JPH08281810A - Optically molding apparatus - Google Patents

Optically molding apparatus

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Publication number
JPH08281810A
JPH08281810A JP7116441A JP11644195A JPH08281810A JP H08281810 A JPH08281810 A JP H08281810A JP 7116441 A JP7116441 A JP 7116441A JP 11644195 A JP11644195 A JP 11644195A JP H08281810 A JPH08281810 A JP H08281810A
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JP
Japan
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light
light source
liquid crystal
crystal mask
mask
Prior art date
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Application number
JP7116441A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumi Haga
一実 芳賀
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NEW KURIEISHIYON KK
Original Assignee
NEW KURIEISHIYON KK
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH08281810A publication Critical patent/JPH08281810A/en
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide an optically molding apparatus which can accurately mold a molding in a relatively short time. CONSTITUTION: The optically molding apparatus 1 irradiates photosetting resin 12 with the light from a light source via the light transmission unit of a liquid crystal mask 26 driven based on the shape data responsive to an object shape and molds the molding of the object shape by curing the irradiated part. The optically molding apparatus 1 comprises moving means 4 for moving a light source in parallel with the mask 26, and an imaging element 27 disposed between the mask 26 and the resin 12 to image the light passed through the unit of the mask 26, wherein the light source has a substantially long light source 31 extended in parallel with the mask 26 perpendicular to the moving direction of the light source and a reflector 22 for reflecting the light from the light source toward the mask 26.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光造形装置に関し、詳
しくは、光を照射して光硬化樹脂を硬化させることによ
り、目的形状の造形物を製造する光造形装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stereolithography apparatus, and more particularly to a stereolithography apparatus for producing a molded article having a desired shape by irradiating light to cure a photocurable resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の光造形装置として、特開平4−
301431号公報に記載されたものがある。この光造
形装置は、移動手段によって移動可能でかつ目的形状に
応じた形状データに基づいて駆動された液晶マスクの透
光部を通して、面光源からの光を光硬化樹脂に照射し、
当該照射した部分を硬化させて目的形状の造形物を造形
するように構成されている。この従来の光造形装置で
は、移動手段が液晶マスクを所定位置まで移動させ、そ
の位置で、面光源からの光によって、光硬化樹脂が硬化
される。次いで、移動手段が液晶マスクを次の所定位置
に移動させて、同じような工程が繰り返される結果、目
的形状の造形物が造形される。
2. Description of the Related Art As an optical modeling apparatus of this type, Japanese Unexamined Patent Publication No.
There is one disclosed in Japanese Patent No. 301431. This stereolithography device irradiates light from a surface light source onto a photocurable resin through a light-transmitting portion of a liquid crystal mask which is movable by a moving means and driven based on shape data according to a target shape,
It is configured to cure the irradiated portion and form a shaped article having a target shape. In this conventional stereolithography apparatus, the moving means moves the liquid crystal mask to a predetermined position, and at that position, the photocurable resin is cured by the light from the surface light source. Then, the moving means moves the liquid crystal mask to the next predetermined position, and the same process is repeated, and as a result, a modeled object having a target shape is modeled.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来の光
造形装置は、液晶マスク全体に面光源の光を一度に照射
する構成のため、液晶マスク全体が常時熱線に晒され
る。このため、正常に動作する温度以上に、液晶マスク
が過熱されてしまい、液晶マスクの変形や誤動作により
造形精度が下がってしまうという問題がある。
However, in this conventional stereolithography apparatus, since the entire liquid crystal mask is irradiated with the light of the surface light source at a time, the entire liquid crystal mask is always exposed to heat rays. Therefore, there is a problem that the liquid crystal mask is overheated at a temperature higher than the normal operating temperature, and the modeling accuracy is lowered due to deformation or malfunction of the liquid crystal mask.

【0004】また、面光源からの光は、作動した液晶マ
スクの透光部をあらゆる方向から透過するため、透光部
を斜めに透過した光によって、本来照射すべきでない部
分を照射してしまう結果、高い造形精度を得ることがで
きないという問題がある。
Further, since the light from the surface light source is transmitted through the light transmitting portion of the operated liquid crystal mask from all directions, the light which is obliquely transmitted through the light transmitting portion irradiates the portion which should not be originally irradiated. As a result, there is a problem that a high modeling accuracy cannot be obtained.

【0005】さらに、面光源は、必要以上に発散し、液
晶マスクの周辺も照射してしまうため、無駄が多く、光
源の光利用効率が極めて低い。このため、光硬化樹脂の
照射面において所定の照度を保つためには、大量の電力
を必要とするという問題点がある。
Further, since the surface light source diverges more than necessary and illuminates the periphery of the liquid crystal mask, it is wasteful and the light utilization efficiency of the light source is extremely low. Therefore, there is a problem that a large amount of electric power is required to maintain a predetermined illuminance on the irradiation surface of the photocurable resin.

【0006】一方、造形精度および光利用効率が高い光
造形装置として、形状データに基づいて、レーザービー
ムを光硬化樹脂に照射するものが知られている。しか
し、この光造形装置では、レーザービームを光硬化樹脂
にスポット的に照射するものであるため、1つの造形物
を造形するために、長時間を必要とする問題点がある。
On the other hand, as an optical modeling apparatus having high modeling accuracy and high light utilization efficiency, there is known one which irradiates a photocurable resin with a laser beam based on shape data. However, in this optical modeling apparatus, since the laser beam is applied to the photo-curing resin in a spot manner, there is a problem that it takes a long time to model one molded article.

【0007】本発明は、このような問題点に鑑みなされ
たものであり、その主たる目的は、比較的短時間で、か
つ高い精度で造形物を造形することができる光造形装置
を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and its main object is to provide an optical molding apparatus capable of molding a molded object with high accuracy in a relatively short time. It is in.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、請求項1に係る光造形装置は、光源部からの光
を、目的形状に応じた形状データに基づいて駆動した液
晶マスクの透光部を通して光硬化樹脂に照射し、照射し
た部分を硬化させて目的形状の造形物を造形する光造形
装置において、液晶マスクに対して平行に光源部を移動
する移動手段と、液晶マスクと光硬化樹脂との間に配設
され、液晶マスクの透光部を透過した光を結像する結像
素子とを備え、光源部は、光源部の移動方向に対して直
角でかつ液晶マスクに平行に延びている実質的に長尺な
光源と、光源からの光を液晶マスクに向けて反射させる
レフレクタとを備えていることを特徴とする。
In order to achieve such an object, an optical modeling apparatus according to a first aspect of the present invention is a transparent object of a liquid crystal mask in which light from a light source unit is driven based on shape data corresponding to an intended shape. In a stereolithography apparatus that irradiates a photo-curable resin through a light section and cures the irradiated section to model an object having a desired shape, a moving unit that moves a light source section parallel to a liquid crystal mask, a liquid crystal mask and a light source. The light source section is disposed between the light-curing resin and the light-transmitting section of the liquid crystal mask. The light source section is perpendicular to the moving direction of the light source section and parallel to the liquid crystal mask. And a reflector for reflecting the light from the light source toward the liquid crystal mask.

【0009】請求項2に係る光造形装置は、請求項1記
載の光造形装置において、光源部と液晶マスクとの間に
熱線を減衰させる熱線減衰フィルタが配設されているこ
とを特徴とする。
A stereolithography apparatus according to a second aspect is the stereolithography apparatus according to the first aspect, characterized in that a heat ray attenuation filter for attenuating heat rays is disposed between the light source section and the liquid crystal mask. .

【0010】請求項3に係る光造形装置は、請求項2記
載の光造形装置において、熱線減衰フィルタとの間で送
風路を構成する耐熱ガラスと、送風路に送風する送風手
段とを備えたことを特徴とする。
A stereolithography apparatus according to a third aspect is the stereolithography apparatus according to the second aspect, which is provided with heat-resistant glass forming a ventilation path between the heat ray attenuation filter and a blowing means for blowing air to the ventilation path. It is characterized by

【0011】請求項4に係る光造形装置は、請求項1か
ら3のいずれかに記載の光造形装置において、光源から
の光を集光して液晶マスクを照射する耐熱性で長尺な第
1の円柱レンズを光源と平行に配設したことを特徴とす
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a stereolithography apparatus according to any one of the first to third aspects, which is heat-resistant and long and which collects light from a light source to irradiate a liquid crystal mask. The first cylindrical lens is arranged parallel to the light source.

【0012】請求項5に係る光造形装置は、請求項1か
ら4のいずれかに記載の光造形装置において、光源から
の光を集光して液晶マスクを照射する、耐熱性で長尺な
第2の円柱レンズを光源と直角に配設したことを特徴と
する。
A stereolithography apparatus according to a fifth aspect is the stereolithography apparatus according to any one of the first to fourth aspects, in which light from a light source is condensed to illuminate a liquid crystal mask, which is heat-resistant and long. The second cylindrical lens is arranged at a right angle to the light source.

【0013】請求項6に係る光造形装置は、請求項1か
ら5のいずれかに記載の光造形装置において、光源は、
メタルハライドランプで構成されていることを特徴とす
る。
A stereolithography apparatus according to a sixth aspect is the stereolithography apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein the light source is
It is characterized by being composed of a metal halide lamp.

【0014】請求項7に係る光造形装置は、請求項1か
ら6のいずれかに記載の光造形装置において、光源は、
複数のランプを液晶マスクと平行に並設したことを特徴
とする。
A stereolithography apparatus according to a seventh aspect is the stereolithography apparatus according to any one of the first to sixth aspects, wherein the light source is
It is characterized in that a plurality of lamps are arranged in parallel with the liquid crystal mask.

【0015】[0015]

【作用】請求項1から7に係る光造形装置では、液晶マ
スクが、形状データに基づいて駆動され、液晶マスクが
作動すると、透光部を通して光が光硬化樹脂に照射され
る。照射された光硬化樹脂は、硬化して目的形状の造形
物の一部を構成する。次いで、移動手段が、液晶マスク
に対して平行に光源部を移動させ、その位置で、同じよ
うに光硬化樹脂を照射する。このように、光源部が連続
して移動し、光硬化樹脂を硬化させることによって、光
硬化樹脂が切れ目なく硬化して、目的形状の造形物の1
層目が造形される。このプロセスを2層目以降も繰り返
して、立体的な造形物が造形される。この場合、液晶マ
スクを部分的に照射すればよいので、照射光による熱の
発生を少なくすることができる結果、液晶マスクの過度
の温度上昇を防止することができ、熱による変形や誤動
作によって造形精度を低下させることがない。また、光
源が実質的に長尺のため、同時にある程度広い領域を照
射することができるので、レーザービームでスポット的
に照射する場合に比較して、短時間で目的形状の造形物
を造形する。さらに、レフレクタが、光源からの光を液
晶マスクに向けて反射させるため、不要になる光が少な
くなる。この結果、光利用効率が向上し、同時に省電力
化が図られる。
In the stereolithography apparatus according to the first to seventh aspects, the liquid crystal mask is driven based on the shape data, and when the liquid crystal mask operates, the photocurable resin is irradiated with light through the light transmitting portion. The irradiated photo-curable resin is cured to form a part of the object having the target shape. Next, the moving unit moves the light source unit in parallel with the liquid crystal mask, and irradiates the position with the photocurable resin in the same manner. In this way, the light source section is continuously moved to cure the photocurable resin, whereby the photocurable resin is cured without interruption, and the molded article 1 having the desired shape is obtained.
Layers are modeled. This process is repeated for the second and subsequent layers to form a three-dimensional object. In this case, since it is sufficient to partially irradiate the liquid crystal mask, it is possible to reduce the generation of heat due to the irradiation light. As a result, it is possible to prevent the temperature of the liquid crystal mask from excessively rising, and the deformation or malfunction due to heat may cause modeling. The accuracy is not reduced. Further, since the light source is substantially long, it is possible to irradiate a relatively wide area at the same time, so that a modeled object having a target shape can be formed in a shorter time than in the case of spotwise irradiation with a laser beam. Furthermore, since the reflector reflects the light from the light source toward the liquid crystal mask, unnecessary light is reduced. As a result, the light utilization efficiency is improved, and at the same time, power saving is achieved.

【0016】また、液晶マスクと光硬化樹脂との間に配
設されている結像素子が、液晶マスクの透光部を透過し
た光を集光し、集光した光を光硬化樹脂の上に結像す
る。この場合、結像素子は、当該結像素子の画角内から
入射した光のみを結像すると共に、その画角外から入射
した光を反射するため、光硬化樹脂のうち、液晶マスク
の透光部に対応する部分のみを照射する。この結果、照
射すべき部分と照射すべきでない部分との境界が明らか
になるので、造形精度が向上する。
Further, an image forming element arranged between the liquid crystal mask and the photo-curing resin collects the light transmitted through the light-transmitting portion of the liquid crystal mask, and collects the collected light on the photo-curing resin. Image on. In this case, since the image forming element forms an image of only the light incident from within the angle of view of the image forming element and reflects the light incident from outside the angle of view, the transparent resin of the liquid crystal mask of the photo-curing resin is used. Only the part corresponding to the light part is illuminated. As a result, the boundary between the portion to be irradiated and the portion not to be irradiated becomes clear, so that the modeling accuracy is improved.

【0017】請求項2および3に係る光造形装置では、
光源部と液晶マスクとの間に配設されている熱線減衰フ
ィルタが、光源からの光のうち熱線を減衰させるため、
液晶マスクは、変形や誤動作がより防止されて適正な環
境下で作動するので、造形精度の低下を防止することが
できる。また、熱線減衰フィルタと耐熱ガラスの間を送
風路にし、送風手段が、送風路に向けて送風すること
で、光源の光が集中する熱線減衰フィルタを重点的に冷
却する。このため、熱線減衰フィルタからの輻射熱によ
る液晶マスクの変形や誤動作をより防止して、造形精度
の低下を防止することができる。しかも、送風路が予め
形成されているので、風の通りが良くなる結果、装置全
体を送風する場合に比較して少ない送風量で、効率良く
熱線減衰フィルタを冷却することができる。
In the stereolithography apparatus according to claims 2 and 3,
The heat ray attenuation filter disposed between the light source unit and the liquid crystal mask attenuates heat rays of the light from the light source,
Since the liquid crystal mask is prevented from being deformed or malfunctioned and operates in an appropriate environment, it is possible to prevent a decrease in modeling accuracy. Further, the air path is provided between the heat ray attenuation filter and the heat resistant glass, and the air blowing means blows air toward the air passage to cool the heat ray attenuation filter on which the light of the light source is concentrated. For this reason, it is possible to further prevent deformation and malfunction of the liquid crystal mask due to radiant heat from the heat ray attenuation filter, and prevent deterioration of modeling accuracy. Moreover, since the air passage is formed in advance, the air flow is improved, and as a result, it is possible to efficiently cool the heat ray attenuation filter with a smaller air flow amount than in the case of blowing the entire device.

【0018】請求項4および5に係る光造形装置では、
長尺な光源と平行に配設されている第1の円柱レンズ、
および、光源と直角に配設されている第2の円柱レンズ
が、それぞれ、光源の軸に対して直角および平行に発散
する光を集光して液晶マスクを照射するため、光源の光
利用効率が向上する。この場合、第1および第2の円柱
レンズは、耐熱性であるため変形などすることがないの
で、光の屈折率が変わらず、この結果、造形精度を低下
させることがない。また、両円柱レンズは、長尺にそれ
ぞれ形成されているので、広い領域の光を集光すること
ができ、両者を共に用いることで、光源に平行および直
角な両方光に対しての広い領域の光を集光することがで
きるので、より光利用効率が高くなり、紫外線硬化樹脂
を短時間で硬化させることができる。
In the stereolithography apparatus according to claims 4 and 5,
A first cylindrical lens arranged parallel to the elongated light source,
Further, the second cylindrical lens arranged at right angles to the light source collects light diverging at right angles and parallel to the axis of the light source and irradiates the liquid crystal mask, so that the light use efficiency of the light source is increased. Is improved. In this case, since the first and second cylindrical lenses are heat resistant and thus are not deformed, the refractive index of light does not change, and as a result, the molding accuracy is not reduced. Further, since both cylindrical lenses are formed to be long, they can collect light in a wide area, and by using both together, a wide area for both light parallel and perpendicular to the light source can be obtained. Since the light can be condensed, the light utilization efficiency is further increased, and the ultraviolet curable resin can be cured in a short time.

【0019】請求項6に係る光造形装置では、光源は、
メタルハライドランプで構成されているので、内部の金
属蒸気の量や成分を変えることにより、容易に、光硬化
樹脂の特性に合った波長、すなわち、光硬化樹脂が硬化
するのに適した波長の光を出射することができる。この
ため、光硬化樹脂を短時間で硬化させることができる。
また、メタルハライドランプを用いることにより、それ
自体で長尺な光源として使用することができる。
In the stereolithography apparatus according to claim 6, the light source is
As it is composed of a metal halide lamp, by changing the amount and composition of the metal vapor inside, it is easy to use the light of the wavelength that matches the characteristics of the photo-curing resin, that is, the wavelength suitable for curing the photo-curing resin. Can be emitted. Therefore, the photocurable resin can be cured in a short time.
Further, by using a metal halide lamp, it can be used as a long light source by itself.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の好適な一実施例を、図面を参
照しながら、詳細に説明する。図1は、本発明を適用し
た光造形装置1の構成を示している。この光造形装置1
は、紫外線硬化樹脂(光硬化樹脂)を硬化させることに
より、おもちゃのひな形などを製造することができるよ
うになっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the configuration of a stereolithography apparatus 1 to which the present invention is applied. This stereolithography device 1
Is capable of producing a toy template or the like by curing an ultraviolet curable resin (photocurable resin).

【0021】光造形装置1は、光造形部2、樹脂槽3、
光源スキャン用Xステージ4、第1コントローラ5、エ
レベータ用Zステージ6、第2コントローラ7、液晶駆
動用ドライバー8、シャッター駆動部9、CPU10お
よびファン(送風手段)11を備えている。
The stereolithography apparatus 1 comprises a stereolithography section 2, a resin tank 3,
The light source scanning X stage 4, the first controller 5, the elevator Z stage 6, the second controller 7, the liquid crystal driving driver 8, the shutter driving unit 9, the CPU 10, and the fan (blowing unit) 11 are provided.

【0022】光造形部2は、後に詳述するが、樹脂槽3
内に貯留された粘性を有し液状の紫外線硬化樹脂12の
液面に紫外線を照射することによって、紫外線硬化樹脂
12を硬化させる。
The stereolithography section 2, which will be described in detail later, is a resin tank 3
The ultraviolet curable resin 12 is cured by irradiating the liquid surface of the liquid ultraviolet curable resin 12 having viscosity stored therein with ultraviolet rays.

【0023】光源スキャン用Xステージ4は、同図に示
す矢印X方向に光造形部2を移動するように構成されて
おり、第1コントローラ5が、CPU10から出力され
るX方向移動データに基づいて光源スキャン用Xステー
ジ4を駆動する。エレベータ用Zステージ6は、硬化し
た硬化性樹脂層により造形された造形物を保持するステ
ージ14を備えると共に同図に示す矢印Z方向にステー
ジ14を移動する。第2コントローラ7は、CPU10
から出力されるZ方向移動データに基づいてエレベータ
用Zステージ6の移動を制御する。液晶駆動用ドライバ
ー8は、後述する液晶マスク26の各画素のオン/オフ
を、CPU10から出力される1層毎の平面形状データ
に基づいて制御する。シャッター駆動部9は、液晶マス
ク26への照射光を遮断するシャッター28を駆動す
る。CPU10は、図示しないCAD(Computer Aided
Design )装置から出力されるCADデータに基づい
て、目的形状に応じた平面形状データを液晶駆動用ドラ
イバー8に出力すると共に、第1コントローラ5にX方
向移動データを出力すると共に、第2コントローラ7に
Z方向移動データを出力する。
The light source scanning X-stage 4 is constructed so as to move the stereolithography section 2 in the direction of the arrow X shown in the figure, and the first controller 5 is based on the X-direction movement data output from the CPU 10. Drive the X stage 4 for light source scanning. The elevator Z stage 6 includes a stage 14 that holds a modeled object formed by a cured curable resin layer, and moves the stage 14 in the arrow Z direction shown in FIG. The second controller 7 is the CPU 10
The movement of the elevator Z stage 6 is controlled based on the Z direction movement data output from The liquid crystal driving driver 8 controls ON / OFF of each pixel of the liquid crystal mask 26, which will be described later, based on planar shape data for each layer output from the CPU 10. The shutter drive unit 9 drives the shutter 28 that blocks the irradiation light to the liquid crystal mask 26. The CPU 10 is a CAD (Computer Aided) not shown.
Design) based on the CAD data output from the device, the plane shape data corresponding to the target shape is output to the liquid crystal driving driver 8, the X direction movement data is output to the first controller 5, and the second controller 7 is output. The Z-direction movement data is output to.

【0024】次に、光造形部2について詳細に説明す
る。光造形部2は、図2に示すように、メタルハライド
ランプ(光源)21と、ダイクロイック楕円ミラー(レ
フレクタ)22と、熱線減衰フィルタ23と、石英板
(耐熱ガラス)25と、液晶マスク26と、等倍結像素
子(結像素子)27と、シャッター28(図1参照)
と、スキージ13とを備えている。
Next, the stereolithography section 2 will be described in detail. As shown in FIG. 2, the stereolithography unit 2 includes a metal halide lamp (light source) 21, a dichroic elliptical mirror (reflector) 22, a heat ray attenuation filter 23, a quartz plate (heat resistant glass) 25, a liquid crystal mask 26, An equal-magnification imaging element (imaging element) 27 and a shutter 28 (see FIG. 1)
And a squeegee 13.

【0025】メタルハライドランプ21は、光源として
機能する長尺の高輝度放電ランプである。メタルハライ
ドランプ21は、内部に封入する金属蒸気の量や成分を
変えることによって、出射する光の波長を変えることが
できるように構成されており、使用する紫外線硬化樹脂
12を硬化するのに適した波長の光を出射することがで
きる。
The metal halide lamp 21 is a long high-intensity discharge lamp that functions as a light source. The metal halide lamp 21 is configured so that the wavelength of emitted light can be changed by changing the amount and composition of the metal vapor sealed inside, and it is suitable for curing the ultraviolet curable resin 12 used. Light of a wavelength can be emitted.

【0026】ダイクロイック楕円ミラー22は、メタル
ハライドランプ21が出射した光のうち紫外線近辺の波
長の光を反射し、他の波長の光(熱線)を透過するよう
に構成されている。ダイクロイック楕円ミラー22は、
その縦断面が楕円の一部を切り欠いた形状になってい
る。そして、その楕円の一方の焦点の近辺には、メタル
ハライドランプ21が配設され、他方の焦点近辺には、
樹脂槽3の液面が位置するようになっている。このた
め、メタルハライドランプ21が出射した光のうちダイ
クロイック楕円ミラー22によって反射される光は、他
方の焦点近辺である樹脂槽3の液面側に導かれる。な
お、ダイクロイック楕円ミラー22の上部には、切欠き
部22aが設けられており、ダイクロイック楕円ミラー
22の内側にこもった熱気は切欠き部22aから排気さ
れる。
The dichroic elliptical mirror 22 is configured to reflect light having a wavelength in the vicinity of ultraviolet rays among the light emitted from the metal halide lamp 21 and to transmit light having a different wavelength (heat rays). The dichroic elliptical mirror 22
The vertical cross section has a shape in which a part of an ellipse is cut out. Then, the metal halide lamp 21 is arranged near one focus of the ellipse, and near the other focus.
The liquid surface of the resin tank 3 is positioned. Therefore, of the light emitted from the metal halide lamp 21, the light reflected by the dichroic elliptical mirror 22 is guided to the liquid surface side of the resin tank 3 near the other focal point. A cutout portion 22a is provided in the upper portion of the dichroic elliptical mirror 22, and hot air trapped inside the dichroic elliptical mirror 22 is exhausted from the cutout portion 22a.

【0027】熱線減衰フィルタ23は、熱線(赤外線成
分)だけを反射して紫外線を透過する。これにより、熱
線が遮断されて液晶マスク26等の過度の加熱が防止さ
れる。なお、熱線減衰フィルタ23の上部には、複数の
反射フィン24,24・・がメタルハライドランプ21
の軸方向に沿って立設されている。反射フィン24・・
は、メタルハライドランプ21の軸方向に発散した光を
熱線減衰フィルタ23側に反射することにより、光利用
効率を向上させる。
The heat ray attenuation filter 23 reflects only heat rays (infrared ray components) and transmits ultraviolet rays. As a result, the heat rays are blocked, and excessive heating of the liquid crystal mask 26 and the like is prevented. A plurality of reflection fins 24, 24, ... Are provided above the heat ray attenuation filter 23.
Are erected along the axial direction of. Reflection fin 24 ...
Reflects the light diverging in the axial direction of the metal halide lamp 21 toward the heat ray attenuation filter 23 side, thereby improving the light utilization efficiency.

【0028】石英板25は、熱線減衰フィルタ23との
間で送風路30を構成している。そして、送風手段11
が送風路30に冷気を送風することにより、メタルハラ
イドランプ21から出射された光によって発熱した熱線
減衰フィルタ23などを冷却する。
The quartz plate 25 constitutes an air passage 30 together with the heat ray attenuation filter 23. And the blower means 11
Sends cool air to the air passage 30 to cool the heat ray attenuation filter 23 and the like that are heated by the light emitted from the metal halide lamp 21.

【0029】液晶マスク26は、造形物の造形精度に適
した画素数を有しており、光シャッターとして機能す
る。液晶マスク26の画素は、CPU10が出力する平
面形状データに基づいて、液晶用ドライバー8によって
駆動されて透光部および遮蔽部を構成し、透光部がメタ
ルハライドランプ21の光を透過する。
The liquid crystal mask 26 has the number of pixels suitable for the modeling accuracy of the modeled object, and functions as an optical shutter. The pixels of the liquid crystal mask 26 are driven by the liquid crystal driver 8 based on the planar shape data output from the CPU 10 to form a light transmitting portion and a light shielding portion, and the light transmitting portion transmits the light of the metal halide lamp 21.

【0030】等倍結像素子27は、円柱状の屈折率分布
型レンズを格子状に複数配列することにより構成されて
いる。また、等倍率結像素子27は、入射した像の大き
さに対し、結像エリア上に投影された像の大きさがほぼ
等しくなるような関係で、つまり等倍率で照射するよう
に配置され、上面側から所定の画角で入射した光のみを
集光して紫外線硬化樹脂12に照射すると共に、その所
定画角外から入射した光を反射させる。
The equal-magnification imaging element 27 is constructed by arranging a plurality of cylindrical gradient index lenses in a grid pattern. Further, the equal-magnification imaging element 27 is arranged so that the size of the image projected on the imaging area is almost equal to the size of the incident image, that is, the uniform-magnification is applied. , Only the light incident from the upper surface side at a predetermined angle of view is condensed and applied to the ultraviolet curing resin 12, and the light incident from outside the predetermined angle of view is reflected.

【0031】スキージ13は、造形部2の下側の前後端
部に取り付けられており、造形部2が移動する際に、図
1の矢印X方向に移動させられることで、樹脂槽3の液
面を平坦にする。
The squeegee 13 is attached to the front and rear ends of the lower side of the modeling section 2, and when the modeling section 2 moves, it is moved in the direction of the arrow X in FIG. Make the surface flat.

【0032】次に、光造形装置1の動作について説明す
る。
Next, the operation of the optical modeling apparatus 1 will be described.

【0033】CPU10は、内蔵のインターフェース回
路を介してCAD装置から入力されたCADデータを予
めストアする。次いで、エレベータ用Zステージ6をZ
方向に移動させるためのZ方向移動データを第2コント
ローラ7に出力して、1層分の紫外線硬化樹脂、つま
り、1回の照射により紫外線硬化樹脂12を硬化する厚
さ分だけ、ステージ14を樹脂槽3内に沈める。次に、
CPU10は、第1コントローラにX方向移動データを
出力し、造形部2をX方向に往復動させることによっ
て、スキージ13で樹脂層3の液面を平坦にした後、C
ADデータに基づいた平面形状データを液晶駆動用ドラ
イバー8に出力する。液晶駆動用ドライバー8は、平面
形状データに基づいて、液晶マスク26を駆動する。
The CPU 10 stores in advance the CAD data input from the CAD device via the built-in interface circuit. Then, move the elevator Z stage 6 to Z
The Z-direction movement data for moving the stage 14 is output to the second controller 7, and the stage 14 is moved by the thickness of one layer of the ultraviolet curable resin, that is, the thickness of curing the ultraviolet curable resin 12 by one irradiation. Submerge in the resin tank 3. next,
The CPU 10 outputs movement data in the X direction to the first controller, and reciprocates the modeling unit 2 in the X direction to flatten the liquid surface of the resin layer 3 with the squeegee 13, and then C
The plane shape data based on the AD data is output to the liquid crystal driver 8. The liquid crystal driver 8 drives the liquid crystal mask 26 based on the plane shape data.

【0034】その後、CPU10は、シャッター駆動デ
ータをシャッター駆動部9に出力して、シャッター28
を開いて、メタルハライドランプ21が液晶マスク26
を照射できるようにする。次いで、CPU10は、ファ
ン11を駆動すると共に、メタルハライドランプ21を
点灯させる。これにより、メタルハライドランプ21か
らの光が液晶マスク26を照射する。
After that, the CPU 10 outputs the shutter drive data to the shutter drive unit 9 and the shutter 28
Open the metal halide lamp 21
To be able to irradiate. Next, the CPU 10 drives the fan 11 and turns on the metal halide lamp 21. As a result, the light from the metal halide lamp 21 illuminates the liquid crystal mask 26.

【0035】この場合、図3に示すように、メタルハラ
イドランプ21が出射した光のうちの一部は、熱線減衰
フィルタ23を透過して液晶マスク26を直接照射し、
他の一部は、メタルハライドランプ22の内壁によって
反射された後、熱線減衰フィルタ23を透過して液晶マ
スク26を照射する。また、図4に示すように、メタル
ハライドランプ21の軸方向に発散する光は、反射フィ
ン24によって下向きに反射して、熱線減衰フィルタ2
3を透過して液晶マスク26を照射する。
In this case, as shown in FIG. 3, a part of the light emitted from the metal halide lamp 21 passes through the heat ray attenuation filter 23 and directly illuminates the liquid crystal mask 26,
The other part is reflected by the inner wall of the metal halide lamp 22, then passes through the heat ray attenuation filter 23, and irradiates the liquid crystal mask 26. Further, as shown in FIG. 4, the light diverging in the axial direction of the metal halide lamp 21 is reflected downward by the reflecting fins 24, and the heat ray attenuation filter 2
Then, the liquid crystal mask 26 is irradiated with the light passing through 3.

【0036】液晶マスク26に照射された光のうち、平
面形状データに基づいて作動した液晶マスク26の透光
部を照射する光のみが、等倍率素子27の上面に入射す
る。等倍結像素子27は、液晶マスク26の透光部を透
過した光のうち所定の画角で入射した光のみを集光して
紫外線硬化樹脂12を照射するため、光硬化樹脂12の
うち、液晶マスク26の遮光部に対応する部分のみが照
射される。この結果、照射すべき部分と照射すべきでな
い部分との境界が明らかになるので、造形精度を向上さ
せることができる。
Of the light radiated to the liquid crystal mask 26, only the light radiated to the transparent portion of the liquid crystal mask 26 operated based on the planar shape data is incident on the upper surface of the unit magnification element 27. Since the equal-magnification imaging element 27 collects only the light that has been incident through the light-transmitting portion of the liquid crystal mask 26 and is incident at a predetermined angle of view and irradiates the ultraviolet curable resin 12, the same is included in the photocurable resin 12. Only the portion of the liquid crystal mask 26 corresponding to the light shielding portion is irradiated. As a result, the boundary between the portion to be irradiated and the portion not to be irradiated becomes clear, so that the modeling accuracy can be improved.

【0037】等倍率素子27から出射した光はステージ
14上の紫外線硬化樹脂12を照射し、これにより、紫
外線硬化樹脂12が硬化して、光硬化性樹脂層が形成さ
れる。
The light emitted from the unity magnification element 27 irradiates the ultraviolet curable resin 12 on the stage 14, whereby the ultraviolet curable resin 12 is cured and a photocurable resin layer is formed.

【0038】CPU10は、光造形部2を連続して移動
させるように、第1コントローラ5にX方向移動データ
を出力する。なお、この際、液晶マスク26を除く、光
造形部2の他のすべての構成要素が一体的に移動する。
これにより、1層分の光硬化性樹脂層が形成される。
The CPU 10 outputs X-direction movement data to the first controller 5 so as to continuously move the stereolithography unit 2. At this time, all the other components of the stereolithography unit 2 except the liquid crystal mask 26 move integrally.
As a result, one layer of photocurable resin layer is formed.

【0039】次に、CPU10は、メタルハライドラン
プ21からの光が樹脂槽3内の紫外線硬化樹脂12を照
射しないように、シャッター28を閉じさせて光の照射
路を遮断する。次に、CPU10は、第2コントローラ
7にZ方向移動データを出力して、更に一層分だけステ
ージ14を樹脂槽3内に沈める。次いで、CPU10
は、シャッター28を開いて光の照射路を開放した後、
前述した一連のプロセスを繰り返す。これにより、2層
目の硬化性樹脂層が形成される。以上のプロセスを繰り
返すことにより、立体的形状の造形物がステージ28上
に造形される。
Next, the CPU 10 closes the shutter 28 to shut off the light irradiation path so that the light from the metal halide lamp 21 does not irradiate the ultraviolet curable resin 12 in the resin tank 3. Next, the CPU 10 outputs the Z-direction movement data to the second controller 7, and further sinks the stage 14 into the resin tank 3 by one layer. Then, the CPU 10
After opening the shutter 28 to open the light irradiation path,
The series of processes described above is repeated. As a result, the second curable resin layer is formed. By repeating the above process, a three-dimensional shaped object is formed on the stage 28.

【0040】以上のように、第1実施例では、液晶マス
ク26を部分的に照射すればよいので、照射光による熱
の発生を少なくすることができる結果、液晶マスク26
の過度の温度上昇を防止することができるので、液晶マ
スク26の変形や誤動作を有効に防止することができ、
造形精度を低下させることがない。さらに、ダイクロイ
ック楕円ミラー22が、メタルハライドランプ21から
の光を液晶マスク26に向けて反射するので、不要にな
る光が少なくなり、この結果、光利用効率が向上し、同
時に省電力化を図り、紫外線硬化樹脂12の硬化時間を
短縮することができる。さらに、熱線減衰フィルタ23
が、光源からの光のうち熱線を減衰させるため、液晶マ
スク26は、過度に加熱されることがなく、より適正な
環境下で作動する。
As described above, in the first embodiment, since the liquid crystal mask 26 may be partially irradiated, heat generated by the irradiation light can be reduced, and as a result, the liquid crystal mask 26 can be reduced.
Since it is possible to prevent an excessive rise in temperature, it is possible to effectively prevent deformation and malfunction of the liquid crystal mask 26,
It does not reduce the molding accuracy. Furthermore, since the dichroic elliptical mirror 22 reflects the light from the metal halide lamp 21 toward the liquid crystal mask 26, unnecessary light is reduced, and as a result, the light utilization efficiency is improved, and at the same time, power saving is achieved. The curing time of the ultraviolet curable resin 12 can be shortened. Furthermore, the heat ray attenuation filter 23
However, since the heat rays of the light from the light source are attenuated, the liquid crystal mask 26 is not overheated and operates in a more appropriate environment.

【0041】また、光源は、メタルハライドランプ21
で構成されているので、内部の金属蒸気の量や成分を変
えることにより、容易に、紫外線硬化樹脂12の特性に
合った波長、すなわち、紫外線硬化樹脂12が硬化する
のに適した波長の光を出射することができる。このた
め、紫外線硬化樹脂を短時間で硬化させることができ
る。また、メタルハライドランプ21を用いることによ
り、それ自体で長尺な光源として使用することができ、
一時にある程度広い領域を照射することができるため、
レーザーブームにより照射する場合に比較して、短時間
で目的形状の造形物を造形することができる。
The light source is the metal halide lamp 21.
Therefore, by changing the amount and composition of the metal vapor inside, it is possible to easily obtain a light having a wavelength suitable for the characteristics of the ultraviolet curable resin 12, that is, a wavelength suitable for curing the ultraviolet curable resin 12. Can be emitted. Therefore, the ultraviolet curable resin can be cured in a short time. Further, by using the metal halide lamp 21, it can be used as a long light source by itself,
Because it is possible to irradiate a large area at a time,
Compared with the case of irradiating with a laser boom, it is possible to model a desired shape in a short time.

【0042】さらに、等倍率素子27によって、造形物
の造形精度を高めることができる。なお、等倍結像素子
27は、1枚の集光レンズによって構成してもよい。ま
た、送風路30に送風することで、メタルハライドラン
プ21の光が集中する熱線減衰フィルタ23を重点的に
冷却することができる。このため、熱線減衰フィルタ2
3からの輻射熱による液晶マスク26の変形や誤動作を
防止して、造形精度の低下をより防止することができ
る。しかも、送風路30が予め形成されているので風の
通りが良くなる結果、装置全体を送風する場合に比較し
て少ない送風量で、効率良く熱線減衰フィルタ23を冷
却することができる。
Further, the unity magnification element 27 can enhance the modeling accuracy of the modeled object. It should be noted that the equal-magnification imaging element 27 may be composed of a single condenser lens. Further, the heat ray attenuation filter 23 in which the light of the metal halide lamp 21 is concentrated can be intensively cooled by blowing the air to the air passage 30. Therefore, the heat ray attenuation filter 2
It is possible to prevent the deformation and malfunction of the liquid crystal mask 26 due to the radiant heat from No. 3 and to further prevent the deterioration of modeling accuracy. In addition, since the air passage 30 is formed in advance, the flow of air is improved. As a result, the heat ray attenuation filter 23 can be efficiently cooled with a smaller amount of air compared to the case of blowing the entire device.

【0043】次に、第2実施例について、図5を参照し
て説明する。第2実施例が第1実施例と異なる点は、シ
リンドリカルレンズ(第1の円柱レンズ)41をさらに
備え、石英ガラス25の代わりに多配列シリンドリカル
レンズ(第2の円柱レンズ)42を用いていること、お
よび等倍率素子27を複数備えたことである。なお、第
1実施例と同じ構成要素については、同一の符号を使用
し、その説明を省略する。
Next, the second embodiment will be described with reference to FIG. The second embodiment differs from the first embodiment in that a cylindrical lens (first cylindrical lens) 41 is further provided, and a multi-array cylindrical lens (second cylindrical lens) 42 is used instead of the quartz glass 25. That is, a plurality of equal-magnification elements 27 are provided. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0044】シリンドリカルレンズ41は、断面が半円
形状で長尺の耐熱レンズであり、メタルハライドランプ
21と平行に配設されている。多配列シリンドリカルレ
ンズ42は、シリンドリカルレンズ41よりも断面積が
小さい複数のシリンドリカルレンズを、メタルハライド
ランプ21の軸方向と直角に並設して構成されている。
The cylindrical lens 41 is a long heat-resistant lens having a semicircular cross section and is arranged parallel to the metal halide lamp 21. The multi-array cylindrical lens 42 is configured by arranging a plurality of cylindrical lenses each having a smaller cross-sectional area than the cylindrical lens 41 in parallel with the axial direction of the metal halide lamp 21.

【0045】この第2実施例によれば、図6に示すよう
に、メタルハライドランプ21から出射された光は、シ
リンドリカルレンズ41によって発散角を狭められ、熱
線減衰フィルタ23および多配列シリンドリカルレンズ
42を透過して、液晶マスク26を照射する。この場
合、シリンドリカルレンズ41は、メタルハライドラン
プ21の軸に対して直角に発散して液晶マスク26の脇
を本来通過してしまうメタルハライドランプ21の出射
光を、液晶マスク26を照射するように集光することに
より、液晶マスク26を照射する光の照度を強めてい
る。これにより、メタルハライドランプ21の光利用効
率が向上する。また、シリンドリカルレンズ41は、耐
熱性であるため、変形などすることがないので、光の屈
折率が変わらずこの結果、造形精度を低下させることが
ない。また、シリンドリカルレンズ41は、長尺に形成
されているので、広い領域の光を集光することができ、
この結果、光利用効率が高くなり、紫外線硬化樹脂を短
時間で硬化させることができるる。なお、同図に、レン
ズの径を大きくしたシリンドリカルレンズ43を点線で
示しているが、この場合には、シリンドリカルレンズ4
3に入射する光量が大きくなるため、メタルハライドラ
ンプ21の光利用効率がより向上する。
According to this second embodiment, as shown in FIG. 6, the divergence angle of the light emitted from the metal halide lamp 21 is narrowed by the cylindrical lens 41, and the light is attenuated by the heat ray attenuation filter 23 and the multi-array cylindrical lens 42. After passing through, the liquid crystal mask 26 is illuminated. In this case, the cylindrical lens 41 condenses light emitted from the metal halide lamp 21 that diverges at right angles to the axis of the metal halide lamp 21 and originally passes by the side of the liquid crystal mask 26 so as to irradiate the liquid crystal mask 26. By doing so, the illuminance of the light that illuminates the liquid crystal mask 26 is increased. This improves the light utilization efficiency of the metal halide lamp 21. Further, since the cylindrical lens 41 is heat-resistant, it does not deform, so the refractive index of light does not change, and as a result, the modeling accuracy does not decrease. Further, since the cylindrical lens 41 is formed to be long, it can collect light in a wide area,
As a result, the light utilization efficiency is increased, and the ultraviolet curable resin can be cured in a short time. In the figure, the cylindrical lens 43 having a larger lens diameter is shown by a dotted line, but in this case, the cylindrical lens 4 is used.
Since the amount of light incident on 3 increases, the light utilization efficiency of the metal halide lamp 21 is further improved.

【0046】また、図7に示すように、多配列シリンド
リカルレンズ42は、メタルハライドランプ21の軸方
向に対して平行な方向に発散して液晶マスク26の脇を
本来通過してしまうメタルハライドランプ21の出射光
を、液晶マスク26を照射するように集光することによ
り、液晶マスク26を照射する光の照度を強めている。
これにより、メタルハライドランプ21に平行方向およ
び直角方向に対して広い領域の光を集光することができ
るので、メタルハライドランプ21の光利用効率がさら
に向上する。
Further, as shown in FIG. 7, the multi-array cylindrical lens 42 of the metal halide lamp 21 which diverges in the direction parallel to the axial direction of the metal halide lamp 21 and originally passes by the side of the liquid crystal mask 26. By converging the emitted light so as to irradiate the liquid crystal mask 26, the illuminance of the light irradiating the liquid crystal mask 26 is enhanced.
As a result, light in a wide area can be condensed in the metal halide lamp 21 in the parallel direction and the right angle direction, so that the light utilization efficiency of the metal halide lamp 21 is further improved.

【0047】さらに、等倍率素子27を3つ備えている
ので、より広い範囲の紫外線硬化樹脂12を一時に硬化
させることができるので、より短時間で造形物を造形す
ることができる。
Furthermore, since the three equal-magnification elements 27 are provided, a wider range of the ultraviolet curable resin 12 can be cured at one time, so that the molded article can be molded in a shorter time.

【0048】次に、第3実施例について、図8を参照し
て説明する。第3実施例が第2実施例と異なる点は、シ
リンドリカルレンズ(耐熱ガラス)41の代わりに多配
列シリンドリカルレンズ44を、多配列シリンドリカル
レンズ42の下側に備えたことである。なお、第1実施
例と同じ構成要素については、同一の符号を使用し、そ
の説明を省略する。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. The third embodiment differs from the second embodiment in that a multi-array cylindrical lens 44 is provided below the multi-array cylindrical lens 42 instead of the cylindrical lens (heat-resistant glass) 41. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0049】第3実施例によれば、多配列シリンドリカ
ルレンズ42,44が共に熱線減衰フィルタ23の下側
に位置しているため、照射光による温度上昇が少なくな
る結果、変形などすることがないので、光の屈折率が変
わらず、造形精度を低下させることがない。また、第2
実施例に比較して、メタルハライドランプ21の軸方向
と直角に発散する光を、より多く集光することができる
ので、紫外線硬化樹脂12をより早く硬化させることが
できる。
According to the third embodiment, since the multi-array cylindrical lenses 42 and 44 are both located under the heat ray attenuation filter 23, the temperature rise due to the irradiation light is reduced, and as a result, there is no deformation. Therefore, the refractive index of light does not change and the modeling accuracy is not reduced. Also, the second
Compared with the embodiment, more light diverging at right angles to the axial direction of the metal halide lamp 21 can be collected, so that the ultraviolet curable resin 12 can be cured more quickly.

【0050】次に、第4実施例について、図9(a),
(b)を参照して説明する。第4実施例が第2実施例と
異なる点は、シリンドリカルレンズ41および多配列シ
リンドリカルレンズ42の代わりに、同図(b)に示す
ようなハニカム状多配列レンズ(耐熱ガラス)45を備
えたことである。なお、第1実施例と同じ構成要素につ
いては、同一の符号を使用し、その説明を省略する。
Next, regarding the fourth embodiment, as shown in FIG.
This will be described with reference to (b). The difference between the fourth embodiment and the second embodiment is that a honeycomb-shaped multi-array lens (heat-resistant glass) 45 as shown in FIG. 2B is provided instead of the cylindrical lens 41 and the multi-array cylindrical lens 42. Is. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0051】第4実施例によれば、ハニカム状多配列レ
ンズ45が、メタルハライドランプ21の軸方向および
それとは直角方向にそれぞれ発散するメタルハライドラ
ンプ21の出射光を同時に集光して液晶マスク26を照
射するため、メタルハライドランプ21の光利用効率が
向上して紫外線硬化樹脂12をより早く硬化させると共
に、第2実施例と比較して1枚のハニカム状多配列レン
ズ45を光造形部2に取り付ければよいため、構造が簡
単になりコストダウンを図ることができる。
According to the fourth embodiment, the honeycomb-shaped multi-array lens 45 simultaneously collects the light emitted from the metal halide lamp 21 diverging in the axial direction of the metal halide lamp 21 and in the direction perpendicular to the axial direction of the metal halide lamp 21, and the liquid crystal mask 26 is formed. Since the irradiation is performed, the light utilization efficiency of the metal halide lamp 21 is improved and the ultraviolet curing resin 12 is cured more quickly, and one honeycomb-shaped multi-array lens 45 can be attached to the stereolithography unit 2 as compared with the second embodiment. Therefore, the structure is simple and the cost can be reduced.

【0052】次に、第5実施例について、図10を参照
して説明する。第5実施例が上述した第1〜第4実施例
と異なる点は、メタルハライドランプ21の代わりに、
光導伝ロッド51を用いて、実質的に長尺な光源を構成
していることである。なお、第1〜第4実施例と同じ構
成要素については、同一の符号を使用し、その説明を省
略する。同図に示すように、第5実施例では、メタルハ
ライドランプ(図示せず)の光を集光して伝導させるラ
イトガイドファイバー52,52と、ライトガイドファ
イバー52,52から出射される光をそれぞれ集光する
集光レンズ53,53と、石英材で長尺な円柱状に形成
され、集光レンズ53,53から出射された光を伝導さ
せる光導伝ロッド51と、光導伝ロッド51の外周面か
ら出射される光を光導伝ロッド51側に反射させる反射
鏡筒54と、集光レンズ53から下方向(液晶マスク2
6方向)に出射された光を光導伝ロッド51内に反射さ
せるための反射板55とを備えている。
Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG. The fifth embodiment differs from the first to fourth embodiments described above in that instead of the metal halide lamp 21,
That is, the light guide rod 51 is used to form a substantially long light source. The same components as those in the first to fourth embodiments are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. As shown in the figure, in the fifth embodiment, the light guide fibers 52, 52 for collecting and transmitting the light of the metal halide lamp (not shown) and the light emitted from the light guide fibers 52, 52, respectively, are shown. Condensing lenses 53, 53 for condensing, an optical transmission rod 51 formed of a quartz material in a long columnar shape and conducting the light emitted from the condensing lenses 53, 53, and an outer peripheral surface of the optical transmission rod 51. From the condenser lens 53 to the downward direction (the liquid crystal mask 2).
And a reflection plate 55 for reflecting the light emitted in the six directions) into the optical transmission rod 51.

【0053】光導伝ロッド51は、上部の一部が軸方向
に沿って面取りされており、面取りされた部分には、薄
肉直方体状に形成され、下側部分に複数の波状の突起部
56,56・・を設けた拡散シート57が貼り付けられ
ている。拡散シート57は、同図に示すように、集光レ
ンズ53から出射されて直接到達した光や、集光レンズ
53から出射され、反射板55で反射して到達した光
を、光導伝ロッド51を介して下方向に反射させる。
A part of the upper portion of the optical transmission rod 51 is chamfered along the axial direction, the chamfered portion is formed in a thin rectangular parallelepiped shape, and a plurality of wavy projections 56, 56 are formed on the lower portion. A diffusion sheet 57 provided with 56 ... Is attached. As shown in the figure, the diffusion sheet 57 transmits the light emitted from the condenser lens 53 and directly reaching it, and the light emitted from the condenser lens 53 and reflected by the reflection plate 55 to reach the light transmission rod 51. Reflect downward through.

【0054】反射鏡筒54は、ほぼ円筒状の形状で、光
伝導ロッド51の外周を覆い、下部が軸方向に沿って所
定幅で切り欠かれており、その内面は、光を反射するよ
うになっている。
The reflecting barrel 54 has a substantially cylindrical shape, covers the outer periphery of the photoconductive rod 51, and has a lower portion cut out along the axial direction with a predetermined width, and its inner surface reflects light. It has become.

【0055】この第5実施例によれば、ライトガイドフ
ァイバー52,52を伝導してきたメタルハライドラン
プの光は、集光レンズ53,53によってそれぞれ集光
され、所定の画角で拡散される。集光レンズ53から直
接入射し、または反射板55で反射した後に光導伝ロッ
ド51に入射し、拡散シート57の突起部56で反射さ
れた光は、光導伝ロッド51内をその軸に対して斜め下
方向に透過してシリンドリカルレンズ41に入射する。
このように、光導伝ロッド51の両側から光を入射させ
る結果、光導伝ロッド51に入射したメタルハライドラ
ンプ光は、シリンドリカルレンズ41をほぼ均一に照射
するため、光導伝ロッド51は実質的に長尺な光源とし
て機能する。また、反射鏡筒54および反射ミラー55
が、光導伝ロッド51内に光を反射させるので、ライト
ガイドファイバー52から出射される光のロスが少なく
なる。
According to the fifth embodiment, the lights of the metal halide lamps which have been conducted through the light guide fibers 52, 52 are condensed by the condenser lenses 53, 53 and diffused at a predetermined angle of view. The light directly entering from the condenser lens 53, or entering the light guide rod 51 after being reflected by the reflecting plate 55, and reflected by the protrusion 56 of the diffusion sheet 57 is directed inside the light guide rod 51 with respect to its axis. The light is transmitted obliquely downward and enters the cylindrical lens 41.
In this way, as a result of making light incident from both sides of the light transmission rod 51, the metal halide lamp light incident on the light transmission rod 51 irradiates the cylindrical lens 41 substantially uniformly, so that the light transmission rod 51 is substantially elongated. Function as a simple light source. Further, the reflecting barrel 54 and the reflecting mirror 55
However, since the light is reflected inside the light guide rod 51, the loss of the light emitted from the light guide fiber 52 is reduced.

【0056】次に、第6実施例について、図11を参照
して説明する。第6実施例が上述した第1〜第5実施例
と異なる点は、メタルハライドランプ21の代わりに、
複数のランプを用いて、実質的に長尺な光源を構成して
いることである。なお、第1〜第5実施例と同じ構成要
素については、同一の符号を使用し、その説明を省略す
る。同図に示すように、第6実施例では、ランプベース
61に並設された複数の水銀キセノンランプ62,62
・・と、レンズベース63に並設され、水銀キセノンラ
ンプ62,62・・が発する光を集光する複数の集光レ
ンズ64,64・・と、集光レンズ64,64・・のレ
ンズ面以外を照射した光が液晶マスク26側を照射する
のを防止する光遮断マスク65と、集光レンズ64,6
4・・が出射した光を拡散させるディフューザ66とを
備えている。
Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG. The sixth embodiment differs from the first to fifth embodiments described above in that instead of the metal halide lamp 21,
That is, a plurality of lamps are used to form a substantially long light source. The same components as those in the first to fifth embodiments are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. As shown in the figure, in the sixth embodiment, a plurality of mercury xenon lamps 62, 62 arranged in parallel on the lamp base 61 are provided.
.. and a plurality of condensing lenses 64, 64 .. which are arranged in parallel on the lens base 63 and condense light emitted from the mercury xenon lamps 62, 62 .. The light blocking mask 65 for preventing the light irradiating other than the light from illuminating the liquid crystal mask 26 side, and the condenser lenses 64, 6
.. and a diffuser 66 for diffusing the light emitted.

【0057】第6実施例では、同図に示すように、水銀
キセノンランプ62が出射した光は、石英板25を介し
て集光レンズ64,64・・に入射すると共に、光遮断
マスク65を照射した光は、そこで遮光される。集光レ
ンズ64に入射した光は所定の画角でディフューザ66
を照射し、そこで拡散されることにより均一化された
後、液晶マスク26を照射する。
In the sixth embodiment, as shown in the figure, the light emitted from the mercury-xenon lamp 62 enters the condenser lenses 64, 64, ... The applied light is blocked there. The light incident on the condenser lens 64 has a predetermined angle of view and is diffuser 66.
The liquid crystal mask 26 is irradiated with the light, and after being made uniform by being diffused therein.

【0058】この第6実施例によれば、並設された複数
の水銀キセノンランプ62が出射する光を集光レンズ6
4で集光し、ディフューザ66によって拡散した後に、
液晶マスク26を照射するため、実質的に長尺な光源と
して機能させることができる。なお、水銀キセノンラン
プ62に限らず、メタルハライドランプやキセノンラン
プなどを用いてもよい。
According to the sixth embodiment, the light emitted from the plural mercury xenon lamps 62 arranged in parallel is condensed by the condenser lens 6.
After condensing with 4 and diffusing with diffuser 66,
Since the liquid crystal mask 26 is irradiated, it can function as a substantially long light source. It should be noted that not only the mercury-xenon lamp 62 but also a metal halide lamp or a xenon lamp may be used.

【0059】また、等倍率結像素子27は、倍率を変え
るように配置することにより、任意の大きさの造形物を
造形することができ、倍率を小さくするように配置する
ことによって、さらに高い造形精度を得ることもでき
る。さらに、等倍率結像素子27は、円柱状の屈折率分
布型レンズに限定されず、一対の平凸レンズなどであっ
てもよい。
Further, by arranging the unity-magnification imaging element 27 so as to change the magnification, it is possible to form a modeled object of an arbitrary size, and by arranging so as to reduce the magnification, it becomes even higher. It is also possible to obtain molding accuracy. Further, the equal-magnification imaging element 27 is not limited to the cylindrical gradient index lens, and may be a pair of plano-convex lenses or the like.

【0060】その他、構成要素は、本発明の要旨を変更
しない範囲で任意に変更することができる。
In addition, the constituent elements can be arbitrarily changed without changing the gist of the present invention.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、光源部
を移動する移動手段を備え、光源部が、光源部の移動方
向に対して直角でかつ液晶マスクに平行に延びている実
質的に長尺な光源と、光源からの光を液晶マスクに向け
て反射するレフレクタとを備えたので、液晶マスクの過
度の温度上昇を防止することができる結果、液晶マスク
の変形や誤動作を防止して造形精度を低下させることが
ない。また、光利用効率を向上させることができるた
め、紫外線硬化樹脂の硬化時間を短縮することができる
と共に、省電力化を図ることができる。さらに、長尺な
光源で照射するため、同時にある程度広い領域を照射す
ることができるので、レーザービームによって造形する
場合に比較して、短時間で目的形状の造形物を造形する
ことができる。
As described above, according to the present invention, the moving means for moving the light source section is provided, and the light source section extends substantially at right angles to the moving direction of the light source section and parallel to the liquid crystal mask. Since it has a long light source and a reflector that reflects the light from the light source toward the liquid crystal mask, it is possible to prevent excessive temperature rise of the liquid crystal mask, and as a result, prevent deformation and malfunction of the liquid crystal mask. Therefore, the molding accuracy is not reduced. Further, since the light utilization efficiency can be improved, the curing time of the ultraviolet curable resin can be shortened and the power consumption can be saved. Further, since irradiation is performed with a long light source, it is possible to irradiate a relatively wide area at the same time, so that it is possible to model an object having a target shape in a shorter time than in the case of modeling with a laser beam.

【0062】また、結像素子が、液晶マスクの透光部を
透過した光のうち、当該結像素子の画角内から入射した
光のみを結像すると共に、その画角外から入射した光を
反射するため、光硬化樹脂のうち、液晶マスクの遮光部
に対応する部分のみを照射する。この結果、照射すべき
部分と照射すべきでない部分との境界が明らかになるの
で、造形精度が向上する。
Of the light transmitted through the light-transmitting portion of the liquid crystal mask, the image forming element forms an image of only the light incident from within the angle of view of the image forming element, and the light incident from outside the angle of view. In order to reflect the light, only the portion of the photocurable resin corresponding to the light shielding portion of the liquid crystal mask is irradiated. As a result, the boundary between the portion to be irradiated and the portion not to be irradiated becomes clear, so that the modeling accuracy is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る光造形装置の模式的構成図であ
る。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a stereolithography apparatus according to the present invention.

【図2】第1実施例に係る光造形部の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of an optical shaping unit according to the first embodiment.

【図3】第1実施例における作用を説明するための図で
ある。
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation in the first embodiment.

【図4】第1実施例における作用を説明するための図で
ある。
FIG. 4 is a diagram for explaining the operation in the first embodiment.

【図5】第2実施例に係る光造形部の斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of an optical shaping unit according to a second embodiment.

【図6】第2実施例における作用を説明するための図で
ある。
FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the second embodiment.

【図7】第2実施例における作用を説明するための図で
ある。
FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of the second embodiment.

【図8】(a)は、第3実施例に係る光造形部の斜視図
である。(b)は、ハニカム状多配列シリンドリカルレ
ンズの平面図である。
FIG. 8A is a perspective view of a stereolithography unit according to a third embodiment. (B) is a plan view of a honeycomb-shaped multi-arrayed cylindrical lens.

【図9】第4実施例に係る光造形部の斜視図である。FIG. 9 is a perspective view of a stereolithography unit according to a fourth embodiment.

【図10】第5実施例に係る光造形部の側面図である。FIG. 10 is a side view of a stereolithography unit according to a fifth embodiment.

【図11】第6実施例に係る光造形部の側面図である。FIG. 11 is a side view of a stereolithography unit according to a sixth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光造形装置 4 光源スキャン用Xステージ 11 紫外線硬化樹脂 21 メタルハライドランプ 22 ダイクロイック楕円ミラー 23 熱線減衰フィルタ 25 石英板 26 液晶マスク 27 等倍率素子 41 シリンドリカルレンズ 42 多配列シリンドリカルレンズ 43 シリンドリカルレンズ 44 多配列シリンドリカルレンズ 45 ハニカム状多配列シリンドリカルレンズ 51 光導伝ロッド 62 水銀キセノンランプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Stereolithography apparatus 4 X stage for light source scanning 11 Ultraviolet curing resin 21 Metal halide lamp 22 Dichroic elliptical mirror 23 Heat ray attenuation filter 25 Quartz plate 26 Liquid crystal mask 27 Equal magnification element 41 Cylindrical lens 42 Multi-array cylindrical lens 43 Cylindrical lens 44 Multi-array cylindrical Lens 45 Honeycomb-shaped multi-array cylindrical lens 51 Light guide rod 62 Mercury xenon lamp

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29K 105:24 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display area // B29K 105: 24

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源部からの光を、目的形状に応じた形
状データに基づいて駆動した液晶マスクの透光部を通し
て光硬化樹脂に照射し、当該照射した部分を硬化させて
目的形状の造形物を造形する光造形装置において、 前記液晶マスクに対して平行に前記光源部を移動する移
動手段と、 前記液晶マスクと前記光硬化樹脂との間に配設され、当
該液晶マスクの透光部を透過した光を結像する結像素子
とを備え、 前記光源部は、当該光源部の移動方向に対して直角でか
つ前記液晶マスクに平行に延びている実質的に長尺な光
源と、当該光源からの光を前記液晶マスクに向けて反射
させるレフレクタとを備えていることを特徴とする光造
形装置。
1. A light-curable resin is irradiated with light from a light source through a light-transmitting part of a liquid crystal mask driven based on shape data corresponding to a target shape, and the irradiated part is cured to form a target shape. In an optical modeling apparatus for modeling an object, a moving unit that moves the light source unit in parallel to the liquid crystal mask, a light transmitting unit of the liquid crystal mask, which is disposed between the liquid crystal mask and the photocurable resin. An image forming element that forms an image of light transmitted through the light source unit, wherein the light source unit is a substantially long light source that extends at a right angle to the moving direction of the light source unit and is parallel to the liquid crystal mask, An optical modeling apparatus, comprising: a reflector that reflects light from the light source toward the liquid crystal mask.
【請求項2】 前記光源部と前記液晶マスクとの間に熱
線を減衰させる熱線減衰フィルタが配設されていること
を特徴とする請求項1記載の光造形装置。
2. The stereolithography apparatus according to claim 1, further comprising a heat ray attenuation filter disposed between the light source section and the liquid crystal mask, the heat ray attenuation filter being configured to attenuate heat rays.
【請求項3】 前記熱線減衰フィルタとの間で送風路を
構成する耐熱ガラスと、当該送風路に送風する送風手段
とを備えたことを特徴とする請求項2記載の光造形装
置。
3. The stereolithography apparatus according to claim 2, further comprising: a heat-resistant glass forming an air blowing path with the heat ray attenuation filter, and a blowing means for blowing air to the air blowing path.
【請求項4】 前記光源からの光を集光して前記液晶マ
スクを照射する耐熱性で長尺な第1の円柱レンズを前記
光源と平行に配設したことを特徴とする請求項1から3
のいずれかに記載の光造形装置。
4. A heat-resistant and elongated first cylindrical lens for condensing light from the light source and irradiating the liquid crystal mask is arranged in parallel with the light source. Three
The optical modeling apparatus according to any one of 1.
【請求項5】 前記光源からの光を集光して前記液晶マ
スクを照射する、耐熱性で長尺な第2の円柱レンズを前
記光源と直角に配設したことを特徴とする請求項1から
4のいずれかに記載の光造形装置。
5. A heat-resistant and elongated second cylindrical lens for condensing light from the light source and irradiating the liquid crystal mask is arranged at a right angle to the light source. The optical modeling apparatus according to any one of 1 to 4.
【請求項6】 前記光源は、メタルハライドランプで構
成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれ
かに記載の光造形装置。
6. The stereolithography apparatus according to claim 1, wherein the light source is a metal halide lamp.
【請求項7】 前記光源は、複数のランプを前記液晶マ
スクと平行に並設したことを特徴とする請求項1から6
のいずれかに記載の光造形装置。
7. The light source comprises a plurality of lamps arranged in parallel with the liquid crystal mask.
The optical modeling apparatus according to any one of 1.
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