JPH0828392B2 - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH0828392B2
JPH0828392B2 JP62138630A JP13863087A JPH0828392B2 JP H0828392 B2 JPH0828392 B2 JP H0828392B2 JP 62138630 A JP62138630 A JP 62138630A JP 13863087 A JP13863087 A JP 13863087A JP H0828392 B2 JPH0828392 B2 JP H0828392B2
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    • H01L2924/301Electrical effects
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は半導体集積回路装置に係り、特にGaAs集積回
路に代表される高速動作の集積回路の実装構造に関す
る。
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a mounting structure of a high speed operation integrated circuit represented by a GaAs integrated circuit.

(従来の技術) 高速理論動作を行う半導体集積回路としてGaAs集積回
路が知られている。近年、GaAsMESFETを集積して、スイ
ッチング速度100p sec速度の高速動作を実現したものが
得られている。しかしこの様な高速動作を行う集積回路
チップを従来のパッケージに搭載した場合、チップ単体
で得られる高速性能が引出されないという問題がある。
その性能劣化の原因として、高速入力信号が入る配線部
の整合終端のとり方と、ボンディング・ワイヤの効果が
ある。これらの問題を少し詳しく説明する。
(Prior Art) GaAs integrated circuits are known as semiconductor integrated circuits that perform high-speed theoretical operation. In recent years, GaAs MESFETs have been integrated to achieve high-speed operation with a switching speed of 100 psec. However, when an integrated circuit chip that performs such a high-speed operation is mounted in a conventional package, there is a problem that the high-speed performance obtained by the chip alone cannot be obtained.
The cause of the performance deterioration is how to make a matching termination of the wiring part where a high-speed input signal enters and the effect of the bonding wire. Let's take a closer look at these issues.

GaAs論理集積回路の信号入力部のMESFETに、信号配線
を通して高速入力信号が供給される場合、MESFETのゲー
ト部で信号の反射を生じると波形歪みの原因となり、正
常な論理動作に支障を来たす。これを防止するために
は、整合抵抗を設けて終端することが必要である。例え
ば、通常のパッケージを用いてGaAs論理集積回路チップ
を実装し、信号入力端子となるリード端子に終端抵抗を
設けることが考えられる。第8図はそのような終端を行
った場合の等価回路である。11はパッケージ外部の信号
入力配線、12がパッケージ、13がこのパッケージ内に搭
載された集積回路チップの入力端MESFETであり、14が終
端抵抗である。しかし、スイッチング速度が100p sec或
いはそれ以下という高速動作の集積回路では、パッケー
ジ外部に終端抵抗をつけても、問題は完全には解決され
ない。整合終端部A点からパッケージ内部の入力部MESF
ETのゲート端子B点までの配線がオープンスタブとな
り、これが入力信号のリンギングの原因となるからであ
る。これを避けるためには、整合抵抗をパッケージ内部
の、集積回路チップ近くに搭載することが必要である。
具体的には、厚膜印刷によりパッケージ内に終端抵抗を
設ける方法、或いはチップ抵抗を配置する方法等が考え
られる。しかし、通常内部に段差を有するパッケージ内
に厚膜印刷により抵抗を形成することは困難である。ま
た、チップ抵抗を搭載することは、パッケージ内に大き
いスペースを必要とするため、これも好ましくない。
When a high-speed input signal is supplied to the MESFET of the signal input section of the GaAs logic integrated circuit through signal wiring, signal reflection at the gate section of the MESFET causes waveform distortion, which interferes with normal logic operation. In order to prevent this, it is necessary to provide a matching resistor and terminate. For example, it is conceivable to mount a GaAs logic integrated circuit chip using an ordinary package and provide a terminating resistor at a lead terminal which is a signal input terminal. FIG. 8 shows an equivalent circuit when such termination is performed. Reference numeral 11 is a signal input wiring outside the package, 12 is a package, 13 is an input terminal MESFET of an integrated circuit chip mounted in this package, and 14 is a terminating resistor. However, in a high-speed integrated circuit with a switching speed of 100 psec or less, even if a terminating resistor is provided outside the package, the problem cannot be completely solved. Input terminal MESF inside the package from the matching end point A
This is because the wiring to the point B of the ET gate terminal becomes an open stub, which causes ringing of the input signal. To avoid this, it is necessary to mount the matching resistor inside the package near the integrated circuit chip.
Specifically, a method of providing a terminating resistor in the package by thick film printing, a method of disposing a chip resistor, or the like can be considered. However, it is usually difficult to form a resistor by thick film printing in a package having a step inside. Also, mounting the chip resistor requires a large space in the package, which is also not preferable.

第8図とは別の終端抵抗のとり方として、第9図に示
すフィードスルーと呼ばれる方式がある。これは、パッ
ケージの入力端子部A点からの信号配線を入力部MESFET
13のゲート端子部Bを通過させてパッケージの他の端子
部Cまで配設し、この端子部C点に終端抵抗14を設け
る。この方式では、第8図の方式に比べてオープンスタ
ブ長は短くなるが、パッケージ内の信号入力配線数が単
純に2倍になる。従って更に集積回路の集積度が向上
し、入力端子数の増加、ボンディング・パッドの高密度
化が進むとパッケージ内配線が困難になる。
As a method of taking a terminating resistance different from that shown in FIG. 8, there is a method called a feedthrough shown in FIG. This is the signal wiring from point A of the package input terminal
The gate terminal B of 13 is passed through to the other terminal C of the package, and a terminating resistor 14 is provided at this terminal C. In this method, the open stub length is shorter than in the method shown in FIG. 8, but the number of signal input wirings in the package is simply doubled. Therefore, if the degree of integration of the integrated circuit is further improved, the number of input terminals is increased, and the density of the bonding pads is increased, the wiring inside the package becomes difficult.

第8図および第9図の方式に共通の問題として、ワイ
ヤ・ボンディングの問題がある。パッケージ内部配線と
集積回路チップ上の端子との間をボンディング接続した
場合、通常弧を描いて接続されるボンディング・ワイヤ
が、ギガ・ビット/secの高速信号処理を行う集積回路で
はオープンスタブとして無視できない長さになる。また
そのバラツキは特性の均一性を損う。集積回路の高集積
化が進み、ボンディング・パッドが高密度になると、ボ
ンディングのツールが隣接するワイヤと接触してボンデ
ィングができなくなるという問題や、ボンディング・パ
ッドの大きさやピッチをある程度以上小さくできないた
めに集積回路チップサイズを余り小さくすることができ
ず、チップ上での信号配線長を短くできないといった問
題もある。
A problem common to the schemes of FIGS. 8 and 9 is that of wire bonding. When the package internal wiring and the terminals on the integrated circuit chip are connected by bonding, the bonding wires that are normally connected in an arc are ignored as open stubs in integrated circuits that perform high-speed signal processing at gigabit / sec. It becomes a length that can not be. Moreover, the variation impairs the uniformity of characteristics. As integrated circuits become more highly integrated and the density of bonding pads becomes higher, the bonding tool will not be able to make contact with adjacent wires, and the size and pitch of the bonding pads cannot be reduced to some extent. Moreover, there is a problem that the integrated circuit chip size cannot be made too small and the signal wiring length on the chip cannot be shortened.

(発明が解決しようとする問題点) 以上のように通常の半導体集積回路の実装構造では、
GaAs論理集積回路のような高速動作を行う場合その高速
性能を十分に引出すことができない、という問題があっ
た。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the normal semiconductor integrated circuit mounting structure,
When operating at high speed like a GaAs logic integrated circuit, there was a problem that the high speed performance could not be sufficiently obtained.

本発明はこの様な問題を解決した半導体集積回路装置
を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that solves such problems.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明では、半導体集積回路チップの実装にTAB(Tap
e Automated Bonding)方式を採用する。TAB基板は、
テープ状の樹脂フィルムの集積回路チップが載置される
部分に孔が開けられ、この孔の部分に突出た舌片を持つ
放射状に配設された複数のリード配線を有する。このTA
B基板に、その舌片を直接集積回路チップの端子部に接
続して集積回路チップを実装する。この実装方式は、テ
ープキャリア或いはフィルムキャリア等とも称される。
この様なTAB方式の集積回路構造において本発明は、樹
脂フィルム上のリード配線のうち集積回路チップの高速
信号入力端子に接続されるリード配線部を、所定の特性
インピーダンスに調整されたフィードスルー配線を構成
する折返し配線としたことを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving Problems) In the present invention, TAB (Tap
e Automated Bonding) method is adopted. TAB board is
A hole is made in a portion of the tape-shaped resin film on which the integrated circuit chip is mounted, and a plurality of lead wirings having a tongue protruding in the hole portion are radially arranged. This TA
The tongue piece is directly connected to the terminal portion of the integrated circuit chip on the B board to mount the integrated circuit chip. This mounting method is also called a tape carrier or a film carrier.
In such a TAB type integrated circuit structure, the present invention provides a feed-through wiring in which the lead wiring portion connected to the high-speed signal input terminal of the integrated circuit chip among the lead wiring on the resin film is adjusted to a predetermined characteristic impedance. It is characterized in that it is a folded wiring constituting the.

(作用) この様にTAB基板を用いれば、前述したオープンスタ
ブの長さは非常に短くなり、その長さのバラツキも小さ
く、高速入力信号の波形歪みを十分に小さくすることが
できる。またTAB基板上のリード配線の一部である舌片
が直接集積回路チップの端子パッドに接続されるため、
通常のパッケージを用いた場合のワイヤ・ボンディング
が必要なくなる。この結果、集積回路チップ上の端子パ
ッドの大きさやピッチに対する制限が緩和され、集積回
路チップをより小さくすることができる。これにより集
積回路チップ上での配線長を短くすることもできる。ま
たボンディング・ワイヤに比べて、オープンスタブの長
さはより小さく且つ均一なものとなる。
(Operation) By using the TAB substrate as described above, the length of the above-mentioned open stub becomes extremely short, the variation in the length is small, and the waveform distortion of the high-speed input signal can be sufficiently reduced. Also, since the tongue piece that is a part of the lead wiring on the TAB substrate is directly connected to the terminal pad of the integrated circuit chip,
Eliminates the need for wire bonding when using conventional packages. As a result, restrictions on the size and pitch of the terminal pads on the integrated circuit chip are relaxed, and the integrated circuit chip can be made smaller. As a result, the wiring length on the integrated circuit chip can be shortened. Also, the length of the open stub is smaller and more uniform than the bonding wire.

更に、TAB基板上のリード配線はフォト・エッチング
技術を利用して形成されるから、セラミック・パッケー
ジ内のリード配線に比べて配線幅および間隔を十分小さ
く、且つ高精度に設定することができる。従って入力端
子数の多い集積回路に対しても、フィードスルー配線を
容易に実現することができる。
Further, since the lead wiring on the TAB substrate is formed by using the photo-etching technique, the wiring width and spacing can be set sufficiently small and highly accurate as compared with the lead wiring in the ceramic package. Therefore, the feedthrough wiring can be easily realized even for an integrated circuit having a large number of input terminals.

(実施例) 以下、本発明の実施例を説明する。(Example) Hereinafter, the Example of this invention is described.

第1図は本発明の一実施例のGaAs集積回路実装構造を
示す平面図である。GaAs集積回路は具体的には、GaAsME
SFETを用いた、スイッチング速度100p sec以下の高速動
作をおこなうマルチプレクサである。第2図は、第1図
の集積回路チップ実装部領域aの拡大平面図であり、第
3図(a)(b)は更に第2図の要部の平面図とそのA
−A′断面図である。また第4図は、第1図のTAB基板
上の外部接続端子部領域bの平面図とその断面図であ
る。
FIG. 1 is a plan view showing a GaAs integrated circuit mounting structure of an embodiment of the present invention. GaAs integrated circuits are specifically GaAsME
It is a multiplexer that uses SFET and operates at high speed with a switching speed of 100 psec or less. FIG. 2 is an enlarged plan view of the integrated circuit chip mounting area a of FIG. 1, and FIGS. 3 (a) and 3 (b) are plan views of the essential portion of FIG.
It is a -A 'sectional view. FIG. 4 is a plan view and a cross-sectional view of the external connection terminal area b on the TAB substrate of FIG.

TAB基板は、ポリイミド或いはガラスエポキシ等の樹
脂フィルム1に、フォト・エッチングを利用してリード
配線を形成したものである。通常第5図に示すように長
尺のテープ状フィルムに繰返し配線パターンが形成され
ており、これに集積回路チップが次々に搭載される。第
1図ではその1チップ搭載部とその周辺のリード配線部
を示している。即ち、樹脂フィルム1の集積回路チップ
載置部には孔9が開けられ、ここにGaAs集積回路チップ
6が載置される。樹脂フィルム1上のリード配線は、集
積回路チップ載置部から放射状にパターン形成されたCu
膜であり、孔9の部分にはリード配線の一部が舌片とし
て突出ており、この舌片が直接集積回路チップ6上の端
子パッドに接続される。
The TAB substrate is a resin film 1 such as polyimide or glass epoxy, on which lead wirings are formed by photo-etching. Usually, as shown in FIG. 5, a repeated wiring pattern is formed on a long tape-shaped film, and integrated circuit chips are mounted one after another on this. FIG. 1 shows the one-chip mounting portion and the lead wiring portion around it. That is, a hole 9 is opened in the integrated circuit chip mounting portion of the resin film 1, and the GaAs integrated circuit chip 6 is mounted therein. The lead wiring on the resin film 1 is a Cu pattern radially formed from the integrated circuit chip mounting portion.
It is a film, and a part of the lead wiring protrudes as a tongue piece at the hole 9 portion, and this tongue piece is directly connected to the terminal pad on the integrated circuit chip 6.

TAB基板上のリード配線のうち、集積回路チップ6の
一つの入力端子に繋がる信号入力配線部に着目すると、
第1図に示すように、TAB基板上の外部接続端子部24
ら集積回路チップ6の近傍までの往路を形成するリード
配線21があり、これが集積回路チップ6近傍で折返され
て復路を形成するリード配線22を通って外部接続端子部
24まで戻る折返し配線となっている。この折返し配線に
より、チップ6の入力端子に対してフィードスルー配線
を構成している。外部接続端子部24が、この集積回路を
搭載するボード上の信号入力端子INに接続されることに
なる。そして例えば折返し配線22の外部接続端子部25
終端抵抗Rを介して終端電位VTTに接続される。この実
施例ではこの様なリード配線21,22の部分に、第2図〜
第4図に示されるようにマイクロストリップ伝送線路構
造とコプラナ伝送線路構造の複合構造、即ちグランド付
コプラナ伝送線路構造(或いはコプラナ付マイクロスト
リップ伝送線路構造)を採用している。即ちリード配線
21,22は、一定の線幅d1を持ち、且つその両側に一定の
間隔d2のスペース31,32をおいて地導体4が配設されて
コプラナ伝送線路を構成し、且つ樹脂フィルム1の裏面
にも地導体5を形成してマイクロストリップ伝送線路を
構成している。裏面の地導体5は、第4図に示すように
外部端子部領域を除いてE点より内側のTAB基板全面に
配設している。この様にしてこのE点より内側では、折
れ曲り部も同心円を描いて線幅d1および線間隔d2が一定
に保たれて、特性インピーダンスが一定のグランド付コ
プラナ伝送線路を形成している。リード配線22,22が円
弧を描く集積回路チップ近傍からは、このリード配線
21,22と同じCu膜による舌片23が内部に突出ており、こ
の舌片22が集積回路チップ6の入力端子パッド7のバン
プ電極8に直接接続されている。
Of the lead wiring on the TAB substrate, focusing on the signal input wiring portion connected to one input terminal of the integrated circuit chip 6,
As shown in FIG. 1, there are lead wires 2 1 to form the forward path from the external connection terminal portions 2 4 on the TAB board to the vicinity of the integrated circuit chip 6, the return which is folded in the vicinity integrated circuit chip 6 External connection terminal part through the lead wiring 2 2 to be formed
It is a return wiring that returns to 2 4 . The folded wiring constitutes a feedthrough wiring for the input terminal of the chip 6. The external connection terminal parts 2 4, to be connected to the signal input terminal IN of the board mounting the integrated circuit. And for example, an external connection terminal portion 2 5 of the folding line 2 2 is connected to the terminal potential V TT via the termination resistor R. In this embodiment, the lead wirings 2 1 and 2 2 are attached to the portions shown in FIG.
As shown in FIG. 4, a composite structure of a microstrip transmission line structure and a coplanar transmission line structure, that is, a grounded coplanar transmission line structure (or a coplanar microstrip transmission line structure) is adopted. That is, lead wiring
2 1 and 2 2 have a constant line width d 1 and ground conductors 4 are arranged on both sides of the space 3 1 and 3 2 with a constant spacing d 2 to form a coplanar transmission line. A ground conductor 5 is also formed on the back surface of the resin film 1 to form a microstrip transmission line. As shown in FIG. 4, the ground conductor 5 on the back surface is provided on the entire surface of the TAB substrate inside the point E except for the external terminal area. Inside than this point E in this manner, the line width also draw concentric described bending portion d 1 and line spacing d 2 is kept constant, the characteristic impedance forms a constant gland coplanar transmission line . From the vicinity of the integrated circuit chip where the lead wires 2 2 and 2 2 draw an arc,
A tongue piece 2 3 made of the same Cu film as 2 1 and 2 2 projects inward, and this tongue piece 2 2 is directly connected to the bump electrode 8 of the input terminal pad 7 of the integrated circuit chip 6.

バンプ電極8は通常、Ti−Ni−Pd,Ti−W−Au,Ti−Pt
−Au,Cr−Cu−Au等のバリア金属層を介してAuメッキに
より形成される。これに対して配線舌片23がCu層の場
合、これに予めSnメッキまたはAuメッキを施しておく。
このような舌片23とバンプ電極8を接合するには、350
〜500℃程度のツールを30〜80g/リードで接合部に押付
け、共晶接合(Au−Snの場合)或いは熱圧着接合(Au−
Auの場合)を行えばよい。これにより、TAB基板への集
積回路チップの固定が簡単に行われる。
The bump electrode 8 is usually made of Ti-Ni-Pd, Ti-W-Au, Ti-Pt.
It is formed by Au plating through a barrier metal layer such as -Au or Cr-Cu-Au. If wiring tongue 2 3 contrast a Cu layer, preliminarily subjected to Sn plating or Au plating thereto.
To joining such tongue 2 3 and the bump electrodes 8, 350
A tool of ~ 500 ° C is pressed to the joint with 30 ~ 80g / lead, and eutectic bonding (in case of Au-Sn) or thermocompression bonding (Au-
In the case of Au). As a result, the integrated circuit chip can be easily fixed to the TAB substrate.

第1図から明らかなようにこの実施例では、電源電位
VDDおよびVSSの端子、6個の入力端子IN1〜IN6、4個の
出力端子OUT1〜OUT4、3個の電位モニタ用端子であり、
各入力端子IN1〜IN6にそれぞれ対応して、終端抵抗Rを
介して終端電位VTTに接続される端子がある。
As is clear from FIG. 1, in this embodiment, the power supply potential is
V DD and V SS terminals, 6 input terminals IN 1 to IN 6 , 4 output terminals OUT 1 to OUT 4 , 3 potential monitoring terminals,
Corresponding to each of the input terminals IN 1 to IN 6 , there is a terminal connected to the terminal potential V TT via the terminal resistor R.

リード配線設計の具体的な数値例を挙げる。例えばEC
L回路とコンパチブルなインタフェースを有するGaAs論
理集積回路では、入力信号配線を特性インピーダンス50
Ωとなるように設計し、終端抵抗50Ωをつける。いま樹
脂フィルム1が厚み75μm、比誘電率約3.2とすると、
リード配線21,22の線幅を50μm、これらの配線と地導
体4との間隔を30μmとすることにより、特性インピー
ダンス50Ωが得られる。
A specific numerical example of the lead wiring design will be described. For example, EC
In a GaAs logic integrated circuit having an interface compatible with the L circuit, the input signal wiring must have a characteristic impedance of 50%.
Ω and a terminating resistance of 50Ω. Now, assuming that the resin film 1 has a thickness of 75 μm and a relative dielectric constant of about 3.2,
A characteristic impedance of 50Ω can be obtained by setting the line width of the lead wires 2 1 and 2 2 to 50 μm and the distance between these wires and the ground conductor 4 to 30 μm.

この実施例によれば、TAB基板上でフィードスルー配
線を構成することにより、信号入力端子数が多い集積回
路の場合にも特性インピーダンス一定の信号入力配線を
容易に形成することができる。セラミック・パッケージ
上と異なり、TAB基板上ではフォト・エッチングにより
リード配線が形成されるため、線幅および線間隔の小さ
い配線が容易に且つ制御性よく得られるからである。従
って集積回路の入力端子数の増加、高密度化に容易に対
応することができる。また、ワイヤ・ボンディングを用
いないから、オープンスタブが小さくなって信号波形の
歪みが抑制され、オープンスタブ長さの均一性も向上す
る結果、GaAs論理集積回路チップの高速性能が十分に発
揮される。ワイヤ・ボンディングを用いないことはま
た、集積回路チップ上の端子パッドの大きさや間隔を小
さくできることを意味し、この結果集積回路チップを小
さくして内部配線長を短くすることができる。これによ
り、集積回路の一層の高速化、高集積化を図ることがで
きる。
According to this embodiment, by forming the feedthrough wiring on the TAB substrate, it is possible to easily form the signal input wiring having a constant characteristic impedance even in the case of an integrated circuit having a large number of signal input terminals. Unlike the ceramic package, the lead wiring is formed by photo-etching on the TAB substrate, so that a wiring having a small line width and a small line spacing can be obtained easily and with good controllability. Therefore, it is possible to easily cope with an increase in the number of input terminals and an increase in the density of the integrated circuit. Further, since wire bonding is not used, the open stub is reduced, distortion of the signal waveform is suppressed, and the uniformity of the open stub length is also improved. As a result, the high-speed performance of the GaAs logic integrated circuit chip is fully exhibited. . Not using wire bonding also means that the size and spacing of the terminal pads on the integrated circuit chip can be reduced, which results in a smaller integrated circuit chip and shorter internal wiring length. As a result, the integrated circuit can be further speeded up and highly integrated.

第1図〜第5図で説明した実施例の製法は例えば次の
通りである。先ず、パーフォレーション付の35mm幅の樹
脂フィルムに集積回路チップ搭載部等の孔開けをし、裏
面に18μm厚のCu箔をポリイミド系接着材で貼り合わせ
る。次いで裏面のCu箔をフォトエッチングで所定パター
ンに加工する。この後表面にやはり18μm厚のCu箔を同
様にして貼りつける。そして裏面をフォトレジストで覆
い、表面に所定パターンのフォトレジストを形成してフ
ォトエッチングをして、配線パターンを形成し、表裏の
フォトレジストを除去する。
The manufacturing method of the embodiment described with reference to FIGS. 1 to 5 is as follows, for example. First, perforations are formed in a 35 mm wide resin film such as a hole for an integrated circuit chip mounting portion, and a Cu foil with a thickness of 18 μm is attached to the back surface with a polyimide adhesive. Next, the Cu foil on the back surface is processed into a predetermined pattern by photoetching. After this, a Cu foil with a thickness of 18 μm is also attached to the surface in the same manner. Then, the back surface is covered with a photoresist, a photoresist having a predetermined pattern is formed on the surface, and photoetching is performed to form a wiring pattern, and the photoresist on the front and back surfaces is removed.

本発明は上記実施例に限られない。例えば実施例で
は、TAB基板上の入力配線部の構造を、コプラナ伝送線
路構造とマイクロストリップ伝送線路構造の複合構造と
したが、いずれか一方の構造でも効果がある。第6図
(a)(b)は、コプラナ伝送線路構造のみを適用した
場合の実施例の構造を、第3図(a)(b)に対応させ
て示す。第6図(a)(b)では、地導体4は第3図
(a)(b)に示した実施例と異なり、地導体4内にく
り抜き部はない。このような構造は第3図(a)(b)
で示した実施例でも適用できる。第7図(a)(b)は
マイクロストリップ伝送線路構造のみを適用した場合の
実施例の構造を第3図(a)(b)に対応させて示す。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the embodiment, the structure of the input wiring portion on the TAB substrate is a composite structure of a coplanar transmission line structure and a microstrip transmission line structure, but any one structure is also effective. FIGS. 6 (a) and 6 (b) show the structure of the embodiment in which only the coplanar transmission line structure is applied, corresponding to FIGS. 3 (a) and 3 (b). In FIGS. 6 (a) and 6 (b), the ground conductor 4 has no hollow portion in the ground conductor 4 unlike the embodiment shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b). Such a structure is shown in FIGS.
It is also applicable to the embodiment shown in. FIGS. 7 (a) and 7 (b) show the structure of the embodiment when only the microstrip transmission line structure is applied, corresponding to FIGS. 3 (a) and 3 (b).

終端抵抗は、TAB基板の外で集積回路搭載ボード上に
配置する構成の他、TAB基板上で折返し配線を構成する
リード配線を折返し後の適当な箇所で切断した形とし、
その舌片部側端部を一方の接続端とし、終端電位に接続
される地導体を他方の接続端として厚膜抵抗やチップ抵
抗等を配置する構造としてもよい。実施例では、終端他
電位VTTを電源電位の一方VSSとは別に設けているが、集
積回路によってはこれらが共通の接地電位になることも
あり得る。また実施例では、MESFETを集積した高速GaAs
論理集積回路を例に挙げたが、他の高速動作の集積回路
にも同様に本発明を適用できる。
The terminating resistor is placed outside the TAB substrate on the integrated circuit mounting board, or in the form where the lead wiring forming the folded wiring on the TAB substrate is cut at an appropriate place after folding,
A thick film resistor, a chip resistor, or the like may be arranged with the tongue portion side end as one connection end and the ground conductor connected to the termination potential as the other connection end. In the embodiment, the terminating other potential V TT is provided separately from one of the power source potentials V SS , but it may be a common ground potential depending on the integrated circuit. In the embodiment, high-speed GaAs with integrated MESFET is also used.
Although the logic integrated circuit is taken as an example, the present invention can be similarly applied to other high speed integrated circuits.

[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、TAB方式を適用
し、TAB基板上でフィードスルー配線を構成することに
よって、入力端子数の増加や高密度化に容易に対応する
ことができ、チップの高速性能を十分に発揮することが
できる半導体集積回路が得られる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to easily cope with the increase in the number of input terminals and the increase in density by applying the TAB method and forming the feedthrough wiring on the TAB substrate. Thus, a semiconductor integrated circuit can be obtained in which the high speed performance of the chip can be sufficiently exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例のGaAs論理集積回路の構成を
示す平面図、第2図はそのチップ搭載領域の拡大平面
図、第3図(a)(b)は更に第2図の要部に拡大して
示す平面図とそのA−A′断面図、第4図(a)(b)
は第1図の外部端子部領域を拡大して示す平面図とその
A−A′断面図、第5図はTAB基板の構成を示す平面
図、第6図(a)(b)は他の実施例の構成を第3図
(a)(b)に対応させて示す図、第7図(a)(b)
は更に他の実施例の構成を第3図(a)(b)に対応さ
せて示す図、第8図および第9図は従来の整合終端の取
り方を等価回路的に示す図である。 1……樹脂フィルム、21,22……リード配線(フィード
スルー配線)、23……舌片、24,55……外部接続端子
部、31,32……スペース、4,5……地導体、6……GaAs集
積回路チップ、7……ボンディング・パッド、8……バ
ンプ電極、9……孔。
FIG. 1 is a plan view showing the structure of a GaAs logic integrated circuit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged plan view of its chip mounting area, and FIGS. 3 (a) and 3 (b) are further shown in FIG. FIG. 4 (a) and FIG. 4 (b), which is an enlarged plan view of a main part and a sectional view taken along the line AA ′.
1 is an enlarged plan view showing the external terminal area of FIG. 1 and its AA ′ sectional view, FIG. 5 is a plan view showing the structure of the TAB substrate, and FIGS. 6 (a) and 6 (b) are other views. The figure which shows the structure of an Example corresponding to FIG.3 (a) (b), FIG.7 (a) (b)
Shows the configuration of still another embodiment in correspondence with FIGS. 3 (a) and 3 (b), and FIGS. 8 and 9 are diagrams showing the conventional way of taking matching terminations in an equivalent circuit manner. 1 ... Resin film, 2 1 , 2 2 ...... Lead wiring (feed-through wiring), 2 3 ...... Tongue piece, 2 4 , 5, 5 …… External connection terminal part, 3 1 , 3 2 …… Space, 4 , 5 ... Ground conductor, 6 ... GaAs integrated circuit chip, 7 ... Bonding pad, 8 ... Bump electrode, 9 ... Hole.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】集積回路チップ載置部に孔が設けられ、こ
の孔の部分に突出た舌片を有し放射状に配設された複数
のリード配線が形成された樹脂フィルムと、この樹脂フ
ィルムの前記チップ載置部に載置され、前記舌片が直接
ボンディング・パッドに接続された半導体集積回路チッ
プとを備えた半導体集積回路装置において、前記樹脂フ
ィルム上のリード配線のうち前記集積回路チップの高速
信号入力端子に接続されるリード配線は、所定の特性イ
ンピーダンスに調整されたフィードスルー配線を構成す
る折返し配線としたことを特徴とする半導体集積回路装
置。
1. A resin film in which a hole is provided in an integrated circuit chip mounting portion and a plurality of lead wirings radially arranged having a tongue protruding in the hole portion are formed, and the resin film. A semiconductor integrated circuit device mounted on the chip mounting part, the tongue piece being directly connected to a bonding pad, wherein the integrated circuit chip among the lead wirings on the resin film 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the lead wiring connected to the high-speed signal input terminal is a folded wiring that constitutes a feedthrough wiring adjusted to a predetermined characteristic impedance.
【請求項2】前記フィードスルー配線を構成する折返し
配線部は、前記樹脂フィルムの裏面に地導体が形成され
たマイクロストリップ伝送線路を構成する特許請求の範
囲第1項記載の半導体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the folded wiring portion forming the feed-through wiring forms a microstrip transmission line in which a ground conductor is formed on the back surface of the resin film.
【請求項3】前記フィードスルー配線を構成する折返し
配線部は、前記樹脂フィルム上の折返し配線と同じ面に
折返し配線との間に所定間隔をもって地導体が形成され
たコプラナ伝送線路を構成する特許請求の範囲第1項記
載の半導体集積回路装置。
3. A folded wiring portion constituting the feed-through wiring constitutes a coplanar transmission line in which a ground conductor is formed on the same surface as the folded wiring on the resin film at a predetermined distance from the folded wiring. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1.
【請求項4】前記フィードスルー配線を構成する折返し
配線部は、前記樹脂フィルム上の折返し配線と同じ面に
折返し配線との間に所定間隔をもって地導体が形成さ
れ、樹脂フィルムの裏面にも地導体が形成されたたグラ
ンド付コプラナ伝送線路を構成する特許請求の範囲第1
項記載の半導体集積回路装置。
4. The folded wiring portion forming the feed-through wiring has a ground conductor formed on the same surface as the folded wiring on the resin film at a predetermined interval between the folded wiring and the ground on the back surface of the resin film. A first coplanar transmission line with a ground on which a conductor is formed.
The semiconductor integrated circuit device according to the paragraph.
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