JPH08236835A - Magnetoelectric conversion element and its manufacture - Google Patents

Magnetoelectric conversion element and its manufacture

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JPH08236835A
JPH08236835A JP7042073A JP4207395A JPH08236835A JP H08236835 A JPH08236835 A JP H08236835A JP 7042073 A JP7042073 A JP 7042073A JP 4207395 A JP4207395 A JP 4207395A JP H08236835 A JPH08236835 A JP H08236835A
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JP
Japan
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conversion element
magnetoelectric conversion
substrate
shielding film
resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP7042073A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshikazu Takeda
敏和 竹田
Atsuo Senda
厚生 千田
Ikushi Yoshida
育史 吉田
Yoshifumi Ogiso
美文 小木曽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To prevent permeation of water and salts contained in water into a magnetic sensing part from a board, by forming a magnetic sensing part having magnetoresistance effect and connection electrodes on the board, and forming a shielding film on the board of an electromagnetic conversion element wherein the magnetic sensing part and the connection electrodes are covered with a protective film. CONSTITUTION: Magnetic material boards 8a, 8b wherein shielding films 13 composed of silicon compound using silanol resin on the surface are formed are stuck on both surfaces of a mica board 1 by using resin layers 7, 7. Connection electrodes 5, 5 which are exposed on the end surfaces are connected with outer connection electrodes 9, 9. The shielding films can be formed also by using organic material selected from polyimide resin or the like or inorganic material selected from silicon oxide or the like. The resin is dense and can prevent the permeation of water and salts contained in water into a magnetic sensing part from the board.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は磁電変換素子とくにIn
Sbからなる感磁部を有する磁電変換素子およびその製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetoelectric conversion element, especially In
The present invention relates to a magnetoelectric conversion element having a magnetic sensitive section made of Sb and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、磁界の変化を電気抵抗値の変
化に変換する磁電変換素子が測長素子、回転角度検知素
子などとして実用化されている。このような素子は、磁
気抵抗効果を呈する感磁部が磁性体基板に形成され、さ
らに感磁部に電気抵抗値の変化を取り出すための接続電
極が形成された構造を有している。
2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetoelectric conversion element for converting a change in magnetic field into a change in electric resistance has been put into practical use as a length measuring element, a rotation angle detecting element, and the like. Such an element has a structure in which a magnetic sensing portion exhibiting a magnetoresistive effect is formed on a magnetic substrate, and a connecting electrode for extracting a change in electric resistance value is formed on the magnetic sensing portion.

【0003】従来の磁電変換素子60を、図7の断面図
と、図8の平面図を用いて説明する。なお図8は、図7
に示すA−A線で切断したときの内部を示す図である。
A conventional magnetoelectric conversion element 60 will be described with reference to the sectional view of FIG. 7 and the plan view of FIG. Note that FIG. 8 corresponds to FIG.
It is a figure which shows the inside when it cut | disconnects by the AA line shown in FIG.

【0004】図において磁電変換素子60は、マイカ基
板1に形成された磁気抵抗素子パタ−ン4と、接続電極
5、5が、保護膜6と共に、樹脂層7、7により、磁性
体基板8a、8bに接着、挟持され、端面に外部接続用
電極9、9が形成されている。以下に磁電変換素子60
の構造を詳しく説明する。
In the figure, the magnetoelectric conversion element 60 includes a magnetoresistive element pattern 4 formed on the mica substrate 1, connection electrodes 5 and 5 together with a protective film 6, and resin layers 7 and 7 to form a magnetic substrate 8a. , 8b, and external connection electrodes 9, 9 are formed on the end faces. Below, the magnetoelectric conversion element 60
The structure of will be described in detail.

【0005】磁気抵抗素子パタ−ン4は、ミアンダライ
ン形状を有しInSbからなる感磁部2aと、感磁部2
a上に断続的に形成されたショ−トバ−3a...3a
とが、マイカ基板1に形成された構造を有している。磁
気抵抗素子パタ−ン4の両端には、InSb膜からなる
電極膜2b、2b上に、AlとTiからなる電導性膜3
b、3bが形成された接続電極5、5が接続されてい
る。ショ−トバ−3a...3aは感磁部2aの折り返
し部分および途中の何ヶ所かに、電気良導性薄膜として
作用するように形成されている。このショ−トバ−3
a...3aおよび電導性膜3b、3bは、上層をA
l、下層をTiとした二層構造を有しており、真空蒸着
法およびフォトリソグラフィ−により形成されている。
さらにまた、磁気抵抗素子パタ−ン4と接続電極5、5
とを保護するための保護膜6が、スパッタリングまたは
SOG(スピンオングラス)法などにより被覆されてい
る。なお保護膜6に用いる材料にはInSbと熱膨脹係
数がほぼ等しいシリカ、アルミナ、窒化シリコン、窒化
アルミニウムなどが用いられる。保護膜6には磁性体基
板8aが、またマイカ基板1には磁性体基板8bがそれ
ぞれ樹脂層7により接着されている。さらにまた接続電
極5、5と電気的に接続するように、電極材料により外
部接続用電極9、9が形成されている。
The magnetoresistive element pattern 4 has a magnetic sensitive section 2a having a meander line shape and made of InSb, and a magnetic sensitive section 2
a short bar-3a. . . 3a
Have a structure formed on the mica substrate 1. At both ends of the magnetoresistive element pattern 4, on the electrode films 2b and 2b made of InSb film, a conductive film 3 made of Al and Ti is formed.
The connection electrodes 5 and 5 on which b and 3b are formed are connected. Short bar-3a. . . 3a is formed on the folded-back portion of the magnetic sensitive portion 2a and at several places in the middle so as to act as an electrically conductive thin film. This short bar-3
a. . . 3a and the conductive films 3b and 3b have an upper layer of A
It has a two-layer structure in which the lower layer is Ti and the lower layer is Ti, and is formed by a vacuum deposition method and photolithography.
Furthermore, the magnetoresistive element pattern 4 and the connecting electrodes 5, 5
A protective film 6 for protecting the and is covered by sputtering or SOG (spin on glass) method. As the material used for the protective film 6, silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, or the like having a thermal expansion coefficient substantially equal to that of InSb is used. A magnetic substrate 8a is adhered to the protective film 6 and a magnetic substrate 8b is adhered to the mica substrate 1 by a resin layer 7. Furthermore, external connection electrodes 9 and 9 are formed of an electrode material so as to be electrically connected to the connection electrodes 5 and 5.

【0006】なお外部環境から保護するために、磁電変
換素子60の外部接続用電極9、9を除くほぼ全体に外
装樹脂10が塗布される場合もある。
In order to protect from the external environment, the exterior resin 10 may be applied to almost the entire portion of the magnetoelectric conversion element 60 excluding the external connection electrodes 9, 9.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の磁電変換素子
は、長時間にわたって使用すると、水や水に含まれる塩
類が、その構成部品である磁性体基板を介して、感磁部
にまで侵入し、磁性体基板から感磁部を剥離させたり、
もしくは感磁部や内部の電極を腐食させることがあっ
た。従来の磁電変換素子にあっては、このような不具合
を防止するために、外部接続用電極を除いて、磁電変換
素子のほぼ全体に樹脂を塗布したり、セラミック製ある
いはステンレススチ−ルなどの金属製の容器に密封して
収納する必要があった。その結果、磁電変換素子が大型
化すると共に、感磁部と共に用いる磁石と感磁部との距
離が大きくなるため、感度が低下するという問題があっ
た。
When the conventional magneto-electric conversion element is used for a long time, water or salts contained in the water penetrates into the magnetic sensing part through the magnetic substrate which is a component thereof. , Peeling the magnetic sensitive part from the magnetic substrate,
Alternatively, the magnetic sensing part and the internal electrodes may be corroded. In the conventional magnetoelectric conversion element, in order to prevent such a problem, resin is applied to almost the entire magnetoelectric conversion element except for the external connection electrode, or a ceramic or stainless steel It was necessary to seal and store in a metal container. As a result, there is a problem that the magnetoelectric conversion element becomes large and the distance between the magnet used with the magnetic sensing part and the magnetic sensitive part becomes large, so that the sensitivity is lowered.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は上記問題点を解
決するためになされたものであり、遮蔽膜を形成した基
板を用いて、耐湿性に優れた磁電変換素子を提供するも
のである。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and provides a magnetoelectric conversion element excellent in moisture resistance by using a substrate having a shielding film formed thereon. .

【0009】本発明の請求項1に係る磁電変換素子は、
基板に、磁気抵抗効果を有する感磁部と、接続電極とが
形成され、前記感磁部と接続電極が保護膜で被覆された
磁電変換素子において、基板に遮蔽膜が形成されている
ことを特徴とする。
The magnetoelectric conversion element according to claim 1 of the present invention is
In a magnetoelectric conversion element in which a magnetic sensitive portion having a magnetoresistive effect and a connecting electrode are formed on a substrate, and the magnetic sensitive portion and the connecting electrode are covered with a protective film, a shield film is formed on the substrate. Characterize.

【0010】本発明の請求項2に係る磁電変換素子は、
前記遮蔽膜が、シラノ−ル樹脂、ポリイミド樹脂、アク
リル樹脂、フェノ−ル樹脂のいずれかから選ばれる有機
材料により形成されたことを特徴とする。
The magnetoelectric conversion element according to claim 2 of the present invention is
The shielding film is formed of an organic material selected from a silanol resin, a polyimide resin, an acrylic resin, and a phenol resin.

【0011】本発明の請求項3に係る磁電変換素子は、
前記遮蔽膜が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケ
イ素のいずれかにより形成された多結晶薄膜、あるいは
硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミニウム、硼酸アルカリ鉛
のいずれかにより形成された非晶質薄膜からなる無機材
料により形成されたことを特徴とする。
The magnetoelectric conversion element according to claim 3 of the present invention is
The shielding film is a polycrystalline thin film formed of any one of silicon oxide, aluminum oxide and silicon nitride, or an amorphous thin film formed of any of lead borate, borosilicate, aluminum borate and alkali lead borate. It is characterized by being formed of an inorganic material.

【0012】本発明の請求項4に係る磁電変換素子は、
前記遮蔽膜が、シラノ−ル樹脂、ポリイミド樹脂、アク
リル樹脂、フェノ−ル樹脂のいずれかにより形成された
有機遮蔽膜と、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケ
イ素のいずれかにより形成された多結晶薄膜、あるいは
硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミニウム、硼酸アルカリ鉛
のいずれかにより形成された非晶質薄膜である無機遮蔽
膜とからなる二層構造を有することを特徴とする。
The magnetoelectric conversion element according to claim 4 of the present invention is
The shielding film is an organic shielding film formed of any one of silanol resin, polyimide resin, acrylic resin, and phenol resin, and a polycrystalline thin film formed of any one of silicon oxide, aluminum oxide, and silicon nitride. Or an inorganic shielding film that is an amorphous thin film formed of any of lead borate, borosilicate, aluminum borate, and alkali lead borate.

【0013】本発明の請求項5に係る磁電変換素子の製
造方法は、基板に、磁気抵抗効果を有する感磁部と、接
続電極とを形成し、前記感磁部と接続電極とを保護膜で
被覆してなる磁電変換素子の製造方法において、基板に
遮蔽膜を形成する工程を含むことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in a method of manufacturing a magnetoelectric conversion element, a magnetic sensitive portion having a magnetoresistive effect and a connecting electrode are formed on a substrate, and the magnetic sensitive portion and the connecting electrode are protected by a protective film. The method for producing a magnetoelectric conversion element coated with 1. includes a step of forming a shielding film on a substrate.

【0014】本発明の請求項6に係る磁電変換素子の製
造方法は、前記遮蔽膜が酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、窒化ケイ素のいずれかから選択された多結晶薄膜か
らなり、スパッタリング、PVD、CVD、蒸着、SO
G(スピンオングラス)法のいずれかから選択される方
法により形成することを特徴とする。
In the method of manufacturing a magnetoelectric conversion element according to a sixth aspect of the present invention, the shielding film is made of a polycrystalline thin film selected from silicon oxide, aluminum oxide, and silicon nitride, and sputtering, PVD, CVD, Evaporation, SO
It is characterized by being formed by a method selected from any of G (spin on glass) method.

【0015】本発明の請求項7に係る磁電変換素子の製
造方法は、前記遮蔽膜が硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミ
ニウム、硼酸アルカリ鉛のいずれかから選択された非晶
質薄膜からなり、基板に塗布しさらに熱処理して形成す
ることを特徴とする。
In the method of manufacturing a magnetoelectric conversion element according to a seventh aspect of the present invention, the shielding film is an amorphous thin film selected from any of lead borate, borosilicate, aluminum borate, and alkali lead borate. It is characterized in that it is formed by applying it to a substrate and further heat-treating it.

【0016】[0016]

【作用】請求項1記載の磁電変換素子は、基板に遮蔽膜
が形成されているので、水や水に含まれる塩類が基板か
ら感磁部に侵入する事を防止できる。
In the magneto-electric conversion element according to the first aspect of the present invention, since the shielding film is formed on the substrate, it is possible to prevent water or salts contained in the water from entering the magnetically sensitive portion from the substrate.

【0017】請求項2記載の磁電変換素子は、前記遮蔽
膜が、シラノ−ル樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹
脂、フェノ−ル樹脂のいずれかから選ばれる緻密な有機
材料により形成されているので、水や水に含まれる塩類
が基板から感磁部に侵入する事を確実に防止できる。
According to another aspect of the magnetoelectric conversion element of the present invention, the shielding film is formed of a dense organic material selected from silanol resin, polyimide resin, acrylic resin and phenol resin. It is possible to reliably prevent water or salts contained in water from entering the magnetically sensitive portion from the substrate.

【0018】請求項3記載の磁電変換素子は、前記遮蔽
膜が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素のい
ずれかにより形成された多結晶薄膜、あるいは硼酸鉛、
硼ケイ酸、硼酸アルミニウム、硼酸アルカリ鉛のいずれ
かにより形成された非晶質薄膜からなる無機材料により
形成されているので、水や水に含まれる塩類が磁性体基
板から感磁部に侵入する事を確実に防止できる。
According to a third aspect of the magnetoelectric conversion element, the shielding film is a polycrystalline thin film formed of silicon oxide, aluminum oxide or silicon nitride, or lead borate,
Since it is made of an inorganic material consisting of an amorphous thin film made of borosilicate, aluminum borate, or alkali lead borate, water or salts contained in water penetrates the magnetic sensitive part from the magnetic substrate. Things can be reliably prevented.

【0019】請求項4記載の磁電変換素子は、前記遮蔽
膜が、シラノ−ル樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹
脂、フェノ−ル樹脂のいずれかにより形成された有機遮
蔽膜と、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素の
いずれかにより形成された多結晶薄膜、あるいは硼酸
鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミニウム、硼酸アルカリ鉛のい
ずれかにより形成された非晶質薄膜である無機遮蔽膜と
からなる二層構造を有するので、水や水に含まれる塩類
が基板から感磁部に侵入する事をさらに確実に防止でき
る。
According to a fourth aspect of the magnetoelectric conversion element of the present invention, the shielding film is an organic shielding film formed of any one of silanol resin, polyimide resin, acrylic resin and phenol resin, and silicon oxide and aluminum oxide. , A polycrystalline thin film formed of any one of silicon nitride or an inorganic shielding film which is an amorphous thin film formed of any of lead borate, borosilicate, aluminum borate and alkali lead borate Therefore, it is possible to more reliably prevent water or salts contained in water from entering the magnetically sensitive portion from the substrate.

【0020】請求項5記載の磁電変換素子の製造方法
は、基板に、磁気抵抗効果を有する感磁部と、接続電極
とを形成し、前記感磁部と接続電極とを保護膜で被覆し
てなる磁電変換素子の製造方法において、基板に遮蔽膜
を形成する工程を含むので、水や水に含まれる塩類が基
板から感磁部に侵入する事を確実に防止する遮蔽膜を有
する磁電変換素子を製造することができる。
According to a fifth aspect of the present invention, in a method of manufacturing a magnetoelectric conversion element, a substrate is provided with a magnetic sensitive portion having a magnetoresistive effect and a connection electrode, and the magnetic sensitive portion and the connection electrode are covered with a protective film. In the method of manufacturing a magnetoelectric conversion element, which includes the step of forming a shielding film on a substrate, a magnetoelectric conversion device having a shielding film that reliably prevents water or salts contained in water from entering the magnetically sensitive portion from the substrate. The device can be manufactured.

【0021】請求項6記載の磁電変換素子の製造方法
は、前記遮蔽膜が酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化
ケイ素のいずれかから選択された多結晶薄膜からなり、
スパッタリング、PVD、CVD、蒸着、SOG(スピ
ンオングラス)法のいずれかの方法により形成するの
で、水や水に含まれる塩類が基板から感磁部に侵入する
事を確実に防止する遮蔽膜を有する磁電変換素子を製造
することができる。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetoelectric conversion element, wherein the shielding film is made of a polycrystalline thin film selected from silicon oxide, aluminum oxide and silicon nitride.
Since it is formed by any one of the sputtering, PVD, CVD, vapor deposition, and SOG (spin on glass) methods, it has a shielding film that surely prevents water or salts contained in water from entering the magnetic sensing part from the substrate. A magnetoelectric conversion element can be manufactured.

【0022】請求項7記載の磁電変換素子の製造方法
は、前記遮蔽膜が硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミニウ
ム、硼酸アルカリ鉛のいずれかから選択された非晶質薄
膜からなり、基板に塗布しさらに熱処理して形成するの
で、水や水に含まれる塩類が基板から感磁部に侵入する
事を確実に防止する遮蔽膜を有する磁電変換素子を製造
することができる。
According to a seventh aspect of the present invention, in the method of manufacturing a magnetoelectric conversion element, the shielding film is made of an amorphous thin film selected from lead borate, borosilicate, aluminum borate, and alkaline lead borate, and is applied to a substrate. Further, since it is formed by further heat treatment, it is possible to manufacture a magnetoelectric conversion element having a shielding film that surely prevents water or salts contained in water from penetrating from the substrate to the magnetic sensing part.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

(実施例1)本発明の実施例に係る磁電変換素子20を
図1〜図3を用いて説明する。図1は磁電変換素子20
の断面図、図2は図1に示す磁電変換素子20をA−A
で切断した時の平面図、図3は磁電変換素子20の製造
工程の途中を示す図である。なお図2の平面図は従来例
とほぼ同一である。また以下の説明において従来例と同
一の部分については同一の符号を付してその説明を省略
する。
(Embodiment 1) A magnetoelectric conversion element 20 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a magnetoelectric conversion element 20.
2 is a sectional view of the magnetoelectric conversion element 20 shown in FIG.
FIG. 3 is a plan view when the magnetoelectric conversion element 20 is cut along with FIG. The plan view of FIG. 2 is almost the same as the conventional example. In the following description, the same parts as those in the conventional example are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0024】磁電変換素子20は、マイカ基板1に、ミ
アンダライン形状を有するInSb膜からなる感磁部2
aと、感磁部2aの途中に断続的に多数形成されたショ
−トバ−3a...3aとにより構成された磁気抵抗素
子パタ−ン4と、磁気抵抗素子パタ−ン4の両端に電気
的に接続し電極膜2b、2bと電導性膜3b、3bとか
らなり二層構造を有する接続電極5、5と、磁気抵抗素
子パタ−ン4と接続電極5、5とを保護するための保護
膜6とが形成され、マイカ基板1の両面には表面に遮蔽
膜13が形成された磁性体基板8a、8bが樹脂層7、
7により接着され、端面に露出した接続電極5、5に外
部用接続電極9、9が接続された構造を有している。
The magnetoelectric conversion element 20 comprises a mica substrate 1 and a magnetic sensitive portion 2 made of an InSb film having a meander line shape.
a and a plurality of short bars 3a. . . 3a, a magnetoresistive element pattern 4 and two layers which are electrically connected to both ends of the magnetoresistive element pattern 4 and include electrode films 2b and 2b and conductive films 3b and 3b. The connection electrodes 5 and 5 and the protective film 6 for protecting the magnetoresistive element pattern 4 and the connection electrodes 5 and 5 were formed, and the shielding films 13 were formed on both surfaces of the mica substrate 1. The magnetic substrate 8a, 8b is the resin layer 7,
7 has a structure in which external connection electrodes 9 and 9 are connected to the connection electrodes 5 and 5 which are bonded to each other and exposed at the end faces.

【0025】上記構造の磁電変換素子20の製造方法を
工程順に図3を参照して説明する。まず、図3(1)に
示すように、マイカ基板1にInSb膜11を三温度法
により蒸着方法を用いて形成する。次に、図3(2)に
示すように、InSb膜11をフォトリソグラフィ−に
よりミアンダライン状にパタ−ン化し、感磁部2aおよ
び電極膜2b、2bを形成する。次に図3(3)に示す
ように、感磁部2aおよび電極膜2b、2bが形成され
た面にAlを上層、Tiを下層として電気伝導性薄膜を
真空蒸着法により成膜し、これを電気良導性薄膜として
作用するショ−トバ−3a...3aおよび電導性膜3
b、3bとして、フォトリソグラフィ−により同時にパ
タ−ン形成する。感磁部2aとショ−トバ−3a...
3aにより磁気抵抗素子パタ−ン4が形成され、電極膜
2b、2bと電導性膜3b、3bにより接続電極5、5
が形成される。さらにまた、図3(4)に示すように、
磁気抵抗素子パタ−ン4と接続電極5、5とを保護する
ための保護膜6を、スパッタリングまたはSOG(スピ
ンオングラス)法などにより形成する。なお保護膜6に
用いる材料にはInSbと熱膨脹係数がほぼ等しいシリ
カ、アルミナ、窒化シリコン、窒化アルミニウムなどを
用いることができる。次に、図3(5)に示すように、
あらかじめ遮蔽膜13を形成した磁性体基板8aを、保
護膜6に樹脂層7により接着する。前記遮蔽膜13はシ
ラノ−ル化合物溶液を表面に塗布し、オ−ブンを用いて
200〜450℃で焼成し、ケイ素化合物からなる遮蔽
膜13に形成したものであり、水分や水分に含まれる塩
類を遮蔽するように作用する。次に図3(6)に示すよ
うに、マイカ基板1に、遮蔽膜13を形成した磁性体基
板8bをエポキシ樹脂からなる樹脂層7により接着す
る。
A method of manufacturing the magnetoelectric conversion element 20 having the above structure will be described in the order of steps with reference to FIG. First, as shown in FIG. 3A, the InSb film 11 is formed on the mica substrate 1 by the vapor deposition method by the three-temperature method. Next, as shown in FIG. 3B, the InSb film 11 is patterned into a meander line shape by photolithography to form the magnetic sensitive portion 2a and the electrode films 2b and 2b. Next, as shown in FIG. 3C, an electrically conductive thin film is formed by a vacuum deposition method with Al as an upper layer and Ti as a lower layer on the surface on which the magnetic sensing portion 2a and the electrode films 2b, 2b are formed. Which acts as an electrically conductive thin film, a short bar-3a. . . 3a and conductive film 3
Patterns b and 3b are simultaneously formed by photolithography. Magnetically sensitive portion 2a and short bar-3a. . .
The magnetoresistive element pattern 4 is formed by 3a, and the connection electrodes 5, 5 are formed by the electrode films 2b, 2b and the conductive films 3b, 3b.
Is formed. Furthermore, as shown in FIG. 3 (4),
A protective film 6 for protecting the magnetoresistive element pattern 4 and the connection electrodes 5 and 5 is formed by sputtering or SOG (spin on glass) method. Note that the material used for the protective film 6 may be silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, or the like having a coefficient of thermal expansion substantially equal to that of InSb. Next, as shown in FIG.
The magnetic substrate 8a on which the shielding film 13 is formed in advance is adhered to the protective film 6 with the resin layer 7. The shielding film 13 is formed by applying a silanol compound solution on the surface and baking it at 200 to 450 ° C. using an oven to form the shielding film 13 made of a silicon compound, which is contained in water or water. It acts to shield salts. Next, as shown in FIG. 3 (6), the magnetic substrate 8b having the shielding film 13 formed thereon is bonded to the mica substrate 1 by the resin layer 7 made of epoxy resin.

【0026】以上の工程までは、一枚の磁性体基板の母
基板を用い多数個の磁電変換素子20を同時に製造して
も良い。この場合次の工程の前に個々の磁電変換素子に
切り離す。
Up to the above steps, a large number of magnetoelectric conversion elements 20 may be simultaneously manufactured by using a mother substrate of one magnetic substrate. In this case, it is separated into individual magnetoelectric conversion elements before the next step.

【0027】次に、図1に示すように、個々に切断され
た磁電変換素子20の端面に、接続電極5、5に接続す
るように外部接続用電極9、9を形成する。
Next, as shown in FIG. 1, external connection electrodes 9 are formed so as to connect to the connection electrodes 5 and 5 on the individually cut end faces of the magnetoelectric conversion element 20.

【0028】以上の工程により磁電変換素子20が製造
される。
The magnetoelectric conversion element 20 is manufactured by the above steps.

【0029】なお本実施例においては、外部の素子と接
続するための外部接続用電極9、9を形成した例につい
て述べたが、リ−ド部材からなる外部接続用端子が接続
電極5、5に接続されていてもよい。
In this embodiment, the example in which the external connection electrodes 9 and 9 for connecting to the external element are formed has been described. However, the external connection terminals made of lead members are connected to the connection electrodes 5 and 5. May be connected to.

【0030】さらに本実施例においては、磁性体基板8
a、8bを用いて磁電変換素子を形成する場合について
述べたが、アルミナ、フォルステライト、ムライトなど
のセラミック基板を用いてもよい。
Further, in this embodiment, the magnetic substrate 8 is used.
Although the case where the magnetoelectric conversion element is formed using a and 8b has been described, a ceramic substrate such as alumina, forsterite, or mullite may be used.

【0031】さらに本実施例においては、基板に形成す
る遮蔽膜はシラノ−ル樹脂を用いてケイ素化合物からな
る膜に形成する場合についてのべたが、緻密で水や水に
含まれる塩類が基板から感磁部に侵入することを防止で
きるならば、次に述べるように別の有機材料あるいは無
機材料から形成されていても良い。さらにまた二種以上
の有機材料あるいは無機材料を多層に形成した遮蔽膜を
形成しても良い。
Further, in this embodiment, the shielding film formed on the substrate is described as being formed on a film made of a silicon compound by using a silanol resin, but it is dense and water or salts contained in the water is removed from the substrate. It may be formed of another organic material or inorganic material as described below as long as it can prevent the magnetic sensitive portion from entering. Furthermore, you may form the shielding film which formed the organic material or inorganic material of 2 or more types in multiple layers.

【0032】遮蔽膜は、ポリイミド樹脂、アクリル樹
脂、フェノ−ル樹脂のいずれかから選ばれる有機材料
や、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、硼ケ
イ酸、硼酸アルミニウム、硼酸アルカリ鉛、マイカのい
ずれかから選ばれる無機材料を用いて形成することがで
きる。
The shielding film is made of any one of organic materials selected from polyimide resin, acrylic resin, phenol resin, silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, borosilicate, aluminum borate, alkaline lead borate, and mica. It can be formed using an inorganic material selected from the above.

【0033】ポリイミド樹脂により遮蔽膜を形成する場
合は、シラノ−ル樹脂膜を形成する場合と同様に市販の
ポリイミド溶液を磁性体基板に塗布し、オ−ブンを用い
て90〜350℃の温度により加熱すればよい。
When the shielding film is formed of a polyimide resin, a commercially available polyimide solution is applied to the magnetic substrate as in the case of forming the silanol resin film, and the oven is used at a temperature of 90 to 350 ° C. It may be heated by.

【0034】またポリイミド樹脂に換えて、アクリル樹
脂やフェノ−ル樹脂を用いる場合にはポリイミド樹脂と
同様にすれば良い。
When an acrylic resin or a phenol resin is used instead of the polyimide resin, it may be the same as the polyimide resin.

【0035】多結晶薄膜により遮蔽膜を形成する場合
は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素のいず
れかから選ばれる無機材料を用いて、スパッタリング、
PVD、CVD、蒸着、SOG(スピンオングラス)法
のいずれかから選ばれる方法により形成することができ
る。また非晶質薄膜による遮蔽膜を形成するには、硼ケ
イ酸、硼酸アルミニウム、硼酸アルカリ鉛いずれかから
選ばれる無機材料を塗布したのち、軟化点よりも高い温
度に昇温し、ガラス化して遮蔽膜とすることができる。
このときの熱処理温度は、600〜800℃が良い。
When the shielding film is formed of a polycrystalline thin film, sputtering, using an inorganic material selected from silicon oxide, aluminum oxide and silicon nitride,
It can be formed by a method selected from PVD, CVD, vapor deposition, and SOG (spin on glass) method. To form a shielding film made of an amorphous thin film, an inorganic material selected from borosilicic acid, aluminum borate, and alkaline lead borate is applied and then heated to a temperature higher than the softening point to be vitrified. It can be a shielding film.
The heat treatment temperature at this time is preferably 600 to 800 ° C.

【0036】なお多結晶薄膜を形成せずに、マイカ基板
を遮蔽膜として作用するように樹脂により接着しても良
い。
The mica substrate may be adhered by a resin so as to act as a shielding film without forming a polycrystalline thin film.

【0037】さらに無機材料による遮蔽膜の上層には、
例えば紫外線硬化型のアクリル樹脂をさらに形成しても
よい。その形成条件は、例えば、アクリル樹脂モノマ−
を無機材料による遮蔽膜に塗布し、紫外線を2分間照射
し、200℃で10分間硬化して、遮蔽膜とする方法が
良い。
Further, in the upper layer of the shielding film made of an inorganic material,
For example, an ultraviolet curable acrylic resin may be further formed. The formation conditions are, for example, acrylic resin monomer.
Is preferably applied to a shielding film made of an inorganic material, irradiated with ultraviolet rays for 2 minutes, and cured at 200 ° C. for 10 minutes to form a shielding film.

【0038】さらにまた遮蔽膜は樹脂層で接着する面に
形成しなくてもよく、最外面に形成しても同様の効果が
得られる。
Furthermore, the shielding film does not have to be formed on the surface to which the resin layer is adhered, and the same effect can be obtained even if it is formed on the outermost surface.

【0039】(実施例2)本発明の別の実施例に係る磁
電変換素子30の製造方法を図4を用いて説明する。な
お本実施例に係る磁電変換素子30は実施例1と同一の
構造を有するが、感磁部がInSbバルクウェハ−を用
いて製造されたものである。
(Embodiment 2) A method of manufacturing a magnetoelectric conversion element 30 according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The magnetoelectric conversion element 30 according to the present embodiment has the same structure as that of the first embodiment, but the magnetic sensing part is manufactured using an InSb bulk wafer.

【0040】まず図4(1)に示すように、磁性体基板
8aを準備し、シラノ−ル化合物溶液を表面に塗布し、
オ−ブンを用いて200〜450℃で焼成することによ
り、ケイ素化合物からなる遮蔽膜13を形成する。この
ケイ素化合物は、水分や外部環境に含まれる気体が磁性
体基板8aから磁気抵抗素子パタ−ン4に侵入すること
を防ぐように作用する。次に図4(2)に示すように、
磁性体基板8aに遮蔽膜13を形成した面にInSbバ
ルクウェハ14を樹脂層7を介して接着する。次に図4
(3)に示すように、InSbバルクウェハ14を厚さ
5μmとなるまでラッピング加工またはエッチング加工
を施しInSb膜11とする。次に図4(4)に示すよ
うに、フォトリソグラフィによりInSb膜11を感磁
部2aと電極膜2b、2bに形成する。次に図4(5)
に示すように、基板表面にAlを上層、Tiを下層とし
て真空蒸着法により成膜し、これをショ−トバ−3
a...3aと電導性膜3b、3bとしてフォトリソグ
ラフィ−により同時にパタ−ン形成する。感磁部2aと
ショ−トバ−3a...3aとにより磁気抵抗素子パタ
−ン4が構成され、電極膜2b、2bと電導性膜3b、
3bとにより接続電極5、5が構成される。磁性体基板
8a上に形成された一対の感磁部2aの両端はそれぞれ
接続電極5、5に接続されている。次に、図4(6)に
示すように、磁気抵抗素子パタ−ン4と接続電極5、5
とを保護するための保護膜6を、スパッタリングまたは
SOG(スピンオングラス)法などにより形成する。な
お保護膜6に用いる材料にはInSbと熱膨脹係数がほ
ぼ等しいシリカ、アルミナ、窒化シリコン、窒化アルミ
ニウムなどを用いることができる。次に図4(7)に示
すように、樹脂層7を介して、保護膜6に、あらかじめ
遮蔽膜13が形成された磁性体基板8bを接着する。
First, as shown in FIG. 4 (1), a magnetic substrate 8a is prepared, and a silanol compound solution is applied to the surface of the magnetic substrate 8a.
The shielding film 13 made of a silicon compound is formed by baking at 200 to 450 ° C. using an oven. This silicon compound acts so as to prevent moisture and gas contained in the external environment from entering the magnetoresistive element pattern 4 from the magnetic substrate 8a. Next, as shown in FIG.
The InSb bulk wafer 14 is bonded to the surface of the magnetic substrate 8a on which the shielding film 13 is formed, with the resin layer 7 interposed therebetween. Next in FIG.
As shown in (3), the InSb bulk wafer 14 is lapped or etched to a thickness of 5 μm to form an InSb film 11. Next, as shown in FIG. 4D, the InSb film 11 is formed on the magnetic sensing portion 2a and the electrode films 2b and 2b by photolithography. Next, FIG. 4 (5)
As shown in Fig. 3, a film is formed on the surface of the substrate by a vacuum vapor deposition method with Al as an upper layer and Ti as a lower layer, and this is formed into a short bar-3 film.
a. . . The pattern 3a and the conductive films 3b and 3b are simultaneously formed by photolithography. Magnetically sensitive portion 2a and short bar-3a. . . The magnetoresistive element pattern 4 is constituted by 3a, and the electrode films 2b, 2b and the conductive film 3b,
Connection electrodes 5 and 5 are formed by 3b. Both ends of the pair of magnetic sensitive portions 2a formed on the magnetic substrate 8a are connected to the connection electrodes 5 and 5, respectively. Next, as shown in FIG. 4 (6), the magnetoresistive element pattern 4 and the connecting electrodes 5, 5
The protective film 6 for protecting the and is formed by sputtering or SOG (spin on glass) method. Note that the material used for the protective film 6 may be silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, or the like having a coefficient of thermal expansion substantially equal to that of InSb. Next, as shown in FIG. 4 (7), the magnetic substrate 8b on which the shielding film 13 is formed in advance is adhered to the protective film 6 via the resin layer 7.

【0041】以上の工程までは、一枚の磁性体基板の母
基板を用い多数個の磁電変換素子30を同時に製造して
も良い。この場合次の工程の前に個々の磁電変換素子に
切り離す。
Up to the above steps, a large number of magnetoelectric conversion elements 30 may be manufactured simultaneously using the mother substrate of one magnetic substrate. In this case, it is separated into individual magnetoelectric conversion elements before the next step.

【0042】次に図4(8)に示すように、個々に切断
された磁電変換素子30の端面に、接続電極5、5に接
続するように外部接続用電極9、9を形成する。
Next, as shown in FIG. 4 (8), external connection electrodes 9 and 9 are formed on the end faces of the individually cut magnetoelectric conversion elements 30 so as to be connected to the connection electrodes 5 and 5.

【0043】以上の工程により磁電変換素子30が製造
される。
The magnetoelectric conversion element 30 is manufactured by the above steps.

【0044】なお本実施例においては、外部の素子と接
続するための外部接続用電極9、9を形成した例につい
て述べたが、リ−ド部材からなる外部接続用端子が接続
電極5、5に接続されていてもよい。
In the present embodiment, the example in which the external connection electrodes 9 and 9 for connecting to the external element are formed has been described, but the external connection terminals made of lead members are connected to the connection electrodes 5 and 5. May be connected to.

【0045】さらに本実施例においては、磁性体基板8
a、8bを用いて磁電変換素子を形成する場合について
述べたが、アルミナ、フォルステライト、ムライトなど
のセラミック基板を用いてもよい。
Further, in this embodiment, the magnetic substrate 8 is used.
Although the case where the magnetoelectric conversion element is formed using a and 8b has been described, a ceramic substrate such as alumina, forsterite, or mullite may be used.

【0046】さらにまた本実施例においては、基板に形
成する遮蔽膜は、シラノ−ル樹脂を用いてケイ素化合物
で形成する場合についてのべたが、緻密で水や水に含ま
れる塩類を通さないものであれば、ポリイミド樹脂、ア
クリル樹脂、フェノ−ル樹脂のいずれかから選ばれる有
機材料、あるいは酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化
ケイ素、硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミニウム、硼酸ア
ルカリ鉛のいずれかから選ばれる無機材料から形成され
ていても良いし、有機材料と無機材料とを複数層形成し
てもよい。
Furthermore, in this embodiment, the shielding film formed on the substrate is the case where it is formed of a silicon compound using a silanol resin, but it is dense and does not pass water or salts contained in water. If so, from an organic material selected from any one of polyimide resin, acrylic resin, phenol resin, or any one of silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, lead borate, borosilicate, aluminum borate, and alkali lead borate. It may be formed of a selected inorganic material, or a plurality of layers of an organic material and an inorganic material may be formed.

【0047】なお多結晶薄膜を形成せずに、マイカ基板
を遮蔽膜として作用するように樹脂により接着しても良
い。
The mica substrate may be adhered by a resin so as to act as a shielding film without forming the polycrystalline thin film.

【0048】さらに遮蔽膜は樹脂層で接着する面に形成
しなくてもよく、最外面に形成しても同様の効果が得ら
れる。
Further, the shielding film does not have to be formed on the surface to be bonded with the resin layer, and the same effect can be obtained even if it is formed on the outermost surface.

【0049】(実施例3)本発明の別の実施例に係る磁
電変換素子40を図5を用いて説明する。
(Embodiment 3) A magnetoelectric conversion element 40 according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0050】図5は磁電変換素子40の断面図である。
なお実施例1で説明した磁電変換素子20と同一の部分
については同一の符号を用いその説明を省略する。
FIG. 5 is a sectional view of the magnetoelectric conversion element 40.
The same parts as those of the magnetoelectric conversion element 20 described in the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0051】図5に示すように、磁電変換素子40は、
マイカ基板1に、ミアンダライン形状を有するInSb
膜からなる感磁部2aと、その感磁部2aの表面に断続
的に多数形成されたショ−トバ−3a...3aとによ
り構成された磁気抵抗素子パタ−ン4と、磁気抵抗素子
パタ−ン4の両端に電気的に接続された電極膜2b、2
bと電導性膜3b、3bとからなる二層構造を有する接
続電極5、5と、磁気抵抗素子パタ−ン4と接続電極
5、5とを保護するための保護膜6とを有している。保
護膜6には遮蔽膜13が形成された磁性体基板8aが、
マイカ基板1には磁性体基板8bが、それぞれ樹脂層7
により接着され、さらに端面に露出した接続電極5、5
に外部用接続電極9、9が接続されている。なお磁性体
基板8bには遮蔽膜は形成されていない。
As shown in FIG. 5, the magnetoelectric conversion element 40 is
InSb having a meander line shape on the mica substrate 1
A magnetic sensitive portion 2a made of a film, and a plurality of short bar 3a. Intermittently formed on the surface of the magnetic sensitive portion 2a. . . A magnetoresistive element pattern 4 composed of 3a and electrode films 2b, 2b electrically connected to both ends of the magnetoresistive element pattern 4.
b and the conductive films 3b and 3b, and the connection electrodes 5 and 5 having a two-layer structure, and the protective film 6 for protecting the magnetoresistive element pattern 4 and the connection electrodes 5 and 5. There is. The magnetic film substrate 8a having the shielding film 13 formed on the protective film 6 is
The magnetic material substrate 8b is provided on the mica substrate 1 and the resin layer 7
Connection electrodes 5 and 5 that are bonded by
The external connection electrodes 9, 9 are connected to. No shield film is formed on the magnetic substrate 8b.

【0052】本実施例に係る磁電変換素子40において
も、磁性体基板8aに形成された遮蔽膜13が、水や水
に含まれる塩類が外部から磁性体基板を通過して、磁気
抵抗素子パタ−ン4に浸透する事を防止する。なおマイ
カ基板1は水を通過させないので、磁性体基板8bに遮
蔽膜が形成されていなくても、水が磁気抵抗素子パタ−
ンにまで浸透することはない。
Also in the magnetoelectric conversion element 40 according to the present embodiment, the shielding film 13 formed on the magnetic substrate 8a has a magnetoresistive element pattern in which water or salts contained in water pass through the magnetic substrate from the outside. -Prevent infiltration of Since the mica substrate 1 does not allow water to pass therethrough, the water does not pass through the magnetoresistive element pattern even if the shielding film is not formed on the magnetic substrate 8b.
It does not penetrate into the environment.

【0053】さらに本実施例においては、磁性体基板8
a、8bを用いて磁電変換素子を形成する場合について
述べたが、アルミナ、フォルステライト、ムライトなど
のセラミック基板を用いてもよい。
Further, in this embodiment, the magnetic substrate 8 is used.
Although the case where the magnetoelectric conversion element is formed using a and 8b has been described, a ceramic substrate such as alumina, forsterite, or mullite may be used.

【0054】さらにまた遮蔽膜13を形成する材料やそ
の形成方法は、実施例1に示したように有機材料や無機
材料だけでなくそれらを多層に形成することにより遮蔽
膜13を構成しても良いことはいうまでもない。
Furthermore, the material for forming the shielding film 13 and the method of forming the shielding film 13 are not limited to the organic material and the inorganic material as shown in the first embodiment, and the shielding film 13 may be formed by forming them in multiple layers. Not to mention good things.

【0055】(実施例4)本発明に係る別の実施例に係
る磁電変換素子50を図6を用いて説明する。
(Embodiment 4) A magnetoelectric conversion element 50 according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0056】図6は磁電変換素子50の断面図である。
なお実施例1と同一の部分については同一の符号を用い
その説明を省略する。
FIG. 6 is a sectional view of the magnetoelectric conversion element 50.
The same parts as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0057】磁電変換素子50は、マイカ基板1に、ミ
アンダライン形状を有するInSb膜からなる感磁部2
aと、感磁部2aの途中に断続的に多数形成されたショ
−トバ−3a...3aとにより構成された磁気抵抗素
子パタ−ン4と、磁気抵抗素子パタ−ン4の両端に接続
する接続電極5、5と、磁気抵抗素子パタ−ン4と接続
電極5、5とを保護するための保護膜6とが形成され、
マイカ基板1の、磁気抵抗素子パタ−ン4が形成されて
いない面に遮蔽膜13が形成された磁性体基板8aが樹
脂層7により接着され、端面に露出した接続電極5、5
に外部用接続電極9、9が接続された構造を有してい
る。
The magnetoelectric conversion element 50 comprises a mica substrate 1 and a magnetically sensitive portion 2 made of an InSb film having a meander line shape.
a and a plurality of short bars 3a. . . Protecting the magnetoresistive element pattern 4 constituted by 3a, the connecting electrodes 5 and 5 connected to both ends of the magnetoresistive element pattern 4, and the magnetoresistive element pattern 4 and the connecting electrodes 5 and 5. And a protective film 6 for forming
The magnetic substrate 8a having the shielding film 13 formed on the surface of the mica substrate 1 on which the magnetoresistive element pattern 4 is not formed is adhered by the resin layer 7, and the connection electrodes 5 and 5 exposed on the end faces.
The external connection electrodes 9 and 9 are connected to.

【0058】磁電変換素子50を構成する各部分の材料
やその形成方法は、実施例1、実施例2もしくは実施例
3と同様である。
The material of each part constituting the magnetoelectric conversion element 50 and the method of forming the same are the same as those in the first, second or third embodiment.

【0059】このような構成の磁電変換素子50は、マ
イカ基板1が緻密で水や水に含まれる塩類を通さないの
で遮蔽膜として作用する。さらに磁気抵抗素子パタ−ン
4と被検出体との距離を小さくできるので、感度が向上
する。
The magnetoelectric conversion element 50 having such a structure acts as a shielding film because the mica substrate 1 is dense and does not allow water or salts contained in water to pass therethrough. Further, since the distance between the magnetoresistive element pattern 4 and the object to be detected can be reduced, the sensitivity is improved.

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明の磁電変換素子は、有機材料、無
機材料、あるいは有機材料と無機材料とを組み合わせた
材料を用いて、あらかじめ遮蔽膜を形成した基板を用い
た構成を有している。そのために水や水に含まれる塩類
が基板から感磁部に侵入することがなくなるので、耐湿
性に優れた感磁部を有する磁気抵抗素子を得る事ができ
る。
The magnetoelectric conversion element of the present invention has a structure using a substrate on which a shielding film is formed in advance, using an organic material, an inorganic material, or a material in which an organic material and an inorganic material are combined. . As a result, water or salts contained in the water does not enter the magnetic sensitive section from the substrate, so that a magnetoresistive element having a magnetic sensitive section having excellent moisture resistance can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る一実施例磁電変換素子の断面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view of a magnetoelectric transducer according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明に係る一実施例磁電変換素子の平面図で
ある。
FIG. 2 is a plan view of a magnetoelectric conversion element according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明に係る一実施例磁電変換素子の製造途中
の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a magnetoelectric conversion element according to an embodiment of the present invention during manufacture.

【図4】本発明に係る別の実施例磁電変換素子の製造途
中の断面図である。
FIG. 4 is a sectional view of the magnetoelectric conversion element according to another embodiment of the present invention during manufacture.

【図5】本発明に係る別の実施例磁電変換素子の断面図
である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of another embodiment of the magnetoelectric conversion element according to the present invention.

【図6】本発明に係る別の実施例磁電変換素子の断面図
である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of another embodiment of the magnetoelectric conversion element according to the present invention.

【図7】従来の磁電変換素子の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a conventional magnetoelectric conversion element.

【図8】従来の磁電変換素子の平面図である。FIG. 8 is a plan view of a conventional magnetoelectric conversion element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マイカ基板 1a 保護膜 2a 感磁部 2b 電極膜 3a ショ−トバ− 3b 電導性膜 4 磁気抵抗素子パタ
−ン 5 接続電極 6 保護膜 7 樹脂層 8a、8b 磁性体基板 9 外部接続用電極 10 外装樹脂 11 InSb膜 13 遮蔽膜 14 InSbバルクウ
ェハ 20、30、40、50、60 磁電変換素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mica substrate 1a Protective film 2a Magnetic sensing part 2b Electrode film 3a Shorter bar 3b Conductive film 4 Magnetoresistive element pattern 5 Connection electrode 6 Protective film 7 Resin layer 8a, 8b Magnetic substance substrate 9 External connection electrode 10 Exterior resin 11 InSb film 13 Shielding film 14 InSb bulk wafer 20, 30, 40, 50, 60 Magnetoelectric conversion element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小木曽 美文 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Mifumi Ogiso 2 26-10 Tenjin Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Murata Manufacturing Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板に、磁気抵抗効果を有する感磁部と、
接続電極とが形成され、前記感磁部と接続電極が保護膜
で被覆された磁電変換素子において、基板に遮蔽膜が形
成されていることを特徴とする磁電変換素子。
1. A magnetic sensitive section having a magnetoresistive effect on a substrate,
A magnetoelectric conversion element in which a connection electrode is formed, and the magnetic sensing section and the connection electrode are covered with a protective film, wherein a shielding film is formed on the substrate.
【請求項2】前記遮蔽膜が、シラノ−ル樹脂、ポリイミ
ド樹脂、アクリル樹脂、フェノ−ル樹脂のいずれかから
選ばれる有機材料により形成されたことを特徴とする請
求項1記載の磁電変換素子。
2. The magnetoelectric conversion element according to claim 1, wherein the shielding film is made of an organic material selected from silanol resin, polyimide resin, acrylic resin and phenol resin. .
【請求項3】前記遮蔽膜が、酸化ケイ素、酸化アルミニ
ウム、窒化ケイ素のいずれかにより形成された多結晶薄
膜、あるいは硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミニウム、硼
酸アルカリ鉛のいずれかにより形成された非晶質薄膜か
らなる無機材料により形成されたことを特徴とする請求
項1記載の磁電変換素子。
3. The shielding film is formed of a polycrystalline thin film made of silicon oxide, aluminum oxide or silicon nitride, or lead borate, borosilicate, aluminum borate or alkali lead borate. The magnetoelectric conversion element according to claim 1, wherein the magnetoelectric conversion element is formed of an inorganic material composed of an amorphous thin film.
【請求項4】前記遮蔽膜が、シラノ−ル樹脂、ポリイミ
ド樹脂、アクリル樹脂、フェノ−ル樹脂のいずれかによ
り形成された有機遮蔽膜と、酸化ケイ素、酸化アルミニ
ウム、窒化ケイ素のいずれかにより形成された多結晶薄
膜、あるいは硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アルミニウム、硼
酸アルカリ鉛のいずれかにより形成された非晶質薄膜で
ある無機遮蔽膜とからなる二層構造を有することを特徴
とする請求項1記載の磁電変換素子。
4. The shielding film is formed of an organic shielding film made of any one of silanol resin, polyimide resin, acrylic resin and phenol resin and any one of silicon oxide, aluminum oxide and silicon nitride. Characterized by having a two-layer structure comprising an amorphous thin film which is an amorphous thin film formed by any one of lead borate, borosilicate, aluminum borate and alkali lead borate. Item 1. A magnetoelectric conversion element according to item 1.
【請求項5】基板に、磁気抵抗効果を有する感磁部と、
接続電極とを形成し、前記感磁部と接続電極とを保護膜
で被覆してなる磁電変換素子の製造方法において、基板
に遮蔽膜を形成する工程を含むことを特徴とする磁電変
換素子の製造方法。
5. A magnetic sensitive section having a magnetoresistive effect on a substrate,
A method of manufacturing a magnetoelectric conversion element, comprising forming a connection electrode and covering the magnetically sensitive portion and the connection electrode with a protective film, comprising the step of forming a shielding film on the substrate. Production method.
【請求項6】前記遮蔽膜が酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、窒化ケイ素のいずれかから選択された多結晶薄膜か
らなり、スパッタリング、PVD、CVD、蒸着、SO
G(スピンオングラス)法のいずれかから選択される方
法により形成することを特徴とする請求項5記載の磁電
変換素子の製造方法。
6. The shielding film is made of a polycrystalline thin film selected from silicon oxide, aluminum oxide and silicon nitride, and is used for sputtering, PVD, CVD, vapor deposition, SO.
The method of manufacturing a magnetoelectric conversion element according to claim 5, wherein the method is formed by a method selected from G (spin on glass) method.
【請求項7】前記遮蔽膜が硼酸鉛、硼ケイ酸、硼酸アル
ミニウム、硼酸アルカリ鉛のいずれかから選択された非
晶質薄膜からなり、基板に塗布しさらに熱処理して形成
することを特徴とする請求項5記載の磁電変換素子の製
造方法。
7. The shielding film is made of an amorphous thin film selected from any of lead borate, borosilicate, aluminum borate, and alkali lead borate, and is formed by coating on a substrate and further heat treating. The method for manufacturing a magnetoelectric conversion element according to claim 5.
JP7042073A 1995-03-01 1995-03-01 Magnetoelectric conversion element and its manufacture Pending JPH08236835A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012163369A (en) * 2011-02-03 2012-08-30 Sony Chemical & Information Device Corp Magnetic sensor, magnetic sensor module, and manufacturing method for magnetic sensor
JP2013174542A (en) * 2012-02-27 2013-09-05 Alps Green Devices Co Ltd Current sensor and manufacturing method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012163369A (en) * 2011-02-03 2012-08-30 Sony Chemical & Information Device Corp Magnetic sensor, magnetic sensor module, and manufacturing method for magnetic sensor
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