JPH08262036A - 撥水性微小プローブ - Google Patents
撥水性微小プローブInfo
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- JPH08262036A JPH08262036A JP7061036A JP6103695A JPH08262036A JP H08262036 A JPH08262036 A JP H08262036A JP 7061036 A JP7061036 A JP 7061036A JP 6103695 A JP6103695 A JP 6103695A JP H08262036 A JPH08262036 A JP H08262036A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 作業環境の湿度の影響を少なくする。
【構成】 導電性の探針２を有する走査型プローブ顕微
鏡用の微小プローブにおいて、導電性の探針２の最表面
に撥水性の有機分子膜４を設ける。
鏡用の微小プローブにおいて、導電性の探針２の最表面
に撥水性の有機分子膜４を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、走査型トンネル顕微
鏡、走査型電気化学顕微鏡あるいは原子間力顕微鏡等の
走査型プローブ顕微鏡に用いられる導電性の微小プロー
ブの構造に関するものである。
鏡、走査型電気化学顕微鏡あるいは原子間力顕微鏡等の
走査型プローブ顕微鏡に用いられる導電性の微小プロー
ブの構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、試料表面の微小な領域の測定を行
うために走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）が用いられて
いる。このようなＳＰＭには、例えば走査型トンネル顕
微鏡（ＳＴＭ）、走査型電気化学顕微鏡（ＳＥＣＭ）及
び原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等がある。
うために走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）が用いられて
いる。このようなＳＰＭには、例えば走査型トンネル顕
微鏡（ＳＴＭ）、走査型電気化学顕微鏡（ＳＥＣＭ）及
び原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等がある。
【０００３】本発明者はJ.Phys.Chem. 98巻(1994年) 43
52-4357において、このようなＳＰＭを用いて試料表面
に微細な陽極パターンを形成する走査プローブ陽極酸化
装置を提案している。この装置は、導電性の微小プロー
ブと試料表面とを接触あるいは近接させることによって
プローブと試料との間に吸着水を存在させ、かつ、プロ
ーブと試料との間に試料が陽極となるように電圧を印加
することによって、試料表面の吸着水が存在する領域に
陽極酸化反応を誘起する。つまり、このような局所的な
陽極酸化反応を誘起させながら微小プローブを走査する
ことによって微細な陽極酸化膜のパターンを試料表面上
に描画することができる。
52-4357において、このようなＳＰＭを用いて試料表面
に微細な陽極パターンを形成する走査プローブ陽極酸化
装置を提案している。この装置は、導電性の微小プロー
ブと試料表面とを接触あるいは近接させることによって
プローブと試料との間に吸着水を存在させ、かつ、プロ
ーブと試料との間に試料が陽極となるように電圧を印加
することによって、試料表面の吸着水が存在する領域に
陽極酸化反応を誘起する。つまり、このような局所的な
陽極酸化反応を誘起させながら微小プローブを走査する
ことによって微細な陽極酸化膜のパターンを試料表面上
に描画することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
走査プローブ陽極酸化装置によって陽極酸化される試料
の範囲は、導電性の探針と試料表面との間に存在する吸
着水に大きく依存している。従って、探針の形状を加工
の分解能が高くなるようにしても試料表面の吸着水の量
が多くなることによって試料を加工する分解能が悪くな
るという問題点があった。つまり、従来の装置は加工の
際の作業環境の湿度によってその分解能が左右されると
いう問題点があった。
走査プローブ陽極酸化装置によって陽極酸化される試料
の範囲は、導電性の探針と試料表面との間に存在する吸
着水に大きく依存している。従って、探針の形状を加工
の分解能が高くなるようにしても試料表面の吸着水の量
が多くなることによって試料を加工する分解能が悪くな
るという問題点があった。つまり、従来の装置は加工の
際の作業環境の湿度によってその分解能が左右されると
いう問題点があった。
【０００５】図５に従来の装置における探針と試料との
間に存在する吸着水と陽極酸化される領域（被酸化領
域）との関係を示す。図５（ａ）は作業環境の湿度が高
い場合の説明図であり、図５（ｂ）は作業環境の湿度が
低い場合の説明図である。すなわち、図５（ａ）に示す
ように作業環境の湿度が高いと導電性の探針５１と試料
５４との間に存在する吸着水の筒５２が太くなるため、
陽極酸化膜５３が試料５４に形成される領域（被酸化領
域）は吸着水の筒５２の太さに応じて広くなり、微細加
工の分解能が悪化する。逆に、作業環境の湿度が低い場
合には、図５（Ｂ）に示すように、吸着水の筒５５は十
分細くなるため、陽極酸化膜５６が試料５４に形成され
る領域（被酸化領域）は吸着水の筒５５の太さに応じて
狭くなり、分解能の高い微細加工が可能となる。
間に存在する吸着水と陽極酸化される領域（被酸化領
域）との関係を示す。図５（ａ）は作業環境の湿度が高
い場合の説明図であり、図５（ｂ）は作業環境の湿度が
低い場合の説明図である。すなわち、図５（ａ）に示す
ように作業環境の湿度が高いと導電性の探針５１と試料
５４との間に存在する吸着水の筒５２が太くなるため、
陽極酸化膜５３が試料５４に形成される領域（被酸化領
域）は吸着水の筒５２の太さに応じて広くなり、微細加
工の分解能が悪化する。逆に、作業環境の湿度が低い場
合には、図５（Ｂ）に示すように、吸着水の筒５５は十
分細くなるため、陽極酸化膜５６が試料５４に形成され
る領域（被酸化領域）は吸着水の筒５５の太さに応じて
狭くなり、分解能の高い微細加工が可能となる。
【０００６】従って、従来の微細加工の精度は作業環境
の湿度の変化に応じて探針と試料との間に存在する吸着
水の筒の太さが変化するため、加工精度を一定にするこ
とが困難であるという問題点を有していた。本発明は、
以上の事情を鑑みてなされたものであり、作業環境の湿
度の変化の影響を少なくすることの可能なプローブを提
供することを目的とする。
の湿度の変化に応じて探針と試料との間に存在する吸着
水の筒の太さが変化するため、加工精度を一定にするこ
とが困難であるという問題点を有していた。本発明は、
以上の事情を鑑みてなされたものであり、作業環境の湿
度の変化の影響を少なくすることの可能なプローブを提
供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は、導
電性の探針を有する走査型プローブ顕微鏡用の微小プロ
ーブにおいて、導電性の探針の最表面に撥水性の有機分
子膜を設ける（請求項１）。また、この場合（請求項
１）に、探針は少なくともその表面がIIＢ属の金属から
なり、有機分子膜は末端がメルカプト基からなる有機分
子膜とすることは好ましい（請求項２）。
電性の探針を有する走査型プローブ顕微鏡用の微小プロ
ーブにおいて、導電性の探針の最表面に撥水性の有機分
子膜を設ける（請求項１）。また、この場合（請求項
１）に、探針は少なくともその表面がIIＢ属の金属から
なり、有機分子膜は末端がメルカプト基からなる有機分
子膜とすることは好ましい（請求項２）。
【０００８】また、この場合（請求項２）に、有機分子
膜が炭化水素基または該炭化水素基に含まれる水素の一
部もしくはすべてがフッ素に置換された基を含むことは
好ましい（請求項３）。また、この場合（請求項１）
に、探針は少なくともそのその表面が酸化させることの
可能な金属または半導体からなり、金属または半導体の
表面を酸化することによって形成された酸化膜を更に有
し、有機分子膜を酸化膜上に形成された有機シリコン分
子膜とすることは好ましい（請求項４）。
膜が炭化水素基または該炭化水素基に含まれる水素の一
部もしくはすべてがフッ素に置換された基を含むことは
好ましい（請求項３）。また、この場合（請求項１）
に、探針は少なくともそのその表面が酸化させることの
可能な金属または半導体からなり、金属または半導体の
表面を酸化することによって形成された酸化膜を更に有
し、有機分子膜を酸化膜上に形成された有機シリコン分
子膜とすることは好ましい（請求項４）。
【０００９】
【作用】本発明の撥水性微小プローブは、少なくともそ
の探針の表面が撥水性の有機分子膜で覆われているた
め、従来のプローブのようにその探針の表面が親水性で
あるものに比べて試料と探針との間に存在する吸着水の
量を減らすことができる。従って、本発明のプローブを
用いれば作業環境の湿度の変化の影響を少なくすること
ができる。また、本発明のプローブは、図５に示した試
料と探針との間に存在する吸着水の筒の太さを従来のプ
ローブに比べて十分に細くすることができるので、作業
環境の湿度が高い場合においても高分解能の微細加工が
可能となる。
の探針の表面が撥水性の有機分子膜で覆われているた
め、従来のプローブのようにその探針の表面が親水性で
あるものに比べて試料と探針との間に存在する吸着水の
量を減らすことができる。従って、本発明のプローブを
用いれば作業環境の湿度の変化の影響を少なくすること
ができる。また、本発明のプローブは、図５に示した試
料と探針との間に存在する吸着水の筒の太さを従来のプ
ローブに比べて十分に細くすることができるので、作業
環境の湿度が高い場合においても高分解能の微細加工が
可能となる。
【００１０】
【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明するが、本発明はこれに限るものではない。図１は、
本発明の第１実施例による撥水性プローブを示す概略断
面図である。図１のプローブは、板バネ１と板バネ１の
先端に形成された探針２とからなるカンチレバーと、カ
ンチレバーの表面に形成された導電性膜３と、導電性膜
２の表面に形成された有機分子膜４とを有する。
明するが、本発明はこれに限るものではない。図１は、
本発明の第１実施例による撥水性プローブを示す概略断
面図である。図１のプローブは、板バネ１と板バネ１の
先端に形成された探針２とからなるカンチレバーと、カ
ンチレバーの表面に形成された導電性膜３と、導電性膜
２の表面に形成された有機分子膜４とを有する。
【００１１】以下に、図１のプローブの製造方法につい
て説明する。従来から原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）のプロ
ーブとして良く用いられている窒化シリコン製のカンチ
レバーの表面に膜厚２０ｎｍのチタン膜３（導電性膜）
を真空蒸着によって形成する。その後、大気中にチタン
膜３が形成されたカンチレバーを取り出し、チタン膜３
表面に自然酸化膜を成長させるため、一昼夜そのまま放
置する。次に、密閉容器の中にこのカンチレバーとトリ
メチルクロロシラン（ＴＭＣＳ：（ＣＨ３）3−Ｓｉ−
Ｃｌ）とを入れ、容器全体を５０℃に加熱した。この処
理によって、カンチレバーの表面がＴＭＣＳの蒸気に曝
され、チタン自然酸化膜表面とＴＭＣＳが反応して表面
に撥水性の有機分子膜４が形成される。
て説明する。従来から原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）のプロ
ーブとして良く用いられている窒化シリコン製のカンチ
レバーの表面に膜厚２０ｎｍのチタン膜３（導電性膜）
を真空蒸着によって形成する。その後、大気中にチタン
膜３が形成されたカンチレバーを取り出し、チタン膜３
表面に自然酸化膜を成長させるため、一昼夜そのまま放
置する。次に、密閉容器の中にこのカンチレバーとトリ
メチルクロロシラン（ＴＭＣＳ：（ＣＨ３）3−Ｓｉ−
Ｃｌ）とを入れ、容器全体を５０℃に加熱した。この処
理によって、カンチレバーの表面がＴＭＣＳの蒸気に曝
され、チタン自然酸化膜表面とＴＭＣＳが反応して表面
に撥水性の有機分子膜４が形成される。
【００１２】以上のようにして、第１実施例による撥水
性微小プローブを作製した。次に、第１実施例による撥
水処理されたプローブと従来の親水性のプローブとの比
較を行った。従来のプローブは、窒化シリコン性のカン
チレバーにチタンを２０ｎｍ真空蒸着したものを用い
た。そして、従来のプローブと第１実施例による撥水性
微小プローブとを原子間力顕微鏡に取り付け、図２に示
すように、プローブ１０のチタン膜と試料１１とに直流
電圧が印加されるように直流電源１２を配置し、試料１
１を陽極酸化加工することによって比較した。また、試
料１１は、シリコン単結晶から切り出した（１００）面
ウエハである。試料１１は、１％希フッ酸水溶液中で２
分間洗浄することによって自然酸化膜が取り除かれ、そ
の表面が水素終端化されたものを用いた。また、この装
置はグローブボックスの内部に設置されており、作業環
境の湿度等の周囲の環境を制御できるようになってい
る。
性微小プローブを作製した。次に、第１実施例による撥
水処理されたプローブと従来の親水性のプローブとの比
較を行った。従来のプローブは、窒化シリコン性のカン
チレバーにチタンを２０ｎｍ真空蒸着したものを用い
た。そして、従来のプローブと第１実施例による撥水性
微小プローブとを原子間力顕微鏡に取り付け、図２に示
すように、プローブ１０のチタン膜と試料１１とに直流
電圧が印加されるように直流電源１２を配置し、試料１
１を陽極酸化加工することによって比較した。また、試
料１１は、シリコン単結晶から切り出した（１００）面
ウエハである。試料１１は、１％希フッ酸水溶液中で２
分間洗浄することによって自然酸化膜が取り除かれ、そ
の表面が水素終端化されたものを用いた。また、この装
置はグローブボックスの内部に設置されており、作業環
境の湿度等の周囲の環境を制御できるようになってい
る。
【００１３】以下に陽極酸化加工実験の詳細と結果を説
明する。プローブ１０を約１０ｎＮの力でシリコン試料
１１表面に接触させる。力の検出および制御は原子間力
顕微鏡によって行う。実験は窒素雰囲気中２３℃で行っ
た。接触状態を保ったまま、試料１１が陽極になるよう
に直流電源１２によって＋５．０Ｖの直流電圧をプロー
ブと試料との間に印加し、試料表面を局所的に陽極酸化
した。
明する。プローブ１０を約１０ｎＮの力でシリコン試料
１１表面に接触させる。力の検出および制御は原子間力
顕微鏡によって行う。実験は窒素雰囲気中２３℃で行っ
た。接触状態を保ったまま、試料１１が陽極になるよう
に直流電源１２によって＋５．０Ｖの直流電圧をプロー
ブと試料との間に印加し、試料表面を局所的に陽極酸化
した。
【００１４】一定時間、電圧を印加した後、電圧を切っ
て試料の形状を原子間力顕微鏡によってその場観察し
た。陽極酸化された部位が酸化に伴う体積膨張によって
凸になっていることが確認できた。原子間力顕微鏡の画
像から、凸部の直径（すなわち、陽極酸化された部分の
直径）をもとめ、その直径と電圧印加時間との関係にあ
たえる雰囲気湿度の影響をしらべた。
て試料の形状を原子間力顕微鏡によってその場観察し
た。陽極酸化された部位が酸化に伴う体積膨張によって
凸になっていることが確認できた。原子間力顕微鏡の画
像から、凸部の直径（すなわち、陽極酸化された部分の
直径）をもとめ、その直径と電圧印加時間との関係にあ
たえる雰囲気湿度の影響をしらべた。
【００１５】第１実施例の撥水性微小プローブを用いた
時の結果を図３に示し、比較例である従来のプローブを
用いた時の結果を図４に示す。図３にしめされるよう
に、撥水処理を施したプローブでは、陽極酸化された部
位の大きさの湿度依存性が小さく、湿度９０％という高
湿度環境下で２０分間という長時間加工を行っても直径
１００ｎｍ以下の領域しか陽極酸化されなかった。
時の結果を図３に示し、比較例である従来のプローブを
用いた時の結果を図４に示す。図３にしめされるよう
に、撥水処理を施したプローブでは、陽極酸化された部
位の大きさの湿度依存性が小さく、湿度９０％という高
湿度環境下で２０分間という長時間加工を行っても直径
１００ｎｍ以下の領域しか陽極酸化されなかった。
【００１６】これに対して、図４に示すように、撥水処
理をしていない従来のプローブでは、湿度が高くなると
急激に陽極酸化される範囲が広がり、湿度が９０％で陽
極酸化時間を２０分間とした場合は、直径２μｍもの領
域まで陽極酸化されてしまった。以上の様に、第１実施
例による撥水性微小プローブを用いることによって試料
と探針との間に存在する吸着水の量を減らすことができ
るので、従来のプローブに比べて作業環境の湿度の影響
を少なくすることが可能となった。
理をしていない従来のプローブでは、湿度が高くなると
急激に陽極酸化される範囲が広がり、湿度が９０％で陽
極酸化時間を２０分間とした場合は、直径２μｍもの領
域まで陽極酸化されてしまった。以上の様に、第１実施
例による撥水性微小プローブを用いることによって試料
と探針との間に存在する吸着水の量を減らすことができ
るので、従来のプローブに比べて作業環境の湿度の影響
を少なくすることが可能となった。
【００１７】尚、第１実施例では図１に示されるよう
に、撥水処理のために有機分子膜４をプローブの表面全
体に形成したが、少なくとも探針２の表面が有機分子膜
４で覆われていれば良い。また、第１実施例では、撥水
処理のためにトリメチルクロロシランを用いたが、これ
以外のモノクロロアルキルシラン類であるフェニルジメ
チルクロロシラン等を用いても良いし、ジメチルジクロ
ロシランやオクテデシルトリクロロシランのような、ジ
クロロ、トリクロロ有機シラン類を用いても良い。ま
た、オクタデシルトリメトキシシランのようなアルコキ
シシラン類を用いても良い。また、ヘキサメチルジシラ
ザンのようなシラザン類やテトラメチルジシロキサンの
ようなシロキサン類を用いても良い。また、これらのシ
ラン類の一部がフッ素に置換されたフッ素系シラン類を
用いても良い。
に、撥水処理のために有機分子膜４をプローブの表面全
体に形成したが、少なくとも探針２の表面が有機分子膜
４で覆われていれば良い。また、第１実施例では、撥水
処理のためにトリメチルクロロシランを用いたが、これ
以外のモノクロロアルキルシラン類であるフェニルジメ
チルクロロシラン等を用いても良いし、ジメチルジクロ
ロシランやオクテデシルトリクロロシランのような、ジ
クロロ、トリクロロ有機シラン類を用いても良い。ま
た、オクタデシルトリメトキシシランのようなアルコキ
シシラン類を用いても良い。また、ヘキサメチルジシラ
ザンのようなシラザン類やテトラメチルジシロキサンの
ようなシロキサン類を用いても良い。また、これらのシ
ラン類の一部がフッ素に置換されたフッ素系シラン類を
用いても良い。
【００１８】また、第１実施例では、撥水性の有機分子
膜をプローブ表面に形成するために、気相法を用いた
が、上記シラン化合物を有機溶剤に溶かしそれにプロー
ブを浸漬して処理を行う液相法を用いても良い。また、
導電体が金のような周期律表IIB族の金属もしくはそれ
らの合金から構成されている場合には、例えばアルキル
チオール類のように、末端がメルカプト基であり、他の
部分が少なくとも炭化水素基、または、炭化水素基の水
素の一部若しくは全てがフッ素に置換された基を含む有
機分子膜をその表面に化学吸着させることによってプロ
ーブに撥水性を持たしても良い。
膜をプローブ表面に形成するために、気相法を用いた
が、上記シラン化合物を有機溶剤に溶かしそれにプロー
ブを浸漬して処理を行う液相法を用いても良い。また、
導電体が金のような周期律表IIB族の金属もしくはそれ
らの合金から構成されている場合には、例えばアルキル
チオール類のように、末端がメルカプト基であり、他の
部分が少なくとも炭化水素基、または、炭化水素基の水
素の一部若しくは全てがフッ素に置換された基を含む有
機分子膜をその表面に化学吸着させることによってプロ
ーブに撥水性を持たしても良い。
【００１９】また、第１実施例では、撥水性プローブを
走査プローブ陽極酸化による微細加工に用いて説明した
が、吸着水の影響を受ける他の走査型プローブ顕微鏡に
よる計測、例えば走査型容量顕微鏡等のプローブとして
も用いることができる。また、第１実施例では、撥水性
微小プローブとして原子間力顕微鏡に良く用いられてい
る探針を有する板バネのものを用いて説明したが、ＳＴ
Ｍ等に用いられている導電性の探針のみからなるプロー
ブに撥水処理を行って用いても良い。また、撥水処理を
施すために有機分子膜をプローブに形成する領域は第１
実施例のようにプローブ全体である必要は必ずしも無
く、少なくとも探針の先端の領域に有機分子膜を形成す
れば良い。
走査プローブ陽極酸化による微細加工に用いて説明した
が、吸着水の影響を受ける他の走査型プローブ顕微鏡に
よる計測、例えば走査型容量顕微鏡等のプローブとして
も用いることができる。また、第１実施例では、撥水性
微小プローブとして原子間力顕微鏡に良く用いられてい
る探針を有する板バネのものを用いて説明したが、ＳＴ
Ｍ等に用いられている導電性の探針のみからなるプロー
ブに撥水処理を行って用いても良い。また、撥水処理を
施すために有機分子膜をプローブに形成する領域は第１
実施例のようにプローブ全体である必要は必ずしも無
く、少なくとも探針の先端の領域に有機分子膜を形成す
れば良い。
【００２０】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、本発明では、
プローブに撥水性の有機分子膜を設けることによって、
環境湿度の変化の影響を受けにくくなるため、本発明の
プローブを用いて行う加工や測定を安定した分解能で行
うことができる。
プローブに撥水性の有機分子膜を設けることによって、
環境湿度の変化の影響を受けにくくなるため、本発明の
プローブを用いて行う加工や測定を安定した分解能で行
うことができる。
【図１】本発明の第１実施例による撥水性微小プローブ
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
【図２】本発明の第１実施例及び比較例によるプローブ
を用いた走査プローブ陽極酸化装置を示す概念図であ
る。
を用いた走査プローブ陽極酸化装置を示す概念図であ
る。
【図３】本発明の第１実施例による撥水性微小プローブ
を用いて、水素終端化シリコン表面を陽極酸化したとき
の、陽極酸化領域の直径の作業環境の湿度及び酸化時間
依存性を示す図である。
を用いて、水素終端化シリコン表面を陽極酸化したとき
の、陽極酸化領域の直径の作業環境の湿度及び酸化時間
依存性を示す図である。
【図４】従来の導電性プローブを用いて、水素終端化シ
リコン表面を陽極酸化したときの、陽極酸化領域の直径
の作業環境の湿度及び酸化時間依存性を示す図である。
リコン表面を陽極酸化したときの、陽極酸化領域の直径
の作業環境の湿度及び酸化時間依存性を示す図である。
【図５】探針と試料との間に存在する吸着水と陽極酸化
される領域（被酸化領域）との関係を示す概略説明図で
ある。
される領域（被酸化領域）との関係を示す概略説明図で
ある。
１・・・板バネ ２・・・探針 ３・・・導電性膜 ４・・・有機分子膜 １０・・・プローブ １１・・・試料 １２・・・直流電源 ５１・・・導電性の探針 ５２、５５・・・吸着水の筒 ５３、５６・・・陽極酸化膜 ５４・・・試料
Claims (4)
- 【請求項１】 導電性の探針を有する走査型プローブ顕
微鏡用の微小プローブにおいて、 前記導電性の探針の最表面に撥水性の有機分子膜を設け
たことを特徴とする撥水性微小プローブ。 - 【請求項２】 前記探針は少なくともその表面がIIＢ属
の金属からなり、 前記有機分子膜は末端がメルカプト基からなる有機分子
膜であることを特徴とする請求項１に記載の撥水性微小
プローブ。 - 【請求項３】 前記有機分子膜は炭化水素基または該炭
化水素基に含まれる水素の一部もしくはすべてがフッ素
に置換された基を含むことを特徴とする請求項２に記載
の撥水性微小プローブ。 - 【請求項４】 前記探針は少なくともそのその表面が酸
化させることの可能な金属または半導体からなり、 前記金属または半導体の表面を酸化することによって形
成された酸化膜を更に有し、 前記有機分子膜は前記酸化膜上に形成された有機シリコ
ン分子膜であることを特徴とする請求項１に記載の撥水
性微小プローブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7061036A JPH08262036A (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 撥水性微小プローブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7061036A JPH08262036A (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 撥水性微小プローブ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08262036A true JPH08262036A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=13159659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7061036A Pending JPH08262036A (ja) | 1995-03-20 | 1995-03-20 | 撥水性微小プローブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08262036A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6211532B1 (en) * | 1997-01-13 | 2001-04-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Microprobe chip for detecting evanescent waves probe provided with the microprobe chip and evanescent wave detector, nearfield scanning optical microscope, and information regenerator provided with the microprobe chip |
| JP2007155606A (ja) * | 2005-12-07 | 2007-06-21 | Sharp Corp | 表面形状認識用センサ及びその製造方法 |
| JP2008111735A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-05-15 | Sii Nanotechnology Inc | 試料操作装置 |
| WO2017184098A3 (en) * | 2016-04-20 | 2017-12-21 | Okyay Enerji Ar-Ge Muhendislik Ticaret Ve Sanayi Limited Sirketi | A probe for atomic force microscope with an oleophobic and hydrophobic coating |
| CN116183968A (zh) * | 2023-03-29 | 2023-05-30 | 天津大学 | 用于扫描电化学池显微镜成像的探针及其制备方法 |
-
1995
- 1995-03-20 JP JP7061036A patent/JPH08262036A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6211532B1 (en) * | 1997-01-13 | 2001-04-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Microprobe chip for detecting evanescent waves probe provided with the microprobe chip and evanescent wave detector, nearfield scanning optical microscope, and information regenerator provided with the microprobe chip |
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| WO2017184098A3 (en) * | 2016-04-20 | 2017-12-21 | Okyay Enerji Ar-Ge Muhendislik Ticaret Ve Sanayi Limited Sirketi | A probe for atomic force microscope with an oleophobic and hydrophobic coating |
| CN116183968A (zh) * | 2023-03-29 | 2023-05-30 | 天津大学 | 用于扫描电化学池显微镜成像的探针及其制备方法 |
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