JPH0821320B2 - METAL FILM TRANSFER SHEET, MANUFACTURING METHOD THEREOF, ANODE FORMING SHEET, AND ANODE MANUFACTURING METHOD - Google Patents

METAL FILM TRANSFER SHEET, MANUFACTURING METHOD THEREOF, ANODE FORMING SHEET, AND ANODE MANUFACTURING METHOD

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JPH0821320B2
JPH0821320B2 JP5711990A JP5711990A JPH0821320B2 JP H0821320 B2 JPH0821320 B2 JP H0821320B2 JP 5711990 A JP5711990 A JP 5711990A JP 5711990 A JP5711990 A JP 5711990A JP H0821320 B2 JPH0821320 B2 JP H0821320B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、陰極線管に関し、特にメタルバック層を有
したアノードを効率的に形成する為の金属膜転写シート
とその製造法並びにアノード形成シート、並びにアノー
ド製造方法に関する。
The present invention relates to a cathode ray tube, and more particularly to a metal film transfer sheet for efficiently forming an anode having a metal back layer, a method for producing the same, and an anode forming sheet. And an anode manufacturing method.

従来の技術 従来のカラーテレビの陰極線管アノード工程は、蛍光
面を構成するガラス基板に適当な表面処理を施したのち
PVA−重クロム酸アンモニュウム感光液で、パターン露
光・現像し、グラファイト等の黒色物質を流転し、リフ
トオフしてブラックマトリックス層を形成していた。蛍
光体パターンは、PVA−重クロム酸アンモニュウム感光
液中に蛍光体顔料を分散したスラリーを塗布・乾燥・露
光・現像・乾燥という工程を3回繰り返しR(赤)、G
(緑)、B(青)の各層を形成するという複雑なプロセ
スを用いていた。
2. Description of the Related Art In the conventional cathode ray tube anode process for color television, the glass substrate that constitutes the phosphor screen is subjected to an appropriate surface treatment.
A PVA-ammonium dichromate photosensitive solution was used for pattern exposure and development, a black substance such as graphite was flowed, and lifted off to form a black matrix layer. For the phosphor pattern, the process of applying, drying, exposing, developing and drying a slurry in which a phosphor pigment is dispersed in PVA-ammonium dichromate photosensitive solution is repeated three times R (red), G
A complicated process of forming each layer of (green) and B (blue) was used.

さらに蛍光体層を形成した後、鏡面の金属膜いわゆる
メタルバック層を得るためニトロセルロース等を含有す
る有機高分子膜を形成した後、真空蒸着法やスパッタリ
ング法等により所望のメタルバック層を形成していた。
その後、内在する有機物を焼成分解して蛍光面を形成し
ていた。
After further forming the phosphor layer, an organic polymer film containing nitrocellulose etc. is formed to obtain a mirror-finished metal film, a so-called metal back layer, and then a desired metal back layer is formed by a vacuum deposition method or a sputtering method. Was.
After that, the organic substance contained therein was baked and decomposed to form a phosphor screen.

また、シャドウマスクカラー管では、通常電子ビーム
の15〜20%がシャドウマスクを通過し、蛍光体を発光さ
せ残りの80〜85%の電子ビームは、シャドウマスクに衝
突してシャドウマスクを昇温させその結果シャドウマス
ク熱膨張してパネルフェース方向に凸状に熱変形を起こ
す(この現象をドーミングという)。この現象が発生す
るとマスク孔とフェースパネル上の位置関係がずれ極端
な場合色ずれが発生した。
Also, in the shadow mask color tube, 15 to 20% of the electron beam normally passes through the shadow mask, causing the phosphor to emit light, and the remaining 80 to 85% of the electron beam collides with the shadow mask and raises the temperature of the shadow mask. As a result, the shadow mask thermally expands and causes thermal deformation in a convex shape in the panel face direction (this phenomenon is called doming). When this phenomenon occurs, the positional relationship between the mask hole and the face panel is misaligned, and in extreme cases, color misregistration occurs.

発明が解決しようとする課題 上記したアノードの形成プロセスは、工程が非常に長
くかつ複雑であり、大型の真空蒸着装置やスパッタリン
グ装置が必要となりコストアップの原因となっていた。
加えて、焼成工程においてメタルバック層の一部もしく
は、全体に膨れを生じる。これは、有機物の分解により
発生するガスがメタルバック層に妨げられて外部へスム
ースに抜けないため、ガス圧でメタルバック層が膨れる
ものと考えられる。
[Problems to be Solved by the Invention] The above-described anode forming process has a very long and complicated process, and a large vacuum vapor deposition apparatus or a sputtering apparatus is required, which causes a cost increase.
In addition, swelling occurs in a part or the whole of the metal back layer in the firing process. It is considered that this is because the gas generated by the decomposition of the organic substances is hindered by the metal back layer and does not smoothly escape to the outside, so that the metal back layer swells due to the gas pressure.

また特開昭62−185833号公報には、剥離性を有するベ
ースフイルム上にメタルバック層を有した転写材を用
い、陰極線管のフェースプレート上に転写してメタルバ
ック層を形成する方法が提案された。これに記載の方法
では、工程の簡素化は上記従来技術に比べて改善される
ものの、上記の原因に基づくメタルバック層の膨れにつ
いては依然として解決されていない。
Further, JP-A-62-185833 proposes a method of forming a metal back layer by transferring it onto a face plate of a cathode ray tube by using a transfer material having a metal back layer on a base film having peeling property. Was done. In the method described therein, the simplification of the process is improved as compared with the above-mentioned conventional technique, but the swelling of the metal back layer due to the above-mentioned cause is not yet solved.

この様な原因で発生するメタルバック層の膨れた部分
では蛍光体の反射効率が低下し、カラー受像管に於て局
部的な欠陥となって現れ、歩留まり低下の大きな原因で
あった。
In the swollen portion of the metal back layer caused by such a cause, the reflection efficiency of the phosphor is lowered, and it appears as a local defect in the color picture tube, which is a major cause of the yield reduction.

またドーミング対策として、メタルバック層(通常は
アルミ膜)背面にカーボン黒化膜を形成して出画時のマ
スクからの輻射熱を吸収し易くしメタルバック層からの
熱反射を低減して、マスクの温度上昇を抑制することに
よりドーミングレベルを改善すると共に黒浮きレベルの
改善も図ることが行なわれるが、メタルバック層に上記
の膨れが発生すると、黒化膜(輻射熱吸収物質)の塗布
状態が不均一となって電子ビームの透過効率に大きな差
が生じ、このため輝度ムラが発生する原因となってい
た。
Also, as a doming countermeasure, a carbon blackening film is formed on the back surface of the metal back layer (usually an aluminum film) to easily absorb the radiant heat from the mask at the time of image output and reduce the heat reflection from the metal back layer. It is possible to improve the doming level as well as the black floating level by suppressing the temperature rise in the metal back layer. However, when the swelling occurs in the metal back layer, the blackened film (radiation heat absorbing substance) coating state The non-uniformity causes a large difference in the electron beam transmission efficiency, which causes uneven brightness.

なお、上記の黒化膜の形成は、スプレー等でアクリル
エマルジョンをメタルバック層上に塗布してバリヤ層を
形成し、その上からグラファイトスラリーをスプレーで
塗布してグラファイト膜を形成するのが一般的な方法で
あるが、スプレーによる作業であるために、均一な膜厚
形成あるいは膜厚の制御が困難であり、また空気中の作
業であるために、ゴミなどが混入しやすいと言う問題が
あった。蛍光面の焼成時に内在する有機物の排出をスム
ースに行うためには、この黒化層の厚みは必要最小限の
値でかつ均一になす必要があるが、従来のスプレー法で
は、この要求に対応できないことは明かである。
In addition, in the formation of the above-mentioned blackened film, it is general that an acrylic emulsion is applied on the metal back layer by spraying or the like to form a barrier layer, and a graphite slurry is applied thereon by spraying to form a graphite film. However, there is a problem that it is difficult to form a uniform film thickness or control the film thickness because it is a work by spraying, and dust is easily mixed because it is an operation in air. there were. The thickness of this blackening layer needs to be the minimum required value and uniform in order to smoothly discharge the organic substances in the phosphor screen during firing, but the conventional spray method meets this requirement. It is clear that you cannot do it.

課題を解決するための手段 上記課題を解決するための手段は、以下の通りであ
る。
Means for Solving the Problems Means for solving the above problems are as follows.

離型性が良好な基板シート上に、表面が適度に粗で且
つメタルバック層としての金属膜に対して接着性の良い
樹脂材料で黒色樹脂層を形成し、この黒色樹脂層上に転
写すべき金属膜を形成し、金属膜転写シートを形成す
る。この金属膜転写シート上の黒色樹脂層及び金属膜を
蛍光体層上に転写するようになすことである。
A black resin layer is formed on a substrate sheet having a good releasability with a resin material having a moderately rough surface and good adhesion to a metal film as a metal back layer, and transferred onto this black resin layer. A metal film to be formed is formed, and a metal film transfer sheet is formed. The black resin layer and the metal film on the metal film transfer sheet are transferred onto the phosphor layer.

あるいは、上記の金属膜転写シート上の金属膜上に更
に蛍光体層を形成し、これらの黒色樹脂層、金属膜、蛍
光体層を一括してフェースプレートに転写するようにな
すことである。
Alternatively, a phosphor layer is further formed on the metal film on the above-mentioned metal film transfer sheet, and these black resin layer, metal film, and phosphor layer are collectively transferred to the face plate.

また離型性支持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び
微細孔を有する金属膜を形成した金属膜転写シートをガ
ラス基板上に形成した蛍光体層上に転写した後、内在す
る有機物を焼成して蛍光面を形成する。あるいは離型性
支持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び微細孔を有す
る金属膜を形成した金属転写シート上に、更に蛍光体
層、ブラックマトリックス層を順次形成した後、ガラス
基板上に金属膜以下を一括転写した後、有機物を焼成し
て蛍光面とするようにしている。
Also, after transferring a metal film transfer sheet having a black metal film having fine pores and a metal film having fine pores on a releasable support onto a phosphor layer formed on a glass substrate, the organic substance contained therein is baked. To form a phosphor screen. Alternatively, a phosphor layer and a black matrix layer are sequentially formed on a metal transfer sheet on which a black metal film having fine holes and a metal film having fine holes are formed on a releasable support, and then the metal is formed on the glass substrate. After the film and the following are collectively transferred, the organic material is baked to form a phosphor screen.

作 用 上記手段の作用は、次の様になる。The operation of the above means is as follows.

黒色樹脂層の表面は、上記の通り適度に粗、すなわち
表面に適度な凹凸を有している。その表面上に蒸着等に
より金属膜を形成すると頂部(凸部)に比べて、谷部
(凹部)では金属膜の膜厚がかなりうすく形成される。
すなわち、金属膜には、厚さの薄い薄肉部が点状に多数
形成される。そしてこの金属膜転写シートの黒色樹脂層
及び金属膜を接着層を介してフェースプレート等のガラ
ス基板上の蛍光体層に押圧したのち基板シートを剥離す
ると、離型性が良好な基板シートと黒色樹脂層との間で
剥離が生じ、黒色樹脂層及び金属膜が、ガラス基板側へ
転写されるのである。
The surface of the black resin layer is appropriately rough as described above, that is, the surface of the black resin layer has appropriate irregularities. When a metal film is formed on the surface by vapor deposition or the like, the film thickness of the metal film is considerably thinner in the valley (concave) than in the top (convex).
That is, a large number of thin portions having a small thickness are formed in a dot shape on the metal film. Then, the black resin layer and the metal film of the metal film transfer sheet are pressed against the phosphor layer on the glass substrate such as the face plate through the adhesive layer, and then the substrate sheet is peeled off. Peeling occurs between the resin layer and the black resin layer and the metal film are transferred to the glass substrate side.

この転写された金属膜は、上記のように点在する多数
の薄肉部を有する。この薄肉部は、焼成工程における有
機物の焼成分解により発生する熱分解ガスのガス圧で、
ピンホール状に簡単に破れてガスを逃がす。その結果、
メタルバック層の膨れ、あるいは膨れの破裂が、完全に
防止される。しかも、この薄肉部の破裂跡は、ピンホー
ル状であり、メタルバック層としての機能は、全く損な
われることが無い。
The transferred metal film has a large number of thin portions scattered as described above. This thin portion is the gas pressure of the pyrolysis gas generated by the firing decomposition of the organic matter in the firing step,
It easily breaks into pinholes and allows gas to escape. as a result,
Swelling of the metal back layer or bursting of the swell is completely prevented. Moreover, the traces of rupture of the thin portion are pinhole-like, and the function as the metal back layer is not impaired at all.

また、転写された金属膜上には、黒色樹脂層が形成さ
れており、前記黒色樹脂層がシャドウマスクからの輻射
熱を吸収し、またメタルバック層からの熱反射も少なく
なるので、シャドウマスクの温度上昇が抑えられ、ドー
ミング現像の発生を防止し、画像品質の向上が図れる。
Further, a black resin layer is formed on the transferred metal film, and the black resin layer absorbs radiant heat from the shadow mask, and heat reflection from the metal back layer is reduced, so that the shadow mask The temperature rise can be suppressed, the occurrence of doming development can be prevented, and the image quality can be improved.

さらに一度メタルバック層に反射された二次電子も黒
色層に吸収され、鮮明な画像が得られる。
Further, the secondary electrons once reflected on the metal back layer are also absorbed by the black layer, and a clear image can be obtained.

必要な厚さの黒色樹脂層は、メタルバック層上に均一
に塗布形成することにより、簡単に厚みむらなく形成で
きる。
The black resin layer having a required thickness can be easily formed without unevenness in thickness by uniformly coating and forming it on the metal back layer.

また、離型性支持体に、順次微細孔を有する黒色金属
膜及び、微細孔を有する通常の金属光沢を有する金属膜
を形成した金属膜転写シートを用いても、上記の効果、
すなわち、焼成時には、予め設けられた微細孔の効果
で、膨れの発生が無く、また黒色金属膜により、ドーミ
ング現象が、抑えられる。
Further, even if the releasable support, using a metal film transfer sheet on which a black metal film sequentially having fine pores and a metal film having a normal metallic luster having fine pores is formed,
That is, during firing, swelling does not occur due to the effect of the fine pores provided in advance, and the doming phenomenon is suppressed by the black metal film.

また、前記の金属膜転写シート上に蛍光体パターンを
形成した蛍光面形成シートをフェースプレートに一括転
写して陰極線管のアノードを形成する事により大幅な工
数の低減が図れる。
In addition, the phosphor screen forming sheet having the phosphor pattern formed on the metal film transfer sheet is collectively transferred to the face plate to form the anode of the cathode ray tube, thereby significantly reducing the number of steps.

また、上記の金属膜、黒色金属膜等は、蒸着により形
成できるので、膜厚の値、あるいは膜厚の均一性等の極
めて優れた膜を形成できる。
Further, since the above-mentioned metal film, black metal film and the like can be formed by vapor deposition, it is possible to form a film having an extremely excellent film thickness value or film thickness uniformity.

実施例 以下、本発明の実施例につき、図面に基づき説明を行
なう。
Embodiments Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(第1実施例) 本実施例について、まず概要を、その後に詳細に説明
する。
First Embodiment The outline of this embodiment will be described first, and then the details will be described.

第1図(a)は、本発明の金属膜転写シート5を断面
で示したものである。第1図(a)に於て、4は、機械
的強度・耐溶剤性の優れた支持体でありポリエチレンテ
レフタレート、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂フ
イルムが用いられ、このフイルムの厚さは3〜100μ
m、好ましくは5〜50μmの範囲が好適である。3は、
離型層でありシリコーン、フッ素、アクリル、ワックス
等の離型性が優れた材料を薄層にして用いられる。
FIG. 1 (a) shows a cross section of the metal film transfer sheet 5 of the present invention. In FIG. 1 (a), 4 is a support having excellent mechanical strength and solvent resistance, and various resin films such as polyethylene terephthalate, polyimide, polyamide are used, and the thickness of the film is 3 to. 100μ
The range of m, preferably 5 to 50 μm is suitable. 3 is
The release layer is a thin layer made of a material having excellent release properties such as silicone, fluorine, acrylic, and wax.

2は、支持体4上に離型層3を介して形成された黒色
樹脂層であり、グラファイト、カーボンを含有して表面
が粗面化されている。黒色樹脂層2のバインダーとして
は、熱分解性の良好なアクリル樹脂が、好適である。1
は、黒色樹脂層2上に真空蒸着、スパッタリング等の方
法で形成された金属膜(以降、メタルバック層とも称
す)である。
Reference numeral 2 denotes a black resin layer formed on the support 4 with the release layer 3 interposed therebetween. The black resin layer 2 contains graphite and carbon and has a roughened surface. As the binder of the black resin layer 2, an acrylic resin having good thermal decomposability is suitable. 1
Is a metal film (hereinafter also referred to as a metal back layer) formed on the black resin layer 2 by a method such as vacuum deposition and sputtering.

第1図(b)は、同図(a)に示す金属膜転写シート
5を、接着層6を介してブラックマトリックス層8、蛍
光体層7を有するガラス基板9に押圧した後、離型層3
を有する基板シート4を剥すようにして、金属膜転写シ
ート5上の黒色樹脂層2、金属膜1を蛍光体層7上に転
写している状態を示している。
FIG. 1 (b) shows a release layer after the metal film transfer sheet 5 shown in FIG. 1 (a) is pressed against the glass substrate 9 having the black matrix layer 8 and the phosphor layer 7 via the adhesive layer 6. Three
It shows a state in which the black resin layer 2 and the metal film 1 on the metal film transfer sheet 5 are transferred onto the phosphor layer 7 by peeling off the substrate sheet 4 having.

黒色樹脂層2は、詳細は後述するが、金属膜1に対し
て接着性が良好で、且つ離型層3に対しては、接着性が
極端に弱いので黒色樹脂層2及び金属膜1は、離型層3
より剥離して蛍光体層7上に転写される。かくして、蛍
光体層7上に、目的とする黒色樹脂層2を有する金属膜
1が形成されるのである。
The black resin layer 2 has good adhesiveness to the metal film 1 and extremely weak adhesiveness to the release layer 3, so that the black resin layer 2 and the metal film 1 are , Release layer 3
It is further peeled off and transferred onto the phosphor layer 7. Thus, the metal film 1 having the target black resin layer 2 is formed on the phosphor layer 7.

以下に本実施例を更に詳細に説明する。 The present embodiment will be described in more detail below.

シート状の支持体4の厚さは、通常3〜100μm程度
であればよいが、5〜50μmの範囲が好適であり、本実
施例では、25μmである。
The thickness of the sheet-shaped support 4 is usually about 3 to 100 μm, but is preferably in the range of 5 to 50 μm, and in the present embodiment, it is 25 μm.

黒色樹脂層2は、母材のアクリル樹脂100重量部に対
して、平均粒径1μmのグラファイトを20重量部、カー
ボンブラックを5重量部、溶剤としてトルエンを1000重
量部添加し、ホモミキサーにて20分間混練して得られた
塗料をワイヤーバーにて、支持体4上に2μmの厚さに
塗布したものである。得られた塗布層は、グラファイト
の板状結晶と微細なカーボンブラックの為に、表面には
適度の凹凸が形成された黒色の粗面層となる。その表面
平滑度は、ベック平滑度で200秒であった。
The black resin layer 2 was prepared by adding 20 parts by weight of graphite having an average particle size of 1 μm, 5 parts by weight of carbon black, and 1000 parts by weight of toluene as a solvent to 100 parts by weight of the acrylic resin as a base material, and using a homomixer. The coating material obtained by kneading for 20 minutes was applied on the support 4 with a wire bar to a thickness of 2 μm. The obtained coating layer becomes a black rough surface layer having appropriate irregularities formed on the surface because of the graphite plate crystals and fine carbon black. The surface smoothness was Beck smoothness of 200 seconds.

次に、黒色樹脂層2上に真空蒸着により、アルミの金
属膜1を形成した。金属膜1の厚みは、第1図(a)に
示す様に黒色樹脂層2の表面の凹凸の頂部(凸部)で最
も厚く、谷部(凹部)で最も薄く形成される。本実施例
では、頂部での膜厚を約1000オングストロームとした。
そのとき、谷部での厚みは、約200〜300オングストロー
ムであった。この様に、金属膜1の厚さは、黒色樹脂層
2の表面粗さの影響を受け、凹部位置に薄肉部が多数形
成される。
Next, the aluminum metal film 1 was formed on the black resin layer 2 by vacuum vapor deposition. As shown in FIG. 1A, the metal film 1 is formed so that the tops (projections) of the irregularities on the surface of the black resin layer 2 are thickest and the valleys (recesses) are thinnest. In this example, the film thickness at the top was about 1000 angstroms.
At that time, the thickness at the valley was about 200 to 300 angstroms. As described above, the thickness of the metal film 1 is affected by the surface roughness of the black resin layer 2, and a large number of thin portions are formed at the recessed portions.

その後、蛍光体層7上に酢酸ビニル系の接着層6を塗
布し、第1図(b)に示す様にして、離型層3上に形成
された黒色樹脂層2及び金属膜1を圧着転写して、ガラ
ス基板9上に更に黒色樹脂層2と金属膜1を有するアノ
ード10を形成した。
Then, a vinyl acetate adhesive layer 6 is applied on the phosphor layer 7, and the black resin layer 2 and the metal film 1 formed on the release layer 3 are pressure-bonded as shown in FIG. 1 (b). After transfer, an anode 10 having a black resin layer 2 and a metal film 1 was further formed on the glass substrate 9.

本実施例との比較のため、グラファイトとカーボンブ
ラックを含有せず、従って表面が滑らかな樹脂層上に形
成されたアルミ蒸着膜を転写したアノード(以後、この
アノードを比較例と呼ぶ)を、同様にしてガラス基板上
に形成した。
For comparison with the present example, an anode (hereinafter, referred to as a comparative example) to which an aluminum vapor-deposited film containing no graphite and carbon black and thus having a smooth surface was formed was transferred, It was similarly formed on a glass substrate.

その後の焼成工程に於て、約250℃の昇温により、本
実施例のアノードの金属膜には、5〜10μmの微細孔が
形成されていることが顕微鏡観察によって確認された。
一方比較例の金属膜には、この様な微細孔は、形成され
ておらず多数の小さな膨れの発生が認められた。更に温
度を上げて、450℃に1時間の焼成を行った後では、本
実施例の場合には接着層6等に含まれる有機物は、完全
に焼失、熱分解されると共に、金属膜1であるアルミ膜
には、膨れが全く発生しておらず、極めて良好な表面状
態を保っており、黒色樹脂層もバインダーがすべて熱分
解しグラファイト等の黒色層が形成され、良好なアモー
ドが得られた。
In the subsequent firing step, it was confirmed by microscopic observation that a temperature rise of about 250 ° C. formed fine holes of 5 to 10 μm in the metal film of the anode of this example.
On the other hand, in the metal film of the comparative example, such fine pores were not formed, and a large number of small bulges were observed. After further raising the temperature and baking at 450 ° C. for 1 hour, in the case of the present embodiment, the organic substances contained in the adhesive layer 6 etc. are completely burned and thermally decomposed, and the metal film 1 A certain aluminum film has no swelling at all and maintains an extremely good surface condition, and the binder in the black resin layer is completely pyrolyzed to form a black layer such as graphite, and a good amode is obtained. It was

それに対し、比較例のアノードでは、アルミ膜全面に
わたって大きな膨れが発生しており、中には膨れが破裂
に至ったものも認められる状態であった。
On the other hand, in the anode of the comparative example, large swelling was generated over the entire surface of the aluminum film, and some of the swelling was ruptured.

この様に、本実施例では、金属膜に多数点在する上記
薄肉部が、焼成工程に於て、金属膜下面の有機物(例え
ば接着剤)から発生するガス圧により破れてピンホール
状の多数の微細孔を形成し、これがガス抜き穴として機
能して金属膜の膨れを完全に防止しているのである。そ
れに対して、比較例の場合には、金属膜にはこの様な微
細孔が形成されないために金属膜下のガスが抜けず、膨
れや膨れの破裂といった損傷を受けるのである。
As described above, in this embodiment, a large number of the thin-walled portions scattered in the metal film are broken by the gas pressure generated from the organic substance (eg, adhesive) on the lower surface of the metal film during the firing process, and a large number of pinholes are formed. The fine pores are formed, which function as gas vent holes to completely prevent swelling of the metal film. On the other hand, in the case of the comparative example, since such fine pores are not formed in the metal film, the gas under the metal film does not escape, resulting in damage such as swelling and rupture of the swelling.

本実施例で得られた金属膜は、陰極線管のメタルバッ
ク層として充分な特性を有するものであり、更にグラフ
ァイト等の黒色層の効果で、ドーミングを抑制し、又2
次電子も前記黒色層に吸収され、画像としても極めて鮮
明なものが得られた。
The metal film obtained in this example has sufficient characteristics as a metal back layer of a cathode ray tube, and the effect of a black layer such as graphite suppresses doming.
Secondary electrons were also absorbed in the black layer, and an extremely clear image was obtained.

本実施例では、従来の技術すなわち周知の技術でガラ
ス基板上に蛍光面を形成した後、蛍光体層の表面平滑化
の為有機膜を形成し、ガラス基板ごと蒸着装置内に導入
してアルミ蒸着を行い、更に黒色樹脂層をスプレー等で
アルミ膜上に吹き付けて黒色層を形成していた従来の工
程に比べ、大幅な工数の短縮及びコストの低減が可能と
なる。
In this example, after forming a phosphor screen on a glass substrate by a conventional technique, that is, a well-known technique, an organic film is formed for smoothing the surface of the phosphor layer, and the whole glass substrate is introduced into a vapor deposition apparatus to form an aluminum film. Compared with the conventional process in which the black layer is formed by performing vapor deposition and then spraying a black resin layer on the aluminum film by spraying or the like, the number of steps and cost can be significantly reduced.

また本実施例の黒色樹脂層の表面粗度は、グラファイ
トの含有率により決まり、2〜50Wt%好ましくは、5〜
30Wt%のグラファイト含有率の組成で、ベック平滑度で
400秒以下のものであれば、焼成後の金属膜に、5〜30
μm程度の良好な微細孔を得ることが出来る。
The surface roughness of the black resin layer of this example is determined by the graphite content, and is preferably 2 to 50 Wt%, more preferably 5 to 50 Wt%.
With a composition with a graphite content of 30 Wt%, with Beck smoothness
If it is 400 seconds or less, 5 to 30
It is possible to obtain good micropores of about μm.

また、金属膜をニッケルとしても良好なメタルバック
層を得ることが出来る。
Also, a good metal back layer can be obtained even when the metal film is nickel.

なお、離型層3を形成せず、支持体4と黒色樹脂層2
との剥離を、黒色樹脂層2内で凝集破壊を生じせしめて
行い、金属膜を転写するようになすことも可能である。
The support 4 and the black resin layer 2 were formed without forming the release layer 3.
It is also possible to separate the metal film from the metal film by causing cohesive failure in the black resin layer 2.

あるいは支持体4と黒色樹脂層2との離型性が極めて
良好な場合は、特に離型層3を形成せずとも、金属膜厚
と黒色樹脂層とが、一括転写される。
Alternatively, when the releasability between the support 4 and the black resin layer 2 is extremely good, the metal film thickness and the black resin layer are collectively transferred without forming the release layer 3.

(第2実施例) 第2実施例を、第2図を用いて説明する。(Second Embodiment) A second embodiment will be described with reference to FIG.

第2実施例は、第2図(a)の様に、上記第1実施例
で示した構成の金属膜転写シート4の上に、更に蛍光体
層7、ブラックマトリックス層8を形成してアノード形
成シート11となし、これを第2図(b)のごとく接着層
6を介してガラス基板9に対向圧着させたのち支持体4
を剥ぐように取ると、アノード形成シートは離型層3と
黒色樹脂層2との間で剥離して、ガラス基板9上に黒色
樹脂層を有したアノード10が形成されるのである。
In the second embodiment, as shown in FIG. 2A, a phosphor layer 7 and a black matrix layer 8 are further formed on the metal film transfer sheet 4 having the structure shown in the first embodiment to form an anode. A forming sheet 11 is formed, which is pressed against the glass substrate 9 via the adhesive layer 6 as shown in FIG.
When peeled off, the anode forming sheet is separated between the release layer 3 and the black resin layer 2 to form the anode 10 having the black resin layer on the glass substrate 9.

以下、第2実施例を詳細に説明する。 The second embodiment will be described in detail below.

厚さ120μmのPETフイルムの支持体4上に、シリコン
膜を1μmの厚さに塗布して離型層3を形成した。この
離型層3上に、第1表に記載の組成の黒色樹脂層2を3
μmの厚さに塗布した。
A silicon film was applied to a thickness of 1 μm on a support 4 of a PET film having a thickness of 120 μm to form a release layer 3. On the release layer 3, the black resin layer 2 having the composition shown in Table 1 is applied.
It was applied to a thickness of μm.

黒色樹脂層の平滑度は、ベック平滑度で100秒であっ
た。
The smoothness of the black resin layer was Beck smoothness of 100 seconds.

この黒色樹脂層2上にアルミ膜を1000オングストロー
ムの厚さに蒸着して、金属膜1を形成した。第1実施例
と同様に、アルミ膜の最も厚い部分は、黒色樹脂層2の
表面の凹凸の頂部(凸部)に形成され、薄肉部は谷部
(凹部)に形成される。
An aluminum film having a thickness of 1000 angstrom was vapor-deposited on the black resin layer 2 to form the metal film 1. Similar to the first embodiment, the thickest part of the aluminum film is formed on the tops (projections) of the irregularities on the surface of the black resin layer 2, and the thin parts are formed on the valleys (recesses).

さらに、第2表に記載の組成物をセラミック3本ロー
ルにて、3回通して練肉し緑色蛍光体インクを作成し
た。
Further, the composition shown in Table 2 was passed through a three-roll ceramic roll three times to knead the mixture to prepare a green phosphor ink.

同様にして、赤色蛍光体インク、青色蛍光体インクを
作成した。
Similarly, a red phosphor ink and a blue phosphor ink were prepared.

ガラス基板上に、金属膜1を有する支持体4を固定
し、グラビアオフセット方式により、金属膜1上に、緑
色蛍光体パターンを印刷した。以後、順次赤色蛍光体、
青色蛍光体を所定の位置に印刷し、R、G、B3色の蛍光
体パターンを金属膜1上に形成した。印刷されたパター
ンは、ストライプの均一性、精度、光学特性共に満足す
るものであった。
The support 4 having the metal film 1 was fixed on a glass substrate, and a green phosphor pattern was printed on the metal film 1 by the gravure offset method. After that, red phosphor,
A blue phosphor was printed at a predetermined position, and phosphor patterns of R, G, and B colors were formed on the metal film 1. The printed pattern satisfied the stripe uniformity, accuracy, and optical characteristics.

さらに第3表の組成のブラックマトリックス材を用い
て、蛍光体パターン7と同様のグラビアオフセット方式
により金属膜転写シート5上に、ブラックマトリックス
層8を連続して印刷した。
Further, using the black matrix material having the composition shown in Table 3, the black matrix layer 8 was continuously printed on the metal film transfer sheet 5 by the same gravure offset method as the phosphor pattern 7.

上記のようにして、金属膜上に、蛍光体層及びブラッ
クマトリックス層を印刷して得られたアノード形成シー
ト11の最上面に、接着層6としてアクリル粘着剤(イソ
デシルメタアクリレート)を3ミクロンの厚さで一様に
塗布した。
As described above, an acrylic adhesive (isodecylmethacrylate) as an adhesive layer 6 of 3 micron was formed on the uppermost surface of the anode forming sheet 11 obtained by printing the phosphor layer and the black matrix layer on the metal film. Was evenly applied.

このアノード形成シート11を、フェースプレートとな
るガラス基板9に接着層6を介して対向させて圧着し、
アノード形成シートの離型層3が塗布された支持体4を
剥離してガラス基板9上にブラックマトリックス層8、
蛍光体層7、メタルバック層1及び黒色樹脂層2を転写
し形成した。そして、昇温条件10℃/分、450℃1時間
保持の条件で焼成した。その結果、良好なブラックマト
リックス層8と蛍光体層7及び微細孔が形成されたメタ
ルバック層としての金属膜1及び黒色層2が得られ、良
好なアノードが形成された。
The anode forming sheet 11 is pressed against the glass substrate 9 serving as a face plate with the adhesive layer 6 interposed therebetween.
The support 4 coated with the release layer 3 of the anode forming sheet is peeled off, and the black matrix layer 8 is formed on the glass substrate 9.
The phosphor layer 7, the metal back layer 1 and the black resin layer 2 were transferred and formed. Then, it was fired under the conditions of temperature rising conditions of 10 ° C./min and holding at 450 ° C. for 1 hour. As a result, a good black matrix layer 8, a phosphor layer 7, and a metal film 1 and a black layer 2 as a metal back layer in which fine holes were formed were obtained, and a good anode was formed.

このアノードは、カラー陰極線管アノードとして充分
に特性を満足するものであった。
This anode fully satisfied the characteristics as a color cathode ray tube anode.

尚本実施例に於て、アクリル粘着剤は、フェースプレ
ートとなるガラス基板9上あるいはブラックマトリック
ス層8上の何れに塗布しておいても良いことは、勿論で
ある。
In this embodiment, the acrylic pressure-sensitive adhesive may be applied on either the glass substrate 9 serving as the face plate or the black matrix layer 8 as a matter of course.

(第3実施例) 第3図(b)は、本発明の第3実施例の金属膜転写シ
ート16の断面図である。
(Third Embodiment) FIG. 3 (b) is a sectional view of a metal film transfer sheet 16 of a third embodiment of the present invention.

先ず第3図(a)に於て、4は機械的強度、耐溶剤性
の優れた支持体であり、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂フイル
ムが用いられる。3は、支持体4上に密着して形成され
た離型層であり、その材料としては、シリコン、テフロ
ン、アクリル、ワックス等、離型性が良好な樹脂が好適
である。
First, in FIG. 3 (a), 4 is a support having excellent mechanical strength and solvent resistance, and various resin films such as polyethylene terephthalate (PET), polyimide and polyamide are used. Reference numeral 3 denotes a release layer formed in close contact with the support 4, and as a material thereof, a resin having a good release property such as silicon, Teflon, acrylic, or wax is suitable.

12は、黒色金属膜であり、低真空で蒸着を行なうこと
により、いわゆる金属光沢を全くもたない黒色の金属膜
を得ることが出来る。この黒色金属膜は、ドーミング対
策及び2次電子対策として極めて有効である。13は、金
属光沢を有する通常の金属膜であり、蛍光体で発した光
を、金属膜の鏡面作用により反射させ、輝度の向上を図
るためのものである。
Reference numeral 12 is a black metal film, and by performing vapor deposition in a low vacuum, a black metal film having no so-called metallic luster can be obtained. This black metal film is extremely effective as a countermeasure against doming and a countermeasure against secondary electrons. Reference numeral 13 is an ordinary metal film having a metallic luster, and is for reflecting the light emitted from the phosphor by the mirror effect of the metal film to improve the brightness.

次に第3図(b)に示す様に、同図(a)の金属膜転
写シートの2層の金属膜12、13に、微細光15を形成す
る。この微細孔15の大きさとしては、輝度の低下を防ぐ
意味で出来るだけ小さい方が望ましく、50μm以下、好
ましくは、5〜30μmの大きさの微細孔が均一に分散さ
れて形成されるならば、最終工程に於ける450℃の焼成
に於いて、金属膜表面に膨れ等の発生が無く、良好なメ
タルバック層として使用可能である。
Next, as shown in FIG. 3B, fine light 15 is formed on the two layers of metal films 12 and 13 of the metal film transfer sheet of FIG. It is desirable that the size of the fine holes 15 is as small as possible in order to prevent a decrease in luminance, and if fine holes having a size of 50 μm or less, preferably 5 to 30 μm are uniformly dispersed and formed. In the final step, there is no swelling or the like on the surface of the metal film during the firing at 450 ° C, and it can be used as a good metal back layer.

第3図(c)は、同図(b)の金属膜転写シート16を
接着層6を介してブラックマトリックス層8、蛍光体層
7を有するガラス基板9に押圧した後、基板シート4を
剥すようにして、金属膜転写シート16上の微細孔15を有
する黒色金属膜12及び微細孔を有する金属膜13を蛍光体
層上に、転写している状態を示している。基板シートに
形成された離型層3の効果により、前記2層の金属膜1
2、13は、支持体4より離型し、蛍光体層7上に転写さ
れ目的とするメタルバック層が蛍光体層7上に形成され
るのである。
3C shows that the metal film transfer sheet 16 of FIG. 3B is pressed against the glass substrate 9 having the black matrix layer 8 and the phosphor layer 7 via the adhesive layer 6, and then the substrate sheet 4 is peeled off. In this way, a state is shown in which the black metal film 12 having the fine holes 15 and the metal film 13 having the fine holes on the metal film transfer sheet 16 are transferred onto the phosphor layer. Due to the effect of the release layer 3 formed on the substrate sheet, the two-layer metal film 1
2 and 13 are released from the support 4 and transferred onto the phosphor layer 7 to form a desired metal back layer on the phosphor layer 7.

以下に、本実施例を更に詳細に説明する。 The present embodiment will be described in more detail below.

基板シート4の厚さは、通常3〜100μm程度であれ
ばよいが、5〜50μmの範囲が好適であり、本実施例で
は、12μmである。離型層3は、シリコン樹脂を2μm
の厚さに形成した。前記浮離型層3上に、比較的低真空
度すなわち10-2から10-3Torr程度の真空雰囲気でアルミ
蒸着を施し、800オングストロームの厚さの黒色金属膜1
2を形成し、さらに、前記雰囲気よりも高真空すなわち1
0-5から10-6Torrの高真空雰囲気下でアルミ蒸着を施
し、1000オングストロームの金属光沢を有する白色の金
属膜13を形成した。
The thickness of the substrate sheet 4 is usually about 3 to 100 μm, but a range of 5 to 50 μm is suitable, and in the present embodiment, it is 12 μm. The release layer 3 is made of silicon resin of 2 μm.
Formed to a thickness of. A black metal film 1 having a thickness of 800 Å is formed on the floating layer 3 by aluminum vapor deposition in a vacuum atmosphere having a relatively low degree of vacuum, that is, about 10 −2 to 10 −3 Torr.
2 and further higher vacuum than the above atmosphere, namely 1
Aluminum was vapor-deposited in a high vacuum atmosphere of 0 -5 to 10 -6 Torr to form a white metal film 13 having a metallic luster of 1000 Å.

次に、前記金属膜転写シートに微細孔15を形成する方
法を示す。
Next, a method for forming the fine holes 15 in the metal film transfer sheet will be described.

微細孔の形成法は第4図のごとく、第3図(a)に示
した金属膜転写シート14に、微細突起を設けた円筒状電
極19を圧接して回転させつつ、10〜30Vの電圧で放電を
行い金属膜面に微細孔を形成するものである。
As shown in FIG. 4, the method of forming the fine holes is such that a cylindrical electrode 19 having fine protrusions is pressed against the metal film transfer sheet 14 shown in FIG. Is used to form fine holes on the metal film surface.

次に微細孔の開口率及び大きさの影響を明らかにする
ために、放電による微細孔形成工程を0回から6回と変
えて転写シートに形成される微細孔の数を変化させた金
属膜転写シート16を作成した。形成された微細孔の状態
を定量的に把握するため画像解析装置を用いて微細孔の
開口率及び大きさを測定した。
Next, in order to clarify the influence of the aperture ratio and size of the fine holes, the metal film in which the number of fine holes formed in the transfer sheet is changed by changing the fine hole forming process by electric discharge from 0 times to 6 times. The transfer sheet 16 was created. In order to quantitatively grasp the state of the formed fine holes, the aperture ratio and size of the fine holes were measured using an image analyzer.

この開口率及び大きさの異なる微細孔を有した6種の
金属膜転写シートを、第3図(c)に示す様に、従来の
周知の技術でガラス基板9上に形成された蛍光体層7上
にアクリル粘着剤(インデシルメタアクリレート)6を
介して圧接し、前記蛍光体層7上に微細孔を形成した黒
色金属膜12及び微細孔を有する金属光沢を有した金属膜
13を転写させた後、支持体4を剥離し、ガラス基板9上
に、メタルバック層を有するアノード10aを形成した。
As shown in FIG. 3 (c), six kinds of metal film transfer sheets having fine pores having different aperture ratios and sizes are used to form a phosphor layer formed on a glass substrate 9 by a conventionally known technique. A black metal film 12 having fine pores formed on the phosphor layer 7 and a metal film having a metallic luster having fine pores, which are pressure-contacted onto the phosphor layer 7 through an acrylic adhesive (indecyl methacrylate) 6
After transferring 13, the support 4 was peeled off, and the anode 10a having a metal back layer was formed on the glass substrate 9.

さらに、このアノードを450℃で焼成して有機物を分
解焼成し、カラー陰極線管のアノードを形成した。この
時、、アルミ蒸着膜の微細孔の形成状態により第4表の
様に焼成後のメタルバック層の表面状態に大きな差異が
発生した。
Further, the anode was fired at 450 ° C. to decompose and fire organic substances to form an anode for a color cathode ray tube. At this time, as shown in Table 4, a large difference occurred in the surface state of the metal back layer after firing, depending on the state of formation of fine holes in the aluminum vapor deposition film.

この原因は、予め形成された微細孔が、450℃焼成時
にガス抜き穴として機能して、金属膜厚の膨れを完全に
防ぐことが出来れば良好なメタルバック層の形成が可能
となるが、微細孔の開口率が充分で無い場合には、金属
膜面には、無数の膨れとなって現れる。
The reason for this is that if the pre-formed micropores function as gas vents during firing at 450 ° C. and can completely prevent the swelling of the metal film thickness, a good metal back layer can be formed, When the aperture ratio of the micropores is not sufficient, numerous bulges appear on the metal film surface.

第4表からも明かな様に、アルミ蒸着膜に全く微細孔
を開けない場合は、アルミ蒸着膜の全域に膨れが発生し
た。放電により微細孔を設けたアルミ蒸着膜の場合は、
放電回数1回では若干の膨れ が発生したが放電回数2回以上では、良好なメタルバッ
ク層が形成された。時に3回以上になればより安定した
メタルバック層が得られた。微細孔の大きさは直径15μ
m程度の大きさが平均値でありそれが50μm以上の孔に
なると輝度の低下につながる。
As is clear from Table 4, when no fine holes were formed in the aluminum vapor deposition film, swelling occurred in the entire area of the aluminum vapor deposition film. In the case of aluminum vapor deposition film that has micropores formed by discharge,
Slight swelling with one discharge However, a good metal back layer was formed when the number of discharges was 2 or more. A more stable metal back layer was obtained when the number of times was 3 or more. The size of the micropores is 15μ in diameter
A size of about m is an average value, and if it becomes a hole of 50 μm or more, it leads to a decrease in brightness.

焼成条件は、昇温速度10℃/分で、450℃1時間保持
である。
The firing conditions are a temperature rising rate of 10 ° C./min and holding at 450 ° C. for 1 hour.

この結果より、微細孔の開口率は、5%以上あれば焼
成した後、良好なメタルバック層が、形成されることが
判る。
From this result, it can be seen that if the opening ratio of the fine holes is 5% or more, a good metal back layer is formed after firing.

(第4実施例) 第3図(a)の金属膜転写シート14を、2枚のサンド
ペーパー(#1000)で挟み、圧着ローラーを線圧4Kg/cm
に設定し、そのローラー間を前記2枚のサンドペーパー
で挟持された金属膜転写シートを5回通過させて開口率
10%、平均孔径10〜20μmの微細孔を有する金属膜転写
シートを得た。さらに、第3実施例と同様にして、ガラ
ス基板9上に形成された蛍光体層8上に、前記金属膜転
写シートを圧着転写し、450℃1時間焼成したところ強
固に接着した良好なメタルバック層を得た。
(Fourth Embodiment) The metal film transfer sheet 14 of FIG. 3 (a) is sandwiched between two sheets of sandpaper (# 1000), and the pressure roller is applied with a linear pressure of 4 Kg / cm.
And the metal film transfer sheet sandwiched between the two sandpapers was passed between the rollers five times to open the glass plate
A metal film transfer sheet having 10% and fine pores having an average pore diameter of 10 to 20 μm was obtained. Further, in the same manner as in the third embodiment, the metal film transfer sheet was pressure-transferred onto the phosphor layer 8 formed on the glass substrate 9 and fired at 450 ° C. for 1 hour. The back layer was obtained.

(第5実施例) 第3図(a)の金属膜転写シート14を、サンドブラス
ト法(COMCO社製)の装置を用い#1500パスのカーボラ
ンダム(平均流径1μm)で中速で吹き付け、開口率8
%、平均孔径5〜8μmの微細孔を形成した。
(Fifth Embodiment) The metal film transfer sheet 14 of FIG. 3 (a) is blown at a medium speed with a # 1500-pass carborundum (average flow diameter 1 μm) using a sandblast method (manufactured by COMCO) to open the sheet. Rate 8
%, Fine pores having an average pore diameter of 5 to 8 μm were formed.

第4実施例と同様に蛍光体層面に圧着転写し、450℃
1時間焼成したところ強固に接着した良好なメタルバッ
ク層を得た。
Similarly to the fourth embodiment, pressure transfer is performed on the phosphor layer surface and 450 ° C.
After firing for 1 hour, a good metal back layer with strong adhesion was obtained.

(第6実施例) 第3図(a)の金属膜転写シートア14に施した放電加
工により開口率10%のアルミ転写シートを得た。
(Sixth Embodiment) An aluminum transfer sheet having an aperture ratio of 10% was obtained by electrical discharge machining applied to the metal film transfer sheet 14 of FIG. 3 (a).

さらに、第5表の組成物をセラミック3本ロールに
て、3回通して練肉し蛍光体インクを作成した。
Further, the composition shown in Table 5 was passed through a three-roll ceramic roll three times to be kneaded to prepare a phosphor ink.

同様にして、赤色蛍光体インク、青色蛍光体インクを
作成した。
Similarly, a red phosphor ink and a blue phosphor ink were prepared.

ガラス基板上に前記微細孔を形成した金属膜転写シー
ト固定し、グラビアオフセット方式により、緑色蛍光体
パターンを印刷した。以後、順次赤色蛍光体、青色蛍光
体を所定の位置に印刷し、R、G、B3色の蛍光体パター
ンを得た。印刷されたパターンは、ストライプの均一
性、精度、光学特性共に満足するものであった。
A metal film transfer sheet having the fine holes was fixed on a glass substrate, and a green phosphor pattern was printed by a gravure offset method. Thereafter, a red phosphor and a blue phosphor were sequentially printed at predetermined positions to obtain phosphor patterns of R, G and B three colors. The printed pattern satisfied the stripe uniformity, accuracy, and optical characteristics.

さらにブラックマトリックス層を第6表の組成で作成
し、蛍光体パターンと同様のグラビアオフセット方式に
よりアルミ転写シート上に連続して印刷した。
Further, a black matrix layer having the composition shown in Table 6 was formed and continuously printed on the aluminum transfer sheet by the same gravure offset method as the phosphor pattern.

金属膜転写シート16上に、蛍光体層及びブラックマト
リックス層を印刷した後、ガラス基板上にアクリル粘着
剤(イソデシルメタアクリレート)を3ミクロンの厚さ
で一様に塗布した面に圧着し、さらに金属膜転写シート
の基板シートを剥離してガラス基板上にブラックマトリ
ックス層及び蛍光体層及び微細孔を有する黒色金属膜12
及び、微細孔を有する金属膜13を形成して、アノードを
得た。そして、昇温条件10℃/分、450℃1時間保持の
条件で焼成したところ良好なアノードが形成された。こ
のアノードは、カラー陰極線管アノードとして充分な特
性のものが得られた。
After printing the phosphor layer and the black matrix layer on the metal film transfer sheet 16, the acrylic adhesive (isodecyl methacrylate) was applied onto the surface of the glass substrate with a uniform thickness of 3 μm by pressure bonding, Furthermore, the substrate sheet of the metal film transfer sheet is peeled off to form a black matrix layer and a phosphor layer on the glass substrate and a black metal film 12 having fine holes.
Then, a metal film 13 having fine pores was formed to obtain an anode. Then, when it was fired under the conditions of a temperature rising condition of 10 ° C./min and a holding temperature of 450 ° C. for 1 hour, a good anode was formed. This anode was obtained with sufficient characteristics as a color cathode ray tube anode.

発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明は、黒色樹脂層
上に金属膜を形成した、金属膜転写シートを陰極線管フ
ェースプレート上の蛍光体層に転写して、基板シートを
剥離後、焼成してアノードを形成するため、大型の設備
が不要となりまた大幅な工数の低減が図れ、大幅なコス
トの低減が可能となる。
EFFECTS OF THE INVENTION As is clear from the above description, according to the present invention, a metal film transfer sheet, in which a metal film is formed on a black resin layer, is transferred to a phosphor layer on a cathode ray tube face plate, and after the substrate sheet is peeled off. Since the anode is formed by firing, large equipment is not required, and the number of man-hours can be significantly reduced, and the cost can be significantly reduced.

また、金属膜上に形成された黒色樹脂層により、ドー
ミング現象が抑制され、更に2次電子対策にも貢献する
ため、大幅な、画質の向上が図れる。
Further, the black resin layer formed on the metal film suppresses the doming phenomenon and contributes to secondary electron countermeasures, so that the image quality can be significantly improved.

さらに、黒色樹脂層上に金属膜を形成した金属膜転写
シート上に、蛍光体層大びブラックマトリックス層を形
成し陰極線管フェースプレート上に一括転写し、基板シ
ートを剥離後、焼成することにより更に簡単にカラー陰
極線管のアノードが形成される。
Further, by forming a phosphor layer and a black matrix layer on a metal film transfer sheet having a metal film formed on a black resin layer and transferring them collectively onto a cathode ray tube face plate, the substrate sheet is peeled and then baked. In addition, the anode of the color cathode ray tube is easily formed.

また、微細孔を有する黒色金属膜及び微細孔を有する
金属膜を積層して用いることにより上記と同様の効果が
得られる。
Further, the same effect as described above can be obtained by stacking and using the black metal film having fine holes and the metal film having fine holes.

この様に、本発明は陰極線管やプラズマディスプレイ
等の蛍光体製品に応用して大なる効果を発揮するもので
ある。
Thus, the present invention exerts a great effect when applied to phosphor products such as cathode ray tubes and plasma displays.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(a)は、本発明の実施例の金属膜転写シートの
断面図、第1図(b)は、第1図(a)の金属膜転写シ
ートを用いたアノードの形成工程図、第2図(a)は、
アノード形成シートの断面図、第2図(b)は、第2図
(a)のアノード形成シートを用いたアノードの形成工
程図、第3図(a)は、本発明の実施例の金属膜転写シ
ートの断面図、第3図(b)は、同図(a)の金属膜転
写シートに、微細孔を形成した金属膜転写シートの断面
図、第3図(c)は、同図(b)の金属膜転写シートを
用いたアノードの形成工程図、第4図は、放電加工によ
る微細孔の形成工程図である。 1……金属膜、2……黒色樹脂層、3……離型層、4…
…支持体、5……金属膜転写シート、6……接着層、7
……蛍光体層、8……ブラックマトリックス層、9……
フェースプレート、10……アノード、11……アノード形
成シート、12……黒色金属膜、13……金属膜、14……金
属膜転写シート、15……微細孔、16……微細孔を形成し
た金属膜転写シート、17……電源、18……アース、19…
…電極。
1A is a sectional view of a metal film transfer sheet according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a process drawing of an anode using the metal film transfer sheet of FIG. 1A. Figure 2 (a) shows
2B is a sectional view of the anode forming sheet, FIG. 2B is a process chart of forming an anode using the anode forming sheet of FIG. 2A, and FIG. 3A is a metal film of an example of the present invention. 3B is a cross-sectional view of the transfer sheet, FIG. 3B is a cross-sectional view of the metal film transfer sheet in which fine holes are formed in the metal film transfer sheet of FIG. 3A, and FIG. FIG. 4B is a process diagram of forming an anode using the metal film transfer sheet of b), and FIG. 4 is a process diagram of forming fine holes by electric discharge machining. 1 ... Metal film, 2 ... Black resin layer, 3 ... Release layer, 4 ...
... Support, 5 ... Metal film transfer sheet, 6 ... Adhesive layer, 7
... Phosphor layer, 8 ... Black matrix layer, 9 ...
Face plate, 10 ... Anode, 11 ... Anode forming sheet, 12 ... Black metal film, 13 ... Metal film, 14 ... Metal film transfer sheet, 15 ... Micropores, 16 ... Micropores formed Metal film transfer sheet, 17 …… power supply, 18 …… ground, 19…
…electrode.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松尾 孝二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 相川 昇 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koji Matsuo 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Noboru Aikawa 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】シートと、前記シート上に形成された、表
面が粗な黒色樹脂層と、前記黒色樹脂層表面に形成され
た金属膜とを具備した金属膜転写シート。
1. A metal film transfer sheet comprising a sheet, a black resin layer having a rough surface formed on the sheet, and a metal film formed on the surface of the black resin layer.
【請求項2】黒色樹脂層に少なくともグラファイトとカ
ーボンが含有されていることを特徴とする請求項1記載
の金属膜転写シート。
2. The metal film transfer sheet according to claim 1, wherein the black resin layer contains at least graphite and carbon.
【請求項3】黒色樹脂層に含有されるグラファイトとカ
ーボンにより樹脂層表面が粗面化されたことを特徴とす
る請求項2記載の金属膜転写シート。
3. The metal film transfer sheet according to claim 2, wherein the surface of the resin layer is roughened by graphite and carbon contained in the black resin layer.
【請求項4】黒色樹脂層の表面平滑度が、ベック平滑度
で、400秒以下であることを特徴とする請求項1、2ま
たは3記載の金属膜転写シート。
4. The metal film transfer sheet according to claim 1, wherein the surface smoothness of the black resin layer is 400 seconds or less in terms of Bekk smoothness.
【請求項5】金属膜には、黒色樹脂層表面の凹凸の谷部
に於て、頂部での膜厚よりも薄い薄肉部が形成されてい
る事を特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記
載の金属膜転写シート。
5. The thin film portion, which is thinner than the film thickness at the top, is formed in the valley portion of the unevenness on the surface of the black resin layer in the metal film. The metal film transfer sheet according to any one of 1.
【請求項6】シートと黒色樹脂層との間に離型層が介在
する事を特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに
記載の金属膜転写シート。
6. The metal film transfer sheet according to claim 1, wherein a release layer is interposed between the sheet and the black resin layer.
【請求項7】支持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び
微細孔を有する金属膜を形成したことを特徴とする金属
膜転写シート。
7. A metal film transfer sheet comprising a black metal film having fine holes and a metal film having fine holes formed on a support.
【請求項8】支持体の一面に離型層を形成していること
を特徴とする請求項7記載の金属膜転写シート。
8. The metal film transfer sheet according to claim 7, wherein a release layer is formed on one surface of the support.
【請求項9】金属膜の微細孔は、放電により形成するこ
とを特徴とする請求項7または8記載の金属膜転写シー
トの製造方法。
9. The method for producing a metal film transfer sheet according to claim 7, wherein the fine holes in the metal film are formed by electric discharge.
【請求項10】金属膜の微細孔は、金属膜に突起物を圧
接して形成することを特徴とする請求項7または8記載
の金属膜転写シートの製造方法。
10. The method for producing a metal film transfer sheet according to claim 7, wherein the fine pores of the metal film are formed by pressing projections onto the metal film.
【請求項11】金属膜の微細孔は、サンドブラスト法を
用いて形成することを特徴とする請求項7または8記載
の金属膜転写シートの製造方法。
11. The method for producing a metal film transfer sheet according to claim 7, wherein the fine holes in the metal film are formed by a sandblast method.
【請求項12】請求項1から8の何れかに記載の金属膜
転写シートを用い、前記金属膜上に、更に蛍光体層、ブ
ラックマトリックス層を形成したアノード形成シート。
12. An anode forming sheet, comprising the metal film transfer sheet according to claim 1 further comprising a phosphor layer and a black matrix layer formed on the metal film.
【請求項13】請求項1から8の何れかに記載の金属膜
転写シートを用い、前記金属膜転写シート上の金属膜
を、ガラス基板上の蛍光体層に接着剤を介して押圧し、
その後金属膜転写シートをシートと黒色樹脂層との間で
剥離して黒色樹脂層及び金属膜を蛍光体層上に転写して
アノードを形成することを特徴とするアノード製造方
法。
13. The metal film transfer sheet according to claim 1, wherein the metal film on the metal film transfer sheet is pressed against a phosphor layer on a glass substrate via an adhesive,
Thereafter, the metal film transfer sheet is peeled off between the sheet and the black resin layer to transfer the black resin layer and the metal film onto the phosphor layer to form an anode.
【請求項14】請求項12に記載のアノード形成シートを
用い、前記アノード形成シートの最上面を接着層を介し
てガラス基板に押圧し、その後、前記アノード形成シー
トを、シートと黒色樹脂層との間で剥離して、前記アノ
ード形成シート上の黒色樹脂層から上層部を前記ガラス
基板に転写することにより、前記ガラス基板上にアノー
ドを形成し、焼成することを特徴とするアノード製造方
14. Using the anode forming sheet according to claim 12, the uppermost surface of the anode forming sheet is pressed against a glass substrate via an adhesive layer, and then the anode forming sheet is combined with a sheet and a black resin layer. The anode manufacturing method, characterized in that the anode is formed on the glass substrate by peeling between the two and transferring the upper layer portion from the black resin layer on the anode forming sheet to the glass substrate and firing.
【請求項15】アノードの焼成工程に於て、メタルバッ
ク層に微細孔が形成されることを特徴とする請求項13ま
たは14に記載のアノード製造方法。
15. The method of manufacturing an anode according to claim 13, wherein fine holes are formed in the metal back layer in the step of firing the anode.
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