JPH08222477A - Polyethylene naphthalate film for capacitor - Google Patents

Polyethylene naphthalate film for capacitor

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JPH08222477A
JPH08222477A JP2182095A JP2182095A JPH08222477A JP H08222477 A JPH08222477 A JP H08222477A JP 2182095 A JP2182095 A JP 2182095A JP 2182095 A JP2182095 A JP 2182095A JP H08222477 A JPH08222477 A JP H08222477A
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JP
Japan
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film
polyethylene naphthalate
capacitor
dielectric breakdown
shrinkage rate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2182095A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoaki Ueda
智昭 上田
Seizo Aoki
精三 青木
Takashi Ueda
隆司 上田
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH08222477A publication Critical patent/JPH08222477A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To enable a polyethylene naphthalate film used for a capacitor to be enhanced in dielectric breakdown strength and set stable in dielectric characteristics by a method wherein the film is set higher than a prescribed value in fracture strength in both a longitudinal and a lateral direction and to be in a prescribed range of thermal shrinkage rate at a prescribed temperature for a prescribed time along its lengthwise direction. CONSTITUTION: A film is above 25kg/mm<2> in fracture strength in both a longitudinal and a lateral direction and set 3 to 15% in lengthwise thermal shrinkage rate at a temperature of 200 deg.C for 10 minutes. The polyethylene naphthalate film is mainly composed of two units of ethylene and six units of naphthalate. If the film is below 25kg/mm<2> in fracture strength in both a longitudinal and a lateral direction, it deteriorates in dielectric breakdown strength. If the film is less than 3% in lengthwise thermal shrinkage rate at a temperature of 200 deg.C for 10 minutes, it deteriorates in dielectric breakdown strength when it is rolled up or laminated into a capacitor. If the film is more than 15% in lengthwise thermal shrinkage rate at a temperature of 200 deg.C for 10 minutes, it deteriorates also in dielectric breakdown strength the same as above. It is preferable that the film is set 4 to 10% in thermal shrinkage rate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、コンデンサー用ポリエ
チレンナフタレートフィルムに関する。更に詳しくは、
チップ実装可能な耐熱性、電気特性に優れたコンデンサ
ー用ポリエチレンナフタレートフィルムに関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a polyethylene naphthalate film for capacitors. For more details,
The present invention relates to a polyethylene naphthalate film for capacitors, which can be mounted on a chip and has excellent heat resistance and electrical characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】フィルムコンデンサーは、一般に二軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸配向ポリ
プロピレンフィルム等のフィルムとアルミニウム箔等の
金属箔膜とを重ね合わせて巻回する方法や、あるいは前
記フィルムの表面にアルミニウム、亜鉛等の蒸着膜を形
成させた後に巻回したり積層する方法により製造されて
いる。
2. Description of the Related Art A film capacitor is generally manufactured by stacking a film such as a biaxially oriented polyethylene terephthalate film or a biaxially oriented polypropylene film on a metal foil film such as an aluminum foil and winding the film, or by winding the film on the surface of the film. It is manufactured by a method of forming a vapor-deposited film of aluminum, zinc or the like and then winding or laminating it.

【0003】最近では、電気あるいは電子回路の小型化
要求に伴い、コンデンサーについてもその小型化や実装
可能化が押し進められており、耐熱性向上や薄物化が進
められている。また薄物化に対応するためにはフィルム
のヤング率向上が加工性向上のために必要であり、耐熱
性、高ヤング率の薄物フィルムが求められている。
Recently, with the demand for miniaturization of electric or electronic circuits, miniaturization and mounting of capacitors have been promoted, and improvement of heat resistance and thinning have been promoted. Further, in order to cope with thinning, it is necessary to improve the Young's modulus of the film in order to improve the processability, and a thin film having heat resistance and a high Young's modulus is required.

【0004】この目的に適合するコンデンサー用フィル
ムとして、例えば、特開昭62ー60214号公報、特
開昭62ー136013号公報、特開昭63ー1405
12号公報、特開平4ー255208号公報で二軸配向
ポリエチレンナフタレートフィルムが提案されている。
Films for capacitors which meet this purpose include, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-60214, 62-136013, and 63-1405.
A biaxially oriented polyethylene naphthalate film is proposed in Japanese Patent Application Laid-open No. 12 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-255208.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ポリエチレンナフタレ
ートフィルムは汎用されているポリエチレンテレフタレ
ートフィルムに近い電気特性を有しながら比較的高いガ
ラス転移温度を有しているためにポリエチレンテレフタ
レートフィルムコンデンサーの使用温度範囲を広げるも
のとして期待されている。また、ヤング率も高いために
薄物化に適するフィルムとしてこの観点からの検討がな
されている。しかし、コンデンサー用フィルムとして使
用するには、絶縁破壊電圧の向上や誘電率や誘電損失な
どの誘電特性の安定化が必要であり、特にチップ状コン
デンサーなどの極薄物フィルムではこれらの特性を向上
させることを強く要求されている。これらを解決する目
的でフィルム表面粗さを制御したり、突起を形成するた
めに添加する粒子を特定することが提案されているが、
必ずしも充分ではないのが現状である。
The polyethylene naphthalate film has a relatively high glass transition temperature while having electrical characteristics close to those of a commonly used polyethylene terephthalate film. Is expected to expand. Further, since the Young's modulus is also high, studies have been made from this viewpoint as a film suitable for thinning. However, in order to use it as a film for capacitors, it is necessary to improve the dielectric breakdown voltage and stabilize the dielectric properties such as permittivity and dielectric loss, and especially for ultra-thin films such as chip capacitors to improve these properties. There is a strong demand for that. It has been proposed to control the film surface roughness for the purpose of solving these, or to specify particles to be added to form protrusions,
The current situation is that it is not always sufficient.

【0006】本発明はかかる上記したポリエチレンナフ
タレートフィルムをコンデンサー用フィルムとして使用
する際絶縁破壊電圧の向上および誘電特性の安定化を目
的とするものである。
The present invention is intended to improve the dielectric breakdown voltage and stabilize the dielectric characteristics when the above polyethylene naphthalate film is used as a film for capacitors.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記実状に
鑑みて、コンデンサー用ポリエチレンナフタレートフィ
ルムの電気特性向上について鋭意検討を重ねた結果、特
定の破断強度と熱収縮率をを有するフィルムがこれらの
特性を高度に満足することを知見し、本発明を完成する
に至った。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above situation, the inventors of the present invention have conducted extensive studies on improving the electrical characteristics of a polyethylene naphthalate film for capacitors, and as a result, have found that the film has a specific breaking strength and a specific heat shrinkage rate. Have been found to satisfy these characteristics to a high degree, and have completed the present invention.

【0008】すなわち、本発明の要旨は、縦横共にフィ
ルムの破断強度が25kg/mm2以上であり、200
℃10分のフィルム長手方向熱収縮率が3〜15%であ
ることを特徴とするコンデンサー用ポリエチレンナフタ
レートフィルムに存する。
That is, the gist of the present invention is that the breaking strength of the film is 25 kg / mm 2 or more in both length and width.
The polyethylene naphthalate film for capacitors is characterized in that the heat shrinkage rate in the longitudinal direction of the film at 10 ° C. is 3 to 15%.

【0009】本発明でいうポリエチレンナフタレートフ
ィルムとはその主たる構成単位がエチレンー2、6ーナ
フタレート単位から構成されているフィルムであり、2
0モル%以下の共重合成分により変性されていてもよ
い。共重合成分としては、アジピン酸、セバシン酸、テ
レフタル酸、イソフタル酸、2、7ーナフタレンジカル
ボン酸、1、5ーナフタレンジカルボン酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、フ
ェニルインダンジカルボン酸などのジカルボン酸成分、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラ
エチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、キ
シリレングリコール、ポリエチレングリコールなどのグ
リコール成分が挙げられる。
The polyethylene naphthalate film referred to in the present invention is a film whose main constituent unit is ethylene-2,6 naphthalate unit.
It may be modified with 0 mol% or less of a copolymerization component. Examples of the copolymerization component include dicarboxylic acids such as adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,7 naphthalenedicarboxylic acid, 1,5 naphthalenedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid and phenylindanedicarboxylic acid. Acid component,
Examples thereof include glycol components such as diethylene glycol, propylene glycol, tetraethylene glycol, cyclohexanedimethanol, xylylene glycol and polyethylene glycol.

【0010】共重合成分量が増加すると、本来ポリエチ
レンー2、6ーナフタレートフィルムの有している耐熱
性が低下するので、好ましくは10モル%以下、さらに
は5モル%以下とするのが好ましい。
When the amount of the copolymerization component is increased, the heat resistance originally possessed by the polyethylene 2,6 naphthalate film is lowered, so that it is preferably 10 mol% or less, more preferably 5 mol% or less. preferable.

【0011】ポリエチレンナフタレートは一般にナフタ
レンー2、6ージカルボン酸またはその機能的誘導体例
えばナフタレンー2、6ージカルボン酸ジメチルとエチ
レングリコールとを触媒の存在下、適当な反応条件の下
に重縮合せしめる公知の方法で製造される。
Polyethylene naphthalate is generally a known method in which naphthalene-2,6-dicarboxylic acid or a functional derivative thereof such as dimethyl naphthalene-2,6-dicarboxylic acid and ethylene glycol are polycondensed in the presence of a catalyst under appropriate reaction conditions. Manufactured in.

【0012】この時、得られるフィルムに滑り性を付与
したり、加工適性を向上する目的で例えば酸化チタン、
炭酸カルシウム、シリカ、アルミナやジルコニアなどの
無機粒子やシリコン粒子、架橋アクリル粒子や架橋ポリ
スチレン粒子などの有機粒子などの不活性粒子を添加し
たり、またポリマの合成時に酢酸カルシウムや酢酸リチ
ウムなどを使用し、合成過程で粒子を析出させるなど公
知の方法が好ましく利用される。使用される粒子の平均
径や添加量は後述するフィルムの表面粗さの観点から選
択されるが、好ましくは平均粒子径が0.01〜3μm
の範囲であり、ポリエチレンー2、6ーナフタレートに
対し0.05〜1重量%の範囲が好ましく使用される。
また、粗大粒子は絶縁欠点などの原因になり、絶縁破壊
電圧を低下させるため5μm以上の粗大粒子は含有しな
いことが好ましい。このため、無機粒子や有機粒子など
の不活性粒子はエチレングリコールなどの溶媒中でスラ
リーとしサンドグラインダーなどの媒体撹拌型分散装置
や超音波分散装置で分散し、その後湿式分級装置で分級
したりフィルター出濾過し粗大粒子を除去するのが好ま
しい。
At this time, for the purpose of imparting slipperiness to the obtained film and improving processability, for example, titanium oxide,
Inert particles such as calcium carbonate, silica, inorganic particles such as alumina and zirconia, silicon particles, organic particles such as crosslinked acrylic particles and crosslinked polystyrene particles are added, and calcium acetate and lithium acetate are used during polymer synthesis. However, a known method such as precipitation of particles in the synthesis process is preferably used. The average diameter and the amount of the particles used are selected from the viewpoint of the surface roughness of the film described later, but the average particle diameter is preferably 0.01 to 3 μm.
And a range of 0.05 to 1% by weight with respect to polyethylene 2,6 naphthalate is preferably used.
Further, coarse particles cause insulation defects and reduce the dielectric breakdown voltage, and therefore it is preferable not to include coarse particles of 5 μm or more. Therefore, inactive particles such as inorganic particles and organic particles are made into a slurry in a solvent such as ethylene glycol and dispersed by a medium agitation type dispersion device such as a sand grinder or an ultrasonic dispersion device, and then classified by a wet classification device or a filter. It is preferable to carry out filtration to remove coarse particles.

【0013】本発明で用いるポリエチレンナフタレート
は重合度が低すぎると、機械的特性が低下するため、そ
の極限粘度は0.4以上好ましくは0.5以上、最も好
ましくは0.6以上である。
If the degree of polymerization of the polyethylene naphthalate used in the present invention is too low, the mechanical properties of the polyethylene naphthalate will deteriorate. Therefore, the intrinsic viscosity thereof is 0.4 or more, preferably 0.5 or more, and most preferably 0.6 or more. .

【0014】さらに、ポリマーを減圧下または不活性ガ
ス雰囲気下その融点以下の温度で加熱処理や固相重合を
おこなうこともできる。この処理を行うことにより、オ
リゴマー量が低減し、また極限粘度も高めることができ
コンデンサー用フィルムとして好ましい。
Further, the polymer may be subjected to heat treatment or solid phase polymerization under reduced pressure or in an inert gas atmosphere at a temperature below its melting point. By performing this treatment, the amount of oligomer can be reduced and the intrinsic viscosity can be increased, which is preferable as a film for capacitors.

【0015】本発明のコンデンサー用ポリエチレンナフ
タレートフィルムは縦横共にフィルムの破断強度が25
kg/mm2 以上であり、200℃10分のフィルム長
手方向熱収縮率が3〜15%であることが必要である。
縦横の破断強度が25kg/mm2 より小さい場合には
絶縁破壊電圧が低下し好ましくない。好ましい破断強度
は30kg/mm2 以上、更に好ましくは35kg/m
2 以上である。
The polyethylene naphthalate film for capacitors of the present invention has a breaking strength of 25 in both length and width.
and in kg / mm 2 or more, it is necessary that the longitudinal direction of the film heat shrinkage rate of 200 ° C. 10 minutes is 3 to 15%.
If the breaking strength in the vertical and horizontal directions is smaller than 25 kg / mm 2 , the dielectric breakdown voltage is lowered, which is not preferable. A preferred breaking strength is 30 kg / mm 2 or more, more preferably 35 kg / m
m 2 or more.

【0016】200℃10分のフィルム長手方向の熱収
縮率が3%未満の時は、アルミニウムなどを蒸着し金属
化フィルムとなし巻回または積層してコンデンサーを作
成した場合またはアルミニウム箔とともに巻回し箔巻き
コンデンサーを作成し、さらにプレス・熱処理してコン
デンサー製品を作成した場合の絶縁破壊電圧が低下し、
好ましくない。また、200℃10分のフィルム長手方
向の熱収縮率が15%を越える場合にも同様に絶縁破壊
電圧が低下し、好ましくない。好ましい熱収縮率は4〜
10%である。
When the heat shrinkage ratio in the longitudinal direction of the film at 200 ° C. for 10 minutes is less than 3%, aluminum or the like is vapor-deposited and is not wound or laminated with a metallized film to form a capacitor or wound with an aluminum foil. When a foil wound capacitor is created and then pressed and heat treated to create a capacitor product, the breakdown voltage drops,
Not preferred. Also, when the heat shrinkage ratio in the longitudinal direction of the film at 200 ° C. for 10 minutes exceeds 15%, the dielectric breakdown voltage similarly lowers, which is not preferable. The preferred heat shrinkage rate is 4 to
It is 10%.

【0017】また本発明のコンデンサー用ポリエチレン
ナフタレートフィルムはフィルム表面粗さRaが0.0
1〜1.0μmであり、かつ0.1μm以上の高さの突
起数が104 個/mm2 以下であることが必要である。
Raが0.01μmより小さい場合にはフィルムが平坦
すぎて作業性が悪化し易い。一方Raが1.0μmより
大きい場合にはフィルム上の突起が大きすぎてコンデン
サーとしたときフィルム間に空気が介在し誘電特性が不
安定化したり、また絶縁破壊電圧が低下し易い。さら
に、0.1μm以上の高さの突起数が104 個/mm2
を越える場合には、アルミニウムなどを蒸着し金属化フ
ィルムとなし巻回または積層してコンデンサーを作成し
た場合またはアルミニウム箔とともに巻回し箔巻きコン
デンサーを作成し、さらにプレス・熱処理してコンデン
サー製品を作成した場合の絶縁破壊電圧が低下し、好ま
しくない。
The polyethylene naphthalate film for capacitors of the present invention has a film surface roughness Ra of 0.0.
It is necessary that the number of protrusions is 1 to 1.0 μm, and the number of protrusions having a height of 0.1 μm or more is 10 4 / mm 2 or less.
When Ra is less than 0.01 μm, the film is too flat and the workability tends to deteriorate. On the other hand, when Ra is larger than 1.0 μm, the protrusions on the film are too large, and when a capacitor is formed, air is present between the films, the dielectric properties become unstable, and the dielectric breakdown voltage tends to decrease. Furthermore, the number of protrusions with a height of 0.1 μm or more is 10 4 / mm 2
When it exceeds the above value, a capacitor is created by vapor deposition of aluminum or the like and winding or stacking without a metallized film, or a foil wound capacitor is created by winding with aluminum foil, and then pressed and heat-treated to create a capacitor product. In that case, the dielectric breakdown voltage decreases, which is not preferable.

【0018】また、本発明のフィルム厚みは好ましくは
50μm、より好ましくは25μm以下であり、またチ
ップコンデンサー用には好ましくは5μm以下さらに好
ましくは3μm以下である。
The thickness of the film of the present invention is preferably 50 μm, more preferably 25 μm or less, and preferably 5 μm or less and more preferably 3 μm or less for chip capacitors.

【0019】次に本発明のフィルムを得るための方法を
以下に具体的に述べるが、これに限定されるものではな
い。
Next, the method for obtaining the film of the present invention will be specifically described below, but the method is not limited thereto.

【0020】溶融重合または固相重合して得た微細粒子
含有ポリエチレンナフタレートを乾燥後、280〜32
0℃の範囲の温度で押出機よりシート状に押出し、80
℃以下の温度に冷却して実質的に無定形のシートとす
る。なお、溶融押出しするに際しフィルターでろ過する
のが好ましく、必要に応じ多段フィルターを用いること
が好ましい。また冷却固化する際にキャスティングドラ
ムに密着させるため、静電印加キャスト法を適用するの
が好ましい。
After the polyethylene naphthalate containing fine particles obtained by melt polymerization or solid phase polymerization is dried, 280 to 32
Extruded into a sheet from an extruder at a temperature in the range of 0 ° C.,
It is cooled to a temperature of ℃ or below to obtain a substantially amorphous sheet. In addition, it is preferable to filter with a filter at the time of melt extrusion, and it is preferable to use a multistage filter as needed. Further, it is preferable to apply the electrostatically applied casting method because it is brought into close contact with the casting drum when it is cooled and solidified.

【0021】該未延伸シート状物はまず縦方向に120
〜170℃の温度で2.5倍以上6倍以下、好ましくは
3倍以上5倍以下延伸する。該一軸延伸フィルムは一旦
ガラス転移温度以下に冷却した後、または冷却すること
なく120〜170℃に予備加熱し、ついで幅方向にほ
ぼ同程度の温度で2.5倍以上6倍以下の倍率で延伸
し、二軸延伸とする。この場合にさらに縦方向、幅方向
に1.1倍以上3倍以下の倍率で延伸することもでき
る。縦方向に延伸する際の温度は130〜180℃が好
ましく、引き続く幅方向の延伸は150〜240℃で行
うことが好ましい。次いで得られた二軸配向フィルム
は、120〜250℃好ましくは180〜240℃の温
度範囲で1秒から1時間の間で熱固定を行なう。熱固定
温度が250℃より高い時には破断強度が低下しまた1
20℃より低い場合には長手方向熱収縮率が大きくなる
ため好ましくない。
First, the unstretched sheet material is formed in the longitudinal direction by 120
It is stretched at a temperature of ˜170 ° C. from 2.5 times to 6 times, preferably from 3 times to 5 times. The uniaxially stretched film is once cooled to a glass transition temperature or lower, or preheated to 120 to 170 ° C. without cooling, and then at a temperature of about the same in the width direction at a magnification of 2.5 times or more and 6 times or less. Stretch to obtain biaxial stretching. In this case, the film can be further stretched in the longitudinal direction and the width direction at a ratio of 1.1 times or more and 3 times or less. The temperature during stretching in the longitudinal direction is preferably 130 to 180 ° C, and the subsequent stretching in the width direction is preferably performed at 150 to 240 ° C. Then, the obtained biaxially oriented film is heat-set in the temperature range of 120 to 250 ° C., preferably 180 to 240 ° C. for 1 second to 1 hour. When the heat setting temperature is higher than 250 ° C, the breaking strength decreases and
If the temperature is lower than 20 ° C, the heat shrinkage in the longitudinal direction increases, which is not preferable.

【0022】また得られたフィルムはロール状態で20
〜120℃好ましくは40〜100℃の温度範囲で1時
間から7日間の間で加熱処理を行うのが好ましい。
Further, the obtained film is 20 in a roll state.
It is preferable to perform heat treatment in the temperature range of 120 to 120 ° C, preferably 40 to 100 ° C for 1 hour to 7 days.

【0023】このようにして、これまで知られていたフ
ィルムに比較して、絶縁破壊特性および誘電特性が安定
化した、ポリエチレンナフタレートフィルムを得ること
ができ、特に耐熱性に優れたチップ状フィルムコンデン
サー用フィルムとして好適に使用できる。
In this manner, a polyethylene naphthalate film having a stable dielectric breakdown property and dielectric property can be obtained as compared with the hitherto known films, and a chip-like film having particularly excellent heat resistance can be obtained. It can be suitably used as a film for capacitors.

【0024】[0024]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、その主旨を越えない限り本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。なお、実施例で得られたフ
ィルムの物性値の測定値は下記の方法による。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded. The measured values of the physical properties of the films obtained in the examples are as follows.

【0025】(1)破断強度 JIS−K−7127に準じた。インストロンタイプの
引張試験機を用い、試料長50mm、試料幅10mmの
試料を用いて20℃、65%RHにてフィルムが破断す
るまで引っ張り、破断時の応力を測定した。
(1) Breaking strength According to JIS-K-7127. Using an Instron type tensile tester, a sample having a sample length of 50 mm and a sample width of 10 mm was pulled at 20 ° C. and 65% RH until the film broke, and the stress at break was measured.

【0026】(2)熱収縮率 測定試料に約30cm間隔で標線を入れ、200℃に制
御した加熱オーブン中で張力なしの状態で10分間加熱
処理を行ない、熱処理後の試料長を測定し次式により求
めた。
(2) Heat shrinkage rate Marked lines were put on the measurement sample at intervals of about 30 cm, and heat treatment was performed for 10 minutes in a heating oven controlled at 200 ° C. without tension to measure the sample length after the heat treatment. It was calculated by the following formula.

【0027】熱収縮率=100×(熱処理前の長さ−熱
処理後の長さ)/熱処理前の長さ (3)中心線平均表面粗さ(Ra:μm) 小坂研究所社製表面粗さ測定器(SE−3FK)を使用
し、JISーBー0601の従って測定した。
Thermal shrinkage = 100 × (length before heat treatment−length after heat treatment) / length before heat treatment (3) Center line average surface roughness (Ra: μm) Surface roughness manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. It measured according to JIS-B-0601 using the measuring device (SE-3FK).

【0028】(4)表面突起数 2検出方式の走査型電子顕微鏡「EMS−3200、エ
リオニクス(株)製」と断面測定装置「PMS−1、エ
リオニクス(株)製」においてフィルム表面の平坦部を
0として走査した時の突起の高さ測定値を画像解析装置
[IBAS2000、カールツアイス(株)製」に送
り、フィルム表面突起画像を再構築する。次に、この表
面画像で突起部分を2値化し、個々の突起分布の中で最
も高い値を突起の高さとし、これを個々の突起について
求める。この測定を場所を変えて50回繰り返した。こ
こで測定された突起の高さが0.1μm以上のものの個
数を測定した。走査型電子顕微鏡の倍率は通常3000
倍、突起の大きさの応じて2000〜5000倍の範囲
で最適な倍率を選択できる。
(4) The flat part of the film surface was measured by a scanning electron microscope "EMS-3200, manufactured by Elionix Co., Ltd." and a cross-section measuring device "PMS-1, manufactured by Elionix Co., Ltd." in which the number of surface protrusions was two. The height measurement value of the protrusion when scanned as 0 is sent to an image analyzer [IBAS2000, manufactured by Carl Zeiss Co., Ltd.] to reconstruct the film surface protrusion image. Next, the projection portion is binarized in this surface image, the highest value in the distribution of individual projections is taken as the height of the projection, and this is calculated for each projection. This measurement was repeated 50 times in different places. The number of protrusions having a height of 0.1 μm or more measured here was measured. Scanning electron microscope magnification is usually 3000
The optimum magnification can be selected in the range of 2000 to 5000 times according to the size of the projections.

【0029】(4)誘電特性 JISーC−5102の測定法により測定した。(4) Dielectric property It was measured by the measuring method of JIS-C-5102.

【0030】(5)絶縁破壊電圧 JIS−C−2318の測定法に準じて直流電圧を用い
て測定した。絶縁破壊電圧は50個の測定結果の平均値
として求めた。
(5) Dielectric breakdown voltage It was measured using a DC voltage according to the measuring method of JIS-C-2318. The dielectric breakdown voltage was calculated as an average value of 50 measurement results.

【0031】実施例1 ジメチルー2、6ーナフタレート100部(重量部、以
下特記しない限り部は重量部を示す。)、エチレングリ
コール60部および酢酸マンガン4水和物0.06部を
反応器にとり、約4時間をかけて230℃まで徐々に加
熱昇温した。この時生成してくるメタノールを留去さ
せ、エステル交換反応を終了した。この反応物にリン酸
トリメチル0.04部、三酸化アンチモン0.03部お
よびエチレングリコール10部に分散させた平均粒子径
0.3μmの球状シリカ0.2部を添加し、常法に従っ
て重合し、極限粘度0.68のチップを得た。このチッ
プを160℃で10時間真空乾燥した後、300℃で溶
融し、Tダイから押出し静電印可キャスト法にて急冷し
て無定形シートとした。得られた無定形シートを135
℃で長手方向に5.0倍、ついで135℃で幅方向に
5.0倍延伸し、240℃で2秒間熱固定した後ロール
の巻取った。このフィルムの厚さは2.0μmであり、
フィルム表面粗さ(Ra)は0.030μm、0.1μ
m以上の高さの表面突起数は3×103 個/mm2 、長
手方向の破断強度は35kg/mm2 、幅方向の破断強
度は34kg/mm2 であった。また、200℃10分
熱処理後の収縮率は8%であった。
Example 1 100 parts of dimethyl-2,6-naphthalate (parts by weight, unless otherwise specified, parts are parts by weight), 60 parts of ethylene glycol and 0.06 part of manganese acetate tetrahydrate were placed in a reactor, The temperature was gradually raised to 230 ° C. over about 4 hours. The methanol generated at this time was distilled off to complete the transesterification reaction. To this reaction product was added 0.04 part of trimethyl phosphate, 0.03 part of antimony trioxide and 0.2 part of spherical silica having an average particle size of 0.3 μm dispersed in 10 parts of ethylene glycol, and polymerization was carried out according to a conventional method. A chip having an intrinsic viscosity of 0.68 was obtained. The chips were vacuum-dried at 160 ° C. for 10 hours, melted at 300 ° C., extruded from a T die, and rapidly cooled by an electrostatic impression casting method to obtain an amorphous sheet. The obtained amorphous sheet is 135
The film was stretched 5.0 times in the longitudinal direction at 50 ° C., then 5.0 times in the width direction at 135 ° C., heat-set at 240 ° C. for 2 seconds, and then wound into a roll. The thickness of this film is 2.0 μm,
Film surface roughness (Ra) is 0.030μm, 0.1μ
The number of surface protrusions having a height of m or more was 3 × 10 3 pieces / mm 2 , the breaking strength in the longitudinal direction was 35 kg / mm 2 , and the breaking strength in the width direction was 34 kg / mm 2 . The shrinkage rate after heat treatment at 200 ° C. for 10 minutes was 8%.

【0032】次に該フィルムの片面にアルミニウムを幅
20mmの帯状に真空蒸着し(マージン幅3mm)、蒸
着部とマージン部の間で切断して巻き取った。この切断
したフィルムを、マージン部が互いに反対側になるよう
に重ね合わせて巻回し、常法に従ってプレス、熱処理、
端面封止および、各電極のリードを取り付けを行ない容
量0.1μFのコンデンサーを作製した。誘電正接は
0.4%、絶縁破壊電圧は590V、50個の測定のう
ち最低値は400Vで、良好な耐圧を有していた。
Next, aluminum was vacuum-deposited in a strip shape with a width of 20 mm on one surface of the film (margin width: 3 mm), and cut and wound between the vapor deposition portion and the margin portion. The cut films are overlapped and wound so that the margin parts are on opposite sides, and pressed, heat treated,
The end face was sealed and the leads of each electrode were attached to produce a capacitor having a capacity of 0.1 μF. The dielectric loss tangent was 0.4%, the dielectric breakdown voltage was 590 V, and the minimum value of the 50 measurements was 400 V, indicating a good breakdown voltage.

【0033】実施例2〜5 実施例1において、粒子の添加量および延伸条件を変更
する以外は実施例1と同様にして厚み1.5μmの二軸
延伸フィルムを得、実施例1と同様にしてコンデンサー
のを作成した。フィルムの特性およびコンデンサーの誘
電率および絶縁破壊電圧を表1に示す。
Examples 2-5 A biaxially stretched film having a thickness of 1.5 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of particles added and the stretching conditions were changed. I made a condenser. The characteristics of the film, the dielectric constant of the capacitor and the dielectric breakdown voltage are shown in Table 1.

【0034】[0034]

【表1】 比較例1〜4 実施例1において粒子の添加量および延伸条件、熱固定
条件を変更し、フィルムの破断強度および表面特性、熱
収縮率を変更した2.0μm厚みのフィルムを作製し、
実施例1と同様にしてコンデンサーの絶縁破壊電圧およ
び誘電正接を測定した。結果を表2に示した。
[Table 1] Comparative Examples 1 to 4 In Example 1, the addition amount of particles, the stretching conditions, and the heat setting conditions were changed to prepare a 2.0 μm-thick film in which the breaking strength and surface characteristics of the film and the heat shrinkage ratio were changed,
The dielectric breakdown voltage and dielectric loss tangent of the capacitor were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0035】[0035]

【表2】 この結果、破断強度および熱収縮率、表面特性が本発明
の範囲を越える場合には、絶縁破壊電圧および誘電特性
は不安定で、ばらつきが大きくなり、コンデンサーとし
て良好ではなかった。
[Table 2] As a result, when the breaking strength, the heat shrinkage ratio, and the surface characteristics were beyond the ranges of the present invention, the dielectric breakdown voltage and the dielectric characteristics were unstable, and the dispersion was large, and the capacitor was not good.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明のコンデンサー用ポリエチレンナ
フタレートフィルムは、耐熱性に優れ、また絶縁破壊電
圧や誘電特性が安定化し、耐熱性、誘電特性および電気
特性に優れたコンデンサーを得ることができる。特に小
型化、耐熱化が必要なチップコンデンサー用フィルムと
して好適である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The polyethylene naphthalate film for capacitors of the present invention is excellent in heat resistance, and has stable dielectric breakdown voltage and dielectric properties, and thus a capacitor excellent in heat resistance, dielectric properties and electric properties can be obtained. In particular, it is suitable as a film for a chip capacitor which requires miniaturization and heat resistance.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 縦横共にフィルムの破断強度が25kg
/mm2 以上であり、200℃10分のフィルム長手方
向熱収縮率が3〜15%であることを特徴とするコンデ
ンサー用ポリエチレンナフタレートフィルム。
1. The breaking strength of the film is 25 kg in both length and width.
/ Mm 2 or more, and a heat shrinkage ratio in the longitudinal direction of the film at 200 ° C. for 10 minutes is 3 to 15%, which is a polyethylene naphthalate film for capacitors.
【請求項2】 フィルム表面粗さが0.01〜1.0μ
mであり、かつ0.1μm以上の高さの突起数が104
個/mm2 以下であることを特徴とする請求項1記載の
コンデンサ用ポリエチレンナフタレートフィルム。
2. The surface roughness of the film is 0.01 to 1.0 μm.
m, and the number of protrusions with a height of 0.1 μm or more is 10 4
2. The polyethylene naphthalate film for capacitors according to claim 1, wherein the number is not more than 1 piece / mm 2 .
【請求項3】 チップ状フィルムコンデンサーに用いら
れてなることを特徴とする請求項1記載のコンデンサー
用ポリエチレンナフタレートフィルム。
3. The polyethylene naphthalate film for capacitors according to claim 1, which is used in a chip-shaped film capacitor.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100537100B1 (en) * 2000-10-24 2005-12-16 주식회사 코오롱 Polyester-based thermal contraction tube
US20120040208A1 (en) * 2004-01-29 2012-02-16 Teijin Dupont Films Japan Limited Biaxially oriented film
US8310802B2 (en) * 2006-08-28 2012-11-13 Panasonic Corporation Metallization film capacitor having divided electrode with fuse

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