JPH08292448A - Display device - Google Patents

Display device

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JPH08292448A
JPH08292448A JP9916195A JP9916195A JPH08292448A JP H08292448 A JPH08292448 A JP H08292448A JP 9916195 A JP9916195 A JP 9916195A JP 9916195 A JP9916195 A JP 9916195A JP H08292448 A JPH08292448 A JP H08292448A
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JP
Japan
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semiconductor switching
signal wiring
switching element
display device
image signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP9916195A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichiro Hori
誠一郎 堀
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH08292448A publication Critical patent/JPH08292448A/en
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a display device of an active matrix system capable of maintaining uniform display characteristics even against the deviation in the positions where a pixel structure is formed. CONSTITUTION: This display device of the active matrix system has scanning signal wirings 12 and image signal wirings 16 arranged in a matrix form, pixel electrodes 17 arranged in the regions enclosed by these wirings and semiconductor switching elements 21 electrically connected to the scanning signal wirings 12 and the pixel electrodes 17. The structure in which the semiconductor switching elements 21 and the pixel electrodes 17 are intersected in a cruciform form is formed in the display device described above. As a result, the variations in the parasitic capacitance Cgd arising from the deviation in the positions where the semiconductor switching elements 21 are formed are eliminated and the specified maintaining of the display voltage Vlc is made possible and, therefore, the display device having the excellent uniform display characteristics is embodied.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、テレビやワードプロセ
ッサ等に用いられる表示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device used in televisions, word processors and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶に代表される表示物質を用い
て文字や画像を表示する表示装置の1つとして、表示単
位毎にスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス
方式が知られている。この方式の従来の表示装置の画素
構成を図3、図4を用いて説明する。
2. Description of the Related Art In recent years, an active matrix system having a switching element for each display unit has been known as one of display devices for displaying characters and images using a display material typified by liquid crystal. A pixel configuration of a conventional display device of this system will be described with reference to FIGS.

【0003】第1の基板と第2の基板に相当する絶縁性
基板11a、11bが互いに平行に対向して位置し、そ
の間隙には、表示材料である液晶10が挟持されてい
る。絶縁性基板11a上のうち、液晶10と接する側の
一主面に走査信号配線12と補助容量配線13が形成さ
れ、これらの上に、絶縁膜14を挟んで半導体薄膜から
成る半導体スイッチング素子15、画像信号配線16お
よび画素電極17が形成されている。また、絶縁性基板
11b上のうち、液晶10と接する側の一主面上には、
対向電極18が形成されている。
Insulating substrates 11a and 11b corresponding to a first substrate and a second substrate are positioned in parallel and opposite to each other, and a liquid crystal 10 which is a display material is sandwiched in the gap. A scanning signal line 12 and an auxiliary capacitance line 13 are formed on one main surface of the insulating substrate 11a that is in contact with the liquid crystal 10, and a semiconductor switching element 15 formed of a semiconductor thin film with an insulating film 14 sandwiched therebetween is formed on the scanning signal line 12 and the auxiliary capacitance line 13. The image signal wiring 16 and the pixel electrode 17 are formed. In addition, on the one main surface of the insulating substrate 11b that is in contact with the liquid crystal 10,
The counter electrode 18 is formed.

【0004】平面で見れば、走査信号配線12と画像信
号配線16はマトリクス状に配置され、これらに囲まれ
る領域に画素電極17を設けている。そして、半導体ス
イッチング素子15はその上面にソース電極、ドレイン
電極そして絶縁膜14を介してゲート電極の3つの電極
を有し、それぞれ画像信号配線16、画素電極17、走
査電極配線12と電気的に接続されている。従って半導
体スイッチング素子15はこれらに近接する位置、つま
り走査信号配線12と画像信号配線16の交点に近接し
て配線されている。なおソース電極、ドレイン電極は半
導体スイッチング素子15と画像信号配線16との接
面、半導体スイッチング素子15と画素電極17との接
面がこれに相当する。
In plan view, the scanning signal wirings 12 and the image signal wirings 16 are arranged in a matrix, and pixel electrodes 17 are provided in the area surrounded by these. The semiconductor switching element 15 has three electrodes, a source electrode, a drain electrode, and a gate electrode via an insulating film 14, on the upper surface thereof, and is electrically connected to the image signal wiring 16, the pixel electrode 17, and the scanning electrode wiring 12, respectively. It is connected. Therefore, the semiconductor switching element 15 is wired close to these, that is, near the intersection of the scanning signal wiring 12 and the image signal wiring 16. The source electrode and the drain electrode correspond to the contact surface between the semiconductor switching element 15 and the image signal wiring 16, and the contact surface between the semiconductor switching element 15 and the pixel electrode 17.

【0005】この構成を有する表示装置の動作について
説明する。一定周期で走査信号配線12に電気信号が供
給されるとともに、表示する画像に対応する電気信号を
画像信号配線16に供給すれば、画像信号配線16に送
られた電気信号に対応する半導体スイッチング素子15
が作動し、画像信号配線16から画素電極17に電荷が
流入する。この結果、画素電極17と対向電極18との
間に電位差を生じて液晶10の分子を駆動させ、絶縁性
基板11a、液晶10、絶縁性基板11bの経路で透過
する光の光量、波長を変化させる。この光の透過状態変
化を利用して画像などを表示するものである。
The operation of the display device having this configuration will be described. If the electric signal is supplied to the scanning signal wiring 12 at a constant cycle and the electric signal corresponding to the image to be displayed is supplied to the image signal wiring 16, the semiconductor switching element corresponding to the electric signal sent to the image signal wiring 16 15
Is activated, and electric charges flow from the image signal wiring 16 into the pixel electrode 17. As a result, a potential difference is generated between the pixel electrode 17 and the counter electrode 18 to drive the molecules of the liquid crystal 10, and the amount of light and the wavelength of light transmitted through the paths of the insulating substrate 11a, the liquid crystal 10, and the insulating substrate 11b are changed. Let An image or the like is displayed by utilizing this change in the light transmission state.

【0006】この表示装置の1画素あたりの電気等価回
路を図5に示す。図4、図5において、Cgdは画素電
極17と接続した半導体スイッチング素子15のドレイ
ン端子と走査信号配線12との間に発生する寄生容量で
ある。Cgsは画像信号配線16と接続した半導体スイ
ッチング素子15のソース端子と走査信号配線12との
間に発生する寄生容量である。Clcは画素容量であ
り、画素電極17と対向電極18との間の容量である。
Csは補助容量であり、画素電極17と補助容量配線1
3との間の容量である。またTは半導体スイッチング素
子15である。
An electric equivalent circuit per pixel of this display device is shown in FIG. 4 and 5, Cgd is a parasitic capacitance generated between the scanning signal line 12 and the drain terminal of the semiconductor switching element 15 connected to the pixel electrode 17. Cgs is a parasitic capacitance generated between the source terminal of the semiconductor switching element 15 connected to the image signal wiring 16 and the scanning signal wiring 12. Clc is a pixel capacitance, which is a capacitance between the pixel electrode 17 and the counter electrode 18.
Cs is an auxiliary capacitance, and the pixel electrode 17 and the auxiliary capacitance line 1
3 and capacity. Further, T is a semiconductor switching element 15.

【0007】この画素には、走査信号配線12に走査信
号Vg、補助容量配線13に容量信号Va、画像信号配
線16に画像信号Vs、対向電極18に対向信号Vcを
印加する。また画素電極17と対向電極18との間の液
晶10に印加される画素電圧をVlcとする。
In this pixel, the scanning signal Vg is applied to the scanning signal line 12, the capacitance signal Va is applied to the auxiliary capacitance line 13, the image signal Vs is applied to the image signal line 16, and the counter signal Vc is applied to the counter electrode 18. Further, the pixel voltage applied to the liquid crystal 10 between the pixel electrode 17 and the counter electrode 18 is Vlc.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来の表示装置では、
走査信号配線12上に形成される半導体スイッチング素
子15は、画像信号配線16および画素電極17の内側
に覆われている。この構造だと、半導体スイッチング素
子15を形成する位置が図7(a)から図7(b)に示
すようにずれると、寄生容量CgsおよびCgdが変化
する。
In the conventional display device,
The semiconductor switching element 15 formed on the scanning signal wiring 12 is covered inside the image signal wiring 16 and the pixel electrode 17. With this structure, the parasitic capacitances Cgs and Cgd change when the position where the semiconductor switching element 15 is formed shifts as shown in FIG. 7A to FIG. 7B.

【0009】このうちCgdが変化すると、液晶10に
印加される表示電圧Vlcが変化する。例えば、図6に
示す駆動条件で液晶を駆動させる。走査信号としてVo
nおよびVoffを使用する。この場合、表示電圧Vl
cは(数1)に示す式により算出される。
When Cgd changes, the display voltage Vlc applied to the liquid crystal 10 changes. For example, the liquid crystal is driven under the driving conditions shown in FIG. Vo as a scanning signal
n and Voff are used. In this case, the display voltage Vl
c is calculated by the formula shown in (Equation 1).

【0010】 Vlc=Vs−Cgd/(Cgd+Cs+Clc)*(Von−Voff)− Vc……数1 つまり、画面内で半導体スイッチング素子15の位置が
ズレて形成される領域が存在すると、走査信号配線12
と画素電極17との間の寄生容量Cgdが異なる領域が
発生し、この結果表示電圧Vlcが領域によって異な
り、画面全体を同一色に表示した場合、表示ムラとなっ
て認識される。
Vlc = Vs−Cgd / (Cgd + Cs + Clc) * (Von−Voff) −Vc (Equation 1) In other words, if there is a region where the semiconductor switching element 15 is misaligned in the screen, the scanning signal wiring 12
A region having a different parasitic capacitance Cgd between the pixel electrode 17 and the pixel electrode 17 is generated. As a result, the display voltage Vlc varies depending on the region, and when the entire screen is displayed in the same color, it is recognized as display unevenness.

【0011】本願発明は、上記課題を解決し、表示ムラ
のない均一な画像を表示する表示装置を提供することを
目的とする。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a display device which displays a uniform image without display unevenness.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本願発明は、上記目的を
達成するためになされたもので、半導体スイッチング素
子と画素電極とを十字状に交差させて半導体スイッチン
グ素子とを電気的に接続するという主要な構成を有す
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above-mentioned object, and crosses a semiconductor switching element and a pixel electrode in a cross shape to electrically connect the semiconductor switching element. It has the main composition.

【0013】[0013]

【作用】本願発明は上記構成により、半導体スイッチン
グ素子を形成する位置がずれても、Cgdを一定に保
ち、それゆえ表示電圧Vlcを一定にすることができる
ため、ムラがない、均一表示特性の優れた表示装置を実
現するものである。
With the above-described structure, the present invention makes it possible to keep the Cgd constant even when the position where the semiconductor switching element is formed is deviated, and thus keep the display voltage Vlc constant, so that there is no unevenness and uniform display characteristics. This is to realize an excellent display device.

【0014】[0014]

【実施例】以下、この発明の一実施例について図1、図
2を参照しながら説明する。なお従来例と同じ構成を有
するものは同一番号とし、詳細な説明は省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. It should be noted that those having the same configuration as the conventional example are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0015】この実施例は、図3に示す従来例と同様、
マトリクス状に配置された走査信号配線12および画像
信号配線16、これらに囲まれる領域に配置された画素
電極17と、この画素電極17と液晶10を挟んで対向
配置した対向電極18と、画素電極17との間に補助容
量Csを形成する補助容量配線13と、画像信号配線1
6と走査信号配線12に接続されかつ画素電極17に流
入する電荷をスイッチする働きの半導体スイッチング素
子21を備えたアクティブマトリクス方式の表示装置で
ある。
This embodiment is similar to the conventional example shown in FIG.
The scanning signal wirings 12 and the image signal wirings 16 arranged in a matrix, the pixel electrodes 17 arranged in a region surrounded by these, the counter electrodes 18 arranged to face the pixel electrodes 17 with the liquid crystal 10 interposed therebetween, and the pixel electrodes. The auxiliary capacitance line 13 that forms the auxiliary capacitance Cs with the image signal line 1
6 is an active matrix type display device including a semiconductor switching element 21 that is connected to the scanning signal line 6 and the electric charge flowing into the pixel electrode 17.

【0016】そしてこの実施例の特徴は、図1および図
2に示したように、絶縁膜14を介して走査信号配線1
2上に形成される半導体スイッチング素子21の形状
を、画素電極17と十字状に交差させて半導体スイッチ
ング素子21を突き出したことである。そして、その位
置関係は、半導体スイッチング素子21の上面を画素電
極17が交差、接触することにより両者を電気的に接続
したものである。また突き出す幅Waについては、半導
体スイッチング素子21の位置が最大限にズレても走査
信号配線12と画素電極17との間の寄生容量Cgdを
一定にするために、画素電極17から完全に突き出す、
つまりWa>0の条件が必要である。
The feature of this embodiment is that, as shown in FIGS. 1 and 2, the scanning signal wiring 1 is formed through the insulating film 14.
That is, the shape of the semiconductor switching element 21 formed on the wiring 2 crosses the pixel electrode 17 in a cross shape so that the semiconductor switching element 21 is projected. The positional relationship is that the upper surface of the semiconductor switching element 21 is electrically connected by the pixel electrodes 17 intersecting and contacting each other. Regarding the protruding width Wa, the protruding width Wa is completely protruded from the pixel electrode 17 in order to make the parasitic capacitance Cgd between the scanning signal wiring 12 and the pixel electrode 17 constant even if the position of the semiconductor switching element 21 is maximally deviated.
That is, the condition of Wa> 0 is required.

【0017】なお、Cgsを形成する半導体スイッチン
グ素子21と、画像信号配線16との関係は、半導体ス
イッチング素子21の上面を画像信号配線16がT字状
に交差するように接続すればよい。これは、画像信号配
線16との位置ズレによる寄生容量Cgsの変化が(数
1)に示す表示電圧Vlcに影響を及ぼさないため、半
導体スイッチング素子21が画像信号配線16の内側に
覆われる構造でよい。つまり半導体スイッチング素子2
1が画像信号配線16に覆われる長さWbが画像信号配
線の幅Wcより小さい(Wb<Wc)ことが条件であ
る。
The semiconductor switching element 21 forming Cgs and the image signal wiring 16 may be connected by connecting the upper surface of the semiconductor switching element 21 so that the image signal wiring 16 crosses in a T shape. This is a structure in which the semiconductor switching element 21 is covered inside the image signal wiring 16 because the change in the parasitic capacitance Cgs due to the position shift from the image signal wiring 16 does not affect the display voltage Vlc shown in (Equation 1). Good. That is, the semiconductor switching element 2
The condition is that the length Wb of 1 covered by the image signal wiring 16 is smaller than the width Wc of the image signal wiring (Wb <Wc).

【0018】なお、この発明は補助容量配線13を走査
信号配線12と同一配線にした場合、また走査信号配線
12を画像信号配線16や画素電極17に比べて上に配
線したアクテイブマトリクス方式の画素についても有効
である。また十字状、T字状の交差は、半導体スイッチ
ング素子21が上になる場合も含むものである。
According to the present invention, when the auxiliary capacitance wiring 13 is the same wiring as the scanning signal wiring 12, and the scanning signal wiring 12 is wired above the image signal wiring 16 and the pixel electrode 17, the pixel of the active matrix system is provided. Is also valid. Further, the cross-shaped or T-shaped intersection includes the case where the semiconductor switching element 21 is on the upper side.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明の表示装置
では、上述の構造とすることにより、半導体スイッチン
グ素子を形成する位置がずれた領域が存在しても、走査
信号配線と画素電極との間の寄生容量Cgdならびに表
示電圧Vlcを一定に保つことができ、均一表示特性に
優れた表示装置を実現することができる。
As described above, in the display device of the present invention, by adopting the above-mentioned structure, even if there is a region where the position where the semiconductor switching element is formed is deviated, the scanning signal wiring and the pixel electrode are The parasitic capacitance Cgd and the display voltage Vlc can be kept constant, and a display device having excellent uniform display characteristics can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例における表示装置の平面図FIG. 1 is a plan view of a display device according to an embodiment of the present invention.

【図2】(a)図1のA−A線における断面図 (b)図1のB−B線における断面図 (C)本発明の一実施例における表示装置の要部平面図2A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 1C is a plan view of a main part of a display device according to an embodiment of the present invention.

【図3】従来の表示装置の平面図FIG. 3 is a plan view of a conventional display device.

【図4】(a)図3のA−A線における断面図 (b)図3のB−B線における断面図4A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図5】本発明及び従来の表示装置の電気等価回路図FIG. 5 is an electrical equivalent circuit diagram of the display device of the present invention and the conventional display device.

【図6】本発明及び従来の表示装置の駆動信号波形の時
間変化を示す図
FIG. 6 is a diagram showing changes over time of drive signal waveforms of the display device of the present invention and the conventional display device.

【図7】半導体スイッチング素子を形成する位置がズレ
た場合を示す要部平面図
FIG. 7 is a plan view of an essential part showing a case where a position where a semiconductor switching element is formed is displaced.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 液晶 11a,11b 絶縁性基板 12 走査信号配線 13 補助容量配線 14 絶縁膜 16 画像信号配線 17 画素電極 18 対向電極 21 半導体スイッチング素子 10 Liquid Crystals 11a and 11b Insulating Substrate 12 Scanning Signal Wiring 13 Auxiliary Capacitance Wiring 14 Insulating Film 16 Image Signal Wiring 17 Pixel Electrode 18 Counter Electrode 21 Semiconductor Switching Element

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに平行に対向する第1の基板と第2
の基板の間隙に表示材料を挟持し、前記第1の基板の前
記表示材料と接する側の主面上に、マトリクス状に配置
された走査信号配線および画像信号配線と、前記走査信
号配線および画像信号配線に囲まれた領域に配置された
画素電極と、前記走査信号配線および画像信号配線の交
点に近接して配置されるとともに画像信号配線および画
素電極そして絶縁膜を介して走査信号配線と電気的に接
続された半導体スイッチング素子とを設け、前記第2の
基板の前記表示材料と接する側の主面上に対向電極を設
けた表示装置において、前記半導体スイッチング素子と
前記画素電極が十字状に交差することにより、前記半導
体スイッチング素子と前記画素電極とが電気的に接続さ
れた表示装置。
1. A first substrate and a second substrate which face each other in parallel.
And a scanning signal wiring and an image signal wiring arranged in a matrix on the main surface of the first substrate on the side in contact with the display material, and the scanning signal wiring and the image. The pixel electrode arranged in the area surrounded by the signal wiring and the scanning signal wiring and the image signal wiring are arranged in proximity to the intersection, and electrically connected to the scanning signal wiring through the image signal wiring, the pixel electrode and the insulating film. A semiconductor switching element electrically connected to each other, and a counter electrode provided on the main surface of the second substrate on the side in contact with the display material, the semiconductor switching element and the pixel electrode having a cross shape. A display device in which the semiconductor switching element and the pixel electrode are electrically connected by intersecting each other.
【請求項2】 半導体スイッチング素子の上面を画素電
極が十字状に交差することにより、前記半導体スイッチ
ング素子と前記画素電極とが電気的に接続された請求項
1記載の表示装置。
2. The display device according to claim 1, wherein the semiconductor switching element and the pixel electrode are electrically connected to each other by the pixel electrode crossing the upper surface of the semiconductor switching element in a cross shape.
【請求項3】 半導体スイッチング素子と画像信号配線
がT字状に交差することにより、前記半導体スイッチン
グ素子と前記画像信号配線とが電気的に接続された請求
項1記載の表示装置。
3. The display device according to claim 1, wherein the semiconductor switching element and the image signal wiring intersect each other in a T-shape so that the semiconductor switching element and the image signal wiring are electrically connected to each other.
【請求項4】 半導体スイッチング素子の上面を画像信
号配線がT字状に交差することにより、前記半導体スイ
ッチング素子と前記画像信号配線とが電気的に接続され
た請求項2記載の表示装置。
4. The display device according to claim 2, wherein the semiconductor switching element and the image signal wiring are electrically connected by intersecting the image signal wiring in a T shape on the upper surface of the semiconductor switching element.
JP9916195A 1995-04-25 1995-04-25 Display device Pending JPH08292448A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005183962A (en) * 2003-12-17 2005-07-07 Lg Philips Lcd Co Ltd Thin film transistor array substrate and manufacturing method therefor
CN102062982A (en) * 2010-10-18 2011-05-18 深超光电(深圳)有限公司 Pixel structure

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