JPH08279733A - Oscillator circuit and semiconductor memory device - Google Patents
Oscillator circuit and semiconductor memory deviceInfo
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- JPH08279733A JPH08279733A JP8089912A JP8991296A JPH08279733A JP H08279733 A JPH08279733 A JP H08279733A JP 8089912 A JP8089912 A JP 8089912A JP 8991296 A JP8991296 A JP 8991296A JP H08279733 A JPH08279733 A JP H08279733A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、発振回路及び半
導体記憶装置に関するもので、例えば、リフレッシュタ
イマー回路を構成する発振回路ならびにこれを含む擬似
スタティック型RAM(ランダムアクセスメモリ)に利
用して特に有効な技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an oscillator circuit and a semiconductor memory device, and is particularly effective when applied to an oscillator circuit forming a refresh timer circuit and a pseudo static RAM (random access memory) including the oscillator circuit. Related technology.
【0002】[0002]
【従来の技術】高集積化が可能なダイナミック型RAM
を基本構成とし、かつ通常のスタティック型RAMと互
換性のあるインタフェースを持つように設計された擬似
スタティック型RAMがある。擬似スタティック型RA
Mは、通常の書き込み及び読み出しモードに加えて、外
部制御によってリフレッシュ動作を単発的に実行するア
ドレスリフレッシュモード及びオートリフレッシュモー
ドと、例えばバッテリバックアップ時においてリフレッ
シュ動作を自律的にかつ周期的に実行するセルフリフレ
ッシュモードとを有する。擬似スタティック型RAM
は、上記オートリフレッシュ及びセルフリフレッシュモ
ードにおいてリフレッシュ動作を実行すべきワード線を
順次指定するためのリフレッシュカウンタと、上記セル
フリフレッシュモードにおいてリフレッシュ動作を周期
的に起動するためのリフレッシュタイマー回路とを内蔵
する。2. Description of the Related Art Dynamic RAM capable of high integration
There is a quasi-static type RAM having a basic configuration and designed to have an interface compatible with a normal static type RAM. Pseudo static RA
In addition to the normal write and read modes, M performs an address refresh mode and an auto-refresh mode in which a refresh operation is sporadically executed by external control, and a refresh operation is autonomously and periodically executed during battery backup, for example. It has a self-refresh mode. Pseudo static RAM
Includes a refresh counter for sequentially designating a word line to be refreshed in the auto-refresh and self-refresh modes, and a refresh timer circuit for periodically activating the refresh operation in the self-refresh mode. .
【0003】オートリフレッシュ及びセルフリフレッシ
ュモードを有する擬似スタティック型RAMについて
は、例えば、1987年3月、株式会社日立製作所発行
の『日立ICメモリデータブック』第229頁〜第23
4頁に記載されている。A pseudo static RAM having an auto-refresh and a self-refresh mode is disclosed in, for example, "Hitachi IC Memory Data Book", pages 229 to 23, published by Hitachi, Ltd. in March 1987.
It is described on page 4.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記に記載される擬似
スタティック型RAM等において、セルフリフレッシュ
モードにおけるメモリアレイの平均消費電流は、リフレ
ッシュ周期の逆数すなわち単位時間あたりのリフレッシ
ュ回数にほぼ比例して大きくなる。そして、上記セルフ
リフレッシュモードにおけるリフレッシュ周期は、メモ
リセル自身の情報保持能力と、リフレッシュ周期を設定
するリフレッシュタイマー回路の安定性とにより左右さ
れ、これによってバッテリバックアップ時等における擬
似スタティック型RAM等の低消費電力化が制限され
る。In the pseudo-static RAM and the like described above, the average current consumption of the memory array in the self-refresh mode is large in proportion to the reciprocal of the refresh cycle, that is, the number of refreshes per unit time. Become. The refresh cycle in the self-refresh mode depends on the information holding ability of the memory cell itself and the stability of the refresh timer circuit that sets the refresh cycle, and this reduces the low level of the pseudo static RAM during battery backup. Power consumption is limited.
【0005】このため、本願発明者等は、この発明に先
立って、リフレッシュタイマー回路を、電源電圧依存性
の少ない発振回路と、この発振回路から出力されるパル
ス信号を計数して所定のリフレッシュ起動信号を形成す
るリフレッシュタイマーカウンタ回路とにより構成し、
さらに、リフレッシュタイマーカウンタ回路の計数初期
値を、対応するヒューズ手段を選択的に切断することに
より任意に設定できるようにすることで、擬似スタティ
ック型RAMのリフレッシュ周期を安定化させまた出来
るだけメモリセル自身の情報保持能力に接近させること
を考えた。Therefore, prior to the present invention, the inventors of the present invention used a refresh timer circuit as an oscillation circuit having a small power supply voltage dependency and a pulse signal output from the oscillation circuit to start a predetermined refresh operation. Composed of a refresh timer counter circuit that forms a signal,
Further, the initial count value of the refresh timer counter circuit can be arbitrarily set by selectively cutting the corresponding fuse means, thereby stabilizing the refresh cycle of the pseudo static RAM and as much as possible for the memory cell. I thought about approaching my information retention ability.
【0006】ところが、上記発振回路は、その動作電流
が制限される上に、比較的長い周期でチャージ又はディ
スチャージされるキャパシタと、比較的大きな抵抗値を
必要としかつ半導体基板面の比較的長い距離にわたって
形成されるポリシリコン(多結晶シリコン)抵抗とを含
む。このため、例えば、上記キャパシタのディスチャー
ジ期間中において回路の電源電圧等にバンプが生じた場
合、ディスチャージ電流が変化し、あるいは上記ポリシ
リコン抵抗と半導体基板との間に寄生する基板容量の値
が大きくなって電源バンプを急速に吸収できなくなるこ
とから、発振回路の発振周波数が変動してしまう。その
結果、発振回路の周波数を、メモリセルの情報保持能力
に対して余裕をもって設定する必要が生じる。However, the above-mentioned oscillation circuit requires a relatively large resistance value with a capacitor charged or discharged in a relatively long cycle in addition to its operating current being limited, and a relatively long distance between semiconductor substrate surfaces. And a polysilicon (polycrystalline silicon) resistor formed over the same. Therefore, for example, when a bump occurs in the power supply voltage of the circuit during the discharge period of the capacitor, the discharge current changes, or the value of the substrate capacitance parasitic between the polysilicon resistor and the semiconductor substrate is large. As a result, the power supply bumps cannot be absorbed rapidly, and the oscillation frequency of the oscillation circuit fluctuates. As a result, it becomes necessary to set the frequency of the oscillation circuit with a margin for the information holding capacity of the memory cell.
【0007】一方、擬似スタティック型RAMに設けら
れる発振回路及びリフレッシュタイマーカウンタ回路
は、せっかくその周期を選択的に切り換えうる機能を有
しながら、その発振特性や変動特性を試験確認するすべ
を持たない。このため、これらの特性に関する実績デー
タが揃いまたそのバラツキが充分収束するまでの間は、
試行錯誤的にリフレッシュ周期の設定を行わせざるをえ
ない。このことは、同様にメモリセルの情報保持能力に
対する余裕を必要とし、擬似スタティック型RAMの低
消費電力化を制限するとともに、その試験工数を増大さ
せる一因となる。On the other hand, the oscillation circuit and the refresh timer counter circuit provided in the pseudo static RAM have the function of selectively switching their cycles, but have no way to test and confirm their oscillation characteristics and fluctuation characteristics. . Therefore, until the actual data on these characteristics are gathered and the variations are fully converged,
There is no choice but to set the refresh cycle by trial and error. This similarly requires a margin for the information holding capacity of the memory cell, limits the reduction in power consumption of the pseudo static RAM and contributes to an increase in the number of test steps.
【0008】この発明の主たる目的は、電源バンプ対策
を施した発振回路を提供し、リフレッシュタイマー回路
等の動作を安定化することにある。A main object of the present invention is to provide an oscillation circuit provided with measures against power supply bumps and to stabilize the operation of a refresh timer circuit and the like.
【0009】この発明の他の主たる目的は、リフレッシ
ュタイマー回路やこれを含む半導体記憶装置の特性を的
確かつ効率的に試験確認しうるテスト方式を提供するこ
とにある。Another main object of the present invention is to provide a test system capable of accurately and efficiently testing and confirming the characteristics of a refresh timer circuit and a semiconductor memory device including the refresh timer circuit.
【0010】この発明の他の主たる目的は、動作の高速
化を図った出力バッファ及び動作の安定化を図った電圧
発生回路ならびに簡素化を図ったヒューズ回路を提供
し、擬似スタティック型RAM等に適したレイアウト方
式を提供することにある。Another main object of the present invention is to provide an output buffer for speeding up the operation, a voltage generating circuit for stabilizing the operation and a fuse circuit for simplifying the operation, and to provide a pseudo static RAM or the like. To provide a suitable layout method.
【0011】この発明のさらなる目的は、セルフリフレ
ッシュモードを有し、上記各回路を備える擬似スタティ
ック型RAMの低消費電力化と動作の安定化を図りつつ
その高速化を推進することにある。A further object of the present invention is to promote speeding up of a pseudo static RAM having a self-refresh mode and having the above-mentioned circuits while reducing power consumption and stabilizing operation.
【0012】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、擬似スタティック型RAM
のリフレッシュタイマー回路等に含まれる発振回路のキ
ャパシタに対するチャージ又はディスチャージ電流経路
を構成し発振回路の周波数を決定するMOSFETを、
定電流源を構成するMOSFETとカレントミラー結合
するとともに、定電流源の電流値を設定する抵抗を構成
する多結晶シリコン層のほぼ二分の一にあたる部分の下
層に、回路の電源電圧に結合されたウェル領域を形成
し、また残り二分の一にあたる部分の下層に、回路の接
地電位に結合されたウェル領域を形成する。そして、擬
似スタティック型RAM等に、リフレッシュタイマー回
路のリフレッシュタイマーカウンタ回路の計数初期値を
例えばアドレス入力端子を介して任意に設定できるテス
トモードや、そのリフレッシュ周期を所定の外部端子か
ら供給される試験制御信号によって任意に設定できるテ
ストモード等を用意する。さらに、セルフリフレッシュ
モードを有する擬似スタティック型RAM等に、リフレ
ッシュ周期を設定するためのリフレッシュタイマー回路
を設け、その出力信号の周期を選択的に切り換えうる構
成とする。The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, pseudo static RAM
Of a refresh timer circuit or the like, which constitutes a charge or discharge current path for the capacitor of the oscillation circuit included in the refresh timer circuit, and determines the frequency of the oscillation circuit,
In addition to the current mirror coupling with the MOSFET constituting the constant current source, it was coupled to the power supply voltage of the circuit under the portion corresponding to approximately one half of the polycrystalline silicon layer constituting the resistor for setting the current value of the constant current source. A well region is formed, and a well region coupled to the ground potential of the circuit is formed in the lower layer corresponding to the remaining half. A test mode in which the initial count value of the refresh timer counter circuit of the refresh timer circuit can be arbitrarily set to the pseudo static RAM or the like, for example, via an address input terminal, or a test in which the refresh cycle is supplied from a predetermined external terminal Prepare a test mode that can be set arbitrarily by the control signal. Further, a refresh timer circuit for setting a refresh cycle is provided in a pseudo static RAM having a self-refresh mode so that the cycle of its output signal can be selectively switched.
【0014】上記した手段によれば、リフレッシュタイ
マー回路等の発振回路のキャパシタのディスチャージ電
流を安定化し、またその多結晶シリコン抵抗と回路の電
源電圧及び接地電位間にほぼ同一の寄生容量が結合され
るために電源変動を相殺できることから、電源バンプ等
による発振回路の発振周波数の変動を抑制できる。そし
て、これらの発振回路及びリフレッシュタイマーカウン
タ回路の動作特性ならびにメモリセルの情報保持特性の
アドレス依存性等を効率的に試験確認できることから、
擬似スタティック型RAMのリフレッシュ周期を的確
に、かつメモリセルの情報保持能力により接近した値で
設定できる。さらに、例えばバッテリバックアップ時等
において比較的長い周期で行われるPS(疑似)リフレ
ッシュモードと、擬似スタティック型RAMが活性状態
とされる合間をぬって比較的短い周期で行われるVS
(仮想)リフレッシュモードとを、1個の共通半導体基
板で選択的に実現しうる擬似スタティック型RAM等を
提供できる。その結果、擬似スタティック型RAMの動
作を安定化しつつ、その低消費電力化を推進できる。According to the above means, the discharge current of the capacitor of the oscillation circuit such as the refresh timer circuit is stabilized, and substantially the same parasitic capacitance is coupled between the polycrystalline silicon resistor and the power supply voltage and the ground potential of the circuit. Therefore, fluctuations in the power supply can be canceled out, and fluctuations in the oscillation frequency of the oscillation circuit due to power supply bumps or the like can be suppressed. Since the operating characteristics of the oscillation circuit and the refresh timer counter circuit and the address dependency of the information holding characteristics of the memory cell can be efficiently tested and confirmed,
The refresh cycle of the pseudo-static RAM can be set accurately and at a value closer to the information holding capacity of the memory cell. Furthermore, for example, a PS (pseudo) refresh mode, which is performed in a relatively long cycle at the time of battery backup, and a VS, which is performed in a relatively short cycle, between the activation of the pseudo static RAM.
It is possible to provide a pseudo static RAM or the like that can selectively realize the (virtual) refresh mode with one common semiconductor substrate. As a result, low power consumption can be promoted while stabilizing the operation of the pseudo static RAM.
【0015】[0015]
3.1.基本的構成又は方式ならびにその特徴 3.1.1.ブロック構成 図1には、この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの選択回路及びタイミング発生回路ならびに電圧発
生回路の一実施例のブロック図が示されている。また、
図2ならびに図3には、上記擬似スタティック型RAM
のメモリアレイと直接周辺回路ならびにデータ入出力回
路の一実施例のブロック図がそれぞれ示されている。な
お、図1ないし図3の各ブロックを構成する回路素子
は、特に制限されないが、P型単結晶シリコンからなる
1個の半導体基板上において形成される。また、図1な
いし図3ならびに以下の回路図等において、入力又は出
力信号等に関する信号線は、半導体基板面に形成される
ボンディングパッドを起点として示される。各ブロック
の具体的な回路構成とその動作ならびに特徴について
は、後で詳細に説明する。3.1. Basic configuration or method and its features 3.1.1. Block Configuration FIG. 1 shows a pseudo static type R to which the present invention is applied.
A block diagram of one embodiment of an AM selection circuit, a timing generation circuit, and a voltage generation circuit is shown. Also,
2 and 3 show the above pseudo static RAM.
A block diagram of one embodiment of the memory array, the direct peripheral circuit, and the data input / output circuit is shown. The circuit elements forming each block in FIGS. 1 to 3 are not particularly limited, but are formed on one semiconductor substrate made of P-type single crystal silicon. In addition, in FIG. 1 to FIG. 3 and the following circuit diagrams and the like, signal lines regarding input or output signals are shown starting from a bonding pad formed on the semiconductor substrate surface. The specific circuit configuration of each block and its operation and characteristics will be described later in detail.
【0016】この実施例の擬似スタティック型RAM
は、ダイナミック型RAMを基本構成とし、そのメモリ
アレイがいわゆる1素子型のダイナミック型メモリセル
により構成されることで、回路の高集積化と低消費電力
化が図られる。また、Xアドレス信号X0〜X10及び
Yアドレス信号Y11〜Y18が、それぞれ別個のアド
レス入力端子A0〜A10及びA11〜A18を介して
入力され、さらに制御信号として、チップイネーブル信
号CEB,ライトイネーブル信号WEB及び出力イネー
ブル信号OEBが設けられることで、通常のスタティッ
ク型RAMと互換性のある入出力インタフェースを持つ
ものとされる。Pseudo-static RAM of this embodiment
Has a basic structure of a dynamic RAM, and its memory array is composed of so-called one-element dynamic memory cells, whereby high integration of the circuit and low power consumption can be achieved. Further, X address signals X0 to X10 and Y address signals Y11 to Y18 are input via separate address input terminals A0 to A10 and A11 to A18, respectively, and further, as a control signal, a chip enable signal CEB and a write enable signal WEB. By providing the output enable signal OEB and the output enable signal OEB, an input / output interface compatible with a normal static RAM is provided.
【0017】さらに、擬似スタティック型RAMは、リ
フレッシュアドレスを外部から指定しながら単発的なリ
フレッシュ動作を行うアドレスリフレッシュモード(こ
こで、リフレッシュ動作や試験動作等の方式種別をモー
ドと称し、例えばアドレスリフレッシュモードのように
示す。また、各モード等による実際のメモリアクセスを
動作サイクルと称し、例えばアドレスリフレッシュサイ
クルのように称する。以下同様)と、リフレッシュアド
レスを内蔵するリフレッシュカウンタRFCにより指定
しながら単発的にリフレッシュ動作を行うオートリフレ
ッシュモードとを有し、また、上記リフレッシュカウン
タRFCと内蔵するリフレッシュタイマー回路TMR及
びリフレッシュタイマーカウンタ回路SRCを用いるこ
とで、すべてのワード線に関するリフレッシュ動作を自
律的にかつ所定の周期で断続的に実行するセルフリフレ
ッシュモードとを有する。Further, the pseudo-static RAM is an address refresh mode in which a refresh address is specified from the outside to perform a one-time refresh operation (here, the type of system such as the refresh operation and the test operation is referred to as a mode. In addition, the actual memory access in each mode etc. is called an operation cycle, for example, an address refresh cycle. Has an auto refresh mode for performing a refresh operation, and by using the refresh counter RFC and the built-in refresh timer circuit TMR and refresh timer counter circuit SRC, And the refresh operation relating to word line autonomously and a self-refresh mode for intermittently executed at a predetermined cycle.
【0018】この実施例において、出力イネーブル信号
OEBは、特に制限されないが、リフレッシュ制御信号
RFSHBとして兼用され、この出力イネーブル信号O
EBとライトイネーブル信号WEBによって擬似スタテ
ィック型RAMの動作モードが選択的に設定される。In this embodiment, the output enable signal OEB is also used as the refresh control signal RFSHB although it is not particularly limited.
The operation mode of the pseudo static RAM is selectively set by the EB and the write enable signal WEB.
【0019】図1において、外部から起動制御信号とし
て供給されるチップイネーブル信号CEB,ライトイネ
ーブル信号WEB及び出力イネーブル信号OEBすなわ
ちリフレッシュ制御信号RFSHBは、対応する入力バ
ッファCEB,WEB及びOEBを経て、タイミング発
生回路TGに供給される。このタイミング発生回路TG
には、XアドレスバッファXABから、3ビットの相補
内部アドレス信号BX0,BX1及びBX10(ここ
で、例えば非反転内部アドレス信号BX0及び反転内部
アドレス信号BX0Bをあわせて相補内部アドレス信号
BX0のように表す。また、それが有効とされるとき選
択的にロウレベルとされるいわゆる反転信号等について
は、その名称の末尾にBを付して表すが、各図面におい
ては、反転信号等の名称の上に直線を付して表す場合も
ある。以下同様)が供給される。タイミング発生回路T
Gは、後述するように、上記チップイネーブル信号CE
B,ライトイネーブル信号WEB及び出力イネーブル信
号OEBならびに相補内部アドレス信号BX0,BX1
及びBX10をもとに、擬似スタティック型RAMの各
回路ブロックの動作に必要な各種タイミング信号を形成
する。In FIG. 1, a chip enable signal CEB, a write enable signal WEB and an output enable signal OEB, ie, a refresh control signal RFSHB, which are externally supplied as a start control signal, are passed through corresponding input buffers CEB, WEB and OEB, and timing. It is supplied to the generation circuit TG. This timing generation circuit TG
From the X address buffer XAB to the 3-bit complementary internal address signals B X0, B X1 and B X10 (here, for example, the non-inverted internal address signal BX0 and the inverted internal address signal BX0B are combined together.
It is expressed as B X0. In addition, a so-called inverted signal or the like that is selectively brought to a low level when it is validated is indicated by adding B to the end of the name, but in each drawing, a straight line is added above the name of the inverted signal or the like. In some cases, it is attached with. The same shall apply hereinafter) is supplied. Timing generation circuit T
G is the chip enable signal CE, as will be described later.
B, write enable signal WEB, output enable signal OEB, and complementary internal address signals B X0, B X1
And B X10 based forms various timing signals necessary for the operation of each circuit block of the pseudo-static RAM.
【0020】一方、外部から対応するアドレス入力端子
A0〜A10を介して供給される11ビットのXアドレ
ス信号X0〜X10は、特に制限されないが、Xアドレ
スバッファXABの一方の入力端子に供給され、8ビッ
トのYアドレス信号Y11〜Y18は、Yアドレスバッ
ファYABに供給される。XアドレスバッファXABの
他方の入力端子には、リフレッシュカウンタRFCから
11ビットのリフレッシュアドレス信号AR0〜AR1
0が供給される。さらに、XアドレスバッファXABに
は、タイミング発生回路TGから反転タイミング信号φ
refB及びφxlBが供給され、Yアドレスバッファ
YABには、反転タイミング信号φylBが供給され
る。ここで、反転タイミング信号φrefBは、後述す
るように、擬似スタティック型RAMがオートリフレッ
シュモード又はセルフリフレッシュモードで選択状態と
されるとき、選択的にロウレベルとされ、タイミング信
号φxl及びφylは、擬似スタティック型RAMが選
択状態とされるとき、Xアドレス信号X0〜X10又は
リフレッシュアドレス信号AR0〜AR10あるいはY
アドレス信号Y11〜Y18のレベルが確定される時点
で、選択的にロウレベルとされる。On the other hand, the 11-bit X address signals X0 to X10 supplied from the outside via the corresponding address input terminals A0 to A10 are supplied to one input terminal of the X address buffer XAB, although not particularly limited thereto. The 8-bit Y address signals Y11 to Y18 are supplied to the Y address buffer YAB. The other input terminal of the X address buffer XAB is supplied with 11-bit refresh address signals AR0 to AR1 from the refresh counter RFC.
0 is supplied. Further, in the X address buffer XAB, the inverted timing signal φ from the timing generation circuit TG is supplied.
refB and φxlB are supplied, and the inverted timing signal φylB is supplied to the Y address buffer YAB. Here, the inversion timing signal φrefB is selectively set to a low level when the pseudo static RAM is brought into a selected state in the auto refresh mode or the self refresh mode, as will be described later, and the timing signals φxl and φyl are pseudo static. When the type RAM is in the selected state, X address signals X0 to X10 or refresh address signals AR0 to AR10 or Y
When the levels of the address signals Y11 to Y18 are determined, they are selectively set to the low level.
【0021】XアドレスバッファXABは、擬似スタテ
ィック型RAMが通常の書き込み又は読み出しモードで
選択状態とされ反転タイミング信号φrefBがハイレ
ベルとされるとき、外部端子を介して供給されるXアド
レス信号X0〜X10を反転タイミング信号φxlBに
従って取り込み、保持する。また、擬似スタティック型
RAMがリフレッシュモードで選択状態とされ反転タイ
ミング信号φrefBがロウレベルとされるとき、リフ
レッシュアドレスカウンタRFCから供給されるリフレ
ッシュアドレス信号AR0〜AR10を反転タイミング
信号φxlBに従って取り込み、保持する。Xアドレス
バッファXABは、さらにXアドレス信号X0〜X10
又はリフレッシュアドレス信号AR0〜AR10をもと
に、相補内部アドレス信号BX0〜BX10を形成す
る。このうち、下位2ビットの相補内部アドレス信号B
X0及びBX1は、前述のように、タイミング発生回路
TGに供給され、3ビットの相補内部アドレス信号BX
2,BX3及びBX10は、ワード線選択駆動信号発生
回路PWDに供給される。残り6ビットの相補内部アド
レス信号BX4〜BX9は、XプリデコーダPXDに供
給される。相補内部アドレス信号BX2〜BX9は、さ
らにX系冗長回路XRにも供給される。The X address buffer XAB is supplied with X address signals X0 to X0 through an external terminal when the pseudo static RAM is selected in the normal write or read mode and the inversion timing signal φrefB is set to the high level. X10 is fetched and held in accordance with the inverted timing signal φxlB. Further, when the pseudo static RAM is selected in the refresh mode and the inversion timing signal φrefB is set to the low level, the refresh address signals AR0 to AR10 supplied from the refresh address counter RFC are fetched and held according to the inversion timing signal φxlB. The X address buffer XAB further includes X address signals X0 to X10.
Alternatively, complementary internal address signals B X0 to B X10 are formed based on the refresh address signals AR0 to AR10. Of these, the lower 2 bits of the complementary internal address signal B
As described above, X0 and B X1 are supplied to the timing generation circuit TG, and the 3-bit complementary internal address signal B X1 is supplied.
2, B X3 and B X10 are supplied to the word line selection drive signal generation circuit PWD. The remaining 6-bit complementary internal address signals B X4 to B X9 are supplied to the X predecoder PXD. The complementary internal address signals B X2 to B X9 are also supplied to the X system redundancy circuit XR.
【0022】擬似スタティック型RAMの各メモリアレ
イには、後述するように、4本の冗長ワード線と、8組
の冗長相補データ線が設けられる。X系冗長回路XR
(XRU,XRD)は、このうち、各冗長ワード線に割
り当てられる不良アドレスと、メモリアクセスに際して
上記XアドレスバッファXABを介して供給される相補
内部アドレス信号BX2〜BX9とをビットごとに比較
照合する。その結果、これらのアドレスが全ビット一致
すると、対応する反転冗長ワード線選択信号XR0B〜
XR3Bを選択的にロウレベルとする。反転冗長ワード
線選択信号XR0B〜XR3Bは、ワード線選択駆動信
号発生回路PWDに併設される冗長ワード線選択駆動信
号発生回路PRWDに供給される。As will be described later, each memory array of the pseudo static RAM is provided with four redundant word lines and eight sets of redundant complementary data lines. X system redundant circuit XR
Among them, (XRU, XRD) compares the defective address assigned to each redundant word line with the complementary internal address signals B X2 to B X9 supplied via the X address buffer XAB at the time of memory access. Collate. As a result, when all these addresses match, the corresponding inverted redundant word line selection signal XR0B ...
XR3B is selectively set to low level. The inverted redundant word line selection signals XR0B to XR3B are supplied to the redundant word line selection drive signal generation circuit PRWD provided along with the word line selection drive signal generation circuit PWD.
【0023】ワード線選択駆動信号発生回路PWDは、
上記相補内部アドレス信号BX2,BX3及びBX10
とワード線駆動信号発生回路φXGから供給されるワー
ド線駆動信号φxとをもとに、ワード線選択駆動信号X
00UないしX11UならびにX00DないしX11D
を選択的に形成する。また、冗長ワード線選択駆動信号
発生回路PRWDは、ワード線駆動信号φx及び反転冗
長ワード線選択信号XR0B〜XR3Bならびに相補内
部アドレス信号BX10をもとに、対応する冗長ワード
線選択駆動信号XR0U〜XR3UあるいはXR0D〜
XR3Dを選択的に形成する。ここで、ワード線駆動信
号φxは、回路の電源電圧を超える所定のブーストレベ
ルとされ、ワード線選択駆動信号X00UないしX11
U(X00DないしX11D)ならびに冗長ワード線選
択駆動信号XR0U〜XR3U(XR0D〜XR3D)
も、同様にブーストレベルとされる。The word line selection drive signal generation circuit PWD is
The complementary internal address signals B X2, B X3 and B X10
And the word line drive signal φxG supplied from the word line drive signal generation circuit φXG.
00U to X11U and X00D to X11D
Are selectively formed. Further, the redundant word line selection drive signal generation circuit PRWD, based on the word line drive signal φx, the inverted redundant word line selection signals XR0B to XR3B and the complementary internal address signal B X10, the corresponding redundant word line selection drive signal XR0U to XR3U or XR0D ~
XR3D is selectively formed. Here, the word line drive signal φx is set to a predetermined boost level that exceeds the power supply voltage of the circuit, and the word line selection drive signals X00U to X11.
U (X00D to X11D) and redundant word line selection drive signals XR0U to XR3U (XR0D to XR3D)
Similarly, the boost level is set.
【0024】XプリデコーダPXDは、相補内部アドレ
ス信号BX4〜BX9を順次2ビットずつ組み合わせて
デコードすることで、対応するプリデコード信号AX4
50〜AX453,AX670〜AX673ならびにA
X890〜AX893をそれぞれ択一的に形成する。こ
れらのプリデコード信号は、各Xデコーダに共通に供給
される。The X predecoder PXD sequentially combines the complementary internal address signals B X4 to B X9 by 2 bits and decodes them to decode the corresponding predecode signal AX4.
50 to AX453, AX670 to AX673 and A
X890 to AX893 are alternatively formed. These predecode signals are commonly supplied to each X decoder.
【0025】同様に、YアドレスバッファYABは、擬
似スタティック型RAMが通常の書き込み又は読み出し
モードで選択状態とされるとき、外部端子を介して供給
されるYアドレス信号Y11〜Y18を反転タイミング
信号φylBに従って取り込み、保持する。また、これ
らのYアドレス信号をもとに、相補内部アドレス信号A
Y11〜AY18形成する。相補内部アドレス信号AY
11〜AY18は、YプリデコーダPYD及びY系冗長
回路YRACに供給される。Similarly, the Y address buffer YAB converts the Y address signals Y11 to Y18 supplied through the external terminals into the inverted timing signal φylB when the pseudo static RAM is selected in the normal write or read mode. Uptake and hold. Also, based on these Y address signals, the complementary internal address signal A
Y11~ A Y18 to form. Complementary internal address signal A Y
11 to A Y18 are supplied to the Y predecoder PYD and the Y system redundancy circuit YRAC.
【0026】Y系冗長回路YRACは、各冗長データ線
に割り当てられる不良アドレスと、メモリアクセスに際
して上記YアドレスバッファYABを介して供給される
相補内部アドレス信号AY11〜AY18とをビット毎
に比較照合する。その結果、これらのアドレスが全ビッ
ト一致するとき、対応する冗長データ線選択信号YR0
〜YR7を選択的にハイレベルとする。冗長データ線選
択信号YR0〜YR7は、YプリデコーダPYDを介し
て各Yデコーダに供給される。The Y-system redundant circuit YRAC compares the defective address assigned to each redundant data line with the complementary internal address signals A Y11 to A Y18 supplied via the Y address buffer YAB at the time of memory access. Collate. As a result, when all the bits of these addresses match, the corresponding redundant data line selection signal YR0
~ YR7 is selectively set to a high level. The redundant data line selection signals YR0 to YR7 are supplied to each Y decoder via the Y predecoder PYD.
【0027】YプリデコーダPYDは、相補内部アドレ
ス信号AY11〜AY18を順次2ビットずつ組み合わ
せてデコードすることで、対応するプリデコード信号A
Y120〜AY123,AY340〜AY343,AY
560〜AY563ならびにAY780〜AY783を
それぞれ択一的に形成する。これらのプリデコード信号
は、対応する信号線を介して各Yデコーダに共通に供給
される。The Y predecoder PYD sequentially combines the complementary internal address signals A Y11 to A Y18 by 2 bits to decode the complementary internal address signals A Y11 to A Y18.
Y120-AY123, AY340-AY343, AY
560 to AY563 and AY780 to AY783 are alternatively formed. These predecode signals are commonly supplied to each Y decoder via the corresponding signal lines.
【0028】この実施例において、上記プリデコード信
号AY560〜AY563ならびにAY780〜AY7
83を各Yデコーダに伝達するための信号線は、上記冗
長データ線選択信号YR0〜YR7を伝達するための信
号線として共用される。このため、YプリデコーダPY
Dは、Y系冗長回路YRACから供給される相補内部制
御信号φyrに従って、上記プリデコード信号AY56
0〜AY563及びAY780〜AY783あるいは冗
長データ線選択信号YR0〜YR7を選択的に上記信号
線に伝達する機能をあわせ持つ。In this embodiment, the predecode signals AY560 to AY563 and AY780 to AY7 are used.
The signal line for transmitting 83 to each Y decoder is shared as a signal line for transmitting the redundant data line selection signals YR0 to YR7. Therefore, the Y predecoder PY
D is the predecode signal AY56 according to the complementary internal control signal φ yr supplied from the Y system redundancy circuit YRAC.
0 to AY563 and AY780 to AY783 or redundant data line selection signals YR0 to YR7 are selectively transmitted to the signal lines.
【0029】擬似スタティック型RAMは、さらに、図
1に示されるように、回路の電源電圧をもとに負電位の
基板バックバイアス電圧VBBを形成する基板バックバ
イアス電圧発生回路VBBGと、回路の電源電圧のほぼ
二分の一の電位とされる内部電圧HVCを形成する電圧
発生回路HVCとを備える。また、タイミング発生回路
TGから供給される反転タイミング信号CE3Bをもと
に、上記ワード線駆動信号φxを形成するワード線駆動
信号発生回路φxGを備える。As shown in FIG. 1, the pseudo static RAM further includes a substrate back bias voltage generating circuit VBBG which forms a substrate back bias voltage VBB having a negative potential based on the power source voltage of the circuit, and a power source of the circuit. And a voltage generation circuit HVC that forms an internal voltage HVC that is a potential that is approximately one half of the voltage. Further, the word line drive signal generation circuit φxG is provided which forms the word line drive signal φx based on the inversion timing signal CE3B supplied from the timing generation circuit TG.
【0030】図2において、この擬似スタティック型R
AMは、実質的にデータ線の延長方向に分割されてなる
8個のメモリアレイMARY0L及びMARY0Rない
しMARY3L及びMARY3Rを備える。これらのメ
モリアレイは、対応するセンスアンプSA0L及びSA
0RないしSA3L及びSA3Rならびにカラムスイッ
チCS0L及びCS0RないしCS3L及びCS3Rと
ともに、対応するYアドレスデコーダYD0〜YD3を
はさんでそれぞれ対称的に配置される。また、これらの
メモリアレイと対応するセンスアンプ及びカラムスイッ
チならびにYデコーダは、対応するXアドレスデコーダ
XD0L及びXD0RないしXD3L及びXD3Rをは
さんでそれぞれ上下に分割して配置され、その配置位置
に対応して(U)又は(D)の記号が付される。以下の
説明では、煩雑を避けるため、特に必要な場合を除いて
上記(U)又は(D)の記号を省略する。また、各メモ
リアレイのうちXデコーダの上側に配置されるものをま
とめて上辺アレイと称し、下側に配置されるものを下辺
アレイと称する。In FIG. 2, this pseudo static type R
The AM includes eight memory arrays MARY0L and MARY0R to MARY3L and MARY3R which are substantially divided in the extension direction of the data lines. These memory arrays have corresponding sense amplifiers SA0L and SA.
0R to SA3L and SA3R and column switches CS0L and CS0R to CS3L and CS3R are arranged symmetrically with the corresponding Y address decoders YD0 to YD3 in between. Also, the sense amplifiers, column switches, and Y decoders corresponding to these memory arrays are arranged in the upper and lower parts across the corresponding X address decoders XD0L and XD0R to XD3L and XD3R, respectively, and correspond to the arrangement positions. (U) or (D). In the following description, in order to avoid complication, the symbol (U) or (D) is omitted unless it is necessary. Further, among the memory arrays, those arranged on the upper side of the X decoder are collectively called an upper side array, and those arranged on the lower side are called a lower side array.
【0031】ところで、メモリアレイMARY0L〜M
ARY3LならびにMARY0R〜MARY3Rは、指
定されるワード線が択一的に選択状態とされることで、
選択的に動作状態とされる。この実施例において、擬似
スタティック型RAMが通常の書き込み又は読み出しモ
ードあるいはオートリフレッシュモードとされる場合、
上記8個のメモリアレイは、MARY0L及びMARY
2L(又はMARY0R及びMARY2R)あるいはM
ARY1L及びMARY3L(又はMARY1R及びM
ARY3R)の組み合わせで2個ずつ同時に動作状態と
される。このとき、各メモリアレイでは、上辺アレイ又
は下辺アレイが、最上位ビットの相補内部アドレス信号
BX10に従って択一的に動作状態とされ、さらに動作
状態とされる2個のメモリアレイから4組のデータ線が
それぞれ同時に選択され、対応するメインアンプMAL
L及びMALR又はMARL及びMARRあるいは書き
込み回路DILL及びDILR又はDIRL及びDIR
Rの対応する単位回路に接続される。その結果、この擬
似スタティック型RAMは、8ビットの記憶データを同
時に入出力するいわゆる×8ビット構成のRAMとされ
る。By the way, the memory arrays MARY0L to M
In ARY3L and MARY0R to MARY3R, the designated word line is selectively set to the selected state,
It is selectively activated. In this embodiment, when the pseudo static RAM is set to the normal write or read mode or the auto refresh mode,
The above eight memory arrays are MARY0L and MARY
2L (or MARY0R and MARY2R) or M
ARY1L and MARY3L (or MARY1R and M
Two of them are simultaneously activated by a combination of ARY3R). At this time, in each memory array, the upper side array or the lower side array is the complementary internal address signal of the most significant bit.
In accordance with BX10, four data lines are simultaneously selected from the two memory arrays which are selectively activated and further activated, and the corresponding main amplifier MAL is selected.
L and MALR or MARL and MARR or write circuits DILL and DILR or DIRL and DIR
It is connected to the corresponding unit circuit of R. As a result, this pseudo-static RAM is a RAM having a so-called x8-bit configuration that simultaneously inputs / outputs 8-bit storage data.
【0032】一方、擬似スタティック型RAMがセルフ
リフレッシュモードとされる場合、特に制限されない
が、上記8個のメモリアレイは、一斉に動作状態とされ
る。このとき、各メモリアレイでは、上辺アレイ又は下
辺アレイが、最上位ビットの相補内部アドレス信号BX
10に従って選択的に動作状態とされ、これらのメモリ
アレイにおいて択一的に選択状態とされる合計8本のワ
ード線に関するリフレッシュ動作が同時に実行される。
これらのリフレッシュ動作は、通常のリフレッシュ周期
の4倍の周期で自律的にかつ周期的に実行され、その都
度、リフレッシュアドレスカウンタRFCが順次更新さ
れる。その結果、セルフリフレッシュモードにおける単
位時間あたりのリフレッシュ回数が実質的に四分の一と
なり、相応してメモリアレイの平均消費電流が削減され
る。On the other hand, when the pseudo static RAM is set to the self refresh mode, the eight memory arrays are simultaneously operated, although not particularly limited thereto. At this time, in each memory array, the upper side array or the lower side array is the complementary internal address signal B X of the most significant bit.
The refresh operation is simultaneously performed on a total of eight word lines selectively activated in these memory arrays in accordance with 10.
These refresh operations are autonomously and periodically executed at a cycle that is four times the normal refresh cycle, and the refresh address counter RFC is sequentially updated each time. As a result, the number of refresh operations per unit time in the self-refresh mode is substantially reduced to one quarter, and the average current consumption of the memory array is correspondingly reduced.
【0033】図3において、この擬似スタティック型R
AMは、8ビットの入力又は出力データに対応して設け
られる8個のデータ入出力端子IO0〜IO7を備え、
またこれらのデータ入出力端子に対応した8個の単位回
路をそれぞれ含むデータ入力バッファDIB及びデータ
出力バッファDOBを備える。データ入出力端子IO0
〜IO7は、データ入力バッファDIBの対応する単位
回路の入力端子に結合されるとともに、データ出力バッ
ファDOBの対応する単位回路の出力端子に結合され
る。データ入力バッファDIBには、タイミング発生回
路TGからタイミング信号φdicが供給され、データ
出力バッファDOBには、タイミング信号φdocが供
給される。In FIG. 3, this pseudo static type R
The AM includes eight data input / output terminals IO0 to IO7 provided corresponding to 8-bit input or output data,
In addition, a data input buffer DIB and a data output buffer DOB each including eight unit circuits corresponding to these data input / output terminals are provided. Data input / output terminal IO0
.About.IO7 is coupled to the input terminal of the corresponding unit circuit of the data input buffer DIB, and is also coupled to the output terminal of the corresponding unit circuit of the data output buffer DOB. The data input buffer DIB is supplied with the timing signal φdic from the timing generation circuit TG, and the data output buffer DOB is supplied with the timing signal φdoc.
【0034】ここで、タイミング信号φdicは、特に
制限されないが、擬似スタティック型RAMが通常の書
き込みモードで選択状態とされるとき、データ入出力端
子IO0〜IO7を介して供給される入力データのレベ
ルが確定される時点で、選択的にハイレベルとされる。
また、タイミング信号φdocは、擬似スタティック型
RAMが通常の読み出しモードで選択状態とされると
き、選択された8個のメモリセルの読み出し信号のレベ
ルが確定される時点で、選択的にハイレベルとされる。Here, the timing signal φdic is not particularly limited, but when the pseudo static RAM is selected in the normal write mode, the level of the input data supplied through the data input / output terminals IO0 to IO7. Is set to high level selectively.
Further, the timing signal φdoc is selectively set to the high level when the levels of the read signals of the eight selected memory cells are determined when the pseudo static RAM is selected in the normal read mode. To be done.
【0035】データ入力バッファDIBの下位4個の単
位回路の出力端子は、書き込み回路DILL及びDIR
Lの対応する単位回路の入力端子にそれぞれ結合され、
データ入力バッファDIBの上位4個の単位回路の出力
端子は、書き込み回路DILR及びDIRRの対応する
単位回路の入力端子にそれぞれ結合される。同様に、デ
ータ出力バッファDOBの下位4個の単位回路の入力端
子は、メインアンプMALL及びMARLの対応する単
位回路の出力端子にそれぞれ結合され、データ出力バッ
ファDOBの上位4個の単位回路の入力端子は、メイン
アンプMALR及びMARRの対応する単位回路の出力
端子にそれぞれ結合される。メインアンプMALL及び
MALRには、タイミング発生回路TGからタイミング
信号φma0が供給され、メインアンプMARL及びM
ARRには、タイミング信号φma1が供給される。The output terminals of the lower four unit circuits of the data input buffer DIB are the write circuits DILL and DIR.
Are connected to the input terminals of the corresponding unit circuits of L,
The output terminals of the upper four unit circuits of the data input buffer DIB are respectively coupled to the input terminals of the corresponding unit circuits of the write circuits DILR and DIRR. Similarly, the input terminals of the lower four unit circuits of the data output buffer DOB are respectively coupled to the output terminals of the corresponding unit circuits of the main amplifiers MALL and MARL, and the input terminals of the upper four unit circuits of the data output buffer DOB are input. The terminals are respectively coupled to the output terminals of the corresponding unit circuits of the main amplifiers MALR and MARR. The timing signal φma0 is supplied from the timing generation circuit TG to the main amplifiers MALL and MALR, and the main amplifiers MALL and MLR are supplied.
The timing signal φma1 is supplied to the ARR.
【0036】データ入力バッファDIBは、擬似スタテ
ィック型RAMが書き込み系の動作サイクルで選択状態
とされるとき、データ入出力端子IO0〜IO7を介し
て供給される入力データをタイミング信号φdicに従
って取り込み、これを書き込み回路DILLないしDI
RRの対応する単位回路を介して同時に選択状態とされ
る8個のメモリセルに書き込む。また、データ出力バッ
ファDOBは、擬似スタティック型RAMが読み出し系
の動作サイクルで選択状態とされるとき、メインアンプ
MALLないしMARRによって増幅される8ビットの
読み出し信号をタイミング信号φdocに従って取り込
み、対応するデータ入出力端子IO0〜IO7を介して
外部に送出する。タイミング信号φdocがロウレベル
とされるとき、データ出力バッファDOBの出力はハイ
インピーダンス状態とされる。The data input buffer DIB takes in the input data supplied through the data input / output terminals IO0 to IO7 according to the timing signal φdic when the pseudo static RAM is selected in the write operation cycle, Write circuit DILL or DI
Data is simultaneously written into eight memory cells which are brought into the selected state via the corresponding unit circuit of RR. Further, the data output buffer DOB fetches an 8-bit read signal amplified by the main amplifiers MALL to MARR according to the timing signal φdoc when the pseudo static RAM is selected in the read operation cycle, and outputs the corresponding data. It is sent to the outside through the input / output terminals IO0 to IO7. When the timing signal φdoc is at low level, the output of the data output buffer DOB is in a high impedance state.
【0037】3.1.2.動作サイクル 表1には、この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの動作サイクルが表示されている。また、図5ない
し図11には、表1に記載される各動作サイクルの一実
施例のタイミング図が示されている。これらの表及び図
をもとに、この実施例の擬似スタティック型RAMの各
動作サイクルの概要とその特徴について説明する。3.1.2. Operation Cycle Table 1 shows a pseudo static type R to which the present invention is applied.
The operation cycle of AM is displayed. 5 to 11 are timing charts showing one embodiment of each operation cycle shown in Table 1. Based on these tables and figures, an outline of each operation cycle of the pseudo static RAM of this embodiment and its features will be described.
【0038】[0038]
【表1】 [Table 1]
【0039】(1)リードサイクル 擬似スタティック型RAMは、図5に示されるように、
チップイネーブル信号CEBの立ち下がりエッジにおい
てライトイネーブル信号WEB及び出力イネーブル信号
OEBすなわちリフレッシュ制御信号RFSHBがとも
にハイレベルであることを条件に、リードサイクルとさ
れる。出力イネーブル信号OEBは、読み出しデータの
出力動作を遅延させない所定のタイミングで、一時的に
ロウレベルとされる。アドレス入力端子A0〜A10及
びA11〜A18には、チップイネーブル信号CEBの
立ち下がりエッジに同期して、11ビットのXアドレス
信号と8ビットのYアドレス信号が供給される。また、
データ入出力端子IO0〜IO7は、通常ハイインピー
ダンス状態とされ、所定のアクセスタイムが経過した時
点で、同時に選択状態とされる8個のメモリセルから出
力される8ビットの読み出しデータが送出される。(1) Read cycle As shown in FIG. 5, the pseudo static RAM has the following structure.
A read cycle is performed on condition that the write enable signal WEB and the output enable signal OEB, that is, the refresh control signal RFSHB are both at the high level at the falling edge of the chip enable signal CEB. The output enable signal OEB is temporarily set to the low level at a predetermined timing that does not delay the output operation of the read data. An 11-bit X address signal and an 8-bit Y address signal are supplied to the address input terminals A0 to A10 and A11 to A18 in synchronization with the falling edge of the chip enable signal CEB. Also,
The data input / output terminals IO0 to IO7 are normally in a high-impedance state, and when a predetermined access time elapses, 8-bit read data output from eight memory cells that are simultaneously selected are transmitted. .
【0040】(2)ライトサイクル 擬似スタティック型RAMは、図6に示されるように、
チップイネーブル信号CEBの立ち下がりエッジにおい
て出力イネーブル信号OEBがハイレベルとされ、かつ
ライトイネーブル信号WEBがチップイネーブル信号C
EBに先立ってロウレベルとされあるいはチップイネー
ブル信号CEBに遅れて所定のタイミングで一時的にロ
ウレベルとされることを条件に、ライトサイクルとされ
る。アドレス入力端子A0〜A10及びA11〜A18
には、X及びYアドレス信号が入力され、データ入出力
端子IO0〜IO7には、書き込み動作を遅延させない
所定のタイミングで8ビットの書き込みデータが供給さ
れる。(2) Write cycle As shown in FIG. 6, the pseudo static RAM has the following structure.
At the falling edge of the chip enable signal CEB, the output enable signal OEB is set to the high level, and the write enable signal WEB is set to the chip enable signal C.
The write cycle is performed on the condition that it is set to the low level before the EB or is temporarily set to the low level at a predetermined timing after the chip enable signal CEB. Address input terminals A0-A10 and A11-A18
Are input with X and Y address signals, and 8-bit write data is supplied to the data input / output terminals IO0 to IO7 at a predetermined timing that does not delay the write operation.
【0041】(3)リードモディファイライトサイクル この動作サイクルは、いわば上記リードサイクルとライ
トサイクルを組み合わせた動作サイクルであって、擬似
スタティック型RAMは、図7に示されるように、チッ
プイネーブル信号CEBの立ち下がりエッジにおいて出
力イネーブル信号OEB及びライトイネーブル信号WE
Bがハイレベルであるため、まずリードサイクルを開始
する。そして、指定されたアドレスの読み出しデータを
データ入出力端子IO0〜IO7から送出した後、ライ
トイネーブル信号WEBが一時的にロウレベルとされる
時点で、データ入出力端子IO0〜IO7から供給され
る8ビットの書き込みデータを上記アドレスに書き込
む。(3) Read Modify Write Cycle This operation cycle is, so to speak, an operation cycle in which the above read cycle and write cycle are combined. In the pseudo static RAM, as shown in FIG. 7, the chip enable signal CEB is used. Output enable signal OEB and write enable signal WE at the falling edge
Since B is at a high level, the read cycle is started first. Then, after the read data of the specified address is transmitted from the data input / output terminals IO0 to IO7, the 8-bit data supplied from the data input / output terminals IO0 to IO7 at the time when the write enable signal WEB is temporarily set to the low level. Write data is written to the above address.
【0042】(4)アドレスリフレッシュサイクル 擬似スタティック型RAMは、図8に示されるように、
チップイネーブル信号CEBの立ち下がりエッジにおい
てライトイネーブル信号WEB及び出力イネーブル信号
OEBがハイレベルとされ、かつその後も継続してハイ
レベルに固定されることを条件に、アドレスリフレッシ
ュサイクルを実行する。アドレス入力端子A0〜A10
には、チップイネーブル信号CEBに同期して、リフレ
ッシュすべきワード線を指定する11ビットのXアドレ
ス信号が供給される。(4) Address refresh cycle As shown in FIG. 8, the pseudo static RAM has the following structure.
The address refresh cycle is executed on the condition that the write enable signal WEB and the output enable signal OEB are set to the high level at the falling edge of the chip enable signal CEB, and thereafter they are continuously fixed to the high level. Address input terminals A0 to A10
Is supplied with an 11-bit X address signal designating a word line to be refreshed in synchronization with the chip enable signal CEB.
【0043】擬似スタティック型RAMでは、上記リー
ドサイクルと同様に、2個のメモリアレイが同時に選択
状態とされ、各メモリアレイにおいてそれぞれ1本、合
計2本のワード線が同時に選択状態とされる。そして、
これらのワード線に結合されるそれぞれ1024個、合
計2048個のメモリセルの記憶データが対応する相補
データ線に一斉に出力され、各センスアンプの対応する
単位増幅回路によるリフレッシュつまり再書き込みを受
ける。In the pseudo static RAM, as in the above read cycle, two memory arrays are simultaneously selected, and one word line in each memory array, that is, two word lines in total are simultaneously selected. And
The stored data of a total of 2048 memory cells, which are 1024 each coupled to these word lines, are output to the corresponding complementary data lines all at once, and undergo refresh or rewrite by the corresponding unit amplifier circuit of each sense amplifier.
【0044】(5)オートリフレッシュサイクル 擬似スタティック型RAMは、図9に示されるように、
チップイネーブル信号CEBがハイレベルに固定された
状態で、出力イネーブル信号OEBすなわちリフレッシ
ュ制御信号RFSHBが比較的短い時間で一時的にロウ
レベルとされることを条件に、オートリフレッシュサイ
クルを実行する。このとき、リフレッシュすべきワード
線を指定するためのリフレッシュアドレスは、擬似スタ
ティック型RAMに内蔵されるリフレッシュカウンタR
FCから供給される。(5) Auto-refresh cycle As shown in FIG. 9, the pseudo static RAM has the following structure.
With the chip enable signal CEB fixed at the high level, the auto refresh cycle is executed on condition that the output enable signal OEB, that is, the refresh control signal RFSHB is temporarily set to the low level in a relatively short time. At this time, the refresh address for designating the word line to be refreshed is the refresh counter R incorporated in the pseudo static RAM.
Supplied from FC.
【0045】擬似スタティック型RAMでは、リフレッ
シュカウンタRFCによって指定される合計2本のワー
ド線が同時に選択状態とされ、対応する合計2048個
のメモリセルに対するリフレッシュ動作が一斉に行われ
る。リフレッシュカウンタRFCは、その出力信号すな
わちリフレッシュアドレスがXアドレスバッファに取り
込まれた後の時点で、自動的に更新される。In the pseudo static RAM, a total of two word lines designated by the refresh counter RFC are simultaneously selected, and a total of 2048 corresponding memory cells are simultaneously refreshed. The refresh counter RFC is automatically updated at a time point after its output signal, that is, the refresh address is fetched in the X address buffer.
【0046】(6)セルフリフレッシュサイクル 擬似スタティック型RAMは、図10に示されるよう
に、チップイネーブル信号CEBがハイレベルに固定さ
れた状態で、出力イネーブル信号OEBすなわちリフレ
ッシュ制御信号RFSHBが比較的長い時間継続してロ
ウレベルとされることを条件に、セルフリフレッシュモ
ードとされる。(6) Self-Refresh Cycle In the pseudo static RAM, as shown in FIG. 10, the output enable signal OEB, that is, the refresh control signal RFSHB is relatively long while the chip enable signal CEB is fixed at the high level. The self-refresh mode is set on condition that the low level is continuously maintained for a time.
【0047】擬似スタティック型RAMでは、リフレッ
シュタイマーカウンタ回路SRCが起動されると同時
に、まずセルフリフレッシュモードによる1回のセルフ
リフレッシュサイクルが実行される。そして、その後、
リフレッシュタイマーカウンタ回路SRCから所定の周
波数のリフレッシュ起動信号が出力されることで、対応
する周期で上記セルフリフレッシュサイクルを繰り返
す。このとき、リフレッシュアドレスは、リフレッシュ
カウンタRFCによって順次指定される。In the pseudo static RAM, the refresh timer counter circuit SRC is activated and at the same time, one self refresh cycle in the self refresh mode is executed first. And then
When the refresh timer counter circuit SRC outputs a refresh start signal having a predetermined frequency, the self-refresh cycle is repeated at a corresponding cycle. At this time, the refresh address is sequentially designated by the refresh counter RFC.
【0048】ところで、このセルフリフレッシュサイク
ルにおいて、擬似スタティック型RAMでは、8個のメ
モリアレイが同時に動作状態とされ、合計8本のワード
線が選択状態とされる。これにより、これらのワード線
に結合される合計8192個のメモリセルに対するリフ
レッシュ動作が一斉に行われ、メモリアレイの平均動作
電流が削減される。By the way, in this self-refresh cycle, in the pseudo-static RAM, eight memory arrays are simultaneously activated, and a total of eight word lines are selected. As a result, the refresh operation is simultaneously performed on a total of 8192 memory cells coupled to these word lines, and the average operating current of the memory array is reduced.
【0049】(9)テストサイクル 擬似スタティック型RAMは、図11に示されるよう
に、出力イネーブル信号OEB,ライトイネーブル信号
WEB又はチップイネーブル信号CEBが、回路の電源
電圧を超える所定の高電圧とされることを条件に、3種
類のテストモードによるテストサイクルを選択的に実行
する。(9) Test Cycle In the pseudo static RAM, as shown in FIG. 11, the output enable signal OEB, the write enable signal WEB or the chip enable signal CEB is set to a predetermined high voltage exceeding the power supply voltage of the circuit. Under the condition, the test cycles in the three test modes are selectively executed.
【0050】擬似スタティック型RAMは、上記起動制
御信号のいずれかが上記高電圧とされることで、テスト
モードの種類を判定するとともに、対応するテストサイ
クルを起動する。各テストモードの具体的な内容と、各
テストサイクルにおける擬似スタティック型RAMの動
作のについては、後で詳細に説明する。In the pseudo static RAM, one of the activation control signals is set to the high voltage to determine the type of the test mode and activate the corresponding test cycle. The specific contents of each test mode and the operation of the pseudo static RAM in each test cycle will be described in detail later.
【0051】3.1.3.テスト方式 この擬似スタティック型RAMは、特に制限されない
が、表2に示されるように、製品完成後において外部端
子を介して実施しうる三つのテストモードを有する。3.1.3. Test Method This pseudo static RAM has three test modes, which are not particularly limited, but can be carried out through the external terminals after the product is completed, as shown in Table 2.
【0052】[0052]
【表2】 ECRF:Extra Control Refresh RCC:Refresh Counter Check STIC:Self Timer Check[Table 2] ECRF: Extra Control Refresh RCC: Refresh Counter Check STIC: Self Timer Check
【0053】(1)ECRFテストモード 擬似スタティック型RAMは、図11(a)に示される
ように、チップイネーブル信号CEBがハイレベルに固
定され、かつ出力イネーブル信号OEBが回路の電源電
圧を超える所定の高電圧とされることで、ECRFテス
トモードによるテストサイクルを実施する。このとき、
擬似スタティック型RAMのアドレス入力端子A11に
は、所定の試験制御信号が供給される。すなわち、出力
イネーブル信号OEBの立ち上がりエッジにおいて、上
記試験制御信号がハイレベルであると、擬似スタティッ
ク型RAMはセルフリフレッシュモードとされ、またロ
ウレベルであると、オートリフレッシュモードとされ
る。(1) ECRF test mode In the pseudo static RAM, as shown in FIG. 11A, the chip enable signal CEB is fixed to the high level and the output enable signal OEB exceeds the power supply voltage of the circuit. The test cycle in the ECRF test mode is carried out by using the high voltage. At this time,
A predetermined test control signal is supplied to the address input terminal A11 of the pseudo static RAM. That is, at the rising edge of the output enable signal OEB, the pseudo static RAM is set to the self refresh mode when the test control signal is at the high level, and is set to the auto refresh mode when it is at the low level.
【0054】これらのセルフリフレッシュ及びオートリ
フレッシュモードにおいて、擬似スタティック型RAM
には、アドレス入力端子A0〜A10を介して、リフレ
ッシュアドレスが供給される。また、これらのリフレッ
シュサイクルは、上記試験制御信号がロウレベルからハ
イレベルに繰り返し変化されることで、繰り返し実施さ
れ、試験制御信号の立ち上がりの都度、アドレス入力端
子A0〜A10に供給されるリフレッシュアドレスが取
り込まれる。In these self-refresh and auto-refresh modes, a pseudo static RAM
Is supplied with a refresh address via the address input terminals A0 to A10. Further, these refresh cycles are repeatedly executed by repeatedly changing the test control signal from the low level to the high level, and the refresh address supplied to the address input terminals A0 to A10 is updated every time the test control signal rises. It is captured.
【0055】これにより、擬似スタティック型RAMの
リフレッシュ動作におけるアドレス依存性等を試験確認
できるとともに、試験制御信号によってリフレッシュ周
期を任意に設定できるため、擬似スタティック型RAM
の情報保持特性等を試験確認することができる。As a result, the address dependency and the like in the refresh operation of the pseudo static RAM can be tested and confirmed, and the refresh cycle can be arbitrarily set by the test control signal.
It is possible to test and confirm the information retention characteristics and the like.
【0056】(2)RCCテストモード 擬似スタティック型RAMは、図11(b)に示される
ように、チップイネーブル信号CEBがハイレベルに固
定されるとともに出力イネーブル信号OEBが通常のロ
ウレベルとされ、かつ出力イネーブル信号OEBの立ち
下がりエッジに前後してライトイネーブル信号WEBが
回路の電源電圧を超える所定の高電圧とされることで、
RCCテストモードによるテストサイクルを選択的に実
施する。すなわち、ライトイネーブル信号WEBが出力
イネーブル信号OEBの立ち下がりエッジに遅れて高電
圧とされる場合、擬似スタティック型RAMは、セルフ
リフレッシュモードとされ、出力イネーブル信号OEB
の立ち下がりに先立って高電圧とされる場合、オートリ
フレッシュモードとされる。(2) RCC Test Mode In the pseudo static RAM, as shown in FIG. 11B, the chip enable signal CEB is fixed to the high level, the output enable signal OEB is set to the normal low level, and By setting the write enable signal WEB to a predetermined high voltage exceeding the power supply voltage of the circuit before and after the falling edge of the output enable signal OEB,
A test cycle in the RCC test mode is selectively performed. That is, when the write enable signal WEB is set to the high voltage after the falling edge of the output enable signal OEB, the pseudo static RAM is set to the self refresh mode and the output enable signal OEB is set.
When the high voltage is applied prior to the falling edge of, the auto refresh mode is set.
【0057】このとき、リフレッシュ動作の対象となる
ワード線のアドレスは、リフレッシュカウンタRFCに
よって指定され、また、アドレス入力端子A11を介し
て供給される試験制御信号の立ち下がりエッジにおい
て、上記リフレッシュカウンタRFCが更新される。さ
らに、これらのリフレッシュサイクルにおいて、擬似ス
タティック型RAMではワード線を順次選択状態としな
がら、併せて特定のカラムアドレスのメモリセルに対す
る書き込み動作行われる。その結果、各ワード線の特定
アドレスに書き込まれたデータを通常のリードサイクル
よって順次読み出し照合することで、擬似スタティック
型RAMに内蔵されるリフレッシュカウンタの計数機能
を試験確認することができる。At this time, the address of the word line to be refreshed is specified by the refresh counter RFC, and at the falling edge of the test control signal supplied via the address input terminal A11, the refresh counter RFC is set. Will be updated. Further, in these refresh cycles, in the pseudo-static RAM, the word line is sequentially selected, and at the same time, the write operation to the memory cell of the specific column address is performed. As a result, it is possible to test and confirm the counting function of the refresh counter incorporated in the pseudo static RAM by sequentially reading and collating the data written in the specific address of each word line in a normal read cycle.
【0058】(3)STICテストモード 擬似スタティック型RAMは、図11(c)に示される
ように、チップイネーブル信号CEBが回路の電源電圧
を超える所定の高電圧とされ、かつ出力イネーブル信号
OEBがやや遅れてロウレベルとされることで、STI
Cテストモードによるテストサイクルを実施する。この
とき、擬似スタティック型RAMは、セルフリフレッシ
ュモードとされる。そして、リフレッシュタイマー回路
TMRの出力信号すなわちリフレッシュタイマーカウン
タ回路SRCによって計数される反転タイミング信号φ
clBが、データ入出力端子IO6を介して出力され、
上記リフレッシュタイマーカウンタ回路SRCの出力信
号すなわちセルフリフレッシュモードのリフレッシュ周
期を決定する反転タイミング信号φsrfBが、データ
入出力端子IO7を介して出力される。これにより、擬
似スタティック型RAMの外部から、セルフリフレッシ
ュモードにおけるリフレッシュ周期を試験確認すること
ができるものとなる。(3) STIC Test Mode In the pseudo static RAM, as shown in FIG. 11C, the chip enable signal CEB is set to a predetermined high voltage exceeding the power supply voltage of the circuit, and the output enable signal OEB is STI is set to a low level with a slight delay.
Perform a test cycle in the C test mode. At this time, the pseudo static RAM is set to the self refresh mode. The output signal of the refresh timer circuit TMR, that is, the inverted timing signal φ counted by the refresh timer counter circuit SRC.
clB is output via the data input / output terminal IO6,
The output signal of the refresh timer counter circuit SRC, that is, the inversion timing signal φsrfB that determines the refresh cycle in the self-refresh mode is output via the data input / output terminal IO7. As a result, the refresh cycle in the self-refresh mode can be tested and confirmed from the outside of the pseudo static RAM.
【0059】このように、この擬似スタティック型RA
Mでは、チップイネーブル信号CEB,ライトイネーブ
ル信号WEB及び出力イネーブル信号OEB等の起動制
御信号等が選択的に回路の電源電圧を超える高電圧とさ
れることで、テストモードの種類を判定し、またテスト
サイクルの起動条件とする。その結果、テストモードの
設定とテストサイクルの起動を同時に実現し、擬似スタ
ティック型RAMの試験動作の簡素化が図られる。Thus, this pseudo-static RA
In M, the start control signals such as the chip enable signal CEB, the write enable signal WEB, and the output enable signal OEB are selectively set to a high voltage exceeding the power supply voltage of the circuit to determine the type of test mode. It is the start condition of the test cycle. As a result, the setting of the test mode and the activation of the test cycle are realized at the same time, and the test operation of the pseudo static RAM can be simplified.
【0060】ところで、擬似スタティック型RAMに内
蔵されるリフレッシュタイマーカウンタ回路SRCは、
8ビットのバイナリィカウンタによって構成され、各ビ
ットに対応して設けられるヒューズ手段が選択的に切断
されることで、その計数初期値すなわちカウンタモデュ
ロが選択的に設定される。したがって、この実施例の擬
似スタティック型RAMでは採用されていないが、上記
リフレッシュタイマーカウンタ回路SRCの特性を効果
的に試験する方法として、図50に示されるような方法
が考えられる。By the way, the refresh timer counter circuit SRC incorporated in the pseudo static RAM is
An 8-bit binary counter is provided, and the fuse means provided corresponding to each bit is selectively cut to selectively set the initial count value, that is, the counter modulo. Therefore, although not used in the pseudo static RAM of this embodiment, a method shown in FIG. 50 can be considered as a method for effectively testing the characteristics of the refresh timer counter circuit SRC.
【0061】すなわち、図50において、擬似スタティ
ック型RAMには、例えばアドレス入力端子A0〜A7
を介して、リフレッシュタイマーカウンタ回路SRCの
計数初期値が供給される。これらの計数初期値すなわち
反転内部信号aiBは、反転タイミング信号φextB
がロウレベルとされることで、リフレッシュタイマーカ
ウンタ回路SRCの対応するビットに取り込まれ、これ
によってリフレッシュタイマーカウンタ回路SRCの計
数初期値が設定される。その結果、計数初期値に応じた
リフレッシュタイマー回路TMR及びリフレッシュタイ
マーカウンタ回路SRCの特性を試験確認できるととも
に、擬似スタティック型RAMのリフレッシュ周期を切
り換えながらその動作特性を試験確認できる。That is, in FIG. 50, the pseudo static RAM has, for example, address input terminals A0 to A7.
The initial count value of the refresh timer counter circuit SRC is supplied via. These counting initial values, that is, the inversion internal signal aiB, are the inversion timing signal φextB.
Is set to a low level, the bit is taken into the corresponding bit of the refresh timer counter circuit SRC, and thereby the initial count value of the refresh timer counter circuit SRC is set. As a result, the characteristics of the refresh timer circuit TMR and the refresh timer counter circuit SRC corresponding to the initial count value can be tested and confirmed, and the operation characteristics thereof can be tested and confirmed while switching the refresh cycle of the pseudo static RAM.
【0062】3.1.4.アドレス構成及び選択方式 擬似スタティック型RAMは、前述のように、ノンアド
レスマルチプレクス方式をとり、Xアドレス信号及びY
アドレス信号を同時に入力するための合計19個のアド
レス入力端子A0〜A18を備える。また、それぞれ対
をなし実質的に上下二分割される合計16個のメモリア
レイを備え、各メモリアレイは、後述するように、択一
的に選択状態とされかつ4本ずつ群分割される64群、
合計256本のワード線と、同時に4組ずつ選択的に選
択状態とされる合計1024組の相補データ線とをそれ
ぞれ含む。その結果、各メモリアレイは、それぞれ実質
的に262144、いわゆる256キロビットのアドレ
ス空間を有し、擬似スタティック型RAMはいわゆる4
メガビットの記憶容量を有するものとなる。3.1.4. Address configuration and selection method As described above, the pseudo static RAM adopts the non-address multiplex method, the X address signal and the Y address.
A total of 19 address input terminals A0 to A18 for simultaneously inputting address signals are provided. In addition, a total of 16 memory arrays, each of which is paired and is substantially divided into upper and lower parts, are provided. Each memory array is selectively selected and divided into groups of four, as will be described later. group,
It includes a total of 256 word lines and a total of 1024 sets of complementary data lines which are selectively selected by four sets at a time. As a result, each memory array has an address space of substantially 262144, which is a so-called 256 kilobit, and a pseudo static RAM has a so-called 4 address space.
It has a storage capacity of megabits.
【0063】擬似スタティック型RAMが通常の動作モ
ードで選択状態とされるとき、上記16個のメモリアレ
イは、実質2個ずつ同時にいわばペア選択される。そし
て、同時に動作状態とされる2個のメモリアレイからそ
れぞれ4個、合計8個のメモリセルが同時選択され、対
応するコモンI/O線に接続される。これらのメモリセ
ルは、さらに対応する書き込み回路又はメインアンプを
経て、データ入力バッファDIB又はデータ出力バッフ
ァDOBの対応する単位回路に接続される。When the quasi-static RAM is selected in the normal operation mode, the 16 memory arrays are pair-selected so that substantially two memory arrays are simultaneously selected. Then, a total of eight memory cells, four in total, are simultaneously selected from the two memory arrays that are simultaneously activated, and are connected to the corresponding common I / O lines. These memory cells are further connected to the corresponding unit circuit of the data input buffer DIB or the data output buffer DOB via the corresponding write circuit or main amplifier.
【0064】[0064]
【表3】 [Table 3]
【0065】この擬似スタティック型RAMにおいて、
19個のアドレス入力端子A0〜A18を介して入力さ
れるアドレス信号は、特に制限されないが、表3に示さ
れるように分類され、それぞれ対応する用途に供され
る。すなわち、まずアドレス入力端子A0〜A10を介
して入力される11ビットはXアドレス信号とされ、こ
のうち下位2ビットのアドレス信号A0及びA1ならび
に最上位ビットのアドレス信号A10は、タイミング発
生回路TGに供給される。タイミング発生回路TGで
は、アドレス信号A0及びA1によってメモリアレイペ
アの選択が行われ、アドレス信号A10によって上辺又
は下辺アレイの選択が行われる。その結果、16個のメ
モリアレイは、言わば八分の一選択され、2個ずつ同時
に動作状態とされる。前述のように、擬似スタティック
型RAMがセルフリフレッシュモードとされるとき、ア
ドレス信号A0及びA1は意味をなさず、8個の上辺又
は下辺アレイが一斉に動作状態とされる。In this pseudo static RAM,
The address signals input via the 19 address input terminals A0 to A18 are classified as shown in Table 3 and provided for corresponding uses, respectively, although not particularly limited thereto. That is, first, 11 bits input via the address input terminals A0 to A10 are used as the X address signal, and the lower 2 bits of the address signals A0 and A1 and the uppermost bit of the address signal A10 are sent to the timing generation circuit TG. Supplied. In the timing generation circuit TG, the memory array pair is selected by the address signals A0 and A1, and the upper side array or the lower side array is selected by the address signal A10. As a result, 16 memory arrays are selected, so to speak, one eighth, and two memory arrays are simultaneously activated. As described above, when the pseudo static RAM is in the self-refresh mode, the address signals A0 and A1 have no meaning, and the eight upper side or lower side arrays are simultaneously activated.
【0066】次に、6ビットのアドレス信号A4ないし
A9は、XプリデコーダPXDに供給され、それぞれ2
ビットずつ組み合わされてデコードされる。その結果、
対応するプリデコードAX450〜AX453ないしA
X890〜AX893がそれぞれ択一的にハイレベルと
される。これらのプリデコード信号は、Xデコーダに供
給され、各メモリアレイのワード線群を択一的に選択す
るために供される。さらに、2ビットのアドレス信号A
2及びA3は、ワード線選択駆動信号発生回路PWDに
供給され、ワード線駆動信号発生回路φXGから出力さ
れるワード線駆動信号φxと組み合わされることで、ワ
ード線選択駆動信号X00,X01,X10及びX11
を択一的に形成するために供される。前述のように、ワ
ード線駆動信号φxならびにワード線選択駆動信号X0
0〜X11は、回路の電源電圧を超える所定のブースト
レベルとされる。その結果、以上8ビットのアドレス信
号A2ないしA9に従って、上記アドレス信号A0及び
A1ならびにA10によって指定される2個のメモリア
レイを構成する256本のワード線のうちの1本が択一
的に選択状態とされる。Next, the 6-bit address signals A4 to A9 are supplied to the X predecoder PXD, and 2 bits are supplied to each of them.
Bits are combined and decoded. as a result,
Corresponding predecode AX450 to AX453 to A
X890 to AX893 are alternatively set to the high level. These predecode signals are supplied to the X decoder and are used to selectively select the word line group of each memory array. Furthermore, a 2-bit address signal A
2 and A3 are supplied to the word line selection drive signal generation circuit PWD, and combined with the word line drive signal φx output from the word line drive signal generation circuit φXG, the word line selection drive signals X00, X01, X10, and X11
Is provided to form the alternative. As described above, the word line drive signal φx and the word line selection drive signal X0
0 to X11 are predetermined boost levels exceeding the power supply voltage of the circuit. As a result, one of the 256 word lines forming the two memory arrays specified by the address signals A0, A1 and A10 is selectively selected according to the 8-bit address signals A2 to A9. To be in a state.
【0067】同様に、アドレス入力端子A11〜A18
を介して入力される8ビットのアドレス信号A11〜A
18は、Yアドレス信号とされ、データ線選択に供され
る。すなわち、アドレス信号A11〜A18は、Yプリ
デコーダPYDに供給され、表3に示されるように、A
11及びA12,A13及びA14,A15及びA16
ならびにA17及びA18の組み合わせで、それぞれ2
ビットずつデコードされる。その結果、対応するプリデ
コード信号AY120〜AY123,AY340〜AY
343,AY560〜AY563ならびにAY780〜
AY783が、それぞれ択一的にハイレベルとされる。
これらのプリデコード信号は、Yデコーダのデコーダト
リーによってさらに組み合わされ、その結果、動作状態
とされる2個のメモリアレイからそれぞれ4組、合計8
組の相補データ線が選択され、対応するコモンI/O線
に接続される。これにより、いわゆる4メガビットのメ
モリセルから8個のメモリセルが選択され、データ入出
力端子IO0〜IO7を介する8ビットの記憶データの
入出力動作が行われる。Similarly, address input terminals A11 to A18
8-bit address signals A11 to A input via
Reference numeral 18 is a Y address signal, which is used for data line selection. That is, the address signals A11 to A18 are supplied to the Y predecoder PYD, and as shown in Table 3, A
11 and A12, A13 and A14, A15 and A16
And the combination of A17 and A18, each 2
Decoded bit by bit. As a result, the corresponding predecode signals AY120 to AY123 and AY340 to AY are generated.
343, AY560 to AY563 and AY780
AY783 is alternatively set to the high level.
These pre-decoded signals are further combined by the decoder tree of the Y-decoder, resulting in four sets each from two memory arrays that are activated, for a total of eight.
A set of complementary data lines is selected and connected to the corresponding common I / O line. As a result, eight memory cells are selected from so-called 4-megabit memory cells, and 8-bit storage data is input / output through the data input / output terminals IO0 to IO7.
【0068】3.1.5.冗長構成 擬似スタティック型RAMは、前述のように、それぞれ
対をなし実質的に上下二分割される合計16個のメモリ
アレイを備え、これらのメモリアレイは、特に制限され
ないが、4本の冗長ワード線と32組の冗長相補データ
線とをそれぞれ備える。冗長ワード線及び冗長相補デー
タ線は、上記16個のメモリアレイにおいて同時にかつ
共通の欠陥素子を対象として選択的に切り換えられ、対
応する欠陥ワード線又は欠陥相補データ線に代わってそ
れぞれ1本あるいは4組ずつ選択的に選択状態とされ
る。このため、擬似スタティック型RAMは、すべての
メモリアレイの冗長ワード線ごとに対応して共通に設け
られる4個のX系冗長回路XR0〜XR3と、4組の冗
長相補データ線ごとに対応して共通に設けられる8個の
Y系冗長回路YRAC0〜YRAC7とを備える。3.1.5. Redundant Configuration Pseudo-static RAM is provided with a total of 16 memory arrays that are paired and are substantially divided into upper and lower parts, as described above. These memory arrays are not particularly limited, but four redundant words are included. Line and 32 sets of redundant complementary data lines, respectively. The redundant word line and the redundant complementary data line are selectively switched at the same time and in common with respect to the common defective element in the 16 memory arrays, and one or four of them are replaced with the corresponding defective word line or defective complementary data line, respectively. The groups are selectively brought into a selected state. Therefore, the pseudo static RAM corresponds to four X-system redundant circuits XR0 to XR3 which are commonly provided corresponding to redundant word lines of all memory arrays and four redundant complementary data lines. Eight Y-system redundant circuits YRAC0 to YRAC7 provided in common are provided.
【0069】このうち、X系冗長回路XR0〜XR3
は、アレイ選択に供されるものを除く8ビットのアドレ
ス信号A2〜A9すなわち相補内部アドレス信号BX2
〜BX9と、対応する冗長ワード線に割り当てられた不
良アドレスとを比較照合する。その結果、両アドレスが
全ビット一致すると、その出力信号すなわち対応する反
転冗長ワード線選択信号XR0B〜XR3Bをロウレベ
ルとする。これらの反転冗長ワード線選択信号は、前述
のように、ワード線選択駆動信号発生回路PWDによっ
てワード線駆動信号φxならびに相補内部アドレス信号
BX10と組み合わされ、上辺又は下辺アレイに対応す
る冗長ワード線選択駆動信号XR0U〜XR3U又はX
R0D〜XR3Dとなる。これらの冗長ワード線選択駆
動信号は、各Xデコーダに供給され、冗長ワード線の選
択動作に供される。言うまでもなく、冗長ワード線が選
択されるとき、アドレス信号A2〜A9によって指定さ
れる欠陥ワード線の選択動作は停止される。Of these, the X system redundant circuits XR0 to XR3
Are 8-bit address signals A2 to A9 other than those used for array selection, that is, complementary internal address signals B X2.
~ B X9 and the defective address assigned to the corresponding redundant word line are compared and collated. As a result, when all the bits of both addresses match, the output signal, that is, the corresponding inverted redundant word line selection signals XR0B to XR3B are set to the low level. As described above, these inverted redundant word line selection signals are generated by the word line selection drive signal generation circuit PWD as well as the word line drive signal φx and the complementary internal address signal.
A redundant word line selection drive signal XR0U to XR3U or X, which is combined with B X10 and corresponds to the upper side array or the lower side array.
R0D to XR3D. These redundant word line selection drive signals are supplied to each X decoder and used for the redundant word line selection operation. Needless to say, when the redundant word line is selected, the operation of selecting the defective word line designated by the address signals A2 to A9 is stopped.
【0070】ところで、この擬似スタティック型RAM
のX系冗長回路XR0〜XR3は、図45に例示される
ように、4ビットのXアドレス信号すなわち相補内部ア
ドレス信号BX4〜BX7を受けかつ半導体基板面の上
辺側に配置されるX系冗長回路XR0U〜XR3Uと、
残り4ビットのXアドレス信号BX2及びBX3ならび
にBX8及びBX9を受けかつ半導体基板面の下辺側に
配置されるX系冗長回路XR0D〜XR3Dとにそれぞ
れ分割される。これらのX系冗長回路は、冗長用ROM
(読み出し専用メモリ)となる2個のヒューズ手段を含
みかつ実質的にこれらのヒューズ手段によって保持され
る不良アドレスと対応する相補内部アドレス信号BX2
〜BX9とが一致したことを判定する4個の冗長アドレ
ス比較回路と、一致検出ノードN9又はN10と回路の
接地電位との間に直列形態に設けられそのゲートに対応
する冗長アドレス比較回路の出力信号を受けるカスケー
ドMOSFET(金属酸化物半導体型電界効果トランジ
スタ。この明細書では、MOSFETをして絶縁ゲート
型電界効果トランジスタの総称とする)からなる一致検
出回路とをそれぞれ含む。By the way, this pseudo static RAM
45, the X system redundant circuits XR0 to XR3 receive the 4-bit X address signal, that is, the complementary internal address signals B X4 to B X7 and are arranged on the upper side of the semiconductor substrate surface. Redundant circuits XR0U to XR3U,
The remaining 4-bit X address signals B X2 and B X3 and B X8 and B X9 are received and divided into X system redundant circuits XR0D to XR3D arranged on the lower side of the semiconductor substrate surface. These X-system redundancy circuits are redundant ROMs.
Complementary internal address signal B X2 including two fuse means serving as (read-only memory) and substantially corresponding to a defective address held by these fuse means.
Of four redundant address comparison circuits for determining that B X9 match, and a redundant address comparison circuit corresponding to the gate provided in series between the match detection node N9 or N10 and the ground potential of the circuit. A match detection circuit including a cascade MOSFET (metal oxide semiconductor field effect transistor, which is a generic term for an insulated gate field effect transistor in the present specification) that receives an output signal is included.
【0071】上記一致検出ノードN9及びN10は、さ
らに実質的な負論理積回路を構成する2入力ノアゲート
回路の対応する入力端子に結合される。その結果、一致
検出ノードN9及びN10がともにロウレベルに引き抜
かれ、また対応する冗長イネーブル回路XREの出力信
号がハイレベルであることを条件に、各X系冗長回路の
出力信号すなわち上記反転冗長ワード線選択信号XR0
B〜XR3Bが選択的にロウレベルとされる。The coincidence detection nodes N9 and N10 are further coupled to corresponding input terminals of a 2-input NOR gate circuit which constitutes a substantial negative logical product circuit. As a result, the coincidence detection nodes N9 and N10 are both pulled out to the low level, and the output signal of each X-system redundant circuit, that is, the above-mentioned inverted redundant word line, is provided on condition that the output signal of the corresponding redundancy enable circuit XRE is at the high level. Selection signal XR0
B to XR3B are selectively set to low level.
【0072】このように、冗長回路の一致検出回路を構
成するカスケードMOSFETを、半導体基板面の上辺
又は下辺側に分散して配置される複数のアドレス入力パ
ッドあるいはアドレスバッファごとに分割し、それぞれ
の出力信号を論理回路によって論理積結合することで、
冗長回路の動作を実質的に高速化し、相応して擬似スタ
ティック型RAMのアクセスタイムを高速化できる。As described above, the cascade MOSFETs forming the coincidence detection circuit of the redundant circuit are divided into a plurality of address input pads or address buffers which are arranged dispersedly on the upper side or the lower side of the semiconductor substrate surface, and each of them is divided. By logically combining output signals with a logic circuit,
The operation of the redundant circuit can be substantially speeded up, and the access time of the pseudo static RAM can be speeded up accordingly.
【0073】冗長イネーブル回路XREは、図44に示
されるように、ヒューズ手段F1及びF2をそれぞれ含
むヒューズ論理ゲート回路を備える。これらのヒューズ
論理ゲート回路は、内部ノードN7又はN8と回路の電
源電圧との間に設けられるPチャンネルMOSFETQ
P16又はQP18と、上記内部ノードN7又はN8と
回路の接地電位との間に対応する上記ヒューズ手段F1
又はF2と直列形態に設けられるNチャンネルMOSF
ETQN21又はQN22とを含む。As shown in FIG. 44, the redundancy enable circuit XRE includes a fuse logic gate circuit including fuse means F1 and F2, respectively. These fuse logic gate circuits are P-channel MOSFET Q provided between the internal node N7 or N8 and the power supply voltage of the circuit.
The fuse means F1 corresponding to P16 or QP18 and the internal node N7 or N8 and the ground potential of the circuit.
Alternatively, an N-channel MOSF provided in series with F2
ETQN21 or QN22.
【0074】MOSFETQP16及びQN21ならび
にQP18及びQN22は、対応するヒューズ手段が切
断されないことを条件に、1個のCMOSインバータ回
路として作用する。このとき、内部ノードN7及びN8
のレベルは、反転タイミング信号CE1Bがロウレベル
とされあるいはタイミング信号XDPがハイレベルとさ
れることを条件に、ロウレベルとされる。対応するヒュ
ーズ手段F1又はF2が例えばレーザビーム等によって
切断されると、内部ノードN7及びN8のレベルは、上
記反転タイミング信号CE1B及びタイミング信号XD
Pに関係なく、ハイレベルに固定される。The MOSFETs QP16 and QN21 and QP18 and QN22 act as one CMOS inverter circuit provided that the corresponding fuse means is not blown. At this time, the internal nodes N7 and N8
Is set to the low level on condition that the inverted timing signal CE1B is set to the low level or the timing signal XDP is set to the high level. When the corresponding fuse means F1 or F2 is blown by, for example, a laser beam or the like, the levels of the internal nodes N7 and N8 become the above-mentioned inverted timing signal CE1B and timing signal XD.
It is fixed at the high level regardless of P.
【0075】各ヒューズ論理ゲート回路の出力信号つま
り内部ノードN7及びN8のレベルは、そのままあるい
は反転された後、ナンドゲート回路NAG7〜NAG9
からなる排他的論理和回路に供給される。ナンドゲート
回路NAG9の出力信号は、冗長イネーブル回路XRE
の出力信号XREとされる。これらのことから、冗長イ
ネーブル回路XREの出力信号XREは、反転タイミン
グ信号CE1Bがハイレベルとされかつタイミング信号
XDPがロウレベルとされるとき、対応するヒューズ手
段の切断状態に関係なくロウレベルとされる。また、上
記反転タイミング信号CE1Bがロウレベルとされ又は
タイミング信号XREがハイレベルとされるとき、対応
するヒューズ手段F1又はF2のいずれかが切断される
ことを条件に選択的にハイレベルとされる。このとき、
ヒューズ手段F1及びF2の両方が切断されあるいは両
方が切断されない場合、冗長イネーブル回路XREの出
力信号XREはロウレベルのままとされる。The output signals of the fuse logic gate circuits, that is, the levels of the internal nodes N7 and N8 are unchanged or inverted, and then the NAND gate circuits NAG7 to NAG9.
Is supplied to the exclusive OR circuit. The output signal of the NAND gate circuit NAG9 is the redundancy enable circuit XRE.
Output signal XRE. For these reasons, the output signal XRE of the redundancy enable circuit XRE is set to the low level regardless of the cut state of the corresponding fuse means when the inversion timing signal CE1B is set to the high level and the timing signal XDP is set to the low level. Further, when the inversion timing signal CE1B is set to the low level or the timing signal XRE is set to the high level, it is selectively set to the high level on condition that either the corresponding fuse means F1 or F2 is cut. At this time,
When both the fuse means F1 and F2 are cut or both are not cut, the output signal XRE of the redundancy enable circuit XRE is kept at the low level.
【0076】このように、冗長イネーブル回路XRE等
に含まれるヒューズ回路を、CMOS論理ゲート回路の
Nチャンネル又はPチャンネルMOSFETと出力ノー
ドとの間にヒューズ手段を設けてなるいわゆるヒューズ
論理ゲート回路を基本として構成することで、ヒューズ
回路の構成を簡素化し、その低コスト化を図ることがで
きる。また、ヒューズ回路に2個のヒューズ論理ゲート
回路を設け、これらのヒューズ論理ゲート回路の出力信
号を排他的論理和演算することで、一旦不良アドレスの
割り当てが行われたX系冗長回路を、等価的にもとの初
期状態に戻すことができる。その結果、擬似スタティッ
ク型RAMの冗長割り当てに融通性を持たせ、その歩留
りを高めることができる。As described above, the fuse circuit included in the redundancy enable circuit XRE or the like is basically a so-called fuse logic gate circuit in which fuse means is provided between the N-channel or P-channel MOSFET of the CMOS logic gate circuit and the output node. With this configuration, the configuration of the fuse circuit can be simplified and the cost can be reduced. Further, two fuse logic gate circuits are provided in the fuse circuit, and the output signals of these fuse logic gate circuits are subjected to an exclusive OR operation to make an equivalent X-system redundant circuit to which a defective address is once assigned. The original initial state can be restored. As a result, it is possible to give flexibility to the redundant allocation of the pseudo-static RAM and increase the yield thereof.
【0077】なお、上記ヒューズ回路は、X系冗長回路
及びY系冗長回路の各冗長アドレス比較回路にも利用で
きるし、後述するリフレッシュタイマーカウンタ回路S
RCのプリセット用ヒューズ回路等の各種ヒューズ回路
にも利用できる。The fuse circuit can be used for each redundant address comparison circuit of the X system redundant circuit and the Y system redundant circuit, and the refresh timer counter circuit S to be described later.
It can also be used for various fuse circuits such as RC preset fuse circuits.
【0078】次に、擬似スタティック型RAMのY系冗
長回路YRAC0〜YRAC3は、8ビットのアドレス
信号A11〜A18すなわち相補内部アドレス信号AY
11〜AY18と、対応する4組の冗長相補データ線に
割り当てられた不良アドレスとを比較照合する。その結
果、両アドレスが全ビット一致すると、その出力信号す
なわち対応する冗長データ線選択信号YR0〜YR7を
選択的にハイレベルとする。これらの冗長データ線選択
信号は、前述のように、YプリデコーダPYDを介して
各Yデコーダに伝達され、冗長相補データ線の選択動作
に供される。言うまでもなく、冗長相補データ線が選択
されるとき、アドレス信号A11〜A18によって指定
される欠陥相補データ線の選択動作は停止される。[0078] Next, Y-based redundancy circuit YRAC0~YRAC3 pseudo static RAM is an 8-bit address signal A11~A18 i.e. complementary internal address signal A Y
11 to A Y18 are compared with the defective addresses assigned to the corresponding four sets of redundant complementary data lines. As a result, when both the addresses match in all bits, the output signal, that is, the corresponding redundant data line selection signals YR0 to YR7 are selectively set to the high level. As described above, these redundant data line selection signals are transmitted to each Y decoder via the Y predecoder PYD and used for the redundant complementary data line selection operation. Needless to say, when the redundant complementary data line is selected, the operation of selecting the defective complementary data line designated by the address signals A11 to A18 is stopped.
【0079】ところで、上記YプリデコーダPYDを介
してYデコーダYDに供給される冗長データ線選択信号
YR0〜YR7は、図58に示されるように、プリデコ
ード信号AY560〜AY563及びAY780〜AY
783を供給するための8本の信号線を共有して伝達さ
れる。このため、YプリデコーダPYDには、いずれか
の冗長相補データ線が選択されるときにロウレベルとさ
れる反転タイミング信号φyrBに従って、上記プリデ
コード信号AY560〜AY563及びAY780〜A
Y783あるいは冗長データ線選択信号YR0〜YR7
を選択的に伝達するマルチプレクサが設けられる。Yデ
コーダYDは、反転タイミング信号φyrBがハイレベ
ルとされるとき、上記信号線を介して伝達される信号を
プリデコード信号AY560〜AY563及びAY78
0〜AY783として受け、また反転タイミング信号φ
yrBがロウレベルとされるとき、冗長データ線選択信
号YR0〜YR7として受ける。その結果、比較的信号
線が混雑するアレイ周辺部のレイアウトを効率化し、そ
のレイアウト所要面積を縮小できる。By the way, the redundant data line selection signals YR0 to YR7 supplied to the Y decoder YD via the Y predecoder PYD are the predecode signals AY560 to AY563 and AY780 to AY as shown in FIG.
8 signal lines for supplying 783 are shared and transmitted. Therefore, the Y predecoder PYD has the predecode signals AY560 to AY563 and AY780 to AY in accordance with the inversion timing signal φyrB which is brought to the low level when any of the redundant complementary data lines is selected.
Y783 or redundant data line selection signals YR0 to YR7
A multiplexer for selectively transmitting is provided. When the inversion timing signal φyrB is at a high level, the Y decoder YD outputs the signals transmitted via the signal lines to the predecode signals AY560 to AY563 and AY78.
0 to AY783, and inverted timing signal φ
When yrB is at a low level, it receives as redundant data line selection signals YR0 to YR7. As a result, the layout around the array where the signal lines are relatively crowded can be made more efficient, and the layout required area can be reduced.
【0080】一方、各メモリアレイに設けられる32組
の冗長相補データ線は、前述のように、それぞれ4組ず
つ同時に選択状態とされ、実質的に八つの冗長データ線
群RY0〜RY7を構成する。擬似スタティック型RA
Mは、上辺及び下辺アレイとしてそれぞれ対をなす16
個のメモリアレイを備え、上記冗長データ線群は、これ
らのメモリアレイにおいて同時にかつ共通の欠陥素子を
対象として切り換えられる。このため、この実施例の擬
似スタティック型RAMでは、対をなす二つのメモリア
レイの冗長相補データ線群RY0〜RY7が、図42に
例示されるように、半導体基板面の中心線を軸として線
対称となる順序で配置される。On the other hand, as described above, 32 sets of redundant complementary data lines provided in each memory array are simultaneously brought into a selected state by 4 sets respectively, and substantially form eight redundant data line groups RY0 to RY7. . Pseudo static RA
M is paired as an array of upper and lower sides 16
The memory cell array includes a plurality of memory arrays, and the redundant data line group is switched to defective elements common to these memory arrays at the same time. Therefore, in the pseudo static RAM of this embodiment, the redundant complementary data line groups RY0 to RY7 of the two memory arrays forming a pair are lined up with the center line of the semiconductor substrate surface as an axis, as illustrated in FIG. Arranged in a symmetrical order.
【0081】周知のように、各素子の障害発生率は、そ
の配置位置が半導体基板面の各辺に近接するほど高くな
る。冗長相補データ線群RY0〜RY7を、このように
線対称となる順序で配置することで、冗長相補データ線
群RY0側の障害発生率が意図的に高められ、逆に他の
冗長相補データ線群の障害発生率が低くされる。その結
果、冗長相補データ線全体として見た平均障害発生率が
抑えられ、擬似スタティック型RAMの歩留りが高める
られる。As is well known, the failure occurrence rate of each element becomes higher as the arrangement position becomes closer to each side of the semiconductor substrate surface. By arranging the redundant complementary data line groups RY0 to RY7 in such a line-symmetrical order, the failure occurrence rate on the redundant complementary data line group RY0 side is intentionally increased, and conversely, the other redundant complementary data line groups are arranged. The incidence of disability in the group is reduced. As a result, the average failure occurrence rate of the entire redundant complementary data line is suppressed, and the yield of the pseudo static RAM is increased.
【0082】なお、上記のような冗長相補データ線のレ
イアウト方法は、冗長ワード線について採用した場合も
同様な効果を得ることができる。The redundant complementary data line layout method as described above can obtain the same effect when it is adopted for the redundant word line.
【0083】3.1.6.リフレッシュ方式 この擬似スタティック型RAMは、前述のように、3種
類のリフレッシュモードすなわちアドレスリフレッシ
ュ,オートリフレッシュ及びセルフリフレッシュモード
を有する。リフレッシュすべきワード線を指定するため
のリフレッシュアドレスは、アドレスリフレッシュモー
ドの場合、外部に設けられる例えばメモリ制御ユニット
から供給され、オートリフレッシュ及びセルフリフレッ
シュの場合は、内蔵するリフレッシュカウンタRFCか
ら供給される。3.1.6. Refresh Method This pseudo static RAM has three kinds of refresh modes, namely, address refresh, auto refresh and self refresh modes, as described above. The refresh address for designating the word line to be refreshed is supplied from, for example, an externally provided memory control unit in the address refresh mode, and from the built-in refresh counter RFC in the case of auto refresh and self refresh. .
【0084】一方、リフレッシュ動作を行うべき周期す
なわちリフレッシュ周期は、前述のように、メモリセル
の情報保持能力によって設定され、製品仕様として規定
される。このリフレッシュ周期は、前述の動作サイクル
の説明から明らかなように、アドレスリフレッシュ及び
オートリフレッシュモードの場合、擬似スタティック型
RAMをアクセスする外部のメモリ制御ユニット等によ
って管理され、セルフリフレッシュモードの場合、擬似
スタティック型RAMのタイミング発生回路TGに含ま
れるリフレッシュタイマー回路TMR及びリフレッシュ
タイマーカウンタ回路SRCによって管理される。On the other hand, the cycle for performing the refresh operation, that is, the refresh cycle is set by the information holding capacity of the memory cell as described above, and is defined as the product specification. As is clear from the above description of the operation cycle, this refresh cycle is managed by an external memory control unit or the like that accesses the pseudo static RAM in the address refresh and auto refresh modes, and in the self refresh mode, it is simulated. It is managed by the refresh timer circuit TMR and the refresh timer counter circuit SRC included in the timing generation circuit TG of the static RAM.
【0085】リフレッシュタイマー回路TMRは、図1
5に示されるように、動作電流が制限される7個のイン
バータ回路が実質的にリング状に直列結合されてなるリ
ングオシレータを含み、その出力信号すなわちタイミン
グ信号φtmrを、所定の周期で形成する。このタイミ
ング信号φtmrは、図14に示されるように、2入力
ノアゲート回路及びインバータ回路を経てタイミング信
号φclとされ、リフレッシュタイマーカウンタ回路S
RCの計数パルスとして供される。The refresh timer circuit TMR is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, it includes a ring oscillator in which seven inverter circuits whose operating currents are limited are substantially connected in series in a ring shape, and an output signal thereof, that is, a timing signal φtmr is formed in a predetermined cycle. . As shown in FIG. 14, the timing signal φtmr is passed through a 2-input NOR gate circuit and an inverter circuit to be a timing signal φcl, and the refresh timer counter circuit S
It serves as an RC counting pulse.
【0086】リフレッシュタイマーカウンタ回路SRC
は、8ビットのバイナリィカウンタ構造とされ、各ビッ
トに対応する単位回路は、図16に示されるように、そ
れぞれ一対のマスターラッチ及びスレーブラッチと、そ
の初期値を論理“0”又は論理“1”に選択的に設定す
るためのヒューズ回路を含む。リフレッシュタイマーカ
ウンタ回路SRCは、各単位回路のヒューズ手段が選択
的に切断されることでその計数初期値が設定され、これ
によってその計数周期すなわちカウンタモデュロが設定
される。リフレッシュタイマーカウンタ回路SRCの出
力信号すなわち出力キャリー信号SCA7は、上記タイ
ミング信号φclと組み合わされ、さらにセルフリフレ
ッシュモードのリフレッシュ周期を決定する反転タイミ
ング信号φsrfBの形成に供される。Refresh timer counter circuit SRC
Has an 8-bit binary counter structure, and the unit circuit corresponding to each bit has a pair of master latches and slave latches, and its initial value is a logical "0" or a logical "1", as shown in FIG. Includes a fuse circuit for selectively setting "". In the refresh timer counter circuit SRC, the initial count value is set by selectively disconnecting the fuse means of each unit circuit, and thereby the count cycle, that is, the counter modulo is set. The output signal of the refresh timer counter circuit SRC, that is, the output carry signal SCA7, is combined with the timing signal φcl, and is further used to form the inversion timing signal φsrfB that determines the refresh cycle of the self-refresh mode.
【0087】擬似スタティック型RAMがSTICテス
トモードとされるとき、上記タイミング信号φcl及び
反転タイミング信号φsrfBは、前述のテスト方式の
項で述べたように、データ入出力端子IO6又はIO7
を介してモニタされる。When the pseudo static RAM is set to the STIC test mode, the timing signal φcl and the inverted timing signal φsrfB are the same as the data input / output terminal IO6 or IO7 as described in the section of the test method.
Be monitored via.
【0088】ところで、擬似スタティック型RAMのセ
ルフリフレッシュモードには、この実施例のように、例
えばバッテリバックアップ時等において擬似スタティッ
ク型RAMが比較的長い時間にわたって非選択状態とさ
れるときに用いられるいわゆるPS(擬似)リフレッシ
ュモードと、例えばメモリアクセスの合間をぬって間欠
的に行われるVS(仮想)リフレッシュモードとがあ
る。周知のように、擬似スタティック型RAMが活性状
態とされる合間をぬって行われるVSリフレッシュモー
ドのリフレッシュ周期は、ほぼ非活性状態とされるとき
に行われるPSリフレッシュモードのリフレッシュ周期
に比較して短くなる。By the way, the self-refresh mode of the pseudo static RAM is used when the pseudo static RAM is kept in the non-selected state for a relatively long time, for example, during battery backup as in this embodiment. There are a PS (pseudo) refresh mode and, for example, a VS (virtual) refresh mode which is intermittently performed between memory accesses. As is well known, the refresh cycle of the VS refresh mode that is performed between the activation of the pseudo static RAM and the refresh cycle of the PS refresh mode that is performed when the pseudo static RAM is almost inactive is compared with the refresh cycle. It gets shorter.
【0089】このため、図51及び図52に例示される
ように、VS及びPSリフレッシュモードのそれぞれに
おいて異なるリフレッシュ周期を設定できるようにする
ことで、1個の共通半導体基板(ベースチップ)をもと
に両方のリフレッシュモードに適用しうる擬似スタティ
ック型RAMを提供できる。すなわち、図51では、P
Sリフレッシュモードのセルフリフレッシュサイクルを
起動するための反転タイミング信号φsrfBが、リフ
レッシュタイマーカウンタ回路SRCの最上位ビットの
キャリー信号SCAj+2とリフレッシュタイマー回路
TMRの出力信号すなわちタイミング信号φclとを組
み合わせることによって形成される。そして、VSリフ
レッシュモードのセルフリフレッシュサイクルを起動す
るための反転タイミング信号φsrfBは、リフレッシ
ュタイマーカウンタ回路SRCの次のビットのキャリー
信号SCAj+1とタイミング信号φclを組み合わせ
ることによって形成される。その結果、VSリフレッシ
ュモードにおける反転タイミング信号φsrfBの周期
は、図52に示されるように、PSリフレッシュモード
における反転タイミング信号φsrfBの二分の一とな
る。Therefore, as shown in FIGS. 51 and 52, by setting different refresh cycles in the VS and PS refresh modes, respectively, one common semiconductor substrate (base chip) can be used. It is possible to provide a pseudo static RAM applicable to both refresh modes. That is, in FIG.
The inverted timing signal φsrfB for activating the self-refresh cycle in the S refresh mode is formed by combining the carry signal SCAj + 2 of the most significant bit of the refresh timer counter circuit SRC and the output signal of the refresh timer circuit TMR, that is, the timing signal φcl. It The inverted timing signal φsrfB for activating the self-refresh cycle in the VS refresh mode is formed by combining the carry signal SCAj + 1 of the next bit of the refresh timer counter circuit SRC and the timing signal φcl. As a result, the cycle of the inversion timing signal φsrfB in the VS refresh mode is half that of the inversion timing signal φsrfB in the PS refresh mode, as shown in FIG.
【0090】3.1.7.基本的レイアウト 図4には、この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの半導体基板面における一実施例の配置図が示され
ている。図4をもとに、この実施例の擬似スタティック
型RAMの基本的レイアウトを説明する。なお、図4に
おいて、半導体基板は、紙面の都合から、横向きに図示
されるため、以下の説明では、同図の左側を半導体基板
面の上側と称している。3.1.7. Basic Layout FIG. 4 shows a pseudo static type R to which the present invention is applied.
A layout of one embodiment on the surface of the AM semiconductor substrate is shown. The basic layout of the pseudo static RAM of this embodiment will be described with reference to FIG. Note that, in FIG. 4, the semiconductor substrate is illustrated in a lateral direction due to space limitations, and therefore the left side of FIG. 4 is referred to as the upper side of the semiconductor substrate surface in the following description.
【0091】前述のように、擬似スタティック型RAM
は、それぞれが上辺及び下辺に分割される8個(実質的
には16個)のメモリアレイMARY0L〜MARY3
L及びMARY0R〜MARY3Rを備え、これらのメ
モリアレイに対応して設けられるXアドレスデコーダX
D0L〜XD3L及びXD0R〜XD3Rと、2個のメ
モリアレイに対応して設けられかつそれぞれが上辺及び
下辺に分割される4個のYアドレスデコーダYD0〜Y
D3とをを備える。As described above, the pseudo static RAM
Are eight (substantially 16) memory arrays MARY0L to MARY3, each of which is divided into an upper side and a lower side.
L and MARY0R to MARY3R, and X address decoder X provided corresponding to these memory arrays
D0L to XD3L and XD0R to XD3R, and four Y address decoders YD0 to Y provided corresponding to two memory arrays and divided into upper and lower sides, respectively.
And D3.
【0092】図4において、半導体基板面の中央部に
は、XアドレスデコーダXD0L〜XD3L及びXD0
R〜XD3Rが配置され、その上辺及び下辺には、対応
するワード線駆動回路WD0LU〜WD3LU(WD0
LD〜WD3LD)ならびにWD0RU〜WD3RU
(WD0RD〜WD3RD)がそれぞれ配置される。そ
して、これらのX系選択回路を挟むように、メモリアレ
イMARY0L〜MARY3L及びMARY0R〜MA
RY3Rが、対応するYデコーダYD0〜YD3を挟み
かつそのワード線を上下方向に延長する形でいわゆる縦
型に配置される。また、図示されないが、Yアドレスデ
コーダYD0〜YD3に近接して、対応するセンスアン
プSA0L〜SA3L及びSA0R〜SA3Rならびに
カラムスイッチCS0L〜CS3L及びCS0R〜CS
3Rがそれぞれ配置される。In FIG. 4, X address decoders XD0L to XD3L and XD0 are provided at the center of the semiconductor substrate surface.
R to XD3R are arranged, and corresponding word line drive circuits WD0LU to WD3LU (WD0 are provided on the upper and lower sides thereof.
LD to WD3LD) and WD0RU to WD3RU
(WD0RD to WD3RD) are arranged. Then, the memory arrays MARY0L to MARY3L and MARY0R to MA are arranged so as to sandwich these X-system selection circuits.
The RY3Rs are arranged in a so-called vertical type so as to sandwich the corresponding Y decoders YD0 to YD3 and extend their word lines in the vertical direction. Although not shown, the corresponding sense amplifiers SA0L to SA3L and SA0R to SA3R and the column switches CS0L to CS3L and CS0R to CS are provided close to the Y address decoders YD0 to YD3.
3Rs are arranged respectively.
【0093】メモリアレイMARY0L〜MARY3L
ならびにMARY0R〜MARY3Rの上部には、プリ
YアドレスデコーダPYD及びYアドレス冗長制御回路
YRAC等が配置される。また、これらのメモリアレイ
の下部には、メインアンプMALLないしMARRなら
びに書き込み回路DILLないしDIRR等が配置され
る。Memory arrays MARY0L to MARY3L
A pre-Y address decoder PYD, a Y address redundancy control circuit YRAC, etc. are arranged above MARY0R to MARY3R. Further, below the memory arrays, main amplifiers MALL to MARR, write circuits DILL to DIRR, etc. are arranged.
【0094】半導体基板面の各側辺には、半導体基板面
の各隅に近接する位置ならびに左部及び右部側辺の中央
部に近接する位置を避けるように、ボンディングパッド
が配置される。また、これらのパッドに近接して、Xア
ドレスバッファXAB及びYアドレスバッファYABな
らびにデータ入力バッファDIB及びデータ出力バッフ
ァDOBの対応する単位回路が配置される。Bonding pads are arranged on each side of the semiconductor substrate surface so as to avoid a position close to each corner of the semiconductor substrate surface and a position close to the center of the left and right side sides. In addition, corresponding unit circuits of the X address buffer XAB and the Y address buffer YAB, and the data input buffer DIB and the data output buffer DOB are arranged close to these pads.
【0095】3.2.各部の具体的構成とレイアウトな
らびにその動作及び特徴 図12ないし図38には、この発明が適用された擬似ス
タティック型RAMの各部の一実施例の回路図が示され
ている。また、図39ないし図41には、上記擬似スタ
ティック型RAMの一実施例の信号波形図が示されてい
る。図12及び図38の回路図に従って、この実施例の
擬似スタティック型RAMの各部の具体的構成とレイア
ウトならびにその動作及び特徴について説明する。図3
9ないし図41の信号波形図は、必要に応じて参照され
たい。3.2. Specific Structure and Layout of Each Part and Operation and Characteristics thereof FIG. 12 to FIG. 38 are circuit diagrams of one embodiment of each part of the pseudo static RAM to which the present invention is applied. Further, FIGS. 39 to 41 show signal waveform diagrams of one embodiment of the pseudo static RAM. With reference to the circuit diagrams of FIGS. 12 and 38, the specific configuration and layout of each part of the pseudo static RAM of this embodiment, and the operation and characteristics thereof will be described. FIG.
Please refer to the signal waveform diagrams of FIGS. 9 to 41 as necessary.
【0096】3.2.1.メモリアレイ及び直接周辺回
路 この実施例の擬似スタティック型RAMは、前述のよう
に、それぞれ対をなす合計16個のメモリアレイMAR
Y0L〜MARY3L及びMARY0R〜MARY3R
を備える。対をなす2個のメモリアレイは、半導体基板
面の中央部に配置されるX系選択回路をはさんでそれぞ
れ対称的に配置され、対応する4組のコモンI/O線と
一対のコモンソース線が、これらのメモリアレイを串刺
しするように貫通して配置される。3.2.1. Memory Array and Direct Peripheral Circuit As described above, the pseudo-static RAM of this embodiment has a total of 16 memory arrays MAR each forming a pair.
Y0L to MARY3L and MARY0R to MARY3R
Is provided. The two memory arrays forming a pair are symmetrically arranged with respect to the X-system selection circuit arranged at the center of the semiconductor substrate surface, and the corresponding four sets of common I / O lines and the pair of common sources are arranged. Lines are placed through the memory arrays in a skewered manner.
【0097】(1)メモリアレイ メモリアレイMARY0L〜MARY3L及びMARY
0R〜MARY3Rの上辺及び下辺アレイは、図38に
例示されるように、図の垂直方向に平行して配置される
256本のワード線W0〜W255ならびに図示されな
い4本の冗長ワード線RW0〜RW3を備え、水平方向
に平行して配置される1024組の相補データ線D0〜
D1023ならびに図示されない32組の冗長相補デー
タ線RD0〜RD31を備える。これらのワード線及び
相補データ線の交点には、情報蓄積用キャパシタ及びア
ドレス選択用MOSFETからなるダイナミック型メモ
リセルが、所定の規則性をもって結合される。(1) Memory array Memory arrays MARY0L to MARY3L and MARY
As illustrated in FIG. 38, the upper and lower arrays of 0R to MARY3R have 256 word lines W0 to W255 and four redundant word lines RW0 to RW3 not shown arranged in parallel in the vertical direction of the drawing. And 1024 sets of complementary data lines D 0 to
D 1023 and 32 sets of redundant complementary data lines R D0 to R D31 (not shown) are provided. At the intersection of these word lines and complementary data lines, a dynamic memory cell composed of an information storage capacitor and an address selection MOSFET is coupled with a predetermined regularity.
【0098】各メモリアレイを構成するワード線は、そ
の一方において、対応するXデコーダXD0L〜XD3
L又はXD0R〜XD3Rに結合され、択一的に選択状
態とされる。また、その他方において、そのゲートに対
応するワード線クリア信号WC0U〜WC3U等の反転
信号を受けるNチャンネルMOSFETを介して、回路
の接地電位に結合される。これらのワード線クリア信号
は、通常ロウレベルとされ、擬似スタティック型RAM
が選択状態とされるとき、3ビットの相補内部アドレス
信号BX2及びBX3ならびにBX10に従って選択的
にハイレベルとされる。これにより、各メモリアレイの
ワード線は通常ロウレベルのクリア状態とされ、擬似ス
タティック型RAMが選択状態とされるとき、少なくと
も対応するワード線が選択状態とされることを条件に、
選択的にそのクリア状態から解放される。One of the word lines constituting each memory array has a corresponding X decoder XD0L to XD3.
L or XD0R to XD3R are coupled to each other, and the selected state is selected. In the other side, it is coupled to the ground potential of the circuit through an N-channel MOSFET which receives an inverted signal of the word line clear signals WC0U to WC3U corresponding to the gate. These word line clear signals are normally at low level, and the pseudo static RAM
Is selected, it is selectively set to a high level in accordance with 3-bit complementary internal address signals B X2, B X3 and B X10. As a result, the word line of each memory array is normally in a low-level clear state, and when the pseudo static RAM is in the selected state, at least the corresponding word line is in the selected state,
It is selectively released from its clear state.
【0099】一方、各メモリアレイを構成する相補デー
タ線は、特に制限されないが、図38に例示されるよう
に、対応するセンスアンプSA0L〜SA3LないしS
A0R〜SA3Rの対応する単位プリチャージ回路UP
C0〜UPC3等を介して、対応する単位増幅回路US
A0〜USA3等に結合され、さらにカラムスイッチC
S0L〜CS3LないしCS0R〜CS3Rの対応する
スイッチMOSFETを介して、4組のコモンI/O線
IO00L〜IO03LないしIO34L〜IO37L
あるいはIO00R〜IO03RないしIO34R〜I
O37Rに4組ずつ選択的に接続される。On the other hand, the complementary data lines forming each memory array are not particularly limited, but as shown in FIG. 38, the corresponding sense amplifiers SA0L to SA3L to S3.
Unit precharge circuit UP corresponding to A0R to SA3R
Corresponding unit amplifier circuit US via C0-UPC3 etc.
Column switch C connected to A0-USA3, etc.
Four sets of common I / O lines via corresponding switch MOSFETs of S0L to CS3L to CS0R to CS3R
I O00L to I O03L to I O34L to I O37L
Alternatively, I O00R to I O03R to I O34R to I
Four sets are selectively connected to O37R.
【0100】(2)センスアンプ及びデータ線プリチャ
ージ回路 センスアンプSA0L〜SA3LないしSA0R〜SA
3Rは、特に制限されないが、図38のセンスアンプS
A0Lに代表して示されるように、対応するメモリアレ
イの各相補データ線及び冗長相補データ線に対応して設
けられるそれぞれ1,056個の単位プリチャージ回路
UPC0〜UPC3等ならびに単位増幅回路USA0〜
USA3等を含む。(2) Sense Amplifier and Data Line Precharge Circuit Sense Amplifiers SA0L to SA3L to SA0R to SA
3R is not particularly limited, but the sense amplifier S of FIG.
As represented by A0L, 1,056 unit precharge circuits UPC0 to UPC3 and the like and unit amplifier circuits USA0 to 0 provided respectively corresponding to the complementary data lines and the redundant complementary data lines of the corresponding memory array.
Including USA3 etc.
【0101】このうち、単位プリチャージ回路UPC0
〜UPC3等は、対応する相補データ線の非反転及び反
転信号線間に直並列形態に設けられる3個のNチャンネ
ルMOSFETをそれぞれ含む。これらのMOSFET
のゲートはすべて共通結合され、タイミング発生回路T
Gから反転タイミング信号PC0ULB等が共通に供給
される。ここで、反転タイミング信号PC0ULB等
は、通常ハイレベルとされ、擬似スタティック型RAM
が選択状態とされるとき、相補内部アドレス信号BX0
及びBX1ならびにBX10に従って選択的にロウレベ
ルとされる。Of these, the unit precharge circuit UPC0
Up to UPC3 and the like respectively include three N-channel MOSFETs provided in series-parallel form between the non-inverted and inverted signal lines of the corresponding complementary data lines. These MOSFETs
Gates of the timing generator circuit T are commonly connected.
An inverted timing signal PC0ULB and the like are commonly supplied from G. Here, the inversion timing signal PC0ULB or the like is normally set to a high level, and the pseudo static RAM
Is selected, the complementary internal address signal B X0
And B X1 and B X10 are selectively set to the low level.
【0102】これにより、各単位プリチャージ回路を構
成する3個のMOSFETは、通常オン状態となり、対
応する相補データ線の非反転及び反転信号線を短絡し
て、回路の電源電圧の二分の一のレベルとされるハーフ
プリチャージレベルHVCとする。擬似スタティック型
RAMが選択状態とされ反転タイミング信号PC0UL
B等がロウレベルとされると、上記3個のMOSFET
はオフ状態となり、これによって対応する相補データ線
が選択的にその短絡状態を解かれる。As a result, the three MOSFETs constituting each unit precharge circuit are normally turned on, and the non-inversion and inversion signal lines of the corresponding complementary data lines are short-circuited to halve the power supply voltage of the circuit. Is set to the half precharge level HVC. Pseudo static RAM is selected and inverted timing signal PC0UL
When B and the like are set to low level, the above three MOSFETs are
Is turned off, whereby the corresponding complementary data line is selectively released from its short-circuited state.
【0103】一方、各センスアンプの単位増幅回路は、
特に制限されないが、図18に例示されるように、それ
ぞれ2個のCMOSインバータ回路が交差接続されてな
るラッチを基本構成とする。各単位増幅回路を構成する
PチャンネルMOSFETのソースは、共通ソース線S
Pに共通結合され、さらに並列形態とされる4個のPチ
ャンネル型駆動MOSFETを介して回路の電源電圧に
結合される。これらの駆動MOSFETのゲートには、
対応するセンスアンプ駆動回路SP0L〜SP3L又は
SP0R〜SP3Rから、対応する反転タイミング信号
P10ULB〜P40ULB等がそれぞれ供給される。
同様に、各単位増幅回路を構成するNチャンネルMOS
FETのソースは、共通ソース線SNに共通結合され、
さらに並列形態とされる2個のNチャンネル型駆動MO
SFETを介して、回路の接地電位に結合される。これ
らの駆動MOSFETのゲートには、対応するセンスア
ンプ駆動回路SN0L〜SN3L又はSN0R〜SN3
Rから、対応するタイミング信号P10UL及びP20
UL等がそれぞれ供給される。On the other hand, the unit amplifier circuit of each sense amplifier is
Although not particularly limited, as shown in FIG. 18, a basic structure is a latch in which two CMOS inverter circuits are cross-connected. The source of the P-channel MOSFET that constitutes each unit amplifier circuit is the common source line S
It is commonly coupled to P and further coupled to the power supply voltage of the circuit through four P-channel drive MOSFETs in parallel form. The gates of these drive MOSFETs are
Corresponding inversion timing signals P10ULB to P40ULB and the like are respectively supplied from the corresponding sense amplifier drive circuits SP0L to SP3L or SP0R to SP3R.
Similarly, an N channel MOS that constitutes each unit amplifier circuit
The sources of the FETs are commonly coupled to a common source line SN,
Furthermore, two N-channel drive MOs arranged in parallel
Coupled to the circuit ground potential through the SFET. The gates of these drive MOSFETs have corresponding sense amplifier drive circuits SN0L to SN3L or SN0R to SN3.
From R to the corresponding timing signals P10UL and P20
UL etc. are supplied respectively.
【0104】各センスアンプは、特に制限されないが、
さらに、上記共通ソース線SP及びSN間に直並列形態
に設けられる3個のNチャンネルをそれぞれ含む。これ
らのMOSFETのゲートは共通結合され、反転タイミ
ング信号PC0B等が供給される。この反転タイミング
信号PC0B等は、上記反転タイミング信号PC0UL
B等とほぼ同じタイミング条件で、ハイレベル又はロウ
レベルとされる。その結果、擬似スタティック型RAM
が非選択状態とされるとき、共通ソース線SP及びSN
は短絡され、ハーフプリチャージレベルHVCとされ
る。また、擬似スタティック型RAMが選択状態とされ
ると、共通ソース線SP及びSNのプリチャージ動作が
選択的に停止される。Each sense amplifier is not particularly limited,
Further, each of the common source lines SP and SN includes three N channels provided in a serial-parallel configuration. The gates of these MOSFETs are commonly connected to each other, and an inverted timing signal PC0B or the like is supplied. The inversion timing signal PC0B is the same as the inversion timing signal PC0UL.
It is set to a high level or a low level under substantially the same timing condition as B and the like. As a result, pseudo static RAM
Are in the non-selected state, the common source lines SP and SN
Are short-circuited to the half precharge level HVC. When the pseudo static RAM is selected, the precharge operation of the common source lines SP and SN is selectively stopped.
【0105】各センスアンプの単位増幅回路は、対応す
る上記反転タイミング信号P10ULB〜P49ULB
等がロウレベルとされ、かつ対応する上記タイミング信
号P10UL〜P20UL等がハイレベルとされること
で、選択的に動作状態とされる。この動作状態におい
て、各単位増幅回路は、対応するメモリアレイの選択さ
れたワード線に結合されるメモリセルから対応する相補
データ線を介して出力される微小読み出し信号をそれぞ
れ増幅し、ハイレベル又はロウレベルの2値読み出し信
号とする。これらの2値読み出し信号は、擬似スタティ
ック型RAMが通常のリードサイクルとされるとき、対
応するコモンI/O線を介してメインアンプに伝達さ
れ、また擬似スタティック型RAMがいずれかのリフレ
ッシュサイクルとされるとき、対応するメモリセルに再
書き込みされる。The unit amplifier circuit of each sense amplifier has a corresponding inversion timing signal P10ULB to P49ULB.
Etc. are set to low level, and the corresponding timing signals P10UL to P20UL etc. are set to high level, thereby selectively operating. In this operating state, each unit amplifier circuit amplifies a minute read signal output from the memory cell coupled to the selected word line of the corresponding memory array through the corresponding complementary data line, and outputs the high level or It is a low level binary read signal. These binary read signals are transmitted to the main amplifier via the corresponding common I / O line when the pseudo static RAM is in a normal read cycle, and the pseudo static RAM is in any refresh cycle. Then, the corresponding memory cell is rewritten.
【0106】ところで、この実施例の擬似スタティック
型RAMでは、センスアンプのレイアウトに一つの工夫
が凝らされている。すなわち、図43に例示されるよう
に、センスアンプの各単位増幅回路を構成する一対のP
チャンネルMOSFETQP23及びQP24あるいは
NチャンネルMOSFETQN25及びQN26は、そ
れぞれを構成するソースSが共通の拡散層Lによって形
成され、さらにこれらのソースS,ドレインD及びゲー
トGが、対応する相補データ線に直角をなす方向に延長
して形成される。共通の拡散層Lによって形成される各
対のMOSFETのソースSは、対応するコンタクトを
介して、その上層に例えばアルミニウム又はその合金を
用いて形成されるコモンソース線SP又はSNと結合さ
れるとともに、図43に示されるように、拡散層Lがそ
のまま延長されることで、隣接する一対のMOSFET
の同様なソースSと共通結合される。その結果、拡散層
Lが延長されない従来の擬似スタティック型RAM等に
比較して、例えばコンタクト不良等によって単位増幅回
路の特性が劣化する障害等の発生率が低下し、擬似スタ
ティック型RAMの製品歩留りが高められる。By the way, in the pseudo static RAM of this embodiment, one layout is devised for the sense amplifier. That is, as illustrated in FIG. 43, a pair of Ps forming each unit amplifier circuit of the sense amplifier.
The source of each of the channel MOSFETs QP23 and QP24 or the N-channel MOSFETs QN25 and QN26 is formed by a common diffusion layer L, and the source S, drain D, and gate G of the source S form a right angle with the corresponding complementary data line. It is formed extending in the direction. The sources S of the MOSFETs of each pair formed by the common diffusion layer L are coupled to the common source line SP or SN formed of, for example, aluminum or an alloy thereof in the upper layer through the corresponding contacts. As shown in FIG. 43, the diffusion layer L is extended as it is, so that a pair of adjacent MOSFETs is
Are commonly combined with a similar source S. As a result, compared with a conventional pseudo-static RAM in which the diffusion layer L is not extended, the occurrence rate of a failure in which the characteristics of the unit amplifier circuit are deteriorated due to, for example, a contact failure, is reduced, and the product yield of the pseudo-static RAM is reduced. Is increased.
【0107】センスアンプ駆動回路SP及びSNは、図
22に示されるように、タイミング発生回路TGから供
給されるタイミング信号P1〜P4及びP1a〜P1c
又はP1D〜P2D及びP1Da〜P1Dcならびに内
部アドレス信号AX0U及びAX1U又はAX0U及び
AX1UならびにAX10をもとに、上記反転タイミン
グ信号P10ULB〜P40ULB等ならびにタイミン
グ信号P10UL及びP20UL等を選択的に形成す
る。As shown in FIG. 22, the sense amplifier drive circuits SP and SN have the timing signals P1 to P4 and P1a to P1c supplied from the timing generation circuit TG.
Alternatively, based on P1D to P2D and P1Da to P1Dc and the internal address signals AX0U and AX1U or AX0U and AX1U and AX10, the inversion timing signals P10ULB to P40ULB and the like and timing signals P10UL and P20UL and the like are selectively formed.
【0108】(3)カラムスイッチ及びコモンI/O線 カラムスイッチCS0L〜CS3LならびにCS0R〜
CS3Rは、対応するメモリアレイの各相補データ線に
対応して設けられる合計1056対のスイッチMOSF
ETを含む。これらのスイッチMOSFETの一方は、
対応するセンスアンプの単位回路を介して対応する相補
データ線に結合され、その他方は、対応する4組のコモ
ンI/O線IO00L〜IO03L及びIO00R〜I
O03RないしIO34L〜IO37L及びIO34R
〜IO37Rに、順に交互に共通結合される。各スイッ
チMOSFETのゲートは、4組ずつ順に共通結合さ
れ、対応するYアドレスデコーダYD0〜YD3から、
対応するデータ線選択信号YS0等がそれぞれ供給され
る。(3) Column switch and common I / O line Column switches CS0L to CS3L and CS0R to
CS3R is a total of 1056 pairs of switch MOSFs provided for each complementary data line of the corresponding memory array.
Including ET. One of these switch MOSFETs
Coupled to the corresponding complementary data lines through the unit circuit of the corresponding sense amplifier, the other of the corresponding four pairs of common I / O lines I O00L~ I O03L and I O00R~ I
O03R to I O34L to I O37L and I O34R
The ~ I O37R, which in turn commonly coupled alternately. The gates of the respective switch MOSFETs are commonly connected to each other in groups of four sets, and from the corresponding Y address decoders YD0 to YD3,
Corresponding data line selection signals YS0 and the like are supplied.
【0109】カラムスイッチCS0L〜CS3Lならび
にCS0R〜CS3Rを構成する各4対のスイッチMO
SFETは、対応するデータ線選択信号YS0等が択一
的にハイレベルとされることで選択的にかつ同時にオン
状態とされる。その結果、対応するメモリアレイの指定
される4組の相補データ線が、対応する4組のコモンI
/O線IO00L〜IO03L又はIO00R〜IO0
3RないしIO34L〜IO37L又はIO34R〜I
O37Rに選択的に接続される。Each of the four pairs of switches MO constituting the column switches CS0L to CS3L and CS0R to CS3R.
The SFET is selectively and simultaneously turned on by the corresponding data line selection signal YS0 or the like being alternatively set to the high level. As a result, the designated four sets of complementary data lines of the corresponding memory array are associated with the corresponding four sets of common I.
/ O line I O00L to I O03L or I O00R to I O0
3R to I O34L to I O37L or I O34R to I
It is selectively connected to O37R.
【0110】ところで、この実施例の擬似スタティック
型RAMにおいて、コモンI/O線IO00L〜IO0
3L及びIO00R〜IO03RないしIO34L〜I
O37L及びIO34R〜IO37Rは、前述のよう
に、半導体基板面の上辺及び下辺に配置される一対のメ
モリアレイをそれぞれ串刺しするように貫通して配置さ
れる。このとき、各コモンI/O線の非反転及び反転信
号線は、図59に示されるように、上辺及び下辺アレイ
の中間で交差して配置される。したがって、擬似スタテ
ィック型RAMの製造工程において、例えば対応するカ
ラムスイッチのスイッチMOSFETのゲートGとなる
ポリシリコン層を形成するためのフォトマスクが、その
ソース及びドレインとなる拡散層Lに対して位置ずれを
生じた場合でも、コモンI/O線の非反転信号線IO及
び反転信号線IOBに結合される寄生容量の変化は、上
辺及び下辺アレイで相殺される。その結果、各コモンI
/O線におけるレベル差が解消され、擬似スタティック
型RAMの読み出し動作が安定化される。[0110] Incidentally, in the pseudo static RAM in this embodiment, common I / O lines I O00L~ I O0
3L and I O00R~ I O03R to I O34L~ I
As described above, the O37L and I O34R to I O37R are arranged so as to penetrate the pair of memory arrays arranged on the upper side and the lower side of the semiconductor substrate surface so as to be skewered. At this time, the non-inverted and inverted signal lines of each common I / O line are arranged so as to intersect in the middle of the upper side array and the lower side array, as shown in FIG. Therefore, in the manufacturing process of the quasi-static RAM, for example, the photomask for forming the polysilicon layer to be the gate G of the switch MOSFET of the corresponding column switch is displaced with respect to the diffusion layer L to be its source and drain. Even when the above occurs, the change in the parasitic capacitance coupled to the non-inverted signal line IO and the inverted signal line IOB of the common I / O line is canceled by the upper side array and the lower side array. As a result, each common I
The level difference in the / O line is eliminated, and the read operation of the pseudo static RAM is stabilized.
【0111】さらに、これらのコモンI/O線IO00
L〜IO03L及びIO00R〜IO03RないしIO
34L〜IO37L及びIO34R〜IO37Rは、図
38に図示されないが、擬似スタティック型RAMが非
選択状態とされるとき、対応する上辺及び下辺アレイの
中間ならびにそれぞれの外側の3個所において、その非
反転及び反転信号線が短絡されかつハーフプリチャージ
レベルHVCとされるいわゆるイコライズ処理を受け
る。そして、擬似スタティック型RAMが選択状態とさ
れ、対応するメモリアレイが選択状態とされることで、
そのイコライズ処理が選択的に停止される。その結果、
コモンI/O線のイコライズ処理が、確実にかつ高速に
行われるため、相応してコモンI/O線の信号伝達遅延
時間が縮小され、擬似スタティック型RAMの高速化が
図られる。Furthermore, these common I / O lines I O00
L to I O03L and I O00R to I O03R to I O
Although not shown in FIG. 38, 34L to I O37L and I O34R to I O37R are arranged in the middle of the corresponding upper side and lower side arrays and at three positions outside each of them when the pseudo static RAM is deselected. The non-inverted and inverted signal lines are short-circuited and subjected to so-called equalization processing to set the half precharge level HVC. Then, the pseudo static RAM is set to the selected state, and the corresponding memory array is set to the selected state.
The equalizing process is selectively stopped. as a result,
Since the equalization processing of the common I / O line is performed reliably and at high speed, the signal transmission delay time of the common I / O line is correspondingly reduced, and the speed of the pseudo static RAM is increased.
【0112】3.2.2.X系選択回路 (1)Xアドレスバッファ XアドレスバッファXABは、図18に示されるよう
に、アドレス入力端子A0〜A10に対応して設けられ
る11個の単位回路を備える。これらの単位回路は、タ
イミング発生回路TGから供給される反転タイミング信
号φrefBに従って対応するアドレス入力端子A0〜
A10を介して供給されるXアドレス信号X0〜X10
あるいはリフレッシュカウンタRFCから供給されるリ
フレッシュアドレス信号AR0〜AR10を選択的に伝
達するマルチプレクサと、このマルチプレクサを介して
伝達されるアドレス信号をタイミング信号φxlsに従
って取り込み、保持するラッチ回路とをそれぞれ含む。
各ラッチ回路の出力信号は、さらに上記タイミング信号
φxlsに従ってゲート制御された後、対応する相補内
部アドレス信号BX0〜BX10とされる。3.2.2. X System Selection Circuit (1) X Address Buffer The X address buffer XAB includes eleven unit circuits provided corresponding to the address input terminals A0 to A10, as shown in FIG. These unit circuits have corresponding address input terminals A0 to A0 according to the inverted timing signal φrefB supplied from the timing generation circuit TG.
X address signals X0 to X10 supplied via A10
Alternatively, it includes a multiplexer for selectively transmitting refresh address signals AR0 to AR10 supplied from refresh counter RFC, and a latch circuit for fetching and holding the address signal transmitted through this multiplexer in accordance with timing signal φxls.
The output signal of each latch circuit is further gate-controlled in accordance with the timing signal φxls and then becomes the corresponding complementary internal address signal B X0 to B X10.
【0113】(2)リフレッシュカウンタ リフレッシュカウンタRFCは、図19に示されるよう
に、リフレッシュアドレス信号AR0〜AR10に対応
して設けられる11個のカウンタ単位回路CNTRを備
える。これらのカウンタ単位回路は、図19に例示され
るように、リング状に直列結合されるマスターラッチ及
びスレーブラッチをそれぞれ含む。そして、そのキャリ
ー入力端子とキャリー出力端子が順次結合されること
で、実質的に直列結合され、1個のバイナリィカウンタ
を構成して、反転カウントパルスCUPBに従った歩進
動作を行う。(2) Refresh Counter The refresh counter RFC includes eleven counter unit circuits CNTR provided corresponding to the refresh address signals AR0 to AR10, as shown in FIG. As shown in FIG. 19, these counter unit circuits each include a master latch and a slave latch which are serially coupled in a ring shape. Then, the carry input terminal and the carry output terminal are sequentially coupled to each other, so that the carry input terminals and the carry output terminals are substantially coupled in series to form one binary counter, and the stepping operation according to the inverted count pulse CUPB is performed.
【0114】ここで、反転カウントパルスCUPBは、
擬似スタティック型RAMがオートリフレッシュモード
又はセルフリフレッシュサイクルとされることで反転タ
イミング信号φrefBがロウレベルとされ、かつ擬似
スタティック型RAMが選択状態とされることで反転タ
イミング信号CE2Bがロウレベルとされてからタイミ
ング信号P1がハイレベルとされるまでの間、一時的に
ロウレベルとされる。その結果、リフレッシュアドレス
信号AR0〜AR10は、擬似スタティック型RAMが
選択状態とされる当初において、XアドレスバッファX
ABの対応する単位回路に取り込まれた後、次の歩進状
態に更新される。Here, the inverted count pulse CUPB is
Timing after the inversion timing signal φrefB is set to the low level by setting the pseudo static RAM to the auto refresh mode or the self refresh cycle and the inversion timing signal CE2B is set to the low level by setting the pseudo static RAM to the selected state It is temporarily set to low level until the signal P1 is set to high level. As a result, the refresh address signals AR0 to AR10 are the X address buffer X when the pseudo static RAM is initially selected.
After being taken into the corresponding unit circuit of AB, it is updated to the next step state.
【0115】(3)Xプリデコーダ XプリデコーダPXDは、図18に示されるように、そ
れぞれ2ビットの相補内部アドレス信号BX4及びBX
5,BX6及びBX7ならびにBX8及びBX9を所定
の組み合わせで受ける合計12個のデコーダ単位回路を
備える。これらのデコーダ単位回路の出力信号は、プリ
デコード信号AX450〜AX453,AX670〜A
X673ならびにAX890〜AX893として、各X
デコーダに供給される。(3) X Predecoder The X predecoder PXD, as shown in FIG. 18, is a 2-bit complementary internal address signal B X4 and B X 4, respectively.
5, a total of 12 decoder unit circuits for receiving B X6 and B X7 and B X8 and B X9 in a predetermined combination. The output signals of these decoder unit circuits are predecode signals AX450 to AX453, AX670 to A.
X673 and AX890 to AX893, each X
Supplied to the decoder.
【0116】なお、XプリデコーダPXDには、アレイ
選択用の相補内部アドレス信号BX0,BX1及びBX
10をもとに、各種のアレイ選択信号を形成するいくつ
かのデコーダ単位回路が含まれる。このうち、反転アレ
イ選択信号XDS0LB及びXDS0RBないしXDS
3LB及びXDS3RBは、XデコーダXD0L及びX
D0RないしXD3L及びXD3Rを選択的に動作状態
とするために供され、アレイ選択信号AXD0L,AX
D1L及びAXD0R,AXD1Rは、アレイ選択回路
に供給され、例えばコモンI/O線の切り換え処理に供
される。The X predecoder PXD has complementary internal address signals B X0, B X1 and B X for array selection.
Based on 10, several decoder unit circuits for forming various array selection signals are included. Of these, the inverted array selection signals XDS0LB and XDS0RB to XDS
3LB and XDS3RB are X decoders XD0L and XDS
The array selection signals AXD0L and AX are provided to selectively activate the D0R to XD3L and XD3R.
D1L, AXD0R, and AXD1R are supplied to the array selection circuit, and are used for switching the common I / O line, for example.
【0117】(4)アレイ選択回路 アレイ選択回路ASLは、図28に示されるように、X
プリデコーダPXDから供給されるアレイ選択信号AX
D0L,AXD1L及びAXD0R,AXD1Rとタイ
ミング信号CE3Dとをもとに、コモンI/O線イコラ
イズ用の反転選択タイミング信号IOS0LB及びIO
S2LB又はIOS0RB及びIOS2RBあるいはI
OS1LB及びIOS3LB又はIOS1RB及びIO
S3RBを選択的に形成する。また、上記アレイ選択信
号及びタイミング信号CE3Dと書き込み系動作サイク
ルにおいて選択的にハイレベルとされるタイミング信号
φweとをもとに、コモンI/O線及びメインアンプを
選択的に接続するための反転アレイ選択信号MAT0L
B及びMAT2LB又はMAT0RB及びMAT2RB
あるいはMAT1LB及びMAT3LB又はMAT1R
B及びMAT3RBを選択的に形成する。アレイ選択回
路ASLは、さらに、メインアンプが動作状態とされる
直前において一時的にハイレベルとされるタイミング信
号φiouの論理条件を加えることで、コモンI/O線
をプリセットするためのタイミング信号IOU0L及び
IOU2L又はIOU0R及びIOU2RあるいはIO
U1L及びIOU3L又はIOU1R及びIOU3Rを
選択的に形成する。(4) Array Selection Circuit The array selection circuit ASL, as shown in FIG.
Array selection signal AX supplied from the predecoder PXD
Inversion selection timing signals IOS0LB and IO for common I / O line equalization based on D0L, AXD1L and AXD0R, AXD1R and timing signal CE3D.
S2LB or IOS0RB and IOS2RB or I
OS1LB and IOS3LB or IOS1RB and IO
S3RB is selectively formed. An inversion for selectively connecting the common I / O line and the main amplifier based on the array selection signal and the timing signal CE3D and the timing signal φwe which is selectively set to the high level in the write system operation cycle. Array selection signal MAT0L
B and MAT2LB or MAT0RB and MAT2RB
Or MAT1LB and MAT3LB or MAT1R
B and MAT3RB are selectively formed. The array selection circuit ASL further adds the logic condition of the timing signal φiou which is temporarily set to the high level immediately before the main amplifier is put into the operating state, thereby timing signal IOU0L for presetting the common I / O line. And IOU2L or IOU0R and IOU2R or IO
U1L and IOU3L or IOU1R and IOU3R are selectively formed.
【0118】(5)X系冗長回路 擬似スタティック型RAMは、前述のように、メモリア
レイの冗長ワード線RWL0〜RWL3に対応して設け
られる4個のX系冗長回路XR0〜XR3を備える。こ
れらのX系冗長回路は、図20に示されるように、半導
体基板面の上辺に配置されるX系冗長回路XRUと下辺
に配置されるX系冗長回路XRDならびに冗長イネーブ
ル回路XREとをそれぞれ含む。(5) X System Redundant Circuit The pseudo static RAM includes the four X system redundant circuits XR0 to XR3 provided corresponding to the redundant word lines RWL0 to RWL3 of the memory array as described above. As shown in FIG. 20, these X system redundant circuits include an X system redundant circuit XRU arranged on the upper side of the semiconductor substrate surface and an X system redundant circuit XRD and a redundancy enable circuit XRE arranged on the lower side, respectively. .
【0119】このうち、冗長イネーブル回路XREは、
前述のように、その出力信号が排他的論理和結合される
2個のヒューズ論理ゲート回路を含む。これらの冗長イ
ネーブル回路の出力信号XRE0〜XRE3は、反転タ
イミング信号CE1Bがロウレベルとされ又はタイミン
グ信号XDPがハイレベルとされるとき、いずれか一方
のヒューズ論理ゲート回路に含まれるヒューズ手段だけ
が切断されることを条件に、選択的にハイレベルとされ
る。その結果、これらの出力信号XRE0〜XRE3
は、対応するX系冗長回路に不良アドレスが書き込ま
れ、対応する冗長ワード線が使用状態にあることを示す
ものとされる。Of these, the redundancy enable circuit XRE is
As described above, it includes two fuse logic gate circuits whose output signals are exclusive ORed. Of the output signals XRE0 to XRE3 of these redundancy enable circuits, when the inverted timing signal CE1B is set to the low level or the timing signal XDP is set to the high level, only the fuse means included in one of the fuse logic gate circuits is cut off. On the condition that it is set to high level selectively. As a result, these output signals XRE0 to XRE3
Indicates that the defective address is written in the corresponding X-system redundant circuit and the corresponding redundant word line is in use.
【0120】一方、X系冗長回路XRU及びXRDは、
対応する冗長ワード線に割り当てられる不良アドレスの
対応するビットが論理“0”又は論理“1”とされるこ
とで選択的に切断される一対のヒューズ手段をそれぞれ
含む4個の冗長アドレス比較回路を有する。これらの冗
長アドレス比較回路は、対応する上記冗長イネーブル回
路XREの出力信号XRE0〜XRE3がハイレベルと
されるとき、選択的に動作状態とされる。このとき、各
冗長イネーブル回路は、対応する相補内部アドレス信号
BX2,BX3及びBX8,BX9あるいはBX4ない
しBX7を、対応するヒューズ手段が切断されないこと
を条件に選択的に伝達することで、一種のアドレス比較
回路として機能する。これらの冗長アドレス比較回路の
出力信号は、前述のように、対応する一致検出ノードと
回路の接地電位との間に直列形態に設けられるカスケー
ドMOSFETのゲートに供給される。On the other hand, the X system redundancy circuits XRU and XRD are
Four redundant address comparison circuits each including a pair of fuse means which are selectively blown when the corresponding bit of the defective address assigned to the corresponding redundant word line is set to logic "0" or logic "1" Have. These redundant address comparison circuits are selectively activated when the output signals XRE0 to XRE3 of the corresponding redundancy enable circuit XRE are set to the high level. At this time, each redundancy enable circuit has a corresponding complementary internal address signal.
The B X2, B X3 and B X8, B X9 or B X4 no <br/> and B X7, by selectively transmitting the condition that the corresponding fuse unit is not disconnected, functions as a kind of address comparator To do. The output signals of these redundant address comparison circuits are supplied to the gates of cascade MOSFETs provided in series between the corresponding coincidence detection nodes and the ground potential of the circuit as described above.
【0121】X系冗長回路の一対の一致検出ノードは、
さらに対応するノアゲート回路の入力端子に結合され
る。このノアゲート回路の出力信号は、反転された後、
対応する上記反転冗長ワード線選択信号XR0B〜XR
3Bとされる。The pair of coincidence detection nodes of the X system redundant circuit are
Further, it is coupled to the input terminal of the corresponding NOR gate circuit. The output signal of this NOR gate circuit, after being inverted,
Corresponding inverted redundant word line selection signals XR0B to XR
3B.
【0122】反転冗長ワード線選択信号XR0B〜XR
3Bは、前述のように、冗長ワード線選択駆動信号発生
回路PRWDに供給されるとともに、4入力ナンドゲー
ト回路の対応する入力端子に供給され、内部制御信号X
Rの形成に供される。この内部制御信号XRは、いずれ
かの冗長ワード線選択信号XR0〜XR3がロウレベル
とされるとき、つまりいずれかの冗長ワード線が選択状
態とされるとき選択的にハイレベルとされ、例えばワー
ド線選択駆動信号発生回路PWDにおけるワード線選択
駆動信号X00〜X11の形成を選択的に停止するため
に供される。Inverted redundant word line selection signals XR0B to XR
As described above, 3B is supplied to the redundant word line selection drive signal generation circuit PRWD and also to the corresponding input terminal of the 4-input NAND gate circuit, and the internal control signal X is supplied.
Used to form R. The internal control signal XR is selectively set to the high level when any of the redundant word line selection signals XR0 to XR3 is set to the low level, that is, when any of the redundant word lines is set to the selected state, for example, the word line. It serves to selectively stop the formation of the word line selection drive signals X00 to X11 in the selection drive signal generation circuit PWD.
【0123】一方、各X系冗長回路の冗長イネーブル回
路XREの出力信号XRE0〜XRE3は、4入力のノ
アゲート回路の対応する入力端子にも供給され、内部制
御信号SIGXを形成するために供される。この内部制
御信号SIGXは、図35に示されるように、反転内部
制御信号φeh4Bがロウレベルとされることを条件
に、言い換えるとアドレス入力端子A4に所定の高電圧
が供給されていることを条件に、いずれかの冗長ワード
線が使用状態にあることを示すいわゆるシグネイチュア
信号としてアドレス入力端子A5から出力される。On the other hand, the output signals XRE0 to XRE3 of the redundancy enable circuit XRE of each X-system redundancy circuit are also supplied to the corresponding input terminals of the 4-input NOR gate circuit and are used to form the internal control signal SIGX. . As shown in FIG. 35, the internal control signal SIGX is provided on the condition that the inverted internal control signal φeh4B is at a low level, in other words, on the condition that a predetermined high voltage is supplied to the address input terminal A4. , A so-called signature signal indicating that one of the redundant word lines is in use is output from the address input terminal A5.
【0124】X系冗長回路XR0〜XR3は、さらに、
反転内部制御信号FCKBがロウレベルとされるとき、
各冗長アドレス比較回路に設けられるヒューズ手段の半
断線等を試験するためのいわゆるヒューズチェック機能
を持つ。The X system redundancy circuits XR0 to XR3 further include
When the inverted internal control signal FCKB is set to low level,
It has a so-called fuse check function for testing the half-breakage of fuse means provided in each redundant address comparison circuit.
【0125】(6)ワード線駆動信号発生回路 ワード線駆動信号発生回路φXGは、図21に示される
ように、ブーストレベルの駆動信号を形成するためのブ
ースト容量CBを含む。このブースト容量CBは、擬似
スタティック型RAMが非選択状態とされるとき、その
右側の電極が回路の電源電圧のようなハイレベルとな
り、かつ左側の電極が回路の接地電位のようなロウレベ
ルとなるようにプリチャージされる。そして、擬似スタ
ティック型RAMが選択状態とされるとき、反転タイミ
ング信号CE2B及びCE3Bがともにロウレベルとさ
れるタイミングで、その左側の電極がハイレベルとされ
る。これにより、右側の電極が回路の電源電圧より高い
ブーストレベルに押し上げられ、ブーストレベルのワー
ド線駆動信号φxが選択的に形成される。(6) Word Line Drive Signal Generation Circuit The word line drive signal generation circuit φXG includes a boost capacitor CB for forming a boost level drive signal, as shown in FIG. When the pseudo static RAM is in a non-selected state, the boost capacitor CB has its right electrode at a high level like the power supply voltage of the circuit and its left electrode at a low level like the ground potential of the circuit. To be precharged. Then, when the pseudo static RAM is in the selected state, the electrode on the left side thereof is set to the high level at the timing when both the inversion timing signals CE2B and CE3B are set to the low level. As a result, the right electrode is pushed up to the boost level higher than the power supply voltage of the circuit, and the boost level word line drive signal φx is selectively formed.
【0126】ワード線駆動信号φxは、ワード線選択駆
動信号発生回路PWD及び冗長ワード線選択駆動信号発
生回路PRWDに供給され、さらにワード線選択駆動信
号X00ないしX11あるいは冗長ワード線選択駆動信
号XR0〜XR3として、選択的に伝達される。The word line drive signal φx is supplied to the word line selection drive signal generation circuit PWD and the redundant word line selection drive signal generation circuit PRWD, and further the word line selection drive signals X00 to X11 or the redundant word line selection drive signals XR0 to XR0. It is selectively transmitted as XR3.
【0127】ところで、この実施例の擬似スタティック
型RAMのメモリアクセスで同時に動作状態とされるメ
モリアレイの数は、前述のように、通常の動作モードに
おいて2個とされ、セルフリフレッシュモードにおいて
8個とされる。したがって、これらの動作モードにおい
てワード線の同時選択数が異なり、上記ワード線駆動信
号φxに対する負荷容量の大きさが異なって、結果的に
そのブーストレベルが変動する。このため、この擬似ス
タティック型RAMでは、ワード線駆動信号発生回路φ
XGの出力端子と回路の接地電位との間に、擬似スタテ
ィック型RAMがセルフリフレッシュモードで選択状態
とされ反転タイミング信号φsrBがロウレベルとされ
るとき選択的に結合されるレベル補正用キャパシタCw
が設けられる。このキャパシタCwは、通常の動作モー
ド及びセルフリフレッシュモードにおけるワード線の同
時選択数の差、すなわち6本のワード線分の負荷容量に
相当する静電容量を持つように設計される。By the way, as described above, the number of memory arrays which are simultaneously activated by the memory access of the pseudo static RAM of this embodiment is two in the normal operation mode and eight in the self-refresh mode. It is said that Therefore, in these operation modes, the number of simultaneously selected word lines is different, the magnitude of the load capacitance with respect to the word line drive signal φx is different, and as a result, the boost level changes. Therefore, in this pseudo static RAM, the word line drive signal generation circuit φ
A level correction capacitor Cw selectively coupled between the output terminal of XG and the ground potential of the circuit when the pseudo static RAM is selected in the self refresh mode and the inversion timing signal φsrB is set to the low level.
Is provided. The capacitor Cw is designed to have a difference in the number of simultaneously selected word lines in the normal operation mode and the self-refresh mode, that is, an electrostatic capacity corresponding to the load capacity of six word lines.
【0128】(7)ワード線選択駆動信号発生回路及び
冗長ワード線選択駆動信号発生回路 ワード線選択駆動信号発生回路PWDは、図21に示さ
れるように、タイミング信号XDPならびに上辺又は下
辺アレイの群内ワード線選択を行う3ビットの相補内部
アドレス信号BX2,BX3及びBX10に従って、上
記ワード線駆動信号φxを選択的に伝達することで、ブ
ーストレベルのワード線選択駆動信号X00U,X01
U,X10U又はX11UあるいはX00D,X01
D,X10D又はX11Dを択一的に形成する。ワード
線選択駆動信号発生回路PWDには、前述のように、X
系冗長回路から、メモリアクセスに際して供給されるア
ドレスといずれかの冗長ワード線に割り当てられた不良
アドレスとが一致したとき選択的にハイレベルとされる
内部制御信号XRが供給される。この内部制御信号XR
がハイレベルとされるとき、ワード線選択駆動信号発生
回路PWDの動作は実質的に停止され、上記ワード線選
択駆動信号は形成されない。(7) Word line selection drive signal generation circuit and redundant word line selection drive signal generation circuit As shown in FIG. 21, the word line selection drive signal generation circuit PWD includes a timing signal XDP and a group of upper side or lower side arrays. By selectively transmitting the word line drive signal φx according to the 3-bit complementary internal address signals B X2, B X3, and B X10 for selecting the inner word line, the boost level word line select drive signals X00U, X01
U, X10U or X11U or X00D, X01
Alternatively, D, X10D or X11D is formed. As described above, the word line selection drive signal generation circuit PWD has X
The system redundancy circuit supplies the internal control signal XR that is selectively set to the high level when the address supplied at the time of memory access matches the defective address assigned to any one of the redundant word lines. This internal control signal XR
Is set to a high level, the operation of the word line selection drive signal generation circuit PWD is substantially stopped and the word line selection drive signal is not formed.
【0129】一方、冗長ワード線選択駆動信号発生回路
PRDWは、タイミング信号XDPと対応する反転冗長
ワード線選択信号XR0B〜XR3Bに従って、上記ワ
ード線駆動信号φxを選択的に伝達することで、ブース
トレベルの冗長ワード線選択駆動信号XR0〜XR3を
選択的に形成する。前述のように、メモリアクセスに際
して供給されるアドレスといずれかの冗長ワード線に割
り当てられた不良アドレスとが一致して反転冗長ワード
線選択信号XR0B〜XR3Bのいずれかがロウレベル
とされるとき、言い換えるならばこの冗長ワード線選択
駆動信号発生回路PRWDが実質的に動作状態とされる
とき、ワード線選択駆動信号発生回路PWDの動作は実
質的に停止される。On the other hand, the redundant word line selection drive signal generation circuit PRDW selectively transmits the word line drive signal φx in accordance with the inverted redundant word line selection signals XR0B to XR3B corresponding to the timing signal XDP, so that the boost level is increased. The redundant word line selection drive signals XR0 to XR3 are selectively formed. As described above, when the address supplied at the time of memory access matches the defective address assigned to any one of the redundant word lines and one of the inverted redundant word line selection signals XR0B to XR3B is set to the low level, it is paraphrased. Then, when the redundant word line selection drive signal generation circuit PRWD is substantially operated, the operation of the word line selection drive signal generation circuit PWD is substantially stopped.
【0130】(8)Xデコーダ XデコーダXD0L及びXD0RないしXD3L及びX
D3Rは、対応するメモリアレイの各ワード線群に対応
して設けられる64個の単位回路と、4本の冗長ワード
線に対応して設けられるもう1個の単位回路とをそれぞ
れ備える。これらの単位回路は、図36に例示されるよ
うに、各ワード線群を構成する4本のワード線に対応し
て設けられる4個のワード線駆動MOSFETをそれぞ
れ含む。ワード線駆動MOSFETのソースは、対応す
るワード線に結合され、そのドレインには、対応する上
記ワード線選択駆動信号X00ないしX11又は冗長ワ
ード線選択駆動信号XR0〜XR3が供給される。ワー
ド線駆動MOSFETのゲートは、対応するカットMO
SFETを介して、内部ノードN12すなわちインバー
タ回路N9の出力端子に共通結合される。(8) X Decoder X Decoders XD0L and XD0R to XD3L and X
The D3R includes 64 unit circuits provided corresponding to the respective word line groups of the corresponding memory array and another unit circuit provided corresponding to the four redundant word lines. As shown in FIG. 36, each of these unit circuits includes four word line driving MOSFETs provided corresponding to the four word lines forming each word line group. The source of the word line drive MOSFET is coupled to the corresponding word line, and the drain thereof is supplied with the corresponding word line selection drive signal X00 to X11 or redundant word line selection drive signal XR0 to XR3. The gate of the word line drive MOSFET has a corresponding cut MO
It is commonly coupled to the internal node N12, that is, the output terminal of the inverter circuit N9 via the SFET.
【0131】インバータ回路N9の入力端子は、そのゲ
ートにプリデコード信号AX450〜AX453,AX
670〜AX673ならびにAX890〜AX893を
所定の組み合わせで受けいわゆるデコーダトリーを構成
する3個の直列MOSFETを介して、インバータ回路
N10の出力端子に結合される。このインバータ回路N
10の入力端子には、上記XプリデコーダPXDから、
対応する反転アレイ選択信号線XDS0LB及びXDS
0RBないしXDS3LB及びXDS3RBが供給され
る。これにより、上記内部ノードN12は、対応する反
転アレイ選択信号XDS0LB等がロウレベルとされ、
かつ上記プリデコード信号が対応する組み合わせで一斉
にハイレベルとされるとき、選択的にハイレベルとされ
る。その結果、択一的にブーストレベルとされるワード
線選択駆動信号X00ないしX11が、対応するワード
線群内の指定される1本のワード線に伝達され、このワ
ード線が択一的に選択状態とされる。The input terminal of the inverter circuit N9 has its gates predecode signals AX450 to AX453, AX.
670-AX673 and AX890-AX893 are received in a predetermined combination, and are coupled to the output terminal of the inverter circuit N10 via three series MOSFETs that form a so-called decoder tree. This inverter circuit N
From the X predecoder PXD to the input terminal of 10,
Corresponding inversion array selection signal lines XDS0LB and XDS
0RB to XDS3LB and XDS3RB are provided. As a result, in the internal node N12, the corresponding inverted array selection signal XDS0LB or the like is set to the low level,
Further, when the predecode signals are simultaneously set to the high level in the corresponding combinations, the predecode signals are selectively set to the high level. As a result, the word line selection drive signals X00 to X11 which are alternatively set to the boost level are transmitted to one designated word line in the corresponding word line group, and this word line is selectively selected. To be in a state.
【0132】なお、図36には図示されないが、いずれ
かの冗長ワード線に割り当てられた不良アドレスが指定
される場合、冗長ワード線選択駆動信号XR0〜XR3
のブーストレベルが、上記プリデコード信号に関係な
く、対応する冗長ワード線WR0〜WR3に伝達され
る。Although not shown in FIG. 36, when a defective address assigned to any redundant word line is designated, redundant word line selection drive signals XR0 to XR3 are selected.
Is transmitted to the corresponding redundant word lines WR0 to WR3 regardless of the predecode signal.
【0133】3.2.3.Y系選択回路 (1)Yアドレスバッファ YアドレスバッファXABは、図23に示されるよう
に、アドレス入力端子A11〜A18に対応して設けら
れる8個の単位回路を備える。これらの単位回路は、対
応する上記アドレス入力端子を介して伝達されるYアド
レス信号Y11〜Y18を、反転タイミング信号CE0
B及びφylsBに従って取り込み、保持するラッチ回
路をそれぞれ含む。各ラッチ回路の出力信号は、反転タ
イミング信号φyeBに従ってゲート制御された後、相
補内部アドレス信号AY11〜AY18として、Yプリ
デコーダPYDに供給される。3.2.3. Y-system selection circuit (1) Y-address buffer The Y-address buffer XAB includes, as shown in FIG. 23, eight unit circuits provided corresponding to the address input terminals A11 to A18. These unit circuits convert the Y address signals Y11 to Y18 transmitted through the corresponding address input terminals into the inverted timing signal CE0.
B and φylsB are included and latch circuits for holding the latch circuits are included. The output signal of each latch circuit is gate-controlled in accordance with the inversion timing signal φyeB and then supplied to the Y predecoder PYD as complementary internal address signals A Y11 to A Y18.
【0134】(2)Yプリデコーダ YプリデコーダPYDは、図23ないし図25に示され
るように、それぞれ2ビットの相補内部アドレス信号A
Y11及びAY12,AY13及びAY14,AY15
及びAY16あるいはAY17及びAY18の非反転及
び反転信号を所定の組み合わせで受ける合計16個のデ
コーダ単位回路を備える。これらのデコーダ単位回路の
出力信号は、プリデコード信号AY120〜AY12
3,AY340〜AY343,AY560〜AY563
あるいはAY780〜AY783として、各Yデコーダ
に供給される。(2) Y Predecoder The Y predecoder PYD, as shown in FIGS. 23 to 25, each has a 2-bit complementary internal address signal A.
Y11 and A Y12, A Y13 and A Y14, A Y15
And a total of 16 decoder unit circuits for receiving the non-inverted and inverted signals of A Y16 or A Y17 and A Y18 in a predetermined combination. The output signals of these decoder unit circuits are predecode signals AY120 to AY12.
3, AY340 to AY343, AY560 to AY563
Alternatively, it is supplied to each Y decoder as AY780 to AY783.
【0135】ところで、プリデコード信号AY120〜
AY123,AY340〜AY343,AY560〜A
Y563ならびにAY780〜AY783を伝達する1
6本の信号線は、対をなす2個のメモリアレイの間に配
置されるYデコーダYD0〜YD3にそった比較的せま
い所を、比較的長い距離にわたって配置される。これら
の領域には、さらにY系冗長回路YRACから出力され
る冗長ワード線選択信号YR0〜YR7を各Yデコーダ
に伝達する8本の信号線を配置する必要があるが、実際
にはそのレイアウト余裕はない。By the way, the predecode signals AY120-
AY123, AY340 to AY343, AY560 to A
Transmits Y563 and AY780-AY783 1
The six signal lines are arranged over a relatively long distance in a relatively small space along the Y decoders YD0 to YD3 arranged between two memory arrays forming a pair. Eight signal lines for transmitting the redundant word line selection signals YR0 to YR7 output from the Y-system redundant circuit YRAC to the respective Y decoders need to be arranged in these regions, but the layout margin is actually provided. There is no.
【0136】これに対処するため、この実施例の擬似ス
タティック型RAMでは、図24及び図25に示される
ように、プリデコード信号AY560〜AY563なら
びにAY780〜AY783を伝達する8本の信号線を
上記冗長データ線選択信号用の信号線として共有してい
る。すなわち、これらのプリデコード信号に対応する8
個のデコーダ単位回路は、反転タイミング信号φyrB
をゲート制御信号とするマルチプレクサをそれぞれ備え
る。ここで、反転タイミング信号φyrBは、後述する
ように、メモリアクセスに際して供給されるYアドレス
信号Y11〜Y18と8組の冗長データ線群のいずれか
に割り当てられた不良アドレスとが一致したとき、選択
的にロウレベルとされる。このとき、各デコーダ単位回
路のマルチプレクサは、対応する上記冗長データ線選択
信号YR0〜YR7を選択し、各Yデコーダに伝達す
る。一方、これらのアドレスが一致せず、上記反転タイ
ミング信号φyrBがハイレベルとされるとき、各デコ
ーダ単位回路のマルチプレクサは、対応するプリデコー
ド信号AY560〜AY563ならびにAY780〜A
Y783を選択し、Yデコーダに伝達する。これによ
り、ゲート制御用のタイミング信号φyrを各Yデコー
ダに伝達する1本の信号線を追加するだけで、等価的に
8本の信号線を実現し、擬似スタティック型RAMのチ
ップ面積を縮小することができる。To deal with this, in the pseudo static RAM of this embodiment, as shown in FIGS. 24 and 25, the eight signal lines for transmitting the predecode signals AY560 to AY563 and AY780 to AY783 are provided. It is shared as a signal line for a redundant data line selection signal. That is, 8 corresponding to these predecode signals
The individual decoder unit circuits have the inverted timing signal φyrB.
Are provided as the gate control signals. Here, the inversion timing signal φyrB is selected when the Y address signals Y11 to Y18 supplied at the time of memory access and the defective address assigned to any one of the eight redundant data line groups match, as will be described later. Is set to low level. At this time, the multiplexer of each decoder unit circuit selects the corresponding redundant data line selection signal YR0 to YR7 and transmits it to each Y decoder. On the other hand, when these addresses do not match and the inversion timing signal φyrB is set to the high level, the multiplexer of each decoder unit circuit causes the corresponding predecode signals AY560 to AY563 and AY780 to AY780A.
Y783 is selected and transmitted to the Y decoder. As a result, by only adding one signal line for transmitting the gate control timing signal φyr to each Y decoder, eight signal lines are equivalently realized, and the chip area of the pseudo static RAM is reduced. be able to.
【0137】一方、プリデコード信号AY120〜AY
123,AY340〜AY343,AY560〜AY5
63ならびにAY780〜AY783は、図23ないし
図25に*記号で示される選択信号すなわちAX1U又
はAX1UYによってゲート制御された後、ドライバと
して作用する3段のインバータ回路を介して、対応する
Yデコーダに伝達される。この実施例において、上記ゲ
ート制御を行うナンドゲート回路ならびに3段のインバ
ータ回路は、図46に示されるように、対応するYデコ
ーダにそれぞれ近接して配置される。その結果、上記プ
リデコード信号に関する信号伝達回路の遅延時間が短縮
される。On the other hand, predecode signals AY120 to AY
123, AY340 to AY343, AY560 to AY5
63 and AY780 to AY783 are gated by a selection signal indicated by * symbol in FIGS. To be done. In this embodiment, the NAND gate circuit for performing the gate control and the three-stage inverter circuit are arranged in proximity to the corresponding Y decoders as shown in FIG. As a result, the delay time of the signal transmission circuit for the predecode signal is shortened.
【0138】(3)Y系冗長回路 擬似スタティック型RAMは、前述のように、メモリア
レイごとに32組の冗長相補データ線RD0〜RD31
を備え、これらの冗長相補データ線の4組すなわち各冗
長データ線群ごとに対応して設けられる8個のY系冗長
回路YRAC0〜YRAC7を備える。これらのX系冗
長回路は、図26に例示されるように、1個の冗長イネ
ーブル回路YREと、相補内部アドレス信号AY11〜
AX18の各ビットに対応して設けられる8個の冗長ア
ドレス比較回路とを含む。これらの冗長イネーブル回路
及び冗長アドレス比較回路は、前述のX系冗長回路と同
様に機能し、その出力信号つまり冗長データ線選択信号
YR0〜YR7を選択的にハイレベルとする。(3) Y System Redundant Circuit As described above, the pseudo static RAM has 32 sets of redundant complementary data lines R D0 to R D31 for each memory array.
And eight Y-system redundant circuits YRAC0 to YRAC7 provided corresponding to four sets of these redundant complementary data lines, that is, each redundant data line group. As shown in FIG. 26, these X-system redundant circuits include one redundant enable circuit YRE and complementary internal address signals A Y11 to AY11.
It includes eight redundant address comparison circuits provided corresponding to each bit of AX18. The redundant enable circuit and the redundant address comparison circuit function in the same manner as the above-mentioned X-system redundant circuit, and selectively outputs the output signal thereof, that is, the redundant data line selection signals YR0 to YR7.
【0139】すなわち、各Y系冗長回路の冗長イネーブ
ル回路YREは、対応するY系冗長回路が有効とされる
とき、言い換えると対応する冗長データ線群に不良アド
レスが割り当てられるとき選択的に切断されるヒューズ
手段を含み、このヒューズ手段が切断されることで、そ
の出力信号YRE0〜YRE7をハイレベルとする。一
方、各Y系冗長回路の8個の冗長アドレス比較回路は、
対応する冗長データ線群に割り当てられる不良アドレス
の対応するビットが論理“0”又は論理“1”とされる
ことで選択的に切断される2個のヒューズ手段を含み、
これらのヒューズ手段が切断されることで不良アドレス
の対応するビットを記憶する。そして、対応する冗長イ
ネーブル回路の出力信号YRE0〜YRE7がハイレベ
ルであることを条件に選択的に動作状態とされ、上記不
良アドレスとメモリアクセスに際して供給されるYアド
レス信号Y11〜Y18すなわち相補内部アドレス信号
AY11〜AY18の対応するビットとを比較照合す
る。その結果、両ビットが一致するとき、その出力信号
を選択的にハイレベルとする。That is, the redundancy enable circuit YRE of each Y-system redundant circuit is selectively cut off when the corresponding Y-system redundant circuit is made valid, in other words, when the defective address is assigned to the corresponding redundant data line group. When the fuse means is cut, the output signals YRE0 to YRE7 are set to the high level. On the other hand, the eight redundant address comparison circuits of each Y-system redundant circuit are
The fuse circuit includes two fuse means which are selectively cut off when the corresponding bit of the defective address assigned to the corresponding redundant data line group is set to logic "0" or logic "1".
By cutting these fuse means, the corresponding bit of the defective address is stored. Then, the output signals YRE0 to YRE7 of the corresponding redundancy enable circuits are selectively operated under the condition that they are at a high level, and the defective address and the Y address signals Y11 to Y18 supplied at the time of memory access, that is, complementary internal addresses are supplied. signal
The corresponding bits of A Y11 to A Y18 are compared and collated. As a result, when both bits match, the output signal is selectively set to high level.
【0140】上記冗長アドレス比較回路の出力信号は、
所定の検出ノードと回路の接地電位との間に直列形態に
設けられる8個のカスケードMOSFETのゲートにそ
れぞれ供給される。そして、8個の冗長アドレス比較回
路の出力信号がすべてハイレベルであることを条件に、
言い換えると各Y系冗長回路に保持される不良アドレス
とメモリアクセスに際して供給されるYアドレス信号Y
11〜Y18とが全ビット一致することを条件に、上記
検出ノードが選択的にロウレベルとされる。検出ノード
のレベルは、インバータ回路を経て、冗長データ線選択
信号YR0〜YR7ならびに反転冗長データ線選択信号
YR0B〜YR7Bとされる。The output signal of the redundant address comparison circuit is
It is supplied to the gates of eight cascade MOSFETs provided in series between a predetermined detection node and the ground potential of the circuit. Then, on condition that the output signals of the eight redundant address comparison circuits are all at the high level,
In other words, the defective address held in each Y-system redundant circuit and the Y-address signal Y supplied at the time of memory access
The detection node is selectively set to a low level on condition that all bits of 11 to Y18 match. The level of the detection node is set to the redundant data line selection signals YR0 to YR7 and the inverted redundant data line selection signals YR0B to YR7B via the inverter circuit.
【0141】つまり、Y系冗長回路YRAC0〜YRA
C7は、対応する冗長データ線群に割り当てられる不良
アドレスを保持する不良アドレスROMとして作用する
とともに、これらの不良アドレスとメモリアクセスに際
して供給されるYアドレス信号Y11〜Y18すなわち
相補内部アドレス信号AY11〜AY18をビットごと
に比較照合する冗長アドレス比較回路として作用する。
そして、対応する不良アドレスと相補内部アドレス信号
AY11〜AY18が全ビット一致することを条件に、
その出力信号すなわち冗長データ線選択信号YR0〜Y
R7を選択的にハイレベルとし、対応する反転冗長デー
タ線選択信号YR0B〜YR7Bを選択的にロウレベル
とする。That is, the Y-system redundant circuits YRAC0 to YRA
C7 is corresponding with acting as a defective address ROM for holding a defective address to be assigned to redundant data line group, Y address signal Y11~Y18 i.e. complementary internal address signals A Y11~ supplied upon these defective address memory access It operates as a redundant address comparison circuit for comparing and collating A Y18 bit by bit.
Then, the corresponding defective address and complementary internal address signal
All bits of A Y11 to A Y18 match,
The output signal, that is, the redundant data line selection signals YR0 to YR
R7 is selectively set to high level, and the corresponding inverted redundant data line selection signals YR0B to YR7B are selectively set to low level.
【0142】冗長データ線選択信号YR0〜YR7は、
前述のように、YプリデコーダPYDを介して各Yデコ
ーダに供給される。また、反転冗長データ線選択信号Y
R0B〜YR7Bは、実質8入力の負論理和回路の対応
する入力端子に供給され、反転タイミング信号φyrB
を形成するために供される。言うまでもなく、反転タイ
ミング信号φyrBは、いずれかの冗長データ線選択信
号YR0〜YR7がロウレベルとされるとき、言い換え
るならばいずれかの冗長データ線群が選択状態とされる
とき、選択的にロウレベルとされる。反転タイミング信
号φyrBは、さらにタイミング信号φyedによって
ゲート制御された後、タイミング信号φyrとされる。
タイミング信号φyr及び反転タイミング信号φyrB
は、前述のように、YプリデコーダPYDのマルチプレ
クサ制御信号として供されるとともに、YデコーダYD
における相補データ線又は冗長相補データ線選択動作の
切り換え制御信号とされる。The redundant data line selection signals YR0 to YR7 are
As described above, it is supplied to each Y decoder via the Y predecoder PYD. In addition, the inverted redundant data line selection signal Y
R0B to YR7B are supplied to the corresponding input terminals of the negative logical sum circuit having substantially eight inputs, and the inverted timing signal φyrB is supplied.
Are provided to form the. Needless to say, the inversion timing signal φyrB is selectively set to the low level when any of the redundant data line selection signals YR0 to YR7 is set to the low level, in other words, when any of the redundant data line groups is set to the selected state. To be done. The inverted timing signal φyrB is gate-controlled by the timing signal φyed, and then becomes the timing signal φyr.
Timing signal φyr and inverted timing signal φyrB
Is used as a multiplexer control signal for the Y predecoder PYD as described above, and
Of the complementary data line or redundant complementary data line selection operation.
【0143】一方、各Y系冗長回路の冗長イネーブル回
路YREの出力信号YRE0〜YRE7は、特に制限さ
れないが、実質8入力の論理和回路の対応する入力端子
にも供給され、内部制御信号SIGYを形成するために
供される。言うまでもなく、内部制御信号SIGYは、
いずれかの冗長イネーブル回路YREの出力信号YRE
0〜YRE7がハイレベルとされるとき、言い換えると
いずれかの冗長データ線群に不良アドレスが割り当てら
れるとき、選択的にハイレベルとされる。上記内部制御
信号SIGYは、前述の内部制御信号SIGXと同様
に、アドレス入力端子A4に所定の高電圧が供給される
とき、いわゆるシグネイチュア信号としてアドレス入力
端子A5から出力される。On the other hand, the output signals YRE0 to YRE7 of the redundancy enable circuit YRE of each Y-system redundant circuit are not particularly limited, but are also supplied to the corresponding input terminals of the logical OR circuit of substantially eight inputs to output the internal control signal SIGY. Served to form. Needless to say, the internal control signal SIGY is
Output signal YRE of either redundancy enable circuit YRE
When 0 to YRE7 are set to the high level, in other words, when a defective address is assigned to any of the redundant data line groups, it is selectively set to the high level. The internal control signal SIGY is output from the address input terminal A5 as a so-called signature signal when a predetermined high voltage is supplied to the address input terminal A4, like the internal control signal SIGX described above.
【0144】Y系冗長回路YRAC0〜YRAC7は、
さらに、反転内部制御信号FCKBがロウレベルとされ
るとき、各冗長アドレス比較回路に設けられるヒューズ
手段の半断線等を試験するためのいわゆるヒューズチェ
ック機能を持つ。The Y system redundancy circuits YRAC0 to YRAC7 are
Further, when the inverted internal control signal FCKB is set to low level, it has a so-called fuse check function for testing a half disconnection of the fuse means provided in each redundant address comparison circuit.
【0145】(4)Yデコーダ YデコーダYD0〜YD3は、対応する左右一対のメモ
リアレイの4組の相補データ線に対応して設けられる2
56個の単位回路と、4組の冗長相補データ線すなわち
冗長データ線群に対応して設けられる8個の単位回路と
をそれぞれ備える。このうち、4組の相補データ線に対
応して設けられる単位回路は、図37に例示されるよう
に、検出ノードと回路の電源電圧あるいは対応する反転
Yデコーダ制御信号YDSiUB又はYDSiDBすな
わちYDS0UB〜YDS3UB又はYDS0DB〜Y
DS3DBとの間に並列又は直列形態に設けられる複数
のPチャンネル及びNチャンネルMOSFETをそれぞ
れ含む。これらのMOSFETは、そのゲートにプリデ
コード信号AY120〜AY123,AY340〜AY
343,AY560〜AY563ならびにAY780〜
AY783が対応する組み合わせで供給されることで、
1個のナンドゲート回路を構成する。(4) Y Decoder Y decoders YD0 to YD3 are provided corresponding to four sets of complementary data lines of the corresponding pair of left and right memory arrays.
It includes 56 unit circuits and 8 unit circuits provided corresponding to four sets of redundant complementary data lines, that is, redundant data line groups. Of these, the unit circuits provided corresponding to the four sets of complementary data lines are, as illustrated in FIG. 37, the power supply voltage of the detection node and the circuit or the corresponding inverted Y decoder control signal YDSiUB or YDSiDB, that is, YDS0UB to YDS3UB. Or YDS0DB ~ Y
It includes a plurality of P-channel and N-channel MOSFETs provided in parallel or in series with the DS3DB. These MOSFETs have at their gates predecode signals AY120 to AY123 and AY340 to AY.
343, AY560 to AY563 and AY780
By supplying AY783 in a corresponding combination,
One NAND gate circuit is constructed.
【0146】したがって、各単位回路の検出ノードは、
対応する反転Yデコーダ制御信号がロウレベルとされ、
かつ対応する上記プリデコード信号がすべてハイレベル
とされることを条件に、選択的にロウレベルとされる。
その結果、対応するデータ線選択信号YS0〜YS25
5が択一的にハイレベルとされ、対応する4組の相補デ
ータ線が選択状態とされる。なお、上記プリデコード信
号線AY560〜AY563ならびにAY780〜AY
783を介して冗長データ線選択信号YR0〜YR7が
伝達されるとき、プリデコード信号AY340〜AY3
43はすべてロウレベルとされる。このため、通常の相
補データ線を選択するためのデータ線選択信号はすべて
ロウレベルとされる。Therefore, the detection node of each unit circuit is
The corresponding inverted Y decoder control signal is set to low level,
Further, it is selectively set to low level on condition that all of the corresponding predecode signals are set to high level.
As a result, the corresponding data line selection signals YS0 to YS25
5 is alternatively set to the high level, and the corresponding four sets of complementary data lines are selected. The predecode signal lines AY560 to AY563 and AY780 to AY are used.
When redundant data line selection signals YR0 to YR7 are transmitted via 783, predecode signals AY340 to AY3
All 43 are low level. Therefore, all the data line selection signals for selecting the normal complementary data lines are set to the low level.
【0147】一方、各冗長データ線群に対応して設けら
れる4個の単位回路は、特に制限されないが、図37に
例示されるように、タイミング信号φyrと対応するプ
リデコード信号AY560〜AY563又はAY780
〜AY783つまり冗長データ線選択信号YR0〜YR
7を受ける2入力ナンドゲート回路をそれぞれ含む。こ
れらのナンドゲート回路の出力信号は、対応する反転Y
デコーダ制御信号がロウレベルとされ、かつタイミング
信号φyrならびに対応する冗長データ線選択信号YR
0〜YR7がハイレベルとされるとき、選択的にロウレ
ベルとされる。その結果、対応する冗長データ線選択信
号RYS0〜RYS7が択一的にハイレベルとされ、対
応する4組の冗長相補データ線が選択状態とされる。On the other hand, the four unit circuits provided corresponding to each redundant data line group are not particularly limited, but as illustrated in FIG. 37, predecode signals AY560 to AY563 corresponding to timing signal φyr or AY780
To AY783, that is, redundant data line selection signals YR0 to YR
2 input NAND gate circuits for receiving 7 are respectively included. The output signals of these NAND gate circuits have the corresponding inverted Y
The decoder control signal is set to the low level, the timing signal φyr and the corresponding redundant data line selection signal YR are set.
When 0 to YR7 are set to the high level, they are selectively set to the low level. As a result, the corresponding redundant data line selection signals RYS0 to RYS7 are alternatively set to the high level, and the corresponding four sets of redundant complementary data lines are selected.
【0148】3.2.4.データ入出力回路 (1)データ入力バッファ データ入力バッファDIBは、データ入出力端子IO0
〜IO7に対応して設けられる8個の単位回路を備え
る。これらの単位回路の入力端子は、図3に示されるよ
うに、対応するデータ入出力端子IO0〜IO7に結合
される。一方、データ入力バッファDIBのデータ入出
力端子IO0〜IO3に対応する第1ないし第4の単位
回路の出力端子は、隣接する書き込み回路DILL及び
DIRLの対応する単位回路にそれぞれ共通結合され、
データ入出力端子IO4〜IO7に対応する第5ないし
第8の単位回路の出力端子は、DILR及びDIRRの
対応する単位回路の入力端子にそれぞれ共通結合され
る。3.2.4. Data input / output circuit (1) Data input buffer The data input buffer DIB has a data input / output terminal IO0.
8 unit circuits provided corresponding to IO7. The input terminals of these unit circuits are coupled to corresponding data input / output terminals IO0-IO7 as shown in FIG. On the other hand, the output terminals of the first to fourth unit circuits corresponding to the data input / output terminals IO0 to IO3 of the data input buffer DIB are commonly coupled to the corresponding unit circuits of the adjacent write circuits DILL and DIRL, respectively.
The output terminals of the fifth to eighth unit circuits corresponding to the data input / output terminals IO4 to IO7 are commonly coupled to the input terminals of the corresponding unit circuits of DILR and DIRR, respectively.
【0149】データ入力バッファDIBの各単位回路
は、図29に例示されるように、擬似スタティック型R
AMが書き込み系の動作サイクルとされるとき所定のタ
イミングでロウレベルとされる反転タイミング信号φd
icBに従って、対応するデータ入出力端子IO0〜I
O7を介して供給される書き込みデータを取り込み、こ
れを対応する書き込み回路DILL及びDIRLあるい
はDILR及びDIRRの対応する単位回路に伝達す
る。Each unit circuit of the data input buffer DIB has a pseudo static type R as shown in FIG.
Inverted timing signal φd which is brought to a low level at a predetermined timing when AM is set to a write operation cycle
According to icB, corresponding data input / output terminals IO0-I
The write data supplied via O7 is fetched and transmitted to the corresponding unit circuit of the corresponding write circuits DILL and DIRL or DILR and DIRR.
【0150】(2)書き込み回路及び書き込み選択回路 書き込み回路DILLは、図29に例示されるように、
二つのメモリアレイMARY0L及びMARY0Rの各
コモンI/O線に対応して共通に設けられる4個の単位
回路をそれぞれ備える。これらの単位回路は、データ入
力バッファDIBの第1〜第4の単位回路から伝達され
る書き込み信号をもとに、相補書き込み信号DIijA
すなわちDI00A〜DI03Aをそれぞれ形成する。
これらの相補書き込み信号は、図30に示されるよう
に、対応する書き込み選択信号WS0L又はWS0Rが
ハイレベルとされることを条件に、書き込み選択回路W
Sによって選択され、メモリアレイMARY0L又はM
ARY0Rの4組のコモンI/O線に伝達される。(2) Write Circuit and Write Select Circuit The write circuit DILL is, as illustrated in FIG.
Each of the two memory arrays MARY0L and MARY0R is provided with four unit circuits commonly provided corresponding to each common I / O line. These unit circuits have complementary write signals D IijA based on the write signals transmitted from the first to fourth unit circuits of the data input buffer DIB.
That is, D I00A to D I03A are formed, respectively.
These complementary write signals are, as shown in FIG. 30, provided that the corresponding write select signal WS0L or WS0R is set to the high level, to the write select circuit W.
Memory array MARY0L or M selected by S
It is transmitted to the four sets of common I / O lines of ARY0R.
【0151】同様に、書き込み回路DIRLは、メモリ
アレイMARY1L及びMARY1Rの各コモンI/O
線に対応して共通に設けられる4個の単位回路をそれぞ
れ備える。これらの単位回路は、データ入力バッファD
IBの第1〜第4の単位回路から伝達される書き込み信
号をもとに、相補書き込み信号DI10B〜DI13B
をそれぞれ形成する。これらの相補書き込み信号は、対
応する書き込み選択信号WS1L又はWS1Rがハイレ
ベルとされることを条件に、メモリアレイMARY0L
又はMARY0Rの4組のコモンI/O線に選択的に伝
達される。Similarly, the write circuit DIRL includes common I / Os for the memory arrays MARY1L and MARY1R.
Each of the four unit circuits commonly provided corresponding to the line is provided. These unit circuits consist of the data input buffer D
Complementary write signals D I10B to D I13B based on the write signals transmitted from the first to fourth unit circuits of the IB.
Are formed respectively. These complementary write signals are supplied to the memory array MARY0L provided that the corresponding write selection signal WS1L or WS1R is set to the high level.
Alternatively, it is selectively transmitted to the four sets of common I / O lines of MARY0R.
【0152】一方、書き込み回路DILRは、メモリア
レイMARY2L及びMARY2Rの各コモンI/O線
に対応して共通に設けられる4個の単位回路をそれぞれ
備える。これらの単位回路は、データ入力バッファDI
Bの第5〜第8の単位回路から伝達される書き込み信号
をもとに、相補書き込み信号DI24A〜DI27Aを
それぞれ形成する。これらの相補書き込み信号は、対応
する書き込み選択信号WS2L又はWS2Rがハイレベ
ルとされることを条件に、メモリアレイMARY2L又
はMARY2Rの4組のコモンI/O線に選択的に伝達
される。On the other hand, the write circuit DILR includes four unit circuits commonly provided corresponding to the common I / O lines of the memory arrays MARY2L and MARY2R, respectively. These unit circuits are the data input buffer DI
Complementary write signals D I24A to D I27A are formed based on the write signals transmitted from the fifth to eighth unit circuits B. These complementary write signals are selectively transmitted to the four sets of common I / O lines of the memory array MARY2L or MARY2R on condition that the corresponding write selection signal WS2L or WS2R is set to the high level.
【0153】同様に、書き込み回路DIRRは、メモリ
アレイMARY3L及びMARY3Rの各コモンI/O
線に対応して共通に設けられる4個の単位回路をそれぞ
れ備える。これらの単位回路は、データ入力バッファD
IBの第5〜第8の単位回路から伝達される書き込み信
号をもとに、相補書き込み信号DI34B〜DI37B
をそれぞれ形成する。これらの相補書き込み信号は、対
応する書き込み選択信号WS3L又はWS3Rがハイレ
ベルとされることを条件に、メモリアレイMARY3L
又はMARY3Rの4組のコモンI/O線に選択的に伝
達される。Similarly, the write circuit DIRR includes common I / Os of the memory arrays MARY3L and MARY3R.
Each of the four unit circuits commonly provided corresponding to the line is provided. These unit circuits consist of the data input buffer D
Complementary write signals D I34B to D I37B based on the write signals transmitted from the fifth to eighth unit circuits of the IB.
Are formed respectively. These complementary write signals are supplied to the memory array MARY3L provided that the corresponding write select signal WS3L or WS3R is set to the high level.
Alternatively, it is selectively transmitted to the four sets of common I / O lines of MARY3R.
【0154】(3)メインアンプ メインアンプMALLは、図27に例示されるように、
メモリアレイMARY0L及びMARY0Rの各コモン
I/O線に対応して設けられる4個の単位回路を含む。
これらの単位回路は、2組の入力端子と1組の出力端子
をそれぞれ有する。このうち、各単位回路の入力端子の
一方は、メモリアレイMARY0Lの対応するコモンI
/O線IO0iLすなわちIO00L〜IO03Lにそ
れぞれ結合され、その他方は、メモリアレイMARY0
Rの対応するコモンI/O線IO0iRすなわちIO0
0R〜IO03Rにそれぞれ結合される。各単位回路の
入力端子は、対応する反転アレイ選択信号MAT0LB
又はMAT0RBがロウレベルとされることで、対応す
る単位回路の相補内部ノードIMA0iすなわちIMA
00〜IMA03に選択的に結合される。メインアンプ
MALLの各単位回路の出力端子は、出力選択回路OS
Lを経て、データ出力バッファDOBの第1〜第4の単
位回路の入力端子に結合される。メインアンプMALL
は、上記相補内部ノードIMA0iとその出力端子との
間に実質的に直列形態に設けられる2対のスタティック
型増幅回路を含み、対応するタイミング信号φma0に
従って選択的に動作状態とされる。(3) Main Amplifier The main amplifier MALL, as illustrated in FIG.
It includes four unit circuits provided corresponding to the common I / O lines of the memory arrays MARY0L and MARY0R.
These unit circuits each have two sets of input terminals and one set of output terminals. Of these, one of the input terminals of each unit circuit is connected to the corresponding common I of the memory array MARY0L.
/ O line I O0iL, that is, I O00L to I O03L, and the other one is connected to the memory array MARY0.
Common I / O line I O0iR corresponding to R, that is, I O0
It is coupled to 0R~ I O03R. The input terminal of each unit circuit has a corresponding inverted array selection signal MAT0LB.
Alternatively, when MAT0RB is set to the low level, the complementary internal node I MA0i of the corresponding unit circuit, that is, I MA
00 to I MA03 are selectively bound. The output terminal of each unit circuit of the main amplifier MALL is an output selection circuit OS.
Via L, it is coupled to the input terminals of the first to fourth unit circuits of the data output buffer DOB. Main amplifier MALL
Includes two pairs of static type amplifier circuits provided substantially in series between the complementary internal node I MA0i and its output terminal, and is selectively activated according to the corresponding timing signal φma0.
【0155】同様に、メインアンプMARLは、メモリ
アレイMARY1L及びMARY1Rの各コモンI/O
線に対応して設けられる4個の単位回路を含む。これら
の単位回路の4対の入力端子は、メモリアレイMARY
1L又はMARY1Rの対応するコモンI/O線IO1
iL又はIO1iRに結合され、その出力端子は、出力
選択回路OSLを介して、データ出力バッファDOBの
第1〜第4の単位回路の入力端子に共通結合される。メ
インアンプMARLは、対応するタイミング信号φma
1に従って選択的に動作状態とされる。Similarly, the main amplifier MARL is a common I / O for each of the memory arrays MARY1L and MARY1R.
It includes four unit circuits provided corresponding to the lines. The four pairs of input terminals of these unit circuits are connected to the memory array MARY.
Corresponding common I / O line I O1 of 1L or MARY 1R
coupled to iL or I O1iR, and an output terminal, via the output selection circuit OSL, it is commonly coupled to the input terminal of the first to fourth unit circuit of the data output buffer DOB. The main amplifier MARL has a corresponding timing signal φma.
1 is selectively activated.
【0156】一方、メインアンプMALRは、メモリア
レイMARY2L及びMARY2Rの各コモンI/O線
に対応して設けられる4個の単位回路を含む。これらの
単位回路の4対の入力端子は、メモリアレイMARY2
L又はMARY2Rの対応するコモンI/O線IO2j
LすなわちIO24L〜IO27LあるいはIO2jR
すなわちIO24R〜IO27Rにそれぞれ結合され、
その出力端子は、出力選択回路OSLを介して、データ
出力バッファDOBの第5ないし第8の単位回路の入力
端子にそれぞれ結合される。メインアンプMARLは、
対応するタイミング信号φma0に従って選択的に動作
状態とされる。On the other hand, the main amplifier MALR includes four unit circuits provided corresponding to the common I / O lines of the memory arrays MARY2L and MARY2R. The four pairs of input terminals of these unit circuits are connected to the memory array MARY2.
Common I / O line I O2j corresponding to L or MARY2R
L, that is, I O24L to I O27L or I O2jR
That respectively coupled to I O24R~ I O27R,
The output terminals thereof are respectively coupled to the input terminals of the fifth to eighth unit circuits of the data output buffer DOB via the output selection circuit OSL. The main amplifier MARL is
It is selectively activated according to the corresponding timing signal φma0.
【0157】同様に、メインアンプMARRは、メモリ
アレイMARY3L及びMARY3Rの各コモンI/O
線に対応して設けられる4個の単位回路を含む。これら
の単位回路の4対の入力端子は、メモリアレイMARY
3L又はMARY3Rの対応するコモンI/O線IO3
jL又はIO3jRにそれぞれ結合され、その出力端子
は、出力選択回路OSLを介して上記データ出力バッフ
ァDOBの第5〜第8の単位回路の入力端子にそれぞれ
共通結合される。メインアンプMARLは、対応するタ
イミング信号φma0に従って選択的に動作状態とされ
る。以下、メインアンプMALLを例に、この擬似スタ
ティック型RAMのメインアンプの概要とその特徴につ
いて説明する。Similarly, the main amplifier MARR is a common I / O for each of the memory arrays MARY3L and MARY3R.
It includes four unit circuits provided corresponding to the lines. The four pairs of input terminals of these unit circuits are connected to the memory array MARY.
3L or MARY3R corresponding common I / O lines I O3
They are respectively coupled to jL or I O3jR, an output terminal, each of which is commonly coupled to the input terminal of the fifth through the unit circuit of the eighth of the data output buffer DOB through the output selection circuit OSL. The main amplifier MARL is selectively activated according to the corresponding timing signal φma0. Hereinafter, the main amplifier of the pseudo static RAM will be outlined and its characteristics will be described by taking the main amplifier MALL as an example.
【0158】各メインアンプの単位回路は、対応する2
組のコモンI/O線IO0iL及びIO0iR等の非反
転及び反転信号線間に設けられる3個のイコライズMO
SFETをそれぞれ含む。これらのイコライズMOSF
ETは、対応する内部制御信号IOS0L又はIOS0
R等がロウレベルとされることで選択的にオン状態とな
り、対応するコモンI/O線の非反転及び反転信号線を
ハーフプリチャージレベルHVCとする。The unit circuit of each main amplifier has a corresponding 2
Three equalize MOs provided between non-inverted and inverted signal lines such as a pair of common I / O lines I O0iL and I O0iR
Each includes an SFET. These equalize MOSF
ET is the corresponding internal control signal IOS0L or IOS0
When R or the like is set to a low level, it is selectively turned on, and the corresponding non-inverted and inverted signal lines of the common I / O line are set to the half precharge level HVC.
【0159】各メインアンプの単位回路は、さらに、図
47に別記されるように、対応するコモンI/O線IO
0iL等の非反転信号線IO0iL等及び反転信号線I
O0iLB等と回路の電源電圧との間に設けられる一対
のプリセットMOSFETQN23及びQN24をそれ
ぞれ含む。これらのプリセットMOSFETは、対応す
る内部制御信号IOU0L等がハイレベルとされること
で選択的にオン状態となり、対応する上記コモンI/O
線の非反転及び反転信号線を、回路の電源電圧からその
しきい値電圧分だけ低いレベルにプリセットする。その
結果、各コモンI/O線の非反転及び反転信号線の直流
レベルは、スタティック型増幅回路の感度が最大となる
所定のバイアス電圧を有するものとなる。The unit circuit of each main amplifier further has a corresponding common I / O line I O as shown in FIG.
0iL or the like non-inverted signal line IO 0iL or the like and inverted signal line I
Each includes a pair of preset MOSFETs QN23 and QN24 provided between O0iLB and the like and the power supply voltage of the circuit. These preset MOSFETs are selectively turned on when the corresponding internal control signal IOU0L or the like is set to a high level, and the corresponding common I / Os are set.
The non-inverted and inverted signal lines of the line are preset to a level lower than the circuit power supply voltage by the threshold voltage thereof. As a result, the DC levels of the non-inverted and inverted signal lines of each common I / O line have a predetermined bias voltage that maximizes the sensitivity of the static amplifier circuit.
【0160】ところで、この擬似スタティック型RAM
において、上記プリセットMOSFETに供給される内
部制御信号IOU0L等は、図48に示されるように、
各メインアンプが動作状態とされる直前、言い換えるな
らばタイミング信号φma0等がハイレベルとされる直
前において一時的にハイレベルとされ、これによってプ
リセットMOSFETQN23及びQN24等が一時的
にオン状態とされる。このため、これらのプリセットM
OSFETが、メインアンプが動作状態とされる間継続
的にオン状態とされる従来のダイナミック型RAM等に
比較して、メインアンプの低消費電力化を図ることがで
きる。By the way, this pseudo static RAM
In FIG. 48, the internal control signals IOU0L and the like supplied to the preset MOSFET are as shown in FIG.
Immediately before the operation of each main amplifier, in other words, immediately before the timing signal φma0 or the like is set to the high level, it is temporarily set to the high level, whereby the preset MOSFETs QN23 and QN24 and the like are temporarily turned on. . Therefore, these presets M
The power consumption of the main amplifier can be reduced as compared with the conventional dynamic RAM or the like in which the OSFET is continuously turned on while the main amplifier is in the operating state.
【0161】(4)出力選択回路 出力選択回路OSLは、図32に示されるように、メイ
ンアンプMALL,MARL,MALR及びMARRか
ら出力される4ビットの読み出しデータを、上記タイミ
ング信号φma0及びφma1に従って選択し、データ
出力バッファDOBの対応する単位回路に選択的に伝達
する。(4) Output Selection Circuit As shown in FIG. 32, the output selection circuit OSL outputs the 4-bit read data output from the main amplifiers MALL, MARL, MALR and MARR in accordance with the timing signals φma0 and φma1. It is selected and selectively transmitted to the corresponding unit circuit of the data output buffer DOB.
【0162】すなわち、出力選択回路OSLは、タイミ
ング信号φma0がハイレベルとされるとき、メインア
ンプMALLの各単位回路から出力される読み出しデー
タをデータ出力バッファDOBの第1〜第4の単位回路
DO0〜DO3にそれぞれ伝達し、メインアンプMAL
Rの各単位回路から出力される読み出しデータをデータ
出力バッファDOBの第5〜第8の単位回路DO4〜D
O7にそれぞれ伝達する。また、タイミング信号φma
1がハイレベルとされるとき、メインアンプMARLの
各単位回路から出力される読み出しデータをデータ出力
バッファDOBの第1〜第4の単位回路DO0〜DO3
にそれぞれ伝達し、メインアンプMARRの各単位回路
から出力される読み出しデータをデータ出力バッファD
OBの第5〜第8の単位回路DO4〜DO7にそれぞれ
伝達する。That is, the output selection circuit OSL outputs the read data output from each unit circuit of the main amplifier MALL to the first to fourth unit circuits DO0 of the data output buffer DOB when the timing signal φma0 is at the high level. To DO3, and the main amplifier MAL
The read data output from each R unit circuit is used as the fifth to eighth unit circuits DO4 to D of the data output buffer DOB.
Transmit to O7 respectively. Also, the timing signal φma
When 1 is set to the high level, the read data output from each unit circuit of the main amplifier MARL is transferred to the first to fourth unit circuits DO0 to DO3 of the data output buffer DOB.
Read data output from each unit circuit of the main amplifier MARR to the data output buffer D.
It is transmitted to the fifth to eighth unit circuits DO4 to DO7 of the OB, respectively.
【0163】(5)データ出力バッファ データ出力バッファDOBは、データ入出力端子IO0
〜IO7に対応して設けられる8個の単位回路DO0〜
DO7を備える。これらの単位回路は、図31に例示さ
れるように、一対のナンドゲート回路の入力端子及び出
力端子が交差接続されてなるラッチ回路と、このラッチ
回路の非反転及び反転入力端子間に設けられタイミング
信号φmadに従って選択的にオン状態とされる一対の
プリチャージMOSFETと、上記ラッチ回路の相補出
力信号の反転信号を出力制御用の反転タイミング信号φ
docBに従って選択的に伝達する一対のCMOSナン
ドゲート回路と、対応する抵抗を介して上記ナンドゲー
ト回路の出力信号の反転信号を受ける一対のNチャンネ
ル型の出力MOSFETとをそれぞれ含む。上記ラッチ
回路の相補入力端子には、タイミング信号φma0又は
φma1に従って選択的にオン状態とされる2対のMO
SFETを介して、対応するメインアンプの相補内部出
力信号すなわち読み出しデータが伝達される。また、上
記一対の出力MOSFETの共通結合されたノードは、
対応するデータ入出力端子IO0〜IO7にそれぞれ結
合される。(5) Data output buffer The data output buffer DOB has the data input / output terminal IO0.
~ 8 unit circuits DO0 provided corresponding to IO7
It is equipped with DO7. As shown in FIG. 31, these unit circuits are provided between a latch circuit in which the input terminals and output terminals of a pair of NAND gate circuits are cross-connected, and the timing provided between the non-inverting and inverting input terminals of the latch circuit. A pair of precharge MOSFETs that are selectively turned on in accordance with the signal φmad, and an inverted signal of the complementary output signal of the latch circuit are inverted timing signals φ for output control.
It includes a pair of CMOS NAND gate circuits that selectively transmit according to docB, and a pair of N-channel output MOSFETs that receive an inverted signal of the output signal of the NAND gate circuit through corresponding resistors. The complementary input terminals of the latch circuit are provided with two pairs of MOs which are selectively turned on in accordance with the timing signal φma0 or φma1.
A complementary internal output signal of the corresponding main amplifier, that is, read data is transmitted via the SFET. Also, the commonly connected nodes of the pair of output MOSFETs are
It is coupled to corresponding data input / output terminals IO0-IO7, respectively.
【0164】データ出力バッファDOBの各単位回路
は、反転タイミング信号φdocBがロウレベルとされ
ることで実質的に動作状態とされ、対応するメインアン
プから出力選択回路OSLを介して伝達される読み出し
データを、対応するデータ入出力端子IO0〜IO7か
ら送出する。反転タイミング信号φdocBがハイレベ
ルとされるとき、データ出力バッファDOBの各単位回
路の出力はすべてハイインピーダンス状態とされる。Each unit circuit of the data output buffer DOB is practically operated by setting the inversion timing signal φdocB to the low level, and outputs the read data transmitted from the corresponding main amplifier via the output selection circuit OSL. , From the corresponding data input / output terminals IO0 to IO7. When the inversion timing signal φdocB is set to the high level, the outputs of the respective unit circuits of the data output buffer DOB are all set to the high impedance state.
【0165】ところで、この擬似スタティック型RAM
のデータ出力バッファDOBは、図49(a)及び
(b)に再掲されるように、回路の電源電圧及び接地電
位間に直列形態に設けられる一対のNチャンネルMOS
FETQN3及びQN4を出力MOSFETとする。こ
のため、対応する単位回路からハイレベルの読み出しデ
ータが送出される場合、対応するデータ入出力端子IO
0〜IO7のレベルが上昇するにしたがって出力MOS
FETQN3のゲート・ソース間電圧が低下し、等価的
にその出力動作が遅くなる。By the way, this pseudo static RAM
The data output buffer DOB is a pair of N-channel MOSs provided in series between the power supply voltage and the ground potential of the circuit, as shown in FIGS. 49 (a) and 49 (b).
Let FETQN3 and QN4 be output MOSFETs. Therefore, when high-level read data is sent from the corresponding unit circuit, the corresponding data input / output terminal IO
Output MOS as the level of 0 to IO7 increases
The gate-source voltage of the FET QN3 decreases, and the output operation is equivalently delayed.
【0166】これに対処するため、この実施例の擬似ス
タティック型RAMでは、図49(a)に示されるよう
に、上記ラッチ回路を構成するナンドゲート回路NAG
2の第3の入力端子にタイミング信号CE3Dを入力
し、ラッチ回路をプリセットする方法をとっている。す
なわち、タイミング信号CE3Dは、図49(c)に示
されるように、通常ロウレベルとされ、擬似スタティッ
ク型RAMが選択状態とされるとき、反転タイミング信
号φdocBを包含するように一時的にハイレベルとさ
れる。このため、擬似スタティック型RAMが非選択状
態とされタイミング信号CE3Dがロウレベルとされる
ときには、上記ラッチ回路は論理“1”つまりハイレベ
ル出力状態にプリセットされ、このタイミング信号CE
3Dがハイレベルとされることによって読み出しデータ
に従ったラッチ状態とされる。これにより、データ出力
バッファDOBは、その出力動作を開始する当初におい
て、読み出しデータに関係なく一旦ハイレベル出力状態
となり、続いて読み出しデータに従った出力動作を行
う。その結果、等価的にデータ出力バッファDOBのハ
イレベル出力動作が高速化される。To deal with this, in the pseudo static RAM of this embodiment, as shown in FIG. 49 (a), a NAND gate circuit NAG forming the above latch circuit.
The timing signal CE3D is input to the third input terminal of No. 2 to preset the latch circuit. That is, the timing signal CE3D is normally at a low level as shown in FIG. 49 (c), and when the pseudo static RAM is in a selected state, it is temporarily at a high level so as to include the inverted timing signal φdocB. To be done. Therefore, when the pseudo static RAM is in the non-selected state and the timing signal CE3D is at the low level, the latch circuit is preset to the logic "1", that is, the high level output state, and the timing signal CE is set.
When 3D is set to the high level, the latch state is set according to the read data. As a result, the data output buffer DOB once enters the high level output state regardless of the read data at the beginning of its output operation, and then performs the output operation according to the read data. As a result, the high level output operation of the data output buffer DOB is equivalently speeded up.
【0167】3.2.5.タイミング発生回路 タイミング発生回路TGは、特に制限されないが、CE
系タイミング発生回路CE,WE系タイミング発生回路
WE、OE系タイミング発生回路OEならびにワード線
クリア回路WC及びプリチャージ制御回路PCを備え
る。このうち、OE系タイミング発生回路OEは、RF
SH系すなわちリフレッシュ制御用のタイミング発生回
路としても機能する。以下、この擬似スタティック型R
AMのタイミング発生回路TGの各部の概要とその特徴
について説明する。3.2.5. Timing Generation Circuit The timing generation circuit TG is not particularly limited, but CE
A system timing generation circuit CE, a WE system timing generation circuit WE, an OE system timing generation circuit OE, a word line clear circuit WC, and a precharge control circuit PC are provided. Of these, the OE timing generation circuit OE is
It also functions as an SH system, that is, a timing generation circuit for refresh control. Hereafter, this pseudo static type R
An outline of each part of the AM timing generation circuit TG and its features will be described.
【0168】(1)CE系タイミング発生回路 CE系タイミング発生回路CEは、図12に示されるよ
うに、チップイネーブル信号CEBが入力されるパッド
CEに対応して設けられる入力回路を含む。この入力回
路を経て入力されるチップイネーブル信号CEBは、ま
ず反転タイミング信号CE0Bとなって、2入力ナンド
ゲート回路の一方の入力端子に供給される。このナンド
ゲート回路の他方の入力端子には、反転タイミング信号
φpceBが供給され、その出力信号は、所定数の論理
ゲート回路を経て、擬似スタティック型RAMの動作を
進行させる複数の反転タイミング信号CE1B,CE2
B及びCE3B等を順次形成する。(1) CE System Timing Generating Circuit CE system timing generating circuit CE includes an input circuit provided corresponding to pad CE to which chip enable signal CEB is input, as shown in FIG. The chip enable signal CEB input through this input circuit first becomes the inverted timing signal CE0B and is supplied to one input terminal of the 2-input NAND gate circuit. The other input terminal of the NAND gate circuit is supplied with the inversion timing signal φpceB, and the output signal thereof passes through a predetermined number of logic gate circuits, and a plurality of inversion timing signals CE1B, CE2 for advancing the operation of the pseudo static RAM.
B and CE3B are sequentially formed.
【0169】ここで、反転タイミング信号φpceB
は、反転タイミング信号φsrf’B,φsrfB及び
φarfBのいずれかがロウレベルとされることで、選
択的にロウレベルとされ、反転タイミング信号CE4B
がロウレベルとされることでハイレベルに戻される。反
転タイミング信号φsrf’Bは、後述するように、擬
似スタティック型RAMがセルフリフレッシュモードと
される当初において一時的にロウレベルとされ、反転タ
イミング信号φsrfBは、擬似スタティック型RAM
がセルフリフレッシュモードとされた後、所定のリフレ
ッシュ周期が経過するごとに一時的にロウレベルとされ
る。また、反転タイミング信号φarfBは、擬似スタ
ティック型RAMがオートリフレッシュモードとされる
当初において、一時的にロウレベルとされる。Here, the inversion timing signal φpceB
Is selectively set to a low level by setting any of the inversion timing signals φsrf′B, φsrfB, and φarfB to a low level, and the inversion timing signal CE4B
Is set to the low level and is returned to the high level. As will be described later, the inversion timing signal φsrf′B is temporarily set to the low level at the beginning of the pseudo static RAM, and the inversion timing signal φsrfB is set to the pseudo static RAM.
After being set to the self-refresh mode, it is temporarily set to the low level each time a predetermined refresh cycle elapses. Further, the inversion timing signal φarfB is temporarily set to the low level when the pseudo static RAM is initially set to the auto refresh mode.
【0170】これにより、擬似スタティック型RAM
は、チップイネーブル信号CEBのロウレベルを受けて
擬似スタティック型RAMが選択状態とされ、擬似スタ
ティック型RAMがオートリフレッシュ又はセルフリフ
レッシュされる当初、あるいは擬似スタティック型RA
Mがセルフリフレッシュモードとされかつ所定のリフレ
ッシュ周期が経過するごとに、上記反転タイミング信号
CE1BないしCE3B等によって制御される一連の動
作を開始するものとなる。As a result, the pseudo static RAM
The pseudo static RAM is brought into a selected state in response to the low level of the chip enable signal CEB, and the pseudo static RAM is initially refreshed or self refreshed, or the pseudo static RA.
Every time M is set to the self-refresh mode and a predetermined refresh cycle elapses, a series of operations controlled by the inversion timing signals CE1B to CE3B and the like are started.
【0171】反転タイミング信号CE1B及びCE2B
は、実質的に負論理和回路を構成する2入力ナンドゲー
ト回路と所定数のインバータ回路を経て、Xアドレス信
号及びYアドレス信号を取り込むためのタイミング信号
φxls及びφylsを形成する。一方、反転タイミン
グ信号CE2Bは、反転された後、2入力ナンドゲート
回路の一方の入力端子に供給される。このナンドゲート
回路の他方の入力端子には、上記反転タイミング信号C
E3Bの反転遅延信号が供給され、その出力信号は、所
定数の論理ゲート回路を経て、擬似スタティック型RA
Mのセンスアンプ等を制御するための複数のタイミング
信号P1,P2,P3及びP4等を形成する。これらの
タイミング信号は、反転タイミング信号CE2B及びC
E3Bがともにロウレベルとされてから所定の遅延時間
が経過することで有効すなわちハイレベルに順次変化さ
れ、反転タイミング信号CE2Bがハイレベルに戻され
ることで無効すなわちロウレベルに順次戻される。Inversion timing signals CE1B and CE2B
Form timing signals φxls and φyls for fetching the X address signal and the Y address signal through a two-input NAND gate circuit that substantially constitutes a negative OR circuit and a predetermined number of inverter circuits. On the other hand, the inversion timing signal CE2B is inverted and then supplied to one input terminal of the 2-input NAND gate circuit. The inverted timing signal C is applied to the other input terminal of the NAND gate circuit.
The inverted delay signal of E3B is supplied, and its output signal is passed through a predetermined number of logic gate circuits and then the pseudo static RA
A plurality of timing signals P1, P2, P3, P4, etc. for controlling M sense amplifiers etc. are formed. These timing signals are inverted timing signals CE2B and C2.
When a predetermined delay time elapses after both E3B are set to the low level, they are sequentially changed to valid, that is, to the high level, and when the inversion timing signal CE2B is returned to the high level, they are invalid, that is, to the low level.
【0172】一方、反転タイミング信号CE3Bは、反
転された後、上記タイミング信号φxlsと組み合わさ
れ、さらに所定数の論理ゲート回路を経て、擬似スタテ
ィック型RAMのセンスアンプ等を制御するためのタイ
ミング信号P1D及びP2D等を順次形成する。また、
反転タイミング信号φsrB及び反転タイミング信号φ
refBがハイレベル、つまりは擬似スタティック型R
AMがリフレッシュモードでないことを条件に、データ
入出力回路を活性化するための反転タイミング信号φy
eB及びタイミング信号φys等を選択的に形成する。On the other hand, the inverted timing signal CE3B, after being inverted, is combined with the timing signal φxls, and further passes through a predetermined number of logic gate circuits to pass through a timing signal P1D for controlling the sense amplifier of the pseudo static RAM. And P2D and the like are sequentially formed. Also,
Inversion timing signal φsrB and inversion timing signal φ
refB is high level, that is, pseudo static type R
Inversion timing signal φy for activating the data input / output circuit, provided that AM is not in the refresh mode.
The eB, the timing signal φys, etc. are selectively formed.
【0173】さらに、タイミング信号P1は、反転タイ
ミング信号φsrBがハイレベル、つまりは擬似スタテ
ィック型RAMがセルフリフレッシュモードとされるこ
とを条件に、所定数の論理ゲート回路を選択的に伝達さ
れ、タイミング信号P1AないしP1Cを順次形成す
る。Further, the timing signal P1 is selectively transmitted through a predetermined number of logic gate circuits under the condition that the inverted timing signal φsrB is at the high level, that is, the pseudo static RAM is in the self refresh mode, and the timing is changed. The signals P1A to P1C are sequentially formed.
【0174】これらのタイミング信号P1ないしP4と
P1D及びP2DならびにP1AないしP1Cは、前述
のように、センスアンプ駆動回路SP及びSNに供給さ
れ、これによって複数のセンスアンプ駆動MOSFET
をオン状態とするためのタイミング信号が、所定の条件
をもって形成される。These timing signals P1 to P4, P1D and P2D, and P1A to P1C are supplied to the sense amplifier drive circuits SP and SN, as described above, whereby a plurality of sense amplifier drive MOSFETs are supplied.
A timing signal for turning on the switch is formed under a predetermined condition.
【0175】(2)WE系タイミング発生回路 WE系タイミング発生回路WEは、図13に示されるよ
うに、ライトイネーブル信号WEBが入力されるパッド
WEに対応して設けられる入力回路を含む。この入力回
路を経て入力されるライトイネーブル信号WEBは、ま
ず反転タイミング信号φehwBと負論理和がとられた
後、反転タイミング信号φdicBを形成する。また、
上記タイミング信号P1と論理積がとられた後、書き込
み制御用のタイミング信号WE0とWE2ならびに反転
タイミング信号φwyB,φweB及びφwesBを形
成する。(2) WE Timing Generator Circuit WE timing generator circuit WE includes an input circuit provided corresponding to pad WE to which write enable signal WEB is input, as shown in FIG. The write enable signal WEB input through this input circuit is first negatively ORed with the inversion timing signal φehwB and then forms the inversion timing signal φdicB. Also,
After being ANDed with the timing signal P1, the write control timing signals WE0 and WE2 and the inversion timing signals φwyB, φweB and φwesB are formed.
【0176】ここで、反転タイミング信号φehwB
は、反転タイミング信号φrefB及びφeh2Bがと
もにロウレベルとされるとき、すなわち擬似スタティッ
ク型RAMがリフレッシュモードとされかつパッドWE
に所定の高電圧が供給されるとき、言い換えると擬似ス
タティック型RAMが前述のRCCテストモードとされ
るとき、選択的にロウレベルとされる。Here, the inversion timing signal φehwB
Indicates that when the inversion timing signals φrefB and φeh2B are both at the low level, that is, the pseudo static RAM is in the refresh mode and the pad WE
When a predetermined high voltage is supplied to the RAM, in other words, when the pseudo static RAM is in the RCC test mode described above, it is selectively set to the low level.
【0177】これらのことから、反転タイミング信号φ
dicBは、擬似スタティック型RAMがライトイネー
ブル信号WEBのロウレベルを受けて書き込み系の動作
サイクルとされるとき、あるいは上記RCCテストモー
ドとされるとき、選択的にロウレベルとされ、このロウ
レベルを受けて、データ入出力端子IO0〜IO7を介
して供給される8ビットの書き込みデータがデータ入力
バッファDIBの対応する単位回路に取り込まれる。こ
れらの書き込みデータは、反転タイミング信号φweB
等がロウレベルとされることで、対応する書き込み回路
を介して伝達され、選択された8個のメモリセルに一斉
に書き込まれる。From these facts, the inversion timing signal φ
The dicB is selectively set to the low level when the pseudo static RAM receives the low level of the write enable signal WEB for the write operation cycle or the RCC test mode, and receives the low level. The 8-bit write data supplied via the data input / output terminals IO0 to IO7 is taken into the corresponding unit circuit of the data input buffer DIB. These write data are inverted timing signals φweB
And the like are set to the low level, the data is transmitted via the corresponding write circuit, and the data is simultaneously written to the selected eight memory cells.
【0178】(3)OEタイミング発生回路 OE系タイミング発生回路OEは、特に制限されない
が、図14に示されるように、出力イネーブル信号OE
Bすなわちリフレッシュ制御信号RFSHBに対応して
設けられる入力回路を含む。この入力回路を経て入力さ
れる出力イネーブル信号OEBは、タイミング信号OE
0とされ、さらに上記タイミング信号P2Dと組み合わ
されることで、出力制御用の反転タイミング信号φdo
cBを形成する。この反転タイミング信号φdocB
は、前述のように、データ出力バッファDOBに供給さ
れ、読み出しデータの出力制御に供される。(3) OE Timing Generation Circuit The OE timing generation circuit OE is not particularly limited, but as shown in FIG. 14, the output enable signal OE is used.
B, that is, an input circuit provided corresponding to the refresh control signal RFSHB. The output enable signal OEB input through this input circuit is the timing signal OE.
0 and further combined with the timing signal P2D, the inverted timing signal φdo for output control
Form cB. This inversion timing signal φdocB
Is supplied to the data output buffer DOB and is used for output control of read data as described above.
【0179】一方、タイミング信号OE0は、反転タイ
ミング信号CE0Bがハイレベルであることを条件に、
すなわちチップイネーブル信号CEBがハイレベルであ
ることを条件に、ラッチ回路を介して伝達され、これに
よって反転タイミング信号RF0Bがロウレベルとされ
る。反転タイミング信号RF0Bは、所定の遅延回路を
介して順次伝達され、その結果、まずタイミング信号R
F1がハイレベルとされ、やや遅れて反転タイミング信
号RF2Bがロウレベルとされる。On the other hand, the timing signal OE0 is provided on condition that the inverted timing signal CE0B is at the high level.
That is, on the condition that the chip enable signal CEB is at the high level, it is transmitted through the latch circuit, and thereby the inversion timing signal RF0B is set to the low level. The inverted timing signal RF0B is sequentially transmitted through a predetermined delay circuit, and as a result, the timing signal R0B is first transmitted.
F1 is set to high level, and the inverted timing signal RF2B is set to low level with a slight delay.
【0180】タイミング信号RF1及び反転タイミング
信号RF2Bは、さらに上記反転タイミング信号CE0
Bと組み合わされることで、反転タイミング信号φar
fBを形成する。反転タイミング信号φarfBは、チ
ップイネーブル信号CEBがハイレベルとされる状態で
出力イネーブル信号OEBすなわちリフレッシュ制御信
号RFSHBがロウレベルとされるとき、すなわち擬似
スタティック型RAMがオートリフレッシュモードとさ
れる当初において、一時的にロウレベルとされるものと
なる。The timing signal RF1 and the inverted timing signal RF2B are further added to the inverted timing signal CE0.
In combination with B, the inverted timing signal φar
Form fB. The inversion timing signal φarfB is temporarily set when the output enable signal OEB, that is, the refresh control signal RFSHB is set to the low level while the chip enable signal CEB is set to the high level, that is, when the pseudo static RAM is initially set to the auto refresh mode. It becomes a low level.
【0181】擬似スタティック型RAMでは、内部タイ
ミング信号RF1のハイレベルを受けて内部制御信号E
NBがハイレベルとされ、リフレッシュタイマー回路T
MRが起動される。これにより、タイミング信号φtm
r,反転タイミング信号φclB及びタイミング信号φ
clが所定の周期で形成される。このうち、タイミング
信号φclは、リフレッシュタイマーカウンタ回路SR
Cによって計数され、その出力信号つまり内部タイミン
グ信号SCA7が、反転タイミング信号φclBの所定
数倍の周期で繰り返し一時的にハイレベルとされる。In the pseudo static RAM, the internal control signal E is received in response to the high level of the internal timing signal RF1.
NB is set to a high level and the refresh timer circuit T
MR is activated. As a result, the timing signal φtm
r, inversion timing signal φclB and timing signal φ
cl is formed in a predetermined cycle. Of these, the timing signal φcl is the refresh timer counter circuit SR.
The output signal, that is, the internal timing signal SCA7, counted by C is repeatedly set to a high level repeatedly in a cycle of a predetermined multiple of the inversion timing signal φclB.
【0182】一方、反転タイミング信号RF2Bは、反
転タイミング信号CE1B及びCE3Bがともにハイレ
ベルであることを条件に伝達され、さらに反転タイミン
グ信号φclBがロウレベルとされる時点で、反転タイ
ミング信号φsrBをロウレベルとする。これにより、
反転タイミング信号φsrBは、反転タイミング信号R
F2Bすなわち出力イネーブル信号OEBが反転タイミ
ング信号φclBの周期を超えて連続してロウレベルと
されることでロウレベルとされ、セルフリフレッシュモ
ードを指定するための内部制御信号となる。On the other hand, the inversion timing signal RF2B is transmitted on condition that both the inversion timing signals CE1B and CE3B are at the high level, and when the inversion timing signal φclB is at the low level, the inversion timing signal φsrB is set to the low level. To do. This allows
The inversion timing signal φsrB is the inversion timing signal R
When F2B, that is, the output enable signal OEB is continuously set to the low level over the cycle of the inversion timing signal φclB, it is set to the low level and becomes an internal control signal for designating the self-refresh mode.
【0183】反転タイミング信号φsrBは、反転タイ
ミング信号RF0Bの反転信号つまり非反転タイミング
信号RF0と反転タイミング信号RF2Bとの論理積信
号と負論理和がとられた後、タイミング信号φxlsに
従ってゲート制御されるラッチ回路に伝達される。この
ラッチ回路の出力信号は、前述のように、Xアドレスバ
ッファXABにおいてリフレッシュカウンタRFCの出
力信号つまりリフレッシュアドレス信号AR0〜AR1
0を取り込むための反転タイミング信号φrefBとさ
れる。これにより、反転タイミング信号φrefBは、
擬似スタティック型RAMがオートリフレッシュ又はセ
ルフリフレッシュモードとされるとき、タイミング信号
φxlsがハイレベルとされる時点でロウレベルとされ
る。The inverted timing signal φsrB is gate-controlled in accordance with the timing signal φxls after the logical AND of the inverted signal of the inverted timing signal RF0B, that is, the non-inverted timing signal RF0 and the inverted timing signal RF2B is taken. It is transmitted to the latch circuit. As described above, the output signal of the latch circuit is the output signal of the refresh counter RFC in the X address buffer XAB, that is, the refresh address signals AR0 to AR1.
The inverted timing signal φrefB for taking in 0 is set. As a result, the inversion timing signal φrefB becomes
When the pseudo static RAM is set to the auto refresh or self refresh mode, it is set to the low level when the timing signal φxls is set to the high level.
【0184】反転タイミング信号φsrBは、さらに、
ナンドゲート回路及びインバータ回路と所定の遅延回路
DLが組み合わされてなるワンショット回路にも供給さ
れ、反転タイミング信号φsrf’Bを形成する。反転
タイミング信号φsrf’Bは、反転タイミング信号φ
srBがロウレベルつまり擬似スタティック型RAMの
セルフリフレッシュモードが識別される当初において一
時的にロウレベルとされ、反転タイミング信号φpce
Bをロウレベルとする一因となる。The inverted timing signal φsrB further includes
It is also supplied to a one-shot circuit formed by combining a NAND gate circuit, an inverter circuit, and a predetermined delay circuit DL to form an inverted timing signal φsrf′B. The inversion timing signal φsrf′B is the inversion timing signal φ
srB is at a low level, that is, it is temporarily set to a low level at the beginning when the self-refresh mode of the pseudo static RAM is identified, and the inversion timing signal φpce is set.
This is one of the causes for making B low.
【0185】一方、リフレッシュタイマー回路TMRに
より所定の周期で形成されるタイミング信号φclは、
リフレッシュタイマーカウンタ回路SRCの出力信号S
CA7と論理積がとられた後、タイミング信号RF1が
ハイレベルすなわちリフレッシュ制御信号RFSHBが
ロウレベルとされていることを条件に、選択的に伝達さ
れ、反転タイミング信号φsrfBとなる。また、上記
論理積信号は、リフレッシュタイマーカウンタ回路SR
Cをプリセットするための内部制御信号LOADを形成
するとともに、反転タイミング信号CE0Bがハイレベ
ルであることを条件に、そのヒューズ回路を設定する内
部制御信号FSETを形成する。反転タイミング信号φ
srfBは、前述の反転タイミング信号φsrf’Bと
同様に、反転タイミング信号φpceBをロウレベルと
する一因となる。On the other hand, the timing signal φcl formed by the refresh timer circuit TMR in a predetermined cycle is
Output signal S of refresh timer counter circuit SRC
After being logically ANDed with CA7, the signal is selectively transmitted under the condition that the timing signal RF1 is at the high level, that is, the refresh control signal RFSHB is at the low level, and becomes the inverted timing signal φsrfB. Further, the logical product signal is the refresh timer counter circuit SR.
An internal control signal LOAD for presetting C is formed, and an internal control signal FSET for setting the fuse circuit is formed on condition that the inversion timing signal CE0B is at a high level. Inversion timing signal φ
srfB contributes to setting the inversion timing signal φpceB to the low level, like the above-described inversion timing signal φsrf′B.
【0186】(4)リフレッシュタイマー回路 リフレッシュタイマー回路TMRは、図15に示される
ように、実質的に直列形態とされる7個のインバータ回
路とキャパシタC1を含む。これらのインバータ回路の
うちの4個は、図53(a)に再掲されるように、1個
の遅延回路DLとして作用し、その出力信号の反転信号
が先頭のインバータ回路を構成するPチャンネルMOS
FETQP3のゲートに帰還されることで、1個のリン
グオシレータが構成される。キャパシタC1は、上記M
OSFETQP3がオン状態とされることでチャージさ
れ、またMOSFETQP3がオフ状態とされるとき、
NチャンネルMOSFETQN1を介してディスチャー
ジされる。このとき、MOSFETQN1を介して流さ
れるディスチャージ電流は、このMOSFETQN1と
電流ミラー形態とされるNチャンネルMOSFETQN
2を含む定電流源によって設定される。(4) Refresh Timer Circuit The refresh timer circuit TMR includes, as shown in FIG. 15, seven inverter circuits and capacitors C1 which are substantially in series. As shown in FIG. 53A, four of these inverter circuits act as one delay circuit DL, and the inverted signal of the output signal thereof is a P-channel MOS circuit forming the leading inverter circuit.
By being fed back to the gate of the FET QP3, one ring oscillator is formed. The capacitor C1 is the above M
When the OSFET QP3 is turned on, it is charged, and when the MOSFET QP3 is turned off,
It is discharged through the N-channel MOSFET QN1. At this time, the discharge current flowing through the MOSFET QN1 is the N-channel MOSFET QN in a current mirror form with the MOSFET QN1.
2 is set by a constant current source.
【0187】キャパシタC1のチャージ電位は、Nチャ
ンネルMOSFETQN7を含む後段のインバータ回路
によってモニタされる。このインバータ回路は、いわゆ
るレベル判定回路として作用し、その論理スレッシホル
ドレベルは、MOSFETQN7とともにこのレベル判
定回路を構成するPチャンネルMOSFETQP5が上
記定電流源を構成するPチャンネルMOSFETQP4
と電流ミラー形態とされることから、ほぼMOSFET
QN7のしきい値電圧VTHN そのものとなる。したがっ
て、MOSFETQN7は、キャパシタC1のチャージ
電位が上記論理スレッシホルドレベルより高いとオン状
態とされ、低いとオフ状態とされる。その結果、7個の
インバータ回路は、一つのリングオシレータとして機能
し、その発振周波数は、MOSFETQN1を介して流
されるディスチャージ電流の大きさによって設定され
る。The charge potential of the capacitor C1 is monitored by the subsequent inverter circuit including the N-channel MOSFET QN7. This inverter circuit functions as a so-called level determination circuit, and its logic threshold level is such that a P-channel MOSFET QP5 that constitutes this level determination circuit together with the MOSFET QN7 constitutes a P-channel MOSFET QP4 that constitutes the constant current source.
Since it is a current mirror type, it is almost MOSFET
It becomes the threshold voltage V THN itself of QN7. Therefore, MOSFET QN7 is turned on when the charge potential of capacitor C1 is higher than the logic threshold level, and turned off when it is low. As a result, the seven inverter circuits function as one ring oscillator, and the oscillation frequency thereof is set by the magnitude of the discharge current flowing through the MOSFET QN1.
【0188】MOSFETQP4及びQN2を含む定電
流源は、さらに、これらのMOSFETの間に設けられ
る抵抗R1を含む。この抵抗R1は、図53(b)に示
されるように、P型半導体基板面に二酸化シリコン(S
iO2 )をもって形成される絶縁層の上に、多結晶シリ
コン(PolySi)をもって、しかも、比較的大きな
抵抗値を必要とされることから、比較的長い距離にわた
って形成される。したがって、この多結晶シリコン層と
P型半導体基板との間には、比較的大きな基板容量が等
価的に結合されるため、これによってリフレッシュタイ
マー回路TMRの特性が電源バンプ等による影響を受け
て変動しやすくなる。The constant current source including MOSFETs QP4 and QN2 further includes a resistor R1 provided between these MOSFETs. As shown in FIG. 53 (b), this resistor R1 has a silicon dioxide (S
Polycrystalline silicon (PolySi) is formed on the insulating layer formed of iO 2 ) and a relatively large resistance value is required, so that it is formed over a relatively long distance. Therefore, a relatively large substrate capacitance is equivalently coupled between the polycrystalline silicon layer and the P-type semiconductor substrate, so that the characteristics of the refresh timer circuit TMR are affected by the power supply bumps and the like and fluctuate. Easier to do.
【0189】これに対処するため、この擬似スタティッ
ク型RAMでは、図53(b)に示されるように、抵抗
R1を構成する多結晶シリコン層の二分の一に相当する
部分の下層に、回路の電源電圧に結合されるNウェル領
域NW1が形成され、残りの二分の一に相当する部分の
下層に、回路の接地電位に結合されるNウェル領域NW
2が形成される。これらのウェル領域と抵抗R1を構成
する多結晶シリコン層との間には、ほぼ同じ静電容量を
有する基板容量が等価的に結合されるため、これによっ
て電源パッド等による電源電圧の急峻な変動は相殺され
る。その結果、リフレッシュタイマー回路TMRの特性
が安定化され、擬似スタティック型RAMは安定したリ
フレッシュ周期を持つものとされる。In order to deal with this, in this pseudo static RAM, as shown in FIG. 53 (b), the circuit of the circuit is formed under the portion corresponding to one half of the polycrystalline silicon layer forming the resistor R1. An N well region NW1 coupled to the power supply voltage is formed, and an N well region NW coupled to the ground potential of the circuit is formed under the portion corresponding to the remaining one half.
2 is formed. Substrate capacitances having substantially the same electrostatic capacitance are equivalently coupled between these well regions and the polycrystalline silicon layer forming the resistor R1, so that a steep fluctuation of the power source voltage due to the power source pad or the like is caused. Are offset. As a result, the characteristics of the refresh timer circuit TMR are stabilized, and the pseudo static RAM has a stable refresh cycle.
【0190】一方、上記回路構成のリフレッシュタイマ
ー回路TMRは、電源バンプに関するもう一つの問題を
抱えている。すなわち、キャパシタC1は、前述のよう
に、MOSFETQP3がオン状態とされることで、回
路の電源電圧を基準とする所定のハイレベルにチャージ
され、MOSFETQP3がオフ状態とされることでM
OSFETQN1を介してディスチャージされる。この
とき、MOSFETQN1を介して流されるディスチャ
ージ電流の値は、定電流源により、やはり回路の電源電
圧を基準として設定される。このため、例えばMOSF
ETQP3がオフ状態とされる間に、回路の電源電圧に
電源バンプ等が生じた場合、ディスチャージ電流を設定
する基準電圧のみが変動する結果となり、これによって
リフレッシュタイマー回路TMRの特性が変動しやすく
なる。On the other hand, the refresh timer circuit TMR having the above circuit structure has another problem regarding the power supply bump. That is, as described above, the capacitor C1 is charged to a predetermined high level based on the power supply voltage of the circuit when the MOSFET QP3 is turned on, and the MOSFET QP3 is turned off so that M
It is discharged through the OSFET QN1. At this time, the value of the discharge current flowing through the MOSFET QN1 is set by the constant current source also with the power supply voltage of the circuit as a reference. Therefore, for example, MOSF
When a power supply bump or the like is generated in the power supply voltage of the circuit while the ETQP3 is in the off state, only the reference voltage for setting the discharge current fluctuates, which causes the characteristics of the refresh timer circuit TMR to fluctuate easily. .
【0191】これに対処するため、例えば、図54
(a)に示されるように、上記定電流源を構成するMO
SFETQP4と抵抗R1との間にNチャンネルMOS
FETQN15を設け、このゲート電位を、上記MOS
FETQP3がオフ状態とされるとき、上記キャパシタ
C1と同様にフローティング状態とされるキャパシタC
2によって設定する方法が考えられる。To deal with this, for example, FIG.
As shown in (a), the MO that constitutes the constant current source.
N-channel MOS between SFETQP4 and resistor R1
FETQN15 is provided, and the gate potential is
When the FET QP3 is turned off, the capacitor C that is brought into a floating state like the above-mentioned capacitor C1.
A method of setting by 2 can be considered.
【0192】すなわち、キャパシタC2の一方の電極つ
まり内部ノードN4は、PチャンネルMOSFETQP
8がMOSFETQP3と同時にオン状態とされること
で、PチャンネルMOSFETQP9〜QP11ならび
にNチャンネルMOSFETQN12〜QN14からな
る定電圧源の出力電圧V1にチャージされる。内部ノー
ドN4のチャージ電位は、MOSFETQN15のゲー
トに供給されることで上記ディスチャージ電流の値を設
定する基準電位となり、また、NチャンネルMOSFE
TQN16のゲートに供給されることでキャパシタC1
のチャージ電位を設定する基準電位ともなる。そして、
キャパシタC2のチャージ電位は、MOSFETQP8
がMOSFETQP3と同時にオフ状態とされることで
MOSFETQP3とともにフローティングとされ、こ
の間に発生する電源バンプの影響を受けない。その結
果、リフレッシュタイマー回路TMRの特性が安定化さ
れ、擬似スタティック型RAMのリフレッシュ周期がさ
らに安定化される。That is, one electrode of the capacitor C2, that is, the internal node N4 is connected to the P-channel MOSFET QP.
8 is turned on at the same time as the MOSFET QP3, so that the output voltage V1 of the constant voltage source including the P-channel MOSFETs QP9 to QP11 and the N-channel MOSFETs QN12 to QN14 is charged. The charge potential of the internal node N4 becomes a reference potential for setting the value of the discharge current by being supplied to the gate of the MOSFET QN15, and also the N-channel MOSFE.
By being supplied to the gate of TQN16, the capacitor C1
It also serves as a reference potential for setting the charge potential of. And
The charge potential of the capacitor C2 is MOSFET QP8.
Is turned off at the same time as the MOSFET QP3 to be in a floating state together with the MOSFET QP3, and is not affected by the power supply bump generated during this time. As a result, the characteristics of the refresh timer circuit TMR are stabilized, and the refresh cycle of the pseudo static RAM is further stabilized.
【0193】(5)リフレッシュタイマーカウンタ回路 リフレッシュタイマーカウンタ回路SRCは、図14に
示されるように、8個の単位カウンタ回路SCNTRが
実質的に直列結合されてなる8ビットのバイナリィカウ
ンタを基本構成とする。これらの単位カウンタ回路SC
NTRは、図16に例示されるように、それぞれ2個の
CMOSインバータ回路が交差接続されてなり、実質的
にリング状に直列結合される一対のマスターラッチ及び
スレーブラッチをそれぞれ含む。また、各単位カウンタ
回路SCNTRは、上記内部制御信号FSETに従って
その計数初期値を設定するために、前述のX系冗長回路
等に含まれるものと同様なヒューズ回路をそれぞれ含
む。これらの単位カウンタ回路SCNTRは、リフレッ
シュタイマー回路TMRの出力信号つまりタイミング信
号φclと前段の単位カウンタ回路のキャリー出力信号
SCAj−1に従って歩進動作を行い、その出力信号つ
まりキャリー出力信号SCAjを形成する。なお、先頭
ビットの単位カウンタ回路SCNTRには、前段回路の
キャリー出力信号に代えて、上記タイミング信号RF1
がリフレッシュタイマーカウンタ回路SRCの起動制御
信号として供給される。(5) Refresh Timer Counter Circuit As shown in FIG. 14, the refresh timer counter circuit SRC basically has an 8-bit binary counter in which eight unit counter circuits SCNTR are substantially connected in series. To do. These unit counter circuits SC
As illustrated in FIG. 16, the NTR includes a pair of master latches and slave latches, each of which is formed by connecting two CMOS inverter circuits in a cross connection and which are connected in series substantially in a ring shape. In addition, each unit counter circuit SCNTR includes a fuse circuit similar to that included in the above-described X-system redundancy circuit or the like in order to set the initial count value according to the internal control signal FSET. These unit counter circuits SCNTR carry out a stepwise operation according to the output signal of the refresh timer circuit TMR, that is, the timing signal φcl and the carry output signal SCAj-1 of the preceding unit counter circuit, and form the output signal, that is, the carry output signal SCAj. . It should be noted that, in the unit counter circuit SCNTR of the first bit, the timing signal RF1 is used instead of the carry output signal of the preceding circuit.
Is supplied as an activation control signal for the refresh timer counter circuit SRC.
【0194】最終ビットの単位カウンタ回路SCNTR
のキャリー出力信号SCA7は、リフレッシュタイマー
カウンタ回路SRCの出力信号とされ、前述のように、
タイミング信号φclと組み合わされることで、セルフ
リフレッシュサイクルを起動する反転タイミング信号φ
srfBを形成するために供される。Final bit unit counter circuit SCNTR
The carry output signal SCA7 of is the output signal of the refresh timer counter circuit SRC, and as described above,
Inverted timing signal φ that activates the self-refresh cycle when combined with timing signal φcl
Served to form srfB.
【0195】(6)ワード線クリア回路 ワード線クリア回路WCは、図13に示されるように、
相補内部アドレス信号BX2,BX3ならびにBX10
をもとに、ワード線クリア制御用のタイミング信号WC
0U〜WC3UあるいはWC0D〜WC3Dを選択的に
形成する。これらのタイミング信号は、通常ロウレベル
とされ、上記相補内部アドレス信号が対応する組み合わ
せでロウレベル又はハイレベルとされるとき、択一的に
ハイレベルとされる。その結果、各メモリアレイのすべ
てのワード線と回路の接地電位との間に設けられるワー
ド線クリアMOSFETが選択的にオフ状態とされ、対
応するワード線がクリア状態から解放される。(6) Word line clearing circuit The word line clearing circuit WC, as shown in FIG.
Complementary internal address signals B X2, B X3 and B X10
Timing signal WC for word line clear control based on
0U to WC3U or WC0D to WC3D are selectively formed. These timing signals are normally set to low level, and when the complementary internal address signals are set to low level or high level in a corresponding combination, they are alternatively set to high level. As a result, the word line clear MOSFETs provided between all the word lines of each memory array and the ground potential of the circuit are selectively turned off, and the corresponding word lines are released from the clear state.
【0196】(7)プリチャージ制御回路 プリチャージ制御回路PCは、反転タイミング信号CE
1B,CE3B及びφsrB等をもとに、擬似スタティ
ック型RAMの各部をプリチャージするための各種制御
信号を形成する。また、さらに内部アドレス信号AX0
及びAX1を組み合わせることで、Yデコーダを選択的
に動作状態とするための反転Yデコーダ制御信号YDP
0B〜YDP3B等を選択的に形成する。(7) Precharge Control Circuit The precharge control circuit PC has the inversion timing signal CE.
Based on 1B, CE3B, φsrB, etc., various control signals for precharging each part of the pseudo static RAM are formed. In addition, the internal address signal AX0
And AX1 are combined to invert the Y decoder control signal YDP for selectively setting the Y decoder in the operating state.
0B to YDP3B and the like are selectively formed.
【0197】3.2.6.電圧発生回路 擬似スタティック型RAMは、例えば+5Vとされる回
路の電源電圧VCCをもとに、各種の内部電圧を形成す
る複数の電圧発生回路HVC,VBB及びVLを備え
る。3.2.6. Voltage Generation Circuit The pseudo static RAM includes a plurality of voltage generation circuits HVC, VBB and VL that form various internal voltages based on the power supply voltage VCC of the circuit set to + 5V, for example.
【0198】(1)HVC電圧発生回路 電圧発生回路HVCは、図43に示されるように、回路
の電源電圧VCCを降圧することで、そのほぼ二分の一
の電位とされる内部電圧HVCを形成する。この内部電
圧HVCは、いわゆるハーフプリチャージ電位として、
各イコライズ回路に供給される。(1) HVC Voltage Generating Circuit As shown in FIG. 43, the voltage generating circuit HVC forms an internal voltage HVC which is a potential which is approximately one half of the voltage by lowering the power supply voltage VCC of the circuit. To do. This internal voltage HVC is a so-called half precharge potential,
It is supplied to each equalizing circuit.
【0199】電圧発生回路HVCは、後述する反転内部
制御信号ICTBがロウレベルとされるとき、選択的に
その動作が停止され、これによって擬似スタティック型
RAMの待機電流が削減される。The operation of the voltage generating circuit HVC is selectively stopped when an inversion internal control signal ICTB, which will be described later, is at a low level, whereby the standby current of the pseudo static RAM is reduced.
【0200】ところで、電圧発生回路HVCでは、図5
5(b)に再掲されるように、回路の電源電圧及び接地
電位間に実質的に直列形態に設けられるPチャンネルM
OSFETQP12及びNチャンネルMOSFETQN
18のコンダクタンス比によってその出力電位つまり内
部電圧HVCが設定される。そして、出力用のNチャン
ネルMOSFETQN19及びPチャンネルMOSFE
TQP14を設け、これらのMOSFETと電流ミラー
形態とされるNチャンネルMOSFETQN17及びP
チャンネルMOSFETQP13を、内部ノードN5と
上記MOSFETQP12又はQN18との間に設ける
ことで、出力電流の変動にともなう内部電圧HVCの変
動を抑制している。このとき、出力MOSFETQN1
9及びQP14のコンダクタンスgm19及びgm14
は、対応するMOSFETQN17及びQP13のコン
ダクタンスgm17及びgm13に対して、 gm19>gm17 gm14>gm13 であることが必要とされる。By the way, in the voltage generating circuit HVC, as shown in FIG.
As shown in FIG. 5 (b), a P channel M provided in a substantially series configuration between the power supply voltage and the ground potential of the circuit.
OSFET QP12 and N-channel MOSFET QN
The output potential, that is, the internal voltage HVC is set by the conductance ratio of 18. Then, an N channel MOSFET QN19 for output and a P channel MOSFE
TQP14 is provided, and these MOSFETs and N-channel MOSFETs QN17 and P in a current mirror form are provided.
By providing the channel MOSFET QP13 between the internal node N5 and the MOSFET QP12 or QN18, the fluctuation of the internal voltage HVC due to the fluctuation of the output current is suppressed. At this time, the output MOSFET QN1
9 and QP14 conductance gm19 and gm14
Is required to be gm19> gm17 gm14> gm13 with respect to the conductances gm17 and gm13 of the corresponding MOSFETs QN17 and QP13.
【0201】ところが、このように出力MOSFETQ
N19及びQP14のコンダクタンスが大きくされるこ
とで、これらの出力MOSFETを介して比較的大きな
貫通電流が流されてしまう。これに対処するため、出力
MOSFETQN19及びQP14のしきい値電圧V
THN19 及びVTHP14 が対応するMOSFETQN17及
びQP13のしきい値電圧VTHN17 及びVTHP13 に比較
して、 VTHN19 +VTHP14 >VTHN17 +VTHP13 となるようにそのゲート長を設定し、貫通電流を防止し
ている。しかし、ゲート長によるしきい値電圧の設定は
プロセスによる変動を受けやすく、完全に貫通電流を防
止するには至らない。また、貫通電流が停止されること
で、逆に内部電圧HVCの不感帯が生じ、そのレベル制
御が困難になるという問題が生じる。However, the output MOSFET Q
By increasing the conductance of N19 and QP14, a relatively large through current flows through these output MOSFETs. To deal with this, the threshold voltage V of the output MOSFETs QN19 and QP14 is
THN19 and V THP14 is compared to the threshold voltage V THN17 and V THP13 corresponding MOSFETQN17 and QP13, set the gate length such that V THN19 + V THP14> V THN17 + V THP13, to prevent a through current ing. However, the setting of the threshold voltage by the gate length is easily affected by the process variation, and the through current cannot be completely prevented. Further, the stop of the through current causes a dead zone of the internal voltage HVC, which causes a problem that the level control of the dead zone becomes difficult.
【0202】これに対処するため、まず図55(b)に
示されるように、MOSFETQP13のウェル領域を
そのドレインに共通結合する方法が考えられる。すなわ
ち、MOSFETQP13は、そのウェル領域とドレイ
ンが共通結合されることによる基板効果で、そのしきい
値電圧VTHP13 が小さくされ、 VTHP14 >VTHP13 なる関係が得やすい。したがって、プロセス変動を受け
ることなく、上式の条件を容易に実現することができる
ものである。In order to deal with this, first, as shown in FIG. 55 (b), a method in which the well region of MOSFET QP13 is commonly coupled to its drain can be considered. That is, in the MOSFET QP13, the threshold voltage V THP13 is reduced by the substrate effect due to the well region and the drain being commonly coupled, and the relationship of V THP14 > V THP13 is easily obtained. Therefore, the condition of the above equation can be easily realized without being affected by the process variation.
【0203】一方、内部電圧HVCの不感帯について
は、図55(a)に示されるように、出力MOSFET
QN19及びQP14と並列形態に、比較的小さなコン
ダクタンスを有するもう一対のNチャンネルMOSFE
TQN20及びPチャンネルMOSFETQP15を設
け、MOSFETQN17及びQP13等に流される電
流を制御する方法が考えられる。すなわち、これらのM
OSFETが付加されるとき、MOSFETQN17及
びQP13を介して流される電流I1は、MOSFET
QN20及びQP15のコンダクタンスをそれぞれgm
20及びgm15とし、これらのMOSFETを介して
流される電流をI2とするとき、 I2/I1=(gm20+gm15)/(gm17+g
m13) となる。その結果、これらのMOSFETのコンダクタ
ンス比を適当に設定することで、MOSFETQN17
及びQP13を介して流される電流I1を比較的容易に
制御することが可能となり、これによって内部電圧HV
Cに不感帯を持たせることなく、出力MOSFETQN
19及びQP14の貫通電流を抑制することができる。On the other hand, regarding the dead zone of the internal voltage HVC, as shown in FIG. 55 (a), the output MOSFET
Another pair of N-channel MOSFETs having a relatively small conductance in parallel with QN19 and QP14.
A method is conceivable in which the TQN 20 and the P-channel MOSFET QP15 are provided and the current flowing through the MOSFETs QN17 and QP13 is controlled. That is, these M
When the OSFET is added, the current I1 flowing through the MOSFETs QN17 and QP13 is
The conductance of QN20 and QP15 is gm
20 and gm15, and the current flowing through these MOSFETs is I2, I2 / I1 = (gm20 + gm15) / (gm17 + g
m13). As a result, by appropriately setting the conductance ratio of these MOSFETs, the MOSFET QN17
And the current I1 flowing through QP13 can be controlled relatively easily, which allows the internal voltage HV to be controlled.
Output MOSFET QN without giving dead zone to C
The through current of 19 and QP14 can be suppressed.
【0204】(2)VBB電圧発生回路 電圧発生回路VBBは、回路の電源電圧VCCをもと
に、例えば所定の負電位とされる基板バックバイアス電
圧VBBを形成し、擬似スタティック型RAMの半導体
基板に供給する。(2) VBB Voltage Generating Circuit The voltage generating circuit VBB forms the substrate back bias voltage VBB, which is, for example, a predetermined negative potential, on the basis of the power supply voltage VCC of the circuit, and the pseudo static RAM semiconductor substrate. Supply to.
【0205】電圧発生回路VBBは、特に制限されない
が、図33に示されるように、実質5個の論理ゲート回
路がリング状に直列結合されてなる発振回路OSC1
と、この発振回路OSC1から出力されるパルス信号に
従って所定の基板バックバイアス電圧VBBを形成する
チャージポンプ回路VG1を備え、基板バックバイアス
電圧VBBのレベルをモニタすることで発振回路OSC
1を選択的に動作状態とするレベル検出回路LVMを備
える。電圧発生回路VBBは、さらに、実質9個のイン
バータ回路がリング状に直列結合されてなる発振回路O
SC2と、この発振回路OSC2から出力されるパルス
信号に従って基板バックバイアス電圧VBBを形成する
チャージポンプ回路VG2を備える。The voltage generating circuit VBB is not particularly limited, but as shown in FIG. 33, an oscillating circuit OSC1 in which substantially five logic gate circuits are connected in series in a ring shape.
And a charge pump circuit VG1 that forms a predetermined substrate back bias voltage VBB in accordance with a pulse signal output from the oscillation circuit OSC1. By monitoring the level of the substrate back bias voltage VBB, the oscillation circuit OSC
A level detection circuit LVM for selectively setting 1 to the operating state is provided. The voltage generating circuit VBB further includes an oscillating circuit O in which nine inverter circuits are connected in series in a ring shape.
SC2 and a charge pump circuit VG2 that forms the substrate back bias voltage VBB in accordance with the pulse signal output from the oscillator circuit OSC2.
【0206】レベル検出回路LVMは、特に制限されな
いが、回路の電源電圧と基板バックバイアス電圧供給点
VBBとの間に直列形態に設けられる4個のPチャンネ
ルMOSFET及び3個のNチャンネルMOSFETを
含む。これらの直列MOSFETは、反転内部制御信号
ICTB及び反転タイミング信号φsrBがともにハイ
レベルとされることを条件に、選択的に基板バックバイ
アス電圧VBBのレベルを監視する。その結果、基板バ
ックバイアス電圧VBBの絶対値が所定の値を超える
と、反転タイミング信号CE1Bがハイレベルであるこ
とを条件にレベル検出回路LVMの出力信号VB1を選
択的にロウレベルとする。The level detection circuit LVM includes, but is not limited to, four P-channel MOSFETs and three N-channel MOSFETs provided in series between the circuit power supply voltage and the substrate back bias voltage supply point VBB. . These series MOSFETs selectively monitor the level of the substrate back bias voltage VBB on condition that the inverted internal control signal ICTB and the inverted timing signal φsrB are both set to the high level. As a result, when the absolute value of the substrate back bias voltage VBB exceeds a predetermined value, the output signal VB1 of the level detection circuit LVM is selectively set to the low level on condition that the inversion timing signal CE1B is at the high level.
【0207】反転タイミング信号φsrBがロウレベ
ル、つまり擬似スタティック型RAMがセルフリフレッ
シュモードとされるとき、レベル検出回路LVMのモニ
タ動作は停止され、発振回路OSC1は、反転タイミン
グ信号CE1Bがロウレベル、つまりは擬似スタティッ
ク型RAMがセルフリフレッシュサイクルで動作状態と
されることを条件に、選択的に動作状態とされる。この
とき、発振回路OSC2は定常的に動作状態とされる。
その結果、セルフリフレッシュモードにおいて、レベル
検出回路LVMによる貫通電流が防止され、擬似スタテ
ィック型RAMのセルフリフレッシュモードの低消費電
力化が図られる。When the inverted timing signal φsrB is low level, that is, when the pseudo static RAM is in the self refresh mode, the monitor operation of the level detection circuit LVM is stopped, and the oscillation circuit OSC1 has the inverted timing signal CE1B low level, that is, pseudo. The static RAM is selectively operated under the condition that it is operated in the self-refresh cycle. At this time, the oscillation circuit OSC2 is constantly operated.
As a result, in the self-refresh mode, the through current caused by the level detection circuit LVM is prevented, and the power consumption in the self-refresh mode of the pseudo static RAM is reduced.
【0208】一方、反転タイミング信号CE1Bがロウ
レベル、つまり擬似スタティック型RAMが選択状態と
されるとき、発振回路OSC1は、レベル検出回路LV
Mの出力に関係なく動作状態とされる。その結果、擬似
スタティック型RAMの動作状態において、基板バック
バイアス電圧VBBの低下が防止される。さらに、反転
内部制御信号ICTBがロウレベル、つまりは、後述す
るように、パッドICTに回路の電源電圧が供給される
とき、レベル検出回路LVM及び発振回路OSC1は無
条件にその動作が停止され、発振回路OSC2が動作状
態とされる。これにより、所定のプローブ試験等におい
て、擬似スタティック型RAMの待機電流を削減し、リ
ーク電流等の確認試験を行うことができる。On the other hand, when the inverted timing signal CE1B is at low level, that is, when the pseudo static RAM is in the selected state, the oscillation circuit OSC1 operates as the level detection circuit LV.
It is operated regardless of the output of M. As a result, the substrate back bias voltage VBB is prevented from lowering in the operating state of the pseudo static RAM. Furthermore, when the inverted internal control signal ICTB is at a low level, that is, when the power supply voltage of the circuit is supplied to the pad ICT, the level detection circuit LVM and the oscillation circuit OSC1 are unconditionally stopped from operating and oscillate. The circuit OSC2 is activated. As a result, in a predetermined probe test or the like, the standby current of the pseudo static RAM can be reduced and a confirmation test of leak current or the like can be performed.
【0209】チャージポンプ回路VG1は、ブースト容
量C1を有し、このブースト容量のチャージポンプ作用
により所定の基板バックバイアス電圧VBBを形成す
る。チャージポンプ回路VG1は、ブースト容量C1が
比較的大きな静電容量を持つように設計されることで、
比較的大きな電流供給能力を持つものとされる。The charge pump circuit VG1 has a boost capacitor C1 and forms a predetermined substrate back bias voltage VBB by the charge pump action of this boost capacitor. The charge pump circuit VG1 is designed so that the boost capacitor C1 has a relatively large electrostatic capacitance,
It has a relatively large current supply capability.
【0210】同様に、チャージポンプ回路VG2は、ブ
ースト容量C2を有し、このブースト容量のチャージポ
ンプ作用より所定の基板バックバイアス電圧VBBを形
成する。ブースト容量C2は比較的小さな静電容量を持
つように設計され、チャージポンプ回路VG2は比較的
小さな電流供給能力を持つものとされる。Similarly, the charge pump circuit VG2 has a boost capacitor C2 and forms a predetermined substrate back bias voltage VBB by the charge pump action of this boost capacitor. The boost capacitor C2 is designed to have a relatively small electrostatic capacity, and the charge pump circuit VG2 has a relatively small current supply capability.
【0211】ところで、この擬似スタティック型RAM
の電圧発生回路VBBでは、発振回路OSC2及びチャ
ージポンプ回路VG2の動作電流を削減する方法とし
て、次のような工夫が施されている。すなわち、まず、
発振回路OSC2は、図56に再掲されるように、実質
9個のインバータ回路がリング状に直列結合されてなる
リングオシレータを基本構成とする。これらのインバー
タ回路は、各MOSFETのコンダクタンスが極めて小
さくされるとともに、その動作電流が、電流ミラー形態
とされるPチャンネル又はNチャンネルMOSFETを
介して供給されることで、極めて小さな値に制限され
る。By the way, this pseudo static RAM
In the voltage generating circuit VBB, the following measures are taken as a method of reducing the operating currents of the oscillation circuit OSC2 and the charge pump circuit VG2. That is, first,
As shown in FIG. 56 again, the oscillation circuit OSC2 basically has a ring oscillator in which nine inverter circuits are connected in series in a ring shape. In these inverter circuits, the conductance of each MOSFET is made extremely small, and the operating current thereof is supplied through a P-channel or N-channel MOSFET in the form of a current mirror, so that it is limited to an extremely small value. .
【0212】発振回路OSC2を構成するインバータ回
路のうち、第3段目のインバータ回路の出力信号つまり
パルス信号φ1は、PチャンネルMOSFETQP7及
びNチャンネルMOSFETQN11からなるインバー
タ回路を経て反転パルス信号φ1Bとされ、チャージポ
ンプ回路VG2のPチャンネルMOSFETQP6のゲ
ートに供給される。また、第6段目のインバータ回路の
出力信号は、パルス信号φ2として、チャージポンプ回
路VGのNチャンネルMOSFETQN8のゲートに供
給される。これらの反転パルス信号φ1B及びパルス信
号φ2は、図57に示されるように、そのレベルが常に
相補状態にあり、かつ互いに重畳して反転されることが
ないような、言い換えるならば一方のレベル反転をはさ
んで他方のレベル反転が生じないような、所定の位相関
係を持つ。The output signal of the third-stage inverter circuit of the inverter circuits constituting the oscillation circuit OSC2, that is, the pulse signal φ1 is converted into an inverted pulse signal φ1B through the inverter circuit including the P-channel MOSFET QP7 and the N-channel MOSFET QN11. It is supplied to the gate of the P-channel MOSFET QP6 of the charge pump circuit VG2. The output signal of the sixth-stage inverter circuit is supplied as a pulse signal φ2 to the gate of the N-channel MOSFET QN8 of the charge pump circuit VG. As shown in FIG. 57, the inverted pulse signal φ1B and the pulse signal φ2 have their levels always in a complementary state and are not inverted in superposition with each other. In other words, one level is inverted. It has a predetermined phase relationship so that the level inversion of the other does not occur across.
【0213】その結果、MOSFETQP6及びQN8
は、互いに排他的にオン状態とされつつ、ブースト容量
C2によるチャージポンプ動作を行わせしめる。つま
り、上記MOSFETQP6及びQN8は、それが通常
のCMOSインバータ回路を構成する場合、対応するパ
ルス信号の反転時においていくらかの貫通電流を流す。
しかし、上記のようにMOSFETQP6及びQN8が
互いに排他的にオン状態とされることで、これらのMO
SFETによる貫通電流は完全に防止され、電圧発生回
路VBBの低消費電力化が図られるものである。As a result, MOSFETs QP6 and QN8
Cause the charge pump operation by the boost capacitor C2 while being turned on mutually exclusively. That is, the MOSFETs QP6 and QN8, when they constitute a normal CMOS inverter circuit, carry some shoot-through current when the corresponding pulse signal is inverted.
However, as described above, the MOSFETs QP6 and QN8 are turned on exclusively to each other, so that the MO
The through current due to the SFET is completely prevented, and the power consumption of the voltage generation circuit VBB is reduced.
【0214】(3)VL電圧発生回路 電圧発生回路VLは、図34に示されるように、回路の
電源電圧VCCを降圧することで、所定の内部電圧VL
を形成する。この内部電圧VLは、電圧発生回路VBB
等に設けられるクランプ回路等の基準電位として供され
る。(3) VL Voltage Generating Circuit As shown in FIG. 34, the voltage generating circuit VL lowers the power supply voltage VCC of the circuit to generate a predetermined internal voltage VL.
To form. This internal voltage VL is the voltage generation circuit VBB.
It is used as a reference potential for a clamp circuit or the like provided in the above.
【0215】電圧発生回路VLは、上記反転内部制御信
号ICTBがロウレベルとされるとき、選択的にその動
作が停止され、これによって擬似スタティック型RAM
の待機電流が削減される。The voltage generation circuit VL selectively stops its operation when the inverted internal control signal ICTB is set to the low level, whereby the pseudo static RAM.
Standby current is reduced.
【0216】3.2.7.テスト回路 (1)高電圧検出回路 擬似スタティック型RAMは、前述のように、外部端子
OEB,WEB又はCEBに回路の電源電圧を超える所
定の高電圧が供給されることで、そのテストモードが選
択的に設定される。また、アドレス入力端子A4に上記
のような高電圧が供給されることで、冗長回路に関する
シグネイチュア信号を送出する。このため、擬似スタテ
ィック型RAMは、これらの外部端子に対応して設けら
れる4個の高電圧検出回路EHGを備える。3.2.7. Test circuit (1) High voltage detection circuit As described above, the pseudo static RAM selects the test mode by supplying a predetermined high voltage exceeding the power supply voltage of the circuit to the external terminal OEB, WEB or CEB. Is set automatically. Further, by supplying the high voltage as described above to the address input terminal A4, a signature signal relating to the redundant circuit is transmitted. For this reason, the pseudo static RAM includes four high voltage detection circuits EHG provided corresponding to these external terminals.
【0217】高電圧検出回路EHGは、図35に示され
るように、上記外部端子のそれぞれと回路の接地電位と
の間に直列形態に設けられる複数のMOSFETを含
む。そして、対応する外部端子に上記高電圧が供給され
るとき、その出力信号つまり反転内部制御信号φeh1
B〜φeh4Bを選択的にロウレベルとする。これらの
反転内部制御信号φeh1B〜φeh4Bは、対応する
テスト回路あるいはシグネイチュア回路SGに供給され
る。As shown in FIG. 35, high voltage detection circuit EHG includes a plurality of MOSFETs provided in series between each of the external terminals and the ground potential of the circuit. When the high voltage is supplied to the corresponding external terminal, its output signal, that is, the inverted internal control signal φeh1
B to φeh4B are selectively set to the low level. These inverted internal control signals φeh1B to φeh4B are supplied to the corresponding test circuit or signature circuit SG.
【0218】(2)ICT信号発生回路 ICT信号発生回路ICTは、図34に示されるよう
に、パッドICTに回路の電源電圧が供給されるとき、
選択的にその出力信号つまり反転内部制御信号ICTB
をロウレベルとする。上記パッドICTが開放状態とさ
れるとき、反転内部制御信号ICTBはハイレベルに固
定される。反転内部制御信号ICTBは、前述のよう
に、電圧発生回路HVC,VBB及びVL等に供給さ
れ、所定のプローブ試験時において、擬似スタティック
型RAMの待機電流を削減するために供される。(2) ICT Signal Generating Circuit The ICT signal generating circuit ICT, when the circuit power supply voltage is supplied to the pad ICT, as shown in FIG.
Selectively its output signal, that is, inverted internal control signal ICTB
To low level. When the pad ICT is opened, the inverted internal control signal ICTB is fixed to the high level. As described above, the inverted internal control signal ICTB is supplied to the voltage generation circuits HVC, VBB, VL, etc., and is used to reduce the standby current of the pseudo static RAM during a predetermined probe test.
【0219】(3)FCK信号発生回路 FCK信号発生回路FCKは、図34に示されるよう
に、パッドFCKに回路の電源電圧が供給されるとき、
タイミング信号P4がハイレベルであることを条件に、
選択的にその出力信号つまり反転内部制御信号FCKB
をロウレベルとする。パッドFCKが開放状態とされる
とき、反転内部制御信号FCKBは、タイミング信号P
4に関係なくハイレベルに固定される。反転内部制御信
号FCKBは、前述のように、X系冗長回路及びY系冗
長回路に供給され、ヒューズの半断線等の確認試験に供
される。(3) FCK Signal Generating Circuit The FCK signal generating circuit FCK, as shown in FIG. 34, when the power supply voltage of the circuit is supplied to the pad FCK,
If the timing signal P4 is at high level,
Selectively its output signal, that is, inverted internal control signal FCKB
To low level. When the pad FCK is opened, the inverted internal control signal FCKB changes to the timing signal P
Fixed to high level regardless of 4. The inverted internal control signal FCKB is supplied to the X-system redundant circuit and the Y-system redundant circuit as described above, and is used for the confirmation test of the half-breakage of the fuse.
【0220】(4)シグネイチュア回路 シグネイチュア回路SGは、図35に示されるように、
アドレス入力端子A5と回路の接地電位との間に設けら
れる1個のNチャンネルMOSFETを含む。このMO
SFETは、X系冗長回路又はY系冗長回路から出力さ
れる内部制御信号SIGX又はSIGYがハイレベルと
され、かつ高電圧検出回路EHGの出力信号つまり反転
内部制御信号φeh4Bがロウレベルとされることを条
件にオン状態となり、アドレス入力端子A5を回路の接
地電位に短絡する。その結果、擬似スタティック型RA
Mの完成後において、アドレス入力端子A5をモニタす
ることにより、冗長ワード線又は冗長相補データ線のい
ずれかに不良アドレスが割り当てられていることを判定
することができる。(4) Signature Circuit The signature circuit SG is as shown in FIG.
It includes one N-channel MOSFET provided between the address input terminal A5 and the ground potential of the circuit. This MO
In the SFET, the internal control signal SIGX or SIGY output from the X system redundant circuit or the Y system redundant circuit is set to the high level, and the output signal of the high voltage detection circuit EHG, that is, the inverted internal control signal φeh4B is set to the low level. Under the condition, it is turned on, and the address input terminal A5 is short-circuited to the ground potential of the circuit. As a result, pseudo-static RA
After the completion of M, by monitoring the address input terminal A5, it is possible to determine that the defective address is assigned to either the redundant word line or the redundant complementary data line.
【0221】以上の実施例に示されるように、本発明を
擬似スタティック型RAM等の半導体記憶装置に適用す
ることで、次のような作用効果が得られる。すなわち、 (1)回路の電源電圧及び接地電位間にトーテムポール
形態に設けられるNチャンネル型の一対の出力MOSF
ETと対応する出力データを保持するラッチ回路とを含
む出力バッファにおいて、上記ラッチ回路を、論理
“0”又は論理“1”にプリセットすることで、出力バ
ッファのロウレベル又はハイレベル出力時における立ち
上がりを選択的に高速化できるという効果が得られる。As shown in the above embodiments, by applying the present invention to a semiconductor memory device such as a pseudo static RAM, the following operational effects can be obtained. (1) A pair of N-channel type output MOSFs provided in the form of a totem pole between the power supply voltage of the circuit and the ground potential.
In an output buffer including an ET and a latch circuit that holds output data corresponding to the ET, by presetting the latch circuit to a logic "0" or a logic "1", the rise of the output buffer at a low level or a high level is output. The effect that the speed can be selectively increased can be obtained.
【0222】(2)キャパシタのチャージ及びディスチ
ャージを繰り返すことにより所定のパルス信号を形成す
る発振回路において、上記キャパシタに対するチャージ
又はディスチャージ電流経路を構成し発振回路の周波数
を決定するMOSFETを、定電流源を構成するMOS
FETとカレントミラー結合するとともに、定電流源の
電流値を設定する抵抗を構成する多結晶シリコン層のほ
ぼ二分の一にあたる部分の下層に、回路の電源電圧に結
合された第1ウェル領域を形成し、残りの二分の一にあ
たる部分の下層に、回路の接地電位に結合された第2ウ
ェル領域を形成することで、抵抗と回路の電源電圧及び
接地電位間の基板容量を均一化でき、これによってリフ
レッシュタイマー回路等に含まれる発振回路の電源バン
プ等による特性劣化を抑制することができるという効果
が得られる。(2) In an oscillating circuit that forms a predetermined pulse signal by repeating charging and discharging of a capacitor, a MOSFET that forms a charge or discharge current path for the capacitor and determines the frequency of the oscillating circuit is a constant current source. MOS that composes
A first well region, which is coupled to the power supply voltage of the circuit, is formed in the lower layer of the polycrystalline silicon layer, which constitutes a resistor for setting the current value of the constant current source, while being coupled to the FET by current mirror coupling. Then, by forming the second well region coupled to the ground potential of the circuit in the lower layer corresponding to the remaining half, the substrate capacitance between the resistor and the power supply voltage of the circuit and the ground potential can be made uniform. As a result, it is possible to suppress the characteristic deterioration of the oscillator circuit included in the refresh timer circuit or the like due to the power supply bump or the like.
【0223】(3)基板バックバイアス電圧発生回路等
に含まれる発振回路に、実質的にリング状に直列結合さ
れる奇数個のインバータ回路と、出力ノードと回路の電
源電圧又は接地電位間に設けられかつ上記インバータ回
路のうち異なる所定段の二つのインバータ回路の出力信
号を受けることで互いに排他的にオン状態とされる一対
のPチャンネル及びNチャンネルMOSFETを設ける
ことで、これらのMOSFETによる貫通電流を防止
し、発振回路ひいては基板バックバイアス電圧発生回路
を低消費電力化できるという効果が得られる。(3) An odd number of inverter circuits substantially connected in series in a ring shape to an oscillation circuit included in the substrate back bias voltage generation circuit and the like, and provided between the output node and the power supply voltage or ground potential of the circuit. By providing a pair of P-channel and N-channel MOSFETs which are exclusively turned on by receiving output signals of two inverter circuits of different predetermined stages among the above-mentioned inverter circuits, a through current by these MOSFETs is provided. Is obtained, and the power consumption of the oscillation circuit and thus the substrate back bias voltage generation circuit can be reduced.
【0224】(4)所定のタイミング信号に従ってオン
状態とされるPチャンネルMOSFETを介して選択的
にチャージされ、定電流源によって形成される所定のデ
ィスチャージ電流を伝達する電流ミラー回路を介して選
択的にディスチャージされるキャパシタを含む発振回路
において、上記キャパシタのチャージ電圧と上記定電流
源の基準電位を、上記PチャンネルMOSFETがオフ
状態とされるとき同時にフローティングとされるもう一
つのキャパシタによって形成することで、リフレッシュ
タイマー回路等に含まれる発振回路の電源バンプ等によ
る周波数変動を抑制することができるという効果が得ら
れる。(4) Selective through a current mirror circuit which is selectively charged through a P-channel MOSFET which is turned on according to a predetermined timing signal and which transmits a predetermined discharge current formed by a constant current source. In an oscillating circuit including a capacitor to be discharged into a capacitor, the charge voltage of the capacitor and the reference potential of the constant current source are formed by another capacitor that is simultaneously floated when the P-channel MOSFET is turned off. Thus, it is possible to obtain the effect that it is possible to suppress frequency fluctuations due to power supply bumps or the like of the oscillation circuit included in the refresh timer circuit or the like.
【0225】(5)回路の電源電圧及び接地電位間に直
列形態に設けられる第1のPチャンネル及びNチャンネ
ルMOSFETと、これらのMOSFETと並列形態に
設けられる第2のPチャンネル及びNチャンネルMOS
FETと、上記第1のPチャンネル及びNチャンネルM
OSFET間に設けられ上記第2のPチャンネル及びN
チャンネルMOSFETとそれぞれ電流ミラー形態とさ
れる第3のPチャンネル及びNチャンネルMOSFET
とを含む電圧発生回路において、上記第3のPチャンネ
ルMOSFETのドレインとそのウェル領域を共通結合
することで、プロセス変動をともなうことなく、上記第
2Pチャンネル及びNチャンネルMOSFETによる貫
通電流を抑制し、電圧発生回路の低消費電力化を図るこ
とができるという効果が得られる。 (6)上記(5)項において、上記第2のPチャンネル
及びNチャンネルMOSFETと並列形態に、上記第3
のPチャンネル及びNチャンネルMOSFETと電流ミ
ラー形態とされる第4のPチャンネル及びNチャンネル
MOSFETを設け、これらのMOSFETと上記第3
のPチャンネル及びNチャンネルMOSFETとのコン
ダクタンス比を適当に設定することで、電圧発生回路に
不感帯を生じさせることなく、上記第2のPチャンネル
及びNチャンネルMOSFETによる貫通電流を抑制
し、電圧発生回路の低消費電力化を図ることができると
いう効果が得られる。(5) A first P-channel and N-channel MOSFET provided in series between the power supply voltage and the ground potential of the circuit, and a second P-channel and N-channel MOS provided in parallel with these MOSFETs.
FET and the first P channel and N channel M
The second P channel and N provided between the OSFETs
Channel MOSFETs and third P-channel and N-channel MOSFETs, each in current mirror form
In the voltage generating circuit including, by commonly coupling the drain of the third P-channel MOSFET and the well region thereof, the through current due to the second P-channel and N-channel MOSFET is suppressed without process fluctuation, The effect that the power consumption of the voltage generating circuit can be reduced can be obtained. (6) In the above item (5), the second P-channel and N-channel MOSFETs are arranged in parallel with each other and the third
And a fourth P-channel and N-channel MOSFET in a current mirror form with the P-channel and N-channel MOSFET of FIG.
By appropriately setting the conductance ratio with the P-channel and N-channel MOSFETs, the through-current caused by the second P-channel and N-channel MOSFETs is suppressed without causing a dead zone in the voltage generating circuit, It is possible to obtain the effect that the power consumption can be reduced.
【0226】(7)冗長回路等に設けられるヒューズ回
路を、その出力ノードとPチャンネル又はNチャンネル
MOSFETとの間にヒューズ手段を設けてなるヒュー
ズ論理ゲート回路を基本として構成することで、ヒュー
ズ回路の回路構成を簡素化し、冗長回路等の低コスト化
を図ることができるという効果が得られる。 (8)上記(7)項において、上記ヒューズ回路に、一
対の上記ヒューズ論理ゲート回路を設け、これらのヒュ
ーズ論理ゲート回路の出力信号を排他的論理和結合する
ことで、例えば一旦切断されたヒューズ手段を無効にで
きるため、冗長回路の不良アドレスの割り当て処理に融
通性を持たせ、擬似スタティック型RAM等の歩留りを
高めることができるという効果が得られる。(7) A fuse circuit provided in a redundant circuit or the like is basically constructed by a fuse logic gate circuit in which a fuse means is provided between an output node of the redundancy circuit and a P channel or N channel MOSFET. It is possible to obtain an effect that the circuit configuration of (3) can be simplified and the cost of the redundant circuit and the like can be reduced. (8) In the above item (7), the fuse circuit is provided with a pair of the fuse logic gate circuits, and the output signals of the fuse logic gate circuits are subjected to exclusive OR combination, whereby the fuses once cut, for example. Since it is possible to invalidate the means, it is possible to provide flexibility in assigning a defective address of the redundant circuit, and it is possible to improve the yield of the pseudo static RAM or the like.
【0227】(9)擬似スタティック型RAM等のリフ
レッシュ周期を、PS(擬似)リフレッシュあるいはV
S(仮想)リフレッシュモードで選択的に切り換えられ
る構成とすることで、上記PSリフレッシュ及びVSリ
フレッシュモードの両方に適用しうる擬似スタティック
型RAM等を、共通の半導体基板をもとに、効率的に開
発し、製造できるという効果が得られる。(9) The refresh cycle of the pseudo static RAM is set to PS (pseudo) refresh or V
By adopting a configuration that can be selectively switched in the S (virtual) refresh mode, the pseudo static RAM applicable to both the PS refresh mode and the VS refresh mode can be efficiently used based on a common semiconductor substrate. The effect is that it can be developed and manufactured.
【0228】(10)例えばYプリデコーダ及びYデコ
ーダ間に設けられる所定の信号線を介して、動作モード
に応じて異なる意味を持つ複数の信号を選択的に伝達す
ることで、比較的レイアウト余裕のない所に配置される
信号線の数を削減し、擬似スタティック型RAM等のチ
ップ面積を削減できるという効果が得られる。(10) For example, by selectively transmitting a plurality of signals having different meanings depending on the operation mode via a predetermined signal line provided between the Y predecoder and the Y decoder, a relatively large layout margin can be obtained. There is an effect that the number of signal lines arranged in a non-existing area can be reduced and the chip area of the pseudo static RAM or the like can be reduced.
【0229】(11)コモンI/O線に結合されるスタ
ティック型メインアンプと、上記メインアンプが動作状
態とされるとき対応するコモンI/O線の非反転及び反
転信号線に、メインアンプが最大感度となるようなバイ
アスレベルを持たせるためのプリセットMOSFETと
を含む擬似スタティック型RAM等において、上記プリ
セットMOSFETを、メインアンプが動作状態とされ
る直前において一時的にオン状態とすることで、その動
作電流を削減し、擬似スタティック型RAM等を低消費
電力化できるという効果が得られる。(11) The main amplifier is connected to the static type main amplifier coupled to the common I / O line and the corresponding non-inverted and inverted signal lines of the common I / O line when the main amplifier is operated. In a pseudo-static RAM or the like including a preset MOSFET for providing a bias level that maximizes the sensitivity, the preset MOSFET is temporarily turned on immediately before the main amplifier is put into operation. The operation current can be reduced, and the power consumption of the pseudo static RAM or the like can be reduced.
【0230】(12)対応する冗長ワード線又は冗長デ
ータ線に割り当てられる不良アドレスの対応するビット
を保持しこれとメモリアクセスに際して供給されるアド
レス信号の対応するビットとを比較照合する複数の冗長
アドレス比較回路と、所定の検出ノードと回路の接地電
位との間に直列形態に設けられそのゲートに対応する上
記冗長アドレス比較回路の出力信号を受ける複数のカス
ケードMOSFETを含む冗長回路において、上記冗長
アドレス比較回路及びカスケードMOSFETを、半導
体基板面に分散して配置されるアドレス入力パッドに対
応しかつ近接して分散配置することで、冗長回路におけ
る信号伝達遅延時間を縮小し、擬似スタティック型RA
M等の高速化を図ることができるという効果が得られ
る。(12) A plurality of redundant addresses for holding the corresponding bit of the defective address assigned to the corresponding redundant word line or redundant data line and comparing and collating this with the corresponding bit of the address signal supplied at the time of memory access. In a redundant circuit including a comparator circuit and a plurality of cascade MOSFETs provided in series between a predetermined detection node and the ground potential of the circuit and receiving the output signal of the redundant address comparator circuit corresponding to the gate, the redundant address By disposing the comparison circuit and the cascade MOSFET corresponding to the address input pads dispersedly arranged on the semiconductor substrate surface and closely arranged, the signal transmission delay time in the redundant circuit is reduced, and the pseudo static RA
The effect that the speed of M etc. can be increased can be obtained.
【0231】(13)それぞれ対をなしかつ対をなす二
つがそれぞれ線対称に配置される複数のメモリアレイ
と、上記対をなす二つのメモリアレイにより共有されこ
れらのメモリアレイを串刺しするように貫通して配置さ
れるコモンI/O線を備える擬似スタティック型RAM
等において、上記コモンI/O線の非反転及び反転信号
線を、対をなす二つのメモリアレイの中間において交差
させることで、フォトマスクの合わせずれ等にともなう
コモンI/O線の寄生容量の変化を相殺し、擬似スタテ
ィック型RAM等の動作を安定化できるという効果が得
られる。 (14)上記(13)項において、上記コモンI/O線
を、対応する二つのメモリアレイの中間及びその両方の
外側においてイコライズすることで、コモンI/O線の
イコライズ処理を高速化しかつ安定化できるという効果
が得られる。(13) A plurality of memory arrays, each of which forms a pair and two of which form a pair, are arranged symmetrically with each other, and are shared by the two memory arrays of the pair, and these memory arrays are pierced so as to be skewed. Pseudo-static RAM with common I / O lines arranged in parallel
Etc., by crossing the non-inverted and inverted signal lines of the common I / O line in the middle of the two memory arrays forming a pair, the parasitic capacitance of the common I / O line due to misalignment of the photomask and the like is reduced. The effect of offsetting the change and stabilizing the operation of the pseudo static RAM or the like is obtained. (14) In the above item (13), by equalizing the common I / O line in the middle of the corresponding two memory arrays and outside both of them, the equalization process of the common I / O line is speeded up and stabilized. The effect that it can be obtained.
【0232】(15)メモリアレイの各相補データ線に
対応して設けられる複数のセンスアンプを具備する擬似
スタティック型RAM等において、上記センスアンプを
構成するPチャンネル又はNチャンネルMOSFETの
ソースを、対応するコンタクトを介してアルミニウム等
の金属配線層からなるコモンソース線に共通結合すると
ともに、そのソース領域を構成する拡散層を延長するこ
とで隣接するPチャンネル又はNチャンネルMOSFE
T対のソースをさらに共通結合することで、例えばコン
タクト不良等によるセンスアンプの障害を救済し、擬似
スタティック型RAM等の歩留りを高めることができる
という効果が得られる。(15) In a pseudo-static RAM or the like having a plurality of sense amplifiers provided corresponding to each complementary data line of the memory array, the source of the P-channel or N-channel MOSFET which constitutes the above-mentioned sense amplifier is corresponded to The common source line made of a metal wiring layer such as aluminum is commonly coupled via the contact, and the diffusion layer forming the source region is extended to form an adjacent P channel or N channel MOSFE.
By further commonly connecting the sources of T pairs, it is possible to improve the yield of the pseudo static RAM or the like by relieving a sense amplifier failure due to contact failure or the like.
【0233】(16)半導体基板面に分散して配置され
る複数のメモリアレイと、これらのメモリアレイに対応
して設けられる複数のデコーダと、所定のアドレス信号
に従ってプリデコード信号を形成し各デコーダに供給す
るプリデコーダとを具備する擬似スタティック型RAM
等において、上記プリデコード信号を対応するデコーダ
に選択的に伝達するためのドライバを、対応するデコー
ダに近接して分散配置することで、上記プリデコード信
号の伝達遅延時間を縮小し、擬似スタティック型RAM
等を高速化できるという効果が得られる。(16) A plurality of memory arrays dispersedly arranged on the surface of the semiconductor substrate, a plurality of decoders provided corresponding to these memory arrays, and a predecode signal formed in accordance with a predetermined address signal for each decoder. Pseudo static RAM having a predecoder for supplying to
Etc., a driver for selectively transmitting the predecoded signal to the corresponding decoder is distributedly arranged in the vicinity of the corresponding decoder to reduce the transmission delay time of the predecoded signal, and thus the pseudo static type RAM
It is possible to obtain the effect that the processing speed can be increased.
【0234】(17)それぞれ複数の冗長ワード線又は
冗長相補データ線を含みかつ半導体基板面の中心線をは
さんで線対称に配置される複数のメモリアレイを具備す
る擬似スタティック型RAM等において、冗長ワード線
又は冗長データ線を、上記中心線を軸として線対称とさ
れる順序で配置することで、外側に配置される冗長ワー
ド線又は冗長データ線の障害発生率を意図的に高めかつ
その内側に配置される冗長ワード線又は冗長データ線の
障害発生率を低くして、冗長ワード線又は冗長データ線
全体としてみた障害発生率を抑え、擬似スタティック型
RAM等の歩留りを高めることができるという効果が得
られる。(17) In a pseudo static RAM or the like having a plurality of memory arrays each including a plurality of redundant word lines or redundant complementary data lines and arranged in line symmetry with respect to the center line of the semiconductor substrate surface, By arranging the redundant word lines or the redundant data lines in a line-symmetrical order with the center line as an axis, the fault occurrence rate of the redundant word lines or the redundant data lines arranged outside is intentionally increased and It is said that the failure rate of the redundant word line or the redundant data line arranged inside can be lowered, the failure rate of the entire redundant word line or the redundant data line can be suppressed, and the yield of the pseudo static RAM or the like can be improved. The effect is obtained.
【0235】(18)ヒューズ手段が切断されることで
その計数初期値が選択的に設定されるリフレッシュタイ
マーカウンタ回路等を含む擬似スタティック型RAM等
において、所定のテストモードで、例えばアドレス入力
端子を介して供給される試験信号により上記ヒューズ手
段が切断された状態を等価的かつ選択的に設定できるよ
うにすることで、擬似スタティック型RAM等のリフレ
ッシュタイマーカウンタ回路等の特性評価を確実にかつ
効率的に実施できるという効果が得られる。(18) In a pseudo static RAM or the like including a refresh timer counter circuit, etc., whose counting initial value is selectively set by cutting the fuse means, in a predetermined test mode, for example, when an address input terminal is By making it possible to equivalently and selectively set the blown state of the fuse means by the test signal supplied via the test signal, the characteristic evaluation of the refresh timer counter circuit or the like of the pseudo static RAM or the like can be surely and efficiently performed. The effect that it can be carried out is obtained.
【0236】(19)セルフリフレッシュモードを有し
かつこのセルフリフレッシュモードにおいてリフレッシ
ュ動作を所定の周期で起動するリフレッシュタイマーカ
ウンタ回路を具備する擬似スタティック型RAM等にお
いて、所定のテストモードで、リフレッシュタイマーカ
ウンタ回路によるリフレッシュ起動信号に代えて、所定
の外部端子を介して供給される試験起動信号を用いうる
構成とすることで、擬似スタティック型RAM等のセル
フリフレッシュモードにおけるリフレッシュ周期を任意
に設定し、その特性評価を効率的に実施できるという効
果が得られる。 (20)上記(19)項において、セルフリフレッシュ
モードにおけるリフレッシュアドレスを、例えばアドレ
ス入力端子を介して任意に指定しうる構成とすること
で、擬似スタティック型RAM等のリフレッシュ動作に
おけるアドレス依存性を効率的に試験できるという効果
が得られる。(19) In a pseudo static RAM having a self-refresh mode and having a refresh timer counter circuit for starting a refresh operation in the self-refresh mode in a predetermined cycle, a refresh timer counter is used in a predetermined test mode. A test activation signal supplied via a predetermined external terminal can be used instead of the refresh activation signal by the circuit, so that the refresh cycle in the self-refresh mode of the pseudo static RAM or the like is arbitrarily set, and The effect that the characteristic evaluation can be efficiently performed is obtained. (20) In the above item (19), the refresh address in the self-refresh mode can be arbitrarily designated, for example, via an address input terminal, so that the address dependency in the refresh operation of the pseudo static RAM or the like can be made efficient. The effect that it can be tested is obtained.
【0237】(21)複数の外部端子に、その絶対値が
回路の電源電圧を超える所定の高電圧が選択的に組み合
わされて供給されることで、そのテストモードを選択的
に設定し、かつ実質的な試験動作を開始しうる構成とす
ることで、擬似スタティック型RAM等のテスト回路を
簡素化し、その低コスト化を図ることができるという効
果が得られる。 (22)以上の作用効果により、擬似スタティック型R
AM等の動作を安定化しつつ、その高速化及び低消費電
力化を図ることができるという効果が得られる。(21) A predetermined high voltage whose absolute value exceeds the power supply voltage of the circuit is selectively combined and supplied to the plurality of external terminals to selectively set the test mode, and By adopting a configuration capable of starting a substantial test operation, it is possible to simplify a test circuit such as a pseudo static RAM and reduce the cost thereof. (22) Due to the above effects, the pseudo static type R
It is possible to obtain the effect that the operation speed of the AM and the like can be reduced and the power consumption can be reduced while stabilizing the operation of the AM and the like.
【0238】(23)セルフリフレッシュモードを有す
る擬似スタティック型RAM等に、リフレッシュ周期を
設定するためのリフレッシュタイマー回路を設け、その
出力信号の周期を選択的に切り換えうる構成とすること
で、例えばセルフリフレッシュモードのうちバッテリバ
ックアップ時等において比較的長い周期で行われるPS
(疑似)リフレッシュモードと、擬似スタティック型R
AMが活性状態とされる合間をぬって比較的短い周期で
行われるVS(仮想)リフレッシュモードとを、1個の
共通半導体基板で選択的に実現しうる擬似スタティック
型RAM等を提供することができるという効果が得られ
る。(23) A pseudo static RAM having a self-refresh mode is provided with a refresh timer circuit for setting a refresh cycle, and the cycle of its output signal can be selectively switched. PS that is performed in a relatively long cycle during battery backup in the refresh mode
(Pseudo) refresh mode and pseudo static type R
(EN) Provided is a pseudo static RAM or the like which can selectively realize a VS (virtual) refresh mode which is performed in a relatively short period between AM activation states with a single common semiconductor substrate. The effect of being able to be obtained is obtained.
【0239】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、メモリアレイの分割数や各周辺回路との組み合わせ
は、任意であり、各メモリアレイに設けられるワード
線,冗長ワード線,相補データ線,冗長相補データ線な
らびにコモンI/O線等の数も任意である。また、擬似
スタティック型RAMに設けられる動作モードやテスト
モードならびに動作サイクルの種類や対応する起動制御
信号の組み合わせは、種々の実施形態が考えられよう。
起動制御信号やアドレス信号及び入出力データ等の数及
び論理レベルならびにその組み合わせ等についても、同
様である。さらに、各回路図や配置図に示される各部の
具体的回路構成や具体的レイアウトならびに内部制御信
号及びタイミング信号等の論理レベル及びその組み合わ
せ等は、この実施例による制約を受けない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, the number of divisions of the memory array and the combination with each peripheral circuit are arbitrary, and the number of word lines, redundant word lines, complementary data lines, redundant complementary data lines, common I / O lines, etc. provided in each memory array. Is also optional. Various embodiments may be considered for the operation mode and test mode provided in the pseudo static RAM, the type of operation cycle, and the combination of the corresponding start control signals.
The same applies to the number of start control signals, address signals, input / output data, etc., logic levels, and combinations thereof. Furthermore, the specific circuit configurations and layouts of the respective parts shown in the circuit diagrams and layout diagrams, the logic levels of the internal control signals and the timing signals, combinations thereof, and the like are not restricted by this embodiment.
【0240】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野である擬似
スタティック型RAMに適用した場合について説明した
が、それに限定されるものではなく、例えば、出力バッ
ファや発振回路,電圧発生回路及びヒューズ回路ならび
にレイアウト方式及びテスト方式に関する発明は、他の
各種の半導体記憶装置ならびに半導体集積回路装置にも
適用できる。これらの発明は、少なくとも対応する回路
等を含みあるいはそれを必要とする半導体記憶装置又は
半導体集積回路装置に広く適用できる。In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the pseudo static RAM which is the field of application which is the background of the invention has been described. The inventions relating to the buffer, the oscillation circuit, the voltage generating circuit, the fuse circuit, the layout system and the test system can be applied to various other semiconductor memory devices and semiconductor integrated circuit devices. These inventions can be widely applied to semiconductor memory devices or semiconductor integrated circuit devices that include or require at least corresponding circuits.
【0241】[0241]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、擬似スタティック型RAM
のリフレッシュタイマー回路等に含まれる発振回路のキ
ャパシタに対するチャージ又はディスチャージ電流経路
を構成し発振回路の周波数を決定するMOSFETを、
定電流源を構成するMOSFETとカレントミラー結合
するとともに、定電流源の電流値を設定する抵抗を構成
する多結晶シリコン層のほぼ二分の一にあたる部分の下
層に、回路の電源電圧に結合されたウェル領域を形成
し、また残り二分の一にあたる部分の下層に、回路の接
地電位に結合されたウェル領域を形成する。そして、擬
似スタティック型RAM等に、リフレッシュタイマー回
路のリフレッシュタイマーカウンタ回路の計数初期値を
例えばアドレス入力端子を介して任意に設定できるテス
トモードや、そのリフレッシュ周期を所定の外部端子か
ら供給される試験制御信号によって任意に設定できるテ
ストモード等を用意する。さらに、セルフリフレッシュ
モードを有する擬似スタティック型RAM等に、リフレ
ッシュ周期を設定するためのリフレッシュタイマー回路
を設け、その出力信号の周期を選択的に切り換えうる構
成とする。The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, pseudo static RAM
Of a refresh timer circuit or the like, which constitutes a charge or discharge current path for the capacitor of the oscillation circuit included in the refresh timer circuit, and determines the frequency of the oscillation circuit,
In addition to the current mirror coupling with the MOSFET constituting the constant current source, it was coupled to the power supply voltage of the circuit under the portion corresponding to approximately one half of the polycrystalline silicon layer constituting the resistor for setting the current value of the constant current source. A well region is formed, and a well region coupled to the ground potential of the circuit is formed in the lower layer corresponding to the remaining half. A test mode in which the initial count value of the refresh timer counter circuit of the refresh timer circuit can be arbitrarily set to the pseudo static RAM or the like, for example, via an address input terminal, or a test in which the refresh cycle is supplied from a predetermined external terminal Prepare a test mode that can be set arbitrarily by the control signal. Further, a refresh timer circuit for setting a refresh cycle is provided in a pseudo static RAM having a self-refresh mode so that the cycle of its output signal can be selectively switched.
【0242】これにより、リフレッシュタイマー回路等
の発振回路のキャパシタのディスチャージ電流を安定化
し、またその多結晶シリコン抵抗と回路の電源電圧及び
接地電位間にほぼ同一の寄生容量が結合されるために電
源変動を相殺でき、電源バンプ等による発振回路の発振
周波数の変動を抑制できる。そして、これらの発振回路
及びリフレッシュタイマーカウンタ回路の動作特性なら
びにメモリセルの情報保持特性のアドレス依存性等を効
率的に試験確認できることから、擬似スタティック型R
AMのリフレッシュ周期を的確に、かつメモリセルの情
報保持能力により接近した値で設定することができる。
さらに、セルフリフレッシュモードのうち例えばバッテ
リバックアップ時等において比較的長い周期で行われる
PS(疑似)リフレッシュモードと、擬似スタティック
型RAMが活性状態とされる合間をぬって比較的短い周
期で行われるVS(仮想)リフレッシュモードとを、1
個の共通半導体基板で選択的に実現しうる擬似スタティ
ック型RAM等を提供できる。これらの結果、擬似スタ
ティック型RAMの動作を安定化しつつ、その低消費電
力化を推進できる。As a result, the discharge current of the capacitor of the oscillation circuit such as the refresh timer circuit is stabilized, and almost the same parasitic capacitance is coupled between the polycrystalline silicon resistor and the power supply voltage of the circuit and the ground potential. Fluctuations can be offset, and fluctuations in the oscillation frequency of the oscillation circuit due to power supply bumps or the like can be suppressed. Since the operating characteristics of the oscillator circuit and the refresh timer counter circuit and the address dependency of the information holding characteristics of the memory cell can be efficiently tested and confirmed, the pseudo static type R
The AM refresh cycle can be set accurately and at a value closer to the information holding capacity of the memory cell.
Further, in the self-refresh mode, for example, a PS (pseudo) refresh mode that is performed in a relatively long cycle at the time of battery backup, and a VS that is performed in a relatively short cycle after the pseudo static RAM is activated. (Virtual) refresh mode is 1
It is possible to provide a pseudo static RAM or the like that can be selectively realized by using one common semiconductor substrate. As a result, the power consumption can be promoted while stabilizing the operation of the pseudo static RAM.
【図1】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの一実施例を示すブロック図である。FIG. 1 is a pseudo static RA to which the present invention is applied.
It is a block diagram which shows one Example of M.
【図2】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの一実施例を示すブロック図である。FIG. 2 is a pseudo static RA to which the present invention is applied.
It is a block diagram which shows one Example of M.
【図3】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの一実施例を示すブロック図である。FIG. 3 is a pseudo static RA to which the present invention is applied.
It is a block diagram which shows one Example of M.
【図4】図1〜図3の擬似スタティック型RAMの一実
施例を示す配置図である。FIG. 4 is a layout diagram showing an embodiment of the pseudo static RAM shown in FIGS. 1 to 3;
【図5】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの各動作サイクルの一実施例を示すタイミング図であ
る。FIG. 5: Pseudo-static type RA to which the present invention is applied
It is a timing diagram which shows one Example of each operation cycle of M.
【図6】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの各動作サイクルの一実施例を示すタイミング図であ
る。FIG. 6 is a pseudo static RA to which the present invention is applied.
It is a timing diagram which shows one Example of each operation cycle of M.
【図7】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの各動作サイクルの一実施例を示すタイミング図であ
る。FIG. 7 is a pseudo static RA to which the present invention is applied.
It is a timing diagram which shows one Example of each operation cycle of M.
【図8】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの各動作サイクルの一実施例を示すタイミング図であ
る。FIG. 8 is a pseudo static RA to which the present invention is applied.
It is a timing diagram which shows one Example of each operation cycle of M.
【図9】この発明が適用された擬似スタティック型RA
Mの各動作サイクルの一実施例を示すタイミング図であ
る。FIG. 9 is a pseudo static RA to which the present invention is applied.
It is a timing diagram which shows one Example of each operation cycle of M.
【図10】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各動作サイクルの一実施例を示すタイミング図で
ある。FIG. 10 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a timing diagram which shows one Example of each operation cycle of AM.
【図11】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各動作サイクルの一実施例を示すタイミング図で
ある。FIG. 11 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a timing diagram which shows one Example of each operation cycle of AM.
【図12】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 12 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図13】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 13 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図14】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 14 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図15】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 15 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図16】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 16 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図17】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 17 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図18】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 18 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図19】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 19 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図20】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 20 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図21】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 21 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図22】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 22 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図23】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 23 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図24】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 24 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図25】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 25 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図26】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 26 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図27】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 27 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図28】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 28 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図29】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 29 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図30】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 30 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図31】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 31 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図32】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 32 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図33】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 33 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図34】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 34 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図35】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 35 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図36】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 36 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図37】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 37 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図38】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの各部の具体的構成を示す回路図である。FIG. 38 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows the concrete structure of each part of AM.
【図39】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの一実施例を示す信号波形図である。FIG. 39 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a signal waveform diagram which shows one Example of AM.
【図40】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの一実施例を示す信号波形図である。FIG. 40 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a signal waveform diagram which shows one Example of AM.
【図41】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの一実施例を示す信号波形図である。FIG. 41 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a signal waveform diagram which shows one Example of AM.
【図42】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのメモリアレイ部を説明するための概念図である。FIG. 42 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a conceptual diagram for demonstrating the memory array part of AM.
【図43】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのセンスアンプ部を説明するための構成図である。FIG. 43 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a block diagram for explaining a sense amplifier unit of AM.
【図44】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの冗長イネーブル回路の一実施例を示す回路図であ
る。FIG. 44 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows one Example of the redundancy enable circuit of AM.
【図45】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのX系冗長回路の一実施例を示す回路ブロック図で
ある。FIG. 45 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit block diagram which shows one Example of the X system redundancy circuit of AM.
【図46】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのYデコーダの一実施例を示す部分的な回路図であ
る。FIG. 46 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
FIG. 4 is a partial circuit diagram showing an example of an AM Y decoder.
【図47】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのメインアンプ及びその周辺回路の一実施例を示す
部分的な回路図である。FIG. 47 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a partial circuit diagram which shows one Example of the main amplifier of AM, and its peripheral circuit.
【図48】図47のメインアンプの動作を説明するため
の信号波形図である。48 is a signal waveform diagram for explaining an operation of the main amplifier of FIG. 47.
【図49】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのデータ出力バッファの一実施例を示す回路図であ
る。FIG. 49 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows one Example of the data output buffer of AM.
【図50】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのリフレッシュタイマー回路及びリフレッシュタン
マーカウンタ回路の一実施例を示すブロック図である。FIG. 50 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of an AM refresh timer circuit and a refresh tamper counter circuit.
【図51】図50のリフレッシュタイマー回路及びリフ
レッシュタイマーカウンタ回路の一実施例を示す部分的
な回路図である。51 is a partial circuit diagram showing an embodiment of the refresh timer circuit and the refresh timer counter circuit of FIG. 50.
【図52】図50のリフレッシュタイマー回路及びリフ
レッシュタイマーカウンタ回路の動作を説明するための
波形図である。52 is a waveform diagram for explaining the operation of the refresh timer circuit and the refresh timer counter circuit of FIG. 50.
【図53】図50のリフレッシュタイマー回路の一実施
例を示す構成図である。53 is a configuration diagram showing an embodiment of the refresh timer circuit of FIG. 50.
【図54】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのリフレッシュタイマー回路の他の一実施例を示す
回路図である。FIG. 54 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows another Example of the refresh timer circuit of AM.
【図55】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの電圧発生回路HVCの一実施例を示す回路図であ
る。FIG. 55 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows one Example of the voltage generation circuit HVC of AM.
【図56】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの電圧発生回路VBBに含まれる発振回路の一実施
例を示す回路図である。FIG. 56 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a circuit diagram which shows one Example of the oscillation circuit contained in the voltage generation circuit VBB of AM.
【図57】図56の発振回路の動作を説明するための波
形図である。57 is a waveform diagram for explaining the operation of the oscillation circuit of FIG. 56.
【図58】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMの冗長データ線選択信号に関する信号伝達経路の一
実施例を示す構成図である。FIG. 58 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
It is a block diagram which shows one Example of the signal transmission path regarding the redundant data line selection signal of AM.
【図59】この発明が適用された擬似スタティック型R
AMのコモンI/O線の一実施例を示す部分的な平面配
置図である。FIG. 59 is a pseudo static type R to which the present invention is applied.
FIG. 7 is a partial plan layout view showing an example of an AM common I / O line.
TG……タイミング発生回路、CE……CE系タイミン
グ発生回路、WE……WE系タイミング発生回路、WC
……ワード線クリア回路、OE……OE系タイミング発
生回路、TMR……リフレッシュタイマー回路、SRC
……リフレッシュタイマーカウンタ回路、SCNTR…
…リフレッシュタイマーカウンタ単位回路、PC……プ
リチャージ制御回路、XAB……Xアドレスバッファ、
PXD……Xプリデコーダ、RFC……リフレッシュカ
ウンタ、CNTR……リフレッシュカウンタ単位回路、
XR0〜XR3……X系冗長回路、φXG……ワード線
駆動信号発生回路、PWD……ワード線選択駆動信号発
生回路、PRWD……冗長ワード線選択駆動信号発生回
路、SP,SN……センスアンプ駆動回路、YAB……
Yアドレスバッファ、PYD……Yプリデコーダ、YR
AC0〜YRAC7……Y系冗長回路、MALL〜MA
RR……メインアンプ、ASL……アレイ選択回路、D
IB……データ入力バッファ、DILL〜DIRR……
書き込み回路、WS……書き込み選択回路、DOB……
データ出力バッファ、OSL……出力選択回路、HV
C,VBB,VL……電圧発生回路、ICT,FCK…
…信号発生回路、EHG……高電圧検出回路、SG……
シグネイチュア回路、XD0L〜XD3R……Xデコー
ダ、YD0〜YD3……Yデコーダ、MARY0L〜M
ARY3R……メモリアレイ、SA0L〜SA3R……
センスアンプ、CS0L〜CS3R……カラムスイッ
チ。TG ... Timing generator, CE ... CE timing generator, WE ... WE timing generator, WC
...... Word line clear circuit, OE ... OE system timing generation circuit, TMR ... Refresh timer circuit, SRC
...... Refresh timer counter circuit, SCNTR ...
... refresh timer counter unit circuit, PC ... precharge control circuit, XAB ... X address buffer,
PXD ... X predecoder, RFC ... Refresh counter, CNTR ... Refresh counter unit circuit,
XR0 to XR3 ... X system redundant circuit, φXG ... Word line drive signal generation circuit, PWD ... Word line selection drive signal generation circuit, PRWD ... Redundant word line selection drive signal generation circuit, SP, SN ... Sense amplifier Drive circuit, YAB ...
Y address buffer, PYD ... Y predecoder, YR
AC0 to YRAC7 ... Y system redundancy circuit, MALL to MA
RR ... Main amplifier, ASL ... Array selection circuit, D
IB ... data input buffer, DILL to DIRR ...
Writing circuit, WS ... Writing selection circuit, DOB ...
Data output buffer, OSL ... Output selection circuit, HV
C, VBB, VL ... Voltage generation circuit, ICT, FCK ...
... Signal generation circuit, EHG ... High voltage detection circuit, SG ...
Signature circuit, XD0L to XD3R ... X decoder, YD0 to YD3 ... Y decoder, MARY0L to M
ARY3R ... Memory array, SA0L to SA3R ...
Sense amplifier, CS0L to CS3R ... Column switch.
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11C 11/34 371J (72)発明者 新保 豊 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 佐藤 克之 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 尾方 真弘 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 検見崎 兼秀 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 久保埜 昌次 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 加藤 信夫 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 間仁田 喜一 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 金光 道太郎 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technology display location G11C 11/34 371J (72) Inventor Yutaka Shinbo 2326 Imai, Ome-shi, Tokyo Hitachi Device Development Center ( 72) Inventor Katsuyuki Sato 2326 Imai, Ome-shi, Tokyo Inside Hitachi, Ltd. Device Development Center (72) Inventor Masahiro Ogata 5-20-1 Joumizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Kanehide Kanezaki 5-20-1 Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Hirate Super LSI Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masatsugu Kubo, Kodaira, Tokyo 5-20-1 Jitsumizu Honcho, Ichi, Japan, within Hitate Super LSI Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Nobuo Kato 5-20-1, Kamimizuhoncho, Kodaira, Tokyo Metropolitan Government I engineering stock In-house (72) Inventor Kiichi Manita 5-20-1 Kamimizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo Within Hitate Cho-LS Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Michitaro Kanemitsu 5-chome, Mizumizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo No. 20-1 Hitate Super LSI Engineering Co., Ltd.
Claims (41)
端子からのディスチャージ電流の引き抜きを制御する第
1MOSFETと、 上記第1MOSFETに対してカレントミラー形態に結
合された第2MOSFETと、 上記第2MOSFETの電流経路と直列形態に接続さ
れ、第1電源電圧と第2電源電圧との間に結合され、か
つ上記チャージ電流又はディスチャージ電流の値を実質
的に設定する抵抗と、 上記内部端子に結合された入力端子を有する第1論理イ
ンバータと、 上記外部出力端子と上記第1論理インバータの出力端子
との間に直列形態に結合された遅延回路及び第2論理イ
ンバータとを含むフィードバック回路とを有する発振回
路であって、 上記発振回路は、半導体基板上に形成され、 上記抵抗は、上記半導体基板上に形成された絶縁層上に
形成されたポリシリコン層を含み、 上記絶縁層は、実質的に上記半導体基板内に形成された
第1ウェル領域及び第2ウェル領域上に形成され、 上記第1ウェル領域及び第2ウェル領域は、所定の距離
だけ離間して形成され、 上記ポリシリコン層は、平面的に上記第1ウェル領域及
び第2ウェル領域に実質的に重なるように配置されるこ
とを特徴とする発振回路。1. An internal terminal, an external output terminal, a first MOSFET for controlling injection of a charge current to the internal terminal and extraction of a discharge current from the internal terminal, and a current mirror configuration for the first MOSFET. And a second MOSFET connected in series with the current path of the second MOSFET, coupled between the first power supply voltage and the second power supply voltage, and substantially setting the value of the charge current or the discharge current. A resistor, a first logic inverter having an input terminal coupled to the internal terminal, a delay circuit and a second logic inverter coupled in series between the external output terminal and the output terminal of the first logic inverter. And a feedback circuit that includes a feedback circuit including: The resistor includes a polysilicon layer formed on an insulating layer formed on the semiconductor substrate, and the insulating layer substantially includes a first well region and a second well region formed in the semiconductor substrate. The first well region and the second well region are formed apart from each other by a predetermined distance, and the polysilicon layer is formed on the first well region and the second well region in plan view. An oscillating circuit characterized by being arranged so as to overlap each other.
に大きく、 上記第1ウェル領域には、上記第1電源電圧が給電さ
れ、 上記第2ウェル領域には、上記第2電源電圧が給電され
ることを特徴とする発振回路。2. The first power supply voltage according to claim 1, the absolute value of which is higher than the second power supply voltage, and the first power supply voltage is supplied to the first well region. The second well region is supplied with the second power supply voltage.
あることを特徴とする発振回路。3. The oscillator circuit according to claim 2, wherein the semiconductor substrate is of P conductivity type, and the first well region and the second well region are of N conductivity type.
1論理インバータの出力端子との間に結合されたソース
−ドレイン経路を有する第3MOSFETと、上記第1
論理インバータの出力端子と上記第2電源電圧との間に
結合されたソース−ドレイン経路を有する第4MOSF
ETとを含み、 上記第2論理インバータは、上記第1電源電圧と上記外
部出力端子との間に結合されたソース−ドレイン経路を
有する第5MOSFETと、上記外部出力端子と上記第
2電源電圧との間に結合されたソース−ドレイン経路を
有する第6MOSFETとを含むことを特徴とする発振
回路。4. The third MOSFET according to claim 1, wherein the first logic inverter has a source-drain path coupled between the first power supply voltage and an output terminal of the first logic inverter. And the first
A fourth MOSF having a source-drain path coupled between the output terminal of the logic inverter and the second power supply voltage.
ET, the second logic inverter includes a fifth MOSFET having a source-drain path coupled between the first power supply voltage and the external output terminal, the external output terminal and the second power supply voltage. An oscillating circuit comprising a sixth MOSFET having a source-drain path coupled between.
チャンネル型のMOSFETであり、 上記第4MOSFET及び上記第6MOSFETは、N
チャンネル型のMOSFETであることを特徴とする発
振回路。5. The device according to claim 4, wherein the third MOSFET and the fifth MOSFET are P
The MOSFET is a channel type MOSFET, and the fourth MOSFET and the sixth MOSFET are N-type.
An oscillation circuit characterized by being a channel type MOSFET.
電圧との間に結合されたソース−ドレイン経路を有し、 上記発振回路は、上記第1電源電圧と上記内部端子との
間に結合されたソースドレイン経路と、上記外部出力端
子に結合されたゲートとを有する第3MOSFETを更
に有することを特徴とする発振回路。6. The first MOSFET according to claim 1, wherein the first MOSFET has a source-drain path coupled between the internal terminal and the second power supply voltage, and the oscillation circuit has the first and second drain paths. An oscillator circuit further comprising a third MOSFET having a source / drain path coupled between one power supply voltage and the internal terminal, and a gate coupled to the external output terminal.
イン経路と上記内部端子との間に結合されたソース−ド
レイン経路を有する第4MOSFETを更に含み、 上記カレントミラー形態は、制御電流経路と非制御電流
経路とを有するカレントミラー配置であり、 上記制御電流経路は、上記抵抗及び上記第2MOSFE
Tを含み、 上記被制御電流経路は、上記第1MOSFET、第3M
OSFET及び第4MOSFETを含むことを特徴とす
る発振回路。7. The oscillation circuit according to claim 6, further comprising a fourth MOSFET having a source-drain path coupled between the source-drain path of the third MOSFET and the internal terminal, The current mirror configuration is a current mirror arrangement having a controlled current path and a non-controlled current path, wherein the controlled current path is the resistor and the second MOSFE.
And the controlled current path includes the first MOSFET and the third M
An oscillator circuit including an OSFET and a fourth MOSFET.
のゲートに結合され、 上記第2MOSFETのゲートは、上記第2MOSFE
Tのドレイン及び上記抵抗の一端に結合され、 上記第2MOSFETのソースは、上記第2電源電圧に
結合されることを特徴とする発振回路。8. The gate according to claim 7, wherein the gate of the second MOSFET is the first MOSFET.
The gate of the second MOSFET is coupled to the gate of the second MOSFET.
An oscillator circuit, characterized in that it is coupled to the drain of T and one end of the resistor, and the source of the second MOSFET is coupled to the second power supply voltage.
結合されたソース−ドレイン経路を有する第5MOSF
ETを更に含み、 上記制御電流経路は、上記第5MOSFETを更に含
み、 上記第1論理インバータは、上記第1電源電圧と上記第
1論理インバータの出力端子との間に結合されたソース
−ドレイン経路を有する第6MOSFETと、上記第1
論理インバータの出力端子と上記第2電源電圧との間に
結合されたソース−ドレイン経路と上記内部端子に結合
されたゲートとを有する第7MOSFETとを含み、 上記第2論理インバータは、上記第1電源電圧と上記外
部出力端子との間に結合されたソース−ドレイン経路と
上記遅延回路の出力端子に結合されたゲートとを有する
第8MOSFETと、上記外部出力端子と上記第2電源
電圧との間に結合されたソース−ドレイン経路と上記遅
延回路の出力端子に結合されたゲートとを有する第9M
OSFETとを含み、 上記第5MOSFETのゲートは、上記第6MOSFE
Tのゲートと結合され、 上記第4MOSFETのゲートは、上記第4MOSFE
Tのドレインと結合されることを特徴とする発振回路。9. The fifth MOSF according to claim 8, wherein the oscillation circuit has a source-drain path coupled between the first power supply voltage and the resistor.
ET, the control current path further includes the fifth MOSFET, the first logic inverter is a source-drain path coupled between the first power supply voltage and an output terminal of the first logic inverter. A sixth MOSFET having:
A seventh MOSFET having a source-drain path coupled between the output terminal of the logic inverter and the second power supply voltage, and a gate coupled to the internal terminal, wherein the second logic inverter comprises the first Between an eighth MOSFET having a source-drain path coupled between a power supply voltage and the external output terminal and a gate coupled to the output terminal of the delay circuit, and between the external output terminal and the second power supply voltage Nth M having a source-drain path coupled to the gate and a gate coupled to the output terminal of the delay circuit
OSFET, and the gate of the fifth MOSFET is the sixth MOSFET.
The gate of the fourth MOSFET is coupled to the gate of the T.
An oscillator circuit characterized in that it is coupled to the drain of T.
7MOSFET及び上記第9MOSFETは、第1導電
型のMOSFETであり、 上記第3MOSFET、上記第4MOSFET、上記第
5MOSFET、上記第6MOSFET及び上記第8M
OSFETは、第2導電型のMOSFETであることを
特徴とする発振回路。10. The claim, wherein the first MOSFET, the second MOSFET, the seventh MOSFET, and the ninth MOSFET are first conductivity type MOSFETs, the third MOSFET, the fourth MOSFET, and the third MOSFET. 5 MOSFET, the 6th MOSFET, and the 8Mth
The OSFET is an oscillating circuit characterized by being a MOSFET of the second conductivity type.
FETであり、 上記第2導電型のMOSFETは、PチャンネルMOS
FETであることを特徴とする発振回路。11. The MOSFET according to claim 10, wherein the first conductivity type MOSFET is an N-channel MOS.
The second conductivity type MOSFET is a P-channel MOS
An oscillation circuit characterized by being a FET.
大きく、 上記第1ウェル領域には、上記第1電源電圧が給電さ
れ、 上記第2ウェル領域には、上記第2電源電圧が給電され
ることを特徴とする発振回路。12. The first power supply voltage according to claim 11, which is larger in absolute value than the second power supply voltage, and the first power supply voltage is supplied to the first well region. An oscillation circuit, wherein the second power supply voltage is supplied to the second well region.
あることを特徴とする発振回路。13. The oscillator circuit according to claim 12, wherein the semiconductor substrate is of P conductivity type, and the first well region and the second well region are of N conductivity type.
経路と上記第5MOSFETのソース−ドレイン経路と
の間に結合されることを特徴とする発振回路。14. The oscillator circuit according to claim 13, wherein the resistor is coupled between a source-drain path of the second MOSFET and a source-drain path of the fifth MOSFET.
ル、及び上記複数のダイナミック型メモリセルのリフレ
ッシュ動作のリフレッシュ周期を決定するリフレッシュ
タイマー回路が更に形成され、 上記リフレッシュタイマー回路は、上記発振回路を含
み、 上記発振回路は、リングオシレータであることを特徴と
する発振回路。15. The semiconductor substrate according to claim 14, further comprising: a plurality of dynamic memory cells, and a refresh timer circuit that determines a refresh cycle of a refresh operation of the plurality of dynamic memory cells. An oscillation circuit, wherein the refresh timer circuit is formed, the refresh timer circuit includes the oscillation circuit, and the oscillation circuit is a ring oscillator.
ル、及び上記複数のダイナミック型メモリセルのリフレ
ッシュ動作の周期を決定するリフレッシュタイマー回路
が更に形成され、 上記リフレッシュタイマー回路は、上記発振回路を含
み、 上記発振回路は、リングオシレータであることを特徴と
する発振回路。16. The semiconductor substrate according to claim 1, further comprising: a plurality of dynamic memory cells, and a refresh timer circuit that determines a refresh operation cycle of the plurality of dynamic memory cells. The refresh timer circuit includes the oscillator circuit, and the oscillator circuit is a ring oscillator.
て、 上記第1電源電圧は、正の所定の電位であり、 上記第2電源電圧は、接地電位であることを特徴とする
発振回路。17. The oscillator circuit according to claim 16, wherein the first power supply voltage is a predetermined positive potential, and the second power supply voltage is a ground potential.
第1NチャンネルMOSFETと、 上記第1NチャンネルMOSFETのゲートに結合され
たゲートと、上記第1電源電圧を受けるように結合され
たソースとを有する第2NチャンネルMOSFETと、 上記第1NチャンネルMOSFETのゲートに結合され
たゲートと、上記第1電源電圧を受けるように結合され
たソースとを有する第3NチャンネルMOSFETと、 上記外部出力端子に結合されたゲートと、上記第1Nチ
ャンネルMOSFETの上記ドレインに結合されたドレ
インと、第2電源電圧を受けるように結合されたソース
とを有する第1PチャンネルMOSFETと、 上記第2電源電圧を受けるように結合されたソースを有
する第2PチャンネルMOSFETと、 上記第2PチャンネルMOSFETのゲートに結合され
たゲートと、上記第2電源電圧を受けるように結合され
たソースと、上記第3NチャンネルMOSFETのドレ
インに結合されたドレインとを有する第3Pチャンネル
MOSFETと、 一端が上記第2PチャンネルMOSFETのドレインに
結合され、他端が上記第2NチャンネルMOSFETの
ドレインに結合された電流経路を有する抵抗と、 上記第3NチャンネルMOSFETの上記ドレインに結
合された入力端子を有する遅延回路と、 上記遅延回路の出力端子に結合された入力端子と、上記
外部出力端子に結合された出力端子とを有するインバー
タ回路とを有する発振回路であって、 上記第2NチャンネルMOSFETの上記ドレインと上
記第2NチャンネルMOSFETの上記ゲートとは結合
され、 上記第2PチャンネルMOSFETの上記ドレインと上
記第2NチャンネルMOSFETの上記ゲートとは結合
され、 上記発振回路は半導体基板上に形成され、 上記抵抗は、上記半導体基板上に形成された絶縁層上に
形成されたポリシリコン層を含み、 上記絶縁層は、実質的に上記半導体基板内に形成された
第1ウェル領域及び第2ウェル領域上に形成され、 上記第1ウェル領域及び上記第2ウェル領域は、所定の
距離だけ離間して形成され、 上記ポリシリコン層は、平面的に上記第1ウェル領域及
び上記第2ウェル領域に実質的に重なるように配置され
ることを特徴とする発振回路。18. An external output terminal, a first N-channel MOSFET having a source coupled to receive a first power supply voltage, a gate coupled to the gate of the first N-channel MOSFET, and the first power supply voltage. A third N-channel MOSFET having a second N-channel MOSFET having a source coupled to receive, a gate coupled to the gate of the first N-channel MOSFET, and a source coupled to receive the first power supply voltage. A first P-channel MOSFET having a gate coupled to the external output terminal, a drain coupled to the drain of the first N-channel MOSFET, and a source coupled to receive a second power supply voltage; A second having a source coupled to receive a second power supply voltage A third P having a channel MOSFET, a gate coupled to the gate of the second P-channel MOSFET, a source coupled to receive the second power supply voltage, and a drain coupled to the drain of the third N-channel MOSFET. A channel MOSFET, a resistor having a current path having one end coupled to the drain of the second P-channel MOSFET and the other end coupled to the drain of the second N-channel MOSFET, and coupled to the drain of the third N-channel MOSFET. An oscillation circuit comprising: a delay circuit having an input terminal; an inverter circuit having an input terminal coupled to an output terminal of the delay circuit; and an output terminal coupled to the external output terminal, the second N-channel The drain of the MOSFET and the second The gate of the N-channel MOSFET is coupled, the drain of the second P-channel MOSFET and the gate of the second N-channel MOSFET are coupled, the oscillation circuit is formed on a semiconductor substrate, and the resistor is the semiconductor. A polysilicon layer formed on an insulating layer formed on the substrate, wherein the insulating layer is formed substantially on the first well region and the second well region formed in the semiconductor substrate; The first well region and the second well region are formed apart from each other by a predetermined distance, and the polysilicon layer is arranged so as to substantially overlap the first well region and the second well region in plan view. An oscillating circuit characterized in that
絶対値的に大きく、 上記第1ウェル領域には、上記第1電源電圧が給電さ
れ、 上記第2ウェル領域には、上記第2電源電圧が給電され
ることを特徴とする発振回路。19. The value of the first power supply voltage is larger in absolute value than the value of the second power supply voltage according to claim 18, and the first power supply is provided in the first well region. A voltage is supplied to the second well region, and the second power supply voltage is supplied to the second well region.
型であることを特徴とする発振回路。20. The oscillator circuit according to claim 19, wherein the semiconductor substrate is of P conductivity type, and the first well region and the second well region are of N conductivity type. .
ル、及び上記複数のダイナミック型メモリセルのリフレ
ッシュ動作のリフレッシュ周期を決定するリフレッシュ
タイマー回路が更に形成され、 上記リフレッシュタイマー回路は、上記発振回路を含
み、 上記発振回路は、リングオシレータであることを特徴と
する発振回路。21. The semiconductor substrate according to claim 20, further comprising a plurality of dynamic memory cells, and a refresh timer circuit for determining a refresh cycle of a refresh operation of the plurality of dynamic memory cells. An oscillation circuit, wherein the refresh timer circuit is formed, the refresh timer circuit includes the oscillation circuit, and the oscillation circuit is a ring oscillator.
発振回路。22. The oscillator circuit according to claim 21, wherein the first power supply voltage is a predetermined positive potential, and the second power supply voltage is a ground potential.
ータ回路を含むことを特徴とする発振回路。23. The oscillator circuit according to claim 18, wherein the delay circuit includes an even number of inverter circuits coupled in series.
ルMOSFET及びNチャンネルMOSFETを含むこ
とを特徴とする発振回路。24. The oscillator circuit according to claim 23, wherein the logic inverter included in the delay circuit includes a P-channel MOSFET and an N-channel MOSFET.
ドレインに結合されたソースと、上記第1Nチャンネル
MOSFETの上記ドレインに結合されたドレインと、
ゲートとを有する第4PチャンネルMOSFETを更に
含み、 上記第4PチャンネルMOSFETの上記ゲートは、上
記第4PチャンネルMOSFETの上記ドレインに結合
されることを特徴とする発振回路。25. The oscillation circuit according to claim 18, wherein the source is connected to the drain of the first P-channel MOSFET, and the drain is connected to the drain of the first N-channel MOSFET.
An oscillator circuit further comprising a fourth P-channel MOSFET having a gate, wherein the gate of the fourth P-channel MOSFET is coupled to the drain of the fourth P-channel MOSFET.
る半導体記憶装置であって、 上記装置が第1セルフリフレッシュモードである時、上
記制御回路は上記複数のメモリセルに対し、第1リフレ
ッシュ周期毎にリフレッシュ動作を実行し、 上記装置が第2セルフリフレッシュモードである時、上
記制御回路は上記複数のメモリセルに対し、上記第1リ
フレッシュ周期よりも長い周期とされる第2リフレッシ
ュ周期毎にリフレッシュ動作を実行することを特徴とす
る半導体記憶装置。26. A semiconductor memory device having a plurality of memory cells and a control circuit, wherein when the device is in a first self-refresh mode, the control circuit performs a first refresh cycle on the plurality of memory cells. A refresh operation is performed every time, and when the device is in the second self-refresh mode, the control circuit causes the plurality of memory cells to perform a second refresh cycle that is longer than the first refresh cycle. A semiconductor memory device characterized by executing a refresh operation.
含み、 上記複数のメモリセルの各々は、対応するワード線と対
応するデータ線とに結合され、 上記制御回路は、上記第1リフレッシュ周期を決定する
第1タイミング信号と上記第2リフレッシュ周期を決定
する第2タイミングのうちの少なくとも一方のタイミン
グ信号を形成するタイミング信号形成手段と、リフレッ
シュすべきメモリセルが結合されたワード線を選択する
リフレッシュアドレス信号を形成するリフレッシュアド
レス信号形成手段とを含み、 上記リフレッシュアドレス信号形成手段は、上記装置が
上記第1セルフリフレッシュモードである時、上記第1
タイミング信号に応答して上記リフレッシュアドレス信
号を形成し、 上記リフレッシュアドレス信号形成手段は、上記装置が
上記第2セルフリフレッシュモードである時、上記第2
タイミング信号に応答して上記リフレッシュアドレス信
号を形成することを特徴とする半導体記憶装置。27. The device according to claim 26, wherein the device further includes a plurality of word lines and a plurality of data lines, each of the plurality of memory cells corresponding to a corresponding word line. And a timing signal forming means for forming at least one of a first timing signal that determines the first refresh cycle and a second timing signal that determines the second refresh cycle. A refresh address signal forming means for forming a refresh address signal for selecting a word line to which a memory cell to be refreshed is connected, the refresh address signal forming means for generating a refresh address signal when the device is in the first self refresh mode. , Above first
The refresh address signal forming means forms the refresh address signal in response to a timing signal, and the refresh address signal forming means generates the refresh address signal when the device is in the second self refresh mode.
A semiconductor memory device, wherein the refresh address signal is formed in response to a timing signal.
3タイミング信号を形成する手段と、上記第3タイミン
グ信号に基づいて第2周波数を有する上記第1タイミン
グ信号を形成する手段と、上記第3タイミング信号に基
づいて第3周波数を有する上記第2タイミング信号を形
成する手段とを含み、 上記第3周波数は、上記第2周波数よりも小さいことを
特徴とする半導体記憶装置。28. The timing signal forming means according to claim 27, wherein the timing signal forming means forms a third timing signal having a first frequency, and the second frequency has a second frequency based on the third timing signal. Means for forming a first timing signal and means for forming the second timing signal having a third frequency based on the third timing signal, wherein the third frequency is lower than the second frequency A semiconductor memory device characterized by:
ッシュアドレス信号を形成するカウンタ回路を含むこと
を特徴とする半導体記憶装置。29. The semiconductor memory device according to claim 28, wherein the refresh address signal forming means includes a counter circuit which forms the refresh address signal.
に直列形態に接続された複数の単位カウンタを含むこと
を特徴とする半導体記憶装置。30. The semiconductor memory device according to claim 29, wherein the counter circuit includes a plurality of unit counters connected in series so as to form a binary counter.
された外部アドレス信号に基づいて上記複数のワード線
のうちの少なくとも一つが選択されることを特徴とする
半導体記憶装置。31. At least one of the plurality of word lines according to claim 30, wherein when the device is in a normal operation mode, at least one of the plurality of word lines is selected based on an external address signal input from the outside of the device. A semiconductor memory device characterized by the above.
動作モードとを含み、 上記装置が上記読み出し動作モードである時、メモリセ
ルに保持されたデータは、上記外部アドレス信号に基づ
いて読み出され、 上記装置が上記書き込み動作モードである時、上記外部
アドレス信号に基づいてメモリセルにデータが書き込ま
れることを特徴とする半導体記憶装置。32. The normal operation mode according to claim 31, wherein the normal operation mode includes a read operation mode and a write operation mode, and when the device is in the read operation mode, the data held in the memory cell is A semiconductor memory device is characterized in that data is read based on the external address signal and data is written into a memory cell based on the external address signal when the device is in the write operation mode.
置の外部から入力された制御信号に応答して、上記複数
のメモリセルの各々に対して一度だけリフレッシュ動作
が実行されることを特徴とする半導体記憶装置。33. The device according to claim 32, wherein when the device is in an auto-refresh mode, once for each of the plurality of memory cells in response to a control signal input from the outside of the device. A semiconductor memory device characterized in that a refresh operation is executed only.
レス選択MOSFETとを含むダイナミック型メモリセ
ルであることを特徴とする半導体記憶装置。34. The semiconductor memory device according to claim 33, wherein each of the plurality of memory cells is a dynamic memory cell including an information storage capacitor and an address selection MOSFET.
よりも大きいことを特徴とする半導体記憶装置。35. The semiconductor memory device according to claim 28, wherein the first frequency is higher than the second frequency and the third frequency.
ることを特徴とする半導体記憶装置。36. The semiconductor memory device according to claim 35, wherein the third frequency is half the frequency of the second frequency.
と、 上記第2周波数と異なる第3周波数を有する第2タイミ
ング信号を形成する手段と、 リフレッシュされるべきメモリセルが結合されたワード
線を選択するリフレッシュアドレス信号を形成するリフ
レッシュアドレス信号形成手段とを含む半導体記憶装置
であって、 上記複数のメモリセルの各々は、対応するワード線と対
応するデータ線に結合され、 上記装置が第1セルフリフレッシュモードの時、上記リ
フレッシュアドレス信号形成手段は、上記第1タイミン
グ信号に応答して上記リフレッシュアドレス信号を形成
し、 上記装置が第2セルフリフレッシュモードの時、上記リ
フレッシュアドレス信号形成手段は、上記第2タイミン
グ信号に応答して上記リフレッシュアドレス信号を形成
することを特徴とする半導体記憶装置。37. A plurality of word lines, a plurality of data lines, a plurality of memory cells, a means for forming a first timing signal having a second frequency, and a third frequency having a third frequency different from the second frequency. 2. A semiconductor memory device comprising: means for forming a timing signal; and refresh address signal forming means for forming a refresh address signal for selecting a word line to which a memory cell to be refreshed is connected. Is coupled to a corresponding word line and a corresponding data line, and when the device is in the first self-refresh mode, the refresh address signal forming means outputs the refresh address signal in response to the first timing signal. When the device is in the second self-refresh mode, the refresh address signal is generated. Forming means, a semiconductor memory device characterized by forming the refresh address signal in response to said second timing signal.
形成する手段を更に含み、 上記第1タイミング信号及び上記第2タイミング信号
は、上記第3タイミング信号に基づいて形成され、 上記第3周波数は、上記第2周波数よりも小さいことを
特徴とする半導体記憶装置。38. The apparatus of claim 37, wherein the device further comprises means for forming a third timing signal having a first frequency, the first timing signal and the second timing signal being the first timing signal. A semiconductor memory device, which is formed based on three timing signals, wherein the third frequency is lower than the second frequency.
と、 複数のデータ線と、 複数のメモリセルと、 リフレッシュされるべきメモリセルが結合されたワード
線を選択するリフレッシュアドレス信号を形成するリフ
レッシュアドレス信号形成手段とを含む半導体記憶装置
であって、 上記複数のメモリセルの各々は、対応するワード線と対
応するデータ線に結合され、 上記装置が第1セルフリフレッシュモードの時、上記リ
フレッシュアドレス信号形成手段は、第1周期毎に上記
第1ワード線に結合されたメモリセルに対しリフレッシ
ュ動作を実行し、 上記装置が第2セルフリフレッシュモードの時、上記リ
フレッシュアドレス信号形成手段は、上記第1周期と異
なる第2周期毎に上記第1ワード線に結合されたメモリ
セルに対してリフレッシュ動作を実行することを特徴と
する半導体記憶装置。39. A plurality of word lines including a first word line, a plurality of data lines, a plurality of memory cells, and a refresh address signal for selecting a word line to which a memory cell to be refreshed is coupled is formed. A semiconductor memory device including a refresh address signal forming means, wherein each of the plurality of memory cells is coupled to a corresponding word line and a corresponding data line, and the refresh operation is performed when the device is in a first self-refresh mode. The address signal forming means performs a refresh operation on the memory cells coupled to the first word line every first cycle, and when the device is in the second self-refresh mode, the refresh address signal forming means is The refresh operation is performed on the memory cells coupled to the first word line every second period different from the first period. A semiconductor memory device characterized by executing a read operation.
号と上記第2周期を決定する第2タイミング信号のうち
の少なくとも一方のタイミング信号を形成するタイミン
グ信号形成手段を更に含み、 上記リフレッシュアドレス信号形成手段は、上記装置が
上記第1セルフリフレッシュモードである時、上記第1
タイミング信号に応答して上記リフレッシュアドレス信
号を形成し、 上記リフレッシュアドレス信号形成手段は、上記装置が
上記第2セルフリフレッシュモードである時、上記第2
タイミング信号に応答して上記リフレッシュアドレス信
号を形成することを特徴とする半導体記憶装置。40. The device according to claim 39, wherein the device provides at least one of a first timing signal that determines the first period and a second timing signal that determines the second period. Timing signal forming means for forming the refresh address signal forming means, wherein the refresh address signal forming means forms the first signal when the device is in the first self-refresh mode.
The refresh address signal forming means forms the refresh address signal in response to a timing signal, and the refresh address signal forming means generates the refresh address signal when the device is in the second self refresh mode.
A semiconductor memory device, wherein the refresh address signal is formed in response to a timing signal.
て、 上記タイミング信号形成手段は、第1周波数を有する第
3タイミング信号を形成する手段と、上記第3タイミン
グ信号に基づいて第2周波数を有する上記第1タイミン
グ信号を形成する手段と、上記第3タイミング信号に基
づいて第3周波数を有する上記第2タイミング信号を形
成する手段とを含み、 上記第3周波数は、上記第2周波数よりも小さいことを
特徴とする半導体記憶装置。41. In the claim 40, the timing signal forming means has a means for forming a third timing signal having a first frequency, and a second frequency based on the third timing signal. Including means for forming the first timing signal and means for forming the second timing signal having a third frequency based on the third timing signal, the third frequency being less than the second frequency A semiconductor memory device characterized by the above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8089912A JPH08279733A (en) | 1996-03-21 | 1996-03-21 | Oscillator circuit and semiconductor memory device |
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---|---|---|---|
JP1065842A Division JP2928263B2 (en) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | Semiconductor device |
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Cited By (4)
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- 1996-03-21 JP JP8089912A patent/JPH08279733A/en active Pending
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