JPH08293644A - Mounting of semiconductor array element - Google Patents

Mounting of semiconductor array element

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JPH08293644A
JPH08293644A JP10128695A JP10128695A JPH08293644A JP H08293644 A JPH08293644 A JP H08293644A JP 10128695 A JP10128695 A JP 10128695A JP 10128695 A JP10128695 A JP 10128695A JP H08293644 A JPH08293644 A JP H08293644A
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JP
Japan
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semiconductor element
alignment
array
type semiconductor
electrodes
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JP10128695A
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Mitsuo Ukechi
光雄 請地
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Japan Aviation Electronics Industry Ltd
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Japan Aviation Electronics Industry Ltd
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Abstract

PURPOSE: To provide a method of mounting semiconductor array elements, which aligns the elements with high accuracy. CONSTITUTION: In a method of mounting semiconductor array elements, which are subjected to flip chip bonding, the number of electrodes 3 to be connected electrically with the elemnts is assumed to be N to include (N+2) pieces or more of the electrodes in the N, the semiconductor array elements 1 are cut out from a semiconductor wafer to form and more than one piece of electrodes 2 provided at both ends of a group of the elements 1 are used as electrodes for alignment with substrates 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、アレイ型半導体素子
の実装方法に関し、特にレーザダイオード、フォトダイ
オードの如き光学半導体素子を配列したアレイ型半導体
素子を高精度に位置合わせするアレイ型半導体素子の実
装方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of mounting an array type semiconductor element, and more particularly to an array type semiconductor element for aligning an array type semiconductor element such as a laser diode or a photodiode in which optical semiconductor elements are arranged with high accuracy. Regarding the implementation method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来例を図2を参照して説明する。図2
はフリップチップボンディング方法によりアレイ型半導
体素子1を基板6に実装したところを示す斜視図であ
る。図2に示されるアレイ型半導体素子1は8個の半導
体素子より成り、各半導体素子はそれぞれ信号電極31
を有すると共に共通する接地電極3e が形成されてい
る。アレイ型半導体素子1は図2において鉛直方向に厚
みを有する角材であるかの如くに示されているが、実際
はInP、InGaAsP、GaAs、Siの如き半導
体材料より成る薄板である。図2に示される如く、アレ
イ型半導体素子1の信号電極31 が形成される面を下向
きにすると共に共通接地電極3e が形成される面を上向
きにした状態において、アレイ型半導体素子1の信号電
極31 を基板6の電極206 に半田付け接続を行ない、
アレイ型半導体素子1を基板6に実装搭載する方法をフ
リップチップボンディング方法という。この様なフリッ
プチップボンディング方法により、アレイ型半導体素子
1を基板6に高精度に位置合わせ実装搭載することがで
きる。ここで、アレイ型半導体素子1側の信号電極31
には球状のPb−Sn半田バンプが形成されている。
2. Description of the Related Art A conventional example will be described with reference to FIG. Figure 2
FIG. 3 is a perspective view showing a state where the array type semiconductor element 1 is mounted on the substrate 6 by a flip chip bonding method. The array-type semiconductor element 1 shown in FIG. 2 is composed of eight semiconductor elements, and each semiconductor element has a signal electrode 3 1
And a common ground electrode 3 e is formed. The array-type semiconductor element 1 is shown as if it is a square bar having a thickness in the vertical direction in FIG. 2, but is actually a thin plate made of a semiconductor material such as InP, InGaAsP, GaAs, and Si. As shown in FIG. 2, when the surface of the array-type semiconductor element 1 on which the signal electrode 3 1 is formed faces downward and the surface of the array-type semiconductor element 1 on which the common ground electrode 3 e is formed faces upward, The signal electrode 3 1 is soldered and connected to the electrode 20 6 of the substrate 6,
A method of mounting and mounting the array-type semiconductor element 1 on the substrate 6 is called a flip chip bonding method. By such a flip-chip bonding method, the array-type semiconductor element 1 can be mounted on the substrate 6 with high precision by positioning and mounting. Here, the signal electrode 3 1 on the array type semiconductor element 1 side
A spherical Pb-Sn solder bump is formed on the.

【0003】図3はフリップチップボンディング方法に
おける基板6に対するアレイ型光学半導体素子1の位置
合わせの仕方を説明する側面図である。位置合わせは、
図3に示される如く、アレイ型光学半導体素子1と基板
6とを上下方向に対向させて両者の間にカメラ8を挿入
し、アレイ型光学半導体素子1の半田バンプ信号電極3
1 および基板6の電極206 の双方を直接観察し、これ
らの電極を重ね合わせる様にする。なお、光学半導体素
子の発光部9と信号電極31 とは所定の位置関係を満足
しており、信号電極31 および基板6の電極206 の双
方が完全に重ね合わされたとき、光学半導体素子の発光
部9と図示されない受光素子とは整合して両者間に充分
な光学的結合がなされるに到る。
FIG. 3 is a side view for explaining a method of aligning the array type optical semiconductor element 1 with respect to the substrate 6 in the flip chip bonding method. The alignment is
As shown in FIG. 3, the array type optical semiconductor element 1 and the substrate 6 are opposed to each other in the vertical direction, and the camera 8 is inserted between the two.
Both 1 and the electrode 20 6 of the substrate 6 are directly observed, and these electrodes are superposed. The light emitting portion 9 of the optical semiconductor element and the signal electrode 3 1 satisfy a predetermined positional relationship, and when both the signal electrode 3 1 and the electrode 20 6 of the substrate 6 are completely overlapped, the optical semiconductor element The light emitting section 9 and the light receiving element (not shown) are aligned and a sufficient optical coupling is achieved between them.

【0004】このフリップチップボンディング方法は、
アレイ型光学半導体素子1の信号電極31 および基板6
の電極206 の双方を直接に観察しながら両者を重ね合
わそうとする方法であるから、本来は、基板6に実装さ
れるべきアレイ型光学半導体素子1の発光部9を精度よ
く位置決めすることができる筈のものである。しかし、
電気接続されるべき両電極は、アレイ型半導体素子1側
の信号電極31 或は基板6側の電極206 の何れか一
方、或は双方に半田バンプが形成される。ところが、半
田バンプの表面は通常の電極膜の様に平滑とはされてい
ないので、これに起因して観察像の鮮明さは損なわれ
る。位置合わせの観察像の鮮明さが損なわれるというこ
とは、位置合わせの精度がその分だけ低下することを意
味する。
This flip chip bonding method is
Signal electrode 3 1 and substrate 6 of array type optical semiconductor element 1
Since this is a method in which both of the electrodes 20 6 are directly observed while trying to overlap each other, it is possible to accurately position the light emitting section 9 of the array type optical semiconductor element 1 to be mounted on the substrate 6 originally. It should be possible. But,
The electrodes to be electrically connected, either one of the electrodes 20 6 array type semiconductor device 1 side signal electrode 3 1 or the substrate 6 side, or solder bumps on both is formed. However, since the surface of the solder bump is not smooth like an ordinary electrode film, the sharpness of the observed image is deteriorated due to this. Impairing the sharpness of the alignment observation image means that the alignment accuracy is reduced accordingly.

【0005】図5はアレイ型半導体素子1側の信号電極
1 パターンの両側に位置合わせ専用のマーカ411およ
びマーカ412を付加し、基板6側の電極206 パターン
の両側にも位置合わせ専用のマーカ461およびマーカ4
62を付加した従来例を示す図である。この様に位置合わ
せ用の専用マーカを形成し、マーカ411とマーカ461
が完全に重なると共にマーカ412とマーカ462とが完全
に重なることを観察しながら位置合わせ実装することも
実施されている。この場合、アレイ型半導体素子1が8
chのアレイ型素子であるものとすると、半導体ウェハ
は信号電極8個おきにマーカ4を組み込んで形成され
る。
In FIG. 5, a marker 4 11 and a marker 4 12 dedicated for alignment are added to both sides of the signal electrode 3 1 pattern on the side of the array type semiconductor device 1 and alignment is also performed on both sides of the electrode 20 6 pattern on the side of the substrate 6. Dedicated marker 4 61 and marker 4
It is a figure which shows the prior art example which added 62 . In this way, a dedicated marker for alignment is formed, and the alignment is implemented while observing that the marker 4 11 and the marker 4 61 are completely overlapped and the marker 4 12 and the marker 4 62 are completely overlapped. Has been done. In this case, the array-type semiconductor element 1 has 8
Assuming that it is a ch array type element, the semiconductor wafer is formed by incorporating the marker 4 for every eight signal electrodes.

【0006】なお、図4は通常のボンディング方法によ
りアレイ型半導体素子1を基板6に実装したところを示
す斜視図である。7はリードワイヤ、9は発光部であ
る。この場合、信号電極面は上向きにされており、アレ
イ型半導体素子1の外形で位置合わせをするので、アレ
イ型半導体素子1の外形寸法精度に起因して発光部9に
位置ずれが生じ、フリップチップボンディング方法と比
較して高精度を期待することはできない。
FIG. 4 is a perspective view showing the array type semiconductor element 1 mounted on the substrate 6 by a normal bonding method. Reference numeral 7 is a lead wire, and 9 is a light emitting portion. In this case, since the signal electrode surface is directed upward and alignment is performed with the outer shape of the array-type semiconductor element 1, the light-emitting portion 9 is displaced due to the accuracy of the outer-dimensional dimension of the array-type semiconductor element 1, and the flip-flop becomes High accuracy cannot be expected compared with the chip bonding method.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】以上の通り、フリップ
チップボンディング方法の従来例においては、表面が平
滑とはされていない半田バンプの形成された電極を観察
することとなるので、高精度の位置合わせは望めなくな
る。半導体ウェハを形成する段階において、図5に示さ
れる如く、アレイ型半導体素子1の電極31 パターンの
両側に予めマーカ411およびマーカ412を組み込み半導
体ウェハ形成することにより位置合わせは容易に実施す
ることができる。しかし、この様にすると半導体ウェハ
からアレイ型半導体素子を切り出す領域がマーカ411
よびマーカ412を含めてこれらの間に規定されることに
なる。アレイ型半導体素子は、連続して並んだ半導体素
子の全てが良品である場合を除いて、不良品とみなされ
る。例えば8chのアレイ型半導体素子であり、図5の
通りにマーカ411およびマーカ412を入れて半導体ウェ
ハを製造したものとすると、マーカの内側の8素子の内
に1個でも不良素子が試験により認識されれば、このア
レイ型半導体素子全体は不良品とみなされる。ここで、
位置合わせ用のマーカを組み込んだ特殊な半導体ウェハ
を形成することをしないで、半導体素子を等方的にマト
リクス状に配列したマーカを組み込まない一般的な半導
体ウェハを製造すれば、不良であるものと認識されてい
る半導体素子を避けて連続した良品の8個の半導体素子
をアレイ型半導体素子として任意に切り出すことがで
き、アレイ型半導体素子の歩留りは大きく向上する。従
って、図5の様な専用マーカを半導体ウェハに組み込む
ことは避ける方が望ましい。
As described above, in the conventional example of the flip-chip bonding method, since the electrodes on which the solder bumps whose surfaces are not smooth are formed are observed, it is possible to perform highly accurate positioning. I can't hope for a match. In the step of forming the semiconductor wafer, as shown in FIG. 5, the alignment is easily performed by incorporating the markers 4 11 and the markers 4 12 in advance on both sides of the electrode 3 1 pattern of the array type semiconductor element 1 to form the semiconductor wafer. can do. However, in this way, the region where the array type semiconductor element is cut out from the semiconductor wafer is defined between them including the marker 4 11 and the marker 4 12 . The array type semiconductor device is regarded as a defective product unless all of the semiconductor devices arranged in succession are good products. For example, if it is an 8ch array type semiconductor element and a semiconductor wafer is manufactured by inserting the markers 4 11 and 4 12 as shown in FIG. 5, even if one defective element is tested out of the 8 elements inside the marker. If it is recognized by, the entire array type semiconductor device is regarded as a defective product. here,
If a general semiconductor wafer that does not incorporate markers in which semiconductor elements are isotropically arranged in a matrix is not manufactured without forming a special semiconductor wafer in which alignment markers are incorporated, it is defective. Eight consecutive good semiconductor elements can be arbitrarily cut out as an array type semiconductor element while avoiding the semiconductor element recognized as being, and the yield of the array type semiconductor element is greatly improved. Therefore, it is desirable to avoid incorporating the dedicated marker as shown in FIG. 5 into the semiconductor wafer.

【0008】この発明は、上述の通りの問題を解消した
アレイ型半導体素子の実装方法を提供するものである。
The present invention provides a method for mounting an array type semiconductor device which solves the above-mentioned problems.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】フリップチップボンディ
ングするアレイ型半導体素子の実装方法において、電気
接続されるべき電極3の数をNとして(N+2)個以上
の電極を含みアレイ型半導体素子1を半導体ウェハから
切り出し作製し、両端の1個以上の電極2は基板6に対
する位置合わせ用電極として使用するアレイ型半導体素
子の実装方法を構成した。
In a method of mounting an array type semiconductor element by flip chip bonding, the array type semiconductor element 1 is a semiconductor including (N + 2) or more electrodes, where N is the number of electrodes 3 to be electrically connected. A method of mounting an array-type semiconductor element in which one or more electrodes 2 on both ends were cut out from a wafer and used as alignment electrodes for the substrate 6 was constructed.

【0010】そして、位置合わせ用電極2に対応する位
置合わせマーカ4を基板6に形成したアレイ型半導体素
子の実装方法を構成した。また位置合わせマーカ4の内
側に位置ずれ評価目盛5を形成したアレイ型半導体素子
の実装方法を構成した。更に、位置合わせは赤外線カメ
ラ8により観察しながら実施することを特徴とするアレ
イ型半導体素子の実装方法を構成した。
Then, a method of mounting an array type semiconductor element in which the alignment marker 4 corresponding to the alignment electrode 2 is formed on the substrate 6 is constructed. Further, the mounting method of the array-type semiconductor element in which the positional displacement evaluation scale 5 is formed inside the alignment marker 4 is configured. Further, the mounting method of the array type semiconductor element is characterized in that the alignment is performed while observing with the infrared camera 8.

【0011】[0011]

【実施例】この発明の実施例を図1を参照して説明す
る。図1はこの発明によるアレイ型半導体素子の電極パ
ターンおよび基板の電極パターンを示す図である。図1
に示されるアレイ型半導体チップ側には合計10個の電
極より成る電極パターンが形成されている。ところで、
図示されるアレイ型半導体素子素子1は8chであるの
で、これらに対応して10個の電極の内の31 により示
される内側の8個の電極に半田バンプを形成して、これ
ら電極を信号電極パターンとする。211および212によ
り示される左右両端の電極には半田バンプを形成しない
で、これらを位置合わせ用電極とする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing an electrode pattern of an array type semiconductor device and an electrode pattern of a substrate according to the present invention. FIG.
On the side of the array-type semiconductor chip shown in (1), an electrode pattern composed of a total of 10 electrodes is formed. by the way,
Since the array-type semiconductor element 1 shown in the figure has 8 ch, solder bumps are formed on the inner 8 electrodes shown by 3 1 of the 10 electrodes corresponding to these, and these electrodes are signaled. The electrode pattern is used. Solder bumps are not formed on the electrodes on both the left and right sides indicated by 2 11 and 2 12 , but these are used as electrodes for alignment.

【0012】図1に示される基板6側には、206 によ
り示される8個の電極より成る電極パターンと、461
よび462により示される左右両端の位置合わせマーカが
形成される。そして、位置合わせマーカ4内側には5に
より示される位置ずれ評価目盛が形成されている。位置
合わせマーカ4は長方形に形成され、位置ずれ評価目盛
5は位置合わせマーカ4の4辺の近傍に位置決め形成さ
れる。
[0012] substrate 6 side shown in FIG. 1, the electrode pattern consisting of eight electrodes indicated by 20 6, the alignment marker of left and right end indicated by 4 61 and 4 62 are formed. Then, inside the alignment marker 4, a positional deviation evaluation scale indicated by 5 is formed. The position alignment marker 4 is formed in a rectangular shape, and the position shift evaluation scale 5 is positioned and formed in the vicinity of four sides of the position alignment marker 4.

【0013】ここで、基板6に対するアレイ型光学半導
体素子1の位置合わせの仕方を説明するに、図3におけ
ると同様に、図1におけるアレイ型光学半導体素子1と
基板6とを上下方向に対向させて両者の間にカメラ8を
挿入する。このカメラ8により基板6の位置合わせマー
カ4およびアレイ型光学半導体素子1の位置合わせ用電
極2の双方を直接観察し、アレイ型光学半導体素子1の
半田バンプを形成しない左側位置合わせ用電極211を左
側位置合わせマーカ461に位置合わせすると共に右側位
置合わせ用電極212を右側位置合わせマーカ462に位置
合わせし、アレイ型光学半導体素子1と基板6とは重ね
合わせられる。この位置合わせ重ね合わされた状態にお
いて電極同志は半田付けされる。この場合、位置合わせ
用電極2と位置合わせマーカ4とは単に係合接触してい
るに過ぎず、間に半田その他の何等の物質も存在しな
い。なお、アレイ型光学半導体素子1の発光部9と信号
電極31 とは所定の位置関係を満足させられており、基
板6の位置合わせマーカ4とアレイ型光学半導体素子1
の位置合わせ用電極2の双方が完全に重ね合わされたと
きに、アレイ型光学半導体素子1の発光部9と図示され
ない受光素子とは整合して両者間に充分な光学的結合が
なされるに到るという前提条件は満足せしめられてい
る。
Here, in order to explain how to position the array type optical semiconductor element 1 with respect to the substrate 6, the array type optical semiconductor element 1 and the substrate 6 in FIG. Then, the camera 8 is inserted between the two. The camera 8 directly observes both the alignment marker 4 on the substrate 6 and the alignment electrode 2 of the array type optical semiconductor element 1, and the left alignment electrode 2 11 on which the solder bumps of the array type optical semiconductor element 1 are not formed. the right positioning electrode 2 12 with aligning the left alignment marker 4 61 aligned with the right side alignment marker 4 62, it is superimposed on the array type optical semiconductor element 1 and the substrate 6. The electrodes are soldered to each other in the aligned and superposed state. In this case, the alignment electrode 2 and the alignment marker 4 are merely in contact with each other, and there is no solder or any other substance between them. The light emitting portion 9 of the array-type optical semiconductor element 1 and the signal electrode 3 1 satisfy a predetermined positional relationship, and the alignment marker 4 on the substrate 6 and the array-type optical semiconductor element 1 are arranged.
When both of the positioning electrodes 2 are completely overlapped with each other, the light emitting portion 9 of the array-type optical semiconductor element 1 and the light receiving element (not shown) are aligned and a sufficient optical coupling is achieved between them. The precondition of being satisfied is satisfied.

【0014】アレイ型半導体素子1を構成するInP、
InGaAsP、GaAs、Siその他の半導体材料よ
り成る薄板は赤外線を透過するものであるので、赤外線
カメラを使用することにより半田付け後であっても、電
極マーカ位置合わせ状態を観察することができる。も
し、位置合わせマーカ4と位置合わせ用電極2との間に
接合位置ずれが生じていれば、赤外線カメラによる観察
により半田バンプの形成されていない位置合わせ用電極
2を介して位置合わせマーカ4を透視して位置ずれ評価
目盛5を観察することができる。
InP forming the array type semiconductor device 1,
Since a thin plate made of a semiconductor material such as InGaAsP, GaAs, and Si transmits infrared rays, it is possible to observe the electrode marker alignment state even after soldering by using an infrared camera. If there is a displacement in the bonding position between the alignment marker 4 and the alignment electrode 2, the alignment marker 4 is attached via the alignment electrode 2 on which no solder bump is formed by observation with an infrared camera. The displacement evaluation scale 5 can be seen through.

【0015】以上の実施例においては、アレイ型光学半
導体素子1の左右両端に1個づつの位置合わせ用電極2
が形成されているが、位置合わせ用電極2の数は1個づ
つに限らずに複数個とすることにより位置合わせ精度を
更に向上することができる。
In the above embodiment, one alignment electrode 2 is provided at each of the left and right ends of the array type optical semiconductor element 1.
However, the number of positioning electrodes 2 is not limited to one, but a plurality of positioning electrodes 2 can be used to further improve the positioning accuracy.

【0016】[0016]

【発明の効果】この発明は、半導体ウェハに位置合わせ
専用のマーカを形成することを要しないので、アレイ型
半導体素子を切り出すに際して半導体ウェハの半導体素
子の切り出し位置を位置合わせ専用のマーカにより限定
されることがなく、アレイ型半導体素子の歩留りは大き
く向上する。
According to the present invention, since it is not necessary to form a marker dedicated to alignment on a semiconductor wafer, when the array type semiconductor element is cut out, the cutout position of the semiconductor element of the semiconductor wafer is limited by the marker dedicated to alignment. The yield of array-type semiconductor devices is greatly improved.

【0017】そして、以上の位置合わせは赤外線カメラ
8により観察しながら実施するものであり、位置合わせ
用電極2には半田バンプを形成しないので、位置合わせ
マーカを鮮明に観察することができ、高精度の位置合わ
せを容易に実施することができる。また、従来は、位置
合わせ用の電極も半田付けがなされたので、位置合わせ
マーカを形成しようとしてもこれを電極の外側に形成せ
ざるを得ず、半田付け後の半田のはみ出しに起因してマ
ーカは隠ぺいされて測定が困難とされたが、この発明に
よれば位置合わせマーカを透視観察することができるの
で、マーカを必ず鮮明正確に観察することができる。
The above alignment is carried out while observing with the infrared camera 8. Since the solder bumps are not formed on the alignment electrode 2, the alignment marker can be clearly observed, which is high. Accurate alignment can be easily performed. Further, in the past, the electrodes for alignment were also soldered, so even if an alignment marker was to be formed, this had to be formed on the outside of the electrodes, which was caused by the protrusion of solder after soldering. Although the marker is hidden and it is difficult to measure it, according to the present invention, since the alignment marker can be seen through, the marker can be observed clearly and accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】アレイ型半導体素子側および基板側の電極の実
施例を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of electrodes on an array type semiconductor element side and a substrate side.

【図2】フリップチップボンディングした素子の斜視
図。
FIG. 2 is a perspective view of a flip-chip bonded device.

【図3】フリップチップボンディングの位置合わせ方法
を説明する図。
FIG. 3 is a diagram illustrating a method of aligning flip chip bonding.

【図4】通常のボンディングをした素子の斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a normally bonded element.

【図5】アレイ型半導体素子側および基板側の電極の従
来例を示す図。
FIG. 5 is a view showing a conventional example of electrodes on an array type semiconductor element side and a substrate side.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アレイ型半導体素子 2 半田バンプを形成しない位置合わせ用電極 3 半田バンプ電極 4 位置合わせマーカ 5 位置ずれ目盛り 6 基板 7 ワイヤ 8 カメラ 9 発光部 1 Array type semiconductor element 2 Positioning electrode not forming solder bumps 3 Solder bump electrode 4 Positioning marker 5 Position shift scale 6 Substrate 7 Wire 8 Camera 9 Light emitting part

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フリップチップボンディングするアレイ
型半導体素子の実装方法において、電気接続されるべき
電極数をNとして(N+2)個以上の電極を含みアレイ
型半導体素子を半導体ウェハから切り出し作製し、両端
の1個以上の電極は基板に対する位置合わせ用電極とし
て使用することを特徴とするアレイ型半導体素子の実装
方法。
1. A method of mounting an array-type semiconductor element by flip-chip bonding, wherein an array-type semiconductor element including (N + 2) or more electrodes is cut out from a semiconductor wafer, and the number of electrodes to be electrically connected is N. A method for mounting an array-type semiconductor device, wherein one or more electrodes are used as electrodes for alignment with respect to a substrate.
【請求項2】 請求項1に記載されるアレイ型半導体素
子の実装方法において、位置合わせ用電極に対応する位
置合わせマーカを基板に形成したことを特徴とするアレ
イ型半導体素子の実装方法。
2. The method for mounting an array-type semiconductor element according to claim 1, wherein a positioning marker corresponding to the positioning electrode is formed on the substrate.
【請求項3】 請求項2に記載されるアレイ型半導体素
子の実装方法において、位置合わせマーカの内側に位置
ずれ評価目盛を形成したことを特徴とするアレイ型半導
体素子の実装方法。
3. The method for mounting an array-type semiconductor element according to claim 2, wherein a misalignment evaluation scale is formed inside the alignment marker.
【請求項4】 請求項2および請求項3の内の何れかに
記載されるアレイ型半導体素子の実装方法において、位
置合わせは赤外線カメラにより観察しながら実施するこ
とを特徴とするアレイ型半導体素子の実装方法。
4. The array-type semiconductor device according to claim 2, wherein the alignment is performed while observing with an infrared camera. How to implement.
JP10128695A 1995-04-25 1995-04-25 Mounting of semiconductor array element Withdrawn JPH08293644A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030092914A (en) * 2002-05-31 2003-12-06 삼성전자주식회사 Device and mark alignment method for flip chip bonder comprising up and down mark
JP2018046227A (en) * 2016-09-16 2018-03-22 ウシオ電機株式会社 Semiconductor laser device and manufacturing method thereof

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