JPH08288195A - Aligner - Google Patents

Aligner

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JPH08288195A
JPH08288195A JP8848595A JP8848595A JPH08288195A JP H08288195 A JPH08288195 A JP H08288195A JP 8848595 A JP8848595 A JP 8848595A JP 8848595 A JP8848595 A JP 8848595A JP H08288195 A JPH08288195 A JP H08288195A
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JP
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Patent type
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exposure
mask
object
rotary drum
drum
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Withdrawn
Application number
JP8848595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Arata Masui
新 増井
Original Assignee
Sumitomo Heavy Ind Ltd
住友重機械工業株式会社
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Abstract

PURPOSE: To provide an aligner for simultaneously exposing a plurality of exposure targets.
CONSTITUTION: An exposure device includes a rotary drum 2 with a rotary shaft being extended in a direction vertical to the application direction within the polarization surface of SR light 9. A cassette 3 is retained at the outerperiphery part of the rotary drum. In the cassette 3, a mask and an exposure target are allowed to oppose each other in the diameter direction of the rotary drum. The SR light is applied to the mask from the diameter direction of the rotary drum on exposure. In this case, the rotary drum is properly rotated.
COPYRIGHT: (C)1996,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、マスクを介して露光対象物に露光媒体を照射して露光対象物を露光させる露光装置に関する。 The present invention relates to a relates to an exposure apparatus for exposing irradiating the object to be exposed to exposure medium exposure object through a mask.

【0002】 [0002]

【従来の技術】この種の露光装置は、例えば公知のリソグラフィに使用されている。 BACKGROUND ART This type of exposure apparatus, for example, are used in known lithography. 露光に際しては、真空装置内で露光対象物とマスクとを互いに対向させ、マスクに向けて露光媒体を照射する。 During the exposure, each other not face to the exposure object and the mask in a vacuum device, irradiates the exposure medium toward the mask. 露光媒体としては例えばシンクロトロン放射光(SR光)やX線ビーム等が用いられる。 The exposure medium synchrotron radiation (SR light) and X-ray beam or the like is used for example. また、露光対象物としてはポリメチルメタアクリレート(PMMA)等の感光材料が用いられる。 The photosensitive material such as polymethyl methacrylate (PMMA) is used as the object to be exposed.

【0003】また最近では、露光対象物としてテフロンを用い、マスクを介してSR光をそのテフロンに照射して露光させ、これによりテフロンに溝や穴等の加工を施すことも行われている。 [0003] Recently, using a Teflon as an exposure object, through a mask is exposed by irradiating SR light to the Teflon, thereby has also been applying processing such as grooves and holes in the Teflon.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の露光装置では、露光対象物を複数個同時に露光させることはできないため、露光対象物やマスクを手作業で一つずつ交換しつつ露光作業を繰り返さざるを得ない。 [SUMMARY OF THE INVENTION] However, in the conventional exposure apparatus, since it is impossible to expose the object to be exposed plurality simultaneously, the object to be exposed or masked forced repeated exposure operation while one by one exchange manually the resulting not. したがって、複数の露光対象物を短時間で露光させることは困難である。 Therefore, it is difficult to expose the plurality of exposure objects in a short time. 特に、露光対象物やマスクは真空装置内にあるため、それらの交換作業は面倒である。 In particular, the exposure object and the mask because of the vacuum apparatus, working their replacement is cumbersome.

【0005】それ故に本発明の課題は、複数個の露光対象物をほぼ同時に露光させることを可能にした露光装置を提供することにある。 [0005] It is therefore an object of the present invention is to provide an exposure apparatus which made it possible to substantially simultaneously expose a plurality of exposure object.

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、露光媒体をマスクを介して露光対象物に照射して該露光対象物に露光を起こす露光装置において、前記露光媒体の照射方向と垂直な方向にのびた回転軸を有する回転ドラムを含み、前記回転ドラムの外周部に前記マスク及び前記露光対象物を径方向で互いに対向した状態に位置させ、前記回転ドラムの回転を伴って、前記露光媒体を径方向から前記マスクに向けて照射するようにしたことを特徴とする露光装置が得られる。 According to Means for Solving the Problems] The present invention, in the exposure apparatus to cause exposure to the exposure object by irradiating the object to be exposed via a mask exposure medium, the perpendicular irradiation direction of the exposure medium It includes a rotary drum having an axis of rotation extending in a direction, is positioned so as to face each other the mask and the object to be exposed to the outer periphery of the rotary drum in the radial direction, with the rotation of the rotary drum, the exposure medium the exposure apparatus is obtained which is characterized in that so as to irradiate toward the mask from the radial direction.

【0007】前記マスク及び前記露光対象物は互いに対向した状態でカセットに組み込まれたものであり、前記回転ドラムはその外周面に前記カセットを保持するカセット保持手段を備えていることは好ましい。 [0007] The mask and the exposure object has been incorporated into the cassette so as to face each other, it is preferable that the rotary drum is provided with a cassette holding means for holding the cassette on its outer peripheral surface.

【0008】前記マスクは前記露光対象物の径方向両面に位置し、前記回転ドラムの回転に伴い前記露光媒体が前記両面のマスクに向けて照射されるようにすることは好ましい。 [0008] The mask be like positioned radially both sides of the object to be exposed, the exposure medium with the rotation of the rotary drum is irradiated toward the side of the mask is preferred.

【0009】前記回転ドラムは同心上で互いに独立して回転可能なアウタードラム及びインナードラムを有し、 [0009] The rotary drum has a rotatable outer drum and the inner drum independently of each other on concentric,
前記アウタードラムは前記マスクを保持するマスク保持手段を備え、前記インナードラムは前記露光対象物を前記マスクに径方向で対向し得る状態に保持する露光対象物保持手段を備えることは好ましい。 The outer drum is provided with mask holding means for holding the mask, said inner drum comprising an exposure object holding means for holding a state capable of facing the object to be exposed in a radial direction on the mask preferred.

【0010】前記マスク及び前記露光対象物は前記回転ドラムの外周面に沿って複数個保持されることは好ましい。 [0010] The mask and the exposure object to be multiple held along the outer circumferential surface of the rotary drum are preferred.

【0011】前記露光対象物は前記回転ドラムの外周面に塗布されたものであり、前記マスクは前記露光対象物よりも径方向外側にあり、前記露光媒体を前記マスクに径方向外方から照射するようにすることは好ましい。 [0011] The object of exposure has been applied to the outer peripheral surface of the rotary drum, the mask is in the radially outward than the object to be exposed, irradiated with the exposure medium radially from outside on the mask it is preferable to be.

【0012】前記回転ドラムの外周面の乾燥を促進する乾燥促進手段を備えることは好ましい。 [0012] It comprises a drying accelerating means to accelerate the drying of the outer peripheral surface of the rotary drum are preferred.

【0013】前記回転ドラムの周面に対向したコロナ放電機構を備え、前記回転ドラムを除電できるようにすることは好ましい。 [0013] provided with a corona discharge mechanism facing the circumferential surface of the rotary drum, it is preferable to allow neutralization of the rotary drum.

【0014】前記露光媒体の強度及び前記露光対象物を透過する露光媒体の強度を検出する検出器を備えることは好ましい。 [0014] It comprises a detector for detecting the intensity of the exposure medium that transmits intensity and the exposure object of the exposure medium are preferred.

【0015】 [0015]

【実施例】図1は本発明の第1の実施例による露光装置を示す。 DETAILED DESCRIPTION FIG. 1 shows an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. この露光装置は、露光媒体としてシンクロトロン放射光(SR光)を用いるものであり、SR光の偏光面内でSR光の照射方向と垂直な方向にのびた回転軸1 The exposure apparatus, which uses synchrotron radiation light (SR light) as the exposure medium, the rotary shaft 1 extending in the radiation direction perpendicular to the direction of the SR light in the polarization plane of SR light
を有する回転ドラム2を含んでいる。 It includes rotary drum 2 having a. この回転ドラム2 The rotary drum 2
の外周面には多数のカセット3が周方向に並べられた状態でカセット保持手段(図示せず)にて固定保持されている。 It is fixed and held by the cassette holding means (not shown) at the outer peripheral surface of a state in which the number of cassettes 3 are arranged in the circumferential direction. 回転ドラム2は真空室に配されることもある。 Rotary drum 2 may also be arranged in the vacuum chamber.

【0016】各カセット3は、回転ドラム2の外周面に沿って緩やかに曲がった外形をもち、かつ図2に示すように外側のマスク4と内側の露光対象物5とを互いに重ねて結合したものである。 [0016] Each cassette 3 has a gently curved contour along the outer circumferential surface of the rotary drum 2, and bonded on top of one another and an outer mask 4 and inner exposure object 5 as shown in FIG. 2 it is intended. マスク4と露光対象物5との結合は様々な手段にて成し得る。 Coupling between the mask 4 and the exposure object 5 can form at a variety of means. マスク4としてはSR The mask 4 SR
光を実質的に遮断するものを用いる。 Use one blocking light substantially. マスク4にはSR The mask 4 SR
光を透過する様々なマスクパターン6が設けられる。 Various mask pattern 6 which transmits light is provided. 露光対象物5としては、ここでは例えばポリメチルメタアクリレート(PMMA)等の高分子材料よりなる感光材料を用いるが、他の材料であってもよい。 The exposure object 5, where a photosensitive material made of a polymeric material such as polymethyl methacrylate (PMMA), but may be other materials.

【0017】カセット3はマスク4が外側でかつ露光対象物5が内側になるように回転ドラム2の外周面に保持される。 The cassette 3 is the mask 4 is held on the outer circumferential surface of the rotary drum 2 such that the outer and and exposure object 5 on the inside. この状態で、回転ドラム2を回転させつつ、S In this state, while rotating the rotary drum 2, S
R光源7から可変スリット8を通してSR光9を回転ドラム2の外周面、即ち、マスク4に向けて照射する。 The outer peripheral surface of the rotary drum 2 to SR light 9 through the R light source 7 variable slit 8, i.e., to irradiate the mask 4. この結果、各カセット3の露光対象物5がマスク4で制限された範囲で露光する。 As a result, the exposure range of the exposure object 5 of the cassette 3 is limited by the mask 4. このとき、SR光9の幅の範囲内で任意の大きさの露光領域に均一な露光量が与えられる。 At this time, a uniform amount of exposure in the exposed areas of any size within the range of the width of the SR light 9 is applied.

【0018】可変スリット8はその大きさを可変にしたものであり、ここではSR光9の横断面の縦横寸法を例えば30×5mmに設定している。 The variable slit 8 is obtained by the size variable, here it is set the length and width of the cross section of SR light 9 for example, 30 × 5 mm. 可変スリット8の寸法を可変にする構造の一例は図3に示す。 An example of a structure that the size of the variable slit 8 is variable shown in FIG. 即ち、ほぼ一平面上に配した4枚の遮光板11、12、13、14を夫々矢印で示すように動かすことにより、可変スリット8の大きさを変えることが容易に可能である。 That is, by moving as shown four light shielding plates 11, 12, 13 and 14 arranged substantially on a single plane at each arrow, it is easily possible to vary the size of the variable slit 8.

【0019】なおカセット3はマニュピレータを用いて真空室内で交換できるようにしてもよい。 [0019] Note that the cassette 3 may be allowed to exchange the vacuum chamber using a manipulator.

【0020】上述では露光対象物5としては感光材料を用いて露光を起こす場合について説明したが、露光対象物5としてテフロン等の高分子材料を用いるとともに露光媒体としてSR光を用いると、露光の結果としてそのテフロン等の高分子材料に加工を施すことができる。 [0020] Although as an exposure object 5 above been described to cause exposure using a photosensitive material, the use of SR light as the exposure medium together using a polymer material such as Teflon as an exposure object 5, the exposure as a result the processing can be subjected to the polymeric material of the Teflon or the like. 即ち、図1の露光装置は露光対象物5としてテフロン等の高分子材料を用いることでそのテフロン等の高分子材料にマスク4のマスクパターンに依存する加工を施すことができる。 That is, the exposure apparatus of Figure 1 may be subjected to processing that depends on the mask pattern of the mask 4 in a polymer material of the Teflon or the like by using a polymer material such as Teflon as an exposure object 5.

【0021】テフロンに加工を施した結果として生じたテフロンの溝や穴にはフラグメント粒子が滞留することが想定される。 [0021] grooves and holes Teflon produced as a result of performing the processing in Teflon it is assumed that the fragment particles retained. このフラグメント粒子は、繰り返し加工して溝や穴を深くしてゆく場合には加工の妨げとなったり、高いアスペクト比を有する溝や穴を得ることが困難になる。 This fragment particles, or an obstacle to processing, to obtain the grooves and holes with high aspect ratio becomes difficult when slide into deep grooves and holes repeatedly processed. したがってその場合には、加工が終わる毎に前述した回転ドラム2を高速で回転させることによりフラグメント粒子に遠心力を与える。 In that case, therefore, provide a centrifugal force to fragment particles by rotating the rotary drum 2 described above for each processing ends at a high speed. これによれば、フラグメント粒子が排出しやすくなるため、より大きなアスペクト比を得ることが可能になる。 According to this, since the fragment particles are easily discharged, it is possible to obtain a larger aspect ratio.

【0022】また大きなアスペクト比をもつ溝や穴を形成する場合には、深部で発生したフィラグメント粒子を排出し難いため、深部には滑らかなパターンが得難い。 [0022] When forming a groove or hole having a large aspect ratio, since it is difficult to discharge the filler segment particles generated at depth, it is difficult to obtain a smooth pattern deep.
この原因としては、加工された溝や穴の内面がチャージアップし、そのクーロン力によりフラグメントイオンを閉じ込めていることが想定される。 As the cause, the inner surface of the processed groove or hole is charged up, it is confined to fragment ions by the Coulomb force is assumed.

【0023】上述に鑑み、図4の変形例に示すように回転ドラム2の外周面に対向するようにコロナ放電機構2 [0023] In view of the above, corona discharge mechanism so as to face the outer peripheral surface of the rotary drum 2 as shown in the modification of FIG. 4 2
0を設け、露光中にドラムを回転を伴って逐次除電しながら加工を続ける。 0 provided, continued working with neutralizing sequentially with a rotating drum during the exposure.

【0024】図5はコロナ放電機構20の具体的な構造を示す。 [0024] Figure 5 shows a specific structure of the corona discharge mechanism 20. このコロナ放電機構20は、アルミニウム製のケーシング21の内部に、金メッキを施した直径50ミクロン程度のステンレス製ワイヤ22を2本、バネ23 The corona discharge mechanism 20, the inside of the aluminum casing 21, the stainless steel wire 22 having a diameter of about 50 microns was subjected to gold plating 2, spring 23
を用いて緊張状態に備えている。 And a taut using. 露光中には、前述したチャージアップの極性により決まるプラス又はマイナスの数キロボルトの電圧をワイヤ22に印加し、コロナを発生させ、対向するドラムにイオンを飛ばす。 During exposure, the voltage of a few kilovolts of plus or minus determined by the polarity of the charge-up as described above is applied to the wire 22, to generate a corona, skip ions on opposite drums. このときにワイヤ22に電流を生じさせることは不要である。 It is not necessary to generate a current in this case the wire 22.

【0025】図6は図1の露光装置の他の変形例を示す。 [0025] Figure 6 shows another modification of the exposure apparatus of FIG. この露光装置はテフロンに加工を施すのに適したものである。 The exposure apparatus is suitable for applying a process to the Teflon. この露光装置においては、回転ドラム2を中空円筒状となし、その回転ドラム2の外周部の一部にのみカセット3を両面露出状態に備え、かつ径方向でカセット3に対向する部分には比較的大きな開口又は窓31 In this exposure apparatus, the rotary drum 2 hollow cylindrical and without, portions thereof the cassette 3 only a part of the outer periphery of the rotary drum 2 provided on both surfaces exposed state, and opposed to the cassette 3 in the radial direction compared specifically large opening or window 31
を設けている。 A is provided. ここで、カセット3は図7に示すようにテフロンよりなる被加工物32を表裏からマスク4a, The mask 4a cassette 3 the workpiece 32 made of Teflon as illustrated in FIG. 7 from the front and back,
4bで挟んだものとする。 For it shall be sandwiched between 4b. なおマスク4a,4bは互いに対向する箇所にマスクパターンとしての貫通孔を有する。 Incidentally mask 4a, 4b has a through-hole as a mask pattern in portions facing each other.

【0026】図6の露光装置によると、図示の位置で被加工物32が表面をSR光9に露光された後、回転ドラム2が180度回動するとSR光9が窓31を通して被加工物32の裏面に照射されることになる。 [0026] According to the exposure apparatus of FIG. 6, after the workpiece 32 at the position shown is exposed to the surface of SR light 9, SR light 9 when the rotary drum 2 is 180 degrees rotation is the workpiece through the window 31 32 will be irradiated on the rear surface of the. この結果、 As a result,
回転ドラム2の1回転の間に被加工物32は表裏を1度ずつ合計2回露光され加工される。 Workpiece 32 during one rotation of the rotary drum 2 is exposed twice in total by one degree the front and back processed. したがって回転ドラム2の回転を伴って、被加工物32にアスペクト比の大きい貫通穴を形成することができる。 Thus with the rotation of the rotary drum 2, it is possible to form a large through-hole aspect ratio to the workpiece 32.

【0027】図8は図1の露光装置のさらに他の変形例を示す。 [0027] Figure 8 shows another modification of the exposure apparatus of FIG. この露光装置においては、中空円筒状の回転ドラム2の内側及び外側(図示せず)に、回転軸1と平行に移動可能な光電子増倍管41を備えている。 In this exposure apparatus, the inner and outer hollow cylindrical rotary drum 2 (not shown), and a rotary shaft 1 and movable in parallel to a photomultiplier tube 41. この光電子増倍管41はSR光9の強度を測定するためのものである。 The photomultiplier tube 41 is used to measure the intensity of SR light 9. これによれば、照射されるSR光9及びカセット3の被加工材料を透過するSR光の強度比を監視しつつ、露光による加工の進行状態を確認しながら加工できる。 According to this, while monitoring the intensity ratio of SR light transmitted through the material to be processed of SR light 9 and the cassette 3 is irradiated can be processed while checking the progress of processing by the exposure. したがってSR光9の強度が減衰等で変化しても常に同じ加工が可能である。 Thus even if the intensity of SR light 9 varies with the damping and the like it is always possible the same processing.

【0028】図9は本発明の第2の実施例による露光装置を示す。 [0028] Figure 9 shows an exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention. この露光装置において、回転ドラム2は、同心上で互いに独立して回転可能なアウタードラム2a及びインナードラム2bを有している。 In this exposure apparatus, the rotary drum 2 is on the concentric independently of each other have a rotatable outer drum 2a and the inner drum 2b. アウタードラム2 Outer drum 2
a及びインナードラム2bは径方向で対向している。 a and inner drum 2b are opposed in the radial direction. アウタードラム2aはパターンの異なるマスク4を多数個周方向に配列した状態に保持するマスク保持手段(図示せず)を備えている。 Outer drum 2a is provided with mask holding means (not shown) to hold the state of being arranged different masks 4 of pattern into a plurality circumferentially. 一方、インナードラム2bは露光対象物5を多数個、マスク4と一対一に径方向で対向し得る状態に保持する露光対象物保持手段(図示せず)を備えている。 Meanwhile, the inner drum 2b is provided with a large number of exposed object 5 pieces, exposure target holding means for holding a state that may be diametrically opposed to one-to-one with the mask 4 (not shown).

【0029】露光に際しては、まず、SR光9を図1の場合と同様にアウタードラム2aのマスク4に照射しつつ、アウタードラム2a及びインナードラム2bを等角速度で同方向に回転させる。 [0029] In exposure, first, while irradiating the SR light 9 in the mask 4 as in the case outer drum 2a in FIG. 1, it is rotated in the same direction the outer drum 2a and the inner drum 2b at a constant angular velocity. 次にアウタードラム2a及びインナードラム2bに相対的な回動を与えて露光対象物5に別のマスク4を対向させ、この状態でアウタードラム2a及びインナードラム2bを等角速度で同方向に回転させる。 Then the outer drum 2a and the inner drum 2b gives relative rotation is opposed to another mask 4 in the exposure object 5 is rotated in the same direction at a constant angular velocity the outer drum 2a and the inner drum 2b in this state . さらに同様な作業を繰り返すことにより、 By repeating the more similar work,
3次元的な露光が可能である。 3-dimensional exposure is possible.

【0030】なお回転させながら露光を行ってもよいし、1つのマスクパターンを露光した後に次のマスクパターンの位置まで回転させ静止した状態で再び露光してもよい。 [0030] Note that may perform exposure while rotating, may be again exposed in one while rotating stationary after the mask pattern was exposed to the position of the next mask pattern.

【0031】またマスク4を全周に亘って多数枚取り付けた場合には、インナードラム2bを固定し、1回露光する毎にアウタードラム2aを回動させてマスク4をずらし、この状態で露光対象物5に露光を起こすようにしてもよい。 [0031] If the mounted large number over the mask 4 to the entire circumference, to secure the inner drum 2b, rotates the outer drum 2a each time the exposure once shifting the mask 4, exposure in this state it may be cause exposure to the object 5. これによれば、露光対象物5に多数回の露光を容易に起こすことができる。 According to this, it is possible to cause multiple exposure easily to the exposure object 5. 勿論、露光の結果としてテフロンに溝や穴等の加工を施すこともできる。 Of course, Teflon may be subjected to processing such as grooves or holes as a result of exposure.

【0032】図10は本発明の第3の実施例による露光装置を示す。 [0032] Figure 10 shows an exposure apparatus according to a third embodiment of the present invention. この露光装置は回転ドラム2の外周面の一部に間隔をおいて対向した一つのマスク51を備えている。 The exposure apparatus is provided with a mask 51 opposed spaced part of the outer peripheral surface of the rotary drum 2. マスク51はクラッチ(図示せず)のオン,オフにより停止、あるいは回転ドラム2と一緒に回転が可能である。 Mask 51 on the clutch (not shown), which can rotate together with the stop, or the rotary drum 2 by off. 回転ドラム2の外周面には、上下に可動のギーサー(図示せず)により回転ドラム2の回動を伴って液状のフォトレジスト52を塗布し乾燥させる。 The outer peripheral surface of the rotary drum 2, upper and lower (not shown) movable in Giesser by is accompanied by rotation of the rotary drum 2 by applying a liquid photoresist 52 dry. この液状のフォトレジスト52の乾燥を促進する乾燥促進手段として温風ファン53を回転ドラム2の外周面近傍に備える。 Comprising a hot air fan 53 as a dry promoting means for promoting the drying of the liquid photoresist 52 in the vicinity of the outer peripheral surface of the rotary drum 2. 温風ファン53には赤外線ランプや電気ヒータ等を併用してもよい。 It may be used in combination with an infrared lamp or an electric heater or the like in the hot-air fan 53.

【0033】露光に際してはマスク51と回転ドラム2 [0033] The mask 51 during an exposure drum 2
とを相対的に停止した状態でマスク51と回転ドラム2 Preparative the mask 51 in a state of relatively stopped and the rotary drum 2
とを回転させる。 Rotate the door. この時ギーサーは上方に退避させる。 At this time Giesser retracts upwardly.

【0034】次に回転ドラム2の露光の手順の一例を順次説明する。 [0034] Next sequentially illustrating an example of a procedure of exposure of the rotary drum 2. ギーサーを回転ドラム2に近付けドラムの外周に液状のフォトレジスト52を塗布する。 The outer periphery of the drum close to Giesser the rotary drum 2 a photoresist 52 of the liquid. フォトレジストが乾燥したら所定の露光作業を実行する。 Photoresist executing a predetermined exposure operation Once dried. フォトレジストに穴が開いたら再び液状のフォトレジスト52 Photoresist 52 again liquid When the hole is open to the photoresist
を塗布する。 It is coated. フォトレジストが乾燥したら所定の露光作業を再び実行する。 Photoresist again executes a predetermined exposure operation Once dried. 上述した手順を適宜繰り返す。 Repeat the procedure described above as appropriate. この結果、高いアスペクト比を有する加工もしくは3次元加工も容易に実施できる。 As a result, even processing or three-dimensional processing with a high aspect ratio can be carried out easily.

【0035】なお上述した実施例の様々な組み合わせが可能なことは言うまでもない。 It should be noted that it is needless to say possible different combinations of the embodiments described above. また露光媒体としては、 In addition, as the exposure medium,
X線や、レーザー光などのような公知の他のものが用いられてもよい。 X-ray and, other known ones may be used, such as a laser beam.

【0036】 [0036]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の露光装置によれば、回転ドラムを回動させることで露光媒体を照射する露光対象物やマスクを順次切り替えることができるようにしているため、複数個の露光対象物をほぼ同時に露光させることが可能になる。 As described in the foregoing, according to the exposure apparatus of the present invention, because it to be able to sequentially switch the object to be exposed and a mask for irradiating the exposure medium by rotating the rotary drum, it is possible to substantially simultaneously expose a plurality of exposure object.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の第1の実施例による露光装置の概略構成を示す斜視図。 Perspective view showing a schematic arrangement of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention; FIG.

【図2】図1の露光装置で使用されたカセットの構造を示す斜視図。 Figure 2 is a perspective view showing the structure of a cassette used in the exposure apparatus of Figure 1.

【図3】図1の露光装置で使用された可変スリットの寸法を可変にする構造の一例の説明図。 [Figure 3] An example illustration of a structure in which the size of the variable slit used to varying the exposure apparatus of Figure 1.

【図4】図1の露光装置の変形例を示す概略説明図。 Figure 4 is a schematic explanatory view showing a modification of the exposure apparatus of FIG.

【図5】図1の露光装置に使用されたコロナ放電機構の一例を示す斜視図。 Figure 5 is a perspective view showing an example of a corona discharge mechanism that is used in the exposure apparatus of Figure 1.

【図6】図1の露光装置の他の変形例の概略構成を示す斜視図。 6 is a perspective view showing a schematic configuration of another variation of the exposure apparatus in FIG.

【図7】図7の露光装置に使用されたカセットの構造を示す断面図。 7 is a cross-sectional view showing the structure of a cassette used in the exposure apparatus of FIG.

【図8】図1の露光装置のさらに他の変形例の概略構成を示す斜視図。 8 is a perspective view further illustrating a schematic configuration of another modification of the exposure apparatus of Figure 1.

【図9】本発明の第2の実施例による露光装置の概略構成を示す斜視図。 Figure 9 is a perspective view showing a schematic arrangement of an exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第3の実施例による露光装置の概略構成を示す説明図。 3 illustrates the general structure of an exposure apparatus according to an embodiment of the invention; FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 回転軸 2 回転ドラム 2a アウタードラム 2b インナードラム 3 カセット 4,4a,4b マスク 5 露光対象物 6 マスクパターン 7 SR光源 8 可変スリット 9 SR光 20 コロナ放電機構 31 窓 32 被加工物 51 マスク 52 フォトレジスト 53 温風ファン 1 rotating shaft 2 rotating drum 2a outer drum 2b inner drum 3 cassettes 4, 4a, 4b mask 5 exposure object 6 mask pattern 7 SR light source 8 variable slit 9 SR light 20 corona discharge mechanism 31 windows 32 workpiece 51 mask 52 Images resist 53 hot-air fan

Claims (9)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 露光媒体をマスクを介して露光対象物に照射して該露光対象物に露光を起こす露光装置において、前記露光媒体の照射方向と垂直な方向にのびた回転軸を有する回転ドラムを含み、前記回転ドラムの外周部に前記マスク及び前記露光対象物を径方向で互いに対向した状態に位置させ、前記回転ドラムの回転を伴って、 1. A exposure apparatus to cause exposure to the exposure object by irradiating the object to be exposed via a mask exposure medium, the rotary drum having an axis of rotation extending in the radiation direction perpendicular to the direction of the exposure medium wherein, said mask and is positioned so as to face each other in the radial direction of the object to be exposed, with the rotation of the rotary drum to the outer periphery of the rotary drum,
    前記露光媒体を径方向から前記マスクに向けて照射するようにしたことを特徴とする露光装置。 Exposure apparatus, characterized in that the said exposed medium in a radial direction so as to irradiate toward the mask.
  2. 【請求項2】 前記マスク及び前記露光対象物は互いに対向した状態でカセットに組み込まれたものであり、前記回転ドラムはその外周面に前記カセットを保持するカセット保持手段を備えている請求項1記載の露光装置。 Wherein said mask and said object to be exposed has been incorporated into the cassette so as to face each other, the rotary drum according to claim 1, further comprising a cassette holding means for holding the cassette on its outer peripheral surface the exposure apparatus according.
  3. 【請求項3】 前記マスクは前記露光対象物の径方向両面に位置し、前記回転ドラムの回転に伴い前記露光媒体が前記両面のマスクに向けて照射されるようにした請求項1又は2記載の露光装置。 Wherein said mask is positioned radially both sides of the object to be exposed, wherein the exposure medium in accordance with the rotation of the rotating drum as in claims 1 or 2 wherein the irradiated toward the side of the mask of the exposure apparatus.
  4. 【請求項4】 前記回転ドラムは同心上で互いに独立して回転可能なアウタードラム及びインナードラムを有し、前記アウタードラムは前記マスクを保持するマスク保持手段を備え、前記インナードラムは前記露光対象物を前記マスクに径方向で対向し得る状態に保持する露光対象物保持手段を備えた請求項1記載の露光装置。 Wherein said rotary drum has a rotatable outer drum and the inner drum independently of each other on concentric, the outer drum is provided with mask holding means for holding the mask, wherein the inner drum is the exposure target the exposure apparatus according to claim 1, further comprising an exposure object holding means for holding an object in a state that may be diametrically opposed to the mask.
  5. 【請求項5】 前記マスク及び前記露光対象物は前記回転ドラムの外周面に沿って複数個保持される請求項1〜 5. A method according to claim 1 wherein the mask and the exposure object to a plurality held along the outer circumferential surface of said rotary drum
    4のいずれかに記載の露光装置。 An apparatus according to any one of 4.
  6. 【請求項6】 前記露光対象物は前記回転ドラムの外周面に塗布されたものであり、前記マスクは前記露光対象物よりも径方向外側にあり、前記露光媒体を前記マスクに径方向外方から照射するようにした請求項1記載の露光装置。 6. is intended the exposure object applied to the outer peripheral surface of the rotary drum, the mask is in the radially outward than the object to be exposed, said exposure medium radially outwardly to the mask the exposure apparatus according to claim 1, wherein the be irradiated from.
  7. 【請求項7】 前記回転ドラムの外周面の乾燥を促進する乾燥促進手段を備えた請求項6記載の露光装置。 7. The exposure apparatus according to claim 6, further comprising a drying promoting means for promoting the drying of the outer peripheral surface of the rotary drum.
  8. 【請求項8】 前記回転ドラムの周面に対向したコロナ放電機構を備え、前記回転ドラムを除電できるようにした請求項1〜7のいずれかに記載の露光装置。 8. comprising a corona discharge mechanism facing the circumferential surface of the rotary drum, an exposure apparatus according to any one of claims 1 to 7 to allow neutralization of the rotary drum.
  9. 【請求項9】 前記露光媒体の強度及び前記露光対象物を透過する露光媒体の強度を検出する検出器を備えた請求項1〜8のいずれかに記載の露光装置。 9. An exposure apparatus according to claim 1 comprising a detector for detecting the intensity of the exposure medium for transmitting an intensity of the exposure medium and the object of exposure.
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