JPH08247923A - Counter for particle in vacuum - Google Patents

Counter for particle in vacuum

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JPH08247923A
JPH08247923A JP7079912A JP7991295A JPH08247923A JP H08247923 A JPH08247923 A JP H08247923A JP 7079912 A JP7079912 A JP 7079912A JP 7991295 A JP7991295 A JP 7991295A JP H08247923 A JPH08247923 A JP H08247923A
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JP
Japan
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particles
sensor
vacuum
light
detection
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JP7079912A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Tsuchiya
政義 土屋
Hisahiro Hiraide
弥博 平出
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Original Assignee
Individual
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Abstract

PURPOSE: To provide a compact and inexpensive device which stably and accurately measures the number of particles and the particle diameter in real time without sacrificing the degree of vacuum of a vacuum device, comprising a sensor and an X-Y scanner for improving maintenance property. CONSTITUTION: In a counter for particles in vacuum for detecting the number of particles and the size by detecting scattered light using a photo detector 13 by applying pulse-shaped detection light to particles collected in a vacuum device from a light source 8, a sampling glass 22 is airtightly replaceably arranged in a space which is connected to the inside of the vacuum device, a sensor 7 provided with, for example, a light source 8 and the photo detector 13, is arranged at the lower part, and at the same time the sensor 7 can be moved on X-Y plane so that detection light scans a specific range of the sampling glass 22. Based on the scattered light from particles settling on a detection surface 22a of a glass surface by applying detection light from the light source 8 via the glass 22, the number and size of particles on the detection surface 22a are detected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、真空装置内に発塵した
粒子の個数や大きさをリアルタイムで計測可能な真空中
パーティクルカウンタに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum particle counter capable of measuring the number and size of particles generated in a vacuum device in real time.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
真空装置内のパーティクル管理には、いわゆる面板欠陥
測定器(サーフェススキャナ)を用いたものが知られて
いる。しかし、設置型のサーフェススキャナは大形かつ
高価であり、必ずしも測定場所の近くにあるとは限らな
いので、その取り扱いや操作に多くの問題を生じてい
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, the problems to be solved by the invention
A so-called face plate defect measuring device (surface scanner) is known for managing particles in a vacuum device. However, the stationary surface scanner is large and expensive, and is not always close to the measurement location, which causes many problems in its handling and operation.

【0003】更に、このようなサーフェススキャナを用
いて試料を直接測定しようとすると、パターン付ウェハ
等の測定時には十分な感度が得られない等も難点もあっ
た。このため、粒子測定用の光学系を直接、真空装置内
にセットして計測する方法も提案されているが、やは
り、実用上の使用限界がある。
Further, if a sample is directly measured using such a surface scanner, there is a problem that sufficient sensitivity cannot be obtained when measuring a patterned wafer or the like. For this reason, a method has been proposed in which an optical system for particle measurement is directly set in a vacuum device for measurement, but there is still a practical limit to use.

【0004】ここで、図5ないし図7は、前記サーフェ
ススキャナに代わるものとして提案されている従来のパ
ーティクルカウンタないしパーティクルモニタを示して
いる。まず、図5に記載した従来技術において、100
は光散乱方式により粒子の個数を測定するセンサ、10
1は検出光を照射する光源としてのレーザダイオード、
102,104はレンズ、103はプリズム、105は
アパーチャ、106はフォトセル、107はフィルタ、
108はビームストップ、109はレーザビームであ
り、測定窓110内に存在する粒子によるレーザビーム
109の散乱光がフォトセル107により検出される。
このセンサ100は、真空装置内部か、または真空装置
外部の排気系に設置される。
5 to 7 show a conventional particle counter or particle monitor proposed as an alternative to the surface scanner. First, in the conventional technique shown in FIG.
Is a sensor for measuring the number of particles by a light scattering method, 10
1 is a laser diode as a light source for emitting detection light,
102 and 104 are lenses, 103 is a prism, 105 is an aperture, 106 is a photocell, 107 is a filter,
Reference numeral 108 denotes a beam stop, and 109 denotes a laser beam, and scattered light of the laser beam 109 due to particles existing in the measurement window 110 is detected by the photocell 107.
The sensor 100 is installed inside the vacuum apparatus or in an exhaust system outside the vacuum apparatus.

【0005】上記従来技術において、センサ100を真
空装置の内部に設置した場合には、導入ガスの二次的な
生成物による汚れや粒子のデポジション(滞留、堆積)
の影響による検出系のダメージが大きい。また、センサ
100が耐熱性に乏しいと共に、真空装置内部の迷光に
よるノイズを検出する恐れがある。加えて、ガスのリー
クにより真空度が低下する心配がある。
In the above-mentioned prior art, when the sensor 100 is installed inside a vacuum device, dirt and particle deposition (stagnation, accumulation) due to secondary products of the introduced gas are carried out.
Damage to the detection system due to the effect of. Further, the sensor 100 has poor heat resistance and may detect noise due to stray light inside the vacuum apparatus. In addition, there is a concern that the degree of vacuum may decrease due to gas leakage.

【0006】更に、信号ケーブルが内部に接続されてい
るため電気的ノイズに弱く、粒子がセンサ100内を通
過する速度がランダムであるので粒径の検出が不可能で
ある等の問題がある。これらの欠点のうち、真空装置内
部に配置することに起因するものを除けば、センサ10
0を外部の排気系に配置した場合にもほぼ同様の欠点が
ある。
Further, since the signal cable is connected inside, it is vulnerable to electrical noise, and since the speed at which particles pass through the sensor 100 is random, there is a problem that the particle size cannot be detected. Of these drawbacks, the sensor 10 is excluded except those caused by being placed inside the vacuum device.
Almost the same drawback occurs when 0 is arranged in the external exhaust system.

【0007】図6は、他の従来技術を示している。図6
において、200はセンサ、201はレーザダイオー
ド、202,203はレンズ、204は検出チャンバ、
205はライトストップ、206はレンズ、207は光
検出器であり、検出チャンバ204内に存在する粒子に
よる散乱光が光検出器207により検出される。上記セ
ンサ200は、真空装置外部の排気系に設置されるもの
である。
FIG. 6 shows another conventional technique. Figure 6
, 200 is a sensor, 201 is a laser diode, 202 and 203 are lenses, 204 is a detection chamber,
205 is a light stop, 206 is a lens, and 207 is a photodetector, and light scattered by particles existing in the detection chamber 204 is detected by the photodetector 207. The sensor 200 is installed in an exhaust system outside the vacuum device.

【0008】この従来技術においても、排気ガスの二次
的生成物による汚れの発生やデポジションによる検出系
への影響、センサ200の耐熱性の問題、粒径検出が不
可能等の問題がある。
Also in this prior art, there are problems such as the generation of dirt due to secondary products of exhaust gas, the influence of deposition on the detection system, the heat resistance of the sensor 200, and the inability to detect the particle size. .

【0009】図7は更に別の従来技術を示している。図
7において、300はセンサ、301はレーザダイオー
ド、302はコリメータ、303はミラー、304はフ
ローセル、305はガス入口、306はガス出口、30
7はコレクタレンズ、308は光検出器、309はアン
プ、310は判別器、311はディスプレイである。上
記センサ300は、真空装置の給気系または排気系に設
置される。
FIG. 7 shows still another conventional technique. In FIG. 7, 300 is a sensor, 301 is a laser diode, 302 is a collimator, 303 is a mirror, 304 is a flow cell, 305 is a gas inlet, 306 is a gas outlet, and 30.
7 is a collector lens, 308 is a photodetector, 309 is an amplifier, 310 is a discriminator, and 311 is a display. The sensor 300 is installed in the air supply system or the exhaust system of the vacuum device.

【0010】この従来技術において、センサ300を真
空装置の排気系に配置した場合には図6の従来技術と同
様の問題があり、また、給気系に配置した場合にも依然
として粒径検出が不可能であるほか、フローセル304
が汚染される等の問題がある。
In this prior art, when the sensor 300 is arranged in the exhaust system of the vacuum apparatus, there is the same problem as in the prior art of FIG. 6, and when the sensor 300 is arranged in the air supply system, particle size detection still remains. Impossible, flow cell 304
There is a problem such as being polluted.

【0011】本発明は上記種々の問題点を解決し、真空
装置の真空度を損なわず、導入ガス等に影響されること
なく粒子の個数及び大きさを正確に測定できると共に、
センサの耐熱性にも優れ、しかも保守が容易で測定安定
性の高い真空中パーティクルカウンタを提供することを
目的とする。
The present invention solves the above-mentioned various problems, can accurately measure the number and size of particles without impairing the degree of vacuum of the vacuum apparatus, and without being influenced by the introduced gas and the like.
It is an object of the present invention to provide a particle counter in vacuum which has excellent heat resistance of a sensor, is easy to maintain, and has high measurement stability.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、真空装置内に発塵した粒子に光源からパ
ルス状の検出光を照射し、その散乱光を光検出器により
検出して前記粒子の個数及び大きさを検出する真空中パ
ーティクルカウンタにおいて、真空装置内部に連通する
空間にサンプリングガラスを交換可能かつ気密的に配置
し、このサンプリングガラスの下方に光源、光検出器及
びレンズ等の光学系を有するセンサを配置すると共に、
前記検出光がサンプリングガラスの所定範囲をスキャン
するようにセンサ及びサンプリングガラスをX−Y平面
上で相対的に移動可能に構成し、光源からサンプリング
ガラスを介し検出光を照射してサンプリングガラスの表
側の検出面上に沈降した粒子からの散乱光に基づき検出
面上の粒子の個数及び大きさを検出するものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention irradiates particles generated in a vacuum device with pulsed detection light from a light source and detects the scattered light by a photodetector. In a particle counter in vacuum for detecting the number and size of particles, a sampling glass is replaceably and hermetically arranged in a space communicating with the inside of a vacuum device, and a light source, a photodetector and a lens are arranged below the sampling glass. While arranging a sensor having an optical system such as
The sensor and the sampling glass are configured to be relatively movable on the XY plane so that the detection light scans a predetermined range of the sampling glass, and the detection light is emitted from the light source through the sampling glass to thereby make the front side of the sampling glass. The number and size of particles on the detection surface are detected based on the scattered light from the particles settled on the detection surface.

【0013】[0013]

【作用】本発明においては、サンプリングガラスの表側
の検出面上に沈降した粒子に対しサンプリングガラスを
介してパルス状の検出光を照射することにより、その後
方散乱光が光検出器により受光され、これがパルス信号
に変換される。このパルス信号の個数及び振幅から、上
記検出面の粒子の個数及び大きさが検出される。センサ
またはサンプリングガラスをX−Y平面上で相対的に移
動可能としてサンプリングガラス上の所定範囲をスキャ
ンすることにより、真空装置内の粒子の個数その他のパ
ーティクル管理を行う。
In the present invention, the backscattered light is received by the photodetector by irradiating the particles settled on the front detection surface of the sampling glass with pulsed detection light through the sampling glass, This is converted into a pulse signal. From the number and amplitude of this pulse signal, the number and size of particles on the detection surface are detected. The number of particles in the vacuum apparatus and other particle management are performed by making the sensor or sampling glass relatively movable on the XY plane and scanning a predetermined range on the sampling glass.

【0014】[0014]

【実施例】以下、図に沿って本発明の実施例を説明す
る。図1は本発明の実施例を示す側面図である。この図
において、1は基台であり、この基台1には、Y軸パル
スモータ2(図2参照)及び送りねじ等の機構により図
1の紙面表裏方向に移動可能なY軸ステージ3が取り付
けられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a side view showing an embodiment of the present invention. In this figure, 1 is a base, and a Y-axis stage 3 that is movable in the front-back direction of the paper surface of FIG. 1 by a mechanism such as a Y-axis pulse motor 2 (see FIG. 2) and a feed screw is provided on the base 1. It is installed.

【0015】Y軸ステージ3の上面には支持台4が一体
的に固定され、この支持台4の上面には、X軸パルスモ
ータ6及び送りねじ等の機構により図1の左右方向に移
動可能なX軸ステージ5が取り付けられている。これら
のX軸パルスモータ6、X軸ステージ5及びY軸パルス
モータ2、Y軸ステージ3等により、X−Yスキャナが
構成される。
A support base 4 is integrally fixed to the upper surface of the Y-axis stage 3, and the upper surface of the support base 4 can be moved in the left-right direction in FIG. 1 by a mechanism such as an X-axis pulse motor 6 and a feed screw. An X-axis stage 5 is attached. The X-Y scanner is configured by the X-axis pulse motor 6, the X-axis stage 5, the Y-axis pulse motor 2, the Y-axis stage 3 and the like.

【0016】X軸ステージ5の上面には、センサ7が一
体的に取り付けられている。このセンサ7は、パルス光
源としての半導体レーザ8、ピックアップレンズ9、レ
ンズ10、集光レンズ11、非球面レンズ12、光検出
器13、プリアンプ(回路素子は図示を省略してある)
14等を備えており、これらが筒状のケーシング15,
16内に同軸上に配置されている。なお、上記光学系に
干渉フィルタを設ければ、プラズマ光等の影響を受けに
くくなる。上方のケーシング16のレンズ10側の端面
は開口しており、前記基台1にボルト止めされた天板1
7の直下にセンサ7が配置されている。
A sensor 7 is integrally attached to the upper surface of the X-axis stage 5. This sensor 7 includes a semiconductor laser 8 as a pulse light source, a pickup lens 9, a lens 10, a condenser lens 11, an aspherical lens 12, a photodetector 13, and a preamplifier (circuit elements are not shown).
14 and the like, which are tubular casings 15,
16 are arranged coaxially. If an interference filter is provided in the optical system, it will be less likely to be affected by plasma light or the like. The end surface of the upper casing 16 on the lens 10 side is open, and the top plate 1 bolted to the base 1 is mounted.
The sensor 7 is arranged immediately below the sensor 7.

【0017】天板17には通孔18を介して角筒状の検
出筒19が立設されており、この検出筒19と上方の検
出筒20とによりサンプリングガラス22を挾持するよ
うに構成されている。なお、21は検出筒19,20の
フランジ19a,20aを挾み込むクランプ、23はO
リングであり、クランプ21を外すことによりサンプリ
ングガラス22をワンタッチで交換可能となっている。
また、サンプリングガラス22の上下において気密性が
保たれているのは言うまでもない。
A square tube-shaped detection tube 19 is erected on the top plate 17 through a through hole 18, and the sampling glass 22 is held between the detection tube 19 and the upper detection tube 20. ing. In addition, 21 is a clamp that sandwiches the flanges 19a and 20a of the detection cylinders 19 and 20, and 23 is O.
It is a ring, and the sampling glass 22 can be replaced with one touch by removing the clamp 21.
Needless to say, the airtightness is maintained above and below the sampling glass 22.

【0018】検出筒20の上端部は図示されていない真
空装置の反応炉下部または排気系に連通しており、何れ
にしても真空装置内に発塵した粒子がサンプリングガラ
ス22の表面に沈降するような位置に検出筒20、サン
プリングガラス22等が配置される。
The upper end of the detection tube 20 communicates with the lower part of the reaction furnace of a vacuum device (not shown) or the exhaust system, and in any case, particles generated in the vacuum device settle on the surface of the sampling glass 22. The detection cylinder 20, the sampling glass 22 and the like are arranged at such positions.

【0019】図3は本実施例の取付位置の説明図であ
る。同図(a)はセンサ7を真空装置30の反応炉の下
部に取り付けた場合であり、コントローラ50により半
導体レーザ8の駆動制御、光検出器13の受光信号の処
理、更にはX,Y各軸のパルスモータ6,2の駆動制御
等を行い、パソコン60により検出粒子の個数や大きさ
(粒径)の算出等を行っている。なお、40はポンプを
示す。同図(b)は真空装置30の外部の排気系にセン
サ7を取り付けた例である。
FIG. 3 is an explanatory view of the mounting position of this embodiment. FIG. 7A shows the case where the sensor 7 is attached to the lower part of the reaction furnace of the vacuum device 30, and the controller 50 controls the drive of the semiconductor laser 8, the processing of the light reception signal of the photodetector 13, and the X, Y respective. The drive control of the pulse motors 6 and 2 of the shaft is performed, and the number and size (particle size) of the detected particles are calculated by the personal computer 60. In addition, 40 shows a pump. FIG. 2B shows an example in which the sensor 7 is attached to the exhaust system outside the vacuum device 30.

【0020】次に、この実施例の動作を説明する。ま
ず、半導体レーザ8による検出光を約200Hzのパル
ス光とし、レンズ9,10を介したレーザビームをサン
プリングガラス22表面の検出面22a上で0.5mm
×50μmのスポット状に絞ってサンプリングガラス2
2の下方から照射する。この状態でX軸パルスモータ6
を駆動し、X軸ステージ5及びセンサ7を10mm/s
ecの速度で図1の左右何れかの方向に移動させること
により、レーザビームがサンプリングガラス22上の検
出面22aをX軸方向にスキャンする。
Next, the operation of this embodiment will be described. First, the light detected by the semiconductor laser 8 is pulsed light of about 200 Hz, and the laser beam passing through the lenses 9 and 10 is 0.5 mm on the detection surface 22a on the surface of the sampling glass 22.
Sampling glass 2 focused on a spot of × 50 μm
Irradiate from below 2. In this state, X-axis pulse motor 6
Drive the X-axis stage 5 and the sensor 7 to 10 mm / s.
The laser beam scans the detection surface 22a on the sampling glass 22 in the X-axis direction by moving it in either the left or right direction in FIG. 1 at a speed of ec.

【0021】このレーザビームは、真空装置30内の発
塵により検出面22a上に沈降した粒子にサンプリング
ガラス22を介して照射され、その後方散乱光が通孔1
8から集光レンズ11及び非球面レンズ12を経て光検
出器13により受光され、パルス状の電気信号に変換さ
れる。
The laser beam irradiates the particles settled on the detection surface 22a due to dust generated in the vacuum device 30 through the sampling glass 22, and the backscattered light is emitted through the through hole 1.
The light is received by the photodetector 13 from 8 through the condenser lens 11 and the aspherical lens 12, and is converted into a pulsed electric signal.

【0022】このパルス信号はプリアンプ14により増
幅され、コントローラ50を経てパソコン60に入力さ
れる。パソコン60では、パルス信号の個数から上記1
スキャンラインの粒子の個数を、また、パルス信号の振
幅から粒子の大きさ(粒径)を算出する。
This pulse signal is amplified by the preamplifier 14 and input to the personal computer 60 via the controller 50. In the case of the personal computer 60, from the number of pulse signals, the above 1
The number of particles on the scan line and the particle size (particle diameter) are calculated from the amplitude of the pulse signal.

【0023】次に、Y軸パルスモータ2を駆動し、Y軸
ステージ3を0.5mm/secの速度で図1の表裏何
れかの方向に移動させることにより、レーザビームがサ
ンプリングガラス22の検出面22a上をY軸方向に移
動する。その後、X軸パルスモータ6を駆動してX軸ス
テージ5及びセンサ7を前回とは逆の方向に10mm/
secの速度で移動させ、検出面22aを逆方向にスキ
ャンする。
Next, the Y-axis pulse motor 2 is driven, and the Y-axis stage 3 is moved at a speed of 0.5 mm / sec in either of the front and back directions of FIG. The surface 22a is moved in the Y-axis direction. After that, the X-axis pulse motor 6 is driven to move the X-axis stage 5 and the sensor 7 in the opposite direction to 10 mm /
It is moved at a speed of sec, and the detection surface 22a is scanned in the opposite direction.

【0024】この動作を繰り返すことにより、例えば1
0mm×10mmのサンプリングガラス22の検出面2
2aの全域を約30secでスキャンすることができ、
この時の粒子の計数値は最大で4000個となる。な
お、図4は、上述したサンプリングガラス22(検出面
22a)におけるX−Y平面上のスキャン動作の説明図
である。また、計測エリアはX軸、Y軸のストロークを
変えることにより任意に変更可能である。
By repeating this operation, for example, 1
Detection surface 2 of sampling glass 22 of 0 mm x 10 mm
The entire area of 2a can be scanned in about 30 seconds,
The count value of particles at this time is 4000 at maximum. Note that FIG. 4 is an explanatory diagram of the scanning operation on the XY plane on the sampling glass 22 (detection surface 22a) described above. Further, the measurement area can be arbitrarily changed by changing the strokes of the X axis and the Y axis.

【0025】こうして検出された検出面22a上の沈降
粒子の個数や大きさに関するデータをパソコン60を介
して製造プロセス等にフィードバックすることにより、
真空装置30内部のパーティクル管理をリアルタイムで
行うことができる。なお、上記実施例では、センサ7を
X−Y平面上で移動させる構成としたが、センサ7を固
定してサンプリングガラス22を移動させるようにして
も良い。
By feeding back the data concerning the number and size of the sedimented particles on the detection surface 22a thus detected to the manufacturing process or the like through the personal computer 60,
Particles inside the vacuum device 30 can be managed in real time. In the above embodiment, the sensor 7 is moved on the XY plane, but the sensor 7 may be fixed and the sampling glass 22 may be moved.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように本発明は、センサ及びX−
Yスキャナを一体化してこれらを真空装置の外部に取り
付けると共に、気密的に設置されたサンプリングガラス
を介してその検出面上に沈降した粒子からの散乱光を検
出するものである。このため、真空装置の真空度を損な
うガスリークの心配もなく、導入ガスに影響されずに安
定したリアルタイムの測定を行うことができる。
As described above, according to the present invention, the sensor and the X-
The Y scanner is integrated and attached to the outside of the vacuum device, and the scattered light from the particles settled on the detection surface of the Y scanner is detected through the airtightly installed sampling glass. Therefore, there is no concern about gas leakage that impairs the degree of vacuum of the vacuum device, and stable real-time measurement can be performed without being affected by the introduced gas.

【0027】また、粒子がサンプリングガラス上に静
止、固定されるため、高精度にその個数を測定すること
ができ、真空装置内部の迷光や電気的ノイズの影響も受
けにくい。同時に、ランダムな速度で移動する粒子を測
定するものではないから、粒径の測定も確実に行うこと
ができる。更に、真空装置の外部に配置されるセンサに
対する耐熱対策も容易である。
Further, since the particles are stationary and fixed on the sampling glass, it is possible to measure the number of particles with high accuracy, and it is difficult to be affected by stray light or electric noise inside the vacuum apparatus. At the same time, since the particles that move at random speed are not measured, the particle size can be reliably measured. Further, it is easy to take heat resistance measures for the sensor arranged outside the vacuum device.

【0028】サンプリングガラスはワンタッチで交換可
能であるから保守性に優れており、このサンプリングガ
ラスやセンサ等は真空装置の既存の空きポートを利用し
て取り付けることもできる。また、センサ及びX−Yス
キャナは構造が比較的簡単で小形化が可能であり、低コ
ストにて提供することができる。なお、ガラス上への薄
膜レベルのデポジションを検出しないようにすれば、一
層安定した測定動作が可能になる。
Since the sampling glass can be replaced with one touch, it is excellent in maintainability, and the sampling glass, the sensor and the like can be attached by utilizing the existing empty port of the vacuum device. Further, the sensor and the XY scanner have a relatively simple structure and can be miniaturized, and can be provided at low cost. If the thin film level deposition on the glass is not detected, a more stable measurement operation becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例の取付位置の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a mounting position according to the embodiment of this invention.

【図4】本発明の実施例のスキャン動作の説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a scan operation according to the embodiment of this invention.

【図5】従来の技術を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a conventional technique.

【図6】従来の技術を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a conventional technique.

【図7】従来の技術を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基台 2 Y軸パルスモータ 3 Y軸ステージ 4 支持台 5 X軸ステージ 6 X軸パルスモータ 7 センサ 8 半導体レーザ 9 ピックアップレンズ 10 レンズ 11 集光レンズ 12 非球面レンズ 13 光検出器 14 プリアンプ 15,16 ケーシング 17 天板 18 通孔 19,20 検出筒 21 クランプ 22 サンプリングガラス 22a 検出面 23 Oリング 30 真空装置 40 ポンプ 50 コントローラ 60 パソコン 1 base 2 Y-axis pulse motor 3 Y-axis stage 4 support 5 X-axis stage 6 X-axis pulse motor 7 sensor 8 semiconductor laser 9 pickup lens 10 lens 11 condenser lens 12 aspherical lens 13 photodetector 14 preamplifier 15, 16 Casing 17 Top plate 18 Through hole 19,20 Detection tube 21 Clamp 22 Sampling glass 22a Detection surface 23 O-ring 30 Vacuum device 40 Pump 50 Controller 60 PC

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空装置内に発塵した粒子に光源からパ
ルス状の検出光を照射し、その散乱光を光検出器により
検出して前記粒子の個数及び大きさを検出する真空中パ
ーティクルカウンタにおいて、 真空装置内部に連通する空間にサンプリングガラスを交
換可能かつ気密的に配置し、このサンプリングガラスの
下方に光源、光検出器及びレンズ等の光学系を有するセ
ンサを配置すると共に、前記検出光がサンプリングガラ
スの所定範囲をスキャンするようにセンサ及びサンプリ
ングガラスをX−Y平面上で相対的に移動可能に構成
し、光源からサンプリングガラスを介し検出光を照射し
てサンプリングガラスの表側の検出面上に沈降した粒子
からの散乱光に基づき検出面上の粒子の個数及び大きさ
を検出することを特徴とする真空中パーティクルカウン
タ。
1. A particle counter in vacuum, wherein particles generated in a vacuum device are irradiated with pulsed detection light from a light source, and the scattered light is detected by a photodetector to detect the number and size of the particles. In the above, the sampling glass is replaceably and airtightly arranged in a space communicating with the inside of the vacuum device, and a sensor having an optical system such as a light source, a photodetector and a lens is arranged below the sampling glass, and The sensor and the sampling glass are configured to be relatively movable on the XY plane so as to scan a predetermined range of the sampling glass, and the detection light is irradiated from the light source through the sampling glass to detect the front surface of the sampling glass. A party in a vacuum characterized by detecting the number and size of particles on a detection surface based on the scattered light from the particles settled on top. Rukaunta.
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