JPH08237530A - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
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- JPH08237530A JPH08237530A JP7065107A JP6510795A JPH08237530A JP H08237530 A JPH08237530 A JP H08237530A JP 7065107 A JP7065107 A JP 7065107A JP 6510795 A JP6510795 A JP 6510795A JP H08237530 A JPH08237530 A JP H08237530A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical
- actuator
- optical device
- solid
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 装置全体の薄型化を容易にすることができる
光学装置を提供する。 【構成】 光学装置は、表面に撮像光学系および機構系
が搭載されている基板1を備える。撮像光学系に含まれ
る光学部材G2は、移動台3に接着剤で固定されてい
る。移動台3には、それを基板に1に対し平行にかつ所
定の方向に移動させるためのアクチュエータの一部とし
て永久磁石5が設けられている。移動台3、永久磁石5
と共働してアクチュエータを構成するコイル17および
ヨーク19は基板1に設けられている。コイル17の一
部およびヨーク19は、基板1に形成された凹部1eに
嵌め込まれている。
光学装置を提供する。 【構成】 光学装置は、表面に撮像光学系および機構系
が搭載されている基板1を備える。撮像光学系に含まれ
る光学部材G2は、移動台3に接着剤で固定されてい
る。移動台3には、それを基板に1に対し平行にかつ所
定の方向に移動させるためのアクチュエータの一部とし
て永久磁石5が設けられている。移動台3、永久磁石5
と共働してアクチュエータを構成するコイル17および
ヨーク19は基板1に設けられている。コイル17の一
部およびヨーク19は、基板1に形成された凹部1eに
嵌め込まれている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被写体像を撮影光学部
材を介して固体撮像素子に結像させる光学装置に関す
る。
材を介して固体撮像素子に結像させる光学装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に、固体撮像素子を用いている光学
装置には、所望の撮影範囲が得られるように、ズームレ
ンズ機構が設けられている。
装置には、所望の撮影範囲が得られるように、ズームレ
ンズ機構が設けられている。
【0003】この光学装置のズームレンズ機構の構成に
ついて図27を参照しながら説明する。図27は従来の
光学装置のズームレンズ機構の構成を示す縦断面図であ
る。
ついて図27を参照しながら説明する。図27は従来の
光学装置のズームレンズ機構の構成を示す縦断面図であ
る。
【0004】光学装置は、図27に示すように、第1レ
ンズ群101a,第2レンズ群101b、第3レンズ群
101c、第4レンズ群101dからなる複数のレンズ
群を備える。第2レンズ群101bおよび第4レンズ群
101dは所定の範囲内で光軸方向に沿ってそれぞれ移
動される。第2レンズ群101bの移動によってズーム
動作が行われ、第4レンズ群101dの移動によって焦
点調節が行われる。
ンズ群101a,第2レンズ群101b、第3レンズ群
101c、第4レンズ群101dからなる複数のレンズ
群を備える。第2レンズ群101bおよび第4レンズ群
101dは所定の範囲内で光軸方向に沿ってそれぞれ移
動される。第2レンズ群101bの移動によってズーム
動作が行われ、第4レンズ群101dの移動によって焦
点調節が行われる。
【0005】第4レンズ群101dの後方の光軸上に
は、光学ローパスフィルタ102およびCCDなどの固
体撮像素子103が順次に配置されている。
は、光学ローパスフィルタ102およびCCDなどの固
体撮像素子103が順次に配置されている。
【0006】第1レンズ群101a、第3レンズ郡10
1c、光学ローパスフィルタ102、固体撮像素子10
3などは筐筒104に保持されている。
1c、光学ローパスフィルタ102、固体撮像素子10
3などは筐筒104に保持されている。
【0007】これに対し、第2レンズ群101bは光学
保持部材105に保持されている。光学保持部材105
は、光軸方向に平行に伸びるガイドピン106およびね
じ部材107によって光軸方向に移動可能に支持されて
いる。ガイドピン106の各端部は筐筒104にそれぞ
れ支持されている。
保持部材105に保持されている。光学保持部材105
は、光軸方向に平行に伸びるガイドピン106およびね
じ部材107によって光軸方向に移動可能に支持されて
いる。ガイドピン106の各端部は筐筒104にそれぞ
れ支持されている。
【0008】ねじ部材107には光学保持部材105に
係合されるねじ部が形成されている。ねじ部材107の
各端部は筐筒104にそれぞれ回転可能に支持され、ね
じ部材107にはギア群101を介してステップモータ
110からの駆動力が伝達される。ねじ部材107がス
テップモータ110からの駆動力によって回転される
と、ねじ部材107の回転に伴い光学保持部材105
は、ガイドピン106に案内されながら光軸方向に移動
され、光学保持部材105の移動によって第2レンズ1
01bによるズーム動作が行われる。ねじ部材107と
光学保持部材105との間における遊びは、片寄せばね
108と片寄せ部材109とによって取り除かれる。
係合されるねじ部が形成されている。ねじ部材107の
各端部は筐筒104にそれぞれ回転可能に支持され、ね
じ部材107にはギア群101を介してステップモータ
110からの駆動力が伝達される。ねじ部材107がス
テップモータ110からの駆動力によって回転される
と、ねじ部材107の回転に伴い光学保持部材105
は、ガイドピン106に案内されながら光軸方向に移動
され、光学保持部材105の移動によって第2レンズ1
01bによるズーム動作が行われる。ねじ部材107と
光学保持部材105との間における遊びは、片寄せばね
108と片寄せ部材109とによって取り除かれる。
【0009】第4レンズ群101dは、第2レンズ群1
01bと同様に、光学保持部材116に保持されてい
る。光学保持部材116は、光軸方向に平行に伸びるガ
イドピン117およびねじ部材113によって光軸方向
に移動可能に支持されている。ガイドピン117の各端
部は筐筒104にそれぞれ支持されている。
01bと同様に、光学保持部材116に保持されてい
る。光学保持部材116は、光軸方向に平行に伸びるガ
イドピン117およびねじ部材113によって光軸方向
に移動可能に支持されている。ガイドピン117の各端
部は筐筒104にそれぞれ支持されている。
【0010】ねじ部材113には光学保持部材116に
係合されるねじ部が形成されている。ねじ部材113の
一端部は筐筒104に回転可能に支持されている。ねじ
部材113の他端部は、筐筒104に回転可能に支持さ
れるとともに、ステップモータ112の出力軸に直接接
続されている。ねじ部材113がステップモータ112
からの駆動力によって回転されると、ねじ部材113の
回転に伴い光学保持部材116は、ガイドピン117に
案内されながら光軸方向に移動され、光学保持部材11
6の移動によって第4レンズ101dによる焦点調節が
行われる。ねじ部材113と光学保持部材116との間
における遊びは、片寄せばね108と片寄せ部材109
とによって取り除かれる。
係合されるねじ部が形成されている。ねじ部材113の
一端部は筐筒104に回転可能に支持されている。ねじ
部材113の他端部は、筐筒104に回転可能に支持さ
れるとともに、ステップモータ112の出力軸に直接接
続されている。ねじ部材113がステップモータ112
からの駆動力によって回転されると、ねじ部材113の
回転に伴い光学保持部材116は、ガイドピン117に
案内されながら光軸方向に移動され、光学保持部材11
6の移動によって第4レンズ101dによる焦点調節が
行われる。ねじ部材113と光学保持部材116との間
における遊びは、片寄せばね108と片寄せ部材109
とによって取り除かれる。
【0011】第2レンズ群102bと第3レンズ群10
1cとの間には絞り114が配置され、絞り114の開
口径は、モータ115からの駆動力によって調節され
る。
1cとの間には絞り114が配置され、絞り114の開
口径は、モータ115からの駆動力によって調節され
る。
【0012】
【発明が解決しようする課題】近年、メモリ、マイコン
などの半導体チップの進歩により、携帯型情報機器が普
及し、その小型化、高性能化がさらに進められている。
この携帯型情報機器には、携帯性が必要条件として要求
されているが、その携帯性の中で特に、薄くすることが
強く要求されている。
などの半導体チップの進歩により、携帯型情報機器が普
及し、その小型化、高性能化がさらに進められている。
この携帯型情報機器には、携帯性が必要条件として要求
されているが、その携帯性の中で特に、薄くすることが
強く要求されている。
【0013】このような携帯型情報機器としては、被写
体像を撮像する光学装置、またはこの光学装置を含む情
報機器などがあるが、この光学装置を薄型化するために
は、撮像光学系(例えば、図27に示す各レンズ群、絞
りおよび固体撮像素子から構成される系)、機構系(例
えば、図27に示すレンズ群を駆動するギア、モータ、
絞りを駆動するモータなどから構成される系)を含めて
装置全体を薄くしなければならない。
体像を撮像する光学装置、またはこの光学装置を含む情
報機器などがあるが、この光学装置を薄型化するために
は、撮像光学系(例えば、図27に示す各レンズ群、絞
りおよび固体撮像素子から構成される系)、機構系(例
えば、図27に示すレンズ群を駆動するギア、モータ、
絞りを駆動するモータなどから構成される系)を含めて
装置全体を薄くしなければならない。
【0014】しかし、従来の光学装置では、例えば、光
学保持部材105が、ガイドピン106およびねじ部材
107によって光軸に対称に支持されているから、第2
レンズ群101bの外径に比して筐筒104の外径が大
きくなり、筐筒104外部に、絞り114を駆動するた
めのモータ115、第2レンズ群101bを駆動するた
めのモータ110、第4レンズ群101dを駆動するた
めのモータ112などが保持されているから、光軸と直
交する方向の寸法をさらに小さくすること、すなわち光
軸に直交する方向に対して薄くすることは非常に困難で
あり、装置全体を薄型化することは非常に難しい。
学保持部材105が、ガイドピン106およびねじ部材
107によって光軸に対称に支持されているから、第2
レンズ群101bの外径に比して筐筒104の外径が大
きくなり、筐筒104外部に、絞り114を駆動するた
めのモータ115、第2レンズ群101bを駆動するた
めのモータ110、第4レンズ群101dを駆動するた
めのモータ112などが保持されているから、光軸と直
交する方向の寸法をさらに小さくすること、すなわち光
軸に直交する方向に対して薄くすることは非常に困難で
あり、装置全体を薄型化することは非常に難しい。
【0015】本発明の目的は、装置全体の薄型化を容易
にすることができる光学装置を提供することにある。
にすることができる光学装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
被写体像を撮影光学系を介して固体撮像素子に結像させ
る光学装置において、前記撮影光学系および前記固体撮
像素子が搭載され、前記撮影光学系の搭載面側に開口す
る受入部が形成されている基板を有し、前記撮影光学系
は、その構成部材の少なくとも一部が前記受入部内に挿
入されるように前記基板に配置されていることを特徴と
する。
被写体像を撮影光学系を介して固体撮像素子に結像させ
る光学装置において、前記撮影光学系および前記固体撮
像素子が搭載され、前記撮影光学系の搭載面側に開口す
る受入部が形成されている基板を有し、前記撮影光学系
は、その構成部材の少なくとも一部が前記受入部内に挿
入されるように前記基板に配置されていることを特徴と
する。
【0017】請求項2記載の発明は、請求項1記載の光
学装置において、前記撮影光学系は前記基板に平行な光
軸を有し、前記光軸から前記基板に向う方向へ最も離れ
た位置にある構成部材の一部が前記受入部に挿入されて
いることを特徴とする。
学装置において、前記撮影光学系は前記基板に平行な光
軸を有し、前記光軸から前記基板に向う方向へ最も離れ
た位置にある構成部材の一部が前記受入部に挿入されて
いることを特徴とする。
【0018】請求項3記載の発明は、請求項1または2
記載の光学装置において、前記少なくとも1部が前記受
入部に挿入されている構成部材は光学部材であることを
特徴とする。
記載の光学装置において、前記少なくとも1部が前記受
入部に挿入されている構成部材は光学部材であることを
特徴とする。
【0019】請求項4記載の発明は、請求項1または2
記載の光学装置において、前記撮影光学系は、可動光学
部材と、前記可動光学部材を駆動するアクチュエータと
を有し、前記少なくとも1部が前記受入部に挿入されて
いる構成部材は、前記アクチュエータの構成部材である
ことを特徴とする。
記載の光学装置において、前記撮影光学系は、可動光学
部材と、前記可動光学部材を駆動するアクチュエータと
を有し、前記少なくとも1部が前記受入部に挿入されて
いる構成部材は、前記アクチュエータの構成部材である
ことを特徴とする。
【0020】請求項5記載の発明は、請求項1または2
記載の光学装置において、前記撮影光学系は、光学部材
と、前記可動光学部材を保持する保持部材とを有し、前
記少なくとも1部が前記受入部に挿入されている構成部
材は、前記保持部材であることを特徴とする。
記載の光学装置において、前記撮影光学系は、光学部材
と、前記可動光学部材を保持する保持部材とを有し、前
記少なくとも1部が前記受入部に挿入されている構成部
材は、前記保持部材であることを特徴とする。
【0021】請求項6記載の発明は、請求項1ないし5
記載の光学装置において、前記受入部は凹部からなるこ
とを特徴とする。
記載の光学装置において、前記受入部は凹部からなるこ
とを特徴とする。
【0022】請求項7記載の発明は、請求項1ないし5
記載の光学装置において、前記受入部は、前記基板を貫
通する開口部からなることを特徴とする。
記載の光学装置において、前記受入部は、前記基板を貫
通する開口部からなることを特徴とする。
【0023】
【作用】請求項1記載の光学装置の構成では、撮影光学
系および固体撮像素子が搭載され、撮影光学系の搭載面
側に開口する受入部が形成されている基板を有し、撮影
光学系が、その構成部材の少なくとも一部が受入部内に
挿入されるように基板に配置されているから、基板の厚
さ方向に対する厚さの増大を抑えることができる。
系および固体撮像素子が搭載され、撮影光学系の搭載面
側に開口する受入部が形成されている基板を有し、撮影
光学系が、その構成部材の少なくとも一部が受入部内に
挿入されるように基板に配置されているから、基板の厚
さ方向に対する厚さの増大を抑えることができる。
【0024】請求項2記載の光学装置の構成では、撮影
光学系は基板に平行な光軸を有し、光軸から基板に向う
方向へ最も離れた位置にある構成部材の一部が受入部に
挿入されているから、その構成部材による基板の厚さ方
向に対する厚さの増大を抑えることができる。
光学系は基板に平行な光軸を有し、光軸から基板に向う
方向へ最も離れた位置にある構成部材の一部が受入部に
挿入されているから、その構成部材による基板の厚さ方
向に対する厚さの増大を抑えることができる。
【0025】請求項3記載の光学装置の構成では、少な
くとも1部が受入部に挿入されている構成部材は光学部
材であるから、光学部材による基板の厚さ方向に対する
厚さの増大を抑えることができる。
くとも1部が受入部に挿入されている構成部材は光学部
材であるから、光学部材による基板の厚さ方向に対する
厚さの増大を抑えることができる。
【0026】請求項4記載の光学装置の構成では、少な
くとも1部が受入部に挿入されている構成部材は、アク
チュエータの構成部材であるから、アクチュエータの構
成部材による基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑え
ることができる。
くとも1部が受入部に挿入されている構成部材は、アク
チュエータの構成部材であるから、アクチュエータの構
成部材による基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑え
ることができる。
【0027】請求項5記載の光学装置の構成では、少な
くとも1部が受入部に挿入されている構成部材は、光学
部材を保持する保持部材であるから、その保持部材によ
る基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑えることがで
きる。
くとも1部が受入部に挿入されている構成部材は、光学
部材を保持する保持部材であるから、その保持部材によ
る基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑えることがで
きる。
【0028】請求項6記載の光学装置の構成では、受入
部を凹部で形成することができる。
部を凹部で形成することができる。
【0029】請求項7記載の光学装置の構成では、受入
部を基板を貫通する開口部で形成することができる。
部を基板を貫通する開口部で形成することができる。
【0030】
【実施例】以下に、本発明の実施例について図を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【0031】(第1実施例)図1は本発明の光学装置の
第1実施例の構成を示す分解斜視図、図2は図1の光学
装置の絞り部の構成を示す分解斜視図、図3は図1の光
学装置の光学部材G2のアクチュエータの構成を示す縦
断面図、図4は図3のB−B線に沿って得られた断面
図、図5は図3のA−A線に沿って得られた断面図、図
6は光学部材G2のアクチュエータの他の構成例を示す
縦断面図、図7は図1の光学装置の固体撮像素子の周辺
を示す縦断面図、図8は図1の光学装置の固体撮像素子
の周辺を示す分解斜視図、図9は図1の光学装置の固体
撮像素子の基板裏面側の周辺を示す分解斜視図、図10
は固体撮像素子の撮像面を保護するガラス部材の他の取
付例を示す縦断面図、図11は固体撮像素子の撮像面を
保護するガラス部材の他の取付例を示す縦断面図、図1
2は図1の光学装置の構成を示すブロック図、図13は
フォーカシング時の合焦特性図、図14はズームトラッ
キングカーブを示す図である。
第1実施例の構成を示す分解斜視図、図2は図1の光学
装置の絞り部の構成を示す分解斜視図、図3は図1の光
学装置の光学部材G2のアクチュエータの構成を示す縦
断面図、図4は図3のB−B線に沿って得られた断面
図、図5は図3のA−A線に沿って得られた断面図、図
6は光学部材G2のアクチュエータの他の構成例を示す
縦断面図、図7は図1の光学装置の固体撮像素子の周辺
を示す縦断面図、図8は図1の光学装置の固体撮像素子
の周辺を示す分解斜視図、図9は図1の光学装置の固体
撮像素子の基板裏面側の周辺を示す分解斜視図、図10
は固体撮像素子の撮像面を保護するガラス部材の他の取
付例を示す縦断面図、図11は固体撮像素子の撮像面を
保護するガラス部材の他の取付例を示す縦断面図、図1
2は図1の光学装置の構成を示すブロック図、図13は
フォーカシング時の合焦特性図、図14はズームトラッ
キングカーブを示す図である。
【0032】光学装置は、図1に示すように、表面に撮
像光学系および機構系が搭載されている基板1を備え
る。基板1には、複数の開口部1a,1b,1cが形成
されている。開口部1aは、ガラスなどで密閉部材で光
束通過可能に密閉され、基板1とシールドケース49と
の間に形成された搭載部品の収容空間内にごみ、埃など
の侵入が防止されている。
像光学系および機構系が搭載されている基板1を備え
る。基板1には、複数の開口部1a,1b,1cが形成
されている。開口部1aは、ガラスなどで密閉部材で光
束通過可能に密閉され、基板1とシールドケース49と
の間に形成された搭載部品の収容空間内にごみ、埃など
の侵入が防止されている。
【0033】基板1に搭載されている撮像光学系は、開
口部1aから導かれた被写体の光量を調節する絞り部3
0と、自由曲面の反射面が形成されているガラス、プラ
スチックなどのプリズム状の複数の光学部材G1,G
2,G3,G4と、光学部材G4から射出された光を受
光し、この光を電気信号に変換する固定撮像素子2とを
有する。
口部1aから導かれた被写体の光量を調節する絞り部3
0と、自由曲面の反射面が形成されているガラス、プラ
スチックなどのプリズム状の複数の光学部材G1,G
2,G3,G4と、光学部材G4から射出された光を受
光し、この光を電気信号に変換する固定撮像素子2とを
有する。
【0034】紋り部30は、図2に示すように、開口部
1aの軸線に一致する光軸Kを中心に点対称に配置され
ている2枚の絞り羽根31,32を有する。各絞り羽根
31,32は、それぞれに設けられた軸33,34を中
心として回転するように構成されている。絞り羽根31
の軸33は基板1に設けられている位置決め穴37に回
転可能に挿入され、絞り羽根32の軸34が基板1の位
置決め穴41に回転可能に挿入されている。各絞り羽根
31,32の回転によって絞り閉口量が変化し、光量が
調整される。各絞り羽根31,32の回転によって規制
される絞り閉口の中心位置と光軸Kとは一致する。
1aの軸線に一致する光軸Kを中心に点対称に配置され
ている2枚の絞り羽根31,32を有する。各絞り羽根
31,32は、それぞれに設けられた軸33,34を中
心として回転するように構成されている。絞り羽根31
の軸33は基板1に設けられている位置決め穴37に回
転可能に挿入され、絞り羽根32の軸34が基板1の位
置決め穴41に回転可能に挿入されている。各絞り羽根
31,32の回転によって絞り閉口量が変化し、光量が
調整される。各絞り羽根31,32の回転によって規制
される絞り閉口の中心位置と光軸Kとは一致する。
【0035】各絞り羽根31,32には、アクチュエー
タの一部としてそれぞれ永久磁石35,36が設けられ
ている。この永久磁石36,36は、それぞれ紋り羽根
31,32の位置を検出するための磁気スケールとして
も用いられている。各永久磁石35,36は、各絞り羽
根32,32の回転方向に垂直な方向にかつ基板1に対
し垂直方向に磁極が配置されるように着磁されている。
タの一部としてそれぞれ永久磁石35,36が設けられ
ている。この永久磁石36,36は、それぞれ紋り羽根
31,32の位置を検出するための磁気スケールとして
も用いられている。各永久磁石35,36は、各絞り羽
根32,32の回転方向に垂直な方向にかつ基板1に対
し垂直方向に磁極が配置されるように着磁されている。
【0036】永久磁石35に対向する基板1上の位置に
は、コイル38およびヨーク39と位置センサ40とが
配置され、永久磁石36に対向する基板1上の位置に
は、コイル42およびヨーク43と位置センサ44とが
配置されている。なお、ヨーク39は、後述するよう
に、基板1に形成された凹部(図示せず)に基板1と一
体化するように嵌め込まれている。
は、コイル38およびヨーク39と位置センサ40とが
配置され、永久磁石36に対向する基板1上の位置に
は、コイル42およびヨーク43と位置センサ44とが
配置されている。なお、ヨーク39は、後述するよう
に、基板1に形成された凹部(図示せず)に基板1と一
体化するように嵌め込まれている。
【0037】永久磁石35は、コイル38およびヨーク
39と共働して絞り羽根31を駆動するためのアクチュ
エータを構成する。このアクチュエータにおいては、永
久磁石35とヨーク39との間に磁束が通過する状態で
コイル38に電流を流すと、前記磁束と電流との相互作
用によって永久磁石35すなわち紋り羽根31を、軸3
3を中心として回転させる。位置センサ40はホールセ
ンサからなり、このホールセンサは、紋り羽根31の回
転による永久磁石35の磁界の変化を検出する。位置セ
ンサ40による検出値は、所定の紋り値になるように絞
り羽根31の回転量を制御するための制御量として用い
られる。
39と共働して絞り羽根31を駆動するためのアクチュ
エータを構成する。このアクチュエータにおいては、永
久磁石35とヨーク39との間に磁束が通過する状態で
コイル38に電流を流すと、前記磁束と電流との相互作
用によって永久磁石35すなわち紋り羽根31を、軸3
3を中心として回転させる。位置センサ40はホールセ
ンサからなり、このホールセンサは、紋り羽根31の回
転による永久磁石35の磁界の変化を検出する。位置セ
ンサ40による検出値は、所定の紋り値になるように絞
り羽根31の回転量を制御するための制御量として用い
られる。
【0038】永久磁石36は、コイル42およびヨーク
43と共働して絞り羽根32を駆動するためのアクチュ
エータを構成する。コイル42の一部およびヨーク43
は、基板1に形成された凹部(図示せず)に嵌め込まれ
ている。位置センサ44は、位置センサ42と同様に、
紋り羽根32の回転による永久磁石36の磁界の変化を
検出するホールセンサからなる。
43と共働して絞り羽根32を駆動するためのアクチュ
エータを構成する。コイル42の一部およびヨーク43
は、基板1に形成された凹部(図示せず)に嵌め込まれ
ている。位置センサ44は、位置センサ42と同様に、
紋り羽根32の回転による永久磁石36の磁界の変化を
検出するホールセンサからなる。
【0039】なお、永久磁石35,36をプラスチック
マグネットで構成し、プラスチックマグネットを絞り羽
根31,32の一部分となるように一体化することもで
きる。
マグネットで構成し、プラスチックマグネットを絞り羽
根31,32の一部分となるように一体化することもで
きる。
【0040】各光学部材G1,G2,G3,G4は、例
えば、開口部1aから絞り部30を介して入射された光
が、光学部材G1の内部で複数回の反射を繰り返した後
に、光学部材G2に導かれるように、複数の球面レンズ
を組み合わせて構成されたレンズ群と同等の機能を有す
る。
えば、開口部1aから絞り部30を介して入射された光
が、光学部材G1の内部で複数回の反射を繰り返した後
に、光学部材G2に導かれるように、複数の球面レンズ
を組み合わせて構成されたレンズ群と同等の機能を有す
る。
【0041】光学部材G1は基板1に固定されている。
光学部材G1には、基板1に対する位置決めをするため
の1対の軸G1aが設けられ、各軸G1aを対応する基
板1の開口部1bに嵌合することによって、基板1に対
する光学部材G1の位置決め固定が行われている。な
お、本実施例では、各軸G1aと対応する開口部1bと
の嵌合によって、基板1と光学部材G1との位置決め固
定をしているが、これに代えて、基板1に対し光学部材
G1を位置決め手段で位置決めをした後に、基板1と光
学部材G1とを接着剤で固定する方法を用いることもで
きる。
光学部材G1には、基板1に対する位置決めをするため
の1対の軸G1aが設けられ、各軸G1aを対応する基
板1の開口部1bに嵌合することによって、基板1に対
する光学部材G1の位置決め固定が行われている。な
お、本実施例では、各軸G1aと対応する開口部1bと
の嵌合によって、基板1と光学部材G1との位置決め固
定をしているが、これに代えて、基板1に対し光学部材
G1を位置決め手段で位置決めをした後に、基板1と光
学部材G1とを接着剤で固定する方法を用いることもで
きる。
【0042】光学部材G2,G3のそれぞれは、基板1
の表面に対し平行に所定の方向(基板1の長手方向)に
移動されることによって、ズーミング(焦点距離調整)
動作、フォーカシング(焦点調整)動作を行うための光
学部材である。
の表面に対し平行に所定の方向(基板1の長手方向)に
移動されることによって、ズーミング(焦点距離調整)
動作、フォーカシング(焦点調整)動作を行うための光
学部材である。
【0043】光学部材G2は、移動台3に接着剤で固定
されている。移動台3は、平板状に形成された鉄などの
高透磁率材からなる。移動台3には、それを基板1に対
し平行にかつ所定の方向に移動させるためのアクチュエ
ータの一部、移動位置を検出するための位置検出部と、
移動方向をガイドするとともに移動位置を規制するため
の位置規制部とが設けられている。
されている。移動台3は、平板状に形成された鉄などの
高透磁率材からなる。移動台3には、それを基板1に対
し平行にかつ所定の方向に移動させるためのアクチュエ
ータの一部、移動位置を検出するための位置検出部と、
移動方向をガイドするとともに移動位置を規制するため
の位置規制部とが設けられている。
【0044】本実施例では、図1、図3ないし図5に示
すように、アクチュエータの一部として永久磁石5が、
位置検出部として磁気スケール7が、位置規制部として
移動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する
溝部9および凹状の溝部11がそれぞれ設けられてい
る。永久磁石5は、光学部材G2移動方向に対して直角
方向に着磁された2組の磁石から構成され、各磁石は基
板1に平行な方向に配列されている。
すように、アクチュエータの一部として永久磁石5が、
位置検出部として磁気スケール7が、位置規制部として
移動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する
溝部9および凹状の溝部11がそれぞれ設けられてい
る。永久磁石5は、光学部材G2移動方向に対して直角
方向に着磁された2組の磁石から構成され、各磁石は基
板1に平行な方向に配列されている。
【0045】移動台3、永久磁石5と共働してアクチュ
エータを構成するコイル17およびヨーク19は基板1
に設けられている。コイルの一部およびヨーク19は、
図3に示すように、基板1に形成された凹部1eに嵌め
込まれている。
エータを構成するコイル17およびヨーク19は基板1
に設けられている。コイルの一部およびヨーク19は、
図3に示すように、基板1に形成された凹部1eに嵌め
込まれている。
【0046】磁気スケール7の磁力は、MRセンサ、ホ
ールセンサなどからなる位置センサ21で検出され、こ
の位置センサ21は磁気スケール7に対向するように基
板1に設けられている。
ールセンサなどからなる位置センサ21で検出され、こ
の位置センサ21は磁気スケール7に対向するように基
板1に設けられている。
【0047】各溝部9,11に対向する基板1上のそれ
ぞれの位置には、移動台3の移動方向をガイドするとと
もに移動位置を規制するためのレール部13,14が設
けられている。レール部13,14には、移動台3の移
動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する溝
が形成されている。各溝部9,11と対応するレール部
13,14との間には、ボール46が挿入されている。
ぞれの位置には、移動台3の移動方向をガイドするとと
もに移動位置を規制するためのレール部13,14が設
けられている。レール部13,14には、移動台3の移
動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する溝
が形成されている。各溝部9,11と対応するレール部
13,14との間には、ボール46が挿入されている。
【0048】移動台3、永久磁石5、コイル17、ヨー
ク19によって構成されたアクチュエータにおいては、
コイル17に電流を流すと、後述する磁気回路と電流と
の相互作用により駆動力が発生し、この駆動力によって
移動台3すなわち光学部材G2が光軸方向(図3におい
て紙面と垂直方向)に移動される。具体的には、図5
(b)に示すように、永久磁石5、透磁性がある移動台
3、ヨーク19の間には図中に点線で示す磁路が形成さ
れている。永久磁石5とヨーク19との間の磁路中に存
在するコイル17に電流を流すと、磁力と電流との相互
作用により発生する駆動力によって移動台3すなわち光
学部材G2は図中に示す矢印方向に移動される。電流の
流れ方向を変化させることによって移動台3の移動方向
は変化し、例えば、移動台3を図5(b)に示す位置か
ら図5(a)に示す位置へ移動させることができ、移動
台3を図5(b)に示す位置から図5(c)に示す位置
へ移動させることができる。
ク19によって構成されたアクチュエータにおいては、
コイル17に電流を流すと、後述する磁気回路と電流と
の相互作用により駆動力が発生し、この駆動力によって
移動台3すなわち光学部材G2が光軸方向(図3におい
て紙面と垂直方向)に移動される。具体的には、図5
(b)に示すように、永久磁石5、透磁性がある移動台
3、ヨーク19の間には図中に点線で示す磁路が形成さ
れている。永久磁石5とヨーク19との間の磁路中に存
在するコイル17に電流を流すと、磁力と電流との相互
作用により発生する駆動力によって移動台3すなわち光
学部材G2は図中に示す矢印方向に移動される。電流の
流れ方向を変化させることによって移動台3の移動方向
は変化し、例えば、移動台3を図5(b)に示す位置か
ら図5(a)に示す位置へ移動させることができ、移動
台3を図5(b)に示す位置から図5(c)に示す位置
へ移動させることができる。
【0049】移動台3の移動時、図4に示すように、永
久磁石5とヨーク19との間には磁力による吸引力が働
いているから、移動台3とレール部13とはボール46
を介してガタなく密着している。移動台3が図4(a)
に示す方向に移動するときにはボール46は右回転を
し、また図4(c)に示す方向に移動するときにはボー
ル46は左回転をし、移動台3の姿勢はレール部13に
対しボール46を介して安定に保持される。また、移動
台3に移動中、ボール46は転がるから、ボール46に
対して移動台3およびレール部13との接触面に働く転
がり摩擦は、従来例で記載したガイドピンとレンズの保
持部材の接触部に働くすべり摩按に比べると、無視でき
るほど小きく、摩擦による光学部材G2の移動時におけ
る負荷を低減することができる。移動台3の移動に伴い
磁気スケール7の磁界は変化し、その変化は位置センサ
21で読み取られる。位置センサ21からの検出値は、
移動台3の移動制御に用いられる。
久磁石5とヨーク19との間には磁力による吸引力が働
いているから、移動台3とレール部13とはボール46
を介してガタなく密着している。移動台3が図4(a)
に示す方向に移動するときにはボール46は右回転を
し、また図4(c)に示す方向に移動するときにはボー
ル46は左回転をし、移動台3の姿勢はレール部13に
対しボール46を介して安定に保持される。また、移動
台3に移動中、ボール46は転がるから、ボール46に
対して移動台3およびレール部13との接触面に働く転
がり摩擦は、従来例で記載したガイドピンとレンズの保
持部材の接触部に働くすべり摩按に比べると、無視でき
るほど小きく、摩擦による光学部材G2の移動時におけ
る負荷を低減することができる。移動台3の移動に伴い
磁気スケール7の磁界は変化し、その変化は位置センサ
21で読み取られる。位置センサ21からの検出値は、
移動台3の移動制御に用いられる。
【0050】本実施例では、基板1に平行な方向に配列
されている2組の磁石からなる永久磁石5を用いている
が、これに代えて、図6に示すように、それぞれ光軸と
垂直方向に着磁されている永久磁石51,52を用い、
各永久磁石51,52をバックヨーク53に固着するよ
うに構成することもできる。このような構成によって、
磁路は最も空間的ギャップが少ない永久磁石51,52
の下面とヨーク19との間に集中し、駆動力および磁路
の安定化を図ることができる。
されている2組の磁石からなる永久磁石5を用いている
が、これに代えて、図6に示すように、それぞれ光軸と
垂直方向に着磁されている永久磁石51,52を用い、
各永久磁石51,52をバックヨーク53に固着するよ
うに構成することもできる。このような構成によって、
磁路は最も空間的ギャップが少ない永久磁石51,52
の下面とヨーク19との間に集中し、駆動力および磁路
の安定化を図ることができる。
【0051】同様に、光学部材G3は、移動台4に接着
剤で固定されている。移動台4は、移動台3と同じ構成
を有し、移動台4には、アクチュエータの一部として永
久磁石6が、位置検出部として磁気スケール8が、位置
規制部として移動台4の移動方向に垂直な面内において
V字の断面形状を有する溝部10および凹状の溝部12
がそれぞれ設けられている。
剤で固定されている。移動台4は、移動台3と同じ構成
を有し、移動台4には、アクチュエータの一部として永
久磁石6が、位置検出部として磁気スケール8が、位置
規制部として移動台4の移動方向に垂直な面内において
V字の断面形状を有する溝部10および凹状の溝部12
がそれぞれ設けられている。
【0052】移動台4、永久磁石6と共働してアクチュ
エータを構成するコイル18およびヨーク20は、基板
1に設けられている。ヨーク20は、後述するように、
基板1に形成された開口部(図示せず)に基板1に一体
化するように嵌め込まれた鉄ベースからなる。
エータを構成するコイル18およびヨーク20は、基板
1に設けられている。ヨーク20は、後述するように、
基板1に形成された開口部(図示せず)に基板1に一体
化するように嵌め込まれた鉄ベースからなる。
【0053】移動台4、永久磁石6、コイル18、ヨー
ク20によって構成されたアクチュエータは、上述の永
久磁石5、コイル17、ヨーク19によって構成された
アクチュエータと同じ動作を行う。
ク20によって構成されたアクチュエータは、上述の永
久磁石5、コイル17、ヨーク19によって構成された
アクチュエータと同じ動作を行う。
【0054】磁気スケール9の磁力は、MRセンサ、ホ
ールセンサなどからなる位置センサ22で検出され、こ
の位置センサ22は磁気スケール9に対向するように基
板1に設けられている。
ールセンサなどからなる位置センサ22で検出され、こ
の位置センサ22は磁気スケール9に対向するように基
板1に設けられている。
【0055】各溝部10,12に対向する基板1上のそ
れぞれの位置には、移動台4の移動方向をガイドすると
ともに移動位置を規制するためのレール部15,16が
設けられている。レール部15,16には、移動台3の
移動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する
溝が形成され、各溝部10,12と対応するレール部1
5,16との間にはボール47が挿入されている。この
移動台4の移動に伴い光学部材G3は所定の方向に移動
され、移動台4の移動時に溝部10,12と対応するレ
ール部15,16との間に発生する摩擦力は、ボール4
7の転がりによって低減される。
れぞれの位置には、移動台4の移動方向をガイドすると
ともに移動位置を規制するためのレール部15,16が
設けられている。レール部15,16には、移動台3の
移動方向に垂直な面内においてV字の断面形状を有する
溝が形成され、各溝部10,12と対応するレール部1
5,16との間にはボール47が挿入されている。この
移動台4の移動に伴い光学部材G3は所定の方向に移動
され、移動台4の移動時に溝部10,12と対応するレ
ール部15,16との間に発生する摩擦力は、ボール4
7の転がりによって低減される。
【0056】なお、本実施例では、各光学部材G2,G
3と各移動台3,4とを接着剤で固定しているが、これ
に代えて、各光学部材G2,G3を各移動台3,4に対
しインサート成形またはアウトサート成形することによ
って各光学部材G2,G3と各移動台3,4と一体化す
ることもできる。
3と各移動台3,4とを接着剤で固定しているが、これ
に代えて、各光学部材G2,G3を各移動台3,4に対
しインサート成形またはアウトサート成形することによ
って各光学部材G2,G3と各移動台3,4と一体化す
ることもできる。
【0057】光学部材G4は、基板1に接着剤で固定さ
れている。光学部材G4は、その射出光の光軸が基板1
の開口部1cの軸線に一致するように、基板1上に配置
されている。光学部材G4には、被写体像に含まれる不
要な高周波成分、赤外線を取り除くための光学フィルタ
(図示せず)が貼り付られている。なお、この光学フィ
ルタを蒸着によって光学部材G4に一体的に形成するこ
ともできる。
れている。光学部材G4は、その射出光の光軸が基板1
の開口部1cの軸線に一致するように、基板1上に配置
されている。光学部材G4には、被写体像に含まれる不
要な高周波成分、赤外線を取り除くための光学フィルタ
(図示せず)が貼り付られている。なお、この光学フィ
ルタを蒸着によって光学部材G4に一体的に形成するこ
ともできる。
【0058】各光学部材G1,G2,G3,G4で構成
される光学系においては、光学部材G1で基板1の開口
部1aから絞り部30を介して入射した光を基板1の表
面に平行な方向に反射し、その反射された光を光学部材
G2,G3で光学部材G4に導き、光学部材G4で光を
基板1の表面に対し垂直な方向に射出する。
される光学系においては、光学部材G1で基板1の開口
部1aから絞り部30を介して入射した光を基板1の表
面に平行な方向に反射し、その反射された光を光学部材
G2,G3で光学部材G4に導き、光学部材G4で光を
基板1の表面に対し垂直な方向に射出する。
【0059】光学部材G4から射出された光は、基板1
の開口部1cを介して固体撮像素子2に導かれる。
の開口部1cを介して固体撮像素子2に導かれる。
【0060】固体撮像素子2は、図1、図7ないし図9
に示すように、基板1の裏面に取り付けられている。固
体撮像素子2は、図8に示すように、蓄積された信号を
出力するための端子、タイミングパルスなどを入力する
ための端子を含む複数の端子904を有する。各端子9
04は、固体撮像素子904の撮像面905側に設けら
れている。固体撮像素子2は、撮像面905の光軸が基
板1の開口部1cの軸線に一致するように、基板1の裏
面側に配置されている。各端子904は、基板1の裏面
に設けられている端子907にそれぞれ直接にはんだ付
けなどによって接続されているから、ノイズなどの影響
を受け難くなる。
に示すように、基板1の裏面に取り付けられている。固
体撮像素子2は、図8に示すように、蓄積された信号を
出力するための端子、タイミングパルスなどを入力する
ための端子を含む複数の端子904を有する。各端子9
04は、固体撮像素子904の撮像面905側に設けら
れている。固体撮像素子2は、撮像面905の光軸が基
板1の開口部1cの軸線に一致するように、基板1の裏
面側に配置されている。各端子904は、基板1の裏面
に設けられている端子907にそれぞれ直接にはんだ付
けなどによって接続されているから、ノイズなどの影響
を受け難くなる。
【0061】固体撮像素子2はその裏面側から樹脂部材
903で封止されている。この樹脂部材903によっ
て、固体撮像素子2が保護されるとともに、固体撮像素
子2の基板1に対する取付強度が増す。
903で封止されている。この樹脂部材903によっ
て、固体撮像素子2が保護されるとともに、固体撮像素
子2の基板1に対する取付強度が増す。
【0062】基板1の開口部1cは、ガラス部材50で
覆われ、ガラス部材50は、光学部材G4と基板1との
間に配置されている。このガラス部材50によって、固
体撮像素子2の撮像面904は保護されている。
覆われ、ガラス部材50は、光学部材G4と基板1との
間に配置されている。このガラス部材50によって、固
体撮像素子2の撮像面904は保護されている。
【0063】なお、本実施例では、撮像面905を保護
するためのガラス部材50が基板1と光学部材G4との
間に配置されているが、これに代えて、図10に示すよ
うに、固体撮像素子2の撮像面905を保護するための
ガラス部材902を基板1の開口部901にはめ込むよ
うに構成することもできる。この構成では、ガラス部材
902が基板1の表面に突出せず、固体撮像素子2周辺
の基板1の厚さ方向に沿う厚さの増大を抑制することが
でき、ひいては、装置全体の厚さを薄くすることができ
る。
するためのガラス部材50が基板1と光学部材G4との
間に配置されているが、これに代えて、図10に示すよ
うに、固体撮像素子2の撮像面905を保護するための
ガラス部材902を基板1の開口部901にはめ込むよ
うに構成することもできる。この構成では、ガラス部材
902が基板1の表面に突出せず、固体撮像素子2周辺
の基板1の厚さ方向に沿う厚さの増大を抑制することが
でき、ひいては、装置全体の厚さを薄くすることができ
る。
【0064】また、ガラス部材50に代えて、図11に
示すように、光学部材G4の一部を基板1の開口部90
1にはめ込むように構成することによって、光学部材G
4を固体撮像素子2の撮像面905を保護するためのガ
ラス部材として兼用することもできるとともに、固体撮
像素子2に対する光学部材G4に位置決めが容易にな
る。
示すように、光学部材G4の一部を基板1の開口部90
1にはめ込むように構成することによって、光学部材G
4を固体撮像素子2の撮像面905を保護するためのガ
ラス部材として兼用することもできるとともに、固体撮
像素子2に対する光学部材G4に位置決めが容易にな
る。
【0065】さらに、本実施例では、撮像面側に電極9
04が形成されている固体撮像素子2を用いているが、
この固体撮像素子2をセラミックなどの基板に予め装着
した組立体を用いることもできる。この組立体では、固
体撮像素子2の電極904とを接続する電極が設けら
れ、この電極と基板1の裏面に設けられている電極とを
直接接続するようにすることもできる。
04が形成されている固体撮像素子2を用いているが、
この固体撮像素子2をセラミックなどの基板に予め装着
した組立体を用いることもできる。この組立体では、固
体撮像素子2の電極904とを接続する電極が設けら
れ、この電極と基板1の裏面に設けられている電極とを
直接接続するようにすることもできる。
【0066】基板1には、図1に示すように、上述の光
学撮像系を構成する部品に加えて、。複数の回路素子4
5a,45bが搭載されている。各回路素子45aは、
光学部材G2,G3を搭載する各移動台3,4のアクチ
ュエータ、絞り部3のアクチュエータ、各位置センサの
駆動回路を構成する素子からなる。回路素子45bは、
固体撮像素子2の駆動回路および映像信号処理回路を構
成する素子からなる。
学撮像系を構成する部品に加えて、。複数の回路素子4
5a,45bが搭載されている。各回路素子45aは、
光学部材G2,G3を搭載する各移動台3,4のアクチ
ュエータ、絞り部3のアクチュエータ、各位置センサの
駆動回路を構成する素子からなる。回路素子45bは、
固体撮像素子2の駆動回路および映像信号処理回路を構
成する素子からなる。
【0067】基板1には、各回路素子45a,45bを
外部回路に接続するためのコネクタ48が設けられてい
る。
外部回路に接続するためのコネクタ48が設けられてい
る。
【0068】基板1には、基板1に搭載されている部品
を磁気およぴ外部からの光から遮蔽し、内面反射を抑
え、外部からのほこりの侵入を防ぐように、シールドケ
ース49が取り付けられ、シールドケース49は、例え
ぱ内面を黒く塗装した鉄板などから形成されている。
を磁気およぴ外部からの光から遮蔽し、内面反射を抑
え、外部からのほこりの侵入を防ぐように、シールドケ
ース49が取り付けられ、シールドケース49は、例え
ぱ内面を黒く塗装した鉄板などから形成されている。
【0069】次に、本実施例の光学装置の組立手順につ
いて説明する。
いて説明する。
【0070】まず、第1工程では、固接部品の基板1上
への配置を行う。この固接部品としては、固体撮像素子
2と、光学部材G1,G4と、各光学部材G2,G3の
アクチュエータを構成するコイル17,18、ヨーク1
9,20、レール部13,14,15,16と、位置セ
ンサ21,22と、絞り部30のコイル38,42、ヨ
ーク39,43、位置センサ40,44と、各回路素子
45a,45bとがある。
への配置を行う。この固接部品としては、固体撮像素子
2と、光学部材G1,G4と、各光学部材G2,G3の
アクチュエータを構成するコイル17,18、ヨーク1
9,20、レール部13,14,15,16と、位置セ
ンサ21,22と、絞り部30のコイル38,42、ヨ
ーク39,43、位置センサ40,44と、各回路素子
45a,45bとがある。
【0071】まず、固体撮像素子2は、基板1の裏面に
半田付け、接着などによって固設され、固体撮像素子2
の端子905と基板1の端子907とは電気的に接続さ
れる。
半田付け、接着などによって固設され、固体撮像素子2
の端子905と基板1の端子907とは電気的に接続さ
れる。
【0072】次いで、ガラス部材50が開口部1aを覆
うように取り付けられ、光学部材G4が基板1の表面に
固定される。光学部材G4は、基板1に対して接着剤な
どにより固着されている。
うように取り付けられ、光学部材G4が基板1の表面に
固定される。光学部材G4は、基板1に対して接着剤な
どにより固着されている。
【0073】光学部材G4の取り付け後、光学部材G1
の軸G1aは対応する開口部1bに嵌合され、光学部材
G1の基板1上での位置が決定される。
の軸G1aは対応する開口部1bに嵌合され、光学部材
G1の基板1上での位置が決定される。
【0074】次いで、他の固設部品が順次に位置決めさ
れ、半田付け、接着などにより基板1に対し固定され
る。コイル17,18、ヨーク19,20、位置センサ
21,22、コイル38,42、ヨーク39,43、位
置センサ40,44、各回路素子45a,45bは基板
1に形成された配線パターンに接続される。
れ、半田付け、接着などにより基板1に対し固定され
る。コイル17,18、ヨーク19,20、位置センサ
21,22、コイル38,42、ヨーク39,43、位
置センサ40,44、各回路素子45a,45bは基板
1に形成された配線パターンに接続される。
【0075】この第1工程の完了に伴い、固設部品の基
板1上への搭載、絞り部30の絞り羽根31,32、光
学部材G2,G3を搭載する移動台3、4などの可動部
材を駆動制御するためのコイル、位置センサなどの電気
的接続は完了する。このように、固体撮像素子2を含む
基板1と電気的接続が必要な固設部品は、リード線、フ
レキシブルプリント板を介さずに、直接基板1にハンダ
などに電気的に接続されるから、電気配線に要する組立
工程が省略され、コストが低減する。
板1上への搭載、絞り部30の絞り羽根31,32、光
学部材G2,G3を搭載する移動台3、4などの可動部
材を駆動制御するためのコイル、位置センサなどの電気
的接続は完了する。このように、固体撮像素子2を含む
基板1と電気的接続が必要な固設部品は、リード線、フ
レキシブルプリント板を介さずに、直接基板1にハンダ
などに電気的に接続されるから、電気配線に要する組立
工程が省略され、コストが低減する。
【0076】次に、第2工程が実行される。この第2工
程では、可動部材である絞り羽根31,32が基板1に
装着される。具体的には、絞り羽根31の軸33が基板
1の穴37に挿入され、同様に、絞り羽根32の軸34
が基板1の穴41に挿入される。
程では、可動部材である絞り羽根31,32が基板1に
装着される。具体的には、絞り羽根31の軸33が基板
1の穴37に挿入され、同様に、絞り羽根32の軸34
が基板1の穴41に挿入される。
【0077】次に、第3工程が実行される。この第3工
程では、撮像光学系である光学部材G2,G3およびそ
のアクチュエータを構成する可動部材の装着を行う。移
動台3,4がそれぞれボール46,47を介してレール
部13,…,16に搭載され、移動第3,4に対し光学
部材G2,G3の位置が定められる。
程では、撮像光学系である光学部材G2,G3およびそ
のアクチュエータを構成する可動部材の装着を行う。移
動台3,4がそれぞれボール46,47を介してレール
部13,…,16に搭載され、移動第3,4に対し光学
部材G2,G3の位置が定められる。
【0078】次に、第4工程が実行され、この第4工程
では、シールドケース49の取り付けを行う。このシー
ルドケース49は、基板1の表面を覆うように基板1に
置かれ、対応する部位を基板1のグランドパターンにハ
ンダ付けをすることによって、固定が行われる。
では、シールドケース49の取り付けを行う。このシー
ルドケース49は、基板1の表面を覆うように基板1に
置かれ、対応する部位を基板1のグランドパターンにハ
ンダ付けをすることによって、固定が行われる。
【0079】第4工程の完了によって、基板1上への部
品の装着は終了する。
品の装着は終了する。
【0080】このように、従来レンズ等の光学系を保持
していた筐体という複雑で高価な部品を用いることな
く、また組立工程を簡略化することができ、低コストな
撮像光学系を堤供することができる。
していた筐体という複雑で高価な部品を用いることな
く、また組立工程を簡略化することができ、低コストな
撮像光学系を堤供することができる。
【0081】また、平面的な基板1上に上述の各部材ま
たは部品を配置することによって、基板1の厚さ方向の
寸法が極力増加しないように各部品の配置、姿勢を決定
することが容易になり、その結果、薄型の光学装置を簡
単に得ることができる。
たは部品を配置することによって、基板1の厚さ方向の
寸法が極力増加しないように各部品の配置、姿勢を決定
することが容易になり、その結果、薄型の光学装置を簡
単に得ることができる。
【0082】さらに、ヨーク19,20、絞り部30の
ヨーク39,43などを基板1に形成された凹部に嵌め
込むことによって、ヨーク19,20、絞り部30のヨ
ーク39,43などによる基板1の厚さ方向における厚
さの増大を抑制することができ、より薄型の光学装置を
実現することができる。
ヨーク39,43などを基板1に形成された凹部に嵌め
込むことによって、ヨーク19,20、絞り部30のヨ
ーク39,43などによる基板1の厚さ方向における厚
さの増大を抑制することができ、より薄型の光学装置を
実現することができる。
【0083】さらに、固体撮像素子2が装着された基板
1に対して各光学部材、光学部材の規制部、絞り部30
が配置されるから、それぞれの位置精度を高精度化する
ことができる。
1に対して各光学部材、光学部材の規制部、絞り部30
が配置されるから、それぞれの位置精度を高精度化する
ことができる。
【0084】なお、本実施例では、各光学部材G1,G
2,G3,G4による撮像光学系を例に説明したが、従
来例で説明したような屈折光学系によるレンズ群による
撮像光学系あるいは屈折光学系によるレンズ群を付け加
えた撮像光学系において、これらの光学系を基板上に直
接または移動台上に配置することによって可動とするよ
うに構成することは可能である。
2,G3,G4による撮像光学系を例に説明したが、従
来例で説明したような屈折光学系によるレンズ群による
撮像光学系あるいは屈折光学系によるレンズ群を付け加
えた撮像光学系において、これらの光学系を基板上に直
接または移動台上に配置することによって可動とするよ
うに構成することは可能である。
【0085】次に、本実施例の構成を電気的に図12を
参照しながら説明する。図12は図1の光学装置の構成
を示すブロック図である。
参照しながら説明する。図12は図1の光学装置の構成
を示すブロック図である。
【0086】光学装置は、図12に示すように、撮像光
学系601を備える。撮像光学系601は、入射光の光
量を制限する絞り部G12(図1に示す絞り部30)
と、位置固定の光学部材G1と、位置移動によって撮影
倍率を変化させる光学部材G2と、位置移動により焦点
調節を行う光学部材G3と、位置固定で、被写体像の不
要な高周波成分や赤外線を除去するための光学フィルタ
が形成されている光学部材G4とからなる。
学系601を備える。撮像光学系601は、入射光の光
量を制限する絞り部G12(図1に示す絞り部30)
と、位置固定の光学部材G1と、位置移動によって撮影
倍率を変化させる光学部材G2と、位置移動により焦点
調節を行う光学部材G3と、位置固定で、被写体像の不
要な高周波成分や赤外線を除去するための光学フィルタ
が形成されている光学部材G4とからなる。
【0087】光学部材G4から射出された光は固体撮像
素子2に入射され、その入射光は、固体撮像素子2で電
気信号に変換される。固体撮像素子2は、撮像素子駆動
回路604で駆動され、撮像素子駆動回路604は、ク
ロック回路603が発生するタイミング信号を増幅し、
その増幅された信号で固体撮像素子2を駆動する。クロ
ック回路603におけるタイミング信号の発生タイミン
グは、CPU616によって制御される。
素子2に入射され、その入射光は、固体撮像素子2で電
気信号に変換される。固体撮像素子2は、撮像素子駆動
回路604で駆動され、撮像素子駆動回路604は、ク
ロック回路603が発生するタイミング信号を増幅し、
その増幅された信号で固体撮像素子2を駆動する。クロ
ック回路603におけるタイミング信号の発生タイミン
グは、CPU616によって制御される。
【0088】固体撮像素子2から出力された電気信号
は、前置処理回路605に与えられる。前置処理回路6
05は、固体撮像素子2からの電気信号に対し増幅、C
DS処理などを行う。前置処理回路605からの信号
は、A/D変換器606でデジタル信号化され、このデ
ジタル信号はプロセス回路607に与えられる。プロセ
ス回路607は、デジタル信号に対し各種の処理を行
い、映像化する。
は、前置処理回路605に与えられる。前置処理回路6
05は、固体撮像素子2からの電気信号に対し増幅、C
DS処理などを行う。前置処理回路605からの信号
は、A/D変換器606でデジタル信号化され、このデ
ジタル信号はプロセス回路607に与えられる。プロセ
ス回路607は、デジタル信号に対し各種の処理を行
い、映像化する。
【0089】プロセス回路607からの映像信号は、D
/A変換器608を介して表示装置609に、D/A変
換器610を介してアナログ出力611に、メモリ61
2に、デジタル出力に、合焦情報検出回路614、輝度
情報検出回路615にそれぞれ与えられる。
/A変換器608を介して表示装置609に、D/A変
換器610を介してアナログ出力611に、メモリ61
2に、デジタル出力に、合焦情報検出回路614、輝度
情報検出回路615にそれぞれ与えられる。
【0090】表示装置609は、映像信号が示す映像を
表示するLCDからなる。アナログ出力611は、例え
ばテレビモニタなどに信号を出力するためのアナログ信
号出力端子からなる。メモリ612は、映像信号を記録
する。デジタル出力613は、例えば外部の記録媒体な
どに信号を出力するための端子からなる。
表示するLCDからなる。アナログ出力611は、例え
ばテレビモニタなどに信号を出力するためのアナログ信
号出力端子からなる。メモリ612は、映像信号を記録
する。デジタル出力613は、例えば外部の記録媒体な
どに信号を出力するための端子からなる。
【0091】合焦情報検出回路614は、プロセス回路
607からの映像信号に基づき被写体像の合焦状態を検
出する。その検出結果は、CPU616に与えられる。
607からの映像信号に基づき被写体像の合焦状態を検
出する。その検出結果は、CPU616に与えられる。
【0092】輝度情報検出回路615は、プロセス回路
607からの映像信号に基づき被写体像の明るさ情報を
検出する。その検出結果は、CPU616に与えられ
る。
607からの映像信号に基づき被写体像の明るさ情報を
検出する。その検出結果は、CPU616に与えられ
る。
【0093】光学部材G2は、アクチュエータ617で
所定の方向に移動される。このアクチュエータ617
は、図1に示すように、移動台3、永久磁石5、コイル
17、ヨーク19によって構成される。アクチュエータ
617の駆動制御はアクチュエータ制御回路619から
の制御信号によって行われ、この制御信号はドライブ回
路620で増幅された後にアクチュエータ617に与え
られる。光学部材G2の位置は位置検出器618で検出
され、この位置検出器618は、図1に示す位置センサ
21から構成される。位置検出器618からの信号は、
増幅器621で増幅された後に、A/D変換器622を
介してCPU616に与えられる。
所定の方向に移動される。このアクチュエータ617
は、図1に示すように、移動台3、永久磁石5、コイル
17、ヨーク19によって構成される。アクチュエータ
617の駆動制御はアクチュエータ制御回路619から
の制御信号によって行われ、この制御信号はドライブ回
路620で増幅された後にアクチュエータ617に与え
られる。光学部材G2の位置は位置検出器618で検出
され、この位置検出器618は、図1に示す位置センサ
21から構成される。位置検出器618からの信号は、
増幅器621で増幅された後に、A/D変換器622を
介してCPU616に与えられる。
【0094】光学部材G3は、アクチュエータ623で
所定の方向に移動される。このアクチュエータ623
は、図1に示すように、移動台4、永久磁石6、コイル
18、ヨーク20によって構成される。アクチュエータ
623の駆動制御はアクチュエータ制御回路625から
の制御信号によって行われ、この制御信号はドライブ回
路626で増幅された後にアクチュエータ623に与え
られる。光学部材G3の位置は位置検出器624で検出
され、この位置検出器624は、図1に示す位置センサ
22から構成される。位置検出器624からの信号は、
増幅器627で増幅された後に、A/D変換器628を
介してCPU616に与えられる。
所定の方向に移動される。このアクチュエータ623
は、図1に示すように、移動台4、永久磁石6、コイル
18、ヨーク20によって構成される。アクチュエータ
623の駆動制御はアクチュエータ制御回路625から
の制御信号によって行われ、この制御信号はドライブ回
路626で増幅された後にアクチュエータ623に与え
られる。光学部材G3の位置は位置検出器624で検出
され、この位置検出器624は、図1に示す位置センサ
22から構成される。位置検出器624からの信号は、
増幅器627で増幅された後に、A/D変換器628を
介してCPU616に与えられる。
【0095】絞り部G12は、アクチュエータ629で
所定の絞り量になるように駆動される。このアクチュエ
ータ629は、図1に示すように、絞り羽根31,3
2、永久磁石35,36、コイル38,42、ヨーク3
9,43によって構成される。アクチュエータ629の
駆動制御はアクチュエータ制御回路631からの制御信
号によって行われ、この制御信号はドライブ回路632
で増幅された後にアクチュエータ629に与えられる。
絞り部G12の絞り量すなわち絞り羽根31,32の回
転位置は位置検出器630で検出され、この位置検出器
630は、図1に示す位置センサ40,44から構成さ
れる。位置検出器630からの信号は、増幅器633で
増幅された後に、A/D変換器634を介してCPU6
16に与えられる。
所定の絞り量になるように駆動される。このアクチュエ
ータ629は、図1に示すように、絞り羽根31,3
2、永久磁石35,36、コイル38,42、ヨーク3
9,43によって構成される。アクチュエータ629の
駆動制御はアクチュエータ制御回路631からの制御信
号によって行われ、この制御信号はドライブ回路632
で増幅された後にアクチュエータ629に与えられる。
絞り部G12の絞り量すなわち絞り羽根31,32の回
転位置は位置検出器630で検出され、この位置検出器
630は、図1に示す位置センサ40,44から構成さ
れる。位置検出器630からの信号は、増幅器633で
増幅された後に、A/D変換器634を介してCPU6
16に与えられる。
【0096】CPU616は、各検出器618,62
4,630からの検出結果、合焦情報検出回路614か
らの検出結果、および輝度情報検出回路615からの検
出結果に基づき対応するアクチュエータ制御回路62
0,626,630を制御する。
4,630からの検出結果、合焦情報検出回路614か
らの検出結果、および輝度情報検出回路615からの検
出結果に基づき対応するアクチュエータ制御回路62
0,626,630を制御する。
【0097】CPU616には、操作部635から操作
指示信号が与えられる。操作部635は撮影者による操
作に対応する操作指示信号を生成する。
指示信号が与えられる。操作部635は撮影者による操
作に対応する操作指示信号を生成する。
【0098】このような回路構成において、撮像光学系
601とアクチュエータ駆動回路636と固体撮像素子
2からの電気信号を処理する映像信号処理回路637と
に分類することができる。アクチュエータ駆動回路63
6には、各アクチュエータ制御回路619,625,6
31が含まれ、アクチュエータ駆動回路636は、図1
に示す回路素子45a内に構成される。映像信号処理回
路637は、撮像素子駆動回路604とクロック回路6
03とともに、図1に示す回路素子45b内に構成され
る。
601とアクチュエータ駆動回路636と固体撮像素子
2からの電気信号を処理する映像信号処理回路637と
に分類することができる。アクチュエータ駆動回路63
6には、各アクチュエータ制御回路619,625,6
31が含まれ、アクチュエータ駆動回路636は、図1
に示す回路素子45a内に構成される。映像信号処理回
路637は、撮像素子駆動回路604とクロック回路6
03とともに、図1に示す回路素子45b内に構成され
る。
【0099】なお、CPU616、合焦情報検出回路6
14、輝度情報検出回路615は、基板1上に搭載する
ことも可能であるが、特に、その搭載位置は限定されな
い。
14、輝度情報検出回路615は、基板1上に搭載する
ことも可能であるが、特に、その搭載位置は限定されな
い。
【0100】表示装置609、メモリ612および操作
部635は、外部に配置されている。
部635は、外部に配置されている。
【0101】次に、光学装置の動作について説明する。
【0102】まず、撮影者が操作部635を操作するこ
とにより、撮影開始の命令がCPU616に入力され
る。CPU616では、その命令を受けて各回路の電源
を入れ、クロック回路603に固体撮像素子2用のタイ
ミング信号の出力を命令する。クロック回路603から
出力されたタイミング信号は、撮像素子駆動回路604
で、固体撮像素子2を駆動可能な信号に増幅される。こ
の駆動信号により固体撮像素子2に入射された光は電気
信号に変換され、この電気信号は前置直処理部回路60
5に与えられる。前置処理回路605は、固体撮像素子
602からの電気信号に対し、例えばCDS処理、非線
形化、信号増幅などの処理を行う。前置処理回路605
の出力信号は、A/D変換器606でデジタル化された
後、プロセス回路607に与えられる。プロセス回路6
07は、A/D変換器606からのデジタル信号を映像
化するための各種処理、例えば原色分離、ホワイトバラ
ンス、ガンマ補正、アパーチャ補正、輝度信号、色差信
号の生成などの処理を行う。この映像化信号はD/A変
換器608でアナログ信号に変換され、アナログ信号が
示す映像が表示装置609に表示される。また、映像信
号は必要に応じてメモリ612にデジタル信号として記
録され、または外部の機器に出力される。
とにより、撮影開始の命令がCPU616に入力され
る。CPU616では、その命令を受けて各回路の電源
を入れ、クロック回路603に固体撮像素子2用のタイ
ミング信号の出力を命令する。クロック回路603から
出力されたタイミング信号は、撮像素子駆動回路604
で、固体撮像素子2を駆動可能な信号に増幅される。こ
の駆動信号により固体撮像素子2に入射された光は電気
信号に変換され、この電気信号は前置直処理部回路60
5に与えられる。前置処理回路605は、固体撮像素子
602からの電気信号に対し、例えばCDS処理、非線
形化、信号増幅などの処理を行う。前置処理回路605
の出力信号は、A/D変換器606でデジタル化された
後、プロセス回路607に与えられる。プロセス回路6
07は、A/D変換器606からのデジタル信号を映像
化するための各種処理、例えば原色分離、ホワイトバラ
ンス、ガンマ補正、アパーチャ補正、輝度信号、色差信
号の生成などの処理を行う。この映像化信号はD/A変
換器608でアナログ信号に変換され、アナログ信号が
示す映像が表示装置609に表示される。また、映像信
号は必要に応じてメモリ612にデジタル信号として記
録され、または外部の機器に出力される。
【0103】次に、撮像光学系601の動作について説
明する。
明する。
【0104】フォーカシングは通常、自動的に行われ
る。合焦情報検出回路614にプロセス回路607から
の映像信号が入力されると、合焦情報検出回路614
は、入力された映像信号の高域成分の量(以下、合焦情
報という)を検出する。合焦情報は、図13に示すよう
に、撮像光学系601が被写体に対して合焦状態にある
場合に最大となり、デフォーカスするに従い減少してい
く特性を示す。
る。合焦情報検出回路614にプロセス回路607から
の映像信号が入力されると、合焦情報検出回路614
は、入力された映像信号の高域成分の量(以下、合焦情
報という)を検出する。合焦情報は、図13に示すよう
に、撮像光学系601が被写体に対して合焦状態にある
場合に最大となり、デフォーカスするに従い減少してい
く特性を示す。
【0105】CPU616は、光学部材G3を動かしな
がら合焦情報の変化を検出し、合焦情報が最大となる位
置まで以下のように光学部材G3を移動させるようにア
クチュエータ制御回路625を制御する。CPU616
は、合焦情報より算出される目標レンズ位置と実際のレ
ンズ位置が迫従するようにフォーカスレンズ移動信号を
出力する。光学部材G3の実際のレンズ位置は、位置検
出器624で検出された位置情報が増幅器627で増幅
され、A/D変換器628でデジタル化された後、CP
U616に入力され、算出される。
がら合焦情報の変化を検出し、合焦情報が最大となる位
置まで以下のように光学部材G3を移動させるようにア
クチュエータ制御回路625を制御する。CPU616
は、合焦情報より算出される目標レンズ位置と実際のレ
ンズ位置が迫従するようにフォーカスレンズ移動信号を
出力する。光学部材G3の実際のレンズ位置は、位置検
出器624で検出された位置情報が増幅器627で増幅
され、A/D変換器628でデジタル化された後、CP
U616に入力され、算出される。
【0106】アクチュエータ制御回路625はフォーカ
スレンズ移動信号に基づきアクチュエータ制御信号を発
生する。アクチュエータ制御信号はドライブ回路626
でアクチュエータ623を駆動可能な信号に増幅され、
アクチュエータ623が駆動される。アクチュエータ6
23の駆動に伴い光学部材G3は移動され、フォーカシ
ングが行われる。
スレンズ移動信号に基づきアクチュエータ制御信号を発
生する。アクチュエータ制御信号はドライブ回路626
でアクチュエータ623を駆動可能な信号に増幅され、
アクチュエータ623が駆動される。アクチュエータ6
23の駆動に伴い光学部材G3は移動され、フォーカシ
ングが行われる。
【0107】ズーミングは撮影者が操作部635を操作
することにより行われる。操作部635より入力された
指示に従い、CPU616は、光学部材G2の目標位置
を算出する。現在の光学部材G2のレンズ位置は、位置
検出器618で検出される。位置検出器618の出力信
号は増幅器621で増幅され、A/D変換器622に入
力される。A/D変換器622でデジタル化された位置
検出器618からの出力は、CPU616に入力され、
光学部材G2のレンズ位置情報が算出される。CPU6
16は、目標レンズ位置と実際のレンズ位置が追従する
ように光学部材G2に対する移動信号を出力する。アク
チュエータ制御回路619は、光学部材G2に対する移
動信号に基づきアクチュエータ制御信号を発生する。ア
クチュエータ制御信号は、ドライブ回路620でアクチ
ュエータを駆動可能な信号に増幅され、アクチュエータ
617が駆動される。アクチュエータ617の駆動に伴
い光学部材G2は移動され、ズーミングが行われる。
することにより行われる。操作部635より入力された
指示に従い、CPU616は、光学部材G2の目標位置
を算出する。現在の光学部材G2のレンズ位置は、位置
検出器618で検出される。位置検出器618の出力信
号は増幅器621で増幅され、A/D変換器622に入
力される。A/D変換器622でデジタル化された位置
検出器618からの出力は、CPU616に入力され、
光学部材G2のレンズ位置情報が算出される。CPU6
16は、目標レンズ位置と実際のレンズ位置が追従する
ように光学部材G2に対する移動信号を出力する。アク
チュエータ制御回路619は、光学部材G2に対する移
動信号に基づきアクチュエータ制御信号を発生する。ア
クチュエータ制御信号は、ドライブ回路620でアクチ
ュエータを駆動可能な信号に増幅され、アクチュエータ
617が駆動される。アクチュエータ617の駆動に伴
い光学部材G2は移動され、ズーミングが行われる。
【0108】本実施例のように、インナーフォーカス方
式ズームレンズにおいて、被写体にピントがあった状態
でズーミングを行うためには、光学部材G2の位置と光
学部材G3の位置とは決められた曲線(ズームトラッキ
ングカーブ)上を移動する必要がある。ズームトラッキ
ングカーブの例を図14に示す。図中、0.6m、1.
2m、1.0mは、被写体距離を表す。
式ズームレンズにおいて、被写体にピントがあった状態
でズーミングを行うためには、光学部材G2の位置と光
学部材G3の位置とは決められた曲線(ズームトラッキ
ングカーブ)上を移動する必要がある。ズームトラッキ
ングカーブの例を図14に示す。図中、0.6m、1.
2m、1.0mは、被写体距離を表す。
【0109】位置検出器618から得られる光学部材G
2の位置情報と位置検出器624から得られる光学部材
G3の位置情報とから、現在の被写体距離が算出され、
ズーミング中は現在の被写体距離に対応するトラッキン
グカーブに基づき光学部材G3の目標位置が算出され
る。光学部材G2と同様に、現在の光学部材G3のレン
ズ位置は位置検出器624で検出され、位置検出器62
4の出力信号は増幅器627で増幅され、A/D変換器
628に人力される。A/D変換器628でデジタル化
された位置検出器624の出力は、CPU616に入力
され、光学部材G3のレンズ位置情報が算出される。C
PU616は、目標レンズ位置と実際のレンズ位置とが
迫従するようにフォーカスレンズ移動信号を出力する。
アクチュエータ制御回路625はフオーカスレンズ移動
信号に基づきアクチュエータ制御信号を発生する。アク
チュエータ制御信号はドライブ回路626でアクチュエ
ータを駆動可能な信号に増幅され、アクチュエータ62
3が駆動され、光学部材G3が移動される。従って、ズ
ーミング中も被写体がぼやけることなく固体撮像素子2
に結像される。
2の位置情報と位置検出器624から得られる光学部材
G3の位置情報とから、現在の被写体距離が算出され、
ズーミング中は現在の被写体距離に対応するトラッキン
グカーブに基づき光学部材G3の目標位置が算出され
る。光学部材G2と同様に、現在の光学部材G3のレン
ズ位置は位置検出器624で検出され、位置検出器62
4の出力信号は増幅器627で増幅され、A/D変換器
628に人力される。A/D変換器628でデジタル化
された位置検出器624の出力は、CPU616に入力
され、光学部材G3のレンズ位置情報が算出される。C
PU616は、目標レンズ位置と実際のレンズ位置とが
迫従するようにフォーカスレンズ移動信号を出力する。
アクチュエータ制御回路625はフオーカスレンズ移動
信号に基づきアクチュエータ制御信号を発生する。アク
チュエータ制御信号はドライブ回路626でアクチュエ
ータを駆動可能な信号に増幅され、アクチュエータ62
3が駆動され、光学部材G3が移動される。従って、ズ
ーミング中も被写体がぼやけることなく固体撮像素子2
に結像される。
【0110】露光量は、アクチュエータ629で絞り部
材G12を制御し、撮像光学系601に対する開口量を
変化させることで調節される。通常、この露光量は自動
的に行われる。輝度情報検出回路615には、プロセス
回路607かららの映像信号が入力される。輝度情報検
出回路615は入力された映像信号から被写体像の明る
さ(以下、輝度情報とい)を検出する。現在の絞り部G
12の位置は、位置検出器630で検出される。位置検
出器630の出力信号は増幅器633で増幅され、A/
D変換器634に入力される。A/D変換器634でデ
ジタル化された位置検出器630の出力は、CPU61
6に入力され、紋り部G12の絞り位置情報が求められ
る。CPU616は、入力された被写体像の輝度情報に
基づき最適な露光量を算出し、さらに最適な露光量と現
在の絞り位置情報とから、目標絞り位置を算出する。こ
の目標絞り位置と実際の紋り位置とが追従するように絞
り移動信号が出力される。アクチュエータ制御回路63
1は、紋り移動信号に基づきアクチュエータ制御信号を
発生する。アクチュエータ制御信号は、ドライブ回路6
32でアクチュエータ629を駆動可能な信号に増幅さ
れ、アクチュエータ629が駆動される。アクチュエー
タ629の駆動に伴い絞り部G12が駆動され、露光量
調節が行われる。
材G12を制御し、撮像光学系601に対する開口量を
変化させることで調節される。通常、この露光量は自動
的に行われる。輝度情報検出回路615には、プロセス
回路607かららの映像信号が入力される。輝度情報検
出回路615は入力された映像信号から被写体像の明る
さ(以下、輝度情報とい)を検出する。現在の絞り部G
12の位置は、位置検出器630で検出される。位置検
出器630の出力信号は増幅器633で増幅され、A/
D変換器634に入力される。A/D変換器634でデ
ジタル化された位置検出器630の出力は、CPU61
6に入力され、紋り部G12の絞り位置情報が求められ
る。CPU616は、入力された被写体像の輝度情報に
基づき最適な露光量を算出し、さらに最適な露光量と現
在の絞り位置情報とから、目標絞り位置を算出する。こ
の目標絞り位置と実際の紋り位置とが追従するように絞
り移動信号が出力される。アクチュエータ制御回路63
1は、紋り移動信号に基づきアクチュエータ制御信号を
発生する。アクチュエータ制御信号は、ドライブ回路6
32でアクチュエータ629を駆動可能な信号に増幅さ
れ、アクチュエータ629が駆動される。アクチュエー
タ629の駆動に伴い絞り部G12が駆動され、露光量
調節が行われる。
【0111】次に、基板1の構成、製造方法について図
を参照しながら説明する。図15は図1の光学装置の基
板の構成を示す縦断面図、図16は図1の光学装置の基
板の製造方法における工程の一部を示す分解斜視図であ
る。
を参照しながら説明する。図15は図1の光学装置の基
板の構成を示す縦断面図、図16は図1の光学装置の基
板の製造方法における工程の一部を示す分解斜視図であ
る。
【0112】基板1は、図15に示すように、セラミッ
クベース801、鉄ベース801a、およびアルミニウ
ムベース801bから構成される。セラミックベース8
01の材質には、寸法安定性、放熱性に優れたセラミッ
クが用いられ、セラミックベース801は基板1の骨組
を形成するベ一スである。鉄ベース801aの材質に
は、透磁率の高い鉄が用いられ、鉄ベース801aはア
クチュエータの一部を形成するヨーク(図1の19,2
0、図2の39,44に相当する)を構成する。アルミ
ニウムベース801bは、撮像素子駆動回路または映像
信号処理回路を形成し、熱伝導率が高いアルミニウムを
ベ一スとしている。これらのベース801,801a,
801bの材質は、上記のものに限るものではなく、例
えば、ベース801aの材質としては、透磁率の高い材
質すなわち、電磁軟鉄、パーマロイなどを用いることも
できる。ベース801bの材質としては、銅などの熱伝
導率が高い材質を用いることもできる。各ベース80
1,801a,801bの表面には、絶縁層801cが
形成されている。
クベース801、鉄ベース801a、およびアルミニウ
ムベース801bから構成される。セラミックベース8
01の材質には、寸法安定性、放熱性に優れたセラミッ
クが用いられ、セラミックベース801は基板1の骨組
を形成するベ一スである。鉄ベース801aの材質に
は、透磁率の高い鉄が用いられ、鉄ベース801aはア
クチュエータの一部を形成するヨーク(図1の19,2
0、図2の39,44に相当する)を構成する。アルミ
ニウムベース801bは、撮像素子駆動回路または映像
信号処理回路を形成し、熱伝導率が高いアルミニウムを
ベ一スとしている。これらのベース801,801a,
801bの材質は、上記のものに限るものではなく、例
えば、ベース801aの材質としては、透磁率の高い材
質すなわち、電磁軟鉄、パーマロイなどを用いることも
できる。ベース801bの材質としては、銅などの熱伝
導率が高い材質を用いることもできる。各ベース80
1,801a,801bの表面には、絶縁層801cが
形成されている。
【0113】次に、基板1の製造方法について図16を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
【0114】図16を参照するに、まず、鉄ベ一ス80
1aとアルミニウムベース801bに相当する部分に予
め穴を形成したセラミックベース801と、鉄ベース8
01aと、アルミニウムベース801bとが準備され
る。
1aとアルミニウムベース801bに相当する部分に予
め穴を形成したセラミックベース801と、鉄ベース8
01aと、アルミニウムベース801bとが準備され
る。
【0115】次いで、セラミックベース801の一方の
穴に鉄ベース801aが、他方の穴にアルミニウムベー
ス801bがそれぞれ嵌め込まれる。セラミックベース
801と鉄ベース801aとが、セラミックベース80
1とアルミニウムベース801bとがそれぞれ接着剤で
固定され、1枚のベース材が形成される。
穴に鉄ベース801aが、他方の穴にアルミニウムベー
ス801bがそれぞれ嵌め込まれる。セラミックベース
801と鉄ベース801aとが、セラミックベース80
1とアルミニウムベース801bとがそれぞれ接着剤で
固定され、1枚のベース材が形成される。
【0116】次いで、樹脂を銅箔に塗布し、ベ一ス材に
積層することにより、図15に示すセラミックベース8
01、鉄ベース801a、アルミニウムベース801b
の各表面に絶縁層801cが形成される。なお、この方
法に代わる絶縁層801cの形成方法としては、ベース
材側に絶縁層を形成する樹脂を塗布した後に銅箔を積層
する方法もあるが、連続加工が可能な点で前者の方が優
れている。
積層することにより、図15に示すセラミックベース8
01、鉄ベース801a、アルミニウムベース801b
の各表面に絶縁層801cが形成される。なお、この方
法に代わる絶縁層801cの形成方法としては、ベース
材側に絶縁層を形成する樹脂を塗布した後に銅箔を積層
する方法もあるが、連続加工が可能な点で前者の方が優
れている。
【0117】絶縁層801cの形成後、銅箔をエッチン
グすることにより配線パターンの形成、ソルダーレジス
トの塗布、露出した銅箔表面へのはんだメッキ、はんだ
レベラーなどの表面処理が順次に実行される。
グすることにより配線パターンの形成、ソルダーレジス
トの塗布、露出した銅箔表面へのはんだメッキ、はんだ
レベラーなどの表面処理が順次に実行される。
【0118】次いで、固体撮像素子2、コイル17,1
8,38,42、回路素子45a,45b、位置センサ
21,22がそれぞれはんだなどによって基板1に形成
された配線パターンと電気的に接続される。コイル1
7,18,38,42およびレール部13,14,1
5,16が基板1上に接着剤で接着される。
8,38,42、回路素子45a,45b、位置センサ
21,22がそれぞれはんだなどによって基板1に形成
された配線パターンと電気的に接続される。コイル1
7,18,38,42およびレール部13,14,1
5,16が基板1上に接着剤で接着される。
【0119】このように、基板1のベース材として一つ
の部材を用いるのではなく、基板1上に実装される部品
が要求する特性に適合した性質を有する材料がベース材
として用いられている。すなわち、基板の骨組となり平
面性など寸法安定性に優れたセラミックベース材、アク
チュエータが形成される部分に透磁率が高い鉄ベ一ス
材、電子部品の放熱を必要とする撮像素子駆動回路また
は映像信号処理回路が実装される部分にアルミニウムあ
るいは銅べース材と、基板1上のそれぞれの部位におい
て最適な材質を選択することで、それぞれのベース材の
長所が生かせる基板を作ることができる。特に、電子部
品の放熱に極めて効果があり、電子部品の発熱による基
板の変形を未然に防止することができ、基板1の変形に
起因よる各光学部材と固体撮像素子2との相対的な位置
のずれ、光学部材の倒れなどを抑制することができる。
よって、基板1の変形に起因する撮影画像の劣化を未然
に防止することができる。
の部材を用いるのではなく、基板1上に実装される部品
が要求する特性に適合した性質を有する材料がベース材
として用いられている。すなわち、基板の骨組となり平
面性など寸法安定性に優れたセラミックベース材、アク
チュエータが形成される部分に透磁率が高い鉄ベ一ス
材、電子部品の放熱を必要とする撮像素子駆動回路また
は映像信号処理回路が実装される部分にアルミニウムあ
るいは銅べース材と、基板1上のそれぞれの部位におい
て最適な材質を選択することで、それぞれのベース材の
長所が生かせる基板を作ることができる。特に、電子部
品の放熱に極めて効果があり、電子部品の発熱による基
板の変形を未然に防止することができ、基板1の変形に
起因よる各光学部材と固体撮像素子2との相対的な位置
のずれ、光学部材の倒れなどを抑制することができる。
よって、基板1の変形に起因する撮影画像の劣化を未然
に防止することができる。
【0120】なお、本実施例では、コイルとしてシート
状のコイルを用い、このコイルを基板1上に接着剤など
で接着するようにしたが、基板1上のパターンと同様
に、銅箔をエッチングすることによりコイルを形成する
ことも可能である。この場合、コイルの巻数にある程度
の限界があるが、配線パターンと同様に形成できるか
ら、シートコイルの接着などの工程を省略することがで
き、かつシートコイルの基板1に対する位置決め作業を
なくすことができる。
状のコイルを用い、このコイルを基板1上に接着剤など
で接着するようにしたが、基板1上のパターンと同様
に、銅箔をエッチングすることによりコイルを形成する
ことも可能である。この場合、コイルの巻数にある程度
の限界があるが、配線パターンと同様に形成できるか
ら、シートコイルの接着などの工程を省略することがで
き、かつシートコイルの基板1に対する位置決め作業を
なくすことができる。
【0121】次に、基板のベース材として1つの部材を
用いた場合について図17を参照しながら説明する。図
17は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜視
図である。
用いた場合について図17を参照しながら説明する。図
17は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜視
図である。
【0122】基板802は、図17に示すように、金属
板上に絶縁層を介して配線パターンを形成した金属基板
からなる。金属の材質は、透磁率が高い鉄、または放熱
性に優れたアルミニウムまたは銅などである。絶縁層、
配線パターンの形成は前述したものと同様であるから、
その説明は省略する。
板上に絶縁層を介して配線パターンを形成した金属基板
からなる。金属の材質は、透磁率が高い鉄、または放熱
性に優れたアルミニウムまたは銅などである。絶縁層、
配線パターンの形成は前述したものと同様であるから、
その説明は省略する。
【0123】基板802の準備後、まず、撮像素子2は
基板802の裏面から、コイル17,18,38,4
2、回路素子45a,45b、位置センサー21,22
は基板802の表面から、それぞれはんだなどによって
基板802に形成された配線パターンと電気的に接続さ
れ、コイル17,18,38,42、レール部13,
…,16は基板802に接着剤などで固着される。本方
法によると、1枚の金属板をベースに基板を形成するこ
とができるから、低コストで、平面性が良い基板を形成
することができるという効果に加え、基板の金属部の材
質に応じて、それぞれ以下の効果(a)、(b)を奏す
る。
基板802の裏面から、コイル17,18,38,4
2、回路素子45a,45b、位置センサー21,22
は基板802の表面から、それぞれはんだなどによって
基板802に形成された配線パターンと電気的に接続さ
れ、コイル17,18,38,42、レール部13,
…,16は基板802に接着剤などで固着される。本方
法によると、1枚の金属板をベースに基板を形成するこ
とができるから、低コストで、平面性が良い基板を形成
することができるという効果に加え、基板の金属部の材
質に応じて、それぞれ以下の効果(a)、(b)を奏す
る。
【0124】(a)鉄などの透磁率が高い材料の場合 駆動により光学系を駆動する場合、基板の一部がヨーク
として作用するから、部品としてのヨークが不要にな
り、コストダウンに寄与する。
として作用するから、部品としてのヨークが不要にな
り、コストダウンに寄与する。
【0125】(b)アルミニウムなどの放熱性が良い材
料の場合 撮像素子駆動回路または映像信号処理回路の周辺、アク
チュエータのコイルなどの周辺で発生した熱が良好に放
散され、基板の反りなどの変形を防止することができ
る。
料の場合 撮像素子駆動回路または映像信号処理回路の周辺、アク
チュエータのコイルなどの周辺で発生した熱が良好に放
散され、基板の反りなどの変形を防止することができ
る。
【0126】次に、基板上の電子部品の発熱による変
形、さらに機械的な変形を防ぐより効果的な方法につい
て図18ないし図20を参照しながら説明する。図18
は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜視図、
図19は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜
視図、図20は図19の基板の取付状態を示す図であ
る。
形、さらに機械的な変形を防ぐより効果的な方法につい
て図18ないし図20を参照しながら説明する。図18
は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜視図、
図19は図1の光学装置に用いられる他の基板を示す斜
視図、図20は図19の基板の取付状態を示す図であ
る。
【0127】この方法としては、図18に示すように、
放熱を必要とするCPUなどの電子部品812の周囲に
切欠809を設ける方法、図19に示すように、基板の
平面性を保つ必要がある光学系全体の周囲にV溝810
を設ける方法がある。
放熱を必要とするCPUなどの電子部品812の周囲に
切欠809を設ける方法、図19に示すように、基板の
平面性を保つ必要がある光学系全体の周囲にV溝810
を設ける方法がある。
【0128】これらの方法による基板1の機器への取付
方法について図18ないし図20を参照しながら説明す
る。
方法について図18ないし図20を参照しながら説明す
る。
【0129】各方法による基板1の四隅には、図18お
よび図19に示すように、取付穴811がそれぞれ設け
られている。基板1における発熱が大きいCPUなどの
電子部品の搭載領域は、切欠809またはV溝810で
区分けされている。
よび図19に示すように、取付穴811がそれぞれ設け
られている。基板1における発熱が大きいCPUなどの
電子部品の搭載領域は、切欠809またはV溝810で
区分けされている。
【0130】これらの基板1の取付方法を図19に示す
基板1を例に説明する。
基板1を例に説明する。
【0131】基板1は、図20に示すように、取付穴8
11に挿通されたビス813で機器内部に設けられた基
板取付部814に固定される。
11に挿通されたビス813で機器内部に設けられた基
板取付部814に固定される。
【0132】基板取付部814が機器外部からの力によ
り変形され、または加工の精度により変形していると
き、基板1には外力が作用するが、その外力によってV
溝810の部分が変形されるだけで、基板1の他の部分
は平面を保つことができる。
り変形され、または加工の精度により変形していると
き、基板1には外力が作用するが、その外力によってV
溝810の部分が変形されるだけで、基板1の他の部分
は平面を保つことができる。
【0133】なお、図18に示す切欠809を設けた基
板1の場合も同様の効果を奏する。
板1の場合も同様の効果を奏する。
【0134】次に、図18に示す基板1における熱的変
形の吸収構造について説明する。
形の吸収構造について説明する。
【0135】具体的には、電子部品812を切欠809
と縁部との間の領域に配置することによって、電子部品
812の発熱時、その周辺の基板1の反りなどの変形
は、前記機械的変形がV溝810で吸収されたとのと同
じように、熱的変形は切欠809で吸収され、切欠80
9からの内方に向かう領域は平面を保つことができる。
と縁部との間の領域に配置することによって、電子部品
812の発熱時、その周辺の基板1の反りなどの変形
は、前記機械的変形がV溝810で吸収されたとのと同
じように、熱的変形は切欠809で吸収され、切欠80
9からの内方に向かう領域は平面を保つことができる。
【0136】次に、他の基板構成例について図21およ
び図22を参照しながら説明する。図21は図1の光学
装置に用いられる他の基板を示す斜視図、図22は図2
1の基板を示す縦断面図である。
び図22を参照しながら説明する。図21は図1の光学
装置に用いられる他の基板を示す斜視図、図22は図2
1の基板を示す縦断面図である。
【0137】図21および図22を参照するに、基板8
21は、金属板上に絶縁層を介して配線パターンを形成
した2つのザブ基板821a,821bから構成され
る。
21は、金属板上に絶縁層を介して配線パターンを形成
した2つのザブ基板821a,821bから構成され
る。
【0138】アクチュエータを形成するサブ基板821
aには透磁率が高い鉄をベースとして、撮像素子駆動回
路または映像信号処理回路を形成するサブ基板821b
には熱伝導率が高い銅、アルミニウムなどをベースとし
て用いている。各サブ基板821a,821bの表面に
は絶縁層821c,821dが形成されている。サブ基
板821aおよび絶縁層821cには、同軸上に伸びる
開口部829が形成され、サブ基板821bおよび絶縁
層821dには、同軸上に伸びる開口部830が形成さ
れている。開口部830には、固体撮像素子2が挿入さ
れ、固体撮像素子2はサブ基板821bの裏面に装着さ
れている。固体撮像素子2には、開口部830を介して
被写体光が入射される。
aには透磁率が高い鉄をベースとして、撮像素子駆動回
路または映像信号処理回路を形成するサブ基板821b
には熱伝導率が高い銅、アルミニウムなどをベースとし
て用いている。各サブ基板821a,821bの表面に
は絶縁層821c,821dが形成されている。サブ基
板821aおよび絶縁層821cには、同軸上に伸びる
開口部829が形成され、サブ基板821bおよび絶縁
層821dには、同軸上に伸びる開口部830が形成さ
れている。開口部830には、固体撮像素子2が挿入さ
れ、固体撮像素子2はサブ基板821bの裏面に装着さ
れている。固体撮像素子2には、開口部830を介して
被写体光が入射される。
【0139】次に、基板821の製造方法について説明
する。
する。
【0140】まず、アクチュエータを形成する鉄ベース
のサブ基板821aと、銅ベースまたはアルミニウムベ
一スのサブ基板821bとが準備される。
のサブ基板821aと、銅ベースまたはアルミニウムベ
一スのサブ基板821bとが準備される。
【0141】次いで、樹脂を銅箔に塗布し、それぞれの
ベース材に積層することにより、サブ基板821a,8
21bの表面に絶縁層821c,821dが形成され
る。
ベース材に積層することにより、サブ基板821a,8
21bの表面に絶縁層821c,821dが形成され
る。
【0142】絶縁層821c,821dの形成後,箔を
エッチングして、サブ基板821aにはアクチュエータ
回路の配線パターンが、サブ基板821bには撮像素子
駆動回路または映像信号処理回路の配線パターンがそれ
ぞれ形成される。
エッチングして、サブ基板821aにはアクチュエータ
回路の配線パターンが、サブ基板821bには撮像素子
駆動回路または映像信号処理回路の配線パターンがそれ
ぞれ形成される。
【0143】次いで、ソルダーレジストの塗布、露出し
た銅箔表面に対するはんだメッキ、はんだレベラーなど
の表面処理が順次に行われる。
た銅箔表面に対するはんだメッキ、はんだレベラーなど
の表面処理が順次に行われる。
【0144】それぞれのサプ基板821a,821bは
絶縁性の接着剤を介して積層される。
絶縁性の接着剤を介して積層される。
【0145】この基板821を用いることによって、図
15に示す基板と同様の効果が得られることに加え、ノ
イズの発生源となるアクチュエータ駆動系すなわち回路
素子45aおよびアクチュエータを形成するサブ基板8
21aに対して、ノイズの影,を受け易い撮像素子駆動
回路または映像信号処理のための回路素子45bおよび
撮像素子駆動回路または映像信号処理回路を形成するサ
ブ基板821bとを基板821上の全く異なる層に形成
することができ、基板821内でのノイズの影響を極力
小さくすることができる。なお、上記映像信号処理回路
は、図12に示す映像信号処理回路637と等価である
が、その内部構成は限定されることはない。
15に示す基板と同様の効果が得られることに加え、ノ
イズの発生源となるアクチュエータ駆動系すなわち回路
素子45aおよびアクチュエータを形成するサブ基板8
21aに対して、ノイズの影,を受け易い撮像素子駆動
回路または映像信号処理のための回路素子45bおよび
撮像素子駆動回路または映像信号処理回路を形成するサ
ブ基板821bとを基板821上の全く異なる層に形成
することができ、基板821内でのノイズの影響を極力
小さくすることができる。なお、上記映像信号処理回路
は、図12に示す映像信号処理回路637と等価である
が、その内部構成は限定されることはない。
【0146】また、基板821の製造においては、先に
図16で示した基板1のように、予めベースに形成され
た穴に他のベースを嵌め込み、1枚のベースとすること
をせず、2枚のベースをそれぞれ独立に従来の形成方法
で製造することができ、製造工程の簡略化が図れ、製造
コストを下げることが可能となる。
図16で示した基板1のように、予めベースに形成され
た穴に他のベースを嵌め込み、1枚のベースとすること
をせず、2枚のベースをそれぞれ独立に従来の形成方法
で製造することができ、製造工程の簡略化が図れ、製造
コストを下げることが可能となる。
【0147】(第2実施例)次に、本発明の第2実施例
について図23ないし図26を参照しながら説明する。
図23は本発明の光学装置の第2実施例の構成を示す分
解斜視図、図24は図23の光学装置の第2光学部材の
駆動制御部の構成を示す縦断面図、図25は図23の光
学装置の絞り羽根の駆動制御部の構成を示す縦断面図、
図26は図25のC−C線に沿って得られた断面図であ
る。
について図23ないし図26を参照しながら説明する。
図23は本発明の光学装置の第2実施例の構成を示す分
解斜視図、図24は図23の光学装置の第2光学部材の
駆動制御部の構成を示す縦断面図、図25は図23の光
学装置の絞り羽根の駆動制御部の構成を示す縦断面図、
図26は図25のC−C線に沿って得られた断面図であ
る。
【0148】本実施例は、屈折光学系によるズームレン
ズ機構を有する光学装置である。
ズ機構を有する光学装置である。
【0149】光学装置は、図23に示すように、固体撮
像素子2が装着された基板1を備える。なお、基板1の
構成は、第1実施例の基板の構成と同じように、異なる
材質の複数のベース材から構成され、その説明は省略す
る。
像素子2が装着された基板1を備える。なお、基板1の
構成は、第1実施例の基板の構成と同じように、異なる
材質の複数のベース材から構成され、その説明は省略す
る。
【0150】基板1には、第1レンズ群60、第2レン
ズ群61、第3レンズ群62および第4レンズ群63が
搭載されている。
ズ群61、第3レンズ群62および第4レンズ群63が
搭載されている。
【0151】第1レンズ群60は、基板1に接着剤など
で固定されている。第2レンズ群61はズーミング動作
を行うためのレンズ群からなり、このレンズ群は基板1
に所定範囲内で光軸64方向に移動可能に搭載されてい
る。第3レンズ群62は、第1レンズ群60と同様に、
基板1に接着剤などで固定されている。第4レンズ群6
3はフォーカシング動作を行うためのレンズ群からな
り、このレンズ群は基板1に所定範囲内で光軸64方向
に移動可能に搭載されている。光軸64は、基板1の表
面に平行になるように設定され、すなわち第2レンズ群
61、第4レンズ群63の可動方向は、基板1の表面に
対して平行になるように設定されているから、可動範囲
が長い場合でも基板1の表面と垂直方向の厚さの増大が
ないズームレンズ機構を実現することができる。
で固定されている。第2レンズ群61はズーミング動作
を行うためのレンズ群からなり、このレンズ群は基板1
に所定範囲内で光軸64方向に移動可能に搭載されてい
る。第3レンズ群62は、第1レンズ群60と同様に、
基板1に接着剤などで固定されている。第4レンズ群6
3はフォーカシング動作を行うためのレンズ群からな
り、このレンズ群は基板1に所定範囲内で光軸64方向
に移動可能に搭載されている。光軸64は、基板1の表
面に平行になるように設定され、すなわち第2レンズ群
61、第4レンズ群63の可動方向は、基板1の表面に
対して平行になるように設定されているから、可動範囲
が長い場合でも基板1の表面と垂直方向の厚さの増大が
ないズームレンズ機構を実現することができる。
【0152】第4レンズ群63の後方には、三角プリズ
ムなどの光学部材65が配置されている。光学部材65
は、被写体像を撮像素子2に結像させるように、光軸を
基板1に対して垂直方向に屈曲させる。なお、固体撮像
素子2の基板1への実装構造は、第1実施例と同じであ
り、その説明は省略する。
ムなどの光学部材65が配置されている。光学部材65
は、被写体像を撮像素子2に結像させるように、光軸を
基板1に対して垂直方向に屈曲させる。なお、固体撮像
素子2の基板1への実装構造は、第1実施例と同じであ
り、その説明は省略する。
【0153】第2レンズ群61と第3レンズ群62との
間には、紋り羽根66が配置されている。絞り羽根66
は光軸64に対して垂直方向に駆動し、絞り開口を変化
させる。この絞り開口の変化によって、被写体像の光量
が調整される。
間には、紋り羽根66が配置されている。絞り羽根66
は光軸64に対して垂直方向に駆動し、絞り開口を変化
させる。この絞り開口の変化によって、被写体像の光量
が調整される。
【0154】第2レンズ群61は駆動制御部67で、第
4レンズ群63は駆動制御部68で、絞り羽根66は駆
動制御部69で、それぞれ駆動、制御される。各駆動制
御部67,68,69は、アクチュエータ、位置センサ
などから構成される。
4レンズ群63は駆動制御部68で、絞り羽根66は駆
動制御部69で、それぞれ駆動、制御される。各駆動制
御部67,68,69は、アクチュエータ、位置センサ
などから構成される。
【0155】基板1には、各駆動制御部67,68,6
9を制御するための回路素子、固体撮像素子2を駆動す
るための回路素子、固体撮像素子2からの信号を処理を
するための回路素子などの電子部品71および外部の回
路と接続するためのコネクタ部71が設けられている。
9を制御するための回路素子、固体撮像素子2を駆動す
るための回路素子、固体撮像素子2からの信号を処理を
するための回路素子などの電子部品71および外部の回
路と接続するためのコネクタ部71が設けられている。
【0156】基板1は、1対のケース部分72,73か
ら構成されるシールドケースに収容されている。各ケー
ス部分72,73は、電磁気およぴ外部からの光を遮蔽
し、内面反射を抑え、また外部からのほこりの侵入を防
ぐように、例えば内面を黒く塗装した鉄板などから構成
されている。各ケース部分72,73は、それぞれの対
応する部位を基板1上のグランドパターンにはんだ付け
することによって、固定される。
ら構成されるシールドケースに収容されている。各ケー
ス部分72,73は、電磁気およぴ外部からの光を遮蔽
し、内面反射を抑え、また外部からのほこりの侵入を防
ぐように、例えば内面を黒く塗装した鉄板などから構成
されている。各ケース部分72,73は、それぞれの対
応する部位を基板1上のグランドパターンにはんだ付け
することによって、固定される。
【0157】次に、第2レンズ群61の駆動制御部67
の構成について図24を参照しながら説明する。
の構成について図24を参照しながら説明する。
【0158】第2レンズ群61は、図24に示すよう
に、光学保持部材80に保持されている。光学保持部材
80には、第2レンズ群61を支持する枠部と、枠部か
ら基板1に平行に光軸64に直交する方向へ突出する平
板状の1対の支持部とからなる。一方の支持部の基板1
に対向する面には、光軸64に沿って伸びるV溝81が
形成され、他方の支持部の基板1に対向する面には、光
軸64に沿って伸びる凹状断面の溝82が形成されてい
るとともに、光軸64に沿って伸びる磁気スケール87
が取り付けられている。各支持部の基板1に対向する面
には、永久磁石83がそれぞれ取り付けられている。
に、光学保持部材80に保持されている。光学保持部材
80には、第2レンズ群61を支持する枠部と、枠部か
ら基板1に平行に光軸64に直交する方向へ突出する平
板状の1対の支持部とからなる。一方の支持部の基板1
に対向する面には、光軸64に沿って伸びるV溝81が
形成され、他方の支持部の基板1に対向する面には、光
軸64に沿って伸びる凹状断面の溝82が形成されてい
るとともに、光軸64に沿って伸びる磁気スケール87
が取り付けられている。各支持部の基板1に対向する面
には、永久磁石83がそれぞれ取り付けられている。
【0159】基板1には、基板1と光学保持部材80と
の干渉を避けるように開口部1dが形成され、開口部1
dには、光学保持部材80の一部が光学保持部材80が
移動可能に挿入されている。
の干渉を避けるように開口部1dが形成され、開口部1
dには、光学保持部材80の一部が光学保持部材80が
移動可能に挿入されている。
【0160】基板1には、光軸64に沿って伸びるV溝
が形成されている1対のレール部86と、位置センサ8
8とが取り付けられている。
が形成されている1対のレール部86と、位置センサ8
8とが取り付けられている。
【0161】一方のレール部86は、そのV溝が光学保
持部材80のV溝81に対向するように配置され、他方
のレール部86は、そのV溝が光学保持部材80の溝8
2に対向するように配置されている。一方のレール部8
6のV溝とV溝81との間にはボール85が介在し、他
方のレール部86のV溝と溝82との間にはボール85
が介在している。
持部材80のV溝81に対向するように配置され、他方
のレール部86は、そのV溝が光学保持部材80の溝8
2に対向するように配置されている。一方のレール部8
6のV溝とV溝81との間にはボール85が介在し、他
方のレール部86のV溝と溝82との間にはボール85
が介在している。
【0162】位置センサ88は、磁気スケール87の磁
力を検出するセンサからなる。
力を検出するセンサからなる。
【0163】光学保持部材80、それに設けられた永久
磁石83および磁気スケール87と、基板1に設けられ
たコイル84、ヨーク89、レール部86および位置セ
ンサ88と、ボール85とは互いに共働して駆動制御部
67を構成する。コイル84の一部およびヨーク89
は、基板1に形成された凹部1fに嵌め込まれている。
磁石83および磁気スケール87と、基板1に設けられ
たコイル84、ヨーク89、レール部86および位置セ
ンサ88と、ボール85とは互いに共働して駆動制御部
67を構成する。コイル84の一部およびヨーク89
は、基板1に形成された凹部1fに嵌め込まれている。
【0164】この駆動制御部67の基本的駆動原理は第
1実施例と同じであり、その説明は省略する。
1実施例と同じであり、その説明は省略する。
【0165】次に、絞り羽根66の駆動制御部69の構
成について図25および図26を参照しながら説明す
る。
成について図25および図26を参照しながら説明す
る。
【0166】各絞り羽根66は、図25に示すように、
光軸に直交する方向(図中の矢印が示す方向)に移動可
能な1対の羽根91a,91bから構成される。各羽根
91a,91bには、V字状の切欠がそれぞれ形成され
ている。各羽根91a,91bは互いにその切欠形成部
分が重なり合うように配置され、各切欠が共働して絞り
開口92を形成する。絞り開口92の開口面積は各羽根
91a,91bの移動量に応じて決定される。
光軸に直交する方向(図中の矢印が示す方向)に移動可
能な1対の羽根91a,91bから構成される。各羽根
91a,91bには、V字状の切欠がそれぞれ形成され
ている。各羽根91a,91bは互いにその切欠形成部
分が重なり合うように配置され、各切欠が共働して絞り
開口92を形成する。絞り開口92の開口面積は各羽根
91a,91bの移動量に応じて決定される。
【0167】羽根91aの基板1に対向する面には、図
26に示すように、光軸64に直交する方向に伸びるV
溝および凹状断面の溝が形成されているとともに、光軸
64に直交する方向に伸びる磁気スケール97が取り付
けられている。各羽根91a,91bの基板1に対向す
る面には、永久磁石93がそれぞれ取り付けられてい
る。
26に示すように、光軸64に直交する方向に伸びるV
溝および凹状断面の溝が形成されているとともに、光軸
64に直交する方向に伸びる磁気スケール97が取り付
けられている。各羽根91a,91bの基板1に対向す
る面には、永久磁石93がそれぞれ取り付けられてい
る。
【0168】基板1には、1対のコイル93が装着さ
れ、各コイル93は対応する永久磁石93に対向するよ
うに基板1上に配置されている。各コイル93の下方位
置には、ヨーク95がそれぞれ配置されている。
れ、各コイル93は対応する永久磁石93に対向するよ
うに基板1上に配置されている。各コイル93の下方位
置には、ヨーク95がそれぞれ配置されている。
【0169】基板1には、光軸64に直交する方向に伸
びるV溝が形成されている1対のレール部と、位置セン
サ98とが取り付けられている。
びるV溝が形成されている1対のレール部と、位置セン
サ98とが取り付けられている。
【0170】一方のレール部は、そのV溝が羽根91a
のV溝に対向するように配置され、他方のレール部は、
そのV溝が羽根91aの凹状断面の溝に対向するように
配置されている。一方のレール部のV溝と羽根91aの
V溝との間にはボール96が介在し、他方のレール部の
V溝と羽根91aの凹状断面の溝との間にはボール96
が介在している。
のV溝に対向するように配置され、他方のレール部は、
そのV溝が羽根91aの凹状断面の溝に対向するように
配置されている。一方のレール部のV溝と羽根91aの
V溝との間にはボール96が介在し、他方のレール部の
V溝と羽根91aの凹状断面の溝との間にはボール96
が介在している。
【0171】位置センサ98は、磁気スケール97の磁
力を検出するセンサからなる。
力を検出するセンサからなる。
【0172】各羽根91a,91b、それに設けられた
永久磁石93および磁気スケール97と、基板1に設け
られたコイル94、ヨーク95、レール部および位置セ
ンサ98と、ボール96とは互いに共働して絞り羽根6
6の駆動制御部69を構成する。
永久磁石93および磁気スケール97と、基板1に設け
られたコイル94、ヨーク95、レール部および位置セ
ンサ98と、ボール96とは互いに共働して絞り羽根6
6の駆動制御部69を構成する。
【0173】この駆動制御部69で絞り羽根66を駆動
するとき、絞り羽根91a,91bは、永久磁石93に
比してべ極めて軽量であるから、永久磁石93、羽根9
1a,91bからなる可動部の重心は永久磁石93の近
辺となり、アクチュエータの駆動力が前記重心に作用す
る。よって、安定した状態で羽根91a,91bを駆動
することができる。
するとき、絞り羽根91a,91bは、永久磁石93に
比してべ極めて軽量であるから、永久磁石93、羽根9
1a,91bからなる可動部の重心は永久磁石93の近
辺となり、アクチュエータの駆動力が前記重心に作用す
る。よって、安定した状態で羽根91a,91bを駆動
することができる。
【0174】以上により、第2実施例では、アクチュエ
ータ部および基板1が光学系に対して厚さ方向に重なら
ないように構成されているから、光学保持部材80、ま
たは光学系である第2レンズ群61の厚さd(この場合
は光学保持部材80の直径寸法)が、光学装置全体の厚
さtを決定することになり、光学装置の厚さを薄くする
ことができる。
ータ部および基板1が光学系に対して厚さ方向に重なら
ないように構成されているから、光学保持部材80、ま
たは光学系である第2レンズ群61の厚さd(この場合
は光学保持部材80の直径寸法)が、光学装置全体の厚
さtを決定することになり、光学装置の厚さを薄くする
ことができる。
【0175】また、光学保持部材80の一部が基板1の
開口部1dに移動可能に挿入され、かつヨーク89など
が基板1の凹部1fに嵌め込まれていることによって、
光学保持部材80またはヨーク89などによる光学装置
全体の厚さtの増大を抑制することができ、光学装置の
厚さをさらに薄くすることができる。
開口部1dに移動可能に挿入され、かつヨーク89など
が基板1の凹部1fに嵌め込まれていることによって、
光学保持部材80またはヨーク89などによる光学装置
全体の厚さtの増大を抑制することができ、光学装置の
厚さをさらに薄くすることができる。
【0176】さらに、固体撮像素子2が装着されている
基板1上に光学部材、アクチュエータ、およぴその駆動
回路などに代表される機構部材、光学部材、電気部材を
配置することによって、従来レンズなどの光学系を保持
していた鏡筒という複雑で高価な部品を用いること
な〈、また組立工程なども簡略化することができ、低コ
ストな光学装置を堤供することができる。
基板1上に光学部材、アクチュエータ、およぴその駆動
回路などに代表される機構部材、光学部材、電気部材を
配置することによって、従来レンズなどの光学系を保持
していた鏡筒という複雑で高価な部品を用いること
な〈、また組立工程なども簡略化することができ、低コ
ストな光学装置を堤供することができる。
【0177】さらに、平面面的に広がる基板1上に上記
機構部材、光学部材、電気部材を配置することによっ
て、基板1の厚さ方向に対して極力厚くならないよう各
部品の配置、姿勢を決定することが容易になり、その結
果、薄型の光学装置を堤供することができる。
機構部材、光学部材、電気部材を配置することによっ
て、基板1の厚さ方向に対して極力厚くならないよう各
部品の配置、姿勢を決定することが容易になり、その結
果、薄型の光学装置を堤供することができる。
【0178】さらに、固体撮像素子2に対する各光学部
材、光学部材の規制部、紋り部を基板に配置することに
よって、それぞれの位置精度を高精度化することができ
る。
材、光学部材の規制部、紋り部を基板に配置することに
よって、それぞれの位置精度を高精度化することができ
る。
【0179】なお、上述の各実施例では、1つの基板を
用いているが、同一平面上に配置された複数の分割基板
を用いることもできる。
用いているが、同一平面上に配置された複数の分割基板
を用いることもできる。
【0180】
【発明の効果】以上に説明したように、請求項1記載の
光学装置によれば、撮影光学系および固体撮像素子が搭
載され、撮影光学系の搭載面側に開口する受入部が形成
されている基板を有し、撮影光学系が、その構成部材の
少なくとも一部が受入部内に挿入されるように基板に配
置されているから、基板の厚さ方向に対する厚さの増大
を抑えることができ、装置全体の薄型化を容易にするこ
とができる。
光学装置によれば、撮影光学系および固体撮像素子が搭
載され、撮影光学系の搭載面側に開口する受入部が形成
されている基板を有し、撮影光学系が、その構成部材の
少なくとも一部が受入部内に挿入されるように基板に配
置されているから、基板の厚さ方向に対する厚さの増大
を抑えることができ、装置全体の薄型化を容易にするこ
とができる。
【0181】請求項2記載の光学装置によれば、撮影光
学系は基板に平行な光軸を有し、光軸から基板に向う方
向へ最も離れた位置にある構成部材の一部が受入部に挿
入されているから、その構成部材による基板の厚さ方向
に対する厚さの増大を抑えることができる。
学系は基板に平行な光軸を有し、光軸から基板に向う方
向へ最も離れた位置にある構成部材の一部が受入部に挿
入されているから、その構成部材による基板の厚さ方向
に対する厚さの増大を抑えることができる。
【0182】請求項3記載の光学装置によれば、少なく
とも1部が受入部に挿入されている構成部材は光学部材
であるから、光学部材による基板の厚さ方向に対する厚
さの増大を抑えることができる。
とも1部が受入部に挿入されている構成部材は光学部材
であるから、光学部材による基板の厚さ方向に対する厚
さの増大を抑えることができる。
【0183】請求項4記載の光学装置によれば、少なく
とも1部が受入部に挿入されている構成部材は、アクチ
ュエータの構成部材であるから、アクチュエータの構成
部材による基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑える
ことができる。
とも1部が受入部に挿入されている構成部材は、アクチ
ュエータの構成部材であるから、アクチュエータの構成
部材による基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑える
ことができる。
【0184】請求項5記載の光学装置によれば、少なく
とも1部が受入部に挿入されている構成部材は、光学部
材を保持する保持部材であるから、その保持部材による
基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑えることができ
る。
とも1部が受入部に挿入されている構成部材は、光学部
材を保持する保持部材であるから、その保持部材による
基板の厚さ方向に対する厚さの増大を抑えることができ
る。
【0185】請求項6記載の光学装置によれば、受入部
を凹部で形成することができる。
を凹部で形成することができる。
【0186】請求項7記載の光学装置によれば、受入部
を基板を貫通する開口部で形成することができる。
を基板を貫通する開口部で形成することができる。
【図1】本発明の光学装置の第1実施例の構成を示す分
解斜視図である。
解斜視図である。
【図2】図1の光学装置の絞り部の構成を示す分解斜視
図である。
図である。
【図3】図1の光学装置の光学部材G2のアクチュエー
タの構成を示す縦断面図である。
タの構成を示す縦断面図である。
【図4】は図3のB−B線に沿って得られた断面図であ
る。
る。
【図5】図3のA−A線に沿って得られた断面図であ
る。
る。
【図6】光学部材G2のアクチュエータの他の構成例を
示す縦断面図である。
示す縦断面図である。
【図7】図1の光学装置の固体撮像素子の周辺を示す縦
断面図である。
断面図である。
【図8】図1の光学装置の固体撮像素子の周辺を示す分
解斜視図である。
解斜視図である。
【図9】図1の光学装置の固体撮像素子の基板裏面側の
周辺を示す分解斜視図である。
周辺を示す分解斜視図である。
【図10】固体撮像素子の撮像面を保護するガラス部材
の他の取付例を示す縦断面図である。
の他の取付例を示す縦断面図である。
【図11】固体撮像素子の撮像面を保護するガラス部材
の他の取付例を示す縦断面図である。
の他の取付例を示す縦断面図である。
【図12】図1の光学装置の構成を示すブロック図であ
る。
る。
【図13】フォーカシング時の合焦特性図である。
【図14】ズームトラッキングカーブを示す図である。
【図15】図1の光学装置の基板の構成を示す縦断面図
である。
である。
【図16】図1の光学装置の基板の製造方法における工
程の一部を示す分解斜視図である。
程の一部を示す分解斜視図である。
【図17】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図18】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図19】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図20】図19の基板の取付状態を示す図である。
【図21】図1の光学装置に用いられる他の基板を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図22】図21の基板を示す縦断面図である。
【図23】本発明の光学装置の第2実施例の構成を示す
分解斜視図である。
分解斜視図である。
【図24】図23の光学装置の第2光学部材の駆動制御
部の構成を示す縦断面図である。
部の構成を示す縦断面図である。
【図25】図23の光学装置の絞り羽根の駆動制御部の
構成を示す縦断面図である。
構成を示す縦断面図である。
【図26】図25のC−C線に沿って得られた断面図で
ある。
ある。
【図27】従来の光学装置の構成を示す縦断面図であ
る。
る。
1,802 基板 1d 開口部(受入部) 1e,1f 凹部(受入部) 2 固体撮像素子 3,4 移動台 7 磁気スケール 5,6 永久磁石 13,14,15,16 レール部 17,18 コイル 19,20 ヨーク 21,22 位置センサ 30 絞り部 45a,45b 回路素子 46,47 ボール 60 第1光学部材 61 第2光学部材 62 第3光学部材 64 第4光学部材 66 絞り羽根 67,68,69 駆動制御部 G1 光学部材 G2 光学部材 G3 光学部材 G4 光学部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗橋 俊也 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 柳井 敏和 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 木村 研一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内
Claims (7)
- 【請求項1】 被写体像を撮影光学系を介して固体撮像
素子に結像させる光学装置において、前記撮影光学系お
よび前記固体撮像素子が搭載され、前記撮影光学系の搭
載面側に開口する受入部が形成されている基板を有し、
前記撮影光学系は、その構成部材の少なくとも一部が前
記受入部内に挿入されるように前記基板に配置されてい
ることを特徴とする光学装置。 - 【請求項2】 前記撮影光学系は前記基板に平行な光軸
を有し、前記光軸から前記基板に向う方向へ最も離れた
位置にある構成部材の一部が前記受入部に挿入されてい
ることを特徴とする請求項1記載の光学装置。 - 【請求項3】 前記少なくとも1部が前記受入部に挿入
されている構成部材は光学部材であることを特徴とする
請求項1または2記載の光学装置。 - 【請求項4】 前記撮影光学系は、可動光学部材と、前
記可動光学部材を駆動するアクチュエータとを有し、前
記少なくとも1部が前記受入部に挿入されている構成部
材は、前記アクチュエータの構成部材であることを特徴
とする請求項1または2記載の光学装置。 - 【請求項5】 前記撮影光学系は、光学部材と、前記可
動光学部材を保持する保持部材とを有し、前記少なくと
も1部が前記受入部に挿入されている構成部材は、前記
保持部材であることを特徴とする請求項1または2記載
の光学装置。 - 【請求項6】 前記受入部は、凹部からなることを特徴
とする請求項1ないし5記載の光学装置。 - 【請求項7】 前記受入部は、前記基板を貫通する開口
部からなることを特徴とする請求項1ないし5記載の光
学装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7065107A JPH08237530A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 光学装置 |
US08/607,178 US6498624B1 (en) | 1995-02-28 | 1996-02-26 | Optical apparatus and image sensing apparatus mounted on the same surface of a board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7065107A JPH08237530A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08237530A true JPH08237530A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=13277354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7065107A Pending JPH08237530A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08237530A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100432824C (zh) * | 2004-07-05 | 2008-11-12 | 宇东光学公司 | 聚焦结构 |
-
1995
- 1995-02-28 JP JP7065107A patent/JPH08237530A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100432824C (zh) * | 2004-07-05 | 2008-11-12 | 宇东光学公司 | 聚焦结构 |
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