JPH08292440A - Production of liquid crystal display device - Google Patents

Production of liquid crystal display device

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JPH08292440A
JPH08292440A JP9642795A JP9642795A JPH08292440A JP H08292440 A JPH08292440 A JP H08292440A JP 9642795 A JP9642795 A JP 9642795A JP 9642795 A JP9642795 A JP 9642795A JP H08292440 A JPH08292440 A JP H08292440A
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JP
Japan
Prior art keywords
region
alignment layer
alignment
mask pattern
mask material
Prior art date
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Application number
JP9642795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Yamamoto
恭弘 山本
Masumi Okamoto
ますみ 岡本
Takeshi Yamamoto
武志 山本
Hitoshi Hado
仁 羽藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE: To simplify a working stage over the entire part by directly impressing a mask material to regions where a mask is formed in the case respective pixel regions are divided into plural regions and an oriented layer corresponding to one region among these regions is partially masked. CONSTITUTION: A lower substrate 51 is formed. The lower substrate 51 is washed and dried. The oriented layer 52 of polyimide is then uniformly formed at a thickness of about 850 angstrom on the lower substrate 51 by using an impressing method. The lower substrate 51 is passed under a roller 53, by which the oriented layer 52 is subjected to first rubbing. The mask material 54 is impressed on the regions of the respective upper halves of the respective pixels and thereafter, the second rubbing is executed in the V direction varying by 80 deg. as the first rubbing. A mask material 54 is then peeled by using an org. solvent, such as acetone.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、視野角を広くする液晶
表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device having a wide viewing angle.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、薄型で軽量、そして消
費電力が少ないという特徴があり、平面型カラーテレビ
等のディスプレイデバイスとして注目されている。しか
し液晶表示装置は、その性質上、観察する角度によって
光学特性が変化し、良好な表示が得られる視野角が限ら
れる。このため、視野角を広げるいくつかの方法がこれ
までに提案されている。その1つに、配向分割と呼ばれ
る方法がある。配向分割は、それぞれの画素を例えば2
分割し、2分割された各領域ごとに液晶の配列方向を変
える方法である。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices are characterized by being thin, lightweight, and consuming little power, and have been attracting attention as display devices for flat color televisions and the like. However, the liquid crystal display device has a property that its optical characteristics change depending on the angle of observation, and the viewing angle at which a good display can be obtained is limited. For this reason, several methods for widening the viewing angle have been proposed so far. One of them is a method called orientation division. For orientation division, each pixel is divided into, for example, 2
This is a method of dividing and changing the alignment direction of the liquid crystal for each of the two divided areas.

【0003】配向分割によって、1つの画素内で液晶の
配列方向を変える場合、一般的には次のような方法が用
いられる。即ち、多数の画素が形成された基板面に配向
層を形成し、その配向層の全面に最初のラビング処理を
一方向に行う。そして、各画素それぞれの一部をマスク
で覆い、マスクの上から最初のラビングと反対方向に2
度目のラビングを行う方法である。このとき、マスクで
覆われた部位と覆われていない部位とで配向方向が相違
し、配向分割された画素が得られる。
In the case of changing the alignment direction of the liquid crystal in one pixel by the orientation division, the following method is generally used. That is, an alignment layer is formed on the surface of a substrate on which a large number of pixels are formed, and the first rubbing process is performed in one direction on the entire surface of the alignment layer. Then, cover a part of each pixel with a mask, and in the direction opposite to the first rubbing from the top of the mask,
This is the method of rubbing the second time. At this time, the orientation direction is different between the portion covered with the mask and the portion not covered with the mask, and the pixels obtained by the orientation division are obtained.

【0004】上記したように配向分割された画素を形成
する場合、2度目以降のラビングについては、その前に
各画素の一部をマスクで覆っている。このようなマスク
の形成方法として、例えば、特開昭56−138713
号公報に記載されているフォトリソグラフィー技術があ
る。
In the case of forming the pixels whose orientation is divided as described above, a part of each pixel is covered with a mask before the second rubbing. As a method of forming such a mask, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 56-138713.
There is a photolithography technique described in the publication.

【0005】ここで、フォトリソグラフィー技術を用い
て配向方向を2分割する方法について図6で説明する。
Here, a method of dividing the orientation direction into two by using the photolithography technique will be described with reference to FIG.

【0006】まず、複数の画素が形成された基板61に
配向層62を形成する(図a)。そして配向層62の表
面を回転する布63でこすり第一のラビングを行う(図
b)。次に、スピンナー(図示せず)上に基板61を置
き、フォトレジストを配向層62上に適下する。そして
スピンナーを回転させ、フォトレジストを配向層62上
の全面に塗布し乾燥させ、フォトレジスト層64を形成
する(図c)。その後、各画素それぞれを2分割するよ
うにパターニングしたフォトマスク65をフォトレジス
ト層64上に配置し、上方から光66を照射し露光する
(図d)。
First, an alignment layer 62 is formed on a substrate 61 on which a plurality of pixels are formed (FIG. A). Then, the surface of the alignment layer 62 is rubbed with the rotating cloth 63 to perform the first rubbing (FIG. B). Next, the substrate 61 is placed on a spinner (not shown), and a photoresist is appropriately applied onto the alignment layer 62. Then, the spinner is rotated, and the photoresist is applied to the entire surface of the alignment layer 62 and dried to form a photoresist layer 64 (FIG. C). Then, a photomask 65 which is patterned so as to divide each pixel into two is arranged on the photoresist layer 64, and light 66 is irradiated from above to perform exposure (FIG. D).

【0007】露光した後、アルカリ性の現像液で現像す
る。このとき、露光された部分のフォトレジスト層64
がエッチングされ、フォトマスク65で覆われ露光され
なかった部分のフォトレジスト層64が配向層62上に
残る(図e)。
After exposure, it is developed with an alkaline developer. At this time, the exposed portion of the photoresist layer 64
Are etched, and the photoresist layer 64, which is covered with the photomask 65 and is not exposed, remains on the alignment layer 62 (FIG. E).

【0008】次に、フォトマスク65をはずし、第一の
ラビングと180度異なる方向に、回転する布63を用
いて第二のラビングを行う(図f)。そして、配向層6
2上に残っているフォトレジスト層64を剥離する(図
g)。上記した方法によれば、各画素それぞれの配向層
62は、配向方向が例えば180度異なる2つの領域に
分割される。
Next, the photomask 65 is removed, and a second rubbing is performed using a rotating cloth 63 in a direction different from the first rubbing by 180 degrees (FIG. F). And the alignment layer 6
The photoresist layer 64 remaining on 2 is peeled off (FIG. G). According to the method described above, the alignment layer 62 of each pixel is divided into two regions whose alignment directions are different by 180 degrees, for example.

【0009】上記した方法は、各画素の配向層に2つの
配向方向を持たせている。しかし、1つの画素に対し、
3個以上の配向方向を持たせることもできる。この場
合、配向方向の数に応じて、フォトマスクによるパター
ニングや露光、現像、ラビングなどの工程が繰り返され
る。
In the above method, the alignment layer of each pixel has two alignment directions. However, for one pixel
It is also possible to have three or more orientation directions. In this case, steps such as patterning with a photomask, exposure, development, and rubbing are repeated depending on the number of orientation directions.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】フォトリソグラフィー
技術を用いて、各画素の配向層に対し複数の配向方向を
持たせる場合、配向方向を変えるたびにマスクパターン
が形成される。したがって、工程数が多くなり、製造コ
ストが高くなる。また、現像工程においてアルカリ性の
溶液が使用される。このため、アルカリ性の溶液が配向
層を損傷させ、また、配向不良の原因となり、表示特性
が劣化する。
When the alignment layer of each pixel is provided with a plurality of alignment directions using the photolithography technique, a mask pattern is formed each time the alignment direction is changed. Therefore, the number of steps is increased and the manufacturing cost is increased. Also, an alkaline solution is used in the developing step. For this reason, the alkaline solution damages the alignment layer and causes poor alignment, resulting in deterioration of display characteristics.

【0011】本発明は、上記した欠点を解決するもの
で、工程数が少く、また良好な配向特性を持つ液晶表示
装置の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned drawbacks, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device having a small number of steps and good alignment characteristics.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、複数の画素領域を含む基板上に配向層を形
成する工程と、前記配向層に第一の配向処理を行う工程
と、各画素領域内の所定領域の前記配向層上にマスク材
を選択的に印写し、前記所定領域を覆うマスクパターン
を形成する工程と、前記マスクパターンの形成された前
記配向層に第二の配向処理を行う工程と、前記マスクパ
ターンを剥離する工程とを備えている。また、複数の画
素領域を含む基板上に配向層を形成する工程と、前記配
向層に第一の配向処理を行う工程と、各画素領域のほぼ
半分の領域の前記配向層上にマスク材を選択的に印写
し、前記所定領域を覆うマスクパターンを形成する工程
と、前記マスクパターンの形成された前記配向層に第二
の配向処理を行う工程と、前記マスク材を剥離する工程
とを備えている。
A method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises a step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel regions, and a step of performing a first alignment treatment on the alignment layer. A step of selectively printing a mask material on the alignment layer in a predetermined area in each pixel area to form a mask pattern covering the predetermined area, and a second step in the alignment layer having the mask pattern formed thereon. The method includes a step of performing an alignment treatment and a step of removing the mask pattern. In addition, a step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel regions, a step of performing a first alignment treatment on the alignment layer, and a mask material on the alignment layer in almost half of each pixel region. The method includes selectively printing, forming a mask pattern covering the predetermined region, performing a second alignment treatment on the alignment layer on which the mask pattern is formed, and peeling the mask material. ing.

【0013】また、複数の画素領域を含む基板上に配向
層を形成する第一工程と、前記配向層に第一の配向処理
を行う第二工程と、各画素領域を第一領域から第n領域
(但し、nは自然数)までのn領域に分け、第一領域の
前記配向層上にマスク材を選択的に印写し、前記第一領
域を覆うマスクパターンを形成する第三工程と、前記第
一領域を覆うマスクパターンが形成された前記配向層に
第二の配向処理を行う第四工程と、前記n領域の中の未
だマスクされていない1つの領域の配向層上にマスク材
を選択的に印写し、前記未だマスクされていない1つの
領域を覆うマスクパターンを形成する第五工程と、この
第五工程でマスクパターンが形成された配向層に配向処
理を行う第六工程と、前記第五工程と前記第六工程とを
繰り返し行い、(n−2)回の配向処理を行う第七工程
と、この第七工程までに形成されたマスクパターンを剥
離する第八工程とを備えている。
Further, a first step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel regions, a second step of performing a first alignment treatment on the alignment layer, and each pixel region from the first region to the n-th region. A third step of dividing into n regions up to a region (where n is a natural number), selectively printing a mask material on the alignment layer in the first region, and forming a mask pattern covering the first region; A fourth step of performing a second alignment treatment on the alignment layer on which the mask pattern covering the first region is formed, and selecting a mask material on the alignment layer in one region of the n region which has not been masked yet. A fifth step of forming a mask pattern covering the one area that has not been masked yet, and a sixth step of performing an alignment treatment on the alignment layer on which the mask pattern is formed in the fifth step; Repeat the fifth step and the sixth step, ( It includes -2) times a seventh step of performing an alignment treatment of a eighth step of removing the mask pattern formed by this seventh step.

【0014】また、複数の画素領域を含む基板上に配向
層を形成する工程と、この配向層に第一の配向処理を行
う工程と、各画素領域を第一領域、第二領域、第三領
域、第四領域に分け、第一領域の前記配向層上にマスク
材を選択的に印写し、前記第一領域を覆うマスクパター
ンを形成する工程と、前記第一領域を覆うマスクパター
ンの形成された前記配向層に第二の配向処理を行う工程
と、前記第二領域の前記配向層上にマスク材を選択的に
印写し、前記第二領域を覆うマスクパターンを形成する
工程と、前記第一領域及び第二領域を覆うマスクパター
ンが形成された前記配向層に第三の配向処理を行う工程
と、前記第三領域の前記配向層上にマスク材を選択的に
印写し、前記第三領域を覆うマスクパターンを形成する
工程と、前記第一領域、第二領域及び第三領域を覆うマ
スクパターンが形成された前記配向層に第四の配向処理
を行う工程と、前記第一領域、第二領域及び第三領域を
覆うマスクパターンを剥離する工程とを備えている。
Further, a step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel areas, a step of performing a first alignment treatment on the alignment layer, and a step of forming each pixel area in a first area, a second area, and a third area. Forming a mask pattern covering the first region by selectively printing a mask material on the alignment layer in the first region and dividing the region into a fourth region; and forming a mask pattern covering the first region. A step of performing a second alignment treatment on the alignment layer formed, a step of selectively printing a mask material on the alignment layer of the second region, and forming a mask pattern covering the second region; Performing a third alignment treatment on the alignment layer on which a mask pattern covering the first region and the second region is formed, and selectively printing a mask material on the alignment layer in the third region, Forming a mask pattern covering the three regions; A step of performing a fourth alignment treatment on the alignment layer on which a mask pattern covering the second area and the third area is formed, and a step of peeling off the mask pattern covering the first area, the second area and the third area. It has and.

【0015】また、インクジェット装置によりマスク材
を印写することを特徴としている。また、マスク材の印
写を、配向層が形成された基板が加熱された状態で行っ
ている。
Further, it is characterized in that the mask material is printed by an ink jet device. Further, the mask material is printed while the substrate on which the alignment layer is formed is heated.

【0016】また、インクジェット装置によるマスク材
の印写を、配向層が形成された基板が加熱された状態で
行っている。
Further, the printing of the mask material by the ink jet device is performed in a state where the substrate on which the alignment layer is formed is heated.

【0017】[0017]

【作用】上記した構成によれば、各画素領域をそれぞれ
複数の領域に分割し、そして分割された1つの領域に相
当する配向層を部分的にマスクする場合、マスクを形成
する領域にマスク材を直接印写している。この方法によ
れば、フォトリソグラフィー技術を用いた場合のよう
に、フォトレジストの塗布や現像、露光などの工程がな
く、全体の作業工程が簡単になる。また、現像工程がな
いため、アルカリ溶液を使用する必要がない。したがっ
て、アルカリ性の溶液によって配向層が加水分解し配向
層が損傷することもない。
According to the above structure, when each pixel region is divided into a plurality of regions and the alignment layer corresponding to one divided region is partially masked, a mask material is formed in the region where the mask is formed. Is directly printed. According to this method, unlike the case where the photolithography technique is used, there are no steps such as photoresist coating, development, and exposure, and the entire working process is simplified. Moreover, since there is no development step, it is not necessary to use an alkaline solution. Therefore, the alignment layer is not hydrolyzed by the alkaline solution to damage the alignment layer.

【0018】また、インクジェット装置を用いてマスク
材を印写する場合は、マスクパターンの形成が簡単で確
実に行える。また、マスク材の印写を、基板が加熱され
た状態で行う場合は、マスク材の乾燥が早く、マスク材
が不要な領域に流出することがなく、正しいマスクパタ
ーンが形成できる。
Further, when the mask material is printed by using the ink jet device, the mask pattern can be formed easily and surely. Further, when the mask material is printed in a state where the substrate is heated, the mask material is dried quickly, the mask material does not flow out to an unnecessary region, and a correct mask pattern can be formed.

【0019】[0019]

【実施例】本発明の実施例について説明する前に、本発
明で作成された液晶表示装置のセルについて図3で説明
する。図3は液晶表示装置のセルを断面した図である。
31aは上基板で、上基板31a上に、I.T.O.
(Indium Tin Oxide)の透明電極32や配向層33が形
成されている。下基板31b上には、複数の画素電極3
4、そして、各画素電極34に対応するTFT(Thin F
ilm Transistor)35、配向層33が形成されている。
上基板31aと下基板31bは、それぞれの配向層33
が内側になるように組み合わせられ、そして両者間に液
晶材料が封入され、液晶層36が形成されている。な
お、下基板31bの配向層33は、各画素の中央を境界
37にして2つの領域に分割され、分割された領域で配
向方向が異なっている。また、下基板31bの境界37
を跨いで補助容量38が形成されている。 例えば、各
画素に対し配向方向が異なる領域を形成した場合、配向
方向が変わる境界38で液晶分子の配列が不安定とな
り、表示画面で見たとき白く光るディスクリネーション
ラインが生じ画質を悪くする。このため、補助容量38
を設け、境界部分38を遮光し画質の劣化を防止してい
る。なお、補助容量38の幅は約20ミクロン程度と
し、配向方向が異なる領域を形成する場合に各画素の配
向層33に形成されるマスク材のずれがこの幅の範囲内
におさまるようにしている。 ここで、本発明の一実施
例について、下基板の各画素に対し2つの配向方向(デ
ュアルドメイン)を持たせる場合を例にとり、図5を参
照して説明する。
EXAMPLES Before describing the examples of the present invention, the cells of the liquid crystal display device produced by the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of a cell of the liquid crystal display device.
31a is an upper substrate, and I.I. T. O.
A transparent electrode 32 of (Indium Tin Oxide) and an alignment layer 33 are formed. A plurality of pixel electrodes 3 are formed on the lower substrate 31b.
4 and TFT (Thin F corresponding to each pixel electrode 34)
An ilm Transistor) 35 and an alignment layer 33 are formed.
The upper substrate 31a and the lower substrate 31b are provided with respective alignment layers 33.
Are combined so that they are on the inner side, and a liquid crystal material is enclosed between them to form a liquid crystal layer 36. The alignment layer 33 of the lower substrate 31b is divided into two regions with the center of each pixel as a boundary 37, and the divided regions have different alignment directions. In addition, the boundary 37 of the lower substrate 31b
A storage capacitor 38 is formed so as to straddle. For example, when a region having a different alignment direction is formed for each pixel, the alignment of the liquid crystal molecules becomes unstable at the boundary 38 where the alignment direction changes, and a disclination line that shines white when viewed on the display screen is generated to deteriorate the image quality. . Therefore, the auxiliary capacitance 38
Is provided to shield the boundary portion 38 from light and prevent deterioration of image quality. The width of the auxiliary capacitor 38 is set to about 20 μm so that the displacement of the mask material formed on the alignment layer 33 of each pixel is within this width when forming regions having different alignment directions. . Here, one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 5, taking as an example the case where each pixel on the lower substrate is provided with two alignment directions (dual domains).

【0020】下基板51を作成し、そして、下基板51
を中性洗剤等で洗浄し、乾燥する。その後、印刷法を用
いて、下基板51上にポリイミドの配向層52を約85
0オングストロームの厚さに均一に形成する(図a)。
そして、綿布を巻いたローラー53の下に下基板51を
通し、配向層52の全面に亘って第一のラビングを行う
(図b)。なお、矢印Yはローラー53の回転方向であ
る。
The lower substrate 51 is prepared, and the lower substrate 51
Is washed with a neutral detergent and dried. After that, a polyimide alignment layer 52 is formed on the lower substrate 51 by a printing method to a thickness of about 85.
It is evenly formed to a thickness of 0 angstrom (Fig. A).
Then, the lower substrate 51 is passed under the roller 53 wound with cotton cloth, and the first rubbing is performed over the entire surface of the alignment layer 52 (FIG. B). The arrow Y indicates the rotation direction of the roller 53.

【0021】ところで、図4(a)のように各画素41
は、上半分41aと下半分41bの例えば2つの領域に
分割されている。しかし、第一のラビングは各画素41
の全体に亘ってu方向に行われる。このとき、ローラー
と下基板と相対的な移動速度は約20mm/秒、そし
て、ローラーの回転速度は約100rpmにしている。
第一のラビングの後、各画素それぞれの上半分の領域、
例えば図4(a)の領域41aの部分にマスク材54が
印写される(図c)。このとき、マスク材の印写は、イ
ンクジェット装置55を用いて行われる。
By the way, as shown in FIG.
Is divided into, for example, two regions, an upper half 41a and a lower half 41b. However, the first rubbing is for each pixel 41
In the u direction. At this time, the relative moving speed of the roller and the lower substrate is about 20 mm / sec, and the rotating speed of the roller is about 100 rpm.
After the first rubbing, the upper half area of each pixel,
For example, the mask material 54 is imprinted on the area 41a of FIG. 4A (FIG. C). At this time, the printing of the mask material is performed using the inkjet device 55.

【0022】ここで、インクジェット装置を用いてマス
ク材を印写する模様を図1で説明する。11は下基板
で、下基板11に多数の画素領域12が形成されてい
る。そして、例えばインクジェット装置13を画素領域
12の配列方向(矢印Y)に移動させ、各画素領域12
の上半分にマスク材14を印写する。なお、点線15
は、画素領域12を上半分と下半分に区分する境界であ
る。
Here, a pattern of printing a mask material using an ink jet device will be described with reference to FIG. A lower substrate 11 has a large number of pixel regions 12 formed on the lower substrate 11. Then, for example, the inkjet device 13 is moved in the arrangement direction of the pixel regions 12 (arrow Y), and each pixel region 12 is moved.
The mask material 14 is printed on the upper half. The dotted line 15
Is a boundary that divides the pixel region 12 into an upper half and a lower half.

【0023】この場合、マスク材14として、例えば
「東京応化工業株式会社製OFPR−5000)」が使
用される。また、1つの画素12は、例えば縦が約30
0ミクロン、横が約80ミクロンの長さとなっている。
したがって、印写されるマスク材14の幅は約150ミ
クロンとし、各画素12の上半分の領域がマスク材14
で被覆されるようにストライプ状に印写する。また、マ
スク材14の粘性係数は約2.0×10-2g/cm・s
にしている。また、マスク材14を印写する際、下基板
11を加熱しておけば、印写されたマスク材14の乾燥
が早くなり、配向層上の不要な部分にマスク材14が流
れ出ることを防ぐことができる。
In this case, as the mask material 14, for example, "OFPR-5000 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd." is used. In addition, one pixel 12 has, for example, a vertical length of about 30.
The length is 0 microns and the width is about 80 microns.
Therefore, the width of the mask material 14 to be printed is about 150 μm, and the upper half area of each pixel 12 is mask material 14
It is printed in stripes so that it is covered with. The mask material 14 has a viscosity coefficient of about 2.0 × 10 −2 g / cm · s.
I have to. In addition, when the lower substrate 11 is heated when the mask material 14 is printed, the printed mask material 14 dries faster, and the mask material 14 is prevented from flowing out to unnecessary portions on the alignment layer. be able to.

【0024】上記した要領でマスク材を印写した後、第
一のラビングと180度異なるv方向(図4a参照)に
第二のラビングを行う(図d)。この場合も、矢印Y方
向に回転する綿布を巻いたローラー53が使用される。
その後、アセトン等の有機溶剤を用いてマスク材を剥離
する(図e)。
After printing the mask material in the above-described manner, second rubbing is performed in a v direction (see FIG. 4a) different from the first rubbing by 180 degrees (FIG. 4d). Also in this case, the roller 53 wound with cotton cloth that rotates in the direction of the arrow Y is used.
Then, the mask material is peeled off using an organic solvent such as acetone (Fig. E).

【0025】上記した方法によれば、各画素の配向層そ
れぞれに、図4(a)のように上半分41aと下半分4
1bとで配向方向が180度異なる2つの領域が形成さ
れる。 また、下基板とは別に上基板が作成される。こ
の場合、上基板の配向処理は例えば一方向とし、例えば
図4(b)のようにt方向にラビングする。
According to the above-mentioned method, the upper half 41a and the lower half 4 are formed on the alignment layers of the respective pixels as shown in FIG. 4 (a).
Two regions having an orientation direction different from that of 1b by 180 degrees are formed. In addition, the upper substrate is prepared separately from the lower substrate. In this case, the alignment treatment of the upper substrate is performed in one direction, for example, rubbing in the t direction as shown in FIG.

【0026】上基板と下基板をラビングした後、それぞ
れの配向層が内側になるようにしてスペーサーを介して
組み合わせ、シール材で封着する。そして、液晶を封入
して液晶層を形成し、液晶表示装置のセルを構成する。
After rubbing the upper substrate and the lower substrate, the alignment layers are placed inside so as to be assembled via a spacer and sealed with a sealing material. Then, the liquid crystal is sealed to form a liquid crystal layer, and a cell of the liquid crystal display device is configured.

【0027】ここで、マスク材の印写に使用されるイン
クジェット装置について、Kyser型を例にとって図
2で説明する。21は、内部にインクを溜める圧力室
で、圧力室21の一端にはノズル22が、そして、他端
にはインク供給口23が設けられている。また、圧力室
21の外側にはピエゾ素子24が取り付けられている。
このような構造で、ピエゾ素子24に電圧が印加される
と、ピエゾ素子24が変形し圧力室21の壁がたわむ
(図b)。これにより、圧力室21内部のインクに圧力
が加わり、ノズル22やインク供給口23からインクが
押し出され、ノズル22にインク柱25が発生する。そ
の後、ピエゾ素子24が元の状態に戻ろうとする。この
とき、インク柱25の先端部分が滴状26になり、飛翔
するように矢印Y方向に分離する。その後、インク供給
口23からインクが流入し、図(a)の状態に戻る。こ
のような動作が繰り返され、滴状に飛翔するインクによ
って印写される。
An ink jet device used for printing a mask material will be described with reference to FIG. 2 by taking a Kyser type as an example. Reference numeral 21 denotes a pressure chamber for accumulating ink therein. A nozzle 22 is provided at one end of the pressure chamber 21, and an ink supply port 23 is provided at the other end. A piezo element 24 is attached to the outside of the pressure chamber 21.
With such a structure, when a voltage is applied to the piezo element 24, the piezo element 24 deforms and the wall of the pressure chamber 21 bends (FIG. B). As a result, pressure is applied to the ink inside the pressure chamber 21, the ink is pushed out from the nozzle 22 and the ink supply port 23, and an ink column 25 is generated in the nozzle 22. After that, the piezo element 24 tries to return to the original state. At this time, the tip portion of the ink column 25 becomes a droplet 26 and is separated in the arrow Y direction so as to fly. After that, ink flows in from the ink supply port 23 and returns to the state of FIG. Such an operation is repeated, and the image is printed with the ink flying in a droplet shape.

【0028】また、下基板を加熱した状態でマスク材を
印写する場合は、例えば、図1(b)に示すように、下
基板11をホットプレート16上に配置し、この状態で
インクジェット装置17によりマスク材を印写する。
When the mask material is printed with the lower substrate heated, for example, as shown in FIG. 1B, the lower substrate 11 is placed on the hot plate 16 and the ink jet apparatus is placed in this state. The mask material is printed by 17.

【0029】上記した実施例では、インクジェット装置
を用いてマスク材を印写する場合、すべての画素に対し
同じ側、例えば上半分にマスク材をストライプ状に印写
している。しかし、隣合う画素間で、一方の画素は上半
分の領域をマスクし、他方の画素は下半分の領域をマス
クし、そして第二のラビングを行い、隣接する画素間で
同じ配向方向が交互に上下するようにしてもよい。ま
た、上基板のラビングも、一方向でなく複数方向にする
こともできる。
In the above-mentioned embodiment, when the mask material is printed by using the ink jet device, the mask material is printed in stripes on the same side of all pixels, for example, the upper half. However, between adjacent pixels, one pixel masks the upper half area, the other pixel masks the lower half area, and the second rubbing is performed, and the same orientation direction alternates between the adjacent pixels. You may make it go up and down. Further, the rubbing of the upper substrate may be performed in a plurality of directions instead of one direction.

【0030】また、インクジェット装置によってマスク
材を印写する場合、マスク材の印写される幅が狭いイン
クジェット装置を利用し、このようなインクジェット装
置を何回が往復させることにより、各画素の半分の幅を
印写するようにしてもよい。次に、本発明の第二の実施
例について、各画素を4分割し、4方向の配向処理を行
う場合を、図4(c)で説明する。
When the mask material is printed by the ink jet device, an ink jet device having a narrow width on which the mask material is printed is used, and the ink jet device is reciprocated several times to obtain half of each pixel. The width of may be printed. Next, in the second embodiment of the present invention, a case where each pixel is divided into four and orientation processing in four directions is performed will be described with reference to FIG.

【0031】この場合も、第一の実施例と同様に上基板
と下基板を作成し、それぞれを中性洗剤で洗浄し、そし
て乾燥する。その後、下基板の表面に、約850オング
ストロームの厚さにポリイミドの配向層を印刷法で均一
に形成する。そして、配向層の全面に第一のラビングを
例えばw方向に行う。次に、各画素を41c〜41fを
4分割し、分割された1つの領域、例えば41c上にイ
ンクジェット装置(図示せず)を用いてマスク材を印写
する。そして、第一のラビングと180度異なるx方向
に第二のラビングを行う。さらに、もう1つの領域41
d上に、インクジェット装置を用いてマスク材を印写
し、y方向に第三のラビングを行う。その後、もう1つ
の領域41eにインクジェット装置を用いてマスク材を
印写し、z方向に第四のラビングを行う。最後に、アセ
トン等の有機溶剤を用いてマスク材を剥離する。こうす
ることにより、各画素の配向層が、w〜zの4方向に配
向処理される。
Also in this case, similarly to the first embodiment, the upper substrate and the lower substrate are prepared, washed with a neutral detergent and dried. Then, a polyimide alignment layer is uniformly formed on the surface of the lower substrate by a printing method to a thickness of about 850 Å. Then, the first rubbing is performed on the entire surface of the alignment layer in the w direction, for example. Next, each pixel is divided into four 41c to 41f, and a mask material is printed on one divided area, for example, 41c by using an inkjet device (not shown). Then, second rubbing is performed in the x direction that is different from the first rubbing by 180 degrees. In addition, another area 41
A mask material is printed on d using an inkjet device, and third rubbing is performed in the y direction. After that, the mask material is printed on the other region 41e by using the inkjet device, and the fourth rubbing is performed in the z direction. Finally, the mask material is peeled off using an organic solvent such as acetone. By doing so, the alignment layer of each pixel is aligned in the four directions w to z.

【0032】また、上基板についても下基板と同様の方
法で、例えば図4(d)のように4つの配向方向m、
n、o、pを持つようにラビングする。
Further, with respect to the upper substrate, in the same manner as the lower substrate, for example, as shown in FIG.
Rubbing to have n, o, and p.

【0033】上記した方法で下基板と上基板をラビング
した後、第一の実施例と同様に、上基板と下基板をそれ
ぞれの配向層が内側になるようにしてスペーサーを介し
て組み合わせ、そしてシール材で封着する。その後、液
晶を封入して液晶層とし、液晶表示装置のセルを構成す
る。
After rubbing the lower substrate and the upper substrate by the above-mentioned method, the upper substrate and the lower substrate are combined with each other with the alignment layers facing inward through spacers, as in the first embodiment, and Seal with sealing material. After that, a liquid crystal is enclosed to form a liquid crystal layer to form a cell of a liquid crystal display device.

【0034】なお、1つの画素に形成する配向方向の数
は、上記したような2あるいは4に限定されない。一般
的には、各画素をそれぞれn分割し、n個の配向方向を
持たせることができる。この場合、配向方向の数に応じ
てマスク材の印写やラビングが繰り返される。例えばラ
ビングの回数はn回となり、またマスク材の印写の回数
は(n−1)回となる。
The number of alignment directions formed in one pixel is not limited to 2 or 4 as described above. In general, each pixel can be divided into n parts to have n orientation directions. In this case, printing or rubbing of the mask material is repeated according to the number of orientation directions. For example, the number of times of rubbing is n, and the number of times of printing the mask material is (n-1).

【0035】上記した実施例ではマスク材を印写する手
段としてインクジェット装置を使用している。しかし、
インクジェット装置に限らず、部分的に印写できる装置
であれば利用できる。また、マスク材の材料としても、
例えばポリビニールアルコール水溶液を使うこともでき
る。この場合は、マスクの剥離液として水を使うことが
できるため、コストや設備面、また環境面で有利であ
る。
In the above embodiment, an ink jet device is used as a means for printing the mask material. But,
Not limited to the inkjet device, any device that can partially print can be used. Also, as a material for the mask material,
For example, a polyvinyl alcohol aqueous solution can be used. In this case, water can be used as a stripping solution for the mask, which is advantageous in terms of cost, equipment, and environment.

【0036】また、上記の実施例では、液晶表示装置の
駆動手段としてTFTが用いられている。しかし、MI
M(Metal Insulator Metal)を用いた駆動や、スイッチ
ング素子の無いシンプルマトリクス電極構造によるマル
チプレクス駆動を用いることもできる。また、染料を添
加したGH(Guest Host)モードの液晶表示装置にも適
用できる。
Further, in the above embodiment, the TFT is used as the driving means of the liquid crystal display device. But MI
It is also possible to use drive using M (Metal Insulator Metal) or multiplex drive using a simple matrix electrode structure having no switching element. It can also be applied to a GH (Guest Host) mode liquid crystal display device to which a dye is added.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明によれば、工程数が少なく、ま
た、配向層の損傷が少ない液晶表示装置の製造方法を実
現できる。
According to the present invention, it is possible to realize a method of manufacturing a liquid crystal display device in which the number of steps is small and the alignment layer is less damaged.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例におけるマスク材の印写状態
を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a printed state of a mask material according to an embodiment of the present invention.

【図2】Kyser型のインクジェット装置の構造を簡
単に示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view briefly showing the structure of a Kyser type inkjet device.

【図3】本発明の一実施例により製造される液晶セルの
断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a liquid crystal cell manufactured according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例における一画素の配向方向を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an alignment direction of one pixel in one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例を説明する工程図である。FIG. 5 is a process chart illustrating an example of the present invention.

【図6】従来例を説明する工程図である。FIG. 6 is a process diagram illustrating a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…下基板 12…画素領域 13…インクジェット装置 14…マスク材 15…境界 11 ... Lower substrate 12 ... Pixel region 13 ... Inkjet device 14 ... Mask material 15 ... Border

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 羽藤 仁 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hitoshi Hato 8 Shinsita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Stock company Toshiba Yokohama office

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の画素領域を含む基板上に配向層を
形成する工程と、前記配向層に第一の配向処理を行う工
程と、各画素領域内の所定領域の前記配向層上にマスク
材を選択的に印写し、前記所定領域を覆うマスクパター
ンを形成する工程と、前記マスクパターンの形成された
前記配向層に第二の配向処理を行う工程と、前記マスク
パターンを剥離する工程とを備えた液晶表示装置の製造
方法。
1. A step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel regions, a step of performing a first alignment treatment on the alignment layer, and a mask on a predetermined region of the alignment layer in each pixel region. A step of selectively printing a material to form a mask pattern covering the predetermined region; a step of performing a second alignment treatment on the alignment layer on which the mask pattern is formed; and a step of peeling the mask pattern And a method for manufacturing a liquid crystal display device.
【請求項2】 複数の画素領域を含む基板上に配向層を
形成する工程と、前記配向層に第一の配向処理を行う工
程と、各画素領域のほぼ半分の領域の前記配向層上にマ
スク材を選択的に印写し、前記所定領域を覆うマスクパ
ターンを形成する工程と、前記マスクパターンの形成さ
れた前記配向層に第二の配向処理を行う工程と、前記マ
スクパターンを剥離する工程とを備えた液晶表示装置の
製造方法。
2. A step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel regions, a step of performing a first alignment treatment on the alignment layer, and a step of forming an alignment layer on the alignment layer in a region approximately half of each pixel region. Selectively printing a mask material, forming a mask pattern that covers the predetermined region, performing a second alignment treatment on the alignment layer on which the mask pattern is formed, and peeling the mask pattern A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
【請求項3】 複数の画素領域を含む基板上に配向層を
形成する第一工程と、前記配向層に第一の配向処理を行
う第二工程と、各画素領域を第一領域から第n領域(但
し、nは自然数)までのn領域に分け、第一領域の前記
配向層上にマスク材を選択的に印写し、前記第一領域を
覆うマスクパターンを形成する第三工程と、前記第一領
域を覆うマスクパターンが形成された前記配向層に第二
の配向処理を行う第四工程と、前記n領域の中の未だマ
スクされていない1つの領域の配向層上にマスク材を選
択的に印写し、前記未だマスクされていない1つの領域
を覆うマスクパターンを形成する第五工程と、この第五
工程でマスクパターンが形成された配向層に配向処理を
行う第六工程と、前記第五工程と前記第六工程とを繰り
返し行い、(n−2)回の配向処理を行う第七工程と、
この第七工程までに形成されたマスクパターンを剥離す
る第八工程とを備えた液晶表示装置の製造方法。
3. A first step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel regions, a second step of performing a first alignment treatment on the alignment layer, and each pixel region from the first region to the n-th region. A third step of dividing into n regions up to a region (where n is a natural number), selectively printing a mask material on the alignment layer in the first region, and forming a mask pattern covering the first region; A fourth step of performing a second alignment treatment on the alignment layer on which the mask pattern covering the first region is formed, and selecting a mask material on the alignment layer in one region of the n region which has not been masked yet. A fifth step of forming a mask pattern covering the one area that has not been masked yet, and a sixth step of performing an alignment treatment on the alignment layer on which the mask pattern is formed in the fifth step; Repeating the fifth step and the sixth step, (n-2 ) Seventh step of performing orientation processing,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: an eighth step of removing the mask pattern formed up to the seventh step.
【請求項4】 複数の画素領域を含む基板上に配向層を
形成する工程と、この配向層に第一の配向処理を行う工
程と、各画素領域を第一領域、第二領域、第三領域、第
四領域に分け、第一領域の前記配向層上にマスク材を選
択的に印写し、前記第一領域を覆うマスクパターンを形
成する工程と、前記第一領域を覆うマスクパターンの形
成された前記配向層に第二の配向処理を行う工程と、前
記第二領域の前記配向層上にマスク材を選択的に印写
し、前記第二領域を覆うマスクパターンを形成する工程
と、前記第一領域及び第二領域を覆うマスクパターンが
形成された前記配向層に第三の配向処理を行う工程と、
前記第三領域の前記配向層上にマスク材を選択的に印写
し、前記第三領域を覆うマスクパターンを形成する工程
と、前記第一領域、第二領域及び第三領域を覆うマスク
パターンが形成された前記配向層に第四の配向処理を行
う工程と、前記第一領域、第二領域及び第三領域を覆う
マスクパターンを剥離する工程とを備えた液晶表示装置
の製造方法。
4. A step of forming an alignment layer on a substrate including a plurality of pixel areas, a step of performing a first alignment treatment on the alignment layer, and a step of forming each pixel area in a first area, a second area, and a third area. Forming a mask pattern covering the first region by selectively printing a mask material on the alignment layer in the first region and dividing the region into a fourth region; and forming a mask pattern covering the first region. A step of performing a second alignment treatment on the alignment layer formed, a step of selectively printing a mask material on the alignment layer of the second region, and forming a mask pattern covering the second region; A step of performing a third alignment treatment on the alignment layer in which a mask pattern covering the first region and the second region is formed,
A step of selectively printing a mask material on the alignment layer in the third region to form a mask pattern covering the third region, and a mask pattern covering the first region, the second region and the third region are formed. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: performing a fourth alignment treatment on the formed alignment layer; and removing a mask pattern covering the first region, the second region and the third region.
【請求項5】 請求項1、2、3または4において、イ
ンクジェット装置によりマスク材を印写することを特徴
とする液晶表示装置の製造方法。
5. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the mask material is printed by an inkjet device.
【請求項6】 請求項1、2、3または4において、マ
スク材の印写は、配向層が形成された基板が加熱された
状態で行われることを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
6. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the printing of the mask material is performed in a state where the substrate on which the alignment layer is formed is heated.
【請求項7】 請求項5において、インクジェット装置
によるマスク材の印写は、配向層が形成された基板が加
熱された状態で行われることを特徴とする液晶表示装置
の製造方法。
7. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 5, wherein the printing of the mask material by the inkjet device is performed in a state where the substrate on which the alignment layer is formed is heated.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008003545A (en) * 2006-06-20 2008-01-10 Au Optronics Corp Methods of fabricating active device array substrate and fabricating color filter substrate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008003545A (en) * 2006-06-20 2008-01-10 Au Optronics Corp Methods of fabricating active device array substrate and fabricating color filter substrate
JP4634993B2 (en) * 2006-06-20 2011-02-16 友▲達▼光電股▲ふん▼有限公司 Active element array substrate manufacturing method and color filter substrate manufacturing method

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