JPH08211222A - Production of color filter - Google Patents

Production of color filter

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Publication number
JPH08211222A
JPH08211222A JP29019795A JP29019795A JPH08211222A JP H08211222 A JPH08211222 A JP H08211222A JP 29019795 A JP29019795 A JP 29019795A JP 29019795 A JP29019795 A JP 29019795A JP H08211222 A JPH08211222 A JP H08211222A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
photosensitive resin
color
colored
cushion layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP29019795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Hashimoto
秀行 橋本
Masahiko Itabashi
雅彦 板橋
Nobuaki Takane
信明 高根
Koji Yamazaki
浩二 山崎
Shiyouichi Sasaki
晶市 佐々木
Yoichi Kimura
陽一 木村
Yuji Kobayashi
雄二 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP29019795A priority Critical patent/JPH08211222A/en
Publication of JPH08211222A publication Critical patent/JPH08211222A/en
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Abstract

PURPOSE: To enable exposure and development for a single photosensitive resin layer without requiring a base film as an oxygen-preventing film, to continuously peel a base film after a transfer process so that cutting of a transfer film or production of dust due to cutting can be prevented by using a transfer film containing a photosensitive resin layer having oxygen-trouble-resistance. CONSTITUTION: In this method of producing a color filter, color pixels are formed by transferring a photosensitive resin film colored in one color to a transparent substrate such as a transparent plastic or glass substrate and then forming a pattern by a photolithographic method. In this method, a film having oxygen-trouble-resistance is used for the photosensitive resin film. Also, a transfer film comprising a base film, cushion layer and photosensitive resin film colored in one color and having resistance against failure caused by oxygen is continuously supplied from a roll state onto a transparent substrate and laminated. After lamination, the base film and the cushion layer of the transfer film are peeled without cutting.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置等に使用されるカラーフィルタの製造法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color filter used in a color liquid crystal display device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ティスプレイ(以下LCDと略す)
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、TV、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーLCDが開発されOA・AV
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダーなど数多くの用途に使われ始めており、その市場は
今後、急激に拡大するものと予想されている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display (hereinafter abbreviated as LCD)
Taking advantage of its thinness, small size, and low power consumption, is currently used for display parts of watches, calculators, TVs, personal computers and the like. Furthermore, in recent years, color LCDs have been developed and OA / AV
It has begun to be used in many applications such as navigation systems and viewfinders mainly for devices, and the market is expected to expand rapidly in the future.

【0003】LCDをカラー表示させるためのカラーフ
ィルタは、格子状パターンのBM(ブラックマトリック
ス)1が形成されたガラス板等の基板2上に、R(赤)
G(緑)B(青)からなるカラー画素3(約100×1
00×2μm)を順次形成し、その上に透明なオーバー
コート層(OC)4を形成したものである。5は偏光
板、6はITO電極である。
A color filter for displaying an LCD in color is R (red) on a substrate 2 such as a glass plate on which a BM (black matrix) 1 having a grid pattern is formed.
Color pixel 3 consisting of G (green) and B (blue) (approximately 100 x 1
(00 × 2 μm), and a transparent overcoat layer (OC) 4 is formed thereon. Reference numeral 5 is a polarizing plate, and 6 is an ITO electrode.

【0004】カラーLCDは、カラーフィルタ7をLC
D内部に設置し、バックライト光をカラーフィルタに透
過することによって表示画面をカラー化できる。8は配
向膜、9は液晶、10はシ−ル材、11はトップコ−ト
層、12はITO電極、13はガラス板等の基板、14
は偏光板である。
A color LCD has a color filter 7 as an LC.
The display screen can be colored by being installed inside D and transmitting the backlight light to the color filter. 8 is an alignment film, 9 is a liquid crystal, 10 is a seal material, 11 is a top coat layer, 12 is an ITO electrode, 13 is a substrate such as a glass plate, 14
Is a polarizing plate.

【0005】現在、カラーフィルタは主に染色法を用い
て製造されている。しかし、この方法はガラス基板上に
透明な感光性樹脂を塗布、乾燥、露光、現像によって画
素を形成後、染料を用いて染色しその後、混色防止層を
形成するといった工程を3回繰り返し行う必要があるた
め、工程数が多くコスト高となる。また、着色剤として
染料を用いているため、カラーフィルタの重要課題であ
る信頼性(耐候性・耐熱性)が劣るという欠点がある。
そこで、着色剤として顔料を用いたカラーフィルタがい
くつか提案されており、その中に電着法、印刷法、フォ
トリソ法(フォトリソグラフィー法)がある。
At present, color filters are mainly manufactured by the dyeing method. However, in this method, it is necessary to repeat the process of applying a transparent photosensitive resin on a glass substrate, forming pixels by drying, exposing and developing, dyeing with a dye, and then forming a color mixing prevention layer three times. Therefore, the number of steps is large and the cost is high. Further, since a dye is used as a colorant, there is a drawback that the reliability (weather resistance / heat resistance), which is an important subject of the color filter, is deteriorated.
Therefore, some color filters using a pigment as a colorant have been proposed, and among them, there are an electrodeposition method, a printing method, and a photolithography method (photolithography method).

【0006】しかし、電着法は電極パターンを形成する
必要があるため(1)パターンの自由度が少ない、
(2)コストが高い、また印刷法は(1)大型基板の位
置合わせが難しく解像度が低いため微細化の対応が困
難、(2)パターンの平坦性が劣る、などの問題があ
り、現状ではフォトリソ法が主流と考えられている。フ
ォトリソ法には、液状レジストとフィルムが考えられ
る。液状レジストは、感光性樹脂中に顔料を分散させた
ワニスをスピナーでガラス基板上に塗布、乾燥後、露
光、現像によってカラー画素が形成される。一方、フィ
ルムは、プリント板用感光性フィルムと同様にワニスを
フィルム化したものであり、基板にラミネート後、露
光、現像によってカラー画素が形成される。
However, the electrodeposition method requires the formation of an electrode pattern (1) the degree of freedom of the pattern is small,
(2) The cost is high, and the printing method has problems that (1) it is difficult to align a large-sized substrate and the resolution is low, so it is difficult to miniaturize, and (2) the flatness of the pattern is poor. The photolithography method is considered to be the mainstream. A liquid resist and a film are considered for the photolithography method. In the liquid resist, color pixels are formed by applying a varnish in which a pigment is dispersed in a photosensitive resin on a glass substrate with a spinner, drying, exposing, and developing. On the other hand, the film is a varnish formed into a film like the photosensitive film for printed boards, and after being laminated on a substrate, color pixels are formed by exposure and development.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】フィルム転写法カラー
フィルター製造法において使用されている転写フィルム
はベースフィルム、顔料を含有する感光性樹脂層、カバ
ーフィルムの三層構造より構成されている。使用時にカ
バーフィルムが剥離され、感光性樹脂層とベースフィル
ムの二層が基板ガラス上に転写される。従来の感光性樹
脂は酸素障害が発生するため、露光終了時まで上層のベ
ースフィルムを剥離することができない。一方転写フィ
ルムは連続ロールで供給されるため、転写後、フィルム
を切断する必要があった。カラーフィルターの製造は通
常高レベルのクリーンルームで行われるため、フィルム
切断はダスト発生を伴い、製造工程に悪影響を与える。
本発明はクリーンルーム内での連続工程に好適なカラ−
フィルタの製造法を提供するものである。
Film Transfer Method The transfer film used in the color filter manufacturing method has a three-layer structure of a base film, a photosensitive resin layer containing a pigment, and a cover film. At the time of use, the cover film is peeled off, and the two layers of the photosensitive resin layer and the base film are transferred onto the substrate glass. Since the conventional photosensitive resin causes oxygen damage, the upper base film cannot be peeled off until the end of exposure. On the other hand, since the transfer film is supplied by a continuous roll, it is necessary to cut the film after transfer. Since color filters are usually manufactured in a high-level clean room, film cutting is accompanied by dust generation and adversely affects the manufacturing process.
The present invention is a color suitable for a continuous process in a clean room.
A method for manufacturing a filter is provided.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、連続工程に好
適な転写フィルムおよびこれらを使用したカラーフィル
タ製造法である。すなわち、フィルム転写法によるカラ
ーフィルタ製造法において、量産化および連続工程に適
した転写フィルムの供給およびこれらを使用したカラー
フィルタ製造法である。
The present invention is a transfer film suitable for a continuous process and a color filter manufacturing method using the transfer film. That is, in the color filter manufacturing method by the film transfer method, it is a method of supplying a transfer film suitable for mass production and a continuous process, and a color filter manufacturing method using these.

【0009】本発明は、透明プラスチックまたはガラス
基板等の透明基板上に、一色に着色された感光性樹脂フ
ィルムを転写しフォトリソ法によりパターンを形成する
工程により着色画素の形成を行うカラーフィルタの製造
法において、感光性樹脂フィルムとして耐酸素障害性を
有するフィルムを使用することを特徴とするカラーフィ
ルタの製造法である。
The present invention is a method of manufacturing a color filter in which a colored pixel is formed by transferring a photosensitive resin film colored in one color onto a transparent substrate such as a transparent plastic or glass substrate and forming a pattern by a photolithography method. In the method, a film having oxygen resistance is used as the photosensitive resin film, which is a method for producing a color filter.

【0010】又、本発明は透明基板上に、ベースフィル
ム、クッション層、耐酸素障害性を有する一色に着色さ
れた感光性樹脂フィルムを順次積層した転写フィルムを
ラミネートし、転写フィルムのベースフィルムとクッシ
ョン層を剥離し、耐酸素障害性を有する一色に着色され
た感光性樹脂フィルムを露光・現像するフォトリソ法に
よりパターンを形成する着色画素形成を、所定回数行う
ことを特徴とするカラーフィルタの製造法である。
Further, according to the present invention, a base film, a cushion layer, and a transfer film in which a photosensitive resin film colored in one color having oxygen resistance is sequentially laminated are laminated on a transparent substrate to form a base film for the transfer film. Manufacture of a color filter characterized in that the cushion layer is peeled off, and a colored pixel is formed a predetermined number of times to form a pattern by a photolithography method of exposing and developing a photosensitive resin film colored in one color having oxygen resistance, which is exposed and developed. Is the law.

【0011】更に、本発明は透明基板上に、ベースフィ
ルム、クッション層、耐酸素障害性を有する一色に着色
された感光性樹脂フィルムを順次積層した転写フィルム
をロール状で連続的に供給してラミネートし、ラミネー
ト終了後転写フィルムのベースフィルムとクッション層
を切断することなく連続的に剥離する、例えばラミネー
ト終了後転写フィルムのベースフィルムとクッション層
をロールで連続的に巻き取りながら剥離するカラーフィ
ルタの製造法である。
Further, according to the present invention, a transfer film obtained by successively laminating a base film, a cushion layer, and a photosensitive resin film colored in one color having an oxygen damage resistance on a transparent substrate is continuously supplied in a roll form. After lamination, the base film of the transfer film and the cushion layer are continuously peeled off without cutting after the lamination is completed, for example, the color filter is peeled off by continuously winding the roll film of the base film of the transfer film and the cushion layer after the lamination is completed. Is a manufacturing method of.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明ではクリーンルーム内での
連続工程に好適な耐酸素障害性を有する着色感光性樹脂
層を含んだカラーフィルタ製造用転写フィルムを使用す
る。耐酸素障害性を有する着色感光性樹脂層を含んだカ
ラーフィルタ製造用転写フィルムとしては、ベースフィ
ルム、クッション層、着色感光性樹脂層、カバーフィル
ムを順次積層してなるものが好ましく、永久支持体であ
る透明基板へ着色感光性樹脂層を密着後、クッション層
と着色感光性樹脂層との界面で剥離できるものであり、
ベースフィルム、クッション層を剥離した後、フォトマ
スク等を通して露光し、現像することによって、永久支
持体である透明基板上に、着色樹脂パターンを形成する
ことができる。これにより感光性樹脂層の転写の際に、
すでに形成された永久支持体上の画素又はブラックマト
リックス等による凹凸に起因する転写不良及び画像の平
坦性の低下を防止し、かつクッション層の着色感光層か
らの剥離が申し分なく、現像後、画素平坦性の良好なカ
ラーフィルタを得ることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, a transfer film for producing a color filter containing a colored photosensitive resin layer having oxygen resistance which is suitable for a continuous process in a clean room is used. The transfer film for producing a color filter containing a colored photosensitive resin layer having oxygen resistance is preferably a laminate of a base film, a cushion layer, a colored photosensitive resin layer and a cover film in order, and a permanent support. After adhering the colored photosensitive resin layer to the transparent substrate which is, it can be peeled off at the interface between the cushion layer and the colored photosensitive resin layer,
After the base film and the cushion layer are peeled off, the colored resin pattern can be formed on the transparent substrate, which is a permanent support, by exposing through a photomask or the like and developing. As a result, when transferring the photosensitive resin layer,
Prevents transfer defects and deterioration of image flatness due to unevenness due to already formed pixels or a black matrix on the permanent support, and the cushion layer is well peeled from the colored photosensitive layer, and after development, the pixel A color filter having good flatness can be obtained.

【0013】ベースフィルムとしては、化学的、熱的に
安定であり、シートまたは板状に成形できるものを用い
ることができる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースア
セテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース
誘導体、ポリアミド類、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド類である。これらの中で特に好ましいの
は寸法安定性及び透過性に優れた2軸延伸ポリエチレン
テレフタレートである。ベースフィルムの膜厚は6〜1
00μmが好ましい。6μm以下では、ラミネート時に
ラミネートロール等の表面粗さを下地のクッション層、
着色感光性樹脂層に転写し、着色感光性樹脂層の表面が
荒れるおそれがあるからである。
As the base film, one that is chemically and thermally stable and can be formed into a sheet or plate can be used. Specific examples include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl halides such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, cellulose derivatives such as cellulose acetate, nitrocellulose and cellophane, polyamides, polystyrene, polycarbonate and polyimides. . Of these, particularly preferred is biaxially stretched polyethylene terephthalate, which is excellent in dimensional stability and permeability. Base film thickness is 6-1
00 μm is preferable. When the thickness is 6 μm or less, the surface roughness of the laminating roll or the like during laminating is adjusted to the underlying cushion layer,
This is because the surface of the colored photosensitive resin layer may be roughened by being transferred to the colored photosensitive resin layer.

【0014】着色感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物に
顔料を分散させたものでありフィルム状で使用される。
感光性樹脂としては、例えば(1)酸価が20〜30
0、重量平均分子量が1,500〜200,000の樹
脂、(2)光重合性不飽和結合を分子内に一つ以上有す
るモノマ、(3)光開始剤を含む感光性樹脂組成物が用
いられる。
The colored photosensitive resin layer is a photosensitive resin composition in which a pigment is dispersed and is used in the form of a film.
Examples of the photosensitive resin include (1) acid value of 20 to 30
0, a resin having a weight average molecular weight of 1,500 to 200,000, (2) a monomer having at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule, and (3) a photosensitive resin composition containing a photoinitiator is used. To be

【0015】(1)酸価が20〜300、重量平均分子
量が1,500〜200,000の樹脂としては、酸価
及び重量平均分子量がこの範囲に入っていれば特に制限
はなく、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸等のカルボキシル基含有重合性モノマと、アクリル酸
エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の重合性
モノマとの共重合体が代表的なものとして挙げられる。
(1) The resin having an acid value of 20 to 300 and a weight average molecular weight of 1,500 to 200,000 is not particularly limited as long as the acid value and the weight average molecular weight are within this range. A typical example thereof is a copolymer of a carboxyl group-containing polymerizable monomer such as acrylic acid, methacrylic acid or itaconic acid and a polymerizable monomer such as acrylic acid ester, methacrylic acid ester or styrene.

【0016】(2)光重合性不飽和結合を分子内に一つ
以上有するモノマとしては、例えば、メチルメタクリレ
ート、ベンジルメタクリレート、ブトキシエチルメタク
リレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリ
エチレングリコールアクリレート、ECH(エピクロル
ヒドリン)変性ブチルアクリレート、ジシクロペンタニ
ルアクリレート、EO(エチレンオキシド)変性ジシク
ロペンテニルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、エチルジエチレングリコールアク
リレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールメタクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、カプロラ
クトン変性−2−ヒドロキシエチルアクリレート、イソ
ボルニルアクリレート、メトキシジプロピレングリコー
ルアクリレート、メトキシ化シクロデカトリエンアクリ
レート、フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレ
ート、EO変性リン酸アクリレート、カプロラクトン変
性テトラヒドロフルフリルアクリレート、EO変性ビス
フェノールAジアクリレート、ECH変性ビスフェノー
ルAジアクリレート、ビスフェノールAジメタクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,3−
ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、EO変性
リン酸ジアクリレート、ECH変性フタル酸ジアクリレ
ート、ポリエチレングリコール400ジアクリレート、
ポリプロピレングリコール400ジメタクリレート、テ
トラエチレングリコールジアクリレート、ECH変性
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、
EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、P
O(プロピレンオキシド)変性トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリス(メタクリロキシエチル)イ
ソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート等のアクリレート、こ
れらに対応するメタクリレートなどが挙げられる。これ
らのモノマは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用
される。
(2) Monomers having at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule include, for example, methyl methacrylate, benzyl methacrylate, butoxyethyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, butoxytriethylene glycol acrylate, ECH (epichlorohydrin). Modified butyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, EO (ethylene oxide) modified dicyclopentenyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, ethyldiethylene glycol acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycerol methacrylate, heptadecafluorodecyl acrylate, 2-hydroxy Ethyl methacrylate, caprolactone-modified 2-hydroxyethyl acrylate, isobornyl acrylate , Methoxydipropylene glycol acrylate, methoxylated cyclodecatriene acrylate, phenoxyhexaethylene glycol acrylate, EO modified phosphate acrylate, caprolactone modified tetrahydrofurfuryl acrylate, EO modified bisphenol A diacrylate, ECH modified bisphenol A diacrylate, bisphenol A Dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-
Butylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, EO modified phosphoric acid diacrylate, ECH modified phthalic acid diacrylate, polyethylene glycol 400 diacrylate,
Polypropylene glycol 400 dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, ECH modified 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, EO modified phosphate triacrylate,
EO-modified trimethylolpropane triacrylate, P
Acrylates such as O (propylene oxide) modified trimethylolpropane triacrylate, tris (methacryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Methacrylate and the like are included. These monomers are used alone or in combination of two or more.

【0017】(3)光開始剤としては、例えば、ベンゾ
フェノン、N,N′−テトラエチル−4,4′−ジアミ
ノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、ベンジル、2,2−ジエトキシアセ
トフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタ
ール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサン
トン、2−クロロチオキサントン、1−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−
(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロ
パン、t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラ
キノン、2,3−ジクロロアントラキノン、3−クロル
−2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノ
ン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキ
ノン、1,2−ベンゾアントラキノン、1,4−ジメチ
ルアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2−
(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾ
ール二量体等が挙げられる。これらの光開始剤は単独で
又は2種類以上を組み合わせて使用される。
(3) Examples of the photoinitiator include benzophenone, N, N'-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, benzyl and 2,2-diethoxy. Acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether,
Benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, α-hydroxyisobutylphenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4-
(Methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone, 3-chloro-2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone , 9,10-phenanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 2-
(O-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer and the like. These photoinitiators are used alone or in combination of two or more.

【0018】顔料としては、無機顔料と有機顔料がある
が、通常、黒色のカーボンブラック、黒鉛等を除いて
は、色調の豊富さなどから、有機顔料が使用される。有
機顔料としては、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、
インジゴ系、アントラキノン系、ペリレン系、キナクリ
ドン系、メチン・アゾメチン系、イソインドリノン系等
が挙げられる。
As the pigment, there are inorganic pigments and organic pigments. Generally, except for black carbon black, graphite, etc., organic pigments are used because of their rich color tone. As the organic pigment, for example, azo type, phthalocyanine type,
Examples include indigo type, anthraquinone type, perylene type, quinacridone type, methine / azomethine type, isoindolinone type and the like.

【0019】着色感光性樹脂の製造で使用される有機溶
剤としては、特に制限はなく、例えば、ケトン系有機溶
剤(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等)、セロソルブ系有機溶剤(メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチロセロソルブ、メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート、ブチロセロソ
ルブアセテート等)、グリコール系有機溶剤(エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコール
モノヘキシルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエー
テル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等)、
アルコール系有機溶剤(メチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコー
ル、3−メチル−3−メトキシブタノール等)、芳香族
系有機溶剤(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、3−
メチル−3−メトキシブチルアセテート、N−メチル−
2−ピロリドン、N−ヒドロキシメチル−2−ピロリド
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチルなど
が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組み合
せて使用される。このような本発明の着色感光性樹脂フ
ィルムは耐酸素障害性を有するフィルムであり、クッシ
ョン層を剥離して露光が可能なため、解像度に優れた着
色樹脂パターンを得ることができる。
The organic solvent used in the production of the colored photosensitive resin is not particularly limited, and examples thereof include ketone type organic solvents (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), cellosolve type organic solvents (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyrate). Locellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyrocellosolve acetate, etc., glycol organic solvent (ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol) Monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene Recall monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate),
Alcohol-based organic solvents (methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, 3-methyl-3-methoxybutanol, etc.), aromatic organic solvents (benzene, toluene, xylene, etc.), 3-
Methyl-3-methoxybutyl acetate, N-methyl-
2-pyrrolidone, N-hydroxymethyl-2-pyrrolidone, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl acetate and the like can be mentioned. These are used alone or in combination of two or more. Such a colored photosensitive resin film of the present invention is a film having oxygen resistance and can be exposed by peeling off the cushion layer, so that a colored resin pattern having excellent resolution can be obtained.

【0020】クッション層は、シート状に成膜可能で、
常温では粘着性がなく、膜としての平滑性が0.05μ
m以下のものが望ましい。また、着色感光性樹脂フィル
ムを透明基板にラミネートする温度での硬度(JISK
6301)が80度以下のものがより好ましい。この理
由は、硬度が堅いと透明基板上に形成した画像パターン
の縁部分に圧力が浸透せず、泡が入ったり、縁部分に転
写した感光層の膜厚が大きくなり、形成した画像の平坦
性を損なうためである。またこの層の膜厚は該感光層の
膜厚よりも厚いことが望ましく、少なくとも2倍の厚さ
が必要である。着色感光性樹脂フィルムの膜厚が1.5
μmの場合は3μm以上であることが好ましい。
The cushion layer can be formed into a sheet,
It is not tacky at room temperature and has a film smoothness of 0.05μ.
It is preferably m or less. Also, the hardness at the temperature of laminating the colored photosensitive resin film on the transparent substrate (JISK
6301) is more preferably 80 degrees or less. The reason for this is that if the hardness is too high, the pressure does not penetrate into the edge part of the image pattern formed on the transparent substrate, bubbles enter, and the thickness of the photosensitive layer transferred to the edge part becomes large, resulting in a flat image. This is because it impairs sex. Further, the film thickness of this layer is preferably thicker than the film thickness of the photosensitive layer, and at least twice the thickness is required. The thickness of the colored photosensitive resin film is 1.5
In the case of μm, it is preferably 3 μm or more.

【0021】またクッション層は、転写後着色感光性樹
脂フィルムから良好な剥離性を示すために、着色感光性
樹脂フィルムとの密着力が低い材料を用いるか、着色感
光性樹脂フィルムとクッション層の界面にシリコン化合
物等を塗膜するなどして離型処理を施してもよい。ま
た、あらかじめクッション層をベースフィルムに塗工し
ておき、着色感光性樹脂フィルムと貼り合わせることに
よってクッション層との密着力を弱くすることもでき
る。
The cushion layer is made of a material having a low adhesion to the colored photosensitive resin film in order to exhibit good releasability from the colored photosensitive resin film after transfer, or the cushion layer is composed of the colored photosensitive resin film and the cushion layer. Release treatment may be performed by coating a silicon compound or the like on the interface. It is also possible to apply the cushion layer to the base film in advance and to bond it to the colored photosensitive resin film to weaken the adhesion with the cushion layer.

【0022】クッション層に用いる材料として、ポリエ
チレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレ
ンと酢酸ビニル、エチレンとアクリル酸エステル、エチ
レンとビニルアルコールのようなエチレン共重合体、ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル、塩化ビニルと
ビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと
(メタ)アクリル酸エステルのようなスチレン共重合
体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)ア
クリル酸エステルの様なビニルトルエン共重合体、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチ
ルと酢酸ビニルのような(メタ)アクリル酸エステルの
共重合体、合成ゴム、セルローズ誘導体等から選ばれ
た、少なくとも1種類以上の有機高分子を用いることが
できる。
Materials used for the cushion layer include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, ethylene and vinyl acetate, ethylene and acrylate, ethylene copolymers such as ethylene and vinyl alcohol, polyvinyl chloride, vinyl chloride and vinyl acetate, Copolymer of vinyl chloride and vinyl alcohol, polyvinylidene chloride, polyvinylidene chloride copolymer, polystyrene, styrene copolymers such as styrene and (meth) acrylic acid ester, polyvinyltoluene, vinyltoluene and (meth) acrylic acid Selected from vinyltoluene copolymers such as esters, poly (meth) acrylic acid esters, copolymers of (meth) acrylic acid esters such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, synthetic rubbers, cellulose derivatives, etc. At least one It is possible to use an organic polymer above.

【0023】本発明の転写材料のカバーフィルムとして
は、化学的および熱的に安定であって、感光層との剥離
が容易であるものが望ましい。具体的にはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リビニルアルコール等の薄いシート状のもので表面の平
滑性が高いものが好ましい。剥離性を付与するために表
面に離型処理をしたものも含まれる。
The cover film of the transfer material of the present invention is preferably one which is chemically and thermally stable and can be easily peeled off from the photosensitive layer. Specifically, a thin sheet-like material such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, or polyvinyl alcohol having a high surface smoothness is preferable. Also included are those whose surface has been subjected to a release treatment in order to impart releasability.

【0024】[0024]

【実施例】ベースフィルムとして厚さ50μmのポリエ
チレンテレフタレートを用い、このフィルム上に、下記
組成のクッション層形成溶塗布液とグラビヤロールを用
いて、乾燥膜厚が5μmとなるように塗布乾燥し、エチ
レン−エチルアクリレート共重合体樹脂膜を形成し、こ
れによりベースフィルムであるポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に、クッション層が形成された支持体を
得た。 クッション層形成溶液: エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂 10g (三井−デュポンポリケミカル社製、商品名EVAFL
EX−EEA−709、エチルアクリレート含有量35
%) トルエン 100g 一方、カバーフィルムとして、40μmのポリプロピレ
ンフィルムに、次の着色感光樹脂層分散液を、グラビヤ
ロールを用いて、乾燥膜厚が1.5μmになるように着
色感光性樹脂層を形成した。形成した着色感光性樹脂層
とエチレン−エチルアクリレート共重合樹脂クッション
層とを貼り合わせて、ベースフィルム、着色感光性樹脂
層、クッション層、カバーフィルムを順次積層したカラ
ーフィルタ製造用転写フィルムを作製した。赤色の感光
分散液は以下のように調整した。赤色の分散物はC.
I.Pigment Red 178とC.I.Pig
ment Yellow 15を8:2の比率で混合
し、これに顔料誘導体、ポリマー、溶媒等を加え分散さ
せた物を使用した。この赤色分散物3746.3gにメ
タクリル酸、エチルアクリレート、エチルアクリレート
からなる共重合体145.9g、複数のマレイン酸モノ
アルキルエステルからなるモノマー309.0g、溶媒
としてジエチレングリコールモノメチルエーテル35
9.3g、増感剤として2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1
−オン178.6gを加えた。これらの混合物を氷水で
冷却しながらホモミキサで90分間の再分散処理を行っ
た。未溶解の成分を除去するため、1μmメッシュのフ
ィルタを通して加圧ろ過し、感光分散液に供した。次に
クロム膜(膜厚0.1μm)付きガラス基板(1.1m
m×200mm×300mm、ジオマテック社製)でブ
ラックマトリックスを形成したガラス基板に、ロールラ
ミネータHLM1500(日立化成テクノプラント社
製)を用いて、基板温度100℃、ロール温度100
℃、ロール圧力6kg/cm2、速度0.5m/分で、
前記カラーフィルタ製造用転写フィルムのカバーフィル
ムのポリプロピレンフィルムを剥がしながら、着色感光
性樹脂フィルムがガラス基板に面するようにラミネート
した。ガラス基板/着色感光性樹脂フィルム/クッショ
ン層/ポリエチレンテレフタレートの順に積層されたガ
ラス基板よりポリエチレンテレフタレートをロールで卷
き取りながら剥がすとクッション層はポリエチレンテレ
フタレートフィルム側に接着したまま剥がれ、ガラス基
板には着色感光性樹脂フィルムのみが残った。次に所定
のネガマスクを通して、平行光露光機MAP1200L
(大日本スクリーン社製)を用いて100mJ/cm2
露光、スプレー式現像装置DVW911(大日本スクリ
ーン社製)を用いて、現像液を用いて、25℃で60秒
間スプレー現像して未露光部を除去し、クリーンオーブ
ンCSO−402(楠本化成製)で150℃に加熱、硬
化を行って1色の着色パターンを形成した。この着色形
成工程をR、G、Bの順に各色のフィルムを用いて繰り
返し行い、RGB画素パターンを形成した。
EXAMPLE A polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was used as a base film, and a cushion layer-forming solution coating solution having the following composition and a gravure roll were applied and dried on the film to a dry film thickness of 5 μm. An ethylene-ethyl acrylate copolymer resin film was formed to obtain a support having a cushion layer formed on a polyethylene terephthalate film as a base film. Cushion layer forming solution: Ethylene-ethyl acrylate copolymer resin 10 g (Mitsui-DuPont Polychemical, trade name EVAFL
EX-EEA-709, ethyl acrylate content 35
%) Toluene 100 g On the other hand, the following colored photosensitive resin layer dispersion is formed on a polypropylene film of 40 μm as a cover film by using a gravure roll to form a colored photosensitive resin layer to a dry film thickness of 1.5 μm. did. The formed colored photosensitive resin layer and the ethylene-ethyl acrylate copolymer resin cushion layer were bonded together to produce a transfer film for manufacturing a color filter in which a base film, a colored photosensitive resin layer, a cushion layer, and a cover film were sequentially laminated. . The red photosensitive dispersion was prepared as follows. The red dispersion is C.I.
I. Pigment Red 178 and C.I. I. Pig
ment Yellow 15 was mixed at a ratio of 8: 2, and a pigment derivative, a polymer, a solvent and the like were added and dispersed therein. To 3746.3 g of this red dispersion, 145.9 g of a copolymer consisting of methacrylic acid, ethyl acrylate and ethyl acrylate, 309.0 g of a monomer consisting of a plurality of maleic acid monoalkyl esters, and diethylene glycol monomethyl ether 35 as a solvent.
9.3 g, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1 as a sensitizer
178.6 g of one-on was added. The mixture was redispersed for 90 minutes with a homomixer while being cooled with ice water. In order to remove undissolved components, the solution was pressure-filtered through a 1 μm mesh filter and provided as a photosensitive dispersion. Next, a glass substrate with a chrome film (film thickness 0.1 μm) (1.1 m
m × 200 mm × 300 mm, manufactured by Geomatec Co., Ltd.), using a roll laminator HLM1500 (manufactured by Hitachi Chemical Techno Plant Co., Ltd.) on a glass substrate on which a black matrix is formed, substrate temperature 100 ° C., roll temperature 100
° C., a roll pressure of 6 kg / cm 2, at a speed of 0.5 m / min,
While the polypropylene film of the cover film of the transfer film for producing a color filter was peeled off, the colored photosensitive resin film was laminated so as to face the glass substrate. When the polyethylene terephthalate is peeled off from the glass substrate laminated in the order of glass substrate / colored photosensitive resin film / cushion layer / polyethylene terephthalate while being rolled off, the cushion layer is peeled off while being adhered to the polyethylene terephthalate film side. Only the colored photosensitive resin film remained. Then, through a predetermined negative mask, parallel light exposure machine MAP1200L
(Manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) using 100 mJ / cm 2
Using an exposure and spray type developing device DVW911 (manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.), a developing solution is spray-developed at 25 ° C. for 60 seconds to remove an unexposed portion, and a clean oven CSO-402 (manufactured by Kusumoto Kasei). And heated to 150 ° C. and cured to form a colored pattern of one color. This coloring formation process was repeated using R, G, and B films in each order to form RGB pixel patterns.

【0025】[0025]

【発明の効果】耐酸素障害性を有する感光性樹脂層を含
んだカラーフィルター製造用転写フィルムの使用によ
り、酸素阻害膜としてのベースフィルムは必要なくな
り、感光性樹脂層単独での露光・現像が可能となる。ま
たベースフィルムを転写工程直後に連続剥離することに
より、転写フィルムの切断およびそれに伴うダスト発生
を未然に防ぐことができる。
EFFECTS OF THE INVENTION By using a transfer film for producing a color filter containing a photosensitive resin layer having oxygen resistance, a base film as an oxygen-inhibiting film is not required, and exposure / development by the photosensitive resin layer alone can be performed. It will be possible. Further, by continuously peeling off the base film immediately after the transfer step, it is possible to prevent the transfer film from being cut and dust accompanying it.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】液晶ティスプレイの断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.BM(ブラックマトリックス) 2.ガラス基板 3.カラー画素 4.オーバーコート層(OC) 5.偏光板 6.ITO電極 7.カラーフィルタ 8.配向膜 9.液晶 10.シ−ル材 11.トップコ−ト層 12.ITO電極 13.ガラス基板 14.偏光板 1. BM (black matrix) 2. Glass substrate 3. Color pixel 4. Overcoat layer (OC) 5. Polarizing plate 6. ITO electrode 7. Color filter 8. Alignment film 9. Liquid crystal 10. Seal material 11. Top coat layer 12. ITO electrode 13. Glass substrate 14. Polarizer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 浩二 千葉県市原市五井南海岸14番地 日立化成 工業株式会社五井工場内 (72)発明者 佐々木 晶市 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 木村 陽一 千葉県市原市五井南海岸14番地 日立化成 工業株式会社五井工場内 (72)発明者 小林 雄二 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Koji Yamazaki, 14 Ii Minamikaigan, Ichihara City, Chiba Prefecture, Goi Plant, Hitachi Chemical Co., Ltd. (72) Inventor, Akira Sasaki, 4-13-1, Higashimachi, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd., Ibaraki Laboratory (72) Inventor, Yoichi Kimura, 14 Ii Minami Coast, Ichihara City, Chiba Hitachi Chemical Co., Ltd., Goi Factory (72) Inventor, Yuji Kobayashi, 4-13-1, Higashimachi, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. Hitachi Chemical Co., Ltd. Ibaraki Research Institute

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に、一色に着色された感光性
樹脂フィルムを転写し露光・現像するフォトリソ法によ
りパターンを形成する着色画素形成を所定回数行うカラ
ーフィルタの製造法において、感光性樹脂フィルムとし
て耐酸素障害性を有するフィルムを使用することを特徴
とするカラーフィルタの製造法。
1. A method for producing a color filter, wherein a colored pixel is formed a predetermined number of times to form a pattern by a photolithography method in which a photosensitive resin film colored in one color is transferred onto a transparent substrate and exposed / developed. A method for producing a color filter, which comprises using a film having oxygen resistance as a film.
【請求項2】 透明基板上に、ベースフィルム、クッシ
ョン層、耐酸素障害性を有する一色に着色された感光性
樹脂フィルムを順次積層した転写フィルムをラミネート
し、転写フィルムのベースフィルムとクッション層を剥
離し、耐酸素障害性を有する一色に着色された感光性樹
脂フィルムを露光・現像するフォトリソ法によりパター
ンを形成する着色画素形成を、所定回数行うことを特徴
とするカラーフィルタの製造法。
2. A transfer film in which a base film, a cushion layer, and a photosensitive resin film colored in one color having resistance to oxygen damage are sequentially laminated on a transparent substrate, and the transfer film base film and cushion layer are laminated. A method for producing a color filter, which comprises peeling and forming a colored pixel for forming a pattern a predetermined number of times by a photolithography method of exposing and developing a photosensitive resin film colored in one color having resistance to oxygen damage.
【請求項3】 透明基板上に、ベースフィルム、クッシ
ョン層、耐酸素障害性を有する一色に着色された感光性
樹脂フィルムを順次積層した転写フィルムをロール状で
連続的に供給してラミネートし、ラミネート終了後転写
フィルムのベースフィルムとクッション層を切断するこ
となく連続的に剥離する請求項2記載のカラーフィルタ
の製造法。
3. A transfer film in which a base film, a cushion layer, and a photosensitive resin film colored in one color having an oxygen damage resistance are sequentially laminated on a transparent substrate, and the transfer film is continuously supplied in a roll form for lamination. The method for producing a color filter according to claim 2, wherein after the lamination, the base film and the cushion layer of the transfer film are continuously peeled off without cutting.
【請求項4】 透明基板上に、ベースフィルム、クッシ
ョン層、耐酸素障害性を有する一色に着色された感光性
樹脂フィルムを順次積層した転写フィルムをロール状で
連続的に供給してラミネートし、ラミネート終了後転写
フィルムのベースフィルムとクッション層をロールで連
続的に巻き取りながら剥離する請求項2又は3記載のカ
ラーフィルタの製造法。
4. A transfer film obtained by successively laminating a base film, a cushion layer, and a photosensitive resin film colored in one color having an oxygen damage resistance on a transparent substrate in a roll form and laminating the transfer film. The method for producing a color filter according to claim 2, wherein after the lamination, the base film and the cushion layer of the transfer film are peeled off while being continuously wound by a roll.
JP29019795A 1994-11-08 1995-11-08 Production of color filter Pending JPH08211222A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006066372A (en) * 2004-08-30 2006-03-09 Samsung Sdi Co Ltd Method for manufacturing organic electroluminescent display device

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