JPH08262500A - Solid-state device having nonlinear element - Google Patents

Solid-state device having nonlinear element

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JPH08262500A
JPH08262500A JP8436696A JP8436696A JPH08262500A JP H08262500 A JPH08262500 A JP H08262500A JP 8436696 A JP8436696 A JP 8436696A JP 8436696 A JP8436696 A JP 8436696A JP H08262500 A JPH08262500 A JP H08262500A
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JP
Japan
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electrode layer
film
linear element
nonlinear element
liquid crystal
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Application number
JP8436696A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideto Ishiguro
英人 石黒
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Abstract

PURPOSE: To make it possible to improve the stability of current-current characteristics with lapse of time, etc., by independently constituting nonlinear elements without using the wiring layers of a solid-state device as constituting elements. CONSTITUTION: The nonlinear element 20 of a MIM type is composed of a Ta electrode layer 22 conducted and connected to a scanning circuit (driving circuit) side via a scanning line, a Ta2 O5 film 23 (anodically oxidized film) formed by anodic oxidation in an aq. citric acid soln. on the surface of this Ta electrode layer 22 and a Cr electrode layer 25 formed on the front surface side of this anodically oxidized film 23. The MIM nonlinear element 20 is conducted and connected via this Cr electrode layer 25 to a pixel electrode 24 consisting of ITO on its signal supply circuit side. Namely, the nonlinear element 20 does not include the pixel electrode 24 as its constituting element but is independently composed of the Ta electrode layer 22, the Ta2 O5 film 23 and the Cr electrode layer 25. Then, the selection of the Cr layer, etc., in preference to the operating characteristics as the nonlinear element 20 is possible.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は非線形素子を備える
固体装置に関し、特に、その非線形素子のスイッチング
動作の安定化技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solid-state device having a non-linear element, and more particularly to a technique for stabilizing the switching operation of the non-linear element.

【0002】[0002]

【従来の技術】非線形素子を備える代表的な固体装置で
あるアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルにおい
ては、画素領域毎に非線形素子を設けてマトリックスア
レイを形成した一方側の基板と、カラーフィルタが形成
された他方側の基板との間に液晶を充填しておき、各画
素領域毎の液晶の配向状態を制御して、所定の情報を表
示する。ここで、非線形素子として、TFTなどの3端
子素子、あるいは2端子素子を用いるが、液晶表示パネ
ルに対する画面の大型化および低コスト化などの要求に
対応するには、2端子素子を用いた方式が有利である。
しかも、2端子素子を用いた場合には、マトリックスア
レイを形成した一方側の基板に走査線を設け、他方側の
基板に信号線を設けることができるので、走査線と信号
線とのクロスオーバー短絡が発生しないというメリット
もある。
2. Description of the Related Art In an active matrix type liquid crystal display panel, which is a typical solid-state device provided with a non-linear element, a non-linear element is provided for each pixel area to form a matrix array, and a color filter is formed. Liquid crystal is filled between the substrate and the other substrate, and the alignment state of the liquid crystal in each pixel region is controlled to display predetermined information. Here, a three-terminal element such as a TFT or a two-terminal element is used as the non-linear element, but a method using the two-terminal element is used in order to meet the demand for a larger screen and lower cost of the liquid crystal display panel. Is advantageous.
Moreover, when the two-terminal element is used, the scanning lines can be provided on the substrate on one side where the matrix array is formed, and the signal lines can be provided on the substrate on the other side. Therefore, the crossover between the scanning lines and the signal lines is possible. There is also an advantage that a short circuit does not occur.

【0003】このような2端子素子を用いたアクティブ
マトリクス方式の液晶表示パネルにおいては、図2に示
すように、各画素領域1aで各走査線11と各信号線1
2との間に非線形素子2(図中、バリスタの符号で示
す。)と液晶表示素子3(図中、コンデンサの符号で示
す。)が直列接続された構成として表され、走査線11
および信号線12に印加された信号に基づいて、液晶表
示素子3を選択状態(表示状態)および非選択状態(非
表示状態)に切り換えて表示動作を制御する。すなわ
ち、図3(a)に実線31で示すように、非線形素子2
において、印加電圧VNLと電流INLとは非線形性の関係
を有しているため、非線形素子2のスレッショルド電圧
をVth、液晶表示素子3が非表示状態となる電位を
a 、表示状態となる電位を(Va +ΔV)として図3
(b)に示すように、所定の画素領域1aにおける走査
線11と信号線12との間の電位差V(単位画素への印
加電圧)を(Va +Vth)とすることによって、非線形
素子2を遮断状態として、液晶表示素子3を非選択状態
とする一方、走査線11と信号線12との間の電位差V
を(Va +Vth+ΔV)とすることによって、非線形素
子2を導通状態として、液晶表示素子3を選択状態とす
る。
In an active matrix type liquid crystal display panel using such a two-terminal element, as shown in FIG. 2, each scanning line 11 and each signal line 1 in each pixel region 1a.
2 and a non-linear element 2 (indicated by a varistor symbol in the figure) and a liquid crystal display element 3 (indicated by a symbol in the figure) are connected in series.
Based on the signal applied to the signal line 12, the liquid crystal display element 3 is switched between the selected state (display state) and the non-selected state (non-display state) to control the display operation. That is, as indicated by the solid line 31 in FIG.
Since the applied voltage V NL and the current I NL have a non-linear relationship, the threshold voltage of the nonlinear element 2 is V th , the potential at which the liquid crystal display element 3 is in the non-display state is V a , and the display state is Assuming that the potential is (V a + ΔV),
As shown in (b), the potential difference V (applied voltage to the unit pixel) between the scanning line 11 and the signal line 12 in the predetermined pixel region 1a is set to (V a + V th ), whereby the nonlinear element 2 Is cut off to bring the liquid crystal display element 3 into a non-selected state, while the potential difference V between the scanning line 11 and the signal line 12 is
Is set to (V a + V th + ΔV), the non-linear element 2 is brought into conduction and the liquid crystal display element 3 is brought into a selected state.

【0004】ここで、非線形素子2は、従来において
は、図5に示すように、透明基板51の表面側に形成さ
れて、走査線11を介して走査回路(駆動回路)側に導
電接続するTa電極層52と、その表面側のTa2 5
膜53と、その表面側に形成されたITOからなる画素
電極54とから構成されたダイーオード型の非線形素子
50である。ここで、Ta2 5 膜53は、Ta電極層
22の表面に膜厚さが均一で、しかもピンホールがない
状態で形成されるように、Ta電極層22に対する陽極
酸化によって形成され、その陽極酸化用の電解液として
は、クエン酸の水溶液が用いられている。
Here, as shown in FIG. 5, the non-linear element 2 is conventionally formed on the front surface side of the transparent substrate 51 and conductively connected to the scanning circuit (driving circuit) side via the scanning line 11. Ta electrode layer 52 and Ta 2 O 5 on the surface side thereof
The diode type non-linear element 50 includes a film 53 and a pixel electrode 54 made of ITO formed on the surface side of the film 53. Here, the Ta 2 O 5 film 53 is formed by anodizing the Ta electrode layer 22 so that the Ta 2 O 5 film 53 is formed on the surface of the Ta electrode layer 22 with a uniform film thickness and without pinholes. An aqueous solution of citric acid is used as the electrolytic solution for anodic oxidation.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、非線形
素子50を用いた液晶表示パネルにおいては、従来よ
り、静止画像などを表示した後に残像が発生しやすく、
表示性能が低いという問題点があった。その原因はこれ
まで不明であったが、本願発明者は、マトリックスアレ
イの各構成要素と表示性能との関係を調査した結果、そ
の原因が非線形素子50の電流−電圧特性の経時的安定
性に問題があることを確認した。
However, in the liquid crystal display panel using the non-linear element 50, an afterimage is more likely to occur after displaying a still image, etc.
There is a problem that the display performance is low. The cause has not been known so far, but as a result of investigating the relationship between each constituent element of the matrix array and the display performance, the present inventor found that the cause was the stability of the current-voltage characteristics of the nonlinear element 50 with time. I confirmed there was a problem.

【0006】すなわち、非線形素子50において、印加
電圧VNLと電流INLとの関係が、初期状態において図3
(a)に実線31で示す関係であったものが、経時的
に、破線32または一点鎖線33で示すようにシフトし
てしまうためである。ここで、印加電圧VNLと電流INL
との関係がシフトした場合には、たとえば、表示状態か
ら非表示状態に切り換えるため、走査線11と信号線1
2との電位差Vを(Va+Vth+ΔV)から(Va +V
th)に切り換えても、非線形素子50を導通状態から遮
断状態に切換、制御することができなくなって、残像な
どを発生させてしまう。また、逆の表示動作の場合も同
様である。
That is, in the nonlinear element 50, the relationship between the applied voltage V NL and the current I NL is as shown in FIG.
This is because the relationship indicated by the solid line 31 in (a) shifts over time as indicated by the broken line 32 or the alternate long and short dash line 33. Here, the applied voltage V NL and the current I NL
When the relationship between the scanning line 11 and the signal line 1 is changed from the display state to the non-display state,
The potential difference V from 2 is (V a + V th + ΔV) to (V a + V
Even if it is switched to th ), the non-linear element 50 cannot be switched and controlled from the conductive state to the cutoff state, and an afterimage is generated. The same applies to the case of the reverse display operation.

【0007】このような問題点を解消するために、本願
発明者は、従来の陽極酸化条件のうち、陽極酸化におけ
る電流密度や液温度を変えて、さらには他の有機酸を用
いてTa2 5 膜を形成し、各非線形素子における印加
電圧VNLと電流INLとの関係の経時的安定性を検討した
が、いずれのTa2 5 膜においても、その安定性を向
上させるには至らなかった。
In order to solve such a problem, the inventor of the present application changed Ta 2 by changing the current density and the liquid temperature in the anodic oxidation among the conventional anodic oxidation conditions and further by using another organic acid. An O 5 film was formed, and the temporal stability of the relationship between the applied voltage V NL and the current I NL in each nonlinear element was examined. To improve the stability of any Ta 2 O 5 film, It didn't come.

【0008】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
非線形素子を用いたコストメリットを確保しながら、そ
の印加電圧と電流特性との関係を経時的にも安定化可能
な非線形素子を備えた固体装置を実現することにある。
In view of the above problems, the object of the present invention is to:
An object of the present invention is to realize a solid-state device including a non-linear element that can stabilize the relationship between the applied voltage and the current characteristics with time while ensuring the cost advantage of using the non-linear element.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る固体装置において講じた手段は、基板
の表面側に形成された非線形素子が、その一方の回路側
に導電接続する第1の金属電極層と、この金属電極層表
面に形成された陽極酸化膜と、この陽極酸化膜の表面側
に形成された第2の金属電極層とによって構成されてお
り、この第2の金属電極層を介して、非線形素子は他方
の回路側に導電接続していることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the means taken in the solid state device according to the present invention is such that a non-linear element formed on the front surface side of a substrate is conductively connected to one circuit side thereof. The first metal electrode layer, the anodic oxide film formed on the surface of the metal electrode layer, and the second metal electrode layer formed on the surface side of the anodic oxide film are included in the second metal electrode layer. The non-linear element is conductively connected to the other circuit side through the metal electrode layer.

【0010】[0010]

【作用】本発明において、非線形素子は、第2の金属電
極層を介して他方の回路側に導電接続しており、第1の
金属電極層,陽極酸化膜および第2の金属電極層によっ
て回路側から独立した構成になっている。従って、他方
の回路側の配線層や画素電極などが非線形素子の構成要
素になっていないので、非線形素子の動作特性に適する
ように第2の金属電極層の材質などを選択することがで
きる。
In the present invention, the non-linear element is conductively connected to the other circuit side through the second metal electrode layer, and the circuit is formed by the first metal electrode layer, the anodic oxide film and the second metal electrode layer. It has become independent from the side. Therefore, since the wiring layer and the pixel electrode on the other circuit side are not constituent elements of the non-linear element, the material of the second metal electrode layer and the like can be selected so as to suit the operating characteristics of the non-linear element.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】つぎに、添付図面に基づいて、本
発明の実施例に係る非線形素子を備える固体装置につい
て説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, a solid-state device having a nonlinear element according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0012】〔実施例1〕図1は、本発明の実施例1に
係る固体装置の非線形素子の構成を示す断面図である。
なお、本例の非線形素子の動作は、従来の非線形素子の
動作と同様であるため、その動作特性などについては図
2および図3を参照して説明する。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a non-linear element of a solid-state device according to Embodiment 1 of the present invention.
The operation of the non-linear element of this example is similar to that of the conventional non-linear element, and its operation characteristics and the like will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

【0013】図1に示すように、本例のMIM型の非線
形素子2(以下、MIM型非線形素子20と称す。)
は、走査線11を介して走査回路(駆動回路)側に導電
接続するTa電極層22(第1の金属電極層)と、この
Ta電極層22の表面にクエン酸水溶液中での陽極酸化
により形成されたTa2 5 膜23(陽極酸化膜)と、
この陽極酸化膜23の表面側に形成されたCr電極層2
5(第2の金属電極層)とによって構成されており、こ
のCr電極層25を介して、MIM型非線形素子20
は、その信号供給回路側たるITOからなる画素電極2
4に導電接続している。すなわち、非線形素子2は、そ
の構成要素として画素電極24を含むのではなく、Ta
電極層22,Ta2 5 膜23,およびCr電極層25
によって独立して構成されている。
As shown in FIG. 1, the MIM type non-linear element 2 of the present example (hereinafter referred to as the MIM type non-linear element 20).
Is a Ta electrode layer 22 (first metal electrode layer) that is conductively connected to the scanning circuit (driving circuit) side via the scanning line 11, and the surface of the Ta electrode layer 22 is anodized in an aqueous citric acid solution. The formed Ta 2 O 5 film 23 (anodized film),
Cr electrode layer 2 formed on the surface side of this anodic oxide film 23
5 (second metal electrode layer), and the MIM non-linear element 20 via the Cr electrode layer 25.
Is the pixel electrode 2 made of ITO which is the signal supply circuit side.
4 is conductively connected. That is, the nonlinear element 2 does not include the pixel electrode 24 as its constituent element but Ta element.
Electrode layer 22, Ta 2 O 5 film 23, and Cr electrode layer 25
Is independently configured by.

【0014】このため、第2の金属電極層として、固体
装置の構成上の制約を受けず、非線形素子としての動作
特性を優先してCr層などを選択できるので、そのスイ
ッチング特性なども良好である。たとえば、本例のMI
M型非線形素子20においては、印加電圧VNLと電流I
NLとの関係が、初期状態において図3(a)に実線31
で示す関係であったものが、たとえば、長時間、電位が
印加された後でも、実線31の関係を保持し、図3
(a)に破線32または一点鎖線33で示す関係にシフ
トすることがない。それ故、たとえば、図2に示すよう
な回路構成であっても、走査線11および信号線12に
対してそれぞれ印加された信号に基づいて、MIM型非
線形素子20は、確実に導通状態または遮断状態に切
換、制御される。それ故、このMIM型非線形素子20
を用いた固体装置においては、その動作の信頼性が高
い。
Therefore, as the second metal electrode layer, the Cr layer or the like can be selected without giving priority to the configuration of the solid-state device and giving priority to the operating characteristics as the non-linear element. is there. For example, the MI of this example
In the M-type non-linear element 20, the applied voltage V NL and the current I
The relationship with NL is shown by the solid line 31 in FIG.
The relationship shown in FIG. 3 holds the relationship of the solid line 31 even after the electric potential is applied for a long time.
There is no shift to the relationship indicated by the broken line 32 or the alternate long and short dash line 33 in (a). Therefore, for example, even in the case of the circuit configuration shown in FIG. 2, the MIM nonlinear element 20 is surely brought into the conducting state or cut off based on the signals applied to the scanning line 11 and the signal line 12, respectively. The state is switched and controlled. Therefore, this MIM type non-linear element 20
The solid-state device using is highly reliable in operation.

【0015】〔実施例2〕つぎに、本発明の実施例2に
係る液晶表示パネル(固体装置)およびその製造方法に
ついて説明する。ここで、そのマトリッスクスアレイの
構造および動作は、実施例1のMIM型非線形素子20
と同様であるため、同じく図1を用いて説明するが、対
応する部分には同符号を付してある。また、その動作な
どは、従来の非線形素子と同様であるため、同じく図2
および図3を参照して説明する。
Second Embodiment Next, a liquid crystal display panel (solid state device) according to a second embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same will be described. Here, the structure and operation of the matrix array are the same as those of the MIM type nonlinear device 20 of the first embodiment.
Since it is the same as the above, the description will be made similarly with reference to FIG. 1, but the corresponding portions are denoted by the same reference numerals. Moreover, since the operation thereof is similar to that of the conventional non-linear element, the same operation as in FIG.
And it demonstrates with reference to FIG.

【0016】本例に係るアクティブマトリックス方式の
液晶表示パネル(固体装置)においては、図1および図
2に示すように、マトリックスアレイの画素領域1a毎
に、走査線11を介して走査回路(駆動回路)側に導電
接続するTa電極層22(第1の金属電極層)と、この
Ta電極層22の表面に陽極酸化により形成されたTa
2 5 膜23(陽極酸化膜)と、この陽極酸化膜23の
表面側に形成されて、ITOからなる画素電極24に導
電接続するCr電極層25(第2の金属電極層)とによ
ってMIM型の非線形素子2(以下、MIM型非線形素
子20と称す。
In the active matrix type liquid crystal display panel (solid-state device) according to this example, as shown in FIGS. 1 and 2, a scanning circuit (driving circuit) is provided via a scanning line 11 for each pixel region 1a of the matrix array. A Ta electrode layer 22 (first metal electrode layer) conductively connected to the circuit side, and Ta formed on the surface of the Ta electrode layer 22 by anodic oxidation.
The MIM is composed of a 2 O 5 film 23 (anodic oxide film) and a Cr electrode layer 25 (second metal electrode layer) formed on the surface side of the anodic oxide film 23 and conductively connected to the pixel electrode 24 made of ITO. Type nonlinear element 2 (hereinafter referred to as MIM type nonlinear element 20).

【0017】)が構成されている。すなわち、MIM型
非線形素子20は、その構成要素として画素電極24を
含むのではなく、Ta電極層22,Ta2 5 膜23お
よびCr電極層25(第2の金属電極層)によって独立
して構成されている。
) Is configured. That is, the MIM type non-linear element 20 does not include the pixel electrode 24 as its constituent element but is independently provided by the Ta electrode layer 22, the Ta 2 O 5 film 23, and the Cr electrode layer 25 (second metal electrode layer). It is configured.

【0018】ここで、Ta2 5 膜23の内部には、V
属元素を組成に含むドーピング材としてホウ酸アニオン
がドーピングされている。このため、本例のMIM型非
線形素子20においては、詳しくは実験結果に基づいて
後述するが、印加電圧VNLと電流INLとの関係が、初期
状態において図3(a)に実線31で示す関係であった
ものが、たとえば、静止画を表示するために長時間、電
位が印加された後でも、実線31の関係を保持し、図3
(a)に破線32または一点鎖線33で示す関係にシフ
トすることがない。そして、その安定性は、実施例1の
MIM型非線形素子と比較しても、極めて高い。それ
故、走査線11および信号線12に対してそれぞれ印加
された信号に基づいて発生する走査線11と信号線12
との間に生じた電位差によって、液晶表示素子3を選択
状態と非選択遮断状態との間で確実に切り換えて表示動
作を制御することができる。すなわち、図3(b)に示
すように、走査線11と信号線12との間の電位差Vを
(Vb +Vth)とすることによって、MIM型非線形素
子20を遮断状態として、液晶表示素子3を非表示状態
(非選択状態)とする一方、走査線11と信号線12と
の間の電位差Vを(Vb +Vth+ΔV)とすることによ
って、MIM型非線形素子20を導通状態として、液晶
表示素子3を表示状態(選択状態)とするときに、MI
M型非線形素子20の印加電圧VNLと電流INLとの関係
が使用履歴によって極めてシフトしにくいので、走査線
11および信号線12からの信号の変化に追従して、液
晶表示パネルの液晶の配向状態が変化する。それ故、液
晶表示パネルに残像などの発生がなく、その表示品質が
高い。
Here, inside the Ta 2 O 5 film 23, V
A borate anion is doped as a doping material containing a group element in its composition. Therefore, in the MIM nonlinear element 20 of the present example, the relationship between the applied voltage V NL and the current I NL is shown by a solid line 31 in FIG. The relationship shown in FIG. 3 holds the relationship of the solid line 31 even after the potential is applied for a long time to display a still image, for example.
There is no shift to the relationship indicated by the broken line 32 or the alternate long and short dash line 33 in (a). The stability is extremely high even when compared with the MIM type nonlinear element of the first embodiment. Therefore, the scanning line 11 and the signal line 12 generated based on the signals applied to the scanning line 11 and the signal line 12, respectively.
The potential difference generated between the liquid crystal display element 3 and the liquid crystal display element 3 can reliably switch the liquid crystal display element 3 between the selected state and the non-selected cutoff state to control the display operation. That is, as shown in FIG. 3B, by setting the potential difference V between the scanning line 11 and the signal line 12 to (V b + V th ), the MIM type non-linear element 20 is turned off, and the liquid crystal display element is displayed. 3 is set to the non-display state (non-selected state), while the potential difference V between the scanning line 11 and the signal line 12 is set to (V b + V th + ΔV), the MIM type nonlinear element 20 is set to the conductive state. When the liquid crystal display element 3 is brought into the display state (selected state), the MI
Since the relationship between the applied voltage V NL of the M-type non-linear element 20 and the current I NL is extremely unlikely to shift depending on the usage history, it follows the changes in the signals from the scanning line 11 and the signal line 12 and the The orientation state changes. Therefore, the liquid crystal display panel has no afterimage and the display quality is high.

【0019】このような構成の液晶表示パネルの製造方
法を、以下に説明する。
A method of manufacturing a liquid crystal display panel having such a structure will be described below.

【0020】まず、予めTa酸化物層21aなどを形成
した透明基板21の表面側にTa層をスパッタ形成した
後、Ta層をパターニングしてTa電極層22を形成す
る。このTa電極層22は、走査回路まで延長されて走
査線11も構成している。
First, a Ta layer is formed by sputtering on the surface side of the transparent substrate 21 on which the Ta oxide layer 21a and the like are formed in advance, and then the Ta layer is patterned to form a Ta electrode layer 22. The Ta electrode layer 22 also extends to the scanning circuit to form the scanning line 11.

【0021】つぎに、Ta電極層22に陽極酸化を施し
て、その表面層をTa2 5 膜23とする。ここで、陽
極酸化用電解液として、ホウ酸の水溶液を用いる。ま
ず、陽極酸化用電解液の中に、Ta電極層22を形成し
た透明基板21を浸漬し、定電流定電圧電源の電流値
を、初期電流密度が0.1mA/cm2 となるように設
定して、定電流条件下で陽極酸化を行う。このときの定
電流定電圧電源の設定電圧は、所定の膜厚さに対応した
電圧値、通常は30〜40vに設定してある。ここで、
定電流条件下で約15分間、陽極酸化を行うと、Ta2
5 膜の成長にともなって電源電圧が上昇していき、電
源電圧が設定電圧に達した後は、定電圧陽極酸化過程と
なって、漏れ電流が減衰していく。この状態で、約2時
間保持して、Ta電極層22の表面上に厚さが500Å
のTa2 5 膜23を形成する。なお、陽極酸化用電解
液の液温度は常温である。
Next, the Ta electrode layer 22 is anodized to form a surface layer of the Ta 2 O 5 film 23. Here, an aqueous solution of boric acid is used as the anodizing electrolyte. First, the transparent substrate 21 on which the Ta electrode layer 22 is formed is immersed in the anodizing electrolyte solution, and the current value of the constant current / constant voltage power source is set so that the initial current density is 0.1 mA / cm 2. Then, anodization is performed under constant current conditions. At this time, the set voltage of the constant current constant voltage power supply is set to a voltage value corresponding to a predetermined film thickness, usually 30 to 40 v. here,
When anodic oxidation is performed for about 15 minutes under constant current conditions, Ta 2
The power supply voltage rises with the growth of the O 5 film, and after the power supply voltage reaches the set voltage, a constant voltage anodization process occurs and the leakage current attenuates. In this state, hold for about 2 hours to make the thickness of 500 Å on the surface of the Ta electrode layer 22.
Then, a Ta 2 O 5 film 23 is formed. The liquid temperature of the anodizing electrolyte is room temperature.

【0022】しかる後に、Ta2 5 膜23の表面上に
Crをスパッタ形成、およびパターニングしてCr電極
層25を形成し、Ta電極層22,Ta2 5 膜23お
よびCr電極層25からなるMIM型非線形素子20を
構成する。ここで、画素電極24については、図1に示
すように、Cr電極層25の下層側に形成する場合は、
Cr電極層25の形成工程の前に形成しておくが、画素
電極24を形成する工程の工程順序は、各電極材料と、
それをエッチングするエッチャント種との関係などによ
って任意に設定される。
Thereafter, Cr is sputtered on the surface of the Ta 2 O 5 film 23 and patterned to form a Cr electrode layer 25. The Ta electrode layer 22, the Ta 2 O 5 film 23 and the Cr electrode layer 25 are separated from each other. The MIM type non-linear element 20 is formed. Here, as shown in FIG. 1, when the pixel electrode 24 is formed below the Cr electrode layer 25,
It is formed before the step of forming the Cr electrode layer 25, but the order of the step of forming the pixel electrode 24 is as follows.
It is arbitrarily set depending on the relationship with the etchant species that etches it.

【0023】このような陽極酸化工程により形成された
MIM型非線形素子20においては、陽極酸化用電解液
中にホウ酸がアニオン種として配合されているため、陽
極酸化過程において、Ta2 5 の成長と共に、ホウ酸
アニオンはTa2 5 膜23の内部に侵入していく。ま
た、その侵入は、Ta2 5 膜23の粒界の安定化、ま
たは結晶性などに影響を及ぼしているものと推定でき
る。このため、Ta2 5 膜23を改質するために、イ
オン注入などのプロセスを用いなくとも、Ta25
23の形成工程を援用して、ホウ酸アニオンのドープを
行なえる。従って、工程数が増えることがないので、液
晶表示パネルのマトリックスアレイにMIM型非線形素
子20を用いたコストメリットが犠牲になることがな
い。
In the MIM type non-linear element 20 formed by such an anodizing process, since boric acid is mixed as an anion species in the anodizing electrolyte solution, Ta 2 O 5 is added in the anodizing process. With growth, borate anions penetrate into the Ta 2 O 5 film 23. Further, it can be presumed that the invasion affects the stabilization of the grain boundaries of the Ta 2 O 5 film 23, the crystallinity, or the like. Therefore, in order to modify the Ta 2 O 5 film 23, it is possible to dope the borate anion by using the step of forming the Ta 2 O 5 film 23 without using a process such as ion implantation. Therefore, since the number of steps is not increased, the cost merit of using the MIM type non-linear element 20 in the matrix array of the liquid crystal display panel is not sacrificed.

【0024】ここで、陽極酸化条件のうち、陽極酸化用
電解液の液組成(ホウ酸濃度)と、MIM型非線形素子
20のVthとの関係を検討した結果を説明する。
Now, the result of studying the relationship between the liquid composition (boric acid concentration) of the anodizing electrolyte solution and V th of the MIM type non-linear element 20 among the anodizing conditions will be described.

【0025】本例においては、(NH4247・4H
20で表される85wt%の四ホウ酸アンモニウム四水
和物に対して、所定量の水を添加して、種々の陽極酸化
用電解液を調製し、その四ホウ酸アンモニウム濃度と、
MIM型非線形素子20のVthの安定性との関係を検討
した。ここで、MIM型非線形素子における印加電圧と
電流との関係は、一般に下式で表される。
In this example, (NH 4 ) 2 B 4 0 7 .4H
A predetermined amount of water was added to 85 wt% ammonium tetraborate tetrahydrate represented by 20, to prepare various anodizing electrolyte solutions, and the ammonium tetraborate concentration and
The relationship with the stability of V th of the MIM type non-linear element 20 was examined. Here, the relationship between the applied voltage and the current in the MIM type nonlinear element is generally expressed by the following equation.

【0026】I=αVexp(β・V1/2 ) 但し、式中、αは導電係数、βは非線形係数であり、下
式で表される。
I = αVexp (βV 1/2 ) where α is a conductivity coefficient and β is a non-linear coefficient, which is expressed by the following equation.

【0027】α=(nμq/d)exp(−φ/kT) β=(1/kT)(q3 /πε1 ε0 d)1/2 但し、式中、n:キャリア密度,μ:キャリヤの移動
度,q:電子の電荷量 d:膜厚さ,φ:トラップ深さ,k:ボルツマン定数,
T:周囲温度 ε1 ,ε0 :誘電率 従って、log(I/V)をV1/2 に対してプロットす
ると、図4(a)に実線41で示すように略直線で表さ
れる。本例における検討においては、スレッショルド電
圧Vthとして、10mA/cm2 の電流値が流れるとき
の印加電圧値をVth1 、10μA/cm2 の電流値が流
れるときの印加電圧値をVth2 とし、それらの値によっ
て、MIM型非線形素子20のVthの安定性を評価し
た。すなわち、所定の電流値に対応する印加電圧値V
th1 またはVth2 は、従来のMIM型非線形素子におい
ては、電位を印加した時間と、Vth1 またはVth2 がシ
フトする電圧ΔVthとの間に、図4(b)に実線42で
示すような関係があり、表示の安定性を低下させる原因
となることが確認されているので、ここでは、実施例1
および本例のMIM型非線形素子に対して、同一の電位
を印加し、所定時間が経過した後のΔVthを比較した。
従って、ΔVthの値が小さな方が好ましい。
Α = (nμq / d) exp (−φ / kT) β = (1 / kT) (q 3 / πε 1 ε 0 d) 1/2 where n: carrier density, μ: carrier , Q: electron charge amount d: film thickness, φ: trap depth, k: Boltzmann constant,
T: Ambient temperature ε 1 , ε 0 : Permittivity Therefore, when log (I / V) is plotted against V 1/2 , it is represented by a substantially straight line as shown by a solid line 41 in FIG. In the examination in this example, as the threshold voltage V th , the applied voltage value when a current value of 10 mA / cm 2 flows is V th1 , and the applied voltage value when a current value of 10 μA / cm 2 flows is V th2 . Based on these values, the stability of V th of the MIM type non-linear element 20 was evaluated. That is, the applied voltage value V corresponding to the predetermined current value
th1 or V th2, in the conventional MIM nonlinear device, between time and a potential is applied, a voltage [Delta] V th where V th1 or V th2 is shifted, as shown by the solid line 42 in FIG. 4 (b) It has been confirmed that there is a relation and that it causes a decrease in display stability.
Then, the same potential was applied to the MIM type non-linear element of this example, and ΔV th after a predetermined time passed was compared.
Therefore, it is preferable that the value of ΔV th is small.

【0028】(陽極酸化用電解液組成と初期のVthとの
関係)まず、陽極用電解液の組成として〔(NH42
47・4H20〕/〔(NH4247・4H20+H2
0〕wt%の値を変えて、MIM型非線形素子20を形
成し、陽極酸化用電解液の組成と、各MIM型非線形素
子20の初期におけるVth1 またはVth2 との関係を表
1に示す。なお、表1には、Ta電極層22をCr電極
層25に対して正の電位とした場合と、Ta電極層22
をTa電極層22に対して負の電位とした場合のそれぞ
れについて、陽極酸化用電解液の組成と、Vth1 ,V
th2 との関係を示す。
(Relationship Between Anodic Oxidation Electrolyte Composition and Initial Vth ) First, the composition of the anodic electrolyte solution is [(NH 4 ) 2 B
4 0 7 4H 2 0] / [(NH 4 ) 2 B 4 0 7 4H 2 0 + H 2
[0] wt% is changed to form the MIM type non-linear element 20, and the relationship between the composition of the electrolytic solution for anodization and the initial V th1 or V th2 of each MIM type non-linear element 20 is shown in Table 1. . Table 1 shows the case where the Ta electrode layer 22 has a positive potential with respect to the Cr electrode layer 25 and the Ta electrode layer 22.
With respect to the Ta electrode layer 22, the composition of the anodizing electrolyte solution and V th1 , V
The relationship with th2 is shown.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】表1に示すように、陽極用電解液中のホウ
酸濃度を高めていくと、それにつれて、Vth1 およびV
th2 はいずれも低下していく傾向を示す。この傾向は、
電位をいずれの方向から印加しても同様である。従っ
て、本例のMIM型非線形素子20においては、同じ電
流を流すのに低電圧で充分であることを利用して、以下
のように表示動作を向上することもできる。たとえば、
本例のTa2 5 膜23においては、その膜厚さを従来
のクエン酸水溶液中で形成したTa2 5 膜の膜厚さと
同じにしても、Vth1 およびVth2 の値が小さいので、
駆動電圧の低電圧化が図られることを示す。逆に、本例
のMIM型非線形素子20のVth1 およびVth2 の値
を、従来のMIM型非線形素子のVth1 およびVth2
値と同じにした場合には、Ta2 5 膜23の膜厚さを
例えば1000Å位まで厚くできる。従って、ミクロ的
なピンホールの発生を防止できると共に、このTa2
5 膜23の容量成分を小さくすることができるので、表
示の点欠陥やクロストークなどを防止でき、初期的な表
示の品質を向上させることができる。
As shown in Table 1, as the concentration of boric acid in the anode electrolyte solution was increased, V th1 and V th
Both th2 tend to decrease. This trend is
The same applies regardless of the direction in which the potential is applied. Therefore, in the MIM type non-linear element 20 of the present example, it is possible to improve the display operation as follows by utilizing the fact that the low voltage is sufficient to pass the same current. For example,
In the Ta 2 O 5 film 23 of this example, the values of V th1 and V th2 are small even if the film thickness is the same as the film thickness of the Ta 2 O 5 film formed in the conventional citric acid aqueous solution. ,
This shows that the driving voltage can be lowered. On the contrary, when the values of V th1 and V th2 of the MIM type non-linear element 20 of the present example are made the same as the values of V th1 and V th2 of the conventional MIM type non-linear element, the Ta 2 O 5 film 23 is formed. The film thickness can be increased to, for example, about 1000Å. Therefore, the generation of microscopic pinholes can be prevented, and at the same time, the Ta 2 O
Since the capacitance component of the five film 23 can be reduced, it is possible to prevent display point defects, crosstalk, and the like, and improve the initial display quality.

【0031】(陽極酸化用電解液組成とVthがシフトし
た値との関係)つぎに、上記の検討に用いたMIM型非
線形素子20について、Vth2 の経時変化について調査
した。この検討においては、まず、Vth2 を計測した
後、6vDCを300秒間印加し、印加後のVth2 を計
測して、そのシフトした値ΔVth2 を求め、その大小を
比較する。本例の検討において得られた陽極用電解液に
おけるホウ酸濃度としての〔(NH4247・4H2
0〕/〔(NH4247・4H20+H20〕wt%
と、ΔVth2 との関係を表2に示す。なお、表2におい
ても、Ta電極層22をCr電極層25に対して正の電
位とした場合、Ta電極層22をCr電極層25に対し
て負の電位を印加した場合のそれぞれについて示す。
(Relationship Between Anodic Oxidizing Electrolyte Composition and Vth Shifted Value) Next, with respect to the MIM type non-linear element 20 used in the above-described examination, the change with time of Vth2 was investigated. In this study, first, after measuring V th2 , 6 vDC is applied for 300 seconds, V th2 after the application is measured, the shifted value ΔV th2 is obtained, and the magnitude is compared. As boric acid concentration in the anode electrolyte solution obtained in the study of the present example [(NH 4) 2 B 4 0 7 · 4H 2
0] / [(NH 4 ) 2 B 4 0 7 4H 2 0 + H 2 0] wt%
And the relationship between ΔV th2 and ΔV th2 are shown in Table 2. Table 2 also shows the case where the Ta electrode layer 22 has a positive potential with respect to the Cr electrode layer 25 and the Ta electrode layer 22 has a negative potential applied to the Cr electrode layer 25.

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】表2に示すように、陽極用電解液中のホウ
酸濃度を高めていくと、それにつれて、ΔVth2 は低下
していく。この傾向は、電位をいずれの方向から印加し
ても同様である。
As shown in Table 2, as the concentration of boric acid in the electrolytic solution for the anode is increased, ΔV th2 is reduced accordingly. This tendency is the same regardless of the direction in which the potential is applied.

【0034】このように、本例の液晶表示パネルにおい
ては、マトリクスアレイを構成するMIM型非線形素子
20のTa2 5 膜23の形成にあたって、その陽極酸
化用電解液にホウ酸の水溶液を用いることによって、M
IM型非線形素子20のVthの経時的なシフトを抑制し
て、そのスイッチング動作の安定化を図っている。従っ
て、走査線11と信号線12との間に生じる電位差Vの
変化に対し、液晶表示パネルに用いた液晶の配向状態の
変化が追従する。その結果、液晶表示パネルにおいて、
固定パターンを長期間表示させても、残像、フリッカー
などの発生がなく、品質の高い表示が可能である。
As described above, in the liquid crystal display panel of this example, when forming the Ta 2 O 5 film 23 of the MIM type non-linear element 20 forming the matrix array, an aqueous solution of boric acid is used as the anodizing electrolyte. By M
The change in V th of the IM-type nonlinear element 20 with time is suppressed to stabilize the switching operation. Therefore, the change in the alignment state of the liquid crystal used in the liquid crystal display panel follows the change in the potential difference V between the scanning line 11 and the signal line 12. As a result, in the liquid crystal display panel,
Even when the fixed pattern is displayed for a long period of time, high quality display is possible without occurrence of afterimages and flicker.

【0035】侵入したボロンまたはホウ酸アニオンの効
果については、繰り返し行った実験の結果から導き出さ
れたものであるため、そのメカニズムは解明されるに至
っていないが、たとえばTa2 5 膜23の粒界の安定
化との関係、またはTa2 5 膜23の結晶化との関係
に影響しているものとも考えられる。従って、ドーピン
グ材、すなわち陽極酸化用電解液に配合して効果を得ら
れるアニオンとしては、ホウ酸アニオンに限らず、III
族のオキシアニオンなどであってもよいと想定できる。
また、これらのアニオン種を単独で用いてもよいが、複
数のアニオン種を同時に用いてもよいし、アンモニウム
などの他の成分と共に陽極酸化用電解液に配合しておい
てもよい。
The effect of the invaded boron or borate anion is derived from the results of repeated experiments, so the mechanism has not been elucidated. For example, particles of the Ta 2 O 5 film 23 It is also considered that it influences the relation with the stabilization of the field or the relation with the crystallization of the Ta 2 O 5 film 23. Therefore, the anion which can be obtained by adding the doping material, that is, the anodizing electrolyte solution, is not limited to the borate anion,
It can be envisioned that it may be a group oxyanion.
Further, although these anion species may be used alone, a plurality of anion species may be used at the same time, or may be blended in the anodizing electrolytic solution together with other components such as ammonium.

【0036】なお、本例において、リン酸系陽極酸化用
電解液の組成と、MIM型非線形素子20のVthの経時
的なシフトを抑制する効果との関係は、表2に示した関
係に限らず、そのときの電流密度や液温度などによって
シフトする。従って、表2では、〔(NH4247
4H20〕/〔(NH4247・4H20+H20〕w
t%が約0.215wt%以上、とくに約1.0wt%
以上で顕著な効果が得られているが、さらに陽極酸化時
の電流密度を高めた場合などにおいては、さらにその効
果を発揮する領域が拡大される傾向がある。従って、組
成の濃度的な条件については、その電流密度や液温度な
どによって最適な条件に設定される。
In this example, the relationship between the composition of the phosphoric acid-based anodic oxidation electrolyte solution and the effect of suppressing the V th shift of the MIM type nonlinear element 20 over time is as shown in Table 2. Not limited to this, it shifts depending on the current density and liquid temperature at that time. Thus, in Table 2, [(NH 4) 2 B 4 0 7 ·
4H 2 0] / [(NH 4 ) 2 B 4 0 7 · 4H 2 0 + H 2 0] w
t% is about 0.215 wt% or more, especially about 1.0 wt%
Although the remarkable effect is obtained as described above, when the current density at the time of anodic oxidation is further increased, the region where the effect is exhibited tends to be further expanded. Therefore, the concentration condition of the composition is set to the optimum condition depending on the current density and the liquid temperature.

【0037】また、本例において、第2の金属電極層に
はクロム層を利用したが、これに限らず、チタン層やア
ルミニウム層なども利用でき、限定のないものである。
Further, in this example, the chromium layer was used as the second metal electrode layer, but the present invention is not limited to this, and a titanium layer, an aluminum layer, or the like can also be used without limitation.

【0038】さらに、第1の金属電極層にはタンタル層
を利用したが、これに限らず、陽極酸化処理を利用して
絶縁層を形成でき、しかも、非線型素子を形成可能な金
属であれば他の金属層であってもよい。
Further, although the tantalum layer is used as the first metal electrode layer, the present invention is not limited to this, and any metal capable of forming an insulating layer by utilizing anodizing treatment and forming a non-linear element can be used. It may be another metal layer.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上のとおり、本発明においては、基板
の表面側に形成された非線形素子が、一方の回路側に導
電接続する第1の金属電極層と、この金属電極層表面に
形成された陽極酸化膜と、この陽極酸化膜の表面側に形
成された第2の金属電極層と、によって構成されてお
り、この第2の金属電極層を介して、非線形素子は他方
の回路側に導電接続していることに特徴を有する。従っ
て、本発明によれば、非線形素子は、固体装置の配線層
などを構成要素とせず、独立して構成されているため、
非線形素子に適した金属層を第2金属電極層として用い
ることができる。それ故、その電流−電流特性の経時的
安定性などを向上させることができるという効果を奏す
る。
As described above, in the present invention, the non-linear element formed on the surface side of the substrate is formed on the first metal electrode layer conductively connected to one circuit side and on the surface of this metal electrode layer. And a second metal electrode layer formed on the surface side of the anodic oxide film, and the non-linear element is connected to the other circuit side via the second metal electrode layer. It is characterized in that it is conductively connected. Therefore, according to the present invention, since the non-linear element is configured independently without using the wiring layer of the solid-state device as a component,
A metal layer suitable for a non-linear element can be used as the second metal electrode layer. Therefore, it is possible to improve the temporal stability of the current-current characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1ないし実施例2に係るMIM
型非線形素子の構造を示す断面図である。
FIG. 1 is an MIM according to a first embodiment or a second embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows the structure of a non-linear element.

【図2】アクティブマトリックス方式の液晶表示パネル
の等価回路図である。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of an active matrix type liquid crystal display panel.

【図3】(a)は液晶表示パネルのマトリックスアレイ
を構成する非線形素子の印加電圧と電流との関係を示す
グラフ図、(b)は単位画素への印加電圧と表示の明る
さとの関係を示すグラフ図である。
FIG. 3A is a graph showing the relationship between applied voltage and current of a non-linear element forming a matrix array of a liquid crystal display panel, and FIG. 3B shows the relationship between applied voltage to a unit pixel and display brightness. It is a graph figure which shows.

【図4】(a)は液晶表示パネルのマトリックスアレイ
を構成するMIM型非線形素子の印加電圧と電流との関
係として、V1/2 に対してlog(I/V)をプロット
したグラフ図、(b)はMIM型非線形素子に対して電
位を印加した時間と、そのVthがシフトした値との関係
を示すグラフ図である。
FIG. 4A is a graph diagram in which log (I / V) is plotted with respect to V 1/2 as a relationship between applied voltage and current of a MIM type non-linear element forming a matrix array of a liquid crystal display panel; (B) is a graph showing the relationship between the time when a potential is applied to the MIM type non-linear element and the shifted value of V th .

【図5】従来のダイオード型の非線形素子の断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional diode type non-linear element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・液晶表示パネル 1a・・・画素領域 2・・・非線形素子 3・・・液晶表示素子 11・・・走査線 12・・・信号線 20・・・MIM型非線形素子 21,51・・・透明基板 22,52・・・Ta電極層(第1の金属電極層) 23,53・・・Ta2 5 膜(陽極酸化膜) 24,54・・・画素電極 25・・・Cr電極層(第2の金属電極層) 50・・・ダイオード型の非線形素子1 ... Liquid crystal display panel 1a ... Pixel area 2 ... Non-linear element 3 ... Liquid crystal display element 11 ... Scan line 12 ... Signal line 20 ... MIM type non-linear element 21, 51 ... ..Transparent substrate 22, 52 ... Ta electrode layer (first metal electrode layer) 23, 53 ... Ta 2 O 5 film (anodized film) 24, 54 ... Pixel electrode 25 ... Cr Electrode layer (second metal electrode layer) 50 ... Non-linear element of diode type

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の表面側に形成された非線形素子
が、一方の回路側に導電接続する第1の金属電極層と、
この金属電極層表面に形成された陽極酸化膜と、この陽
極酸化膜の表面側に形成された第2の金属電極層と、に
よって構成されており、この第2の金属電極層を介し
て、前記非線形素子は他方の回路側に導電接続している
ことを特徴とする非線形素子を備えた固体装置。
1. A non-linear element formed on a front surface side of a substrate, and a first metal electrode layer conductively connected to one circuit side,
It is composed of an anodized film formed on the surface of the metal electrode layer and a second metal electrode layer formed on the surface side of the anodized film, and via the second metal electrode layer, A solid-state device having a non-linear element, wherein the non-linear element is conductively connected to the other circuit side.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6285419B1 (en) 1995-03-31 2001-09-04 Seiko Epson Corporation Two-terminal metal/insulating material/metal (MIM) device, method for manufacturing the same and liquid crystal display panel
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