. Therefore, when the glass master disk is vacuum-sucked, the abrasive or the like is not sucked into the vicinity of the center of the turntable.

【0011】しかも、本発明に係るガラス原盤研磨装置
では、ターンテーブル上に環状の真空吸着用溝及び大気
解放用溝が形成されているため、もし研磨剤等がガラス
原盤とターンテーブルの間に入り込んでも、研磨剤等が
真空吸着用溝及び大気解放用溝よりも内側にまで回り込
むようなことがない。
Further, in the glass master disk polishing apparatus according to the present invention, since the annular vacuum suction groove and the atmosphere release groove are formed on the turntable, if the polishing compound or the like is present between the glass master disk and the turntable. Even if it gets in, the abrasive or the like does not go into the inside of the vacuum suction groove and the atmosphere release groove.

【0012】このように、本発明に係るガラス原盤研磨
装置では、ターンテーブルの中心近傍に研磨剤等が吸い
込まれるようなことがなく、しかも、もし研磨剤等がガ
ラス原盤とターンテーブルの間に入り込んでも、研磨剤
等が真空吸着用溝及び大気解放用溝よりも内側に回り込
むようなことがないため、ガラス原盤の裏面が研磨剤等
によって汚染されることが殆どない。
As described above, in the glass master polishing apparatus according to the present invention, the abrasive or the like is not sucked into the vicinity of the center of the turntable, and if the abrasive or the like is present between the glass master and the turntable. Even if it gets in, the abrasive or the like does not go inward from the vacuum suction groove and the atmosphere releasing groove, so that the back surface of the glass master is hardly contaminated by the abrasive or the like.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、以
下に述べる実施例は、本発明の好適な具体例であるため
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、以下の
説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限
り、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものでは
ない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings. However, the examples described below have various technically preferable limitations because they are preferable specific examples of the present invention, but unless otherwise stated in the following description, the present invention is particularly limited. The scope of the invention is not limited to the examples below.

【0014】本実施例のガラス原盤研磨装置は、ガラス
原盤研磨装置を横から見た図1及び上から見た図2に示
すように、ベース板10に取り付けられたポリッシング
部20と、ベース板10に取り付けられたターンテーブ
ル部30とを備えている。ここで、ポリッシング部20
は、後述するようなポリッシングヘッド21を備えてお
り、ポリッシングヘッド21によってガラス原盤40を
研磨する。一方、ターンテーブル部30は、後述するよ
うなターンテーブル31を備えており、ガラス原盤40
を研磨する際に、ガラス原盤40を真空吸着によってタ
ーンテーブル31上に支持固定して、ガラス原盤40を
ターンテーブル31と共に回転させる。また、ベース板
10上には、研磨時の研磨剤の飛び跳ね等を防止するた
めに、ポリッシングヘッド21及びターンテーブル31
等を覆うように、カップ50が配されている。
The glass master polishing apparatus of the present embodiment has a polishing section 20 attached to a base plate 10 and a base plate 10 as shown in FIG. 1 which is a side view of the glass master polishing apparatus and FIG. 2 which is a top view thereof. And a turntable unit 30 attached to the unit 10. Here, the polishing unit 20
Is equipped with a polishing head 21 as will be described later, and the glass master 40 is polished by the polishing head 21. On the other hand, the turntable section 30 includes a turntable 31 as described later, and the glass master 40
When polishing, the glass master disk 40 is supported and fixed on the turntable 31 by vacuum suction, and the glass master disk 40 is rotated together with the turntable 31. In addition, the polishing head 21 and the turntable 31 are provided on the base plate 10 in order to prevent the abrasive from splashing during polishing.
A cup 50 is arranged so as to cover the above.

【0015】上記ポリッシング部20は、上下動及び回
動可能となるようにベース板10に取り付けられると共
に先端部がターンテーブル31の上部に至るポリッシン
グアーム22と、ポリッシングアーム22の先端部に取
り付けられたポリッシングヘッド21と、研磨剤供給源
(図示せず)からポリッシングアーム22に沿ってポリ
ッシングヘッド21近傍に至るように配された研磨剤ノ
ズル23と、純水供給源(図示せず)からポリッシング
アーム22に沿ってポリッシングヘッド21近傍に至る
ように配された純水ノズル24とを備えている。
The polishing portion 20 is attached to the base plate 10 so as to be vertically movable and rotatable, and is attached to the polishing arm 22 whose tip reaches the upper part of the turntable 31 and the tip of the polishing arm 22. Polishing head 21, a polishing agent nozzle 23 arranged so as to reach the vicinity of the polishing head 21 along a polishing arm 22 from a polishing agent supply source (not shown), and a polishing agent is supplied from a pure water supply source (not shown). A pure water nozzle 24 is provided so as to reach the vicinity of the polishing head 21 along the arm 22.

【0016】ここで、ポリッシングヘッド21は、研磨
用の特別の布で作られたポリッシングパット21aがタ
ーンテーブル31と対向するように接着されており、こ
のポリッシングパット21aによってガラス原盤40を
研磨する。また、ポリッシングアーム22は、図1の矢
印m1に示すように上下に移動可能となっていると共
に、図2の矢印m2に示すように左右に回動可能となっ
ており、ガラス原盤40を研磨する際に、ポリッシング
ヘッド21等をガラス原盤40上の所定の位置に移動さ
せる。そして、研磨剤ノズル23は、ガラス原盤40の
研磨時等に、ガラス原盤40上に研磨剤を研磨剤供給源
から供給するためのものであり、純水ノズル24は、ガ
ラス原盤40の研磨終了後等に、ガラス原盤40上に純
水を純水供給源から供給するためのものである。
In the polishing head 21, a polishing pad 21a made of a special polishing cloth is bonded so as to face the turntable 31, and the glass master 40 is polished by the polishing pad 21a. Further, the polishing arm 22 is movable up and down as shown by an arrow m1 in FIG. 1 and is rotatable left and right as shown by an arrow m2 in FIG. 2 to polish the glass master 40. In doing so, the polishing head 21 and the like are moved to a predetermined position on the glass master 40. The polishing agent nozzle 23 is for supplying the polishing agent onto the glass master disk 40 from the polishing agent supply source when polishing the glass master disk 40, and the pure water nozzle 24 is for finishing the polishing of the glass master disk 40. After that, pure water is supplied onto the glass master 40 from a pure water supply source.

【0017】一方、ターンテーブル部30は、ガラス原
盤40を研磨する際にガラス原盤40を真空吸着によっ
て支持固定してガラス原盤40と共に回転する円盤状の
ターンテーブル31と、ターンテーブル31と固定ボル
ト32によって締結されたスピンドル33と、スピンド
ル33とカップリング34によって連結されたモータ3
5とを備えている。ここで、スピンドル33は、図1中
矢印m3で示すようにモータ35の回転をターンテーブ
ル31に伝達するために回転軸を備えると共に、ターン
テーブル31上に配されたガラス原盤40を真空吸着す
るために真空装置(図示せず)に至る真空用流路33a
を備えている。
On the other hand, the turntable section 30 has a disk-shaped turntable 31 which is supported and fixed by vacuum suction to rotate the glass master 40 when the glass master 40 is polished, and the turntable 31 and the fixing bolt. A spindle 33 fastened by 32, and a motor 3 connected by the spindle 33 and a coupling 34
5 and. Here, the spindle 33 is provided with a rotation shaft for transmitting the rotation of the motor 35 to the turntable 31 as indicated by an arrow m3 in FIG. 1, and vacuum sucks the glass master disk 40 arranged on the turntable 31. Vacuum passage 33a for reaching a vacuum device (not shown)
It has.

【0018】上記ターンテーブル31の上面、すなわち
ガラス原盤40と接する側の主面には、図3に示すよう
に、環状の真空吸着用溝31aと、この真空吸着用溝3
1aと同心で半径が真空吸着用溝31aよりも若干小さ
い環状の大気解放用溝31bとが形成されており、この
ような真空吸着用溝31aと大気解放用溝31b以外の
部分31cは平面形状となっている。ここで、真空吸着
用溝31aの内部には開口部31dが均等間隔に3カ所
設けられており、大気解放用溝31bの内部には開口部
31eが1カ所設けられている。そして、真空吸着用溝
31a内に形成された各開口部31dからは、図4に示
すように、スピンドル33の真空用流路33aに至る真
空用流路31fが形成されており、ガラス原盤40を真
空吸着する際に、図4中矢印bに示すように、この開口
部31dを通じて真空吸着用溝31a内が真空引きされ
る。一方、大気解放用溝31b内に形成された開口部3
1eからは、図5に示すように、大気解放用溝31bか
らターンテーブル31の下面に至る大気解放用流路31
gが形成されており、大気解放用溝31b内を常に大気
に対して解放している。
On the upper surface of the turntable 31, that is, on the main surface in contact with the glass master 40, as shown in FIG. 3, an annular vacuum suction groove 31a and a vacuum suction groove 3 are formed.
An annular air release groove 31b, which is concentric with 1a and has a radius slightly smaller than that of the vacuum suction groove 31a, is formed. The portion 31c other than the vacuum suction groove 31a and the air release groove 31b has a planar shape. Has become. Here, three openings 31d are provided at equal intervals inside the vacuum suction groove 31a, and one opening 31e is provided inside the atmosphere release groove 31b. Then, as shown in FIG. 4, a vacuum flow path 31f reaching the vacuum flow path 33a of the spindle 33 is formed from each opening 31d formed in the vacuum suction groove 31a, and the glass master disk 40 is formed. 4 is vacuum-sucked, the inside of the vacuum suction groove 31a is evacuated through the opening 31d as shown by an arrow b in FIG. On the other hand, the opening 3 formed in the air release groove 31b
From 1e, as shown in FIG. 5, the atmosphere release channel 31 extending from the atmosphere release groove 31b to the lower surface of the turntable 31.
g is formed, and the inside of the atmosphere release groove 31b is always open to the atmosphere.

【0019】つぎに、上記ガラス原盤研磨装置でガラス
原盤40を研磨する際の動作について説明する。
Next, the operation of polishing the glass master 40 by the above-described glass master polishing apparatus will be described.

【0020】ガラス原盤40を研磨する際には、先ず、
ガラス原盤40をターンテーブル31上に配する。そし
て、真空装置によって、ガラス原盤40とターンテーブ
ル31の間隙、すなわち真空吸着用溝31a内を真空に
して、ガラス原盤40をターンテーブル31に真空吸着
させる。このとき、ターンテーブル31に吸着されるの
は、ガラス原盤40の裏面40bの真空吸着用溝31a
に相当する部分だけ、すなわちガラス原盤40の周辺部
分だけであるので、ガラス原盤40には殆ど変形が生じ
ない。
When polishing the glass master 40, first,
The glass master 40 is placed on the turntable 31. Then, the gap between the glass master 40 and the turntable 31, that is, the vacuum suction groove 31a is evacuated by the vacuum device, and the glass master 40 is vacuum-sucked to the turntable 31. At this time, what is attracted to the turntable 31 is the vacuum attraction groove 31a on the back surface 40b of the glass master 40.
Since there is only a portion corresponding to, that is, only the peripheral portion of the glass master 40, the glass master 40 is hardly deformed.

【0021】次に、モータ35によって、カップリング
34及びスピンドル33を介してターンテーブル31を
回転させる。このとき、ガラス原盤40は、ターンテー
ブル31に真空吸着されているので、ターンテーブル3
1と共に回転する。
Next, the turntable 31 is rotated by the motor 35 via the coupling 34 and the spindle 33. At this time, since the glass master 40 is vacuum-adsorbed to the turntable 31, the turntable 3
Rotate with 1.

【0022】次に、ポリッシングアーム22を移動させ
てポリッシングヘッド21のポリッシングパット21a
をガラス原盤40の表面に押し当てると共に、研磨剤ノ
ズル23からガラス原盤40の表面40a上に研磨剤を
供給して、ガラス原盤40の表面40aを研磨する。こ
のとき、もし、研磨剤等がガラス原盤40の裏面40b
に回り込んでガラス原盤40とターンテーブル31の間
に入り込んだとしても、環状の真空吸着用溝31aで真
空吸着しているので、ターンテーブル31の中心の方に
まで研磨剤等が吸い込まれるようなことはない。しか
も、真空吸着用溝31aの内側には大気解放用溝31b
があるため、もし真空吸着用溝31aよりも内側にまで
研磨剤等が入り込んだとしても、大気解放用溝31bの
内側にまで研磨剤等が入り込むようなことは殆どない。
Then, the polishing arm 22 is moved to move the polishing pad 21a of the polishing head 21.
Is pressed against the surface of the glass master 40, and an abrasive is supplied from the abrasive nozzle 23 onto the surface 40a of the glass master 40 to polish the surface 40a of the glass master 40. At this time, if the polishing agent or the like is on the back surface 40b of the glass master 40,
Even if it goes around and enters between the glass master 40 and the turntable 31, since it is vacuum-adsorbed by the annular vacuum adsorbing groove 31a, the abrasive etc. may be sucked toward the center of the turntable 31. There is no such thing. Moreover, the atmosphere release groove 31b is provided inside the vacuum suction groove 31a.
Therefore, even if the abrasive or the like enters inside the vacuum suction groove 31a, the abrasive or the like hardly enters the inside of the atmosphere releasing groove 31b.

【0023】次に、ガラス原盤40の研磨が終了した
ら、純水ノズル24からガラス原盤40の表面40a上
に純水を供給して研磨剤等を洗い落とし、その後、モー
タ35によって、カップリング34及びスピンドル33
を介してターンテーブル31をガラス原盤40と共に高
速回転させて、ガラス原盤40に付着している水分等を
振り切る。
Next, when the polishing of the glass master disk 40 is completed, pure water is supplied from the pure water nozzle 24 onto the surface 40a of the glass master disk 40 to wash off the polishing agent and the like. Spindle 33
The turntable 31 is rotated together with the glass master disk 40 at a high speed through the, to shake off water and the like adhering to the glass master disk 40.

【0024】そして、以上のようにしてガラス原盤40
の研磨を行った後は、真空吸着用溝31aの真空を解放
してガラス原盤40の真空吸着をやめ、ガラス原盤40
をターンテーブル31から取り外す。このとき、真空吸
着用溝31aの内側には大気に対して解放された大気解
放用溝31bがあるため、ガラス原盤40の真空吸着は
すぐに解放され、ガラス原盤40をターンテーブル31
から容易に取り外すことができる。
Then, as described above, the glass master 40
After the polishing, the vacuum of the vacuum suction groove 31a is released, and the vacuum suction of the glass master disc 40 is stopped.
Is removed from the turntable 31. At this time, the vacuum suction of the glass master disc 40 is immediately released because the air suction groove 31b that is open to the atmosphere is provided inside the vacuum suction trench 31a, and the glass master disc 40 is turned to the turntable 31.
Can be easily removed from.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のガラス原盤研磨装置では、ガラス原盤を真空吸着させ
たときに生じるガラス原盤の変形が少ないため、ガラス
原盤を高精度に均一に研磨することができる。
As is clear from the above description, in the glass master disk polishing apparatus of the present invention, since the glass master disk is less deformed when the glass master disk is vacuum-sucked, the glass master disk is highly accurately and uniformly polished. can do.

【0026】また、本発明のガラス原盤研磨装置では、
研磨剤等がガラス原盤の裏面へ回り込むことが殆どない
ため、ガラス原盤の裏面及びターンテーブルの上面が研
磨剤等によって汚染されることが殆どない。したがっ
て、ガラス原盤の裏面に回り込んだ研磨剤等によるガラ
ス原盤の品質の劣化が防止される。
In the glass master polishing apparatus of the present invention,
Since the polishing agent or the like rarely wraps around the back surface of the glass master, the back surface of the glass master and the upper surface of the turntable are hardly contaminated by the polishing agent or the like. Therefore, it is possible to prevent the quality of the glass master disk from being deteriorated by the polishing agent or the like that has flown around the back surface of the glass master disk.

【0027】このように、本発明のガラス原盤研磨装置
を用いれば、高精度に均一に研磨された高品質のガラス
原盤を供給することができる。
As described above, by using the glass master disk polishing apparatus of the present invention, it is possible to supply a high-quality glass master disk that is highly accurately and uniformly polished.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用したガラス原盤研磨装置の一構成
例を示す側面図である。
FIG. 1 is a side view showing a configuration example of a glass master polishing apparatus to which the present invention is applied.

【図2】図1に示すガラス原盤研磨装置を矢印A方向か
ら見た平面図である。
FIG. 2 is a plan view of the glass master polishing apparatus shown in FIG. 1 viewed from the direction of arrow A.

【図3】図1に示すガラス原盤研磨装置のターンテーブ
ルを矢印A方向から見た平面図である。
3 is a plan view of the turntable of the glass master polishing apparatus shown in FIG. 1 as seen from the direction of arrow A. FIG.

【図4】図1に示すガラス原盤研磨装置のターンテーブ
ル近傍を拡大して示す断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of a turntable of the glass master disk polishing apparatus shown in FIG.

【図5】従来のガラス原盤研磨装置のターンテーブルを
上から見た平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a turntable of a conventional glass master polishing apparatus as viewed from above.

【図6】従来のガラス原盤研磨装置のターンテーブル近
傍を拡大して示す断面図である。
FIG. 6 is an enlarged sectional view showing the vicinity of a turntable of a conventional glass master polishing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ベース板 20 ポリッシング部 21 ポリッシングヘッド 22 ポリッシングアーム 23 研磨剤ノズル 24 純水ノズル 30 ターンテーブル部 31 ターンテーブル 31a 真空吸着用溝 31b 大気解放用溝 32 固定ボルト 33 スピンドル 34 カップリング 35 モータ 40 ガラス原盤 10 Base Plate 20 Polishing Part 21 Polishing Head 22 Polishing Arm 23 Abrasive Nozzle 24 Pure Water Nozzle 30 Turntable Part 31 Turntable 31a Vacuum Adsorption Groove 31b Air Release Groove 32 Fixing Bolt 33 Spindle 34 Coupling 35 Motor 40 Glass Master

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス原盤をターンテーブル上に真空吸
着によって支持固定して上記ガラス原盤を研磨するガラ
ス原盤研磨装置において、 上記ガラス原盤と接する側の上記ターンテーブルの主面
に、環状の真空吸着用溝と、上記真空吸着用溝よりも半
径の小さい環状の大気解放用溝とが形成されていること
を特徴とするガラス原盤研磨装置。
1. A glass master disk polishing apparatus for polishing and fixing the glass master disk by supporting and fixing the glass master disk on a turntable by vacuum suction, wherein an annular vacuum suction is provided on a main surface of the turntable which is in contact with the glass master disk. A glass master disk polishing apparatus, wherein a working groove and an annular atmosphere releasing groove having a smaller radius than the vacuum suction groove are formed.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101016400B1 (en) * 2008-06-19 2011-02-21 주식회사 에스에프에이 Grinding apparatus for glass
JP2013045869A (en) * 2011-08-24 2013-03-04 Disco Abrasive Syst Ltd Chuck table and processing device having the chuck table

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