JPH08222537A - Surface cleaning and reforming apparatus - Google Patents

Surface cleaning and reforming apparatus

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JPH08222537A
JPH08222537A JP4775895A JP4775895A JPH08222537A JP H08222537 A JPH08222537 A JP H08222537A JP 4775895 A JP4775895 A JP 4775895A JP 4775895 A JP4775895 A JP 4775895A JP H08222537 A JPH08222537 A JP H08222537A
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JP
Japan
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ultraviolet rays
cold cathode
surface cleaning
mounting table
cleaning
Prior art date
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Application number
JP4775895A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Asahi
湧一 旭
Hiroaki Asahi
広秋 旭
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MITSUYA SANGYO KK
Original Assignee
MITSUYA SANGYO KK
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a surface cleaning and reforming apparatus by which the attenuation coefficient of a quantity of ultraviolet rays is hardly changed within a definite distance range from an ultraviolet source by utilizing the interference of light by a method wherein a low-pressure mercury cold cathode tube whose heat generation amount is very small is used so as to form a surface light source. CONSTITUTION: In a surface cleaning and reforming apparatus, the surface of an object to be treated is irradiated with ultraviolet rays which are emitted from a mercury lamp 24, and its surface is cleaned or reformed. In the surface cleaning and reforming apparatus, a low-pressure mercury cold cathode tube is used as the mercury lamp 24. Thereby, a surface light source is achieved, and the interference of light is utilized. As a result, a quantity of ultraviolet rays can be made uniform within a definite distance range from the light source.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、紫外線を照射してガラ
ス素材、プラスチック素材、金属素材及びこれらの製
品、例えば光ディスク基板等の固体表面の洗浄や改質を
行なう表面洗浄改質装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface cleaning / modifying apparatus for irradiating ultraviolet rays to clean and modify a glass material, a plastic material, a metal material and a solid surface of a product such as an optical disk substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、液晶表示装置、コンパクトディ
スク、半導体素子等は、LCDガラス基板、CD基板、
シリコンウエハ基板等に、CVD(Chemical
Vapor Deposition)やスパッタ等を用
いて薄膜を形成して、フォトリソグラフィ技術等を応用
してエッチングを施すという操作を繰り返し行なうこと
により形成されるが、加工の微細化及び高集積化にとも
なって、微細な有機物或いは無機物の存在に起因する製
品歩留まりの低下が大きな問題となっている。また、固
体表面に薄膜を接着したり或いは塗装したりする際に、
界面に有機物の汚れが存在すると、接着力が劣化してし
まうという問題もある。
2. Description of the Related Art Generally, liquid crystal display devices, compact discs, semiconductor elements, etc. are manufactured on LCD glass substrates, CD substrates,
CVD (Chemical)
It is formed by repeatedly performing an operation of forming a thin film using Vapor Deposition), sputtering, etc., and applying etching by applying a photolithography technique, etc., but with the miniaturization and high integration of processing, The reduction of product yield due to the presence of fine organic substances or inorganic substances is a serious problem. Also, when bonding or painting a thin film on a solid surface,
The presence of organic stains on the interface also causes a problem of deterioration in adhesive strength.

【0003】そこで、固体表面への薄膜の形成に先立っ
て、有機物や無機物の汚れやパーティクルを取り除くた
めの洗浄操作や、表面の化学的或いは物理的組成を改質
して接着力を高める改質操作などが行なわれている。こ
れらの洗浄・改質処理としては、処理時に液体を使用す
るウェット処理と、被処理体表面が乾いた状態で処理を
施すドライ処理が知られており、特に、操作性が容易で
且つ装置も比較的小型であることから、紫外線を利用し
たドライ洗浄改質装置が注目を集めるようになってき
た。
Therefore, prior to the formation of a thin film on a solid surface, a cleaning operation for removing dirt and particles of an organic substance or an inorganic substance and a modification for improving the adhesive force by modifying the chemical or physical composition of the surface. Operations are being performed. As these cleaning / modifying treatments, a wet treatment that uses a liquid at the time of treatment and a dry treatment that performs treatment while the surface of the object to be treated are dry are known. Due to its relatively small size, a dry cleaning and reforming apparatus using ultraviolet rays has been attracting attention.

【0004】紫外線による洗浄及び改質原理は、短波長
の紫外線の持つ高いエネルギーにより、有機物の分子を
励起させてその結合を断つと共に紫外線照射により下記
式(1)、(2)、(3)のように発生したオゾン等に
よりこれを酸化させて表面改質したり、或いは汚れを除
去するようになっている。尚、無機物のパーティクルに
関しては、塩素等を併用する。 O2+h・ν1 → O+O (1) O2+O → O3 (2) O3+h・ν2 → O2+O (3) ここでhはプランク定数、ν1は波長が184.9nm
の紫外線、ν2は波長が253.7nmの紫外線を示
す。
The principle of cleaning and modification by ultraviolet rays is that the high energy of short-wavelength ultraviolet rays excites the molecules of an organic substance to break their bonds, and at the same time, the following formulas (1), (2) and (3) are applied by ultraviolet ray irradiation. As described above, ozone is generated to oxidize it to modify its surface or remove dirt. Note that chlorine or the like is used together with the inorganic particles. O 2 + h · ν 1 → O + O (1) O 2 + O → O 3 (2) O 3 + h · ν 2 → O 2 + O (3) where h is Planck's constant and ν 1 is wavelength 184.9 nm.
, Ν2 is an ultraviolet ray having a wavelength of 253.7 nm.

【0005】また、無機物に関しては、発生したオゾン
や酸素の活性種が無機物表面を酸化し、これにより、ぬ
れ性を向上させて薄膜との接着性を強めるようになって
いる。ここで、図11に基づいて従来の表面洗浄改質装
置について説明する。図示するように、この装置は光デ
ィスク基板、ガラス基板等の被処理体2を保持する載置
台4を有しており、この上方には高出力の水銀ランプ6
を配置して被処理体2に所定の波長、すなわち、オゾン
の発生と酵素の活性化に寄与する184.9nmと25
3.7nmの波長を主体とする紫外線を照射するように
なっている。
With respect to the inorganic substance, the generated active species of ozone and oxygen oxidize the surface of the inorganic substance, thereby improving the wettability and enhancing the adhesiveness to the thin film. Here, a conventional surface cleaning and reforming apparatus will be described with reference to FIG. As shown in the figure, this device has a mounting table 4 for holding an object to be processed 2 such as an optical disk substrate and a glass substrate, and a mercury lamp 6 of high output power is provided above the mounting table 4.
Of a predetermined wavelength, that is, 184.9 nm and 25, which contribute to the generation of ozone and the activation of the enzyme.
It is designed to irradiate ultraviolet rays mainly having a wavelength of 3.7 nm.

【0006】ところで、この水銀ランプとしては単位本
数当たりの紫外線量が非常に多いことから、低圧水銀の
熱陰極管を用いているが、この熱陰極管は、多量の電
力,例えば数100W程度の電力を消費して高熱を発す
る。上記した好ましい波長の紫外線を得、且つ被処理体
を適正な温度に維持するためには、ランプ温度はかなり
低く、例えば40℃〜60℃程度でなければならず、そ
のために、この水銀ランプの近傍には冷却ジャケット8
を設けて、ランプを所定の温度まで冷却するようになっ
ている。そして、水銀ランプ6の裏面側すなわち上方に
は反射板10を設けて、紫外線照射効率を高めている。
また、天井部のフード12には、内部雰囲気を排出する
排気ダクト14が設けられ、この途中には未反応のオゾ
ンを除去するオゾン分離器16を介設している。
By the way, since the mercury lamp has a very large amount of ultraviolet rays per unit number, a low-pressure mercury hot cathode tube is used. However, this hot cathode tube uses a large amount of electric power, for example, about several hundred W. It consumes power and emits high heat. In order to obtain the ultraviolet rays of the above-mentioned preferable wavelength and to maintain the object to be treated at an appropriate temperature, the lamp temperature must be considerably low, for example, about 40 ° C to 60 ° C. Cooling jacket 8 nearby
Is provided to cool the lamp to a predetermined temperature. Then, a reflection plate 10 is provided on the back surface side of the mercury lamp 6, that is, on the upper side, to enhance the ultraviolet irradiation efficiency.
Further, an exhaust duct 14 for exhausting the internal atmosphere is provided in the hood 12 on the ceiling, and an ozone separator 16 for removing unreacted ozone is provided in the middle of the exhaust duct 14.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したよ
うな従来装置にあっては、水銀ランプとして高熱を発す
る熱陰極管を用いたことから、これを冷却するために強
制的な冷却手段として例えば大がかりな水冷ジャケット
8を設けなければならず、装置自体が大型化するのみな
らず、コスト高を招来していた。また、水銀ランプと被
処理体2との間は、例えば紫外線の均一分布状態を考慮
して1cm程度と非常に小さく設定されるが、上述のよ
うに熱陰極管6の発熱量が多いことから、例えば樹脂等
のように熱の影響を受け易い材料よりなる被処理体を処
理する場合には熱管理が厳しくなり、最悪の場合には、
処理ができなくなってしまう場合も生ずるという問題も
あった。
By the way, in the above-mentioned conventional apparatus, since the hot cathode tube which emits high heat is used as the mercury lamp, as a forced cooling means for cooling the same, for example, A large-scale water cooling jacket 8 has to be provided, which not only increases the size of the apparatus itself, but also increases the cost. Further, the distance between the mercury lamp and the object to be processed 2 is set to be extremely small, for example, about 1 cm in consideration of the uniform distribution state of the ultraviolet rays, but since the hot cathode tube 6 generates a large amount of heat as described above. For example, when processing an object to be processed made of a material that is easily affected by heat such as resin, heat management becomes strict, and in the worst case,
There is also a problem that processing may not be possible.

【0008】更には、低圧水銀の熱陰極管自体の単価も
非常に高いため、この点よりもコスト高を招来してい
た。また、ランプから被処理体方向に対する紫外線の強
度分布はランプから離れるに従って略距離の2乗に比例
して弱くなることから、均一な処理を行なうためには被
処理体の処理面は略平面状態でなければならず、凹凸面
のあるもの或いは一定の凹凸形状に成型されたものに対
しては、均一処理が困難であった。
Further, since the unit cost of the low-pressure mercury hot cathode tube itself is very high, the cost is higher than this point. Further, since the intensity distribution of ultraviolet rays from the lamp toward the object to be processed weakens in proportion to the square of the distance as the distance from the lamp increases, the processed surface of the object to be processed is in a substantially flat state in order to perform uniform processing. However, it is difficult to perform uniform treatment on a product having an uneven surface or a product molded into a certain uneven shape.

【0009】この場合、水銀ランプ6を複数個並設して
面光源のように構成することにより、光源に近い一定の
距離範囲内での紫外線の強度分布を距離に関係なく一定
にすることも考えられるが、前述のように個々のランプ
の発熱量が大きいために隣設するランプ間の距離をかな
り大きく設定しなければならず、このため、紫外線の強
度分布にはムラが生じてしまい、適用することができな
い。本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有
効に解決するために創案されたものである。本発明の目
的は、発熱量が非常に少ない低圧水銀の冷陰極管を用い
て面光源化することにより、光の干渉を利用して紫外線
源からある一定の距離範囲内においては紫外線量の減衰
量がほとんど変わらない表面洗浄改質装置を提供するこ
とにある。
In this case, by arranging a plurality of mercury lamps 6 in parallel so as to form a surface light source, the intensity distribution of ultraviolet rays within a certain distance range close to the light source can be made constant regardless of the distance. Although it is conceivable, since the heat generation amount of each lamp is large as described above, it is necessary to set the distance between adjacent lamps to a considerably large value, which causes unevenness in the intensity distribution of ultraviolet rays, Not applicable. The present invention was devised in order to effectively solve the above problems. The object of the present invention is to reduce the amount of ultraviolet light within a certain distance range from an ultraviolet light source by utilizing the interference of light by making a surface light source using a cold cathode tube of low-pressure mercury, which has a very small amount of heat generation. An object of the present invention is to provide a surface cleaning reforming device whose amount is almost unchanged.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】従来、この種の洗浄改良
装置にあっては、大量のパワーを投入して一気に多量の
紫外線を発生させて処理するという観点から装置設計が
なされていたために、このような要求に応えるべく1本
で多量の紫外線を発する熱陰極管ランプを用いていた
が、本発明者は、紫外線による洗浄改質操作について鋭
意研究した結果、単位本数当たりの紫外線量は、熱陰極
管と比較して少ない冷陰極管でも多数本密集させて並設
すれば紫外線に関しては同程度の発生量を得ることがで
き、その上、面光源化できることから、光の干渉によ
り、例えば10mmから40mm程度の少ない距離範囲
内において光の減衰率を略変わらないようにして発光源
からの距離に依存しないで紫外線量を均一にすることが
できる、という知見を得ることにより本発明に至ったも
のである。
In the conventional cleaning and improving apparatus of this type, since the apparatus was designed from the viewpoint of applying a large amount of power and generating a large amount of ultraviolet rays at a stroke for processing, In order to meet such requirements, a hot cathode tube lamp that emits a large amount of ultraviolet rays with one lamp was used, but as a result of earnest research on a cleaning and reforming operation using ultraviolet rays, the present inventor found that the amount of ultraviolet rays per unit number was Even if the number of cold cathode tubes is smaller than that of hot cathode tubes, it is possible to obtain a similar amount of ultraviolet rays by arranging many cold cathode tubes closely and side by side. It was found that the amount of ultraviolet rays can be made uniform without depending on the distance from the light emitting source by keeping the light attenuation rate substantially unchanged within a small distance range of about 10 mm to 40 mm. Which has led to the present invention by Rukoto.

【0011】本発明は、上記問題点を解決するために、
被処理体の表面に水銀ランプから放出される紫外線を照
射してその表面の洗浄または改質を行なう表面洗浄改質
装置において、前記水銀ランプは、特定波長の紫外線を
主に放出する低圧水銀冷陰極管により構成する。
In order to solve the above problems, the present invention provides
In a surface cleaning and reforming apparatus for irradiating the surface of an object to be treated with ultraviolet rays emitted from a mercury lamp to clean or modify the surface, the mercury lamp is a low-pressure mercury-cooled type that mainly emits ultraviolet rays of a specific wavelength. It is composed of a cathode tube.

【0012】[0012]

【作用】本発明は以上のように構成したので、非常に狭
いピッチで複数本平行に配列することができることか
ら、擬似的に面光源として構成することができ、従っ
て、各冷陰極管からの光を干渉させて、例えば光源から
10mm〜40mm程度の範囲内において且つランプ配
列面と平行な面の略全面に渡って距離に関係なく紫外線
量を均一にすることが可能となり、凹凸形状の被処理体
に対しても、均一な表面処理が可能となる。更には、冷
陰極管は、従来装置にて用いていた熱陰極管と比較して
非常に発熱量が少ないことから、発熱に伴って発生して
いた諸問題を解決することができる。
Since the present invention is constructed as described above, a plurality of parallel light sources can be arranged at a very narrow pitch, so that it can be constructed as a pseudo surface light source. For example, it is possible to make the amount of ultraviolet rays uniform by making light interfere with each other regardless of the distance within a range of about 10 mm to 40 mm from the light source and over substantially the entire surface parallel to the lamp array surface. A uniform surface treatment can be performed on the treated body. Further, since the cold cathode tube has a very small amount of heat generation as compared with the hot cathode tube used in the conventional apparatus, it is possible to solve various problems caused by the heat generation.

【0013】[0013]

【実施例】以下に、本発明に係る表面洗浄改質装置の一
実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発明に
係る表面洗浄改質装置の一例を示す斜視図、図2は図1
に示す装置の断面図、図3は図1に示す装置の低圧水銀
冷陰極管の取付部分を示す部分破断斜視図、図4は図1
に示す装置の冷陰極管の配列を示す平面図、図5は図4
に示す部分の側面図、図6は反射板を示す概略平面図で
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the surface cleaning / modifying apparatus according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an example of a surface cleaning / modifying apparatus according to the present invention, and FIG.
1 is a sectional view of the apparatus shown in FIG. 3, FIG. 3 is a partially cutaway perspective view showing a mounting portion of the low-pressure mercury cold cathode tube of the apparatus shown in FIG. 1, and FIG.
4 is a plan view showing the arrangement of cold cathode tubes of the apparatus shown in FIG.
FIG. 6 is a side view of the portion shown in FIG. 6, and FIG. 6 is a schematic plan view showing the reflector.

【0014】図示するようにこの表面洗浄改質装置18
は、装置の外部を形成する筐体20と、例えば光ディス
ク基板、ガラス基板等の被処理体2を載置する載置台2
2と、これに特定波長の紫外線を照射する水銀ランプ2
4とにより主に構成されている。具体的には、筐体20
は、対向させて配置した2枚のステンレススチール製の
プレート20Aを含み、この上部には、水銀ランプ24
を収容して保持するランプ収容部26が設けられている
と共に、その下方には載置台保持板28が設定されてい
る。従って、2枚のプレート20Aとランプ収容部26
と、載置台保持板28とにより区画される空間が処理空
間Sとして構成される。また上記プレート20Aの下端
部は、直角に屈曲されてここにラバー等の弾性部材30
を設けて装置全体を支える脚部32が構成される。
As shown in the figure, this surface cleaning and reforming device 18
Is a housing 20 that forms the outside of the apparatus, and a mounting table 2 on which a target object 2 such as an optical disk substrate or a glass substrate is mounted.
2 and a mercury lamp that irradiates it with ultraviolet light of a specific wavelength 2
It is mainly composed of 4. Specifically, the housing 20
Includes two stainless steel plates 20A placed opposite each other, with a mercury lamp 24
A lamp accommodating portion 26 for accommodating and holding the lamp is provided, and a mounting table holding plate 28 is set below the lamp accommodating portion 26. Therefore, the two plates 20A and the lamp housing portion 26 are
And a space defined by the mounting table holding plate 28 is configured as a processing space S. Further, the lower end of the plate 20A is bent at a right angle, and an elastic member 30 such as rubber is provided there.
Is provided to support the entire apparatus.

【0015】上記載置台22は、被処理体2を載置保持
するに十分な大きさの例えば円板として形成され、材料
としては例えばステンレススチール等が用いられる。こ
の載置台22の形状は、円板に限定されず、被処理体の
形状に合わせてどのような形状でもよく、例えば4角形
のLCD基板を処理する場合には、それに対応させて載
置台22も4角形状に成形すればよい。この載置台22
の下面中心には回転軸34が設けられ、この回転軸34
は、上記載置台保持板28に軸受36を介して回転可能
に設けられる。そして、この回転軸34の下端を回転モ
ータ38に連結して載置台32を回転し得るようになっ
ている。
The mounting table 22 is formed as, for example, a disk having a size sufficient for mounting and holding the object 2 to be processed, and the material thereof is, for example, stainless steel. The shape of the mounting table 22 is not limited to a disk, and may be any shape according to the shape of the object to be processed. For example, when processing a rectangular LCD substrate, the mounting table 22 is correspondingly formed. Also, it may be formed in a square shape. This table 22
A rotary shaft 34 is provided at the center of the lower surface of the rotary shaft 34.
Is rotatably provided on the table holding plate 28 via a bearing 36. The lower end of the rotary shaft 34 is connected to the rotary motor 38 so that the mounting table 32 can be rotated.

【0016】載置台保持板28のプレート側端部には、
摺動部40が設けられ、この摺動部40は、プレート2
0Aの内側に設けた案内レール42上に摺動可能に保持
させており、載置台保持板28をスライドさせて被処理
体2を外部から搬入・搬出可能としている。スライド機
構はこのような構成に限定されず、コロ部材を用いたり
他の機構を用いるようにしてもよい。また、この載置台
保持板28のスライド方向の両端部には、上記処理空間
Sを区画するための区画壁44が起立させて設けられて
いる。尚、図1においては、反対側の区画壁は示されて
いない。
At the plate side end of the mounting table holding plate 28,
A sliding portion 40 is provided, and the sliding portion 40 is provided on the plate 2
It is slidably held on a guide rail 42 provided inside 0A, and the object 2 can be carried in and out from the outside by sliding the mounting table holding plate 28. The slide mechanism is not limited to such a configuration, and a roller member or another mechanism may be used. Further, partition walls 44 for partitioning the processing space S are provided upright at both ends of the mounting table holding plate 28 in the sliding direction. In FIG. 1, the partition wall on the opposite side is not shown.

【0017】筐体20を形成する2枚のプレート20A
の上端とランプ収容部26の取付部には、断面矩形状の
外気取込フード46が形成され、このフード46の下部
には外気取込口48が形成されると共にプレート20A
側には流入孔50がフード46に沿って多数形成されて
おり、処理空間S内に外気を取り込むことができるよう
になっている。
Two plates 20A forming the housing 20
An outer air intake hood 46 having a rectangular cross section is formed at an upper end of the lamp and the mounting portion of the lamp housing portion 26, and an outer air intake port 48 is formed at a lower portion of the hood 46 and the plate 20A.
A large number of inflow holes 50 are formed along the hood 46 on the side so that outside air can be taken into the processing space S.

【0018】一方、ランプ収容部26は、例えばステン
レススチール等により略箱状に成型されており、上記載
置台22から所定の距離L1だけ隔てて、上記水銀ラン
プ24が設けられる。この水銀ランプ24としては、従
来装置で用いた高熱を発する熱陰極管を用いず、発熱量
が非常に少ない低圧水銀冷陰極管を用いる。
On the other hand, the lamp accommodating portion 26 is formed of, for example, stainless steel into a substantially box shape, and the mercury lamp 24 is provided at a predetermined distance L1 from the mounting table 22. As the mercury lamp 24, a low-pressure mercury cold cathode tube, which has a very small calorific value, is used instead of the hot cathode tube that emits high heat used in the conventional apparatus.

【0019】冷陰極管よりなるこの水銀ランプ24は、
図4及び図5にも示すように載置台24の載置面と平行
となる面に沿って所定のピッチL2でもって多数本配列
されており、例えば300mm×300mm程度のエリ
アに対して直径6mm程度の冷陰極管24を10mm程
度のピッチL2でもって30本程度、集合的に配列し
て、いわゆる面光源を構成している。ここで、所定のピ
ッチとは、配列された各冷陰極管24からの光は相互に
干渉して、この管の配列面と直交する方向にて略10m
mから40mmの範囲内において、且つこの配列面と平
行な面の略全面に渡って略均一な紫外線量となるよなピ
ッチをいう。すなわち、ここで規定される空間エリアに
おいては、光源からの距離が変化しても光の減衰率はほ
とんど変化しなくなり、従って、上述のように紫外線量
が略均一になる。この場合、冷陰極管24の1本当たり
の消費電力は、約7〜9W程度と非常に低いことから発
熱量が低く、そのために上述のように非常に狭いッチL
2で配列しても熱に起因する問題がほとんど生ずること
がない。また、冷陰極管24は、洗浄・改質に有用な波
長184.9nmと253.7nmの紫外線を熱陰極管
と比較して略同等に効率的に放出し且つ他の波長の紫外
線をあまり放出しないので良好な洗浄・改質処理が可能
となる。
The mercury lamp 24, which is a cold cathode fluorescent lamp,
As shown in FIGS. 4 and 5, a large number are arranged at a predetermined pitch L2 along a surface parallel to the mounting surface of the mounting table 24. For example, a diameter of 6 mm for an area of about 300 mm × 300 mm. About 30 cold cathode tubes 24 are collectively arranged with a pitch L2 of about 10 mm to form a so-called surface light source. Here, the predetermined pitch means that the lights from the arranged cold cathode tubes 24 interfere with each other and are approximately 10 m in the direction orthogonal to the arrangement surface of the tubes.
It is a pitch within a range of m to 40 mm and which provides a substantially uniform amount of ultraviolet rays over substantially the entire surface parallel to the array surface. That is, in the space area defined here, the attenuation rate of light hardly changes even if the distance from the light source changes, so that the amount of ultraviolet rays becomes substantially uniform as described above. In this case, since the power consumption per cold cathode tube 24 is as low as about 7 to 9 W, the calorific value is low, and as a result, the switch L is very narrow as described above.
Even if they are arranged in two, problems due to heat hardly occur. In addition, the cold cathode tube 24 efficiently emits ultraviolet rays having wavelengths of 184.9 nm and 253.7 nm, which are useful for cleaning and reforming, substantially equally as compared with the hot cathode tube, and emits ultraviolet rays of other wavelengths much. Since this is not done, good cleaning and modification treatments are possible.

【0020】また、載置台22と冷陰極管24との間の
距離L1は、例えば40mm程度に設定されている。こ
の理由は、上述したように擬似的な面光源を形成し得る
ように冷陰極管24を配列することにより、光の干渉に
よりこの管より10mm〜40mmの範囲内で、しかも
配列面と平行な面に対して略全面に渡って、距離に関係
なく紫外線量が略一定となる空間領域を形成し得るから
である。また、このように光源からの距離に関係なくあ
る距離範囲内で紫外線量が均一な領域を形成し得るなら
ば、上記管ピッチL2を適宜増減してもよい。
The distance L1 between the mounting table 22 and the cold cathode tubes 24 is set to about 40 mm, for example. The reason for this is that, by arranging the cold cathode tubes 24 so as to form a pseudo surface light source as described above, light interference causes a range of 10 mm to 40 mm from the tubes and is parallel to the array surface. This is because it is possible to form a spatial region in which the amount of ultraviolet rays is substantially constant regardless of the distance over substantially the entire surface. Further, the tube pitch L2 may be appropriately increased or decreased as long as a region where the amount of ultraviolet rays is uniform can be formed within a certain distance range regardless of the distance from the light source.

【0021】多数配列された冷陰極管24の直上近傍に
は、冷陰極管24より放射された紫外線を下方向の載置
台22側に向けて反射する反射板52が略全面に亘って
設けられており、効率的な照射を可能としている。この
反射板52は、酸化し難い材料、例えばステンレススチ
ール等により形成される。また、冷陰極管24の両端を
支持するソケット部54側には断面矩形の排気ダクト5
8が設けられ、このダクト58には処理空間S内の雰囲
気を排気してここに上昇流を生ぜしめるファン機構56
が設けられる。
A reflection plate 52 for reflecting the ultraviolet rays emitted from the cold cathode tubes 24 toward the mounting table 22 side in the downward direction is provided over almost the entire surface immediately above the arranged cold cathode tubes 24. It enables efficient irradiation. The reflector 52 is formed of a material that is difficult to oxidize, such as stainless steel. In addition, the exhaust duct 5 having a rectangular cross section is provided on the socket portion 54 side that supports both ends of the cold cathode fluorescent lamp 24.
8 is provided, and a fan mechanism 56 for exhausting the atmosphere in the processing space S to generate an upward flow in the duct 58.
Is provided.

【0022】図6は上記反射板52を示す平面図である
が、図示例のように反射板52には多数の通気孔60が
形成されている。この場合、通気孔60は、反射板52
の前面に亘って均一に設けてもよいが、図示例のように
冷陰極管24の両端部に対応する部分と、管24の長手
方向の中心部分とに偏在させて通気孔60を設けること
により、冷陰極管24のフィラメント部分で発生する熱
を効率良く排出でき、しかも処理空間S内の雰囲気を略
均等に上方向に向かわせるせることが可能となる。尚、
図示例では、反射板52の中心部分及び端部の通気孔6
0の配列をそれぞれ4列の場合と2列の場合を示してい
るが、これは一例を示しているにすぎず、この配列数は
適宜選択できるのは勿論である。
FIG. 6 is a plan view showing the reflection plate 52. As shown in the drawing, the reflection plate 52 has a large number of ventilation holes 60 formed therein. In this case, the ventilation hole 60 is formed by the reflection plate 52.
Although it may be uniformly provided over the front surface of the cold cathode tube 24, the vent holes 60 are provided so as to be unevenly distributed between the portions corresponding to both ends of the cold cathode tube 24 and the central portion in the longitudinal direction of the tube 24 as illustrated. As a result, the heat generated in the filament portion of the cold cathode tube 24 can be efficiently discharged, and moreover, the atmosphere in the processing space S can be directed substantially uniformly upward. still,
In the illustrated example, the vent holes 6 in the central portion and the end portion of the reflector 52 are shown.
The case where the array of 0s is arranged in 4 columns and the case where it is arranged in 2 columns is shown, but this is only an example, and it goes without saying that the number of arrays can be appropriately selected.

【0023】ランプ収容部26の両側に設けた排気ダク
ト58には、これと反射板52の上方の空間を連通する
ための多数の連通孔62が形成されており、このダクト
58の後端側にはダクト出口64が設けられる。そし
て、このダクト出口64の近傍に、回転ファンよりなる
ファン機構56を設けて、内部雰囲気を装置外へ排出す
るようになっている。また、排気ダクト58の側部に
は、図5に示すように装置本体に電源を供給するプラグ
を接続するためのコネクタ59が設けられる。尚、図1
に示すようにこの装置本体の側部には、装置本体側で必
要とされる各種の電力を供給するための電源部66が配
置されている。
The exhaust duct 58 provided on both sides of the lamp accommodating portion 26 is formed with a large number of communicating holes 62 for communicating the space above the reflecting plate 52 with the exhaust duct 58, and the rear end side of the duct 58. A duct outlet 64 is provided in the. A fan mechanism 56 composed of a rotary fan is provided near the duct outlet 64 to exhaust the internal atmosphere to the outside of the apparatus. Further, a connector 59 for connecting a plug for supplying power to the apparatus main body is provided on the side of the exhaust duct 58, as shown in FIG. FIG.
As shown in FIG. 3, a power source unit 66 for supplying various kinds of electric power required on the apparatus body side is arranged on the side portion of the apparatus body.

【0024】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、光ディスク基板、ガラス
基板等の被処理体2を載置台22上に載置保持させた状
態で、これを処理空間S内に搬入し、この表面の洗浄或
いは改質処理を開始する。すなわち、載置台22を回転
させることにより被処理体2を回転させつつ冷陰極管2
4を点灯させ、これと同時に外気取込フード46から処
理空間S内に外気(O2)を取り込んで内部で上昇流を
生ぜしめ、これを排気ダクト58から装置外へ排出す
る。
Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described. First, in a state where the object 2 to be processed such as an optical disk substrate and a glass substrate is placed and held on the mounting table 22, this is loaded into the processing space S, and the cleaning or modification processing of this surface is started. That is, by rotating the mounting table 22, the object 2 to be processed is rotated and the cold cathode tube 2 is rotated.
4 is turned on, and at the same time, outside air (O 2 ) is taken into the processing space S from the outside air intake hood 46 to generate an ascending flow inside, and this is discharged from the exhaust duct 58 to the outside of the apparatus.

【0025】さて、前述のように特定波長(184.9
nm、253.7nm)の紫外線を処理空間S及び被処
理体2の表面に照射することにより、オゾン及び活性種
が生じ、被処理体2の表面の有機物の汚れが分解除去さ
れて洗浄されたり或いは表面処理の場合には、有機物分
子の連結が切断されたりして改質が行なわれる。また、
被処理体2が金属材料の場合には、表面に金属酸化物が
形成されたりして、改質が行なわれる。
Now, as described above, the specific wavelength (184.9)
(25 nm, 253.7 nm) is applied to the surface of the processing space S and the object 2 to be treated, ozone and active species are generated, and organic contaminants on the surface of the object 2 are decomposed and removed for cleaning. Alternatively, in the case of surface treatment, modification is performed by breaking the linkage of organic molecules. Also,
When the object 2 to be processed is a metal material, a metal oxide is formed on the surface of the object 2 for modification.

【0026】ここで、本発明においては、発熱量の非常
に少ない冷陰極管24を多数密集させて配列させること
より面光源化しているので、各冷陰極管からの光が相互
に干渉し、その結果、光源より10〜40mmの範囲内
では紫外線の距離減衰がほとんどなく、この距離範囲内
においては紫外線量が略一定となる。図9は紫外線量が
略均一となる領域を模式的に示しており、図中斜線部分
の紫外線量が略均一をなる。従って、被処理体2の表面
に上記距離範囲内で凹凸が存在したとしても、均一な洗
浄及び改質処理ができ、処理の面内均一性を高めること
ができる。従って、従来装置にあっては、例えば、立方
体状のものや、表面に凹凸があって高さに差があるもの
は、表面均質処理ができなかったが、本発明によれば、
上記した一定の範囲内で高さに差があっても上述のよう
に均一な表面処理ができることから成型後でも被処理体
に均一な表面処理を施すことができる。
Here, in the present invention, since a large number of cold cathode tubes 24 having a very small amount of heat generation are arranged densely to form a surface light source, the lights from the cold cathode tubes interfere with each other, As a result, there is almost no distance attenuation of ultraviolet rays within a range of 10 to 40 mm from the light source, and the amount of ultraviolet rays becomes substantially constant within this distance range. FIG. 9 schematically shows a region where the amount of ultraviolet rays is substantially uniform, and the amount of ultraviolet rays in the shaded area in the figure is substantially uniform. Therefore, even if the surface of the object to be processed 2 has irregularities within the above distance range, uniform cleaning and modification treatment can be performed, and the in-plane uniformity of the treatment can be improved. Therefore, in the conventional device, for example, a cube-shaped device or a device having unevenness on the surface and a difference in height could not be subjected to surface homogenization treatment, but according to the present invention,
Even if there is a difference in height within the above-mentioned certain range, the uniform surface treatment can be performed as described above, so that the object to be treated can be uniformly surface-treated even after molding.

【0027】また、冷陰極管24の発熱量が少ないこと
から、ファン機構56による空冷程度で冷陰極管24
を、有効波長の紫外線を放出する40℃程度まで冷却す
ることができるのみならず、被処理体が過度に加熱され
ることも防止でき、従来必要とされた大がかりな且つ高
価な冷却ジャケット等をなくすことができる。更には、
長寿命で安価で且つ電力消費の少ない冷陰極管24を用
いたことから、消電力化及び低コスト化に寄与すること
が可能となる。図7は本発明装置を用いて実際に表面改
質を行なった時の接触角(ぬれ性)を示すグラフである
が、アクリル樹脂(△印)及びガラス(×印)ともに改
質時間が増す程、接触角が低下しており、良好な結果を
示していることが判明した。
Further, since the amount of heat generated by the cold cathode fluorescent lamp 24 is small, the cold cathode fluorescent lamp 24 can be air-cooled by the fan mechanism 56.
Can be cooled to about 40 ° C., which emits an ultraviolet ray having an effective wavelength, and can prevent excessive heating of the object to be processed, so that a large and expensive cooling jacket conventionally required can be provided. It can be lost. Furthermore,
Since the cold cathode tube 24, which has a long life, is inexpensive, and consumes less power, is used, it is possible to contribute to power consumption reduction and cost reduction. FIG. 7 is a graph showing the contact angle (wettability) when the surface is actually modified using the device of the present invention, but the modification time increases for both acrylic resin (marked with Δ) and glass (marked with ×). It was found that the better the result, the lower the contact angle.

【0028】表1は、ファン機構駆動時における光源か
らの距離と紫外線(253.7nm)の照度との関係を
示している。測定箇所は載置面のセンタである。この表
1から明らかなように、距離が10mmから40mmの
範囲内では、紫外線量に殆ど差がなく、均一線量である
ことが判明した、尚、距離が10mmよりも近すぎる時
には紫外線量は急激に多くなり、逆に40mmを超えて
大きくなると紫外線量は急激に低下して好ましくない。 また、図10は上記表1において、光源距離が30mm
の時の載置面状の5箇所の照度を測定した結果である。
この時の構成は、冷陰極管を10mmのピッチで30本
配列してあり、又、載置台は円形のものを使用した。さ
らに、測定時には、ファンを駆動して冷却を行ってい
る。図から明らかなように、中心部P1の照度は11.
4mW/cm2 であり、図中上下端の周縁部P1,P3
においては、それぞれ11.8mW/cm2 ,11.4
mW/cm2 となり、図中左右端部より30mm内側部
分P4,P5においては、それぞれ10.8mW/cm
2 ,10.9mW/cm2 となり,全面に渡って紫外線
量にほとんど差がないことが判明した。尚、上記実施例
においては、電源部66を装置本体と別体に設け、且つ
ファン機構56も側部に設けた場合について説明した
が、これに限定されず、例えば図8に示すように構成し
てもよい。この図示例の装置においては、電源部66を
装置本体の下部に組み込み、且つファン機構56を装置
本体の直上に1つだけ設けている。この場合には、処理
空間内の雰囲気は均等に上方へ吸引されることから、反
射板52の通気孔60は全面に亘って均一に形成され、
且つ上昇流の均一性を確保するために2枚の反射板52
を上下に配置して設けている。
Table 1 shows the relationship between the distance from the light source and the illuminance of ultraviolet rays (253.7 nm) when the fan mechanism is driven. The measurement point is the center of the mounting surface. As is clear from Table 1, it was found that there was almost no difference in the amount of ultraviolet rays within the range of 10 mm to 40 mm, and that the dose was uniform, but when the distance was too close to 10 mm, the amount of ultraviolet rays increased rapidly. If it exceeds 40 mm, on the contrary, the amount of ultraviolet rays sharply decreases, which is not preferable. Further, FIG. 10 shows that in Table 1 above, the light source distance is 30 mm.
It is the result of measuring the illuminance at five places on the mounting surface at the time.
The configuration at this time was such that 30 cold cathode tubes were arranged at a pitch of 10 mm and the mounting table was circular. Further, at the time of measurement, a fan is driven for cooling. As is apparent from the figure, the illuminance of the central portion P1 is 11.
4 mW / cm 2 and peripheral portions P1 and P3 at the upper and lower ends in the figure
At 11.8 mW / cm 2 , 11.4
mW / cm 2 , which is 10.8 mW / cm at the inner portions P4 and P5 30 mm from the left and right ends in the figure.
It was 2 , 10.9 mW / cm 2 , and it was found that there was almost no difference in the amount of ultraviolet light over the entire surface. In the above embodiment, the case where the power supply unit 66 is provided separately from the apparatus main body and the fan mechanism 56 is also provided on the side part has been described, but the present invention is not limited to this, and is configured as shown in FIG. 8, for example. You may. In the illustrated apparatus, the power supply unit 66 is incorporated in the lower portion of the apparatus body, and only one fan mechanism 56 is provided directly above the apparatus body. In this case, since the atmosphere in the processing space is uniformly sucked upward, the ventilation holes 60 of the reflection plate 52 are formed uniformly over the entire surface,
In addition, in order to ensure the uniformity of the ascending flow, two reflecting plates 52 are provided.
Are arranged vertically.

【0029】また上記実施例では、載置台22は、スラ
イド可能な載置台保持板28に回転可能に設けられる
が、量産性を発揮させるために、この載置台22として
例えばベルトコンベア等を用いるようにしてもよい。更
には、この実施例では、処理空間S内に空気を取り入れ
るようにしたが、この空気として清浄度の高い清浄空気
や純粋酸素を導入するようにしてもよい。
Further, in the above embodiment, the mounting table 22 is rotatably provided on the slidable mounting table holding plate 28, but in order to achieve mass productivity, for example, a belt conveyor or the like may be used as the mounting table 22. You may Further, in this embodiment, air is introduced into the processing space S, but clean air having high cleanliness or pure oxygen may be introduced as this air.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の表面洗浄
改質装置によれば、次のように優れた作用効果を発揮す
ることができる。紫外線発生源の水銀ランプとして安価
で且つ寿命の長い冷陰極管を用いるようにしたので、冷
却のために冷却ジャケット等の大がかりな冷却機構を用
いなくて済み、装置の小型化及び低コスト化を大幅に推
進することができる。また、電力消費量が少なくて済む
のでランニングコストも削減することができる。更に
は、発熱量の小さな冷陰極管を複数個接近させて並設す
ることにより、面光源化して、各冷陰極管からの光を干
渉させることができることから、光源から所定の距離の
範囲内において且つ配列面と平行な面に略全面に渡って
紫外線の距離減衰を略なくして均一線量とすることがで
きる。従って、表面に凹凸がある被処理体に対しても均
一な洗浄及び改質処理を施すことができ、例えば成型後
の表面に凹凸のある被処理体に対しても均一な表面処理
を施すことができ、製造工程の設計の自由度を増すこと
ができる。
As described above, according to the surface cleaning / modifying apparatus of the present invention, the following excellent operational effects can be exhibited. Since a cold cathode tube that is inexpensive and has a long life is used as a mercury lamp as an ultraviolet ray source, it is not necessary to use a large cooling mechanism such as a cooling jacket for cooling, and downsizing and cost reduction of the device can be achieved. Can be significantly promoted. Further, since the power consumption is small, the running cost can be reduced. Furthermore, by arranging multiple cold-cathode tubes with a small amount of heat generation in close proximity to each other, it becomes a surface light source and the light from each cold-cathode tube can be made to interfere with each other. Therefore, within a predetermined distance from the light source. In addition, it is possible to obtain a uniform dose by substantially eliminating the distance attenuation of ultraviolet rays over substantially the entire surface parallel to the array surface. Therefore, it is possible to perform uniform cleaning and modification treatment even on an object having an uneven surface, for example, performing uniform surface treatment on an object having an uneven surface after molding. Therefore, the degree of freedom in designing the manufacturing process can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る表面洗浄改質装置の一例を示す斜
視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a surface cleaning / modifying apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示す装置の断面図である。2 is a cross-sectional view of the device shown in FIG.

【図3】図1に示す装置の低圧水銀冷陰極管の取付部分
を示す部分破断斜視図である。
3 is a partially cutaway perspective view showing a mounting portion of a low-pressure mercury cold cathode tube of the apparatus shown in FIG.

【図4】図1に示す装置の冷陰極管の配列を示す平面図
である。
FIG. 4 is a plan view showing an arrangement of cold cathode tubes of the apparatus shown in FIG.

【図5】図4に示す部分の側面図である。5 is a side view of the portion shown in FIG. 4. FIG.

【図6】反射板を示す概略平面図である。FIG. 6 is a schematic plan view showing a reflector.

【図7】表面改質時間と接触角との関係を示すグラフで
ある。
FIG. 7 is a graph showing the relationship between surface modification time and contact angle.

【図8】本発明装置の他の実施例を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing another embodiment of the device of the present invention.

【図9】紫外線量が略均一となる領域を模式的に示す図
である。
FIG. 9 is a diagram schematically showing a region where the amount of ultraviolet rays is substantially uniform.

【図10】光源距離が30mmの時の載置面の紫外線照
度を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an ultraviolet illuminance on a mounting surface when a light source distance is 30 mm.

【図11】従来の表面洗浄改質装置を示す概略構成図で
ある。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing a conventional surface cleaning / modifying apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被処理体 18 表面洗浄改質装置 20 筐体 22 載置台 24 水銀ランプ(低圧水銀冷陰極管) 26 ランプ収容部 28 載置台保持板 46 外気取込フード 52 反射板 56 ファン機構 58 排気ダクト L1 所定のピッチ S 処理空間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Object to be treated 18 Surface cleaning and reforming apparatus 20 Housing 22 Mounting table 24 Mercury lamp (low-pressure mercury cold cathode tube) 26 Lamp housing section 28 Mounting table holding plate 46 Outside air intake hood 52 Reflector plate 56 Fan mechanism 58 Exhaust duct L1 Predetermined pitch S processing space

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被処理体の表面に水銀ランプから放出さ
れる紫外線を照射してその表面の洗浄または改質を行な
う表面洗浄改質装置において、前記水銀ランプは、特定
波長の紫外線を主に放出する低圧水銀冷陰極管であるこ
とを特徴とする表面洗浄改質装置。
1. A surface cleaning / modifying apparatus for irradiating the surface of an object to be processed with ultraviolet rays emitted from a mercury lamp to clean or modify the surface, wherein the mercury lamp mainly emits ultraviolet rays of a specific wavelength. A surface cleaning and reforming device, which is a low-pressure mercury cold cathode tube for discharging.
【請求項2】 前記低圧水銀冷陰極管は、前記載置台の
載置面に平行な面に沿って所定のピッチで複数個配列さ
れることを特徴とする請求項1記載の表面洗浄改質装
置。
2. The surface cleaning reforming according to claim 1, wherein a plurality of the low-pressure mercury cold cathode tubes are arranged at a predetermined pitch along a surface parallel to the mounting surface of the mounting table. apparatus.
【請求項3】 前記所定のピッチは、前記冷陰極管の配
列面と直交する方向において略10mmから40mmの
範囲内において且つ前記配列面と平行な面の略全面に渡
って光の干渉により略均一な紫外線量となるようなピッ
チであることを特徴とする請求項1または2記載の表面
洗浄改質装置。
3. The predetermined pitch is substantially within a range of approximately 10 mm to 40 mm in a direction orthogonal to the array surface of the cold cathode tubes and substantially due to light interference over substantially the entire surface parallel to the array surface. The surface cleaning / modifying apparatus according to claim 1 or 2, wherein the pitch is such that a uniform amount of ultraviolet rays is obtained.
【請求項4】 被処理体の表面に紫外線を照射してその
表面の洗浄または改質を行なう表面洗浄改質装置におい
て、前記被処理体を載置する載置台と、この載置台を被
って処理室間を形成する筐体と、前記載置台と対向して
配置された、特定波長の紫外線を主に放出する低圧水銀
冷陰極管と、前記処理室間の雰囲気を移動させるファン
機構とを備えるように構成したことを特徴とする表面洗
浄改質装置。
4. A surface cleaning / modifying apparatus for irradiating a surface of an object to be treated with ultraviolet rays to clean or modify the surface, the mounting table on which the object to be processed is mounted, and the mounting table. A case forming a space between the processing chambers, a low-pressure mercury cold cathode tube which is arranged to face the mounting table and mainly emits ultraviolet rays of a specific wavelength, and a fan mechanism for moving the atmosphere between the processing chambers. A surface cleaning and reforming apparatus, characterized in that it is configured to include.
【請求項5】 前記低圧水銀冷陰極管は、前記載置台の
載置面に平行な面に沿って所定のピッチで複数個配列さ
れることを特徴とする請求項4記載の表面洗浄改質装
置。
5. The surface cleaning reforming according to claim 4, wherein a plurality of the low-pressure mercury cold cathode tubes are arranged at a predetermined pitch along a surface parallel to the mounting surface of the mounting table. apparatus.
【請求項6】 前記低圧水銀冷陰極管の近傍には紫外線
を反射する反射板を設けたことを特徴とする請求項4ま
たは5記載の表面洗浄改質装置。
6. The surface cleaning and reforming apparatus according to claim 4, further comprising a reflecting plate that reflects ultraviolet rays near the low-pressure mercury cold cathode fluorescent lamp.
【請求項7】 前記載置台は、回転移動または、及びス
ライド移動可能に設けられることを特徴とする請求項4
乃至6記載の表面洗浄改質装置。
7. The mounting table is provided so as to be rotatable or slidably movable.
7. The surface cleaning / modifying apparatus according to any one of 6 to 6.
【請求項8】 前記所定のピッチは、前記冷陰極管の配
列面と直交する方向において略10mm〜40mmの範
囲内において且つ前記配列面と平行な面の略全面に渡っ
て、光の干渉により略均一な紫外線量となるようなピッ
チであることを特徴とする請求項5乃至7記載の表面洗
浄改質装置。
8. The predetermined pitch is within a range of approximately 10 mm to 40 mm in a direction orthogonal to the array surface of the cold cathode tubes and over substantially the entire surface parallel to the array surface due to light interference. 8. The surface cleaning / modifying apparatus according to claim 5, wherein the pitch is such that the amount of ultraviolet rays is substantially uniform.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003086570A (en) * 2001-09-13 2003-03-20 Fujitsu Amd Semiconductor Kk Ultraviolet-ray irradiation apparatus

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