JPH08263995A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH08263995A
JPH08263995A JP7064000A JP6400095A JPH08263995A JP H08263995 A JPH08263995 A JP H08263995A JP 7064000 A JP7064000 A JP 7064000A JP 6400095 A JP6400095 A JP 6400095A JP H08263995 A JPH08263995 A JP H08263995A
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signal
input
circuit
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test mode
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Kyoji Yamazaki
恭治 山崎
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
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Abstract

PURPOSE: To shorten a test time and to enable performing more severe test by operating externally an internal signal of a DRAM in the case of testing writing margin of a memory cell and the like. CONSTITUTION: A writing control signal-W, strobe signals-RAS,-CAS of a row address and a column address are given to a-TE generator externally, and a test mode signal-TE is generated. The signal-TE is inputted to a data input buffer 8A, an internal writing control signal WDE is generated, writing data is taken from a terminal DQ1-4 , and the signal is written in a memory cell 4 through an I/O equalizing circuit 11 and an input/output control circuit 5. In a normal mode, a signal WDE having the prescribed pulse width is generated by a signal-WE, but in a test mode, a signal WDE having a short pulse width corresponding to an external signal-W is generated. Thereby, a test time can be shortened and a severe test can be performed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路におい
て、例えばDRAMにおける書き込みマージンの少ない
ものをリジェクトするためのテストを行う際に、該DR
AMの内部信号を外部から操作するための回路に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, for example, when performing a test for rejecting a DRAM having a small write margin, the DR
The present invention relates to a circuit for externally operating an internal signal of AM.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10は、従来のダイナミックランダム
アクセスメモリ(以下、DRAMと呼ぶ)の例における
信号の流れを示した概略のブロック図である。図10に
おいて、複数のアドレス入力端子A0〜A9から入力され
たアドレスを指定する信号はそれぞれアドレスバッファ
1に入力され、該アドレスバッファ1は、列デコーダ2
及び行デコーダ3に対して上記各アドレス入力端子A0
〜A9より入力されたA0〜A9信号からメモリセル4の
アドレスのワード線とビット線を示す信号を出力する。
2. Description of the Related Art FIG. 10 is a schematic block diagram showing a signal flow in an example of a conventional dynamic random access memory (hereinafter referred to as DRAM). In FIG. 10, signals designating addresses inputted from a plurality of address input terminals A0 to A9 are respectively inputted to the address buffer 1, and the address buffer 1 has the column decoder 2
And the address input terminals A0 to the row decoder 3
Signals indicating the word line and bit line of the address of the memory cell 4 are output from the A0 to A9 signals input from A9 to A9.

【0003】行デコーダ3は、メモリセル4のワード線
及びビット線を活性化させるタイミングを制御するため
の信号である内部クロック信号α(以下α信号と呼ぶ)
がクロック発生回路6から入力されるとアドレスバッフ
ァ1から入力された信号が示すワード線WLを活性化さ
せる。また、列デコーダ2は、クロック発生回路6から
上記α信号が入力されるとアドレスバッファ1から入力
された信号が示すビット線BLをセンスリフレッシュア
ンプ入出力制御回路5を介して活性化させる。なお、上
記列デコーダ2及び行デコーダ3は、上記α信号が
「H」のときにメモリセル4のビット線及びワード線を
活性化させるものである。
Row decoder 3 is an internal clock signal α (hereinafter referred to as α signal) which is a signal for controlling the timing of activating the word line and bit line of memory cell 4.
Is input from the clock generation circuit 6, the word line WL indicated by the signal input from the address buffer 1 is activated. Further, the column decoder 2 activates the bit line BL indicated by the signal input from the address buffer 1 via the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 when the α signal is input from the clock generation circuit 6. The column decoder 2 and the row decoder 3 activate the bit line and the word line of the memory cell 4 when the α signal is “H”.

【0004】上記クロック発生回路6には、上記α信号
を活性化させるための信号であり、メモリセル4への書
き込み動作を開始したいタイミングに外部回路から送ら
れてくる行アドレスストローブ信号である外部/RAS
信号が入力される外部入力端子/RAS(以下、/RA
S端子と呼ぶ)、及びメモリセル4への書き込み動作を
開始したいタイミングに外部回路から送られてくる列ア
ドレスストローブ信号である外部/CAS信号が入力さ
れる外部入力端子/CAS(以下、/CAS端子と呼
ぶ)がそれぞれ接続されている。
The clock generation circuit 6 is a signal for activating the α signal, and is a row address strobe signal sent from an external circuit at the timing when the write operation to the memory cell 4 is to be started. / RAS
External input terminal / RAS (hereinafter, / RA
S terminal), and an external input terminal / CAS (hereinafter, / CAS) to which an external / CAS signal which is a column address strobe signal sent from an external circuit is input at the timing when the write operation to the memory cell 4 is desired to start. Called terminals) are connected respectively.

【0005】更に、該クロック発生回路6は、/WE発
生回路7に接続され、該/WE発生回路7には、指定ア
ドレスのメモリセルに書き込みを行う書き込み動作にセ
ットするためのライト信号(以下外部/W信号と呼ぶ)
が入力される外部入力端子/W(以下、/W端子と呼
ぶ)が接続される。なお、外部/W信号は、上記書き込
み動作にセットする場合は「L」となり、それ以外は
「H」となる。
Further, the clock generation circuit 6 is connected to the / WE generation circuit 7, and the / WE generation circuit 7 writes a write signal (hereinafter referred to as a write signal) for setting a write operation for writing to a memory cell at a specified address. External / W signal)
Is connected to an external input terminal / W (hereinafter, referred to as / W terminal). It should be noted that the external / W signal becomes "L" when it is set in the write operation, and becomes "H" otherwise.

【0006】上記/WE発生回路7は、更にデータ入力
バッファ8に接続され、データ入力バッファ8に接続さ
れた外部入出力端子DQ1,DQ2,DQ3,DQ4から入
力される信号データのメモリセル4への書き込みを制御
する/WE信号を出力する。また、上記クロック発生回
路6は、更にアドレスバッファ1及びATD発生回路1
0に接続され、該ATD発生回路10は、更にアドレス
バッファ1及びI/Oイコライズ回路11に接続されて
いる。なお、上記データ入力バッファ8は、データ出力
バッファ9にI/O線と/I/O線という一対のI/O線
からなるI/Oで接続されており、更に該接続部からI/
Oイコライズ回路11を介してセンスリフレッシュアン
プ入出力制御回路5へ上記I/Oで接続されている。な
お、上記/I/O線の頭文字の/は、信号レベルの反転
を意味するものである。
The / WE generating circuit 7 is further connected to the data input buffer 8 and to the memory cell 4 of the signal data input from the external input / output terminals DQ1, DQ2, DQ3, DQ4 connected to the data input buffer 8. Controls writing of the / WE signal. The clock generation circuit 6 further includes an address buffer 1 and an ATD generation circuit 1.
0, and the ATD generation circuit 10 is further connected to the address buffer 1 and the I / O equalization circuit 11. The data input buffer 8 is connected to the data output buffer 9 by an I / O composed of a pair of I / O lines, an I / O line and an / I / O line.
The I / O is connected to the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 through the O equalizer circuit 11. The acronym / of the above-mentioned / I / O line means the inversion of the signal level.

【0007】上記ATD発生回路10は、アドレスバッ
ファ1から入力された上記A0〜A9信号から指定される
アドレスの変化を検出すると、内部で発生させるパルス
信号であるATD信号(図示せず)を発生させ、該AT
D信号を用いて上記I/Oイコライズ回路11に対して
イコライズの実行を制御する信号である/IOEQ信号
を出力する。上記I/Oイコライズ回路11は、該/I
OEQ信号によって、上記I/O線及び/I/O線をイコ
ライズする回路である。
When the ATD generation circuit 10 detects a change in an address designated by the A0 to A9 signals input from the address buffer 1, it generates an ATD signal (not shown) which is a pulse signal generated internally. Let the AT
The / IOEQ signal which is a signal for controlling the execution of equalization is output to the I / O equalize circuit 11 by using the D signal. The I / O equalizer circuit 11 is
It is a circuit for equalizing the I / O line and the / I / O line by the OEQ signal.

【0008】図11は、上記I/Oイコライズ回路11
の回路例を示した図であり、図11において、I/Oイ
コライズ回路11は、1つのトランスファゲート15と
1つのインバータ回路16とからなり、該トランスファ
ゲート15の両出力によって上記I/O線及び/I/O線
が接続され、トランスファゲート15の一方の制御入力
15aとインバータ回路16の入力がATD発生回路1
0に接続され、インバータ回路16の出力はトランスフ
ァゲート15の他方の制御入力15bに接続されてい
る。
FIG. 11 shows the I / O equalizer circuit 11 described above.
FIG. 12 is a diagram showing an example of the circuit of FIG. 11. In FIG. 11, the I / O equalizer circuit 11 is composed of one transfer gate 15 and one inverter circuit 16, and the I / O line is output by both outputs of the transfer gate 15. And / I / O line are connected, and one control input 15a of the transfer gate 15 and the input of the inverter circuit 16 are connected to the ATD generation circuit 1
0, and the output of the inverter circuit 16 is connected to the other control input 15b of the transfer gate 15.

【0009】ここで、上記ATD発生回路10から
「L」の/IOEQ信号がトランスファゲート15の制
御入力15a及びインバータ回路16の入力に入力され
ると、トランスファゲート15の出力は導通し、I/O
線及び/I/O線がイコライズされる。同様に、ATD
発生回路10から「H」の/IOEQ信号が出力される
と、トランスファゲート15の出力は遮断し、I/O線
及び/I/O線はイコライズされなくなる。
When the / IOEQ signal of "L" is input from the ATD generating circuit 10 to the control input 15a of the transfer gate 15 and the input of the inverter circuit 16, the output of the transfer gate 15 becomes conductive and I / I / O
Lines and / I / O lines are equalized. Similarly, ATD
When the generation circuit 10 outputs the "H" / IOEQ signal, the output of the transfer gate 15 is cut off, and the I / O line and the / I / O line are not equalized.

【0010】次に、図10において、更に、データ出力
バッファ9は外部入力端子/OEに接続され、該端子か
ら出力イネーブル信号(以下、/OE信号と呼ぶ)が入
力されると、データ出力バッファ9に接続された上記外
部入出力端子DQ1〜DQ4からメモリセル4に記憶され
た信号データの読み出しを行う。上記のように、行アド
レスの指定データ入出力、列アドレスの指定データ入出
力及びイコライズ制御などの信号は、すべてクロック発
生回路6からの内部クロック信号であるα信号によりそ
れぞれ入出力される。
Next, referring to FIG. 10, when the data output buffer 9 is further connected to the external input terminal / OE and an output enable signal (hereinafter referred to as "/ OE signal") is inputted from the terminal, the data output buffer 9 is outputted. The signal data stored in the memory cell 4 is read from the external input / output terminals DQ1 to DQ4 connected to 9. As described above, signals such as row address designation data input / output, column address designation data input / output, and equalization control are all input / output by the α signal which is the internal clock signal from the clock generation circuit 6.

【0011】また、上記/RAS端子、上記/CAS端
子及び/W端子は、/TE発生回路12に接続されてお
り、該/TE発生回路12は、上記外部/CAS信号及
び上記外部/W信号がそれぞれ「L」のときに、外部/
RAS信号が立ち下がるWCBRのタイミング時にDR
AM13をテストモードにセットするための信号である
「L」(通常モード時においては「H」)の/TE信号
を所定の箇所へ出力するものである。
The / RAS terminal, the / CAS terminal, and the / W terminal are connected to the / TE generating circuit 12, and the / TE generating circuit 12 outputs the external / CAS signal and the external / W signal. When each is “L”, external /
DR at the timing of WCBR when the RAS signal falls
The / TE signal of "L"("H" in the normal mode) which is a signal for setting the AM 13 in the test mode is output to a predetermined location.

【0012】上記のような構成のDRAM13におい
て、「L」の外部/RAS信号及び「L」の外部/CA
S信号がクロック発生回路6に入力されると、該クロッ
ク発生回路6は、列デコーダ2及び行デコーダ3に対し
て上記α信号を出力する。該列デコーダ2は、アドレス
バッファ1から入力される信号が示すメモリセル4のア
ドレスのビット線BLをセンスリフレッシュアンプ入出
力制御回路5を介して活性化させると共に、該行デコー
ダ3は、アドレスバッファ1から入力される信号が示す
メモリセル4のアドレスのワード線WLを活性化させ
る。
In the DRAM 13 having the above structure, the "L" external / RAS signal and the "L" external / CA signal are output.
When the S signal is input to the clock generating circuit 6, the clock generating circuit 6 outputs the α signal to the column decoder 2 and the row decoder 3. The column decoder 2 activates the bit line BL of the address of the memory cell 4 indicated by the signal input from the address buffer 1 via the sense refresh amplifier input / output control circuit 5, and the row decoder 3 operates as an address buffer. The word line WL of the address of the memory cell 4 indicated by the signal input from 1 is activated.

【0013】更に、クロック発生回路6から出力された
「H」の上記α信号は/WE発生回路7に入力され、該
/WE発生回路7の出力からは上記外部/W信号の2値
のレベルと同じレベルの信号が出力される。ここで、書
き込み動作にセットするための「L」の外部/W信号が
/WE発生回路7に入力されると、上記データ入力バッ
ファ8に「L」の/WE信号が入力され、該データ入力
バッファ8は書き込み動作に入る。これにより、外部入
出力端子DQ1〜DQ4から入力される信号データがデー
タ入力バッファ8からI/Oイコライズ回路11及びセ
ンスリフレッシュアンプ入出力制御回路5を介して、上
記列デコーダ2及び行デコーダ3により活性化されたア
ドレスのメモリセル4に書き込まれる。
Further, the "H" α signal output from the clock generation circuit 6 is input to the / WE generation circuit 7, and the binary level of the external / W signal is output from the output of the / WE generation circuit 7. The signal of the same level as is output. Here, when the external / W signal of "L" for setting the write operation is input to the / WE generation circuit 7, the / WE signal of "L" is input to the data input buffer 8 and the data input The buffer 8 starts a write operation. As a result, the signal data input from the external input / output terminals DQ1 to DQ4 is transferred from the data input buffer 8 to the column decoder 2 and the row decoder 3 via the I / O equalizer circuit 11 and the sense refresh amplifier input / output control circuit 5. It is written in the memory cell 4 of the activated address.

【0014】ここで、書き込み動作時における上記デー
タ入力バッファ8の動作をもう少し詳細に説明する。図
12は、上記データ入力バッファ8の従来例を示した概
略のブロック図であり、図12において、データ入力バ
ッファ8は、上記/WE発生回路7からの/WE信号か
ら内部WE信号であるWDE信号を生成し出力するWD
E発生回路17と、外部入出力端子DQ1〜DQ4から入
力される信号データを取り込み、該信号データをメモリ
セル4に書き込ませるWD信号に変換して出力するデー
タ入力バッファ部18と、上記WDE信号の2値のレベ
ルにより、上記WD信号のセンスリフレッシュアンプ入
出力制御回路5への出力を制御するライトドライバ19
とからなる。
Now, the operation of the data input buffer 8 during the write operation will be described in more detail. FIG. 12 is a schematic block diagram showing a conventional example of the data input buffer 8. In FIG. 12, the data input buffer 8 is a WDE which is an internal WE signal from the / WE signal from the / WE generation circuit 7. WD that generates and outputs signals
An E generation circuit 17, a data input buffer section 18 which takes in signal data inputted from the external input / output terminals DQ1 to DQ4, converts the signal data into a WD signal which can be written in the memory cell 4 and outputs the WD signal, and the WDE signal. Write driver 19 for controlling the output of the WD signal to the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 according to the binary level of
Consists of

【0015】上記WDE発生回路17とデータ入力バッ
ファ部18は/WE発生回路7に接続されており、ライ
トドライバ19はWDE発生回路17及びデータ入力バ
ッファ部18に接続され、更にI/Oイコライズ回路1
1を介してセンスリフレッシュアンプ入出力制御回路5
に接続されている。/WE発生回路7から「H」の信号
が入力されると、WDE発生回路17はそれに対応した
WDE信号をライトドライバ19に出力すると共に、デ
ータ入力バッファ部18は外部入出力端子DQ1〜DQ4
から信号データを取り込み、WD信号をライトドライバ
19に出力する。該ライトドライバ19は、WDE発生
回路17からのWDE信号が書き込み許可を示している
場合、上記WD信号を上記I/Oイコライズ回路11を
介して上記I/Oを通してセンスリフレッシュアンプ入
出力制御回路5に出力する。
The WDE generating circuit 17 and the data input buffer section 18 are connected to the / WE generating circuit 7, the write driver 19 is connected to the WDE generating circuit 17 and the data input buffer section 18, and further the I / O equalizing circuit. 1
1 through the sense refresh amplifier input / output control circuit 5
It is connected to the. When the "H" signal is input from the / WE generation circuit 7, the WDE generation circuit 17 outputs the corresponding WDE signal to the write driver 19, and the data input buffer section 18 causes the external input / output terminals DQ1 to DQ4.
The signal data is taken in from and the WD signal is output to the write driver 19. When the WDE signal from the WDE generation circuit 17 indicates write permission, the write driver 19 passes the WD signal through the I / O equalization circuit 11 through the I / O to the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 Output to.

【0016】図13は、上記ライトドライバ19の回路
例を示した回路図であり、図13において、ライトドラ
イバ19は、2つのnチャンネル型MOSトランジスタ
(以下、nMOSトランジスタと呼ぶ)20,21と1
つのインバータ回路22とからなり、nMOSトランジ
スタ20,21の両ゲートは互いに接続され、該接続部
はWDE発生回路17に接続されている。また、nMO
Sトランジスタ20のドレインはデータ入力バッファ部
18に接続され、nMOSトランジスタ21のドレイン
はインバータ回路22の出力に接続され、インバータ回
路22の入力はnMOSトランジスタ20のドレインに
接続されている。更に、nMOSトランジスタ20のソ
ースはI/OのI/O線に、nMOSトランジスタ21の
ソースはI/Oの/I/O線に接続されている。
FIG. 13 is a circuit diagram showing an example of the circuit of the write driver 19 described above. In FIG. 13, the write driver 19 includes two n-channel type MOS transistors (hereinafter referred to as nMOS transistors) 20 and 21. 1
The nMOS transistors 20 and 21 are connected to each other at their gates, and the connection is connected to the WDE generation circuit 17. Also, nMO
The drain of the S transistor 20 is connected to the data input buffer unit 18, the drain of the nMOS transistor 21 is connected to the output of the inverter circuit 22, and the input of the inverter circuit 22 is connected to the drain of the nMOS transistor 20. Further, the source of the nMOS transistor 20 is connected to the I / O line of I / O, and the source of the nMOS transistor 21 is connected to the / I / O line of I / O.

【0017】ライトドライバ19は、書き込み動作時
に、WDE発生回路17から「H」のWDE信号が上記
nMOSトランジスタ20,21の両ゲートに入力され
ると、両nMOSトランジスタ20,21はオンして、
データ入力バッファ部18から入力されるWD信号を、
nMOSトランジスタ20を介してI/OのI/O線に、
インバータ回路22及びnMOSトランジスタ21を介
してI/Oの/I/O線に出力する。
In the write driver 19, when a WDE signal of "H" is input from the WDE generating circuit 17 to both gates of the nMOS transistors 20 and 21 during the write operation, both nMOS transistors 20 and 21 are turned on,
The WD signal input from the data input buffer unit 18 is
to the I / O line of the I / O via the nMOS transistor 20
It outputs to the / I / O line of I / O via the inverter circuit 22 and the nMOS transistor 21.

【0018】図14は、上記WDE発生回路17の回路
例を示した回路図であり、図14において、WDE発生
回路17は、12のインバータ回路30,31,32,
33,34,35,36,37,38,39,40,4
1と2つのNAND回路42,43と1つの遅延回路4
4とからなり、インバータ回路30にインバータ回路3
1が同じ方向に直列に接続され、該直列回路を形成する
インバータ回路30の入力がNAND回路42の出力に
接続され、更に上記インバータ回路31の出力はNAN
D回路43の一方の入力に接続されている。
FIG. 14 is a circuit diagram showing a circuit example of the WDE generating circuit 17, and in FIG. 14, the WDE generating circuit 17 includes twelve inverter circuits 30, 31, 32,
33, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, 4
One and two NAND circuits 42 and 43 and one delay circuit 4
4 and the inverter circuit 30 has an inverter circuit 3
1 are connected in series in the same direction, the input of the inverter circuit 30 forming the series circuit is connected to the output of the NAND circuit 42, and the output of the inverter circuit 31 is NAN.
It is connected to one input of the D circuit 43.

【0019】また、インバータ回路32にインバータ回
路33が、該インバータ回路33にインバータ回路34
が、該インバータ回路34にインバータ回路35が、該
インバータ回路35にインバータ回路36が同じ方向に
直列に接続され、該直列回路を形成するインバータ回路
32の入力が上記NAND回路43の出力に接続され、
上記インバータ回路36の出力は上記ライトドライバ1
9に接続されている。
The inverter circuit 32 is provided with an inverter circuit 33, and the inverter circuit 33 is provided with an inverter circuit 34.
However, an inverter circuit 35 is connected to the inverter circuit 34, an inverter circuit 36 is connected to the inverter circuit 35 in series in the same direction, and an input of an inverter circuit 32 forming the series circuit is connected to an output of the NAND circuit 43. ,
The output of the inverter circuit 36 is the write driver 1
9 is connected.

【0020】更にまた、インバータ回路37にインバー
タ回路38が、該インバータ回路38にインバータ回路
39が、該インバータ回路39にインバータ回路40
が、該インバータ回路40にインバータ回路41が同じ
方向に直列に接続され、該直列回路を形成するインバー
タ回路37の入力が上記インバータ回路32及び33の
接続部に接続され、上記インバータ回路41の出力は上
記NAND回路42の一方の入力に接続されている。該
NAND回路42の他方の入力は、上記/WE発生回路
7に接続されている。
Further, the inverter circuit 37 is provided with an inverter circuit 38, the inverter circuit 38 is provided with an inverter circuit 39, and the inverter circuit 39 is provided with an inverter circuit 40.
Is connected in series to the inverter circuit 40 in the same direction, the input of the inverter circuit 37 forming the series circuit is connected to the connection portion of the inverter circuits 32 and 33, and the output of the inverter circuit 41. Is connected to one input of the NAND circuit 42. The other input of the NAND circuit 42 is connected to the / WE generating circuit 7.

【0021】更に、上記インバータ回路35及び36の
接続部には、遅延回路44の入力が接続され、該遅延回
路44の出力は更に上記NAND回路43の他方の入力
に接続されている。ここで、インバータ回路41の出力
とNAND回路42の入力との上記接続部をノードAと
し、遅延回路44とNAND回路43の入力との上記接
続部をノードBとし、インバータ回路31の出力とNA
ND回路43の入力との上記接続部をノードCとする。
Further, the input of the delay circuit 44 is connected to the connection portion of the inverter circuits 35 and 36, and the output of the delay circuit 44 is further connected to the other input of the NAND circuit 43. Here, the connection between the output of the inverter circuit 41 and the input of the NAND circuit 42 is a node A, the connection between the delay circuit 44 and the input of the NAND circuit 43 is a node B, and the output of the inverter circuit 31 and the NA are
The above-mentioned connection with the input of the ND circuit 43 is referred to as a node C.

【0022】図15は、上記図14で示した回路におけ
るタイミングチャート図である。図15におけるA,
B,Cは、図14のノードA、ノードB、ノードCにお
ける信号のタイミングチャートを示している。図15に
おいて、ノードAが「H」のときに、/WE信号が
「H」から「L」に切り替わると、NAND回路42、
インバータ回路30及びインバータ回路31によってそ
れぞれ生じる遅延時間を足した遅延時間だけ遅れてノー
ドCが「L」から「H」に切り替わる。更に、このとき
ノードBが「H」であると、NAND回路43及びイン
バータ回路32,37,38,39,40,41によっ
てそれぞれ生じる遅延時間を足した遅延時間だけ遅れて
ノードAが「H」から「L」に切り替わると共に、NA
ND回路43及びインバータ回路32,33,34,3
5,36によってそれぞれ生じる遅延時間を足した遅延
時間だけ遅れてWDE信号が「L」から「H」に切り替
わる。
FIG. 15 is a timing chart of the circuit shown in FIG. A in FIG.
B and C show timing charts of signals at the nodes A, B, and C in FIG. In FIG. 15, when the node A is "H" and the / WE signal is switched from "H" to "L", the NAND circuit 42,
The node C switches from “L” to “H” with a delay of a delay time obtained by adding the delay times respectively generated by the inverter circuit 30 and the inverter circuit 31. Further, if the node B is "H" at this time, the node A is delayed by a delay time obtained by adding the delay times respectively generated by the NAND circuit 43 and the inverter circuits 32, 37, 38, 39, 40, 41. Changes from "L" to NA
ND circuit 43 and inverter circuits 32, 33, 34, 3
The WDE signal is switched from "L" to "H" with a delay of a delay time obtained by adding the delay times caused by 5 and 36.

【0023】また、ノードBが「H」のときにノードC
が「L」から「H」に切り替わると、NAND回路4
3、インバータ回路32,33,34,35及び遅延回
路44によってそれぞれ生じる遅延時間を足した遅延時
間だけ遅れてノードBが「H」から「L」に切り替わ
り、それにより、ノードAは、NAND回路43及びイ
ンバータ回路32,37,38,39,40,41によ
って生じる遅延時間だけ遅れて「L」から「H」に切り
替わると共に、WDE信号はNAND回路43及びイン
バータ回路32,33,34,35,36によって生じ
る遅延時間だけ遅れて「H」から「L」に切り替わる。
When the node B is "H", the node C
Is switched from "L" to "H", the NAND circuit 4
3, the node B switches from “H” to “L” with a delay time that is the sum of the delay times generated by the inverter circuits 32, 33, 34, 35 and the delay circuit 44, whereby the node A is connected to the NAND circuit. 43 and the inverter circuits 32, 37, 38, 39, 40, 41 are switched from "L" to "H" with a delay time caused by the delay time, and the WDE signal changes the NAND circuit 43 and the inverter circuits 32, 33, 34, 35, Switching from “H” to “L” is delayed by the delay time caused by 36.

【0024】図14及び図15から分かるように、WD
E信号は、/WE発生回路7からの/WE信号、更には
外部/W信号の2値のレベルが切り替わったときのみ/
WE発生回路7で設定された所定の遅延時間だけ遅れて
2値のレベルが切り替わる。このように、tRWLが十分
に長いとき、WDE信号のパルス幅をWDE発生回路1
7というデバイス内部で作られる。
As can be seen from FIGS. 14 and 15, WD
The E signal is generated only when the / WE signal from the / WE generation circuit 7 and the binary level of the external / W signal are switched.
The binary level is switched with a delay of a predetermined delay time set by the WE generation circuit 7. In this way, when tRWL is sufficiently long, the pulse width of the WDE signal is set to the WDE generation circuit 1
Made inside the 7 device.

【0025】図16は、上記ATD発生回路10の回路
例を示した回路図であり、図16においてATD発生回
路10は、3つのNAND回路70,71,72と、7
つのインバータ回路73,74,75,76,77,7
8,79と、1つのnMOSトランジスタ81と、1つ
のpチャンネル型MOSトランジスタ(以下、pMOS
トランジスタと呼ぶ)82と、2つのコンデンサ83,
84とからなる。NAND回路70と71はR−Sフリ
ップフロップ回路を形成し、NAND回路70の出力は
NAND回路72の一方の入力に接続され、該接続部と
接地間にはコンデンサ83が接続される。更に、NAN
D回路71の出力はNAND回路72の他方の入力に接
続され、該接続部と接地間にはコンデンサ84が接続さ
れる。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a circuit example of the ATD generating circuit 10. In FIG. 16, the ATD generating circuit 10 has three NAND circuits 70, 71, 72 and 7.
Two inverter circuits 73, 74, 75, 76, 77, 7
8, 79, one nMOS transistor 81, and one p-channel type MOS transistor (hereinafter referred to as pMOS
82) and two capacitors 83,
And 84. The NAND circuits 70 and 71 form an RS flip-flop circuit, the output of the NAND circuit 70 is connected to one input of the NAND circuit 72, and the capacitor 83 is connected between the connection portion and the ground. Furthermore, NAN
The output of the D circuit 71 is connected to the other input of the NAND circuit 72, and the capacitor 84 is connected between the connection and the ground.

【0026】また、NAND回路72の出力は、インバ
ータ回路73の入力に接続され、インバータ回路73の
出力はnMOSトランジスタ81のゲートに接続され
る。nMOSトランジスタ81のソースは接地されてお
り、nMOSトランジスタ81のドレインはpMOSト
ランジスタ82のドレインに接続され、該pMOSトラ
ンジスタ82のソースはVCC端子に接続されている。イ
ンバータ回路74の出力がインバータ回路75の入力
に、該インバータ回路75の出力がインバータ回路76
の入力に接続されて直列回路を形成し、該インバータ回
路74の入力がnMOSトランジスタ81とpMOSト
ランジスタ82の両ドレインの接続部に接続され、イン
バータ回路76の出力からATD信号が出力される。
The output of the NAND circuit 72 is connected to the input of the inverter circuit 73, and the output of the inverter circuit 73 is connected to the gate of the nMOS transistor 81. The source of the nMOS transistor 81 is grounded, the drain of the nMOS transistor 81 is connected to the drain of the pMOS transistor 82, and the source of the pMOS transistor 82 is connected to the VCC terminal. The output of the inverter circuit 74 is input to the inverter circuit 75, and the output of the inverter circuit 75 is the inverter circuit 76.
To form a series circuit, the input of the inverter circuit 74 is connected to the connection of both drains of the nMOS transistor 81 and the pMOS transistor 82, and the ATD signal is output from the output of the inverter circuit 76.

【0027】更に、インバータ回路77の出力がインバ
ータ回路78の入力に、該インバータ回路78の出力が
インバータ回路79の入力に接続されて直列回路を形成
し、該インバータ回路77の入力は上記インバータ回路
74の出力と上記インバータ回路75の入力との接続部
に接続され、上記インバータ回路79の出力は上記pM
OSトランジスタ82のゲートに接続されている。
Further, the output of the inverter circuit 77 is connected to the input of the inverter circuit 78 and the output of the inverter circuit 78 is connected to the input of the inverter circuit 79 to form a series circuit, and the input of the inverter circuit 77 is the inverter circuit. The output of the inverter circuit 79 is connected to the connection between the output of the inverter circuit 74 and the input of the inverter circuit 75.
It is connected to the gate of the OS transistor 82.

【0028】なお、ATD発生回路10は、上記NAN
D回路70,71,72と、インバータ回路73と、コ
ンデンサ83,84からなる回路が、アドレス入力端子
の数に対応した数だけあり、該各回路のインバータ回路
73からのそれぞれの出力信号を所定の処理を行ってn
MOSトランジスタ81の入力に入力されるが、ここで
は、説明を簡単にするため、本例の場合のアドレス入力
端子A0〜A9からの任意の1つの端子に対応した1つの
An(nは0から9までの整数)信号における回路のみ
の場合で説明する。上記NAND回路70の一方の入力
にはアドレスバッファ1からのAn信号が、上記NAN
D回路71の一方の入力には上記An信号の信号レベル
を反転させた反転信号/An信号が入力される。
The ATD generation circuit 10 is the same as the NAN.
There are D circuits 70, 71, 72, inverter circuits 73, and capacitors 83, 84 in a number corresponding to the number of address input terminals, and each output signal from the inverter circuit 73 of each circuit is predetermined. Process n
It is inputted to the input of the MOS transistor 81, but here, for simplification of explanation, one An (n is 0 to n corresponding to any one terminal from the address input terminals A0 to A9 in this example) is inputted. An explanation will be given only for the case of a circuit for signals (integer up to 9). An signal from the address buffer 1 is applied to one input of the NAND circuit 70 as the NAN signal.
An inverted signal / An signal obtained by inverting the signal level of the An signal is input to one input of the D circuit 71.

【0029】図17は、上記図16で示した回路におけ
るタイミングチャート図である。図17におけるφは、
図16のインバータ回路73の出力とnMOSトランジ
スタ81のゲートとの接続部であるノードφにおける信
号のタイミングチャートを示している。図17におい
て、An信号が「H」から「L」に切り替わると、/An
信号が「L」から「H」に切り替わる。ここで、コンデ
ンサ83に充電された電位により該電位が放電される
間、NAND回路72の両入力は「H」となり、ノード
φは、NAND回路70,71,72及びインバータ回
路73によって生じる遅延時間だけ遅れて「H」のパル
ス信号が発生する。更にnMOSトランジスタ81、p
MOSトランジスタ82及びインバータ回路74,7
5,76,77,78,79によって生じる遅延時間だ
け遅れて「H」のパルス信号のATD信号が出力され
る。
FIG. 17 is a timing chart of the circuit shown in FIG. Φ in FIG. 17 is
FIG. 17 shows a timing chart of signals at a node φ which is a connecting portion between the output of the inverter circuit 73 and the gate of the nMOS transistor 81 in FIG. In FIG. 17, when the An signal is switched from “H” to “L”, / An
The signal switches from "L" to "H". Here, while the potential charged in the capacitor 83 is discharged by the potential, both inputs of the NAND circuit 72 become “H”, and the node φ has a delay time generated by the NAND circuits 70, 71, 72 and the inverter circuit 73. The pulse signal of "H" is generated with a delay. Furthermore, nMOS transistors 81, p
MOS transistor 82 and inverter circuits 74, 7
The ATD signal of the pulse signal of "H" is output with a delay of the delay time caused by 5, 76, 77, 78, 79.

【0030】従来、上記のようなDRAMといった半導
体デバイスにおいて、半導体集積回路の書き込みマージ
ンの少ないものをリジェクトするための最も重要なテス
トの1つとして、メモリセルへの書き込み又は読み出し
動作を開始したいタイミングに外部回路から送られてく
るダウンエッジの上記外部/RAS信号における「L」
の幅を示す時間であるtRASを長くする(以下、Lon
g tRASと呼ぶ)と共に、指定アドレスのメモリセルを
書き込み動作にセットするための上記外部/W信号の立
ち下がりから上記外部/RAS信号の立ち上がりまでの
時間であるtRWLを短くする(以下、Short tRWL
と呼ぶ)テストがある。
Conventionally, in a semiconductor device such as a DRAM as described above, one of the most important tests for rejecting a semiconductor integrated circuit having a small write margin is a timing at which a write or read operation to a memory cell is started. "L" in the external / RAS signal of the down edge sent from the external circuit to
TRAS, which is the time that indicates the width of the
(g tRAS) together with shortening tRWL, which is the time from the fall of the external / W signal to the rise of the external / RAS signal for setting the memory cell at the specified address for the write operation (hereinafter, short tRWL).
There is a test.

【0031】図18は、図10で示したDRAM13の
メモリセル4の構造例を示した回路図であり、図18に
おいて、トランスファゲート100のゲートはワード線
WLに接続されており、該トランスファゲート100の
ドレインはビット線BLに接続され、更にトランスファ
ゲート100のソースはメモリセル容量Cに接続されて
いる。ワード線WLに流れる信号をWL信号とすると、
上記外部/W信号が「L」であり、かつWL信号が
「H」のときにメモリセルにデータが書き込まれる。
FIG. 18 is a circuit diagram showing a structural example of the memory cell 4 of the DRAM 13 shown in FIG. 10. In FIG. 18, the gate of the transfer gate 100 is connected to the word line WL. The drain of 100 is connected to the bit line BL, and the source of the transfer gate 100 is connected to the memory cell capacitance C. If the signal flowing through the word line WL is the WL signal,
When the external / W signal is "L" and the WL signal is "H", data is written in the memory cell.

【0032】ここで、例えば上記ワード線WLが、高抵
抗でアース(VSS)にショートしている不良がある場
合、Long tRASにするとWL信号のレベルが次第に
下がってくる。これにより、トランスファゲート100
のゲート電圧が下がる。更に、Short tRWLにする
と、図15で示したWDE信号のパルス幅が狭くなり、
図18のビット線BLにデータ信号を印加する時間が短
くなることから、上記Long tRAS及びShort
tRWLの2つの効果により、メモリセル容量Cに蓄えら
れた電荷を少なくすることによって書き込みマージンの
少ないものをリジェクトしていた。
Here, for example, when the word line WL has a defect of high resistance and is short-circuited to the ground (VSS), the signal level of the WL signal is gradually lowered by setting Long tRAS. As a result, the transfer gate 100
Gate voltage drops. Further, when Short tRWL is set, the pulse width of the WDE signal shown in FIG. 15 becomes narrower,
Since the time for applying the data signal to the bit line BL in FIG. 18 becomes short, the above Long tRAS and Short
Due to the two effects of tRWL, the charge stored in the memory cell capacitance C is reduced to reject a memory cell with a small write margin.

【0033】また、DRAM13におけるATD発生回
路10は、I/Oイコライズ回路11に対して上記I/O
を動作前にイコライズさせて高速化を図るものである
が、該イコライズが十分でないと、インバリッドデータ
が発生して逆にアクセスが遅くなる。更に、ATD信号
幅を細くしイコライズ不十分となりインバリッドデータ
が発生するという一連の動作が、クロック発生回路6か
らのα信号に対してマッチングしていないと間違ったデ
ータが出力されるといったアドレスノイズが発生する。
そこで、DRAM13のアクセス速度及びアドレスノイ
ズの発生をテストする方法として、上記ATD信号のパ
ルス幅を狭くして、アクセス速度が遅いもの及びアドレ
スノイズが発生するものをリジェクトしていた。
The ATD generating circuit 10 in the DRAM 13 is different from the I / O equalizing circuit 11 in the I / O.
Is attempted to speed up the operation before the operation. However, if the equalization is not sufficient, invalid data is generated and access is slowed down. Further, the series of operations in which the ATD signal width is narrowed and equalization is insufficient and invalid data is generated. Address noise in which wrong data is output unless the α signal from the clock generation circuit 6 is matched. Occurs.
Therefore, as a method for testing the access speed of the DRAM 13 and the generation of address noise, the pulse width of the ATD signal is narrowed to reject those with a low access speed and those with address noise.

【0034】[0034]

【発明が解決しようとする課題】図19は、図10、図
11、図12、図13、図14及び図15で示したDR
AM13の書き込み動作時における各信号のタイミング
チャート図である。図19で示すように、上記書き込み
動作は1サイクルで1ビットの信号データの書き込みで
あることから、上記のようにWDE信号のパルス幅を短
くするためには、tRWLの性質上、1ビットずつ上記外
部/RAS信号を「L」から「H」に立ち上げる必要が
あり、1ビットずつ上記のような長いサイクルでテスト
をしなければならず、テスト時間が非常に長くかかると
いう問題があった。
FIG. 19 shows the DR shown in FIG. 10, FIG. 11, FIG. 12, FIG. 13, FIG. 14 and FIG.
FIG. 9 is a timing chart of each signal during a write operation of AM13. As shown in FIG. 19, since the above-mentioned write operation is writing of 1-bit signal data in one cycle, in order to shorten the pulse width of the WDE signal as described above, in order to shorten the pulse width of the WDE signal, one bit at a time is set for each tRWL. There is a problem that the external / RAS signal must be raised from "L" to "H" and the test must be performed bit by bit in the long cycle as described above, resulting in a very long test time. .

【0035】そこで、外部/RAS信号を「H」から
「L」に立ち下げたままの状態で、外部/CAS信号を
クロック入力することで、同一の行アドレス上のデータ
をアクセスするページモードを用いて、上記Long
tRAS及び上記Short tRWLのテストを行うことに
より、テスト時間の短縮を図る方法が考えられた。しか
し、図20は、図10、図11、図12、図13、図1
4及び図15で示したDRAM13のページモード時の
書き込み動作時における各信号のタイミングチャート図
であるが、図20で示すように、ページモード中におけ
るtRWLは長くなると共に、WDE信号がWDE発生回
路17で自動的にパルス幅が決められることから、Sh
ort tRWLのテストにならないという問題があった。
Therefore, in the state where the external / RAS signal is kept low from "H" to "L", the external / CAS signal is input as a clock to set the page mode for accessing the data on the same row address. Use the above Long
A method for shortening the test time has been considered by conducting a test of tRAS and the above Short tRWL. However, FIG. 20 shows FIG. 10, FIG. 11, FIG. 12, FIG.
20 is a timing chart of each signal during the write operation in the page mode of the DRAM 13 shown in FIG. 4 and FIG. 15, but as shown in FIG. 20, tRWL becomes longer in the page mode and the WDE signal becomes the WDE generating circuit. Since the pulse width is automatically determined at 17, Sh
There was a problem that it was not a test of ort tRWL.

【0036】また、従来のATD発生回路10で発生す
るATD信号のパルス幅は、該ATD発生回路10によ
って設定されており、該設定をDRAMのアクセス速度
をテストするためにATD信号の幅を細くするようにし
た場合、テストを行う以外の通常の動作においても、該
ATD信号の幅が細くなったままであり、ATD信号幅
を細くしイコライズ不十分となりインバリッドデータが
発生するという一連の動作がクロック発生回路6からの
α信号に対してマッチングしないと間違ったデータが出
力されるという問題があり、逆にATD信号幅を太くし
た場合、イコライズしたままビット線につながることで
セルデータを破壊するという問題があった。
The pulse width of the ATD signal generated by the conventional ATD generation circuit 10 is set by the ATD generation circuit 10, and the width of the ATD signal is narrowed to test the access speed of the DRAM. In this case, even in a normal operation other than the test, the width of the ATD signal remains thin, and the ATD signal width is narrowed and equalization is insufficient, and a series of operations such that invalid data is generated. There is a problem that wrong data is output unless the α signal from the clock generation circuit 6 is matched. Conversely, when the ATD signal width is widened, the cell data is destroyed by connecting to the bit line while being equalized. There was a problem.

【0037】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、半導体デバイスのテストにお
いて、テスト時間を短縮すると共に、より厳しくテスト
を行うことができる半導体集積回路を得るものである。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and obtains a semiconductor integrated circuit capable of shortening the test time and conducting more rigorous tests in testing semiconductor devices. Is.

【0038】[0038]

【課題を解決するための手段】本発明は、第1外部端子
から入力される2値の第1外部信号の状態変更に対応し
て所定の第1内部信号を生成して出力する第1内部信号
出力手段を備える半導体集積回路において、少なくとも
1つの外部端子からなる第2外部端子に所定の信号が入
力されると、2値の状態を変更して該所定の信号が入力
されたことを示す第2内部信号を生成して上記第1内部
信号出力手段に出力する第2内部信号出力手段を備えた
ことを特徴とする半導体集積回路を提供するものであ
る。
According to the present invention, a first internal signal generating and outputting a predetermined first internal signal in response to a state change of a binary first external signal input from a first external terminal. In a semiconductor integrated circuit having signal output means, when a predetermined signal is input to a second external terminal including at least one external terminal, the binary state is changed to indicate that the predetermined signal has been input. A semiconductor integrated circuit comprising a second internal signal output means for generating a second internal signal and outputting the second internal signal to the first internal signal output means.

【0039】本願の特許請求の範囲の請求項2に記載の
発明において、上記請求項1の第2内部信号出力手段
は、上記第2外部端子に所定の信号が入力されると、テ
ストモードを開始させるために2値の状態を変更するテ
ストモード信号を生成して上記第1内部信号出力手段に
出力するテストモード信号出力手段であることを特徴と
する。
In the invention according to claim 2 of the present application, the second internal signal output means according to claim 1 is set to the test mode when a predetermined signal is input to the second external terminal. It is characterized in that it is a test mode signal output means for generating a test mode signal for changing a binary state for starting and outputting it to the first internal signal output means.

【0040】本願の特許請求の範囲の請求項3に記載の
発明は、第1外部端子から入力される書き込み動作を開
始させるように2値の状態を変更するライトイネーブル
信号の状態変更に対応して所定の第1内部信号を生成し
て出力する第1内部信号出力手段を備え、ページモード
での動作を行うDRAMにおける半導体集積回路におい
て、少なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子に
所定の信号が入力されると、テストモードを開始させる
ために2値の状態を変更するテストモード信号を生成し
て上記第1内部信号出力手段に出力するテストモード信
号出力手段を備えたことを特徴とするDRAMにおける
半導体集積回路を提供するものである。
The invention according to claim 3 of the present application corresponds to the change of the state of the write enable signal for changing the binary state so as to start the write operation inputted from the first external terminal. In the semiconductor integrated circuit in the DRAM which operates in the page mode, the second external terminal including at least one external terminal is provided with a predetermined first internal signal output means for generating and outputting a predetermined first internal signal. When a signal is input, a test mode signal output means for generating a test mode signal for changing a binary state to start the test mode and outputting it to the first internal signal output means is provided. A semiconductor integrated circuit in a DRAM is provided.

【0041】本願の特許請求の範囲の請求項4に記載の
発明は、第1外部端子から入力される2値の第1外部信
号の状態変更に対応して所定の第1内部信号を生成して
出力する第1内部信号出力手段を備える半導体集積回路
において、少なくとも1つの外部端子からなる第2外部
端子に所定の信号が入力されると、2値の状態を変更し
て該所定の信号が入力されたことを示す第2内部信号を
生成して上記第1内部信号出力手段に出力する第2内部
信号出力手段と、上記第1内部信号出力手段に入力する
第3外部信号が入力される第3外部端子とを備えたこと
を特徴とする半導体集積回路を提供するものである。
The invention according to claim 4 of the present application generates a predetermined first internal signal in response to a state change of a binary first external signal input from a first external terminal. In a semiconductor integrated circuit having a first internal signal output means for outputting as a predetermined signal, when a predetermined signal is input to a second external terminal including at least one external terminal, the binary state is changed and the predetermined signal is changed. A second internal signal output means for generating a second internal signal indicating that it has been input and outputting it to the first internal signal output means, and a third external signal input to the first internal signal output means are input. A semiconductor integrated circuit having a third external terminal is provided.

【0042】本願の特許請求の範囲の請求項5に記載の
発明において、上記請求項4の第2内部信号出力手段
は、上記第2外部端子に所定の信号が入力されると、テ
ストモードを開始させるために2値の状態を変更するテ
ストモード信号を生成して上記第1内部信号出力手段に
出力するテストモード信号出力手段であることを特徴と
する。
In the invention described in claim 5 of the present application, the second internal signal output means of claim 4 is set to the test mode when a predetermined signal is input to the second external terminal. It is characterized in that it is a test mode signal output means for generating a test mode signal for changing a binary state for starting and outputting it to the first internal signal output means.

【0043】本願の特許請求の範囲の請求項6に記載の
発明は、少なくとも1つの外部端子からなる第1外部端
子より入力されるアドレス指定信号の2値の状態変更に
対応して所定の第1内部信号を生成して出力する第1内
部信号出力手段を備えたDRAMにおける半導体集積回
路において、少なくとも1つの外部端子からなる第2外
部端子に所定の信号が入力されると、テストモードを開
始させるために2値の状態を変更するテストモード信号
を生成して上記第1内部信号出力手段に出力するテスト
モード信号出力手段と、上記第1内部信号出力手段に入
力する第3外部信号が入力される第3外部端子とを備え
たことを特徴とするDRAMにおける半導体集積回路を
提供するものである。
According to a sixth aspect of the present invention, a predetermined first number corresponding to a binary state change of an address designation signal input from a first external terminal including at least one external terminal is provided. In a semiconductor integrated circuit in a DRAM including a first internal signal output means for generating and outputting one internal signal, a test mode is started when a predetermined signal is input to a second external terminal including at least one external terminal. A test mode signal output means for generating a test mode signal for changing the binary state and outputting it to the first internal signal output means, and a third external signal input to the first internal signal output means are input. The present invention provides a semiconductor integrated circuit in a DRAM, which is provided with a third external terminal.

【0044】[0044]

【作用】特許請求の範囲の請求項1に記載の半導体集積
回路は、第2内部信号出力手段で、少なくとも1つの外
部端子からなる第2外部端子に所定の信号が入力される
と、2値の状態を変更して該所定の信号が入力されたこ
とを示す第2内部信号を生成して上記第1内部信号出力
手段に出力し、上記第1内部信号出力手段で、上記第2
内部信号出力手段より入力された第2内部信号が所定の
状態変更を行った場合、上記第1外部信号の状態変更に
対応して2値の状態変更を行う第1内部信号を生成して
出力する。
According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, when the predetermined signal is input to the second external terminal composed of at least one external terminal by the second internal signal output means, a binary signal is output. State is changed to generate a second internal signal indicating that the predetermined signal is input and output to the first internal signal output means, and the first internal signal output means outputs the second internal signal.
When the second internal signal input from the internal signal output means undergoes a predetermined state change, a first internal signal for performing a binary state change corresponding to the state change of the first external signal is generated and output. To do.

【0045】特許請求の範囲の請求項2に記載の半導体
集積回路においては、テストモード信号出力手段で、少
なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子に所定の
信号が入力されると、テストモードを開始させるために
2値の状態を変更するテストモード信号を生成して上記
第1内部信号出力手段に出力し、上記第1内部信号出力
手段で、上記テストモード信号出力手段より入力された
テストモード信号がテストモードを開始させるように状
態変更を行った場合、上記第1外部信号の状態変更に対
応して2値の状態変更を行う第1内部信号を生成して出
力する。
According to another aspect of the semiconductor integrated circuit of the present invention, when a predetermined signal is input to the second external terminal composed of at least one external terminal by the test mode signal output means, the test mode is output. A test mode signal for changing the binary state is generated and output to the first internal signal output means, and the first internal signal output means outputs the test input from the test mode signal output means. When the state is changed so that the mode signal starts the test mode, the first internal signal for changing the binary state corresponding to the state change of the first external signal is generated and output.

【0046】特許請求の範囲の請求項3に記載のDRA
Mにおける半導体集積回路は、テストモード信号出力手
段で、少なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子
に所定の信号が入力されると、テストモードを開始させ
るために2値の状態を変更するテストモード信号を生成
して上記第1内部信号出力手段に出力し、ページモード
動作時において、上記第1内部信号出力手段で、上記テ
ストモード信号出力手段より入力されたテストモード信
号がテストモードを開始させるように状態変更を行った
場合、上記第1外部信号の状態変更に対応して2値の状
態変更を行う第1内部信号を、通常の動作時と同じ経路
を用いて生成し出力する。
DRA according to claim 3 of the claims
The semiconductor integrated circuit in M is a test mode signal output means for changing a binary state in order to start a test mode when a predetermined signal is input to a second external terminal including at least one external terminal. A mode signal is generated and output to the first internal signal output means, and in the page mode operation, the test mode signal input from the test mode signal output means starts the test mode in the first internal signal output means. When the state is changed so as to be changed, the first internal signal for changing the binary state corresponding to the state change of the first external signal is generated and output using the same path as in the normal operation.

【0047】特許請求の範囲の請求項4に記載の半導体
集積回路は、第2内部信号出力手段で、少なくとも1つ
の外部端子からなる第2外部端子に所定の信号が入力さ
れると、2値の状態を変更して該所定の信号が入力され
たことを示す第2内部信号を生成して上記第1内部信号
出力手段に出力し、第3外部端子から第3外部信号を上
記第1内部信号出力手段に入力して、上記第1内部信号
出力手段で、上記第2内部信号出力手段より入力された
第2内部信号が所定の状態変更を行った場合、上記第3
外部信号の状態変更に対応して2値の状態変更を行う第
1内部信号を生成して出力する。
In the semiconductor integrated circuit according to claim 4 of the invention, the second internal signal output means outputs a binary signal when a predetermined signal is input to the second external terminal which is at least one external terminal. State is changed to generate a second internal signal indicating that the predetermined signal is input and output to the first internal signal output means, and a third external signal is output from the third external terminal to the first internal signal. When the second internal signal input from the second internal signal output means is input to the signal output means and the second internal signal input from the second internal signal output means changes a predetermined state, the third internal signal is output.
It generates and outputs a first internal signal for performing a binary state change corresponding to a state change of the external signal.

【0048】特許請求の範囲の請求項5に記載の半導体
集積回路においては、テストモード信号出力手段で、上
記第2外部端子に所定の信号が入力されると、テストモ
ードを開始させるために2値の状態を変更するテストモ
ード信号を生成して上記第1内部信号出力手段に出力
し、上記第1内部信号出力手段で、上記テストモード信
号出力手段より入力されたテストモード信号がテストモ
ードを開始させるように状態変更を行った場合、上記第
3外部信号の状態変更に対応して2値の状態変更を行う
第1内部信号を生成して出力する。
According to another aspect of the semiconductor integrated circuit of the present invention, in order to start the test mode when a predetermined signal is input to the second external terminal by the test mode signal output means, 2 A test mode signal for changing the state of the value is generated and output to the first internal signal output means, and the first internal signal output means outputs the test mode signal input from the test mode signal output means to the test mode. When the state is changed so as to be started, the first internal signal for changing the binary state is generated and output corresponding to the state change of the third external signal.

【0049】特許請求の範囲の請求項6に記載のDRA
Mにおける半導体集積回路は、テストモード信号出力手
段で、少なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子
に所定の信号が入力されると、テストモードを開始させ
るために2値の状態を変更するテストモード信号を生成
して上記第1内部信号出力手段に出力し、第3外部端子
から第3外部信号を上記第1内部信号出力手段に入力し
て、上記第1内部信号出力手段で、上記テストモード信
号出力手段より入力されたテストモード信号がテストモ
ードを開始させるように状態変更を行った場合、上記第
3外部信号の状態変更に対応して2値の状態変更を行う
第1内部信号を生成して出力する。
DRA according to claim 6 of the claims
The semiconductor integrated circuit in M is a test mode signal output means for changing a binary state in order to start a test mode when a predetermined signal is input to a second external terminal including at least one external terminal. A mode signal is generated and output to the first internal signal output means, a third external signal is input to the first internal signal output means from a third external terminal, and the test is performed by the first internal signal output means. When the test mode signal input from the mode signal output means changes the state so as to start the test mode, the first internal signal for changing the binary state corresponding to the change of the state of the third external signal is changed to the first internal signal. Generate and output.

【0050】[0050]

【実施例】次に、図面に示す実施例に基づき、本発明に
ついて詳細に説明する。 実施例1.図1は、本発明の第1実施例の半導体集積回
路を使用したDRAMの概略ブロック図であり、図2
は、図1で示したデータ入力バッファの概略ブロック図
である。図1及び図2において、上記従来例を示した図
10及び図12と同じものは同じ符号で示しており、こ
こでは図10及び図12との相違点の説明を行う。
The present invention will now be described in detail with reference to the embodiments shown in the drawings. Example 1. 1 is a schematic block diagram of a DRAM using a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic block diagram of the data input buffer shown in FIG. 1. 1 and 2, the same parts as those in the above-mentioned conventional example shown in FIGS. 10 and 12 are denoted by the same reference numerals, and here, the difference from FIGS. 10 and 12 will be described.

【0051】まず最初に、図1における図10との相違
点は、図10における/TE発生回路12をデータ入力
バッファ8に接続し、これに伴ってデータ入力バッファ
8Aとしたことにある。また、図2における図12との
相違点は、図12におけるWDE発生回路17に/TE
発生回路12を接続し、これに伴ってWDE発生回路1
7をWDE発生回路17Aとし、DRAM13をDRA
M13Aとしたことにある。
First, the difference from FIG. 10 in FIG. 1 is that the / TE generation circuit 12 in FIG. 10 is connected to the data input buffer 8 and accordingly the data input buffer 8A is formed. The difference between FIG. 2 and FIG. 12 is that the WDE generation circuit 17 in FIG.
The generating circuit 12 is connected, and the WDE generating circuit 1 is connected accordingly.
7 as the WDE generating circuit 17A, and the DRAM 13 as the DRA
M13A.

【0052】なお、上記WDE発生回路17Aは、請求
項1から3における第1内部信号出力手段をなし、WD
E信号が第1内部信号をなし、/W端子は第1外部端子
をなし、外部/W信号が第1外部信号又はライトイネー
ブル信号をなす。更に上記/TE発生回路12は、請求
項1から3における第2内部信号出力手段又はテストモ
ード信号出力手段をなし、/TE信号が第2内部信号又
はテストモード信号をなし、/RAS端子及び/CAS
端子及び/W端子が第2外部端子をなす。
The WDE generating circuit 17A constitutes the first internal signal output means in claims 1 to 3, and the WD
The E signal forms the first internal signal, the / W terminal forms the first external terminal, and the external / W signal forms the first external signal or write enable signal. Further, the / TE generation circuit 12 constitutes the second internal signal output means or the test mode signal output means in claims 1 to 3, the / TE signal constitutes the second internal signal or the test mode signal, and the / RAS terminal and / CAS
The terminal and the / W terminal form the second external terminal.

【0053】図1において、上記/WE発生回路7は、
データ入力バッファ8Aに接続され、データ入力バッフ
ァ8Aに接続された外部入出力端子DQ1,DQ2,DQ
3,DQ4から入力される信号データのメモリセル4への
書き込みを制御する/WE信号を出力する。なお、上記
データ入力バッファ8Aは、データ出力バッファ9にI
/O線と/I/O線という一対のI/O線からなるI/Oで
接続されており、更に該接続部からI/Oイコライズ回
路11を介してセンスリフレッシュアンプ入出力制御回
路5へ上記I/Oで接続されている。
In FIG. 1, the / WE generating circuit 7 is
External input / output terminals DQ1, DQ2, DQ connected to the data input buffer 8A and connected to the data input buffer 8A
3, outputs a / WE signal that controls writing of signal data input from DQ4 to the memory cell 4. The data input buffer 8A is added to the data output buffer 9 as I.
They are connected by an I / O composed of a pair of I / O lines of / O line and / I / O line, and further from the connection portion to the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 via the I / O equalize circuit 11. It is connected by the above I / O.

【0054】また、上記/RAS端子、上記/CAS端
子及び/W端子は、更に/TE発生回路12に接続され
ており、該/TE発生回路12は、上記データ入力バッ
ファ8Aに接続され、上記外部/CAS信号及び上記外
部/W信号がそれぞれ「L」のときに、外部/RAS信
号が立ち下がるWCBRのタイミング時にDRAM13
Aをテストモードにセットするための信号である「L」
(通常モード時においては「H」)の/TE信号をデー
タ入力バッファ8Aへ出力する。
The / RAS terminal, the / CAS terminal and the / W terminal are further connected to the / TE generating circuit 12, which is connected to the data input buffer 8A. When the external / CAS signal and the external / W signal are "L", the DRAM 13 is operated at the timing of WCBR when the external / RAS signal falls.
"L" which is a signal to set A to the test mode
The / TE signal ("H" in the normal mode) is output to the data input buffer 8A.

【0055】ここで、書き込み動作時における上記デー
タ入力バッファ8Aの動作をもう少し詳細に説明する。
図2は、上記データ入力バッファ8Aの例を示した概略
のブロック図であり、図2において、データ入力バッフ
ァ8Aは、上記/WE発生回路7からの/WE信号より
内部WE信号であるWDE信号を生成して出力するWD
E発生回路17Aと、外部入出力端子DQ1〜DQ4から
入力される信号データを取り込み、該信号データをメモ
リセル4に書き込ませるWD信号に変換して出力するデ
ータ入力バッファ部18と、上記WDE信号の2値のレ
ベルにより、上記WD信号のセンスリフレッシュアンプ
入出力制御回路5への出力を制御するライトドライバ1
9とからなる。
Here, the operation of the data input buffer 8A during the write operation will be described in a little more detail.
FIG. 2 is a schematic block diagram showing an example of the data input buffer 8A. In FIG. 2, the data input buffer 8A has a WDE signal which is an internal WE signal rather than the / WE signal from the / WE generation circuit 7. To generate and output
An E generation circuit 17A, a data input buffer unit 18 that takes in signal data input from the external input / output terminals DQ1 to DQ4, converts the signal data into a WD signal that can be written in the memory cell 4, and outputs the WD signal, and the WDE signal. Write driver 1 for controlling the output of the WD signal to the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 in accordance with the binary level of
9 and 9.

【0056】上記WDE発生回路17Aとデータ入力バ
ッファ部18は/WE発生回路7に接続されており、ラ
イトドライバ19はWDE発生回路17A及びデータ入
力バッファ部18に接続され、更にI/Oイコライズ回
路11を介してセンスリフレッシュアンプ入出力制御回
路5に接続されている。/WE発生回路7から「H」の
信号が入力されると、WDE発生回路17Aはそれに対
応したWDE信号をライトドライバ19に出力すると共
に、データ入力バッファ部18は外部入出力端子DQ1
〜DQ4から信号データを取り込み、WD信号をライト
ドライバ19に出力する。該ライトドライバ19は、W
DE発生回路17AからのWDE信号が書き込み許可を
示している場合、上記WD信号を上記I/Oイコライズ
回路11を介して上記I/Oを通してセンスリフレッシ
ュアンプ入出力制御回路5に出力する。
The WDE generating circuit 17A and the data input buffer section 18 are connected to the / WE generating circuit 7, the write driver 19 is connected to the WDE generating circuit 17A and the data input buffer section 18, and further the I / O equalizing circuit. It is connected to the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 via 11. When a signal of "H" is input from the / WE generation circuit 7, the WDE generation circuit 17A outputs a corresponding WDE signal to the write driver 19, and the data input buffer section 18 causes the external input / output terminal DQ1.
The signal data is taken in from DQ4 to DQ4 and the WD signal is output to the write driver 19. The write driver 19 is
When the WDE signal from the DE generation circuit 17A indicates write permission, the WD signal is output to the sense refresh amplifier input / output control circuit 5 through the I / O equalization circuit 11 and the I / O.

【0057】次に、図3は、上記図2におけるWDE発
生回路17Aの回路例を示した回路図である。なお、図
3において、従来例を示した図14と同じものは同じ符
号で示している。図3における図14との相違点は、図
14におけるインバータ回路41を廃止し、2つのNA
ND回路60、62及び1つのインバータ回路61を追
加したことにある。
Next, FIG. 3 is a circuit diagram showing a circuit example of the WDE generating circuit 17A in FIG. Incidentally, in FIG. 3, the same parts as those of FIG. 14 showing the conventional example are denoted by the same reference numerals. The difference between FIG. 3 and FIG. 14 is that the inverter circuit 41 in FIG.
This is because the ND circuits 60 and 62 and one inverter circuit 61 are added.

【0058】すなわち、NAND回路43のノードB側
の入力と遅延回路44を接続せずに、NAND回路43
のノードB側の入力にNAND回路60の出力を接続
し、該NAND回路60の一方の入力にインバータ回路
61の出力を接続して、該インバータ回路61の入力を
遅延回路44に接続することと、上記NAND回路60
の他方の入力を/TE発生回路12に接続し、インバー
タ回路40の出力をNAND回路62の一方の入力に接
続して、該NAND回路62の出力はNAND回路42
のノードA側の入力に接続し、更に該NAND回路62
の他方の入力をNAND回路60の入力と/TE発生回
路12との接続部に接続される。
That is, the NAND circuit 43 is connected without connecting the input on the node B side of the NAND circuit 43 and the delay circuit 44.
The output of the NAND circuit 60 is connected to the input on the node B side of the above, the output of the inverter circuit 61 is connected to one input of the NAND circuit 60, and the input of the inverter circuit 61 is connected to the delay circuit 44. , The NAND circuit 60
Is connected to the / TE generating circuit 12, the output of the inverter circuit 40 is connected to one input of the NAND circuit 62, and the output of the NAND circuit 62 is connected to the NAND circuit 42.
Connected to the input on the node A side of
The other input of is connected to the connection between the input of the NAND circuit 60 and the / TE generating circuit 12.

【0059】図3において、WDE発生回路17Aは、
12のインバータ回路30,31,32,33,34,
35,36,37,38,39,40,61と4つのN
AND回路42,43,60,62と1つの遅延回路4
4とからなり、インバータ回路30にインバータ回路3
1が同じ方向に直列に接続され、該直列回路を形成する
インバータ回路30の入力がNAND回路42の出力に
接続され、更に上記インバータ回路31の出力はNAN
D回路43の一方の入力に接続されている。
In FIG. 3, the WDE generating circuit 17A is
12 inverter circuits 30, 31, 32, 33, 34,
35, 36, 37, 38, 39, 40, 61 and 4 Ns
AND circuits 42, 43, 60, 62 and one delay circuit 4
4 and the inverter circuit 30 has an inverter circuit 3
1 are connected in series in the same direction, the input of the inverter circuit 30 forming the series circuit is connected to the output of the NAND circuit 42, and the output of the inverter circuit 31 is NAN.
It is connected to one input of the D circuit 43.

【0060】また、インバータ回路32にインバータ回
路33が、該インバータ回路33にインバータ回路34
が、該インバータ回路34にインバータ回路35が、該
インバータ回路35にインバータ回路36が同じ方向に
直列に接続され、該直列回路を形成するインバータ回路
32の入力が上記NAND回路43の出力に接続され、
上記インバータ回路36の出力は上記ライトドライバ1
9に接続されている。
Further, the inverter circuit 32 is provided with an inverter circuit 33, and the inverter circuit 33 is provided with an inverter circuit 34.
However, an inverter circuit 35 is connected to the inverter circuit 34, an inverter circuit 36 is connected to the inverter circuit 35 in series in the same direction, and an input of an inverter circuit 32 forming the series circuit is connected to an output of the NAND circuit 43. ,
The output of the inverter circuit 36 is the write driver 1
9 is connected.

【0061】更にまた、インバータ回路37にインバー
タ回路38が、該インバータ回路38にインバータ回路
39が、該インバータ回路39にインバータ回路40が
同じ方向に直列に接続され、該直列回路を形成するイン
バータ回路37の入力が上記インバータ回路32及び3
3の接続部に接続され、上記インバータ回路40の出力
は上記NAND回路62の一方の入力に接続されてい
る。該NAND回路62の他方の入力は、上記/TE発
生回路12に接続され、NAND回路62の出力はNA
ND回路42の一方の入力に接続され、該NAND回路
42の他方の入力は上記/WE発生回路7に接続されて
いる。
Further, an inverter circuit 38 is connected to the inverter circuit 37, an inverter circuit 39 is connected to the inverter circuit 38, and an inverter circuit 40 is connected to the inverter circuit 39 in series in the same direction to form the series circuit. The input of 37 is the inverter circuits 32 and 3 described above.
3, the output of the inverter circuit 40 is connected to one input of the NAND circuit 62. The other input of the NAND circuit 62 is connected to the / TE generating circuit 12, and the output of the NAND circuit 62 is NA.
It is connected to one input of the ND circuit 42, and the other input of the NAND circuit 42 is connected to the / WE generating circuit 7.

【0062】更に、上記インバータ回路35及び36の
接続部には、遅延回路44の入力が接続され、該遅延回
路44の出力はインバータ回路61の入力に接続され、
更に該インバータ回路61の出力はNAND回路60の
一方の入力に接続される。該NAND回路60の他方の
入力は、NAND回路62における/TE発生回路12
に接続された入力に接続され、NAND回路60の出力
は、上記NAND回路43の他方の入力に接続される。
ここで、NAND回路62の出力とNAND回路42の
入力との上記接続部をノードAとし、NAND回路60
の出力とNAND回路43の入力との上記接続部をノー
ドBとし、インバータ回路31の出力とNAND回路4
3の入力との上記接続部をノードCとする。
Further, the input of the delay circuit 44 is connected to the connection of the inverter circuits 35 and 36, and the output of the delay circuit 44 is connected to the input of the inverter circuit 61.
Further, the output of the inverter circuit 61 is connected to one input of the NAND circuit 60. The other input of the NAND circuit 60 is the / TE generation circuit 12 in the NAND circuit 62.
The output of the NAND circuit 60 is connected to the other input of the NAND circuit 43.
Here, the connection between the output of the NAND circuit 62 and the input of the NAND circuit 42 is referred to as a node A, and the NAND circuit 60
Is connected to the output of the NAND circuit 43 as a node B, and the output of the inverter circuit 31 and the NAND circuit 4 are connected.
The above connection with the input of 3 is designated as node C.

【0063】図4は、上記図3で示した回路における通
常動作を行う通常モード時のタイミングチャート図であ
り、図5は、上記図3で示した回路におけるテストを行
うテストモード時のタイミングチャート図である。図4
及び図5におけるA,B,Cは、図3のノードA、ノー
ドB、ノードCにおける信号のタイミングチャートを示
しており、最初に通常モードにおけるWDE発生回路1
7Aの動作を図3及び図4を用いて説明する。
FIG. 4 is a timing chart in the normal mode for performing the normal operation in the circuit shown in FIG. 3, and FIG. 5 is a timing chart in the test mode for performing the test in the circuit shown in FIG. It is a figure. FIG.
5A and 5B show timing charts of signals at the node A, the node B, and the node C in FIG. 3, and first, the WDE generating circuit 1 in the normal mode is shown.
The operation of 7A will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

【0064】図3及び図4において、ノードAが「H」
のときに、/WE信号が「H」から「L」に切り替わる
と、NAND回路42、インバータ回路30及びインバ
ータ回路31によってそれぞれ生じる遅延時間を足した
遅延時間だけ遅れてノードCが「L」から「H」に切り
替わる。更に、このときノードBが「H」であると、N
AND回路43及びインバータ回路32,37,38,
39,40によってそれぞれ生じる遅延時間を足した遅
延時間だけ遅れて、NAND回路62の一方の入力が
「H」となり、/TE信号を「H」にして通常モードに
したときにおいて、NAND回路62の両入力は「H」
となってノードAが「L」に切り替わると共に、NAN
D回路43及びインバータ回路32,33,34,3
5,36によってそれぞれ生じる遅延時間を足した遅延
時間だけ遅れてWDE信号が「L」から「H」に切り替
わる。
In FIGS. 3 and 4, the node A is "H".
At this time, when the / WE signal is switched from "H" to "L", the node C is delayed from the "L" by a delay time obtained by adding the delay times respectively generated by the NAND circuit 42, the inverter circuit 30, and the inverter circuit 31. Switch to "H". Further, if the node B is "H" at this time, N
AND circuit 43 and inverter circuits 32, 37, 38,
When one input of the NAND circuit 62 becomes "H" and the / TE signal is set to "H" to set the normal mode, the NAND circuit 62 is delayed by a delay time obtained by adding the delay times respectively generated by 39 and 40. Both inputs are "H"
And node A switches to "L", and NAN
D circuit 43 and inverter circuits 32, 33, 34, 3
The WDE signal is switched from "L" to "H" with a delay of a delay time obtained by adding the delay times caused by 5 and 36.

【0065】また、ノードBが「H」のときにノードC
が「L」から「H」に切り替わると、NAND回路60
の一方の入力は、インバータ回路61の出力を経て
「L」から「H」に切り替わり、/TE信号が「H」で
あることから、NAND回路60の出力は「L」とな
り、NAND回路43、インバータ回路32,33,3
4,35、遅延回路44、インバータ回路61及びNA
ND回路60によってそれぞれ生じる遅延時間を足した
遅延時間だけ遅れてノードBが「H」から「L」に切り
替わる。それにより、ノードAは、NAND回路43、
インバータ回路32,37,38,39,40及びNA
ND回路62によって生じる遅延時間だけ遅れて「L」
から「H」に切り替わると共に、WDE信号はNAND
回路43及びインバータ回路32,33,34,35,
36によって生じる遅延時間だけ遅れて「H」から
「L」に切り替わる。
When the node B is "H", the node C
Is switched from "L" to "H", the NAND circuit 60
One of the inputs is switched from "L" to "H" via the output of the inverter circuit 61, and the / TE signal is "H", the output of the NAND circuit 60 becomes "L", and the NAND circuit 43, Inverter circuits 32, 33, 3
4, 35, delay circuit 44, inverter circuit 61 and NA
The node B switches from “H” to “L” with a delay of a delay time obtained by adding the delay times generated by the ND circuit 60. As a result, the node A is connected to the NAND circuit 43,
Inverter circuits 32, 37, 38, 39, 40 and NA
“L” is delayed by the delay time generated by the ND circuit 62.
Changes to "H" and the WDE signal is NAND
Circuit 43 and inverter circuits 32, 33, 34, 35,
Switching from “H” to “L” is delayed by the delay time caused by 36.

【0066】次に、テストモードにおけるWDE発生回
路17Aの動作を図3及び図5を用いて説明する。図3
及び図5において、/TE信号を「L」にしてテストモ
ードにしたときにおいては、ノードA及びノードBは共
に「H」となり、/WE信号が「H」から「L」に切り
替わると、NAND回路42、インバータ回路30,3
1、NAND回路43及びインバータ回路32,33,
34,35,36によってそれぞれ生じる遅延時間を足
した時間だけ遅れてWDE信号が「L」から「H」とな
り、/WE信号が「L」から「H」に切り替わると、N
AND回路42、インバータ回路30,31、NAND
回路43及びインバータ回路32,33,34,35,
36によってそれぞれ生じる遅延時間を足した時間だけ
遅れてWDE信号が「H」から「L」に切り替わる。
Next, the operation of the WDE generating circuit 17A in the test mode will be described with reference to FIGS. FIG.
Further, in FIG. 5, when the / TE signal is set to "L" to enter the test mode, both the nodes A and B become "H", and when the / WE signal is switched from "H" to "L", the NAND Circuit 42, inverter circuits 30, 3
1, NAND circuit 43 and inverter circuits 32, 33,
When the WDE signal changes from “L” to “H” and the / WE signal switches from “L” to “H” with a delay of the sum of the delay times caused by 34, 35, and 36, N
AND circuit 42, inverter circuits 30, 31, NAND
Circuit 43 and inverter circuits 32, 33, 34, 35,
The WDE signal switches from "H" to "L" with a delay of the sum of the delay times caused by 36.

【0067】上記のように、本発明の第1実施例による
と、/TE信号を「H」にして通常モードにしたときに
おいて、WDE信号は、/WE発生回路7からの/WE
信号、更には外部/W信号が「H」から「L」に切り替
わったときのみ/WE発生回路7で設定された所定の遅
延時間だけ遅れて「L」から「H」に切り替わり、更に
WDE発生回路17Aに設定された所定の時間の後、自
動的に「H」から「L」に切り替わる。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, when the / TE signal is set to "H" and the normal mode is set, the WDE signal is the / WE signal from the / WE generating circuit 7.
Signal, and also when the external / W signal is switched from "H" to "L" / switched from "L" to "H" with a delay of a predetermined delay time set by the WE generation circuit 7, and further WDE generation After a predetermined time set in the circuit 17A, "H" is automatically switched to "L".

【0068】上記通常モードに対して、図6は、テスト
モード時における図1で示したDRAM13Aの各信号
のページモードでのタイミングチャート図であり、/T
E信号を「L」にしてテストモードにしたときにおいて
は、WDE信号は、/WE信号の2値のレベルの切り替
わりに応じて2値のレベルを切り替えることができ、1
つの回路における通常モード時と同じ回路経路を使用し
て、図6で示すように、Long tRAS及びShort
tRWLのテストをページモードで行うことができる。
In contrast to the normal mode, FIG. 6 is a timing chart in the page mode of each signal of the DRAM 13A shown in FIG. 1 in the test mode.
When the E signal is set to “L” and the test mode is set, the WDE signal can be switched between binary levels in accordance with the binary level switching of the / WE signal.
Using the same circuit path in normal mode in two circuits, as shown in FIG. 6, Long tRAS and Short
Testing of tRWL can be done in page mode.

【0069】以上の説明から明らかなように、本発明の
半導体集積回路において、第1実施例におけるWDE発
生回路は、通常は、/WE信号の所定の2値の状態変化
があると所定のパルス幅のパルス信号を出力するが、/
TE発生回路から出力された/TE信号の2値の状態変
化により、/WE信号のパルス幅、すなわち外部/W信
号のパルス幅に対応したパルス幅のWDE信号をWDE
発生回路の同じ経路で出力することができる。このこと
から、半導体集積回路のテストを行うときに、外部から
の信号で半導体集積回路の内部信号を操作することがで
きるため、例えば、DRAMにおけるLong tRAS及
びShort tRWLという一連のテストにおけるテスト
時間を短縮することができると共に、該テストを厳しい
条件で行うことができる。
As is clear from the above description, in the semiconductor integrated circuit of the present invention, the WDE generating circuit in the first embodiment normally provides a predetermined pulse when there is a predetermined binary state change of the / WE signal. Outputs a pulse signal of width,
By changing the binary state of the / TE signal output from the TE generation circuit, the WDE signal having the pulse width corresponding to the pulse width of the / WE signal, that is, the pulse width of the external / W signal is WDE.
It can be output through the same path of the generation circuit. From this fact, when a semiconductor integrated circuit is tested, the internal signal of the semiconductor integrated circuit can be manipulated by a signal from the outside, so that, for example, the test time in a series of tests of Long tRAS and Short tRWL in DRAM can be reduced. It can be shortened and the test can be performed under severe conditions.

【0070】更に、上記のようにWDE発生回路は、/
TE信号の2値の状態変化により、WDE信号を外部/
W信号のパルス幅に対応したパルス信号にすることがで
きるため、DRAMにおけるページモードという高速動
作モードでのLong tRAS及びShort tRWLとい
う一連のテストを行うことができ、該テストを厳しい条
件で行いながら一層の時間短縮を行うことができる。
Further, as described above, the WDE generating circuit is
The WDE signal is externally / externally changed by the binary state change of the TE signal.
Since a pulse signal corresponding to the pulse width of the W signal can be obtained, a series of tests such as Long tRAS and Short tRWL in the high-speed operation mode called page mode in DRAM can be performed, and the test can be performed under severe conditions. The time can be further shortened.

【0071】実施例2.図7は、本発明の第2実施例の
半導体集積回路を使用したDRAMの概略ブロック図で
あり、図7において、上記従来例を示した図10と同じ
ものは同じ符号で示しており、ここでは図10との相違
点の説明を行う。まず最初に、図7における図10との
相違点は、図10における/TE発生回路12をATD
発生回路に接続し、これに伴ってATD発生回路10B
とし、更に、外部入力端子/MT(以下、/MT端子と
呼ぶ)を新たに設け、これらのことからDRAM13を
DRAM13Bとしたことにある。
Example 2. FIG. 7 is a schematic block diagram of a DRAM using the semiconductor integrated circuit of the second embodiment of the present invention. In FIG. 7, the same parts as those of FIG. Now, differences from FIG. 10 will be described. First, the difference between FIG. 7 and FIG. 10 is that the / TE generation circuit 12 in FIG.
Connected to the generation circuit, and accordingly, the ATD generation circuit 10B
Further, an external input terminal / MT (hereinafter, referred to as / MT terminal) is newly provided, and therefore, the DRAM 13 is the DRAM 13B.

【0072】なお、上記ATD発生回路10Bは請求項
4から6における第1内部信号出力手段をなし、ATD
信号が第1内部信号をなし、入力端子A0〜A9は第1外
部端子をなし、該入力端子A0〜A9から入力されるアド
レスを指定する信号が第1外部信号をなす。更に上記/
TE発生回路12は請求項4から6における第2内部信
号出力手段又はテストモード信号出力手段をなし、/T
E信号が第2内部信号またはテストモード信号をなし、
/RAS端子及び/CAS端子及び/W端子は第2外部
端子をなすと共に、上記/MT端子は第3外部端子をな
し、/MT信号が第3外部信号をなす。
The ATD generating circuit 10B constitutes the first internal signal output means in claims 4 to 6, and
The signal forms a first internal signal, the input terminals A0 to A9 form a first external terminal, and the signal designating an address input from the input terminals A0 to A9 forms a first external signal. Further above /
The TE generation circuit 12 constitutes the second internal signal output means or the test mode signal output means in claims 4 to 6, and / T
The E signal is the second internal signal or the test mode signal,
The / RAS terminal, the / CAS terminal, and the / W terminal form a second external terminal, the / MT terminal forms a third external terminal, and the / MT signal forms a third external signal.

【0073】図7において、ATD発生回路10Bは、
アドレスバッファ1、クロック発生回路6及びI/Oイ
コライズ回路11に接続され、更に外部入力端子の/M
T端子に接続されている。上記ATD発生回路10B
は、アドレスバッファ1から入力された上記A0〜A9信
号から指定されるアドレスの変化を検出すると、内部で
発生させるパルス信号であるATD信号(図示せず)を
発生させ、該ATD信号を用いて上記I/Oイコライズ
回路11に対してイコライズの実行を制御する信号であ
る/IOEQ信号を出力する。上記I/Oイコライズ回
路11は、該/IOEQ信号によって、上記I/O線及
び/I/O線をイコライズする回路である。
In FIG. 7, the ATD generation circuit 10B is
It is connected to the address buffer 1, the clock generation circuit 6 and the I / O equalization circuit 11, and further has an external input terminal / M.
It is connected to the T terminal. The ATD generation circuit 10B
Detects an address change designated by the A0 to A9 signals input from the address buffer 1, generates an ATD signal (not shown) which is a pulse signal generated internally, and uses the ATD signal. The / IOEQ signal, which is a signal for controlling the execution of equalization, is output to the I / O equalizer circuit 11. The I / O equalize circuit 11 is a circuit for equalizing the I / O line and the / I / O line by the / IOEQ signal.

【0074】なお、本第2実施例におけるI/Oイコラ
イズ回路11は、図11で示したI/Oイコライズ回路
11の回路例において、トランスファゲート15の一方
の制御入力15aとインバータ回路16の入力がATD
発生回路10Bに接続されている。上記ATD発生回路
10Bから「L」の/IOEQ信号がトランスファゲー
ト15の制御入力15a及びインバータ回路16の入力
に入力されると、トランスファゲート15の出力は導通
し、I/O線及び/I/O線がイコライズされる。同様
に、ATD発生回路10Bから「H」の/IOEQ信号
が出力されると、トランスファゲート15の出力は遮断
し、I/O線及び/I/O線はイコライズされなくなる。
The I / O equalizer circuit 11 according to the second embodiment is different from the I / O equalizer circuit 11 shown in FIG. 11 in that the control input 15a of the transfer gate 15 and the input of the inverter circuit 16 are different from each other. Is ATD
It is connected to the generation circuit 10B. When the / IOEQ signal of "L" is input from the ATD generation circuit 10B to the control input 15a of the transfer gate 15 and the input of the inverter circuit 16, the output of the transfer gate 15 becomes conductive and the I / O line and / I / The O line is equalized. Similarly, when the / IOEQ signal of "H" is output from the ATD generation circuit 10B, the output of the transfer gate 15 is cut off and the I / O line and the / I / O line are not equalized.

【0075】また、上記/RAS端子、上記/CAS端
子及び/W端子は、更に/TE発生回路12に接続され
ており、該/TE発生回路12は、上記ATD発生回路
10Bに接続され、上記外部/CAS信号及び上記外部
/W信号がそれぞれ「L」のときに、外部/RAS信号
が立ち下がるWCBRのタイミング時にDRAM13B
をテストモードにセットするための信号である「L」
(通常モード時においては「H」)の/TE信号をAT
D発生回路10Bへ出力する。
The / RAS terminal, the / CAS terminal and the / W terminal are further connected to the / TE generating circuit 12, which is connected to the ATD generating circuit 10B. When the external / CAS signal and the external / W signal are "L", the DRAM 13B is at the timing of WCBR when the external / RAS signal falls.
"L" which is a signal to set the test mode to the test mode
AT signal (/ H in normal mode)
Output to the D generation circuit 10B.

【0076】次に、図8は、上記図7におけるATD発
生回路10Bの回路例を示した回路図である。なお、図
8において、従来例を示した図16と同じものは同じ符
号で示している。図8における図16との相違点は、図
16の回路に4つのインバータ回路90,91,92,
93と、3つのnMOSトランジスタ94,95,96
と、1つのコンデンサ97を追加したことにある。
Next, FIG. 8 is a circuit diagram showing a circuit example of the ATD generation circuit 10B in FIG. In FIG. 8, the same parts as those in FIG. 16 showing the conventional example are denoted by the same reference numerals. The difference between FIG. 8 and FIG. 16 is that four inverter circuits 90, 91, 92, and
93 and three nMOS transistors 94, 95, 96
In addition, one capacitor 97 is added.

【0077】図8において、NAND回路70と71は
R−Sフリップフロップ回路を形成し、NAND回路7
0の出力はNAND回路72の一方の入力に接続され、
該接続部と接地間にはコンデンサ83が接続される。更
に、NAND回路71の出力はNAND回路72の他方
の入力に接続され、該接続部と接地間にはコンデンサ8
4が接続される。
In FIG. 8, NAND circuits 70 and 71 form an RS flip-flop circuit, and the NAND circuit 7
The output of 0 is connected to one input of the NAND circuit 72,
A capacitor 83 is connected between the connection and ground. Further, the output of the NAND circuit 71 is connected to the other input of the NAND circuit 72, and the capacitor 8 is connected between the connection portion and the ground.
4 is connected.

【0078】また、NAND回路72の出力は、インバ
ータ回路73の入力に接続され、インバータ回路73の
出力はnMOSトランジスタ94のドレインに接続さ
れ、該nMOSトランジスタ94のゲートは/TE発生
回路12に接続され、更にnMOSトランジスタ94の
ソースはnMOSトランジスタ81のゲートに接続され
る。nMOSトランジスタ81のソースは接地されてお
り、nMOSトランジスタ81のドレインはpMOSト
ランジスタ82のドレインに接続され、該pMOSトラ
ンジスタ82のソースはVCC端子に接続されている。
The output of the NAND circuit 72 is connected to the input of the inverter circuit 73, the output of the inverter circuit 73 is connected to the drain of the nMOS transistor 94, and the gate of the nMOS transistor 94 is connected to the / TE generating circuit 12. Further, the source of the nMOS transistor 94 is connected to the gate of the nMOS transistor 81. The source of the nMOS transistor 81 is grounded, the drain of the nMOS transistor 81 is connected to the drain of the pMOS transistor 82, and the source of the pMOS transistor 82 is connected to the VCC terminal.

【0079】インバータ回路90の出力がインバータ回
路91の入力に、該インバータ回路91の出力がインバ
ータ回路92の入力に接続されて直列回路を形成し、イ
ンバータ回路90の入力は/MT端子に接続されてい
る。更に、インバータ回路92の出力はnMOSトラン
ジスタ95のドレインに接続され、該nMOSトランジ
スタ95のゲートはインバータ回路93の入力に接続さ
れ、該インバータ回路93の入力は/TE発生回路12
に接続される。インバータ回路90の出力とインバータ
回路91の入力との接続部と接地間にはコンデンサ97
が接続され、nMOSトランジスタ95のソースは上記
nMOSトランジスタ81のゲートとnMOSトランジ
スタ94のソースとの接続部に接続されると共に、pM
OSトランジスタ82のゲートに接続される。
The output of the inverter circuit 90 is connected to the input of the inverter circuit 91, the output of the inverter circuit 91 is connected to the input of the inverter circuit 92 to form a series circuit, and the input of the inverter circuit 90 is connected to the / MT terminal. ing. Further, the output of the inverter circuit 92 is connected to the drain of the nMOS transistor 95, the gate of the nMOS transistor 95 is connected to the input of the inverter circuit 93, and the input of the inverter circuit 93 is the / TE generating circuit 12.
Connected to. A capacitor 97 is provided between the connection between the output of the inverter circuit 90 and the input of the inverter circuit 91 and the ground.
And the source of the nMOS transistor 95 is connected to the connection between the gate of the nMOS transistor 81 and the source of the nMOS transistor 94, and pM
It is connected to the gate of the OS transistor 82.

【0080】また、インバータ回路74の出力がインバ
ータ回路75の入力に、該インバータ回路75の出力が
インバータ回路76の入力に接続されて直列回路を形成
し、該インバータ回路74の入力がnMOSトランジス
タ81とpMOSトランジスタ82の両ドレインの接続
部に接続され、インバータ回路76の出力からATD信
号が出力される。
The output of the inverter circuit 74 is connected to the input of the inverter circuit 75 and the output of the inverter circuit 75 is connected to the input of the inverter circuit 76 to form a series circuit, and the input of the inverter circuit 74 is connected to the nMOS transistor 81. And the drain of the pMOS transistor 82 are connected to each other, and the ATD signal is output from the output of the inverter circuit 76.

【0081】更に、インバータ回路77の出力がインバ
ータ回路78の入力に、該インバータ回路78の出力が
インバータ回路79の入力に接続されて直列回路を形成
し、該インバータ回路77の入力は上記インバータ回路
74の出力と上記インバータ回路75の入力との接続部
に接続される。上記インバータ回路79の出力はnMO
Sトランジスタ96のソースに接続され、該nMOSト
ランジスタ96のドレインは上記pMOSトランジスタ
82のゲートに接続されている。
Further, the output of the inverter circuit 77 is connected to the input of the inverter circuit 78 and the output of the inverter circuit 78 is connected to the input of the inverter circuit 79 to form a series circuit, and the input of the inverter circuit 77 is the inverter circuit. It is connected to the connection between the output of 74 and the input of the inverter circuit 75. The output of the inverter circuit 79 is nMO.
It is connected to the source of the S transistor 96, and the drain of the nMOS transistor 96 is connected to the gate of the pMOS transistor 82.

【0082】なお、ATD発生回路10Bにおいても、
上記NAND回路70,71,72と、インバータ回路
73と、コンデンサ83,84からなる回路が、アドレ
ス入力端子の数に対応した数だけあり、該各回路のイン
バータ回路73からのそれぞれの出力信号を所定の処理
を行ってnMOSトランジスタ81の入力に入力される
が、ここでは、説明を簡単にするため、本実施例の場合
のアドレス入力端子A0〜A9からの任意の1つの端子に
対応した1つのAn(nは0から9までの整数)信号に
おける回路のみの場合で説明する。上記NAND回路7
0の一方の入力にはアドレスバッファ1からのAn信号
が、上記NAND回路71の一方の入力には上記An信
号の信号レベルを反転させた反転信号/An信号が入力
される。
In the ATD generation circuit 10B as well,
There are as many circuits as the NAND circuits 70, 71, 72, the inverter circuit 73, and the capacitors 83, 84 corresponding to the number of address input terminals, and the respective output signals from the inverter circuits 73 of the respective circuits are output. It is input to the input of the nMOS transistor 81 after performing a predetermined process, but here, in order to simplify the explanation, it corresponds to any one terminal from the address input terminals A0 to A9 in this embodiment. Only the circuit for one An (n is an integer from 0 to 9) signal will be described. NAND circuit 7
An signal from the address buffer 1 is input to one input of 0, and an inverted signal / An signal obtained by inverting the signal level of the An signal is input to one input of the NAND circuit 71.

【0083】図9は、上記図8で示した回路のテストモ
ード時におけるタイミングチャート図である。図17に
おけるφは、図8のインバータ回路73の出力とnMO
Sトランジスタ94のドレインとの接続部であるノード
φにおける信号のタイミングチャートを示している。図
9において、/TE信号を「L」にしてテストモードに
したときにおいては、図8のnMOSトランジスタ94
及び96がオフし、nMOSトランジスタ95がオンす
る。
FIG. 9 is a timing chart of the circuit shown in FIG. 8 in the test mode. Φ in FIG. 17 is the output of the inverter circuit 73 in FIG.
7 shows a timing chart of signals at a node φ which is a connection portion with the drain of the S transistor 94. In FIG. 9, when the / TE signal is set to "L" to enter the test mode, the nMOS transistor 94 of FIG.
And 96 turn off, and the nMOS transistor 95 turns on.

【0084】このことから、上記An信号及び/An信号
の2値の状態の変化に関係なく、/MT端子からの/M
T信号が「H」から「L」に切り替わると、nMOSト
ランジスタ81がオンすると共に、pMOSトランジス
タ82がオフすることから、ATD信号が「L」から
「H」に切り替わり、/MT端子からの/MT信号が
「L」から「H」に切り替わると、nMOSトランジス
タ81がオフすると共に、pMOSトランジスタ82が
オンすることから、ATD信号が「H」から「L」に切
り替わる。
Therefore, regardless of the change in the binary state of the An signal and the / An signal, / M from the / MT terminal
When the T signal is switched from “H” to “L”, the nMOS transistor 81 is turned on and the pMOS transistor 82 is turned off, so that the ATD signal is switched from “L” to “H”, and When the MT signal switches from “L” to “H”, the nMOS transistor 81 turns off and the pMOS transistor 82 turns on, so that the ATD signal switches from “H” to “L”.

【0085】なお、/TE信号を「H」にして通常の動
作モードにしたときの図8の回路における各信号のタイ
ミングチャートは、nMOSトランジスタ94及び96
がオンし、nMOSトランジスタ95がオフすることか
ら、上記図17で示したタイミングチャート図と同じで
あるのでここでは省略する。
The timing chart of each signal in the circuit of FIG. 8 when the / TE signal is set to "H" to set the normal operation mode is shown in the nMOS transistors 94 and 96.
Is turned on and the nMOS transistor 95 is turned off, which is the same as the timing chart shown in FIG. 17 and is omitted here.

【0086】上記のように、本発明の第2実施例による
と、/TE信号を「H」にして通常モードにしたときに
おいては、ATD信号は、コンデンサ83及び84の容
量によってパルス幅が決まるノードφのパルス信号に対
して、nMOSトランジスタ94,81及びインバータ
回路74,75,76の回路によって生じる遅延時間、
又は、nMOSトランジスタ94,96、pMOSトラ
ンジスタ82及びインバータ回路74,75,76,7
7,78,79の回路によって生じる遅延時間だけ遅れ
て2値の状態が切り替わる。すなわち、An信号におけ
る2値の状態の切り替わりに対してATD発生回路10
Bで設定されたパルス幅のATD信号が自動的に出力さ
れる。
As described above, according to the second embodiment of the present invention, when the / TE signal is set to "H" and the normal mode is set, the pulse width of the ATD signal is determined by the capacitances of the capacitors 83 and 84. The delay time generated by the circuits of the nMOS transistors 94, 81 and the inverter circuits 74, 75, 76 with respect to the pulse signal of the node φ,
Alternatively, the nMOS transistors 94, 96, the pMOS transistor 82 and the inverter circuits 74, 75, 76, 7
The binary state is switched with a delay of the delay time generated by the circuits 7, 78 and 79. That is, the ATD generation circuit 10 responds to the switching of the binary state of the An signal.
The ATD signal having the pulse width set in B is automatically output.

【0087】上記通常モードに対して、/TE信号を
「L」にしてテストモードにしたときにおいては、上記
図9で示したように、ATD信号は、外部信号である/
MT信号の2値のレベルの切り替わりに応じて2値のレ
ベルを切り替えることができ、外部信号を用いて内部信
号であるATD信号を操作することができ、通常モード
時のATD発生回路の設定を変えることなく、DRAM
のアクセス速度及びアドレスノイズの発生をテストする
ことができる。
In contrast to the normal mode, when the / TE signal is set to "L" and the test mode is set, the ATD signal is an external signal as shown in FIG.
The binary level can be switched according to the binary level switching of the MT signal, the ATD signal which is an internal signal can be manipulated using an external signal, and the setting of the ATD generation circuit in the normal mode can be performed. DRAM without change
Access speed and generation of address noise can be tested.

【0088】このように、第2実施例におけるATD発
生回路は、通常は、An信号の所定の2値の状態変化が
あると所定のパルス幅のパルス信号を出力するが、/T
E発生回路から出力された/TE信号の2値の状態変化
により、外部信号である/MT信号のパルス幅に対応し
たパルス幅のATD信号を出力することができる。この
ことから、半導体集積回路のテストを行うときに、外部
からの信号で半導体集積回路の内部信号を操作すること
ができるため、例えば、DRAMにおいて、上記ATD
信号のパルス幅を狭くして、アクセス速度が遅いもの及
びアドレスノイズが発生するものをリジェクトするテス
トを行うことができ、該テストを厳しい条件で行うこと
ができる。
As described above, the ATD generating circuit in the second embodiment normally outputs a pulse signal of a predetermined pulse width when there is a predetermined binary state change of the An signal, but / T
By changing the binary state of the / TE signal output from the E generation circuit, it is possible to output an ATD signal having a pulse width corresponding to the pulse width of the / MT signal, which is an external signal. Therefore, when a test of the semiconductor integrated circuit is performed, an internal signal of the semiconductor integrated circuit can be manipulated by a signal from the outside.
The pulse width of the signal can be narrowed to perform a test for rejecting a signal with a low access speed and a signal with address noise, and the test can be performed under severe conditions.

【0089】上記第1実施例及び第2実施例で示したデ
ータ入力バッファ、/TE発生回路、ATD発生回路及
び/MT端子等を1つのDRAMの半導体集積回路に用
いてもよく、このように本発明は、様々な変形例が考え
られ、上記実施例に限定されるものではなく、本発明の
範囲は、特許請求の範囲によって定められるべきもので
あることは言うまでもない。なお、本明細書において、
I/Oと記した/以外の/は、信号レベルの反転を示すも
のである。
The data input buffer, the / TE generating circuit, the ATD generating circuit, the / MT terminal and the like shown in the first and second embodiments may be used in one DRAM semiconductor integrated circuit. The present invention can be modified in various ways and is not limited to the above-mentioned embodiments. It goes without saying that the scope of the present invention should be defined by the scope of the claims. In the present specification,
/ Other than / described as I / O indicates the inversion of the signal level.

【0090】[0090]

【発明の効果】上記の説明から明らかなように、本発明
の半導体集積回路によれば、第1内部信号出力手段は、
通常は、第1外部信号の所定の2値の状態変化があると
所定のパルス幅のパルス信号を出力するが、第2内部信
号出力手段(又はテストモード信号出力手段)から出力
された第2内部信号(又はテストモード信号)の2値の
状態変化により、第1外部信号のパルス幅に対応したパ
ルス幅の第1内部信号を第1内部信号出力手段の同じ経
路で出力することができる。このことから、半導体集積
回路のテストを行うときに、外部からの信号で半導体集
積回路の内部信号を操作することができるため、例え
ば、DRAMにおけるLong tRAS及びShort
tRWLという一連のテストにおけるテスト時間を短縮す
ることができると共に、該テストを厳しい条件で行うこ
とができる。
As is apparent from the above description, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, the first internal signal output means is
Normally, when there is a predetermined binary state change of the first external signal, a pulse signal with a predetermined pulse width is output, but the second internal signal output means (or the test mode signal output means) outputs the second pulse signal. By changing the binary state of the internal signal (or the test mode signal), the first internal signal having the pulse width corresponding to the pulse width of the first external signal can be output through the same path of the first internal signal output means. Therefore, when the semiconductor integrated circuit is tested, the internal signal of the semiconductor integrated circuit can be manipulated by a signal from the outside, and therefore, for example, Long RAS and Short in the DRAM.
It is possible to shorten the test time in a series of tests called tRWL and perform the test under severe conditions.

【0091】更に、上記のように第1内部信号出力手段
は、テストモード信号の2値の状態変化により、第1内
部信号をライトイネーブル信号のパルス幅に対応したパ
ルス信号にすることができるため、DRAMにおけるペ
ージモードという高速動作モードでのLong tRAS及
びShort tRWLという一連のテストを行うことがで
き、該テストを厳しい条件で行いながら一層の時間短縮
を行うことができる。
Further, as described above, the first internal signal output means can change the first internal signal into a pulse signal corresponding to the pulse width of the write enable signal by changing the binary state of the test mode signal. , A series of tests such as Long tRAS and Short tRWL in the high-speed operation mode called page mode in DRAM can be performed, and the time can be further shortened while performing the tests under severe conditions.

【0092】また、第1内部信号出力手段は、通常は、
第1外部信号(又はアドレス指定信号)の所定の2値の
状態変化があると所定のパルス幅の第1内部信号を出力
するが、第2内部信号出力手段(又はテストモード信号
出力手段)から出力された第2内部信号(又はテストモ
ード信号)の2値の状態変化により、第3外部信号のパ
ルス幅に対応したパルス幅の第1内部信号を出力するこ
とができる。このことから、半導体集積回路のテストを
行うときに、外部からの信号で半導体集積回路の内部信
号を操作することができるため、例えば、DRAMにお
いて、上記ATD信号のパルス幅を狭くして、アクセス
速度が遅いもの及びアドレスノイズが発生するものをリ
ジェクトするテストを行うことができ、該テストを厳し
い条件で行うことができる。
The first internal signal output means is normally
When there is a predetermined binary state change of the first external signal (or address designation signal), the first internal signal having a predetermined pulse width is output, but the second internal signal output means (or test mode signal output means) outputs the first internal signal. By changing the binary state of the output second internal signal (or test mode signal), the first internal signal having a pulse width corresponding to the pulse width of the third external signal can be output. Therefore, when the semiconductor integrated circuit is tested, the internal signal of the semiconductor integrated circuit can be manipulated by a signal from the outside. For example, in a DRAM, the pulse width of the ATD signal can be narrowed to access the semiconductor integrated circuit. It is possible to perform a test for rejecting a slow one and an address noise, and the test can be performed under severe conditions.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1実施例の半導体集積回路を使用
したDRAMの概略ブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a DRAM using a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1で示したデータ入力バッファ8Aの概略
ブロック図である。
FIG. 2 is a schematic block diagram of a data input buffer 8A shown in FIG.

【図3】 図2で示したWDE発生回路17Aの回路例
を示した回路図である。
3 is a circuit diagram showing a circuit example of a WDE generating circuit 17A shown in FIG.

【図4】 図3で示した回路における通常動作を行う通
常モード時のタイミングチャート図である。
FIG. 4 is a timing chart in a normal mode in which the circuit shown in FIG. 3 performs a normal operation.

【図5】 図3で示した回路におけるテストを行うテス
トモード時のタイミングチャート図である。
5 is a timing chart diagram in a test mode in which a test in the circuit shown in FIG. 3 is performed.

【図6】 テストモード時における図1で示したDRA
M13Aの各信号のページモードでのタイミングチャー
ト図である。
FIG. 6 is a DRA shown in FIG. 1 in a test mode.
It is a timing chart figure in page mode of each signal of M13A.

【図7】 本発明の第2実施例の半導体集積回路を使用
したDRAMの概略ブロック図である。
FIG. 7 is a schematic block diagram of a DRAM using a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図8】 図7で示したATD発生回路10Bの回路例
を示した回路図である。
8 is a circuit diagram showing a circuit example of the ATD generation circuit 10B shown in FIG.

【図9】 図8で示した回路におけるテストを行うテス
トモード時のタイミングチャート図である。
9 is a timing chart diagram in a test mode in which a test in the circuit shown in FIG. 8 is performed.

【図10】 従来例の半導体集積回路を使用したDRA
Mの概略ブロック図である。
FIG. 10 is a DRA using a conventional semiconductor integrated circuit.
It is a schematic block diagram of M.

【図11】 図10で示したI/Oイコライズ回路11
の例を示した概略のブロック図である。
11 is an I / O equalizer circuit 11 shown in FIG.
3 is a schematic block diagram showing an example of FIG.

【図12】 図10で示したデータ入力バッファ8の例
を示した概略のブロック図である。
12 is a schematic block diagram showing an example of the data input buffer 8 shown in FIG.

【図13】 図12で示したライトドライバ19の回路
例を示した回路図である。
13 is a circuit diagram showing a circuit example of the write driver 19 shown in FIG.

【図14】 図12で示したWDE発生回路17の回路
例を示した回路図である。
14 is a circuit diagram showing a circuit example of the WDE generating circuit 17 shown in FIG.

【図15】 図14で示した回路におけるタイミングチ
ャート図である。
FIG. 15 is a timing chart of the circuit shown in FIG.

【図16】 図10で示したATD発生回路10の回路
例を示した回路図である。
16 is a circuit diagram showing a circuit example of the ATD generation circuit 10 shown in FIG.

【図17】 図16で示した回路におけるタイミングチ
ャート図である。
FIG. 17 is a timing chart of the circuit shown in FIG.

【図18】 図10で示したDRAM13のメモリセル
4の構造例を示した回路図である。
18 is a circuit diagram showing a structural example of the memory cell 4 of the DRAM 13 shown in FIG.

【図19】 図10、図11、図12、図13、図14
及び図15で示したDRAM13の書き込み動作時にお
ける各信号のタイミングチャート図である。
FIG. 19 is a plan view of FIG. 10, FIG. 11, FIG. 12, FIG.
16 is a timing chart of each signal during a write operation of the DRAM 13 shown in FIG.

【図20】 図10、図11、図12、図13、図14
及び図15で示したDRAM13のページモード時の書
き込み動作時における各信号のタイミングチャート図で
ある。
FIG. 20: FIG. 10, FIG. 11, FIG. 12, FIG.
FIG. 16 is a timing chart of signals in the write operation of the DRAM 13 shown in FIG. 15 in the page mode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 アドレスバッファ、7 /WE発生回路、8,8A
データ入力バッファ、10,10B ATD発生回
路、12 /TE発生回路、13,13A,13B D
RAM、17,17A WDE発生回路、18 データ
入力バッファ部、19 ライトドライバ、/RAS,/
CAS,/W,/MT,A0〜A9 外部入力端子
1 address buffer, 7 / WE generation circuit, 8, 8A
Data input buffer, 10, 10B ATD generation circuit, 12 / TE generation circuit, 13, 13A, 13B D
RAM, 17, 17A WDE generation circuit, 18 data input buffer section, 19 write driver, / RAS, /
CAS, / W, / MT, A0 to A9 External input terminals

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1外部端子から入力される2値の第1
外部信号の状態変更に対応して所定の第1内部信号を生
成して出力する第1内部信号出力手段を備える半導体集
積回路において、 少なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子に所定
の信号が入力されると、2値の状態を変更して該所定の
信号が入力されたことを示す第2内部信号を生成して上
記第1内部信号出力手段に出力する第2内部信号出力手
段を備え、 上記第1内部信号出力手段は、上記第2内部信号出力手
段より入力された第2内部信号が所定の状態変更を行っ
た場合、上記第1外部信号の状態変更に対応して2値の
状態変更を行う第1内部信号を生成して出力することを
特徴とする半導体集積回路。
1. A binary first input from a first external terminal
In a semiconductor integrated circuit including first internal signal output means for generating and outputting a predetermined first internal signal in response to a change in the state of an external signal, a predetermined signal is applied to a second external terminal including at least one external terminal. And a second internal signal output means for changing the binary state to generate a second internal signal indicating that the predetermined signal has been input and outputting the second internal signal to the first internal signal output means. When the second internal signal input from the second internal signal output means changes a predetermined state, the first internal signal output means outputs a binary value corresponding to the state change of the first external signal. A semiconductor integrated circuit characterized by generating and outputting a first internal signal for changing a state.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体集積回路にし
て、上記第2内部信号出力手段は、上記第2外部端子に
所定の信号が入力されると、テストモードを開始させる
ために2値の状態を変更するテストモード信号を生成し
て上記第1内部信号出力手段に出力するテストモード信
号出力手段であり、上記第1内部信号出力手段は、上記
テストモード信号出力手段より入力されたテストモード
信号がテストモードを開始させるように状態変更を行っ
た場合、上記第1外部信号の状態変更に対応して2値の
状態変更を行う第1内部信号を生成して出力することを
特徴とする半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the second internal signal output means is binary for starting a test mode when a predetermined signal is input to the second external terminal. Is a test mode signal output means for generating a test mode signal for changing the state of the test signal and outputting the test mode signal to the first internal signal output means, wherein the first internal signal output means is a test input from the test mode signal output means. When the state is changed so that the mode signal starts the test mode, the first internal signal for changing the binary state corresponding to the state change of the first external signal is generated and output. Integrated semiconductor circuit.
【請求項3】 第1外部端子から入力される書き込み動
作を開始させるように2値の状態を変更するライトイネ
ーブル信号の状態変更に対応して所定の第1内部信号を
生成して出力する第1内部信号出力手段を備え、ページ
モードでの動作を行うDRAMにおける半導体集積回路
において、 少なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子に所定
の信号が入力されると、テストモードを開始させるため
に2値の状態を変更するテストモード信号を生成して上
記第1内部信号出力手段に出力するテストモード信号出
力手段を備え、 ページモード動作時において、上記第1内部信号出力手
段は、上記テストモード信号出力手段より入力されたテ
ストモード信号がテストモードを開始させるように状態
変更を行った場合、上記第1外部信号の状態変更に対応
して2値の状態変更を行う第1内部信号を、通常の動作
時と同じ経路を用いて生成し出力することを特徴とする
DRAMにおける半導体集積回路。
3. A first internal signal is generated and output in response to a state change of a write enable signal for changing a binary state so as to start a write operation input from a first external terminal. 1. In a semiconductor integrated circuit in a DRAM that includes an internal signal output unit and operates in a page mode, in order to start a test mode when a predetermined signal is input to a second external terminal including at least one external terminal. A test mode signal output means for generating a test mode signal for changing a binary state and outputting the test mode signal to the first internal signal output means is provided, and in the page mode operation, the first internal signal output means outputs the test mode signal. When the test mode signal input from the signal output means changes the state so as to start the test mode, the state change of the first external signal is performed. The semiconductor integrated circuit in a DRAM of the first internal signal, and generates and outputs with the same path as normal operation for state change of the binary corresponds to.
【請求項4】 第1外部端子から入力される2値の第1
外部信号の状態変更に対応して所定の第1内部信号を生
成して出力する第1内部信号出力手段を備える半導体集
積回路において、 少なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子に所定
の信号が入力されると、2値の状態を変更して該所定の
信号が入力されたことを示す第2内部信号を生成して上
記第1内部信号出力手段に出力する第2内部信号出力手
段と、 上記第1内部信号出力手段に入力する第3外部信号が入
力される第3外部端子とを備え、 上記第1内部信号出力手段は、上記第2内部信号出力手
段より入力された第2内部信号が所定の状態変更を行っ
た場合、上記第3外部信号の状態変更に対応して2値の
状態変更を行う第1内部信号を生成して出力することを
特徴とする半導体集積回路。
4. A binary first input from a first external terminal
In a semiconductor integrated circuit including first internal signal output means for generating and outputting a predetermined first internal signal in response to a change in the state of an external signal, a predetermined signal is applied to a second external terminal including at least one external terminal. Second internal signal output means which, when input, changes a binary state to generate a second internal signal indicating that the predetermined signal has been input and outputs the second internal signal to the first internal signal output means, A third external terminal to which a third external signal input to the first internal signal output means is input, wherein the first internal signal output means is a second internal signal input from the second internal signal output means. When the predetermined state change is performed, the semiconductor integrated circuit is configured to generate and output a first internal signal for performing a binary state change corresponding to the state change of the third external signal.
【請求項5】 請求項4に記載の半導体集積回路にし
て、上記第2内部信号出力手段は、上記第2外部端子に
所定の信号が入力されると、テストモードを開始させる
ために2値の状態を変更するテストモード信号を生成し
て上記第1内部信号出力手段に出力するテストモード信
号出力手段であり、上記第1内部信号出力手段は、上記
テストモード信号出力手段より入力されたテストモード
信号がテストモードを開始させるように状態変更を行っ
た場合、上記第3外部信号の状態変更に対応して2値の
状態変更を行う第1内部信号を生成して出力することを
特徴とする半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 4, wherein the second internal signal output means is a binary signal for starting a test mode when a predetermined signal is input to the second external terminal. Is a test mode signal output means for generating a test mode signal for changing the state of the test signal and outputting the test mode signal to the first internal signal output means, the first internal signal output means being the test input from the test mode signal output means When the state is changed so that the mode signal starts the test mode, the first internal signal for changing the binary state corresponding to the state change of the third external signal is generated and output. Integrated semiconductor circuit.
【請求項6】 少なくとも1つの外部端子からなる第1
外部端子より入力されるアドレス指定信号の2値の状態
変更に対応して所定の第1内部信号を生成して出力する
第1内部信号出力手段を備えたDRAMにおける半導体
集積回路において、 少なくとも1つの外部端子からなる第2外部端子に所定
の信号が入力されると、テストモードを開始させるため
に2値の状態を変更するテストモード信号を生成して上
記第1内部信号出力手段に出力するテストモード信号出
力手段と、 上記第1内部信号出力手段に入力する第3外部信号が入
力される第3外部端子とを備え、 上記第1内部信号出力手段は、上記テストモード信号出
力手段より入力されたテストモード信号がテストモード
を開始させるように状態変更を行った場合、上記第3外
部信号の状態変更に対応して2値の状態変更を行う第1
内部信号を生成して出力することを特徴とするDRAM
における半導体集積回路。
6. A first device comprising at least one external terminal
At least one semiconductor integrated circuit in a DRAM including a first internal signal output means for generating and outputting a predetermined first internal signal in response to a binary state change of an address designation signal input from an external terminal. When a predetermined signal is input to the second external terminal, which is an external terminal, a test mode signal for changing the binary state to start the test mode is generated and output to the first internal signal output means. A mode signal output unit and a third external terminal to which a third external signal input to the first internal signal output unit is input are provided, and the first internal signal output unit is input from the test mode signal output unit. When the state change is performed so that the test mode signal starts the test mode, the binary state change is performed corresponding to the state change of the third external signal.
DRAM characterized by generating and outputting an internal signal
Integrated circuit in.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100442966B1 (en) * 2001-12-28 2004-08-04 주식회사 하이닉스반도체 Operation monitoring device of row address counter

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