JPH08235893A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH08235893A
JPH08235893A JP7337278A JP33727895A JPH08235893A JP H08235893 A JPH08235893 A JP H08235893A JP 7337278 A JP7337278 A JP 7337278A JP 33727895 A JP33727895 A JP 33727895A JP H08235893 A JPH08235893 A JP H08235893A
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JP
Japan
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column
spare
decoder
line
decoders
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7337278A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaki Ogiwara
正毅 荻原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE: To improve a column relief rate while suppressing a chip area from increasing by providing standby column decoders performing decodings while receiving a column address along with decoder outputs from standby row decoders. CONSTITUTION: This semiconductor memory is of a chip structure in which an integration degree is raised by making one piece of column decoder select cell arraies equal to or more than four pieces of cell arraies and has a column redundant circuit 30. Standby row decoders 31, 32 of the circuit 30 perform decodings by receiving row address for performing selections for plural cell arraies and standby column decoders 33, 34 perform decodings by receiving a row address along with outputs from standby row decoders 31, 32. An OR gate OG ORs both outputs of standby column decoders 33, 34 to output it to one line of a standby column selection line. Moreover, when the address corresponding to a normal bit is inputted to a column detector CD, the output of the column decoder CD is supplied to a column selection line as a column selection signal via a NOR gate NG.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
係り、特にダイナミック型ランダムアクセスメモリ(D
RAM)の冗長回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a dynamic random access memory (D
RAM) redundant circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、DRAMの大容量化、高集積化に
伴い、多層配線を用いて回路の共用化を図ったチップ構
成が多く採り入れられている。従来のDRAMにおける
チップ構成のパターンレイアウトを図6に示している。
即ち、メモリセルアレイは4つのセルアレイAL1〜A
L4に分割され、各セルアレイAL1〜AL4毎に列デ
コーダCDおよびセンスアンプ(図示せず)などが設け
られている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the increase in capacity and integration of DRAMs, many chip configurations have been adopted in which circuits are shared by using multilayer wiring. FIG. 6 shows a pattern layout of a chip structure in a conventional DRAM.
That is, the memory cell array has four cell arrays AL1 to A1.
It is divided into L4, and a column decoder CD and a sense amplifier (not shown) are provided for each of the cell arrays AL1 to AL4.

【0003】しかし、メモリが大容量化すると、メモリ
セルアレイの分割数も多くせざるを得なくなり、図6の
チップ構成のように各セルアレイ毎に列デコーダCDを
設けると、チップ面積が増大し、集積度が上がらない。
そこで、配線層を一層増やし、図7に示すように列デコ
ーダCDおよびセンスアンプなどを1カ所に集め、集積
度を上げたパターンレイアウトを有するチップ構成が多
く採り入れられるようになってきた。このように列デコ
ーダCDおよびセンスアンプなどを1カ所に集めた場
合、増やした一層の配線層の用い方には、図8あるいは
図9に示す二通りの回路方式がある。
However, as the capacity of the memory increases, the number of divisions of the memory cell array must be increased, and if the column decoder CD is provided for each cell array as in the chip configuration of FIG. 6, the chip area increases, The degree of integration does not increase.
Therefore, the number of wiring layers has been further increased, and as shown in FIG. 7, a column decoder CD, a sense amplifier, and the like have been gathered in one place, and a chip configuration having a pattern layout with a high degree of integration has been widely adopted. When the column decoder CD, the sense amplifier, and the like are gathered in one place in this way, there are two circuit methods shown in FIG. 8 or FIG.

【0004】図8に示す回路方式は、増やした一層の配
線層を、列デコーダCDから出力される列選択線CDL
…に割り当て、この列選択線CDL…を各セルアレイA
L1、AL2…上に共通に設けて各セルアレイAL1、
AL2…の列選択トランジスタ(CT1、/CT1)、
(CT2、/CT2)…の選択に用いている。ここで、
(BL1、/BL1)、(BL2、/BL2)…は各セ
ルアレイAL1、AL2…の列線対、(DQ1、/DQ
1)、(DQ2、/DQ2)…は各セルアレイAL1、
AL2…の共通データ線対である。また、前記列選択線
CDL…は、各セルアレイAL1、AL2…の列線対
(BL1、/BL1)、(BL2、/BL2)…に平行
に設けられている。
In the circuit system shown in FIG. 8, the additional wiring layer is added to the column selection line CDL output from the column decoder CD.
, And the column select lines CDL are assigned to each cell array A.
L1 and AL2 are provided in common on each cell array AL1,
AL2 ... column select transistors (CT1, / CT1),
It is used to select (CT2, / CT2) .... here,
(BL1, / BL1), (BL2, / BL2) ... Are column line pairs of each cell array AL1, AL2 ..., (DQ1, / DQ).
1), (DQ2, / DQ2) ... are each cell array AL1,
It is a common data line pair of AL2 .... The column selection lines CDL ... Are provided in parallel with the column line pairs (BL1, / BL1), (BL2, / BL2) ... Of the cell arrays AL1, AL2.

【0005】また、図9に示す回路方式は、増やした一
層の配線層を、第2の列線対(BL″、/BL″)…に
割り当て、この第2の列線対(BL″、/BL″)…を
各セルアレイAL1、AL2…上に共通に設け、これを
各セルアレイAL1、AL2…の第1の列選択トランジ
スタ(CT1、/CT1)、(CT2、/CT2)…の
一端側に接続すると共に第2の列選択トランジスタ(C
T″、/CT″)…の一端側に接続する。そして、この
第2の列選択トランジスタ(CT″、/CT″)…の他
端側を共通データ線対(DQ″、/DQ″)に接続し、
列デコーダCDから出力される列選択線CDL…を上記
第2の列選択トランジスタ(CT″、/CT″)…の選
択に用いている。なお、前記第1の列選択トランジスタ
(CT1、/CT1)、(CT2、/CT2)…はセル
アレイ選択行アドレスにより選択されている。また、前
記第2の列線対(BL″、/BL″)は、各セルアレイ
AL1、AL2…の第1の列線対(BL1、/BL
1)、(BL2、/BL2)…と平行に設けられてい
る。
In the circuit system shown in FIG. 9, the increased number of wiring layers is assigned to the second column line pair (BL ", / BL") ... And the second column line pair (BL ", , / BL ″) are provided in common on each cell array AL1, AL2, ... And this is provided on one side of the first column selection transistors (CT1, / CT1), (CT2, / CT2), ... Of each cell array AL1, AL2. To the second column select transistor (C
T ″, / CT ″) ... Connect to one end side. Then, the other end side of the second column selection transistors (CT ″, / CT ″) ... Is connected to the common data line pair (DQ ″, / DQ ″),
The column selection lines CDL ... Which are output from the column decoder CD are used to select the second column selection transistors (CT ″, / CT ″). The first column selection transistors (CT1, / CT1), (CT2, / CT2) ... Are selected by the cell array selection row address. Further, the second column line pair (BL ″, / BL ″) is the first column line pair (BL1, / BL) of each cell array AL1, AL2 ...
1), (BL2, / BL2) ...

【0006】一方、最近のDRAMには、数ビットから
数Kビットの不良を、予備として設けてある予備のビッ
ト(メモリセル)に置き換えることによって救済し、不
良チップを救済する(良品に置き換える)ための冗長回
路を備えている。この冗長回路は、不良となったビット
を予備として設けてある別のビットに置き換えるため
に、不良ビットが接続されている行線あるいは列線を、
この行線あるいは列線と同じセルアレイ内に設けられて
いる予備の行線あるいは列線に置き換えてしまう手段で
ある。例えば列線を置き換える場合の列冗長回路は、列
線の選択に必要な列デコーダ部にフューズ素子群を備
え、所定のフューズ素子を切断することにより、不良ビ
ットに対応した列アドレス入力時に不良ビットを選択す
ることなく予備の列線に置き換えてしまうものである。
同様に、行線を置き換える場合の行冗長回路は、行線の
選択に必要な行デコーダ部にフューズ素子群を備え、所
定のフューズ素子を切断することにより、不良ビットに
対応した行アドレス入力時に不良ビットを選択すること
なく予備の行線に置き換えてしまうものである。
On the other hand, in recent DRAMs, a defect of several bits to several K bits is relieved by replacing it with a spare bit (memory cell) provided as a spare, and a defective chip is repaired (replaced with a good product). It has a redundant circuit for This redundant circuit replaces a row line or a column line to which a defective bit is connected in order to replace a defective bit with another bit provided as a spare.
This is means for replacing the row line or the column line with a spare row line or column line provided in the same cell array. For example, in the case of replacing a column line, a column redundancy circuit includes a fuse element group in a column decoder section necessary for selecting a column line, and by cutting a predetermined fuse element, a defective bit is input when a column address corresponding to the defective bit is input. It replaces with a spare column line without selecting.
Similarly, a row redundancy circuit for replacing a row line is provided with a fuse element group in a row decoder section necessary for selecting a row line, and by cutting a predetermined fuse element, a row address corresponding to a defective bit is input. The defective bit is replaced with a spare row line without selecting it.

【0007】図10は従来の列デコーダ部の一部を示し
ている。即ち、CDは通常の列デコーダ、NGは上記列
デコーダCDの出力側に挿入されたノアゲート、CDL
は上記ノアゲートNGを経た列選択信号が与えられる列
選択線、100は列冗長回路、SCDLは上記列冗長回
路100から予備列選択信号が与えられる予備列選択線
であり、予備のメモリセル(図示せず)が接続された予
備列線(図示せず)を選択するようになっている。
FIG. 10 shows a part of a conventional column decoder section. That is, CD is a normal column decoder, NG is a NOR gate inserted at the output side of the column decoder CD, and CDL.
Is a column select line to which a column select signal is applied via the NOR gate NG, 100 is a column redundancy circuit, and SCDL is a spare column select line to which a spare column select signal is supplied from the column redundant circuit 100, and a spare memory cell (see FIG. A spare column line (not shown) to which a not shown) is connected is selected.

【0008】上記列冗長回路100において、SCDは
フューズ素子群を備えたプログラマブル列デコーダ(予
備の列デコーダ)であり、列アドレスが入力する。この
予備の列デコーダSCDは、不良ビットがある場合、不
良ビットに対応した列アドレスをデコードする回路接続
となるように、予めフューズ素子が切断される。
In the column redundancy circuit 100, the SCD is a programmable column decoder (spare column decoder) having a fuse element group and receives a column address. In the spare column decoder SCD, when there is a defective bit, the fuse element is blown in advance so that the spare column decoder SCD has a circuit connection for decoding the column address corresponding to the defective bit.

【0009】上記列デコーダ部に正常ビットに対応した
列アドレスが入力する時は、通常の列デコーダCDの出
力がノアゲートNGを経て列選択線に列選択信号として
供給される。この時、予備の列デコーダSCDの出力は
非活性状態である。これに対して、不良ビットに対応し
た列アドレスが入力する時は、予備の列デコーダSCD
の出力が活性状態になって予備列選択線に予備列選択信
号として供給され、不良ビットは予備列線に接続されて
いるビットに置き換えられる。また、この時の予備の列
デコーダSCDの出力が前記ノアゲートNGに入力し、
このノアゲートNGの出力(列選択信号)は非活性状態
になる。
When the column address corresponding to the normal bit is input to the column decoder section, the output of the normal column decoder CD is supplied to the column selection line as a column selection signal via the NOR gate NG. At this time, the output of the spare column decoder SCD is inactive. On the other hand, when the column address corresponding to the defective bit is input, the spare column decoder SCD
Is activated and supplied to the spare column selection line as a spare column selection signal, and the defective bit is replaced with the bit connected to the spare column line. The output of the spare column decoder SCD at this time is input to the NOR gate NG,
The output (column selection signal) of the NOR gate NG is inactivated.

【0010】上記した列冗長回路100によって救済可
能な最大ビット数は、予備に設けられたメモリセルの数
で決まる。しかし、実際に救済できるビットの組合せ
は、メモリセルアレイの分割数、列デコーダCDの数、
列冗長回路100の数などにより大幅に変わる。例えば
図6に示したようなチップ構成と図7に示したようなチ
ップ構成とについて、列の救済率を比較してみる。
The maximum number of bits that can be repaired by the column redundancy circuit 100 is determined by the number of memory cells provided in reserve. However, the combinations of bits that can be actually repaired are the number of divisions of the memory cell array, the number of column decoders CD,
The number largely depends on the number of column redundancy circuits 100. For example, the repair rates of the columns will be compared between the chip configuration shown in FIG. 6 and the chip configuration shown in FIG.

【0011】図6に示したようなチップ構成の場合、各
セルアレイ毎に列デコーダCDが配置されているので、
このセルアレイ毎の列デコーダCDに1個づつ列冗長回
路100を設けると、各セルアレイ毎に不良の列線があ
った場合でも各セルアレイ毎に予備の列線に置き換える
ことができる。つまり、図6に示したように列デコーダ
CDを4個有するチップの場合、列デコーダCD毎に1
本の不良列線を救済でき、最大4本の不良列線を救済で
きる。
In the case of the chip structure as shown in FIG. 6, since the column decoder CD is arranged for each cell array,
If one column redundancy circuit 100 is provided for each column decoder CD for each cell array, even if there is a defective column line for each cell array, a spare column line can be replaced for each cell array. That is, in the case of a chip having four column decoder CDs as shown in FIG. 6, one for each column decoder CD.
Defective column lines can be repaired, and up to four defective column lines can be repaired.

【0012】これに対して、図7に示したようなチップ
構成の場合、列デコーダCDが1個しかなく、この1個
の列デコーダCDが全セルアレイ(4セルアレイ)の同
じ列アドレスの予備の列線を同時に選択するので、この
1個の列デコーダCDに対して1個の列冗長回路100
を設けると、4セルアレイの中の1本の不良列線しか救
済できず、図6に示したチップ構成と比べて列救済率が
1/4に低下する。
On the other hand, in the case of the chip structure as shown in FIG. 7, there is only one column decoder CD, and this one column decoder CD has a spare column address of the same column address in all cell arrays (4 cell arrays). Since the column lines are simultaneously selected, one column redundancy circuit 100 is provided for this one column decoder CD.
By providing the above, only one defective column line in the four cell arrays can be repaired, and the column repair rate is reduced to 1/4 as compared with the chip configuration shown in FIG.

【0013】この列救済率を高めるために、図7に示し
たようなチップ構成における1個の列デコーダCDに対
して列冗長回路100を例えば4個設けると、最大4本
の不良列線を救済できるが、各セルアレイ毎に4本の予
備の列線を設けなければならず、チップ面積が増大して
しまうという問題がある。
In order to increase the column repair rate, if, for example, four column redundancy circuits 100 are provided for one column decoder CD in the chip configuration as shown in FIG. 7, a maximum of four defective column lines will be generated. Although it can be remedied, four spare column lines must be provided for each cell array, which causes a problem of increasing the chip area.

【0014】上記の同様な問題は、1個の行デコーダに
より4個以上のセルアレイを共通に選択するようにして
集積度を上げたチップ構成のものに行冗長回路を設ける
場合にも生じる。
The same problem as described above also occurs when a row redundancy circuit is provided in a chip structure having a higher degree of integration by commonly selecting four or more cell arrays by one row decoder.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
半導体記憶装置は、1個の列デコーダにより4個以上の
セルアレイを共通に選択するようにして集積度を上げた
チップ構成のものに列冗長回路を設ける場合、上記1個
の列デコーダに対して1個の列冗長回路を設けると、前
記4個以上のセルアレイ中の1本の不良列線しか救済で
きないので列救済率が低下し、上記1個の列デコーダに
対して複数個の列冗長回路を設けると、列救済率は向上
するがチップ面積が増大してしまうという問題がある。
As described above, the conventional semiconductor memory device is arranged in a chip structure having an increased degree of integration by commonly selecting four or more cell arrays by one column decoder. When a redundant circuit is provided, if one column redundant circuit is provided for the one column decoder, only one defective column line in the four or more cell arrays can be relieved, and the column remedy rate decreases. If a plurality of column redundancy circuits are provided for the one column decoder, there is a problem that the column repair rate is improved but the chip area is increased.

【0016】本発明は、上記問題点を解決すべくなされ
たもので、その目的は、1個の列デコーダにより4個以
上のセルアレイを共通に選択するようにして集積度を上
げたチップ構成のものに列冗長回路を設ける場合、チッ
プ面積の増大を抑制しつつ列救済率の向上を実現できる
半導体記憶装置を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object thereof is a chip structure in which four or more cell arrays are commonly selected by one column decoder to increase the degree of integration. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of realizing an improvement in column repair rate while suppressing an increase in chip area when a column redundancy circuit is provided.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、1個の列デコーダからの列選択信号が与えられる列
選択線により4個以上のセルアレイの列線を共通に選択
するチップ構成を有し、上記各セルアレイにそれぞれ設
けられた不良ビット線救済用の予備列線を選択するため
の列冗長回路を上記4個以上のセルアレイで共通に設け
た半導体記憶装置において、上記列冗長回路は、セルア
レイ毎の選択を行うための行アドレスを受けてデコード
を行なう第1の予備のデコーダと、この第1の予備のデ
コーダからのデコード出力と共に上記列アドレスを受け
てデコードを行う少なくとも2つ以上の第2の予備のデ
コーダと、この第2の予備のデコーダの各出力の論理和
をとって1本の予備列選択線に出力する論理回路とを具
備したことを特徴とする。
A semiconductor memory device according to the present invention has a chip configuration in which column lines of four or more cell arrays are commonly selected by a column selection line to which a column selection signal from one column decoder is applied. In the semiconductor memory device having a column redundancy circuit provided in each of the cell arrays for selecting a spare column line for relieving a defective bit line, the column redundancy circuit is commonly provided in the four or more cell arrays. A first spare decoder that receives a row address for performing a selection for each cell array and performs decoding, and at least two or more that receives the column address together with a decode output from the first spare decoder and performs decoding Of the second spare decoder and a logic circuit for taking the logical sum of the outputs of the second spare decoder and outputting the result to one spare column selection line. To.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、この発明の途中で
考えられた半導体記憶装置であり、1個の列デコーダか
らの列選択信号が与えられる列選択線により4個以上
(ここでは4個)のセルアレイAL1〜AL4の列線を
共通に選択するようにして集積度を上げたチップ構成を
採用し、上記各セルアレイAL1〜AL4にそれぞれ設
けられた不良ビット救済用の予備列線(図示せず)を選
択するための列冗長回路を設けたDRAMのパターンレ
イアウトを概略的に示している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a semiconductor memory device considered in the middle of the present invention, which has four or more (four in this case) cell arrays AL1 to AL4 by a column selection line to which a column selection signal from one column decoder is applied. By adopting a chip configuration in which the degree of integration is increased by commonly selecting column lines, a spare column line (not shown) for relieving a defective bit provided in each of the cell arrays AL1 to AL4 is selected. 1 schematically shows a pattern layout of a DRAM provided with a column redundancy circuit.

【0019】即ち、メモリセルアレイは例えば4つのセ
ルアレイAL1〜AL4に分割され、パターンレイアウ
トの一端側に、1個の列デコーダ部1およびセンスアン
プ(図示せず)などが設けられている。この列デコーダ
部1には、上記4つのセルアレイAL1〜AL4に共通
の1個の列デコーダおよび1個の列冗長回路が設けられ
ている。この列冗長回路は、フューズ素子群を備えたプ
ログラマブルアドレスデコーダからなる予備の列デコー
ダにより、列アドレスと共にセルアレイ毎の選択を行な
うためのアドレスを受けてデコードを行い、予備のメモ
リセル群が接続されている前記予備列線を選択するもの
であるが、1個の列冗長回路によりセルアレイ毎に不良
ビットの救済が可能になっており、例えば図2中に示す
ように構成されている。
That is, the memory cell array is divided into, for example, four cell arrays AL1 to AL4, and one column decoder section 1 and a sense amplifier (not shown) are provided at one end of the pattern layout. The column decoder unit 1 is provided with one column decoder and one column redundancy circuit common to the above four cell arrays AL1 to AL4. In this column redundancy circuit, a spare column decoder including a programmable address decoder having a fuse element group receives a column address and an address for selecting each cell array, performs decoding, and a spare memory cell group is connected. The spare column line is selected, but the defective bit can be relieved for each cell array by one column redundancy circuit, and is configured as shown in FIG. 2, for example.

【0020】図2は、前記列デコーダ部1を示してお
り、CDは前記列デコーダ、NGは上記列デコーダCD
の出力側に挿入されたノアゲートであり、このノアゲー
トNGの出力(列選択信号)は列選択線に与えられる。
10は列冗長回路であり、この出力(予備列選択信号)
は1本の予備列選択線に与えられる。この予備列選択線
は、前記各セルアレイの予備列線を選択するために設け
られている。
FIG. 2 shows the column decoder unit 1, where CD is the column decoder and NG is the column decoder CD.
Of the NOR gate NG, and the output (column selection signal) of this NOR gate NG is applied to the column selection line.
Reference numeral 10 is a column redundancy circuit, and its output (spare column selection signal)
Is applied to one spare column select line. The spare column selection line is provided to select the spare column line of each cell array.

【0021】上記列冗長回路10は、前記列デコーダC
Dの出力が与えられる列選択線により選択可能なセルア
レイの数と同数の4個の予備の列デコーダSCD1〜S
CD4と、この4個の予備の列デコーダSCD1〜SC
D4の各出力の論理和をとって1本の予備列選択線に出
力する論理回路(本例ではオアゲートOG)とを有す
る。上記予備の列デコーダSCD1〜SCD4は、それ
ぞれ例えばポリシリコンからなるフューズ素子群を備え
ており、それぞれnビットの列アドレスと共にセルアレ
イ毎の選択を行うためのアドレス(例えば行アドレスの
2ビット分)を受けてデコードを行う。即ち、不良ビッ
トが存在する場合、予備の列デコーダSCD1〜SCD
4は、不良ビットが存在するアドレスの入力時にデコー
ドする回路接続となるように、予め所定のフューズ素子
がレーザー光により切断されている。
The column redundancy circuit 10 includes the column decoder C.
As many as four spare column decoders SCD1 to SCD as the number of cell arrays selectable by the column selection line to which the output of D is given.
CD4 and these four spare column decoders SCD1 to SC
It has a logic circuit (OR gate OG in this example) which takes the logical sum of the outputs of D4 and outputs it to one spare column selection line. The spare column decoders SCD1 to SCD4 each include a fuse element group made of, for example, polysilicon, and each has an n-bit column address and an address (for example, 2 bits of a row address) for selecting each cell array. Receive and decode. That is, if there is a defective bit, the spare column decoders SCD1 to SCD
Numeral 4 has a predetermined fuse element cut in advance by laser light so as to be a circuit connection for decoding when an address having a defective bit is input.

【0022】なお、図1に示したように4個のセルアレ
イAL1〜AL4に共通の列デコーダ部1を1ケ所に集
めることに伴って増やした一層の配線層の用い方は、図
8あるいは図9に示したように二通りの回路方式があ
る。即ち、第1の回路方式は、増やした一層の配線層を
列選択線および予備列選択線に割り当て、この列選択線
および予備列選択線を、前記複数個のセルアレイ上に共
通に、かつ、各セルアレイの列線および予備列線に平行
に設け、この列線および予備列線を前記列選択線および
予備列選択線により選択するようにする。また、第2の
回路方式は、増やした一層の配線層を第2の列線および
第2の予備列線に割り当て、この第2の列線および第2
の予備列線を、前記複数個のセルアレイ上に共通に、か
つ、各セルアレイの第1の列線および第1の予備列線に
平行に設け、上記第2の列線および第2の予備列線を前
記列選択線および予備列選択により選択するようにす
る。
It should be noted that, as shown in FIG. 1, the column decoder section 1 common to the four cell arrays AL1 to AL4 is used in one place. As shown in FIG. 9, there are two types of circuit systems. That is, in the first circuit system, the increased wiring layer is assigned to the column selection line and the spare column selection line, and the column selection line and the spare column selection line are commonly provided on the plurality of cell arrays, and It is provided in parallel with the column line and the spare column line of each cell array, and the column line and the spare column line are selected by the column selection line and the spare column selection line. Further, in the second circuit system, the increased wiring layer is assigned to the second column line and the second spare column line, and the second column line and the second column line are allocated.
Are provided in common on the plurality of cell arrays and in parallel to the first column line and the first column line of each cell array, and the second column line and the second column column are provided. A line is selected by the column selection line and the preliminary column selection.

【0023】上記DRAMにおいて、正常ビットに対応
した列アドレスが列デコーダCDに入力する時は、列デ
コーダCDの出力がノアゲートNGを経て列選択線に列
選択信号として供給される。この時、予備の列デコーダ
SCD1〜SCD4は、不良ビットに対応した列アドレ
スのみあるいはセルアレイ選択用のアドレスのみが一致
するアドレスが入力しても、その出力は非活性状態であ
り、オアゲートOGの出力は非活性状態であり、予備の
列選択線が選択されることはない。これに対して、ある
セルアレイの不良ビットに対応したアドレスが入力する
時は、予備の列デコーダSCD1〜SCD4のいずれか
の出力が活性状態になり、オアゲートOGを経て予備列
選択線に予備列選択信号として供給され、不良ビットが
予備列線に接続されているビットに置き換えられるよう
になる。また、この時の予備列選択線の信号が前記ノア
ゲートNGに入力し、このノアゲートNGの出力(列選
択信号)は非活性状態になる。この場合、予備の列デコ
ーダSCD1〜SCD4の一部に、不良ビットに対応し
た列アドレスのみあるいはセルアレイ選択用のアドレス
のみが一致するアドレスが入力したとしても、この一部
の予備の列デコーダの出力は非活性状態である。
In the above DRAM, when the column address corresponding to the normal bit is input to the column decoder CD, the output of the column decoder CD is supplied to the column selection line as a column selection signal via the NOR gate NG. At this time, the spare column decoders SCD1 to SCD4 have their outputs inactive even if an address in which only the column address corresponding to the defective bit or only the address for cell array selection is input is inactive, and the output of the OR gate OG. Is inactive and the spare column select line is not selected. On the other hand, when an address corresponding to a defective bit of a cell array is input, one of the outputs of the spare column decoders SCD1 to SCD4 is activated and the spare column selection line is selected by the spare column selection line via the OR gate OG. The defective bit is supplied as a signal and is replaced with the bit connected to the spare column line. Further, the signal of the spare column selection line at this time is input to the NOR gate NG, and the output (column selection signal) of this NOR gate NG is inactivated. In this case, even if an address in which only the column address corresponding to the defective bit or only the address for selecting the cell array matches is input to part of the spare column decoders SCD1 to SCD4, the output of this part of the spare column decoder Is inactive.

【0024】上記のような構成のDRAMによれば、セ
ルアレイ毎の選択を行うためのアドレスを加味し、各セ
ルアレイ毎に独立に、救済すべき不良ビットに対して置
換すべき予備列線を選択可能な列冗長回路10を1個用
いることにより、図6に示したように各セルアレイ毎に
列デコーダを配置したチップ構成で各セルアレイの列デ
コーダ毎に1個づつ従来の列冗長回路を設けた場合と同
等の列救済率が得られ、チップ面積の増大を抑制するこ
とが可能になる。
According to the DRAM having the above-mentioned structure, the spare column line to be replaced with respect to the defective bit to be repaired is independently selected for each cell array by adding the address for selecting each cell array. By using one possible column redundancy circuit 10, a conventional column redundancy circuit is provided for each column decoder of each cell array in a chip configuration in which a column decoder is arranged for each cell array as shown in FIG. A column repair rate equivalent to that in the case can be obtained, and an increase in chip area can be suppressed.

【0025】なお、上記のような構成の列冗長回路10
を各セルアレイに共通の列デコーダCDに対して複数個
用いるようにすれば、列救済率が一層向上することは勿
論である。
The column redundancy circuit 10 having the above structure
Of course, if a plurality of column decoders CD are used for each cell array, the column repair rate will be further improved.

【0026】次に本発明の実施の形態を説明する。な
お、本実施の形態において、メモリセルアレイは前記図
1に示すように4つのセルアレイAL1〜AL4に分割
され、パターンレイアウトの一端側に、1個の列デコー
ダ部1およびセンスアンプ(図示せず)などが設けられ
ている。そして、この列デコーダ部1には、上記4つの
セルアレイAL1〜AL4に共通の1個の列デコーダお
よび1個の列冗長回路が設けられている。
Next, an embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, the memory cell array is divided into four cell arrays AL1 to AL4 as shown in FIG. 1, and one column decoder unit 1 and a sense amplifier (not shown) are provided at one end of the pattern layout. Etc. are provided. The column decoder unit 1 is provided with one column decoder and one column redundancy circuit common to the above four cell arrays AL1 to AL4.

【0027】本実施の形態における列冗長回路30は、
フューズ素子群を備えたプログラマブルアドレスデコー
ダからなり、セルアレイ毎の選択を行なうための行アド
レスを受けてデコードを行う2つの予備の行デコーダ3
1および32と、フューズ素子群を備えたプログラマブ
ルアドレスデコーダからなり、上記予備の行デコーダ3
1および32からのデコード出力と共に前記列アドレス
を受けてデコードを行う少なくとも2つ以上(ここでは
2つ)の予備の列デコーダ33および34と、この予備
の列デコーダ33および34の各出力の論理和をとって
1本の予備列選択線に出力する論理回路(本例ではオア
ゲートOG)とを有する。
The column redundancy circuit 30 in this embodiment is
Two spare row decoders 3 each consisting of a programmable address decoder having a fuse element group and receiving a row address for selecting each cell array and performing decoding
1 and 32 and a programmable address decoder having a fuse element group, and the spare row decoder 3
1 and 32 and at least two (here, two) spare column decoders 33 and 34 for receiving and decoding the column address together with the decode outputs, and the logic of each output of the spare column decoders 33 and 34. It has a logic circuit (OR gate OG in this example) which sums and outputs to one spare column selection line.

【0028】不良ビットが存在する場合、上記予備の行
デコーダ31および32は、不良ビットが存在するセル
アレイの選択に必要な行アドレスの入力時にデコードす
る回路接続となるように、予め所定のフューズ素子が切
断されている。また、上記予備の列デコーダ33および
34は、予備の行デコーダ31あるいは32からのデコ
ード出力が選択状態、かつ、不良ビットが存在する列ア
ドレスの入力時にデコードする回路接続となるように、
予め所定のフューズ素子が切断されている。この場合、
予備の行デコーダ31あるいは32が選択するセルアレ
イの数は1つに限らず、2ビット分の行アドレス入力の
うちの上位1ビットあるいは下位1ビットをデコードす
るように所定のフューズ素子を切断し、2個のセルアレ
イを同時に選択するようにしてもよい。これにより、2
個のセルアレイの同じ列アドレスに不良ビットが存在す
る場合には、1個の予備の列デコーダ33あるいは34
により2個のセルアレイのの不良ビットに対する救済選
択を共通に行うことができる。
When there is a defective bit, the spare row decoders 31 and 32 have a predetermined fuse element so that the spare row decoders 31 and 32 are connected to decode when the row address necessary for selecting the cell array having the defective bit is input. Has been disconnected. Further, the spare column decoders 33 and 34 are connected in such a manner that the decode output from the spare row decoder 31 or 32 is in a selected state and is decoded when a column address having a defective bit is input.
A predetermined fuse element is cut beforehand. in this case,
The number of cell arrays selected by the spare row decoder 31 or 32 is not limited to one, and a predetermined fuse element is cut so as to decode the upper 1 bit or the lower 1 bit of a 2-bit row address input, You may make it select two cell arrays simultaneously. This gives 2
When a defective bit exists at the same column address of each cell array, one spare column decoder 33 or 34
Accordingly, the repair selection for the defective bit of the two cell arrays can be commonly performed.

【0029】図3中に示した列冗長回路30によれば、
図2中に示した列冗長回路10に比べて、予備の列デコ
ーダの使用数を節約することができる。即ち、図2に示
した列冗長回路10では、列デコーダCDの出力が与え
られる列選択線により選択可能なセルアレイ数と同数の
4個の予備のデコーダSCD1〜SCD4を必要とした
が、図3に示した列冗長回路30では、予備のデコーダ
(33、34)を上記セルアレイ数と同数を最大個数と
する任意の数とすることができる。
According to the column redundancy circuit 30 shown in FIG. 3,
As compared with the column redundancy circuit 10 shown in FIG. 2, the number of spare column decoders used can be saved. That is, the column redundancy circuit 10 shown in FIG. 2 requires four spare decoders SCD1 to SCD4 as many as the number of cell arrays selectable by the column selection line to which the output of the column decoder CD is applied. In the column redundancy circuit 30 shown in (1), the number of spare decoders (33, 34) can be set to an arbitrary number, the maximum number of which is the same as the number of cell arrays.

【0030】4図および図5は、それぞれ本発明の他の
実施の形態に係るDRAMのチップ構成のパターンレイ
アウトを概略的に示しており、それぞれ前記実施の形態
と同様に本発明を適用することができる。即ち、図4の
パターンレイアウトは、図1に示したパターンレイアウ
トと比べて、パターンレイアウトの中央部に列デコーダ
部(列デコーダおよび予備の列デコーダなど)1を設け
ている点が異なり、その他は同じであるので、図1中と
対応する部分には図1中と同一符号を付している。
FIGS. 4 and 5 each schematically show a pattern layout of a chip structure of a DRAM according to another embodiment of the present invention, and the present invention can be applied similarly to the above embodiments. You can That is, the pattern layout shown in FIG. 4 is different from the pattern layout shown in FIG. 1 in that a column decoder unit (a column decoder and a spare column decoder) 1 is provided in the central portion of the pattern layout. Since they are the same, the parts corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as those in FIG.

【0031】また、図5のパターンレイアウトは、図1
に示したパターンレイアウトを2組設けている点が異な
り、その他は同じであるので、図1中と対応する部分に
は図1中と同一符号を付している。
The pattern layout of FIG. 5 is as shown in FIG.
Since two sets of the pattern layouts shown in FIG. 2 are provided and the other parts are the same, the parts corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as those in FIG.

【0032】[0032]

【発明の効果】上述したように本発明の半導体記憶装置
によれば、1個の列デコーダにより4個以上のセルアレ
イを共通に選択するようにして集積度を上げたチップ構
成のものに列冗長回路を設ける場合、チップ面積の増大
を抑制しつつ列救済率を向上することができる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, column redundancy is provided for a chip structure having a higher degree of integration by commonly selecting four or more cell arrays by one column decoder. When the circuit is provided, the column repair rate can be improved while suppressing an increase in chip area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の途中で考えられた半導体記憶装置に係
るチップ構成のパターンレイアウトを概略的に示す図、
FIG. 1 is a diagram schematically showing a pattern layout of a chip configuration relating to a semiconductor memory device considered in the middle of the present invention;

【図2】図1中の列デコーダ部の一例を示すブロック
図、
FIG. 2 is a block diagram showing an example of a column decoder section in FIG.

【図3】本発明の半導体記憶装置の一実施の形態に係る
列デコーダ部の一例を示すブロック図、
FIG. 3 is a block diagram showing an example of a column decoder section according to an embodiment of a semiconductor memory device of the present invention,

【図4】本発明の半導体記憶装置における他の実施の形
態に係るチップ構成のパターンレイアウトを概略的に示
す図、
FIG. 4 is a diagram schematically showing a pattern layout of a chip structure according to another embodiment of the semiconductor memory device of the invention.

【図5】本発明の半導体記憶装置における他の実施の形
態に係るチップ構成のパターンレイアウトを概略的に示
す図、
FIG. 5 is a diagram schematically showing a pattern layout of a chip structure according to another embodiment of the semiconductor memory device of the invention.

【図6】従来のDRAMのチップ構成のパターンレイア
ウトを示す図、
FIG. 6 is a diagram showing a pattern layout of a conventional DRAM chip configuration;

【図7】従来のDRAMのチップ構成のパターンレイア
ウトを示す図、
FIG. 7 is a diagram showing a pattern layout of a conventional DRAM chip configuration;

【図8】図7に示したチップ構成のパターンレイアウト
を行うために増やした一層の配線層の用い方の一例を示
す回路図、
8 is a circuit diagram showing an example of how to use an increased number of wiring layers for performing the pattern layout of the chip configuration shown in FIG.

【図9】図7に示したチップ構成のパターンレイアウト
を行うために増やした一層の配線層の用い方の他の例を
示す回路図、
9 is a circuit diagram showing another example of how to use one wiring layer increased to perform the pattern layout of the chip configuration shown in FIG.

【図10】従来のDRAMに用いられる列デコーダ部の
一例を示す回路図。
FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of a column decoder unit used in a conventional DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

AL1〜AL4 …セルアレイ、 CD …列デコーダ、 10、30 …列冗長回路、 31、32 …予備の行デコ
ーダ、 33、34 …予備の列デコ
ーダ、 SCD1〜SCD4 …予備の列デコ
ーダ、 OG …オアゲート、 BL1、/BL1、BL2、/BL2 …列線対、 BL″、/BL″ …第2の列線
対、 CT1、/CT1、CT2、/CT2 …列選択トラン
ジスタ、 CT″、/CT″ …第2の列選択
トランジスタ。
AL1 to AL4 ... Cell array, CD ... Column decoder, 10, 30 ... Column redundancy circuit, 31, 32 ... Spare row decoder, 33, 34 ... Spare column decoder, SCD1-SCD4 ... Spare column decoder, OG ... OR gate, BL1, / BL1, BL2, / BL2 ... Column line pair, BL ", / BL" ... Second column line pair, CT1, / CT1, CT2, / CT2 ... Column selection transistor, CT ", / CT" ... 2 column select transistors.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1個の列デコーダからの列選択信号が与
えられる列選択線により4個以上のセルアレイの列線を
共通に選択するチップ構成を有し、上記各セルアレイに
それぞれ設けられた不良ビット線救済用の予備列線を選
択するための列冗長回路を上記4個以上のセルアレイで
共通に設けた半導体記憶装置において、 上記列冗長回路は、セルアレイ毎の選択を行うための行
アドレスを受けてデコードを行なう第1の予備のデコー
ダと、この第1の予備のデコーダからのデコード出力と
共に上記列アドレスを受けてデコードを行う少なくとも
2つ以上の第2の予備のデコーダと、この第2の予備の
デコーダの各出力の論理和をとって1本の予備列選択線
に出力する論理回路とを具備したことを特徴とする半導
体記憶装置。
1. A chip configuration for commonly selecting column lines of four or more cell arrays by a column selection line supplied with a column selection signal from one column decoder, and defects provided in each of the cell arrays. In a semiconductor memory device in which a column redundancy circuit for selecting a spare column line for bit line relief is commonly provided in the four or more cell arrays, the column redundancy circuit outputs a row address for selecting each cell array. A first spare decoder for receiving and decoding, and at least two or more second spare decoders for receiving and decoding the column address together with the decode output from the first spare decoder; 2. A semiconductor memory device comprising: a logical circuit for taking the logical sum of the respective outputs of the spare decoders and outputting the result to one spare column selection line.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004075203A1 (en) * 2003-02-18 2004-09-02 Fujitsu Limited Shift redundant circuit, method for controlling shift redundant circuit, and semiconductor memory device

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US6999360B2 (en) 2003-02-18 2006-02-14 Fujitsu Limited Shift redundancy circuit, method for controlling shift redundancy circuit, and semiconductor memory device
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