JPH0827906B2 - Gap structure of magnetic head and method of forming gap of magnetic head - Google Patents
Gap structure of magnetic head and method of forming gap of magnetic headInfo
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- JPH0827906B2 JPH0827906B2 JP62309267A JP30926787A JPH0827906B2 JP H0827906 B2 JPH0827906 B2 JP H0827906B2 JP 62309267 A JP62309267 A JP 62309267A JP 30926787 A JP30926787 A JP 30926787A JP H0827906 B2 JPH0827906 B2 JP H0827906B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気ヘッドのギャップ構造および磁気ヘッド
のギャップの形成方法に関する。The present invention relates to a gap structure of a magnetic head and a method for forming a gap of the magnetic head.
[従来の技術] 従来の磁気ヘッドのギャップは、例えば第2図に示す
ように、磁性材料でできた磁気コア1Aのギャップ形成面
2AにスペーサとしてSiO2薄膜3をスパッタリングし、そ
の面を相手側の磁気コア1Bのギャップ形成面2Bと付き合
わせた構造をなしている。この場合、スパッタリングす
るギャップ形成面2Aの表面粗さは、Rmax=0.06μ程度の
平滑面に形成されている。また、SiO2薄膜の代わりに非
磁性金属薄膜を形成したものもある。[Prior Art] The gap of a conventional magnetic head is, for example, as shown in FIG. 2, a gap forming surface of a magnetic core 1A made of a magnetic material.
A SiO 2 thin film 3 is sputtered on 2A as a spacer, and its surface is joined to the gap forming surface 2B of the magnetic core 1B on the other side. In this case, the surface roughness of the gap forming surface 2A to be sputtered is formed as a smooth surface with Rmax = 0.06μ. There is also a non-magnetic metal thin film formed in place of the SiO 2 thin film.
[発明が解決しようとする問題点] ところで、上記のように割合平滑なギャップ形成面2A
に非磁性薄膜をスパッタ形成したものについては、特に
薄膜を金属で構成し基板温度を上げられない場合付着力
が弱いという問題がある。また、スパッタリングした薄
膜の厚さそのものがギャップ幅を決定するため、ギヤッ
プ幅を大きくとるには膜厚を大きくとらなければなら
ず、そのため薄膜形成に時間がかかるという問題があ
る。[Problems to be Solved by the Invention] By the way, as described above, the gap forming surface 2A is relatively smooth.
In the case where the non-magnetic thin film is formed by sputtering, there is a problem that the adhesion is weak especially when the thin film is made of metal and the substrate temperature cannot be raised. Further, since the thickness of the sputtered thin film itself determines the gap width, it is necessary to increase the film thickness in order to increase the gap width, which causes a problem that it takes time to form the thin film.
本発明は、薄膜を金属で構成した場合にも基板温度を
上げずに良好な付着性を得ることができ、しかも成膜時
間を短くすることができる磁気ヘッドのギャップ構造お
よび磁気ヘッドのギャップの形成方法を提供することを
目的とする。According to the present invention, even when the thin film is made of a metal, good adhesion can be obtained without raising the substrate temperature, and the film formation time can be shortened. An object is to provide a forming method.
[問題点を解決するための手段] 本発明は、上記問題点を解決するために提供されたも
ので、本発明の磁気ヘッドのギャップ構造では、一対の
磁気コアの各ギャップ形成面に微小凹凸が形成され、該
ギャップ形成面にスペーサとして非磁性薄膜が形成され
てなるものであって、前記微小凹凸が形成されたギャッ
プ形成面の表面粗さが0.1〜0.2μmであり、非磁性薄膜
のギャップ形成面接合部が磁気コアのギャップ形成面の
微小凹凸に合致する凹凸状にされてなることを特徴とし
ている。また、本発明の磁気ヘッドのギャップの形成方
法では、一対の磁気コアの各ギャップ形成面に微小凹凸
を形成して表面粗さが0.1〜0.2μmのギャップ形成面を
得る工程と、該ギャップ形成面にスパッタリングによ
り、ギャップ形成面の微小凹凸に合致する凹凸を有する
非磁性薄膜を形成する工程とを具備することを特徴とし
ている。[Means for Solving the Problems] The present invention is provided to solve the above problems. In the gap structure of the magnetic head of the present invention, minute unevenness is formed on each gap forming surface of the pair of magnetic cores. And a nonmagnetic thin film is formed on the gap forming surface as a spacer, and the surface roughness of the gap forming surface on which the fine irregularities are formed is 0.1 to 0.2 μm. It is characterized in that the gap forming surface joint portion is formed in an uneven shape that matches the minute unevenness of the gap forming surface of the magnetic core. Further, in the method of forming a gap of a magnetic head of the present invention, a step of forming minute unevenness on each gap forming surface of a pair of magnetic cores to obtain a gap forming surface having a surface roughness of 0.1 to 0.2 μm, and the gap forming And a step of forming a non-magnetic thin film having unevenness matching the minute unevenness of the gap forming surface by sputtering on the surface.
[作用] 本発明においては、スパッタした薄膜が凹凸状にな
り、実際にスパッタした膜厚より見掛け上の最大幅が大
きくなる。したがって、特性上のギャツプ幅が実際の膜
厚より大きくなる。[Operation] In the present invention, the sputtered thin film becomes uneven, and the apparent maximum width becomes larger than the actually sputtered film thickness. Therefore, the characteristic gap width becomes larger than the actual film thickness.
[実施例] 以下、本発明の一実施例を第1図を参照して説明す
る。[Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
第1図は実施例の磁気ヘッドの主要部を示し、Gはギ
ャップである。このギャップGは、パーマロイ材から成
るラミネート型の磁気コア11A、11Bの先端間に次のよう
に形成されたものである。FIG. 1 shows a main part of the magnetic head of the embodiment, and G is a gap. The gap G is formed between the tips of the laminated magnetic cores 11A and 11B made of permalloy material as follows.
すなわち、磁気コア11A、11Bのギャップ形成面12A、1
2Bに微小凹凸を形成し、一方のギャップ形成面12Aにス
パッタリングによりスペーサとして非磁性金属薄膜13を
形成し、その面を相手側の磁気コア11Bのギャップ形成
面12Bと突き合わせた構造をなしているのである。That is, the gap forming surfaces 12A, 1 of the magnetic cores 11A, 11B.
A minute unevenness is formed on 2B, a nonmagnetic metal thin film 13 is formed as a spacer on one gap forming surface 12A by sputtering, and the surface is made to abut the gap forming surface 12B of the counterpart magnetic core 11B. Of.
この場合、ギャップ形成面12A、12Bの表面粗さは、Rm
ax=0.1〜0.2μの範囲に設定されている。微小凹凸が形
成されたギャップ形成面の表面粗さを0.1〜0.2μmとす
るのは、ギャップ形成面の表面粗さが0.1μm以下であ
ると、ギャップ精度は高いものの、非磁性薄膜の付着力
が弱いだけでなく、成膜時間が非常にかかるという問題
があるからであり、一方、表面粗さが0.2μm以上であ
ると、非磁性薄膜の付着力が強く、成膜時間も短縮でき
るものの、ギャップ精度が低くなってしまい、歩留まり
が悪くなってしまうからである。これらギャップ形成面
12A12Bの加工については、磁気コア11A、11Bの研磨時に
粗い砥石を用いて行なう。また、スパッタリングのター
ゲットとしては、非磁性金属例えばTiが用いられてお
り、Arガス中でスパッタリングすることにより、ギヤッ
プ形成面12AにはTiの薄膜13が形成されている。In this case, the surface roughness of the gap forming surfaces 12A and 12B is Rm.
It is set within the range of ax = 0.1 to 0.2μ. The surface roughness of the gap forming surface on which the minute irregularities are formed is set to 0.1 to 0.2 μm when the surface roughness of the gap forming surface is 0.1 μm or less, the gap accuracy is high, but the adhesive force of the nonmagnetic thin film is high. Is not only weak, but it takes a long time to form the film. On the other hand, when the surface roughness is 0.2 μm or more, the non-magnetic thin film has a strong adhesive force and the film forming time can be shortened. This is because the gap accuracy becomes low and the yield becomes poor. These gap forming surfaces
The processing of 12A12B is performed by using a coarse grindstone when polishing the magnetic cores 11A and 11B. A non-magnetic metal such as Ti is used as a sputtering target, and a Ti thin film 13 is formed on the gearup forming surface 12A by sputtering in Ar gas.
上記の構造の磁気ヘッドのギャップGにおいては、ス
パッタリングしたギャップ形成面12Aに微小凹凸がある
ため、Tiのような非磁性金属薄膜の場合にも基板温度を
上げることなく、より良好な付着性を保持することがで
きる。また、スパツタした薄膜13が凹凸状になり、実際
にスパッタした膜厚より見掛け上の最大幅Hが大きくな
る。このため、特性上のギャップ幅が実際の膜厚より大
きくなり、実際の膜厚を小さくすることができる。そし
て、金属薄膜の利用と膜厚減少により成膜時間が短縮す
る。In the gap G of the magnetic head having the above structure, since the sputtered gap forming surface 12A has minute irregularities, even in the case of a nonmagnetic metal thin film such as Ti, better adhesion can be obtained without increasing the substrate temperature. Can be held. Further, the sputtered thin film 13 becomes uneven, and the apparent maximum width H becomes larger than the actually sputtered film thickness. Therefore, the characteristic gap width becomes larger than the actual film thickness, and the actual film thickness can be reduced. The use of the metal thin film and the reduction of the film thickness shorten the film forming time.
なお、上記実施例においては、薄膜13の材料としてTi
を用いたが、それ以外の非磁性金属を用いても勿論よ
い。In the above example, the material of the thin film 13 was Ti.
However, other non-magnetic metals may be used.
[発明の効果] 以上説明したように、本発明は、一対の磁気コアの各
ギャップ形成面に微小凹凸が形成されて、表面粗さが0.
1〜0.2μmとなったギャップ形成面に、非磁性薄膜を形
成したので、金属薄膜の場合にも良好な付着性を保持す
ることができる。また、スパッタした非磁性薄膜のギャ
ップ形成面接合部が磁気コアのギャップ形成面の微小凹
凸に合致する凹凸状になって実際の膜厚より見掛け上の
最大幅が大きくなるため、特性上のギャップ幅が実際の
膜厚より大きくなり、それによって同じギャップ幅を確
保する場合、実際の膜厚を小さくすることができる。し
たがって、膜厚減少分だけ成膜時間の短縮が図れる。ま
た、薄膜材料として金属を用いた場合には、成膜速度が
速いため一層の成膜時間短縮を果たすことができる。[Advantages of the Invention] As described above, according to the present invention, minute roughness is formed on each gap forming surface of a pair of magnetic cores, and the surface roughness is zero.
Since the non-magnetic thin film is formed on the gap forming surface having a thickness of 1 to 0.2 μm, good adhesion can be maintained even in the case of a metal thin film. In addition, since the sputtered non-magnetic thin film gap forming surface joint becomes uneven to match the minute unevenness of the gap forming surface of the magnetic core, the apparent maximum width is larger than the actual film thickness, so the gap If the width becomes larger than the actual film thickness, thereby ensuring the same gap width, the actual film thickness can be made smaller. Therefore, the film formation time can be shortened by the film thickness reduction. Further, when a metal is used as the thin film material, the film forming speed is high, and therefore the film forming time can be further shortened.
第1図は本発明の一実施例の図、第2図は従来例の図で
ある。 11A,11B……磁気コア、12A,12B……ギャップ形成面、13
……非磁性薄膜、G……ギャップ。FIG. 1 is a diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram of a conventional example. 11A, 11B ... magnetic core, 12A, 12B ... gap forming surface, 13
…… Non-magnetic thin film, G …… Gap.
Claims (2)
凹凸が形成され、該ギャップ形成面にスペーサとして非
磁性薄膜が形成されてなるものであって、前記微小凹凸
が形成されたギャップ形成面の表面粗さが0.1〜0.2μm
であり、非磁性薄膜のギャップ形成面接合部が磁気コア
のギャップ形成面の微小凹凸に合致する凹凸状に形成さ
れてなることを特徴とする磁気ヘッドのギャップ構造。1. A pair of magnetic cores, on each of which a gap forming surface is formed with minute irregularities, and a nonmagnetic thin film is formed on the gap forming surface as a spacer, wherein the gap forming with the minute irregularities is formed. Surface roughness of 0.1-0.2μm
The gap structure of the magnetic head is characterized in that the gap forming surface joint portion of the non-magnetic thin film is formed in an uneven shape corresponding to the minute unevenness of the gap forming surface of the magnetic core.
凹凸を形成して表面粗さが0.1〜0.2μmのギャップ形成
面を得る工程と、該ギャップ形成面にスパッタリングに
より、ギャップ形成面の微小凹凸に合致する凹凸を有す
る非磁性薄膜を形成する工程とを具備することを特徴と
する磁気ヘッドのギャップの形成方法。2. A step of forming minute irregularities on each gap forming surface of a pair of magnetic cores to obtain a gap forming surface having a surface roughness of 0.1 to 0.2 μm, and sputtering the gap forming surface to form a gap forming surface. And a step of forming a non-magnetic thin film having irregularities that match the minute irregularities.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62309267A JPH0827906B2 (en) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | Gap structure of magnetic head and method of forming gap of magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62309267A JPH0827906B2 (en) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | Gap structure of magnetic head and method of forming gap of magnetic head |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01150209A JPH01150209A (en) | 1989-06-13 |
JPH0827906B2 true JPH0827906B2 (en) | 1996-03-21 |
Family
ID=17990937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP62309267A Expired - Lifetime JPH0827906B2 (en) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | Gap structure of magnetic head and method of forming gap of magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0827906B2 (en) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5339723A (en) * | 1976-09-24 | 1978-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Preparation of magnetic head |
-
1987
- 1987-12-07 JP JP62309267A patent/JPH0827906B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01150209A (en) | 1989-06-13 |
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