JPH03261032A - Metal film transfer sheet and its manufacture and anode forming sheet and anode manufacture - Google Patents
Metal film transfer sheet and its manufacture and anode forming sheet and anode manufactureInfo
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Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は 陰極線管に関し 特にメタルバック層を有し
たアノードを効率的に形成する為の金属膜転写シートと
その製造法並びにアノード形成シート、並びにアノード
製造方法に関する。[Detailed Description of the Invention] Industrial Field of Application The present invention relates to cathode ray tubes, and in particular to a metal film transfer sheet for efficiently forming an anode having a metal back layer, a method for manufacturing the same, an anode forming sheet, and anode manufacturing. Regarding the method.
従来の技術
従来のカラーテレビの陰極線管アノード工程Cよ蛍光面
を槽底するガラス基板に適当な表面処理を施したのちP
VA−重クロム酸アンモニュウム感光液弘 パターン露
光・現像し グラファイト等の黒色物質を流転し リフ
トオフしてブラックマトリックス層を形成していた 蛍
光体パターンは、PVA−重クロム酸アンモニュウム感
光液中に蛍光体顔料を分散したスラリーを塗布・乾燥・
露光・現像・乾燥という工程を3回繰り返しR(赤)、
G(緑)、B(青)の各層を形成するという複雑なプロ
セスを用いていた
さらに蛍光体層を形成した後、鏡面の金属膜いわゆるメ
タルバック層を得るためニトロセルロース等を含有する
有機高分子膜を形成した後、真空蒸着法やスパッタリン
グ法等により所望のメタルバック層を形成していた そ
の後、内在する有機物を焼成分解して蛍光面を形成して
い九また シャドウマスクカラー管でば 通常電子ビー
ムの15〜20%がシャドウマスクを通過し蛍光体を発
光させ残りの80〜85%の電子ビム(友 シャドウマ
スクに衝突してシャドウマスクを昇温させその結果シャ
ドウマスクが熱膨張してパネルフェース方向に凸状に熱
変形を起こす(この現象をドーミングという)。この現
象が発生ずるとマスク孔とフェースパネル上の位置関係
がずれ極端な場合色ずれが発生し?。Conventional technology Conventional color television cathode ray tube anode process (C) After a suitable surface treatment is applied to the glass substrate that forms the bottom of the phosphor screen (P).
A VA-ammonium dichromate photosensitive solution was exposed and developed, and a black material such as graphite was flowed and lifted off to form a black matrix layer. Apply a slurry with pigment dispersed, dry it,
Repeat the process of exposure, development, and drying three times R (red),
A complex process was used to form each layer of G (green) and B (blue).After forming the phosphor layer, an organic polymer containing nitrocellulose etc. After forming the molecular film, a desired metal back layer is formed by vacuum evaporation or sputtering.Then, the organic matter present is decomposed by firing to form a phosphor screen. 15-20% of the electron beam passes through the shadow mask, causes the phosphor to emit light, and the remaining 80-85% of the electron beam collides with the shadow mask and heats up the shadow mask, causing the shadow mask to thermally expand. Thermal deformation occurs in a convex shape in the direction of the panel face (this phenomenon is called doming).When this phenomenon occurs, the positional relationship between the mask hole and the face panel becomes misaligned, and in extreme cases, color shift may occur.
発明が解決しようとする課題
上記したアノードの形成プロセス(戴 工程が非常に長
くかつ複雑であり、大型の真空蒸着装置やスパッタリン
グ装置が必要となりコストアップの原因となっていた
加えて、焼成工程においてメタルバック層の一部もしく
(ヨ 全体に膨れを生じる。これζよ 有機物の分解
により発生ずるガスがメタルバック層に妨げられて外部
へスムースに抜けきらないた△ ガス圧でメタルバック
層が膨れるものと考えられる。Problems to be Solved by the Invention The above-mentioned anode formation process was extremely long and complicated, requiring large-scale vacuum evaporation equipment and sputtering equipment, leading to increased costs.
In addition, during the firing process, some or all of the metal back layer swells. It is thought that the metal back layer swells due to pressure.
また特開昭62−185833号公報には、 剥離性を
有するベースフィルム上にメタルバック1mを有した転
写材を用へ 陰極線管のフェースプレート上に転写して
メタルバック層を形成する方法が提案され九 これに記
載の方法では、 工程の簡素化は上記従来技術に比べて
改善されるものQ上記の原因に基づくメタルバック層の
膨れについては依然として解決されていなし
この様な原因で発生するメタルバック層の膨れた部分で
は蛍光体の反射効率が低下し カラー受像管に於て局部
的な欠陥となって現れ 歩留まり低下の大きな原因であ
った
またドーミング対策として、メタルバック層(通常はア
ルミ膜)背面にカーボン黒化膜を形成して出画時のマス
クからの輻射熱を吸収し易くしメタルバック層からの熱
反射を低減して、マスクの温度上昇を抑制することによ
りドーミングレベルを改善すると共に黒浮きレベルの改
善も図ることが行なわれる力丈 メタルバック層に上記
の膨れが発生すると、黒化膜(輻射熱吸収物質)の塗布
状態が不均一となって電子ビームの透過効率に大きな差
が生し このため輝度ムラが発生する原因となっていた
な抵 上記の黒化膜の形成は、 スプレー等でアクリル
エマルジョンをメタルバック層上に塗布してバリヤ層を
形成L その上からグラファイトスラリーをスプレー
で塗布してグラファイト膜を形成するのが一般的な方法
であるバ スプレーによる作業であるために 均一な膜
厚形成あるいは膜厚の制御が困難であり、また空気中の
作業であるために ゴミなどが混入しやすいと言う問題
があっ氾 蛍光面の焼成時に内在する有機物の排出をス
ムースに行うためには、 この黒化層の厚みは必要最小
限の値でかつ均一になす必要がある力丈 従来のスプレ
ー法では、 この要求に対応できないことは明かである
。Furthermore, JP-A No. 62-185833 proposes a method of forming a metal back layer by using a transfer material having a metal back of 1 m on a removable base film and transferring it onto the face plate of a cathode ray tube. (9) Although the method described here is improved in terms of process simplification compared to the above-mentioned conventional technology, the problem of swelling of the metal back layer due to the above-mentioned causes has not yet been solved. In the swollen parts of the back layer, the reflection efficiency of the phosphor decreases, which appears as local defects in color picture tubes, which is a major cause of lower yields.Also, as a countermeasure against doming, a metal back layer (usually an aluminum film) is used to prevent doming. ) A carbon black film is formed on the back surface to make it easier to absorb the radiant heat from the mask during image output, reduce heat reflection from the metal back layer, and improve the doming level by suppressing the temperature rise of the mask. When the above-mentioned blisters occur in the metal back layer, the blackening film (radiant heat absorbing material) is coated unevenly, resulting in a large difference in electron beam transmission efficiency. This caused uneven brightness.The formation of the above-mentioned blackened film was done by applying an acrylic emulsion onto the metal back layer using a sprayer, etc. to form a barrier layer. The common method is to spray paint to form a graphite film, which makes it difficult to form a uniform film thickness or control the film thickness, and because the work is done in air. There is a problem in that it is easy for dirt to get mixed in. In order to smoothly discharge the organic matter present during firing of the phosphor screen, the thickness of this blackening layer must be the minimum necessary value and uniform. It is clear that traditional spraying methods cannot meet this demand.
課題を解決するための手段
上記課題を解決するための手段(戴 以下の通りである
。Means to solve the problem The means to solve the above problem (Dai) are as follows.
離型性が良好な基板シート上に 表面が適度に粗で且つ
メタルバック層としての金属膜に対して接着性の良い樹
脂材料で黒色樹脂層を形成し この黒色樹脂層上に転写
すべき金属膜を形成し 金属膜転写シートを形成する。A black resin layer is formed on a substrate sheet with good mold releasability using a resin material that has a moderately rough surface and has good adhesion to the metal film as the metal back layer, and the metal to be transferred onto this black resin layer. A film is formed to form a metal film transfer sheet.
この金属膜転写シート上の黒色樹脂層及び金属膜を蛍光
体層上に転写するようになすことである。The black resin layer and metal film on this metal film transfer sheet are transferred onto the phosphor layer.
あるいは、 上記の金属膜転写シート上の金属膜上に更
に蛍光体層を形成し これら黒色樹脂服金属焦 蛍光体
層を一括してフェースプレートに転写するようになすこ
とである。Alternatively, a phosphor layer is further formed on the metal film on the metal film transfer sheet, and these black resin metal pyrophosphor layers are transferred all at once to the face plate.
また離型性支持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び微
細孔を有する金属膜を形成した金属膜転写シートをガラ
ス基板上に形成した蛍光体層上に転写した後、内在する
有機物を焼成して蛍光面を形成する。あるいは離型性支
持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び微細孔を有する
金属膜を形成した金属膜転写シート上に 更に蛍光体層
ブラックマトリックス層を順次形成した後、ガラス基
板上に金属膜以下を一括転写した後、有機物を焼成して
蛍光面とするようにしている。In addition, after transferring a black metal film with micropores and a metal film transfer sheet on which a metal film with micropores is formed on a releasable support onto a phosphor layer formed on a glass substrate, the organic substances contained therein are fired. to form a fluorescent screen. Alternatively, after sequentially forming a phosphor layer and a black matrix layer on a metal film transfer sheet on which a black metal film with micropores and a metal film with micropores are formed on a releasable support, a metal film is placed on a glass substrate. After the following is transferred all at once, the organic matter is fired to form a phosphor screen.
作用 上記手段の作用は、 次の様になる。action The operation of the above means is as follows.
黒色樹脂層の表面ば 上記の通り適度に枇 すなわち表
面に適度な凹凸を有している。その表面上に蒸着等によ
り金属膜を形成すると頂部(凸部)に比べて、谷部(四
部)では金属膜の膜厚がかなりうすく形成されも すな
わち、金属膜にば 厚さの薄い薄肉部が点状に多数形成
される。そしてこの金属膜転写シートの黒色樹脂層及び
金属膜を接着層を介してフェースプレート等のガラス基
板上の蛍光体層に押圧したのち基板シートを剥離すると
、離型性が良好な基板シートと黒色樹脂層との間で剥離
が生よ 黒色樹脂層及び金属膜力東 ガラス基板側へ転
写されるのである。As mentioned above, the surface of the black resin layer is moderately rough, that is, the surface has moderate irregularities. When a metal film is formed on the surface by vapor deposition, etc., the thickness of the metal film is considerably thinner at the valleys (four parts) than at the top (convex parts). A large number of dots are formed. Then, when the black resin layer and metal film of this metal film transfer sheet are pressed onto the phosphor layer on a glass substrate such as a face plate through an adhesive layer and the substrate sheet is peeled off, the substrate sheet with good mold releasability and the black color are formed. Peeling occurs between the resin layer and the black resin layer and the metal film is transferred to the glass substrate side.
この転写された金属膜は、 上記のように点在する多数
の薄肉部を有する。この薄肉部は、 焼成工程における
有機物の焼成分解により発生する熱分解ガスのガス圧で
、 ピンホール状に簡単に破れてガスを逃がす。その結
果 メタルバック層の膨れあるいは膨れの破裂力t 完
全に防止される。しかね この薄肉部の破裂跡は、 ピ
ンホール状であり、メタルバック層としての機能は 全
く損なわれることが無い。This transferred metal film has a large number of scattered thin parts as described above. This thin-walled part easily ruptures in the shape of a pinhole under the gas pressure of the pyrolysis gas generated by the pyrolysis of organic matter during the firing process, allowing the gas to escape. As a result, the bursting force t of the bulge or bulge in the metal back layer is completely prevented. However, the rupture marks in this thin section are in the form of pinholes, and the function of the metal back layer is not impaired at all.
また 転写された金属膜主には 黒色樹脂層が形成され
ており、前記黒色樹脂層がシャドウマスクからの輻射熱
を吸収し またメタルバック層からの熱反射も少なくな
るので、シャドウマスクの温度上昇が抑えられ ドーミ
ング現象の発生を防止は 画像品質の向上が図れる。In addition, a black resin layer is formed mainly on the transferred metal film, and the black resin layer absorbs radiant heat from the shadow mask and also reduces heat reflection from the metal back layer, thereby reducing the temperature rise of the shadow mask. By preventing the doming phenomenon from occurring, image quality can be improved.
さらに−度メタルバック層に反射された二次電子も黒色
層に吸収され 鮮明な画像が得られる。Furthermore, the secondary electrons reflected by the metal back layer are also absorbed by the black layer, resulting in a clear image.
必要な厚さの黒色樹脂層は、 メタルバック層上に均一
に塗布形成することにより、簡単に厚みむらなく形成で
きる。A black resin layer of the required thickness can be easily and evenly formed by uniformly coating it on the metal back layer.
また 離型性支持体に 順次微細孔を有する黒色金属膜
及び、微細孔を有する通常の金属光沢を有する金属膜を
形成した金属膜転写シートを用いQ−
0−
てL 上記の効果 すなわ水 焼成時には 予め設けら
れた微細孔の効果で、膨れの発生が無く、また黒色金属
膜により、 ドーミング現象が、 抑えられる。In addition, using a metal film transfer sheet in which a black metal film having fine pores and a metal film having normal metallic luster having fine pores were formed on a releasable support, the above effect, that is, water During firing, due to the effect of the micropores provided in advance, no blistering occurs, and the black metal film suppresses the doming phenomenon.
また 前記の金属膜転写シート上に蛍光体パターンを形
成した蛍光面形成シートをフェースプレートに一括転写
して陰極線管のアノードを形成する事により大幅な工数
の低減が図れる。Further, by forming the anode of the cathode ray tube by collectively transferring the phosphor screen forming sheet in which the phosphor pattern is formed on the metal film transfer sheet to the face plate, the number of man-hours can be significantly reduced.
また 上記の金属膜 黒色金属膜等は、 蒸着にまり形
成できるの玄 膜厚の(It あるいは膜厚の均−性
等の極めて優れた膜を形成できる。Further, the above-mentioned metal film, such as a black metal film, can be formed by vapor deposition, and can be formed into a film with extremely excellent film thickness (It) or film thickness uniformity.
実施例
以下、本発明の実施例につき、図面に基づぎ説明を行な
う。Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be explained based on the drawings.
(第1実施例)
本実施例について、まず概要を、その後に詳細を説明す
る。(First Example) Regarding this example, an outline will first be explained, and then details will be explained.
第1図(a)11 本発明の金属膜転写シート5を断
面で示したものである。第1図(a)に於て、4は、
機械的強度・耐溶剤性の優れた支持体であリポリエチレ
ンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹
脂フィルムが用いられ このフィルムの厚さは3〜10
0μへ 好ましくは5〜50μmの範囲が好適である。FIG. 1(a) 11 shows a cross section of the metal film transfer sheet 5 of the present invention. In FIG. 1(a), 4 is
It is a support with excellent mechanical strength and solvent resistance, and various resin films such as polyethylene terephthalate, polyimide, and polyamide are used.The thickness of this film is 3 to 10 mm.
To 0 μm, preferably in the range of 5 to 50 μm.
3は、 離型層でありシリコーン、フッ棄 アクリル、
ワックス等の離型性が優れた材料を薄層にして用いられ
る。3 is a release layer made of silicone, fluorocarbon acrylic,
A thin layer of material with excellent mold releasability, such as wax, is used.
2は、 支持体4上に離型層3を介して形成された黒色
樹脂層であり、グラファイト、カーボンを含有して表面
が粗面化されている。黒色樹脂層2のバインダーとして
は、 熱分解性の良好なアクリル樹脂層 好適である。2 is a black resin layer formed on the support 4 via the mold release layer 3, and contains graphite and carbon to have a roughened surface. As the binder for the black resin layer 2, an acrylic resin layer with good thermal decomposition properties is suitable.
1は、 黒色樹脂層2上に真空蒸着、スパッタリング
等の方法で形成された金属膜(以阪 メタルバック層と
も称す)である。1 is a metal film (hereinafter also referred to as metal back layer) formed on the black resin layer 2 by a method such as vacuum deposition or sputtering.
第1図(b)LL、 同図(a)に示す金属膜転写シ
ート5を、接着層6を介してブラックマトリックス層8
、蛍光体層7を有するガラス基板9に押圧した後、離型
層3を有する基板シート4を剥すようにして、金属膜転
写シートS上の黒色樹脂層2、金属膜lを蛍光体層7上
に転写している状態を示している。The metal film transfer sheet 5 shown in FIG. 1(b) LL is applied to the black matrix layer 8 through the adhesive layer 6.
After pressing the glass substrate 9 having the phosphor layer 7, the substrate sheet 4 having the release layer 3 is peeled off, and the black resin layer 2 and the metal film l on the metal film transfer sheet S are transferred to the phosphor layer 7. This shows the state where the image is transferred to the top.
1
2−
黒色樹脂層2は、 詳細は後述する力丈 金属膜1に対
して接着性が良好てξ 且つ離型層3に対しては 接着
性が極端に弱いので黒色樹脂層2及び金属膜1は、 離
型層3より剥離して蛍光体層7上に転写される。かくし
て、蛍光体層7上に 目的とする黒色樹脂層2を有する
金属膜lが形成されるのである。1 2- The black resin layer 2 has good adhesion to the metal film 1 (details will be described later), and has extremely weak adhesion to the release layer 3, so the black resin layer 2 and the metal film 1 is peeled off from the release layer 3 and transferred onto the phosphor layer 7. In this way, a metal film l having the desired black resin layer 2 is formed on the phosphor layer 7.
以下に本実施例を更に詳細に説明する。This example will be explained in more detail below.
シート状の支持体4の厚さは、 通常3〜100μm程
度であればよい力<、 5〜50μmの範囲が好適であ
り、本実施例で(表 25μmである。The thickness of the sheet-like support 4 should normally be about 3 to 100 .mu.m, but preferably 5 to 50 .mu.m, and in this example, it was 25 .mu.m.
黒色樹脂層2は、 母材のアクリル樹脂100重量部に
対して、平均粒径■μmのグラファイトを20重量餓
カーボンブラックを5重量餓 溶剤としてトルエンを1
000重量部添加し ホモミキサーにて20分間混練し
て得られた塗料をワイヤーバーにて、支持体4上に2μ
mの厚さに塗布したものである。得られた塗布層(上
グラファイトの板状結晶と微細なカーボンブラックの為
に表面には適度の凹凸が形成された黒色の粗面層となる
。その表面平滑度は、 ベック平滑度で200秒であっ
起
次に 黒色樹脂層2上に真空蒸着により、アルミの金属
膜1を形成しtも 金属膜1の厚みは、 第1図(a
)に示す様に黒色樹脂層2の表面の凹凸の頂部(凸部)
で最も厚く、谷部(凹部)で最も薄く形成される。本実
施例では、 頂部での膜厚を約1000オングストロー
ムとし氾 そのとき、谷部での厚みは、 約200〜3
00オングストロームであっ丸 この様に 金属膜1の
厚さ(友 黒色樹脂層2の表面粗さの影響を受け、凹部
位置に薄肉部が多数形成される。The black resin layer 2 is made by adding 20 parts by weight of graphite with an average particle size of ■μm to 100 parts by weight of the acrylic resin as the base material.
Starve 5 weights of carbon black and add 1 portion of toluene as a solvent.
000 parts by weight was added and kneaded for 20 minutes using a homomixer.
It was coated to a thickness of m. The resulting coating layer (top
Due to the graphite plate crystals and fine carbon black, the surface becomes a black rough layer with moderate unevenness. The surface smoothness was 200 seconds according to Bekk smoothness. Then, the aluminum metal film 1 was formed on the black resin layer 2 by vacuum evaporation. The thickness of the metal film 1 was as shown in Fig. 1 (a).
), the tops (convex parts) of the unevenness on the surface of the black resin layer 2
It is thickest at the bottom and thinnest at the valleys (concavities). In this example, the film thickness at the top is about 1000 angstroms, and the thickness at the valleys is about 200 to 300 angstroms.
In this way, a large number of thin-walled portions are formed at the recessed portions due to the influence of the surface roughness of the black resin layer 2 due to the thickness of the metal film 1.
その後、蛍光体層7上に酢酸ビニル系の接着層6を塗布
し 第1図(b)に示す様にして、離型層3上に形成さ
れた黒色樹脂層2及び金属膜lを圧着転写して、ガラス
基板9上に更に黒色樹脂層2と金属膜1を有するアノー
ド10を形成した本実施例との比較のたべ グラファイ
トとカーボンブラックを含有せず、従って表面が滑らか
な樹脂層上に形成されたアルミ蒸着膜を転写したア3−
4
ノード(以後、このアノードを比較例と呼ぶ)を、同様
にしてガラス基板上に形成した
その後の焼成工程に於て、約250℃の昇温により、本
実施例のアノードの金属膜には、 5〜10μmの微細
孔が形成されていることが顕微鏡観察によって確認され
?、 一方比較例の金属膜には、この様な微細孔は、
形成されておらず多数の小さな膨れの発生が認められ
た 更に温度を」二げて、450℃で1時間の焼成を行
った後では 本実施例の場合には接着層6等に含まれる
有機物は 完全に焼失、熱分解されると共に 金属膜l
であるアルミ膜には 膨れが全く発生しておら哄 極め
て良好な表面状態を保っており、黒色樹脂層もバインダ
ーがすべて熱分解しグラファイト等の黒色層が形成され
良好なアノードが得られたそれに対し 比較例のアノ
ードでは、 アルミ膜全面にわたって大きな膨れが発生
しており、中には膨れが破裂に至ったものも認められる
状態であつ九
この様に 本実施例では、 金属膜に多数点在す5−
る上記薄肉部力交 焼成工程に於て、金属膜下面の有機
物(例えば接着剤)から発生するガス圧により破れてピ
ンホール状の多数の微細孔を形成しこれがガス抜き穴と
して機能して金属膜の膨れを完全に防止しているのであ
る。それに対して、比較例の場合には、 金属膜にはこ
の様な微細孔が形成されないために金属膜下のガスが抜
けずミ 膨れや膨れの破裂といった損傷を受けるのであ
る。After that, a vinyl acetate adhesive layer 6 is applied on the phosphor layer 7, and the black resin layer 2 and metal film l formed on the release layer 3 are transferred by pressure as shown in FIG. 1(b). This is a comparison with the present example in which an anode 10 having a black resin layer 2 and a metal film 1 was further formed on a glass substrate 9. An a3-4 node (hereinafter referred to as a comparative example) to which the formed aluminum evaporated film was transferred was formed on a glass substrate in the same manner. In the subsequent firing process, the temperature was raised to about 250°C. It was confirmed by microscopic observation that micropores of 5 to 10 μm were formed in the metal film of the anode of this example. , On the other hand, in the metal film of the comparative example, such micropores are
In the case of this example, the organic matter contained in the adhesive layer 6, etc. is completely burnt out and thermally decomposed, and the metal film l
The aluminum film had no blistering at all and maintained an extremely good surface condition, and the black resin layer had all the binder thermally decomposed and a black layer of graphite etc. was formed, resulting in a good anode. On the other hand, in the anode of the comparative example, large blisters were generated over the entire surface of the aluminum film, and some of the blisters were even seen to have burst. During the firing process, the metal film is ruptured by the gas pressure generated from the organic matter (e.g. adhesive) on the lower surface of the metal film, forming a large number of pinhole-shaped micropores, which function as gas vent holes. This completely prevents the metal film from blistering. On the other hand, in the case of the comparative example, such fine pores are not formed in the metal film, so the gas under the metal film cannot escape, resulting in damage such as blistering or bursting of the blisters.
本実施例で得られた金属膜は、 陰極線管のメタルバッ
ク層として充分な特性を有するものであり、更にグラフ
ァイト等の黒色層の効果で、 ドーミングを抑制し 又
2次電子も前記黒色層に吸収され画像としても極めて鮮
明なものが得られた本実施例では、 従来の技術すなわ
ち周知の技術でガラス基板上に蛍光面を形成した後、蛍
光体層の表面平滑化の為有機膜を形成し ガラス基板ご
と蒸着装置内に導入してアルミ蒸着を行L\ 更に黒色
樹脂層をスプレー等でアルミ膜上に吹き付けて黒色層を
形成していた従来の工程に比べ 大幅な工数の短縮及び
コストの低減が可能となる。The metal film obtained in this example has sufficient characteristics as a metal back layer of a cathode ray tube.Furthermore, the effect of the black layer such as graphite suppresses doming, and secondary electrons also flow into the black layer. In this example, an extremely clear image was obtained due to absorption. After forming a phosphor screen on a glass substrate using a conventional technique, that is, a well-known technique, an organic film was formed to smooth the surface of the phosphor layer. The glass substrate is then introduced into the evaporation equipment to perform aluminum evaporation.Compared to the conventional process, in which a black resin layer is sprayed onto the aluminum film to form a black layer, the number of man-hours and costs are significantly reduced. It is possible to reduce the
6−
また本実施例の黒色樹脂層の表面粗度ば グラファイト
の含有率により決まり、 2〜50wt%好ましくは、
5〜a owt%のグラファイト含有率の組成で、ベ
ック平滑度で400秒以下のものであれば 焼成機の金
属膜に 5〜30μm程度の良好な微細孔を得ることが
出来る。6- Also, the surface roughness of the black resin layer in this example is determined by the graphite content, preferably 2 to 50 wt%,
If the composition has a graphite content of 5 to 50% by weight and a Bekk smoothness of 400 seconds or less, it is possible to obtain fine pores of about 5 to 30 μm in the metal film of the firing machine.
また 金属膜をニッケルとしても良好なメタルバック層
を得ることが出来る。Also, a good metal back layer can be obtained by using nickel as the metal film.
な抵 離型層3を形成せず、支持体4と黒色樹脂層2と
の剥離を、黒色樹脂層2内で凝集破壊を生じせしめて行
ち\ 金属膜を転写するようになすことも可能である。It is also possible to perform peeling between the support 4 and the black resin layer 2 by causing cohesive failure within the black resin layer 2 and transferring the metal film without forming a resistive release layer 3. It is.
あるいは支持体4と黒色樹脂層2との離型性が極めて良
好な場合は、 特に離型層3を形成せずとL 金属膜層
と黒色樹脂層とが、 −括転写される。Alternatively, when the release properties between the support 4 and the black resin layer 2 are extremely good, the metal film layer and the black resin layer are collectively transferred without forming the release layer 3.
(第2実施例〉 第2実施例を、第2図を用いて説明する。(Second example) A second embodiment will be explained using FIG. 2.
第2実施例は 第2図(a)の様に 上記第1実施例で
示した構成の金属膜転写シート4の上に更に蛍光体層7
、 ブラックマトリックス層8を形成してアノード形成
シート11となし これを第2図(b)のごとく接着層
6を介してガラス基板9に対向圧着させたのち支持体4
を剥ぐように取ると、アノード形成シートは離型層3と
黒色樹脂層2との間で剥離して、ガラス基板9上に黒色
樹脂層を有したアノード10が形成されるのである。In the second embodiment, as shown in FIG. 2(a), a phosphor layer 7 is further provided on the metal film transfer sheet 4 having the structure shown in the first embodiment.
, a black matrix layer 8 is formed to form an anode forming sheet 11, which is pressure bonded to a glass substrate 9 via an adhesive layer 6 as shown in FIG. 2(b), and then a support 4 is formed.
When the anode forming sheet is peeled off, the anode forming sheet is peeled off between the release layer 3 and the black resin layer 2, and an anode 10 having a black resin layer is formed on the glass substrate 9.
以下、第2実施例を詳細に説明する。The second embodiment will be described in detail below.
厚さ12μmのPETフィルムの支持体4上にシリコン
膜を1μmの厚さに塗布して離型層3を形成した この
離型層3上に 第1表に記載の組成の黒色樹脂層2を3
μmの厚さに塗布した黒色樹脂層の平滑度は、 ベック
平滑度で100秒であった
(以下、余白)
7−
第1表
第2表
この黒色樹脂層2上にアルミ膜を1000オングストロ
ームの厚さに蒸着して、金属膜1を形成した 第1実施
例と同様に アルミ膜の最も厚い部分は、 黒色樹脂層
2の表面の凹凸の頂部(凸部)に形成され 薄肉部は谷
部(凹部)に形成される。A release layer 3 was formed by applying a silicone film to a thickness of 1 μm on a PET film support 4 having a thickness of 12 μm.A black resin layer 2 having the composition shown in Table 1 was formed on this release layer 3. 3
The smoothness of the black resin layer coated to a thickness of μm was 100 seconds in terms of Bekk smoothness (hereinafter referred to as the margin). Similar to the first embodiment in which the metal film 1 was formed by vapor deposition to a certain thickness, the thickest part of the aluminum film is formed on the tops (convex parts) of the irregularities on the surface of the black resin layer 2, and the thin parts are in the valleys. (concavity).
(以下、余白)
9−
さらに 第2表に記載の組成物をセラミック3本ロール
にて、 3回通して練肉し緑色蛍光体インクを作成した
同様にして、赤色蛍光体イン久 青色蛍光体インクを作
成し池
ガラス基板上に 金属膜1を有する支持体4を固定し
グラビアオフセット方式により、金属膜加−
1上に 緑色蛍光体パターンを印刷し九 以後、順次赤
色蛍光体 青色蛍光体を所定の位置に印刷LR,G、B
3色の蛍光体パターンを金属膜■上に形威しん 印刷さ
れたパターンは、 ストライプの均一性、精度 光学特
性共に満足するものであった
さらに第3表の組成のブラックマトリックス4Jを用い
て、蛍光体パターン7と同様のグラビアオフセット方式
により金属膜転写シート5上に ブラックマトリックス
層8を連続して印刷した上記のようにして、金属膜上に
蛍光体層及びブラックマトリックス層を印刷して得ら
れたアノード形成シート11の最上面に 接着層6とし
てアクリル粘着剤(イソデシルメタアクリレート)を3
ミクロンの厚さで一様に塗布した
(以下、余白)
第3表
このアノード形成シート11を、フェースプレートとな
るガラス基板9に接着層6を介して対向させて圧着し
アノード形成シートの離型層3が塗布された支持体4を
剥離してガラス基板9上にブラックマトリックス層8、
蛍光体層7、メタルバック層l及び黒色樹脂層2を転写
し形成し九そして、昇温条件10℃/分、 450’C
1時間保持の条件で焼成した その結果、良好なブラッ
ク1
−麓−
マトリックス層8と蛍光体層7及び微細孔が形成された
メタルバック層としての金属膜1及び黒色層2が得られ
良好なアノードが形成され九このアノードは、 カラ
ー陰極線管アノードとして充分に特性を満足するもので
あった
尚本実施例に於て、アクリル粘着剤(戴 フェスプレー
トとなるガラス基板9上あるいはブラックマトリックス
層8上の何れに塗布しておいても良いこと(凰 勿論で
ある。(Hereinafter, blank space) 9- Furthermore, green phosphor ink was prepared by kneading the composition listed in Table 2 three times using three ceramic rolls.In the same manner, red phosphor ink and blue phosphor were mixed. An ink is prepared and a support 4 having a metal film 1 is fixed on a glass substrate.
Using the gravure offset method, a green phosphor pattern is printed on the metal film 1. After that, red phosphor and blue phosphor are sequentially printed at predetermined positions LR, G, B.
A three-color phosphor pattern was printed on a metal film.The printed pattern was satisfactory in terms of stripe uniformity, precision, and optical properties.Furthermore, using black matrix 4J with the composition shown in Table 3, The black matrix layer 8 was continuously printed on the metal film transfer sheet 5 using the gravure offset method similar to the phosphor pattern 7.The phosphor layer and the black matrix layer were printed on the metal film as described above. 3 acrylic adhesive (isodecyl methacrylate) is applied as the adhesive layer 6 on the top surface of the anode forming sheet 11.
The anode forming sheet 11 was coated uniformly with a thickness of microns (hereinafter referred to as blank space).
The support 4 coated with the release layer 3 of the anode forming sheet is peeled off and a black matrix layer 8 is placed on the glass substrate 9.
The phosphor layer 7, the metal back layer 1, and the black resin layer 2 were transferred and formed.Then, the temperature was increased to 10°C/min, 450'C.
As a result, a good black matrix layer 8, a phosphor layer 7, a metal film 1 as a metal back layer in which micropores were formed, and a black layer 2 were obtained. This anode satisfies the characteristics sufficiently as a color cathode ray tube anode. You can apply it to any of the above (O: Of course.
(第3実施例)
第3図(b)i;L 本発明の第3実施例の金属膜転
写シート16の断面図である。(Third Embodiment) FIG. 3(b)i;L is a sectional view of a metal film transfer sheet 16 according to a third embodiment of the present invention.
先ず第3図(a)に於て、 4は機械的強度、耐溶剤性
の優れた支持体であり、ポリエチレンテレフタレート(
PET)、ポリイミドミ ポリアミド等の各種樹脂フィ
ルムが用いられる。3は、 支持体4上に密着して形成
された離型層であり、その材料としては、 シリコン、
テフロン、アクリ取ワックス家 離型性が良好な樹脂が
好適である。First, in FIG. 3(a), 4 is a support with excellent mechanical strength and solvent resistance, and is made of polyethylene terephthalate (
Various resin films such as PET), polyimide, and polyamide are used. 3 is a release layer formed in close contact with the support 4, and its material includes silicon,
Teflon, acrylic wax, etc. Resins with good mold releasability are preferred.
12は 黒色金属膜であり、低真空で蒸着を行−お−
なうことにより、いわゆる金属光沢を全くもたない黒色
の金属膜を得ることが出来る。この黒色金属膜は、 ド
ーミング対策及び2次電子対策として極めて有効である
。 13は、 金属光沢を有する通常の金属膜であり、
蛍光体で発した光を、金属膜の鏡面作用により反射させ
、輝度の向上を図るためのものである。12 is a black metal film, and by performing vapor deposition in a low vacuum, a black metal film having no so-called metallic luster can be obtained. This black metal film is extremely effective as a countermeasure against doming and secondary electrons. 13 is a normal metal film with metallic luster,
This is to improve brightness by reflecting the light emitted by the phosphor using the mirror effect of the metal film.
次に第3図(b)に示す様に 同図(a)の金属膜転写
シートの2層の金属膜12、13に 微細孔15を形成
する。この微細孔15の大きさとしては、 輝度の低下
を防ぐ意味で出来るだけ小さい方が望ましく、 50μ
m以下、好ましく(ヨ5〜30μmの大きさの微細孔が
均一に分散されて形成されるならば 最終工程に於ける
450℃の焼成に於いて、金属膜表面に膨れ等の発生が
無く、良好なメタルバック層として使用可能である。Next, as shown in FIG. 3(b), micropores 15 are formed in the two layers of metal films 12 and 13 of the metal film transfer sheet shown in FIG. 3(a). The size of the micropores 15 is preferably as small as possible in order to prevent a decrease in brightness, and is 50 μm.
m or less, preferably (if micropores with a size of 5 to 30 μm are uniformly distributed and formed, no blisters will occur on the metal film surface during firing at 450°C in the final step, It can be used as a good metal back layer.
第3図(C)は、 同図(b)の金属膜転写シー)16
を接着層6を介してブラックマトリックス層8、蛍光体
層7を有するガラス基板9に押圧した後、基板シート4
を剥すようにして、金属膜転写シー
写シート16上の微細孔15を有する黒色金属膜12及
び微細孔を有する金属膜13を蛍光体層」二に 転写し
ている状態を示している。基板シートに形成された離型
層3の効果により、前記2層の金属膜12、13 ft
支持体4より離型し 蛍光体層7上に転写され目的
とするメタルバック層か蛍光体層7上に形威されるので
ある。Figure 3 (C) is the metal film transfer sheet of Figure 3 (b).
is pressed onto a glass substrate 9 having a black matrix layer 8 and a phosphor layer 7 via an adhesive layer 6, and then the substrate sheet 4
The black metal film 12 having micropores 15 and the metal film 13 having micropores on the metal film transfer sheet 16 are transferred to the phosphor layer 2 by peeling off the sheet. Due to the effect of the release layer 3 formed on the substrate sheet, the two metal films 12 and 13 ft.
It is released from the support 4, transferred onto the phosphor layer 7, and is then formed onto the desired metal back layer or phosphor layer 7.
以下に 本実施例を更に詳細に説明する。This example will be explained in more detail below.
基板シー1−4ノ厚す(ヨ 通常3−1007.1m
11.1度であればよい力<、 5〜50Atmの範囲
が好適であり、本実施例で1112μmである。離型層
3は シリコン樹脂を2μmの厚さに形成し?、 前
記離型層3上に 比較的低真空度すなわち1o−2から
10−’Torr程度の真空雰囲気でアルミ蒸着を施し
800オングストロームの厚さの黒色金属膜12を形
威し さらに 前記雰囲気よりも高真空すなわち10−
6から10−’To r rの高真空雰囲気下でアルミ
蒸着を施り、 1000オングストロームの金属光沢
を有する白色の金属膜13を形成した
次に 前記金属膜転写シートに微細孔15を形成する方
法を示す。Board seam 1-4 thickness (normally 3-1007.1m)
The force should be 11.1 degrees <, A range of 5 to 50 Atm is suitable, and in this example, it is 1112 μm. The release layer 3 is made of silicone resin with a thickness of 2 μm. , Aluminum vapor deposition is performed on the release layer 3 in a relatively low vacuum atmosphere, that is, a vacuum atmosphere of about 10-2 to 10-' Torr, and a black metal film 12 with a thickness of 800 angstroms is formed. High vacuum i.e. 10-
A method of performing aluminum evaporation in a high vacuum atmosphere of 6 to 10 Torr to form a white metal film 13 with a metallic luster of 1000 angstroms, and then forming micropores 15 in the metal film transfer sheet. shows.
微細孔の形成法は第4図のごとく、第3図(a)に示し
た金属膜転写シート14に 微細突起を設けた円筒状電
極19を圧接して回転させつつ、 10〜30Vの電圧
で放電を行い金属膜面に微細孔を形成するものである。As shown in FIG. 4, the method for forming micropores is to press a cylindrical electrode 19 provided with micro projections onto the metal film transfer sheet 14 shown in FIG. 3(a) and apply a voltage of 10 to 30 V while rotating. This method generates electrical discharge to form micropores on the surface of the metal film.
次に微細孔の開口率及び大きさの影響を明らかにするた
めに 放電による微細孔形成工程を0回から6回と変え
て転写シートに形成される微細孔の数を変化させた金属
膜転写シート16を作成し九 形成された微細孔の状態
を定量的に把握するため画像解析装置を用いて微細孔の
開口率及び大きさを測定し丸
この開口率及び大きさの異なる微細孔を有した6種の金
属膜転写シートを、第3図(c)に示す様に 従来の周
知の技術でガラス基板9上に形成された蛍光体層7上に
アクリル粘着剤(イソデシルメタアクリレート)6を介
して圧接し 前記蛍光体層7上に微細孔を形成した黒色
金属膜12及−ろ−
6−
び微細孔を有する金属光沢を鳴した金属膜13を転写さ
せた後、支持体4を剥離し ガラス基板9上に メタル
バック層を有するアノード10aを形成した
さらに このアノードを450℃で焼成して有機物を分
解焼成し カラー陰極線管のアノードを形成し?、
この時、アルミ蒸着膜の微細孔の形成状態により第4表
の様に焼成後のメタルバック層の表面状態に大きな差異
が発生した
この原因は、 予め形成された微細孔力<、 450℃
焼成時にガス抜き穴として機能して、金属膜層の膨れを
完全に防ぐことが出来れば良好なメタルバック層の形成
が可能となる力曵 微細孔の開口率が充分で無い場合に
は、 金属膜面には、 無数の膨れとなって現れる。Next, in order to clarify the influence of the aperture ratio and size of micropores, we performed metal film transfer by varying the number of micropores formed on the transfer sheet by changing the micropore formation process by electric discharge from 0 times to 6 times. 9. In order to quantitatively understand the state of the formed micropores, the aperture ratio and size of the micropores were measured using an image analysis device, and the micropores with circular aperture ratios and sizes were determined. As shown in FIG. 3(c), an acrylic adhesive (isodecyl methacrylate) 6 is applied to a phosphor layer 7 formed on a glass substrate 9 using a conventional well-known technique. After transferring the black metal film 12 with micropores formed on the phosphor layer 7 and the metal film 13 with micropores with a metallic luster through pressure contact, the support 4 is transferred. After peeling, an anode 10a having a metal back layer was formed on the glass substrate 9, and then this anode was fired at 450°C to decompose the organic matter to form an anode for a color cathode ray tube. ,
At this time, there was a large difference in the surface condition of the metal back layer after firing as shown in Table 4, depending on the state of formation of micropores in the aluminum vapor deposited film.The reason for this is that the force of the micropores formed in advance <, 450℃
If the metal film layer functions as a gas vent hole during firing and can completely prevent swelling of the metal film layer, it will be possible to form a good metal back layer. Numerous blisters appear on the membrane surface.
第4表からも明かな様に アルミ蒸着膜に全く微細孔を
開けない場合は アルミ蒸着膜の全域に膨れが発生しr
= 放電により微細孔を設けたアルミ蒸着膜の場合(
友 放電回数1回では若干の膨れ(以下、余白)
一冑
第4表
が発生したが放電回数2回以上では、 良好なメター別
ルパック層が形成された 特に3回以上になればより安
定したメタルバック層が得られtも 微細孔の大きさ
は直径15μm程度の大きさが平均値でありそれが50
μm以上の孔になると輝度の低下につながる。As is clear from Table 4, if no micropores are made in the aluminum vapor deposited film, blisters will occur over the entire area of the aluminum vapor deposited film.
= In the case of an aluminum vapor-deposited film with micropores created by electrical discharge (
Tomo: When the number of discharges is 1, slight swelling (hereinafter referred to as the margin) and Table 4 of Ichikushi occurred, but when the number of discharges is 2 or more, a good metal-based lupac layer is formed.Especially when the number of discharges is 3 or more, it becomes more stable. A metal back layer is obtained and the average size of the micropores is about 15 μm in diameter, which is 50 μm.
Holes larger than μm lead to a decrease in brightness.
焼成条件は、 昇温速度10℃/分で、 450℃1時
間保持である。The firing conditions were as follows: temperature increase rate was 10°C/min, and the temperature was maintained at 450°C for 1 hour.
この結果より、微細孔の開口率は、 5%以上あれば焼
成した後、良好なメタルバック層が、 形成されること
が判る。This result shows that if the aperture ratio of micropores is 5% or more, a good metal back layer will be formed after firing.
(第4実施例)
第3図(a)の金属膜転写シー)14を、 2枚のサン
ドペーパー(:#1000)で挾へ 圧着ローラーを線
圧4 K g / c mに設定し そのローラー間を
前記2枚のサンドペーパーで挟持された金属膜転写シー
トを5回通過させて開口率10%平均孔径10〜20μ
mの微細孔を有する金属膜転写シートを得1. さら
に 第3実施例と同様にして、ガラス基板9上に形成さ
れた蛍光体層8上+’y 前記金属膜転写シートを圧
着転写し 450℃1時間焼成したところ強固に接着し
た良好なメタルバック層を得tら
(第5実施例)
第3図(a)の金属膜転写シート14を、サンドブラス
ト法(COMCO社製)の装置を用い#1500パスの
カーボランダム(平均流径1μm)を中速で吹き付け、
開口率89/、平均孔径5〜8μmの微細孔を形成しt
あ
第4実施例と同様に蛍光体層面に圧着転写し450℃1
時間焼戒した焼成ろ強固に接着した良好なメタルバック
層を得た
(第6実施例)
第3図(a)の金属膜転写シート14に施した放電加工
により開口率10%のアルミ転写シートを得tら
さらに 第5表の組成物をセラミック3本ロールにて、
3回通して練肉し蛍光体インクを作成した
(以下、余白)
一四−
−加一
第5表
パターンは、 ストライブの均−法 精度、光学特性共
に満足するものであった
さらにブラックマトリックス層を第6表の組成で作成し
蛍光体パターンと同様のグラビアオフセット方式によ
り1アルミ転写シート上に連続して印刷し氾
第6表
同様にして、赤色蛍光体イン久 青色蛍光体インクを作
成しtも
ガラス基板上に前記微細孔を形成した金属膜転写シート
固定限 グラビアオフセット方式により、緑色蛍光体パ
ターンを印刷し起 以後、順次赤色蛍光像 青色蛍光体
を所定の位置に印刷LR1G、83色の蛍光体パターン
を得た 印刷された金属膜転写シートlB上に 蛍光体
層及びブラックマトリックス層を印刷した後、ガラス基
板上31
一〇−
にアクリル粘着剤(イソデシルメタアクリレート)を3
ミクロンの厚さで一様に塗布した面に圧着しさらに金属
膜転写シートの基板シートを剥離してガラス基板上にブ
ラックマトリックス層及び蛍光体層及び微細孔を有する
黒色金属膜12及び、微細孔を有する金属膜13を形成
して、アノードを得た そして、昇温条件10℃/分、
450℃1時間保持の条件で焼成したところ良好なアノ
ードが形成され池 このアノード(飄 カラー陰極線管
アノードとして充分な特性のものが得られ九発明の効果
以上の説明から明らかなように本発明は、 黒色樹脂層
上に金属膜を形成した 金属膜転写シートを陰極線管フ
ェースプレート上の蛍光体層に転写して、基板シートを
剥離後、焼成してアノードを形成するたム 大型の設備
が不要となりまた大幅な工数の低減が図れ 大幅なコス
トの低減が可能となる。(Fourth Example) Place the metal film transfer sheet (14) in Fig. 3(a) between two sheets of sandpaper (#1000). Set the pressure roller at a linear pressure of 4 Kg/cm and press the roller. The metal film transfer sheet sandwiched between the two pieces of sandpaper is passed through the sheet 5 times to obtain an aperture ratio of 10% and an average pore diameter of 10 to 20μ.
1. Obtain a metal film transfer sheet having micropores of m. Further, in the same manner as in the third example, the metal film transfer sheet was pressure-transferred onto the phosphor layer 8 formed on the glass substrate 9, and baked at 450°C for 1 hour, resulting in a good metal back with strong adhesion. Obtaining a Layer (Fifth Example) The metal film transfer sheet 14 shown in FIG. 3(a) was heated through #1500 pass carborundum (average flow diameter 1 μm) using a sandblasting device (manufactured by COMCO). Spray at high speed,
Fine pores with an aperture ratio of 89/ and an average pore diameter of 5 to 8 μm are formed.
A Pressure transfer onto the phosphor layer surface as in the fourth example and heat at 450℃1
An aluminum transfer sheet with an aperture ratio of 10% was obtained by electric discharge machining performed on the metal film transfer sheet 14 shown in FIG. 3(a). (Sixth Example) Further, the composition shown in Table 5 was prepared using three ceramic rolls.
The phosphor ink was created by kneading it three times (hereinafter referred to as the margin).The pattern shown in Table 5 was obtained using the black matrix method. Create a layer with the composition shown in Table 6, print it continuously on an aluminum transfer sheet using the same gravure offset method as the phosphor pattern, and create red phosphor ink and blue phosphor ink in the same manner as in Table 6. Then, a green phosphor pattern was printed using the gravure offset method on a fixed metal film transfer sheet with the fine holes formed on the glass substrate.Then, a red phosphor image and a blue phosphor were sequentially printed at predetermined positions.LR1G, 83 After printing a phosphor layer and a black matrix layer on the printed metal film transfer sheet 1B on which a colored phosphor pattern was obtained, an acrylic adhesive (isodecyl methacrylate) was applied to the glass substrate.
A black metal film 12 having a black matrix layer, a phosphor layer, and micropores is formed on the glass substrate by pressing onto the uniformly coated surface with a thickness of microns and then peeling off the substrate sheet of the metal film transfer sheet. An anode was obtained by forming a metal film 13 having a heating condition of 10° C./min.
When fired at 450°C for 1 hour, a good anode was formed. , A metal film transfer sheet with a metal film formed on a black resin layer is transferred to the phosphor layer on the cathode ray tube face plate, and after peeling off the substrate sheet, it is fired to form the anode.Large equipment is not required. This also enables a significant reduction in man-hours and costs.
また 金属膜上に形成された黒色樹脂層により、ドーミ
ング現象が抑制され 更に2次電子対策にも貢献するた
め、大幅な、画質の向上が図れる。Furthermore, the black resin layer formed on the metal film suppresses the doming phenomenon and also contributes to countermeasures against secondary electrons, resulting in a significant improvement in image quality.
さらに、黒色樹脂層上に金属膜を形成した金属膜転写シ
ート上に、蛍光体層及びブラックマトリックス層を形成
し陰極線管フェースプレート上に一括転写し、基板シー
トを剥離後、焼成することにより更に簡単にカラー陰極
線管のアノードが形成される。Furthermore, a phosphor layer and a black matrix layer are formed on a metal film transfer sheet in which a metal film is formed on a black resin layer, and the layers are transferred all at once onto a cathode ray tube face plate, and the substrate sheet is peeled off and then baked. The anode of a color cathode ray tube is easily formed.
また、微細孔を有する黒色金属膜及び微細孔を有する金
属膜を積層して用いることにより上記と同様の効果が得
られる。Furthermore, the same effect as described above can be obtained by stacking and using a black metal film having micropores and a metal film having micropores.
この様に、本発明は陰極線管やプラズマデイスプレィ等
の蛍光体製品に応用して大なる効果を発揮するものであ
る。As described above, the present invention can be applied to phosphor products such as cathode ray tubes and plasma displays to great effect.
第1図(a)は、本発明の実施例の金属膜転写シートの
断面図、第1図(b)は、第1図(a)の金属膜転写シ
ートを用いたアノードの形成工程図、第2図(a)は、
アノード形成シートの断面図、第2図(b)は、第2図
(a)のアノード形成シートを用いたアノードの形成工
程図、第3図−羽−
4−
(a)は、本発明の実施例の金属膜転写シートの断面図
、第3図(b)は、同図(a)の金属膜転写シートに、
微細孔を形成した金属膜転写シートの断面図、第3図(
C)は、同図(b)の金属1漠転写シートを用いたアノ
ードの形成工程図、第4図は、放電加工による微細孔の
形成工程図である。
1・・・金属膜、2・・・黒色樹脂層、3・・・離型層
、4・・・支持体、5・・◆金属膜転写シート、6・・
・接着層、7・・・蛍光体層、8・・・ブラックマトリ
ックス層、9・・・フェースプレート、10・・・アノ
ード、 11・・・アノード形成シート、12・・・黒
色金属膜13・・・金属膜、14・・・金属膜転写シー
ト、15・・◆微細孔、16・・・微細孔を形成した金
属膜転写シート、17・・・電源、18◆◆・アース、
19・ ・ ・電極。FIG. 1(a) is a cross-sectional view of a metal film transfer sheet according to an embodiment of the present invention, FIG. 1(b) is a process diagram for forming an anode using the metal film transfer sheet of FIG. 1(a), Figure 2(a) is
2(b) is a cross-sectional view of the anode forming sheet, and FIG. 3(a) is a process diagram for forming an anode using the anode forming sheet of FIG. 2(a). The cross-sectional view of the metal film transfer sheet of the example, FIG. 3(b), shows the metal film transfer sheet of FIG. 3(a),
A cross-sectional view of a metal film transfer sheet with micropores formed in it, Figure 3 (
C) is a process diagram for forming an anode using the metal transfer sheet shown in FIG. 4B, and FIG. 4 is a process diagram for forming micropores by electrical discharge machining. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Metal film, 2...Black resin layer, 3...Release layer, 4...Support, 5...◆Metal film transfer sheet, 6...
- Adhesive layer, 7... Phosphor layer, 8... Black matrix layer, 9... Face plate, 10... Anode, 11... Anode forming sheet, 12... Black metal film 13. ...Metal film, 14...Metal film transfer sheet, 15...◆Minor pores, 16...Metal film transfer sheet with micropores formed, 17...Power supply, 18◆◆-Ground,
19... Electrode.
Claims (15)
黒色樹脂層と、前記黒色樹脂層表面に形成された金属膜
とを具備した金属膜転写シート。(1) A metal film transfer sheet comprising a sheet, a black resin layer with a rough surface formed on the sheet, and a metal film formed on the surface of the black resin layer.
が含有されていることを特徴とする請求項1記載の金属
膜転写シート。(2) The metal film transfer sheet according to claim 1, wherein the black resin layer contains at least graphite and carbon.
により樹脂層表面が粗面化されたことを特徴とする請求
項2記載の金属膜転写シート。(3) The metal film transfer sheet according to claim 2, wherein the surface of the resin layer is roughened by graphite and carbon contained in the black resin layer.
00秒以下であることを特徴とする請求項1、2または
3記載の金属膜転写シート。(4) The surface smoothness of the black resin layer is Bekk smoothness: 4
4. The metal film transfer sheet according to claim 1, 2 or 3, wherein the transfer time is 00 seconds or less.
、頂部での膜厚よりも薄い薄肉部が形成されている事を
特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の金
属膜転写シート。(5) Any one of claims 1 to 4, characterized in that the metal film has a thin part that is thinner than the film thickness at the top in the valleys of the irregularities on the surface of the black resin layer. Metal film transfer sheet described in Crab.
を特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の
金属膜転写シート。(6) The metal film transfer sheet according to any one of claims 1 to 5, characterized in that a release layer is interposed between the sheet and the black resin layer.
を有する金属膜を形成したことを特徴とする金属膜転写
シート。(7) A metal film transfer sheet, characterized in that a black metal film having micropores and a metal film having micropores are formed on a support.
とする請求項7記載の金属膜転写シート。(8) The metal film transfer sheet according to claim 7, characterized in that a release layer is formed on one surface of the support.
徴とする請求項7または8記載の金属膜転写シートの製
造方法(9) The method for producing a metal film transfer sheet according to claim 7 or 8, wherein the micropores in the metal film are formed by electric discharge.
形成することを特徴とする請求項7または8記載の金属
膜転写シートの製造方法(10) The method for manufacturing a metal film transfer sheet according to claim 7 or 8, wherein the micropores in the metal film are formed by pressing protrusions into contact with the metal film.
形成することを特徴とする請求項7または8記載の金属
膜転写シートの製造方法(11) The method for producing a metal film transfer sheet according to claim 7 or 8, wherein the micropores in the metal film are formed using a sandblasting method.
ートを用い、前記金属膜上に更に蛍光体層ブラックマト
リックス層を形成したアノード形成シート。(12) An anode forming sheet, using the metal film transfer sheet according to any one of claims 1 to 8, and further forming a phosphor layer and a black matrix layer on the metal film.
ートを用い、前記金属膜転写シート上の金属膜を、ガラ
ス基板上の蛍光体層に接着剤を介して押圧し、その後金
属膜転写シートをシートと黒色樹脂層との間で剥離して
黒色樹脂層及び金属膜を蛍光体層上に転写してアノード
を形成することを特徴とするアノード製造方法。(13) Using the metal film transfer sheet according to any one of claims 1 to 8, pressing the metal film on the metal film transfer sheet onto a phosphor layer on a glass substrate via an adhesive, and then A method for producing an anode, which comprises peeling off a film transfer sheet between the sheet and the black resin layer, and transferring the black resin layer and metal film onto the phosphor layer to form an anode.
、前記アノード形成シートの最上面を接着層を介してガ
ラス基板に押圧し、その後、前記アノード形成シートを
、シートと黒色樹脂層との間で剥離して、前記アノード
形成シート上の黒色樹脂層から上層部を前記ガラス基板
に転写することにより、前記ガラス基板上にアノードを
形成し、焼成することを特徴とするアノード製造方法。(14) Using the anode forming sheet according to claim 12, pressing the uppermost surface of the anode forming sheet against a glass substrate via an adhesive layer, and then inserting the anode forming sheet between the sheet and the black resin layer. A method for producing an anode, comprising: peeling off the anode forming sheet, and transferring an upper layer from the black resin layer on the anode forming sheet to the glass substrate, thereby forming an anode on the glass substrate, and firing the anode.
微細孔が形成されることを特徴とする請求項13または
14に記載のアノード製造方法。(15) The anode manufacturing method according to claim 13 or 14, characterized in that in the step of firing the anode, micropores are formed in the metal back layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5711990A JPH0821320B2 (en) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | METAL FILM TRANSFER SHEET, MANUFACTURING METHOD THEREOF, ANODE FORMING SHEET, AND ANODE MANUFACTURING METHOD |
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JPH03261032A true JPH03261032A (en) | 1991-11-20 |
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---|---|---|---|---|
US7714495B2 (en) | 2005-10-31 | 2010-05-11 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Electron emission display having an optically transmissive anode electrode |
CN114455857A (en) * | 2022-02-23 | 2022-05-10 | 江苏铁锚玻璃股份有限公司 | Transparent conductive glass and method for reducing surface resistance thereof |
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WO2001057905A1 (en) * | 2000-02-03 | 2001-08-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Transfer film, method for forming metal back layer, and image display |
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- 1990-03-08 JP JP5711990A patent/JPH0821320B2/en not_active Expired - Fee Related
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