JPH08208628A - Benzotriazole and production thereof - Google Patents

Benzotriazole and production thereof

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JPH08208628A
JPH08208628A JP3612495A JP3612495A JPH08208628A JP H08208628 A JPH08208628 A JP H08208628A JP 3612495 A JP3612495 A JP 3612495A JP 3612495 A JP3612495 A JP 3612495A JP H08208628 A JPH08208628 A JP H08208628A
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JP
Japan
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group
formula
alkoxy
compound
aralkyl
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Application number
JP3612495A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Tanimoto
重夫 谷本
Katsuaki Okawa
勝昭 大川
Hide Honmaru
秀 本丸
Takayoshi Kamano
誉祥 鎌野
Kazumasa Kaneko
一正 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osaka Seika Kogyo KK
Original Assignee
Osaka Seika Kogyo KK
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Publication date
Application filed by Osaka Seika Kogyo KK filed Critical Osaka Seika Kogyo KK
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Abstract

PURPOSE: To provide a new benzotriazole compound which is useful as an ultraviolet absorber for preventing a variety of resins, synthetic rubbers and latices from being deteriorated by ultraviolet rays. CONSTITUTION: This compound is represented by formula I (R<1> is H, a halogen, a 1-12C alkyl, an alkoxy; R<2> , R<4> are each H, a 1-10C alkyl, aryl, aralkyl, alkoxy, phenoxy; R<3> is a 1-12C alkyl, aryl, aralkyl, aloxy, phenoxy), typically 2-(2'- hydroxy-3'-hydroxymethyl-5'-methylphenyl)benzotriazole. The compound of formula I is obtained by coupling reaction of a phenol of formula II with a diazonium sal of an amine of formula III, followed by reduction of the product. This compound can be readily produced and has excellent ultraviolet-absorbing action. Further, when this compound bears an alcoholic functional group, other compounds can have ultraviolet ray-absorbing ability by reacting with this triazole.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、工業上、特に各種樹
脂、合成ゴム、ラテックスなどの紫外線等による劣化防
止のための紫外線吸収剤として有用な新規なベンゾトリ
アゾ−ル化合物及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel benzotriazole compound useful as an ultraviolet absorber for preventing deterioration of various resins, synthetic rubber, latex and the like due to ultraviolet rays in industry, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、2−(2−ヒドロキシフェニル)
ベンゾトリアゾ−ル類は、紫外線による各種樹脂の劣化
防止作用にすぐれていることがよく知られている。例え
ば、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾ−ル、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2−ヒドロキ
シ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、
2−(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾ−ル等が市販されている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, 2- (2-hydroxyphenyl)
It is well known that benzotriazoles have an excellent action of preventing deterioration of various resins by ultraviolet rays. For example, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-t-octylphenyl) Benzotriazole,
2- (2-Hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) benzotriazole and the like are commercially available.

【0003】しかしながら、各種樹脂の用途の広がりと
ともに加工の条件が様々となり、特に高温加工において
も高堅牢性が要求されるようになると、これら公知のベ
ンゾトリアゾ−ルは分子量が高分子材料に比して比較的
低分子で揮発しやすいことから減量しやすく、また揮散
したベンゾトリアゾ−ルが、成型機等の機器に付着した
り、周囲の環境を悪化させたりする。また、これら公知
のベンゾトリアゾ−ルは官能基としてはフェノ−ル性の
OHしか持たず、用途に応じてOHが結合するベンゼン
環の側鎖の炭化水素の数等を変化させて融点や高分子材
料等への相溶性を変えているに過ぎず、工業的に利用で
きるフェノ−ルからでは合成される範囲が限定される等
改良すべき点が多い。
However, when the processing conditions have been varied with the widespread use of various resins, and particularly high fastness is required even in high temperature processing, these known benzotriazoles have a molecular weight higher than that of polymer materials. Since it has a relatively low molecular weight and is easily volatilized, the amount thereof is easily reduced, and the volatile benzotriazole adheres to equipment such as a molding machine or deteriorates the surrounding environment. Further, these known benzotriazoles have only phenolic OH as a functional group, and depending on the use, the number of hydrocarbons in the side chain of the benzene ring to which OH is bonded is changed to change the melting point or polymer. There are many points to be improved, such as only changing the compatibility with materials and the like, and limiting the range of synthesis from the industrially usable phenol.

【0004】このような欠点を改善するため、予めフェ
ノ−ルに官能基を導入しておくものとして (a)特開平2
−188581では−COOHを、 (b)特公昭41−1
687ではCH2 CH2 COORがある。またトリアゾ
−ル合成後に (c)特公昭47−560ではアミノ基を導
入し、メタクリル酸を付加して重合させたり、 (d)特開
昭61−118373および特開昭61−118374
ではホルムアルデヒドによるメチレンビス体にしたり、
(e)特公昭56−5279ではテトラヒドロ無水フタ−
ル酸イミドのN−メチロ−ル体を付加させて高分子量化
を図っている。さらに (f)特開昭61−53253の写
真薬品、特開平3−241069の染料の構造中にもベ
ンゾトリアゾ−ルがみられ、これらのベンゾトリアゾ−
ルが写真薬や染料の耐光性を向上させている。
In order to improve such a defect, a functional group is introduced into a phenol in advance.
For -188581, -COOH is used, and (b) Japanese Patent Publication No. 41-1.
At 687, there is CH 2 CH 2 COOR. In addition, after the synthesis of triazole, (c) in JP-B-47-560, an amino group is introduced and methacrylic acid is added to polymerize, or (d) JP-A-61-118373 and JP-A-61-118374.
Then, make methylene bis form with formaldehyde,
(e) Japanese Patent Publication No. 56-5279 describes a tetrahydroanhydrocap
An N-methylol derivative of acid imide is added to increase the molecular weight. Further, (f) benzotriazol is also found in the structures of the photographic chemicals of JP-A-61-53253 and the dye of JP-A-3-241069.
Le improves the light resistance of photographic drugs and dyes.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
(a)〜 (f)の公知のベンゾトリアゾ−ルは、製造工程が
複雑で高価となり経済的な問題を有する。
[Problems to be Solved by the Invention]
The known benzotriazoles (a) to (f) have an economical problem because the manufacturing process is complicated and expensive.

【0006】この発明の目的は、簡単な工程で製造で
き、かつ紫外線吸収特性を持ち、それ自体が紫外線吸収
剤となるとともに、官能基を有することにより該官能基
と反応させて容易に紫外線吸収能を持たせることができ
る新規なベンゾトリアゾ−ル化合物及びその製造法を提
供することである。
An object of the present invention is that it can be produced by a simple process and has an ultraviolet absorbing property, and it itself serves as an ultraviolet absorber and, by having a functional group, reacts with the functional group to easily absorb the ultraviolet ray. It is an object of the present invention to provide a novel benzotriazole compound capable of providing a function and a method for producing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、紫外線吸
収剤が合成樹脂、合成ゴムは勿論、塗料、染料、化粧
品、場合により医農薬にまで幅広い産業で使用されてい
ることに着目し、2−(2−ヒドロキシフェニル)ベン
ゾトリアゾ−ル類について鋭意研究を重ねた結果、工業
的に製造が容易ですぐれた紫外線吸収能を持ち、且つ、
アルコ−ル性の官能基を持つことにより、他の化学品と
反応させて容易に紫外線吸収能を持たせることができる
反応性に富んだ中間体を見い出し本発明に至ったもので
ある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have noticed that UV absorbers are used in a wide range of industries including synthetic resins and synthetic rubbers, as well as paints, dyes, cosmetics, and in some cases pharmaceuticals and agrochemicals. , 2- (2-hydroxyphenyl) benzotriazoles have been earnestly studied, and as a result, they have industrially easy production, excellent ultraviolet absorption ability, and
The present invention has led to the finding of an intermediate having a high reactivity, which has an alcoholic functional group and can easily react with other chemicals to have an ultraviolet absorbing ability.

【0008】すなわち、本発明は、以下のように−CH
2 OHを有する2−(2−ヒドロキシ−3−ヒドロキシ
メチル)ベンゾトリアゾ−ルを見いだすと共に、これを
中間体として他の化学品を反応させて新規なベンゾトリ
アゾ−ル紫外線吸収剤の提供ならびに既存の紫外線吸収
剤の新規な製造法を提供するものである。
That is, according to the present invention,
Having 2 OH 2- (2- hydroxy-3-hydroxymethyl) benzotriazole - with finding Le, which is reacted with other chemicals as intermediate by novel benzotriazole - providing and existing UV Le ultraviolet absorber It is intended to provide a novel method for producing an absorbent.

【0009】本発明は、一般式(1)The present invention has the general formula (1)

【0010】[0010]

【化10】 [Chemical 10]

【0011】(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、
1 〜C12のアルキル基またはアルコキシ基を示し、R
2 及びR4 は水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ
基を示し、R3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を
示す。)で表さられるベンゾトリアゾ−ル化合物であ
る。
(Wherein R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom,
R represents a C 1 to C 12 alkyl group or alkoxy group, and R
2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group, and R 3 represents a C 1 -C 12 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group. Represents a group or a phenoxy group. ) Is a benzotriazole compound represented by.

【0012】一般式R1 で表せるハロゲン原子としては
塩素原子または臭素原子が挙げられるが、工業的に利用
できる面から塩素原子が好ましい。R1 、R2 、R3
よびR4 のアルキル基、アリール基、アラルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、アミル、sec
−アミル、t−アミル、オクチル、t−オクチル、2−
エチルヘキシル、ドデシル、フェニル、クミル等が挙げ
られる。アルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第三ブトキシ、
オクトキシ、フェノキシ等が挙げられる。
Examples of the halogen atom represented by the general formula R 1 include a chlorine atom and a bromine atom, and a chlorine atom is preferable from the viewpoint of industrial utilization. Examples of the alkyl group, aryl group and aralkyl group of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl and n-
Butyl, sec-butyl, t-butyl, amyl, sec
-Amyl, t-amyl, octyl, t-octyl, 2-
Examples include ethylhexyl, dodecyl, phenyl, cumyl and the like. As the alkoxy group, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, tertiary butoxy,
Examples include octoxy and phenoxy.

【0013】従来、次の一般式で表せる核メチロ−ル基
を持ったフェノ−ル化合物は、ジアゾニウム塩と反応し
脱メチロ−ルを起こしてカップリングを受けることが知
られている。(J.Am.Chem.Soc.,73,5475(1951).ibid.,7
7,3384,(1955))
It has been conventionally known that a phenol compound having a nuclear methylol group represented by the following general formula reacts with a diazonium salt to cause demethylol to undergo coupling. (J.Am.Chem.Soc., 73,5475 (1951) .ibid., 7
7,3384, (1955))

【0014】[0014]

【化11】 (式中、Rは水素原子、メチル基、ホルミル基)[Chemical 11] (In the formula, R is a hydrogen atom, a methyl group, a formyl group)

【0015】また、2,6−ジヒドロキシメチル−p−
クレゾ−ルは下式のように反応し、片方のヒドロキシメ
チル基が残った化合物が生成することが知られている。
(J.Am.Chem.Soc.,33,5475(1951))。
Further, 2,6-dihydroxymethyl-p-
It is known that cresol reacts as in the following formula to produce a compound in which one hydroxymethyl group remains.
(J. Am. Chem. Soc., 33, 5475 (1951)).

【0016】[0016]

【化12】 [Chemical 12]

【0017】しかしながら、一般式(1)で示されるメ
チロ−ル基を有する2−(2−ヒドロキシ−3−ヒドロ
キシメチル)ベンゾトリアゾ−ルは知られていない。
However, 2- (2-hydroxy-3-hydroxymethyl) benzotriazole having a methylol group represented by the general formula (1) is not known.

【0018】本発明者等は下記一般式(8)のニトロア
ゾ化合物を原料として、常法により反応させた結果、一
般式(1)の化合物が高収率で得られることを見いだし
た。
The present inventors have found that the compound of the general formula (1) can be obtained in a high yield as a result of a reaction using a nitroazo compound of the following general formula (8) as a raw material by a conventional method.

【0019】[0019]

【化13】 [Chemical 13]

【0020】(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、
1 〜C12のアルキル基またはアルコキシ基を示し、R
2 及びR4 は水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ
基を示し、R3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を
示す。)
(Wherein R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom,
R represents a C 1 to C 12 alkyl group or alkoxy group, and R
2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group, and R 3 represents a C 1 -C 12 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group. Represents a group or a phenoxy group. )

【0021】即ち、一般式(8)で表せるニトロアゾ化
合物の−CH2 OHは、予測される不安定さは全く見ら
れず、カップリング後取り出しても安定であり、その
後、公知の還元処理によっても安定で高収率でベンゾト
リアゾ−ル化合物(1)を合成できることを見いだし、
本発明に至ったものである。
That is, --CH 2 OH of the nitroazo compound represented by the general formula (8) does not show any expected instability and is stable even after taking out after coupling, and then by a known reduction treatment. Found that the benzotriazole compound (1) can be synthesized in a stable and high yield,
The present invention has been achieved.

【0022】本発明の一般式(1)の化合物は、以下に
示す方法によって合成することができる。本発明の一般
式(1)の化合物の中間体として、一般式(4)で示さ
れる化合物をアルカリ媒体中、ホルムアルデヒドの付加
により、一般式(5)の化合物を合成する。
The compound of the general formula (1) of the present invention can be synthesized by the method shown below. As an intermediate of the compound of the general formula (1) of the present invention, the compound of the general formula (4) is added to formaldehyde in an alkaline medium to synthesize the compound of the general formula (5).

【0023】[0023]

【化14】 (式中、R2 及びR4 は水素原子、C1 〜C10のアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基または
フェノキシ基を示し、R3 はC1 〜C12のアルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノ
キシ基を示す。)
Embedded image (In the formula, R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group, and R 3 represents a C 1 -C 12 alkyl group,
An aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group is shown. )

【0024】一方、一般式(6)On the other hand, the general formula (6)

【0025】[0025]

【化15】 [Chemical 15]

【0026】(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、
1 〜C12のアルキル基またはアルコキシ基を示す。)
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom,
An alkyl or alkoxy group C 1 -C 12. )

【0027】で表される化合物を常法でo−ニトロジア
ゾニウム塩にし、これを一般式(5)の化合物とジアゾ
カップリング反応させて一般式(8)に表されるアゾ化
合物とする。この一般式(8)で表されるアゾ化合物
を、例えば、アルカリ性の下で亜鉛末と還元するか、ヒ
ドラジン、ホルマリン等で還元して一般式(9)で表さ
れるN−オキシドとし、更に硫酸等の存在下、亜鉛末で
還元することによって目的の一般式(1)で表されるメ
チロ−ル基を持った本発明のベンゾトリアゾ−ルを得る
ことができる。
The compound represented by the formula (1) is converted into an o-nitrodiazonium salt by a conventional method, and this is subjected to a diazo coupling reaction with the compound represented by the general formula (5) to obtain an azo compound represented by the general formula (8). The azo compound represented by the general formula (8) is reduced with zinc powder under alkaline conditions or reduced with hydrazine, formalin or the like to give the N-oxide represented by the general formula (9), and By reducing with zinc dust in the presence of sulfuric acid or the like, the desired benzotriazole of the present invention having a methylol group represented by the general formula (1) can be obtained.

【0028】[0028]

【化16】 Embedded image

【0029】(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、
1 〜C12のアルキル基またはアルコキシ基を示し、R
2 及びR4 は水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ
基を示し、R3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を
示す。)
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom,
R represents a C 1 to C 12 alkyl group or alkoxy group, and R
2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group, and R 3 represents a C 1 -C 12 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group. Represents a group or a phenoxy group. )

【0030】本発明において一般式(5)で表される
2,6−ジメチロ−ル体は、フェノ−ルとホルムアルデ
ヒドとの反応後系外に取り出さずそのまま次のジアゾ液
とカップリング反応をさせても良い。また、ホルムアル
デヒドとしてホルマリン水溶液、パラホルムアルデヒド
を使用しても良い。還元に於いては、上記以外のアルコ
−ルによる還元、水素ガス、一酸化炭素等で還元しても
差支えはない。更に、得られた一般式(1)で表される
化合物を他の化学品と反応させて、請求項2,3,4,
6に示す一般式(2)、(3)、(4)、および(7)
で表される化合物の合成に於いて、抽出等の操作で一般
式(1)で表される化合物を系外に取り出さないで反応
させても差し支えはない。
In the present invention, the 2,6-dimethylol compound represented by the general formula (5) is not taken out of the system after the reaction between phenol and formaldehyde, and is allowed to undergo a coupling reaction with the next diazo solution as it is. May be. Further, as the formaldehyde, formalin aqueous solution or paraformaldehyde may be used. Regarding the reduction, there is no problem even if the reduction is performed by an alcohol other than the above, hydrogen gas, carbon monoxide or the like. Further, the obtained compound represented by the general formula (1) is reacted with other chemicals to give a compound according to claim 2, 3, 4,
General formulas (2), (3), (4), and (7) shown in FIG.
In the synthesis of the compound represented by, the compound represented by the general formula (1) may be reacted by an operation such as extraction without taking it out of the system.

【0031】一般式(2)General formula (2)

【0032】[0032]

【化17】 [Chemical 17]

【0033】(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、
1 〜C12のアルキル基またはアルコキシ基を示し、R
2 及びR4 は水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ
基を示し、R3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を
示す。)
(In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom,
R represents a C 1 to C 12 alkyl group or alkoxy group, and R
2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group, and R 3 represents a C 1 -C 12 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group. Represents a group or a phenoxy group. )

【0034】で表される化合物の製造方法は、一般式
(1)の化合物をメチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等の溶剤に溶解後、メタンスルホン酸等の酸性
触媒下で還流脱水することにより得ることができる。
The compound represented by the formula (1) can be obtained by dissolving the compound of the general formula (1) in a solvent such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone, and then refluxing and dehydrating it under an acidic catalyst such as methanesulfonic acid. it can.

【0035】一般式(3)General formula (3)

【0036】[0036]

【化18】 Embedded image

【0037】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 は前記と
同義であり、R5 はC6 〜C20のアリール基を示す。)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above, and R 5 represents a C 6 to C 20 aryl group.)

【0038】で表される化合物は、一般式(1)の化合
物をベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒に溶解後、
メタンスルホン酸等の酸性触媒下、還流脱水することに
より得ることができる。
The compound represented by the formula (1) is prepared by dissolving the compound of the general formula (1) in a solvent such as benzene, toluene, xylene,
It can be obtained by reflux dehydration in the presence of an acidic catalyst such as methanesulfonic acid.

【0039】一般式(4)General formula (4)

【0040】[0040]

【化19】 [Chemical 19]

【0041】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 は前記と
同義であり、R6 はC1 〜C20のアルキル基、アリール
基またはアラルキル基を示し、nは1〜4の整数を示
す。)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above, R 6 represents a C 1 to C 20 alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and n is 1 to 4). Indicates the integer of.)

【0042】で表される化合物は、一般式(1)の化合
物と酸を適当な溶剤に溶解後、室温〜還流温度で、必要
に応じて硫酸、メタンスルホン酸等の酸触媒を存在させ
て、常法により処理することにより得ることができる。
酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、アクリル酸、メ
タクリル酸、安息香酸、サルチル酸、3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、チオグリコ−ル酸等
の一塩基酸、蓚酸、マロン酸、琥珀酸、マレイン酸、ア
ジピン酸、セバチン酸、フタ−ル酸、3,3’−チオジ
プロピオン酸、3,3’−ジチオジプロピオン酸等の二
塩基酸、ピロメリット酸、ブタンテトラカルボン酸のよ
うな多塩基酸が挙げられる。また、無水琥珀酸、無水マ
レイン酸、無水フタ−ル酸等の酸無水物の場合は片方に
−COOHが残ったエステルが得られる。酸の替わりに
酸塩化物を使用しても良い。
The compound represented by the formula (1) is prepared by dissolving the compound of the general formula (1) and an acid in a suitable solvent, and then, if necessary, adding an acid catalyst such as sulfuric acid or methanesulfonic acid at room temperature to reflux temperature. , And can be obtained by treating by a conventional method.
Examples of the acid include acetic acid, propionic acid, butyric acid, acrylic acid, methacrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, 3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxybenzoic acid, monobasic acid such as thioglycolic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, maleic acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, 3,3′-thiodipropionic acid, Examples thereof include dibasic acids such as 3,3′-dithiodipropionic acid, and polybasic acids such as pyromellitic acid and butanetetracarboxylic acid. Further, in the case of acid anhydrides such as succinic anhydride, maleic anhydride, and phthalic anhydride, an ester having —COOH remaining on one side can be obtained. Acid chloride may be used instead of acid.

【0043】更に、一般式(1)で表される化合物とイ
ソシアナートを適当な溶剤で溶解後、常法により処理す
ることによりウレタン化合物を得ることができる。適当
なイソシアナートとしてフェニルイソシアナート、トル
エンジイソシアナート、メチレンビス(4−フェニルイ
ソシアナート)等が挙げられる。
Further, the urethane compound can be obtained by dissolving the compound represented by the general formula (1) and the isocyanate in a suitable solvent and then treating them by a conventional method. Suitable isocyanates include phenyl isocyanate, toluene diisocyanate, methylene bis (4-phenyl isocyanate) and the like.

【0044】従来の一般式(7)Conventional general formula (7)

【0045】[0045]

【化20】 Embedded image

【0046】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 は前記と
同義である。)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above.)

【0047】で表されるメチレンビス化合物の製造法と
しては、一般式(10)で表されるベンゾトリアゾ−ル
を予め合成し、ホルムアルデヒドと反応させて製造する
方法である。
The methylene bis compound represented by the formula (1) is a method in which the benzotriazole represented by the general formula (10) is previously synthesized and reacted with formaldehyde.

【0048】[0048]

【化21】 [Chemical 21]

【0049】例えば、 (a)強酸中で一般式(10)のベ
ンゾトリアゾ−ルをホルムアルデヒドで二量化する。
(b)特開昭61−115073、特開昭61−1183
73および特開昭61−118374では溶媒中でベン
ゾトリアゾ−ルをアミン類及びホルムアルデヒド類と反
応させて一般式(11)で表されるマンニッヒ化合物と
し、マンニッヒ化合物を上記一般式(10)と反応させ
るか、または一般式(11)のマンニッヒ化合物を二量
化させている。 (c)特開平4−290877もマンニッ
ヒ化合物経由法で溶媒を使用しないところが特徴であ
る。
For example, (a) benzotriazole of the general formula (10) is dimerized with formaldehyde in a strong acid.
(b) JP-A-61-115073, JP-A-61-11833
73 and JP-A-61-118374, benzotriazole is reacted with amines and formaldehydes in a solvent to give a Mannich compound represented by the general formula (11), and the Mannich compound is reacted with the general formula (10). Alternatively, the Mannich compound of the general formula (11) is dimerized. (c) Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-290877 is also characterized in that a solvent is not used in the Mannich compound routed method.

【0050】しかしながら、 (a)の方法では強酸中での
過酷な反応条件により4−位の置換基が脱離したり、副
反応により収率よく目的のメチレンビス体を得ることが
できない。 (b)、 (c)の方法では比較的高収率で得られ
るもののジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルア
ミン等のマンニッヒ化合物製造のための臭気の強いアミ
ン類を使用し、マンニッヒ化合物から目的のメチレンビ
ス体を得るには高温下、減圧設備等でこれらのアミン類
を回収しリサイクルする必要がある。また (c)の方法で
は溶剤を使用せず、ワンポットで製造できることを特徴
としているがその為には耐真空、耐圧の反応釜が必要と
なって工業的には必ずしも容易であるとは言い難い。
However, in the method (a), the substituent at the 4-position is eliminated due to severe reaction conditions in a strong acid, and the desired methylene bis compound cannot be obtained in a high yield due to a side reaction. Although the methods (b) and (c) can be obtained in a relatively high yield, amines having a strong odor such as dimethylamine, diethylamine, and dibutylamine for producing Mannich compounds are used. In order to obtain the above, it is necessary to recover and recycle these amines at a high temperature under reduced pressure equipment. In addition, the method (c) is characterized in that it can be produced in one pot without using a solvent, but it is not necessarily industrially easy because it requires a vacuum and pressure resistant reactor. .

【0051】本発明者らは一般式(1)で表される化合
物の反応を種々検討した結果、メチレンビス体の新規な
製造法を見いだした。即ち、一般式(1)で表される化
合物を溶剤に溶解後、酸触媒下で加熱、還流するだけで
容易に一般式(7)で表されるメチレンビス体が得られ
ることを見いだし本発明に至ったものである。この場
合、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等の溶剤、硫酸、メタンスルホン酸、
p−トルエンスルホン酸等の酸の種類を変えることによ
り一般式(2)で表されるエ−テル体や一般式(3)で
表される化合物も副生するが、晶析等で分離は可能であ
る。
As a result of various studies on the reaction of the compound represented by the general formula (1), the present inventors have found a novel method for producing a methylenebis compound. That is, it was found that the methylenebis compound represented by the general formula (7) can be easily obtained only by dissolving the compound represented by the general formula (1) in a solvent, followed by heating and refluxing under an acid catalyst. It has come. In this case, solvents such as toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, sulfuric acid, methanesulfonic acid,
By changing the kind of the acid such as p-toluenesulfonic acid, an ether body represented by the general formula (2) and a compound represented by the general formula (3) are by-produced, but they are separated by crystallization or the like. It is possible.

【0052】本発明の一般式(1)〜(4)で表される
化合物を紫外線吸収剤として合成樹脂、合成ゴムに添加
して安定な組成物をつくることができる。ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリアクリロニトリ
ル、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、不飽和
ポリエステル、ポリカ−ボネ−ト、アルキッド樹脂、エ
ポキシ樹脂、尿素樹脂、メラニン樹脂、フェノ−ル樹
脂、SBR、NBR等の合成樹脂、合成ゴムに使用でき
る。本発明の一般式(1)〜(4)で表される化合物を
紫外線吸収剤として使用する場合、単独でも2種以上混
合しても使用することができる。勿論、従来公知の紫外
線吸収剤、酸化防止剤、光安定化剤等と併用することも
できる。
A stable composition can be prepared by adding the compounds represented by the general formulas (1) to (4) of the present invention as an ultraviolet absorber to synthetic resins and synthetic rubbers. Polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, polypropylene, polymethylmethacrylate, polyacrylonitrile, polyester, polyamide, polyurethane, unsaturated polyester, polycarbonate, alkyd resin, epoxy resin, urea resin, melanin resin, It can be used for synthetic resin such as phenol resin, SBR, NBR and synthetic rubber. When the compounds represented by the general formulas (1) to (4) of the present invention are used as an ultraviolet absorber, they can be used alone or in combination of two or more. Of course, it can be used in combination with a conventionally known ultraviolet absorber, antioxidant, light stabilizer and the like.

【0053】併用できる紫外線吸収剤としては、例え
ば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−
ドデシロキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外
線吸収剤、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2−ヒドロキシ−5−
t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2−
ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリア
ゾ−ル、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル、2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−アミルフェニル))ベンゾトリア
ゾ−ル2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾ−ル、2−(2
−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾ−ル等のベンゾトリアゾ−
ル系紫外線吸収剤、フェニルサリチレ−ト、4−t−ブ
チルフェニルサリチレ−ト等のサリチレ−ト系紫外線吸
収剤が挙げられる。
Examples of UV absorbers that can be used in combination include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, and 2-hydroxy-.
4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-
Benzophenone-based UV absorbers such as dodecyloxybenzophenone, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-
t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2-
Hydroxy-5-t-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-). Amylphenyl)) benzotriazol 2- (2-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazol, 2- (2
-Hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl)
Benzotriazol such as 5-chlorobenzotriazol
And a salicylate-based ultraviolet absorber such as phenyl salicylate and 4-t-butylphenyl salicylate.

【0054】酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ
−t−ブチル−4−メチルフェノ−ル、ステアリール−
β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネ−ト等のモノフェノ−ル系酸化防止剤、
2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノ−ル)、2,2’−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノ−ル))、4,4’−チ
オビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、
4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−t−
ブチルフェノ−ル)、3,9−ビス−[1,1−ジメチ
ル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−
2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウン
デカン等のビスフェノ−ル型酸化防止剤、テトラキス−
[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’
−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−ト]メタン、ビス
−[3,3’−ビス−[3,3’−ビス−(4’−ヒド
ロキシ−3−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッ
ド]グリコ−ルエステル、1,3,5−トリス(3’,
5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−
s−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)ト
リオン等の高分子型フェノ−ル系酸化防止剤、ジラウリ
ルチオジプロピオネ−ト、ジミリスチルチオジプロピオ
ネ−ト、ペンタエリスリト−ル−テトラキス−(3−ラ
ウリルチオプロピオネ−ト)等の硫黄系酸化防止剤が挙
げられる。
Examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol and stearyl-
β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and other monophenol antioxidants,
2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylene-bis- (4-
Ethyl-6-t-butylphenol)), 4,4'-thiobis- (3-methyl-6-t-butylphenol),
4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-t-
Butylphenol), 3,9-bis- [1,1-dimethyl-2- {β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5
-Methylphenyl) propionyloxy} ethyl]-
Bisphenol type antioxidants such as 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, tetrakis-
[Methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'
-Hydroxyphenyl) propionate] methane, bis- [3,3'-bis- [3,3'-bis- (4'-hydroxy-3-t-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 1 , 3,5-Tris (3 ',
5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl)-
Polymeric phenolic antioxidants such as s-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, dilaurylthiodipropionate, dimyristylthiodipropionate, penta Examples thereof include sulfur antioxidants such as erythritol-tetrakis- (3-laurylthiopropionate).

【0055】光安定剤としては、例えば、ビス−(2,
2,6,6−テトラメチルピペラジル)セバケ−ト、4
−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエ
チル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン重宿合物、ポリ[{6−(1,1,3,3
−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジ
ン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル))イミ
ノ}]−8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル
−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,
5]−ウンデカン−2,4−ジオンのようなヒンダ−ド
アミン類が挙げられる。
Examples of the light stabilizer include bis- (2,
2,6,6-Tetramethylpiperazyl) sebacate, 4
-Benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine heavy compound, poly [{6- (1,1,3,3
-Tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2
2,6,6-Tetramethyl-4-piperidyl)) imino}]-8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4.
5] -Undecane-2,4-dione and the like hindered amines.

【0056】その他の安定剤としては、例えば、[2,
2−チオ−ビス−(4−t−オクチルフェノラ−ト)]
−n−ブチルアミン−ニッケル(II)、[2,2−チオ
−ビス−(4−t−オクチルフェノラ−ト)]−2−エ
チルヘキシルアミン−ニッケル(II)のようなニッケル
化合物が挙げられる。
Other stabilizers include, for example, [2,
2-Thio-bis- (4-t-octylphenolate)]
Examples thereof include nickel compounds such as -n-butylamine-nickel (II) and [2,2-thio-bis- (4-t-octylphenolato)]-2-ethylhexylamine-nickel (II).

【0057】また、本発明の化合物を紫外線吸収剤とし
て使用する場合、例えば、可塑剤、乳化剤、潤滑剤、顔
料、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防止剤等と併用すること
もできる。
When the compound of the present invention is used as an ultraviolet absorber, it can be used in combination with, for example, a plasticizer, an emulsifying agent, a lubricant, a pigment, a fluorescent whitening agent, a flame retardant, an antistatic agent and the like.

【0058】[0058]

【作用】本発明の一般式(1)〜(4)で表される化合
物は新規化合物であり、各種合成樹脂、ゴム、ラテック
ス、塗料等の紫外線吸収剤として使用することができ
る。この場合、樹脂等に対して0.001〜15重量
%、好ましくは0.05〜15重量%の割合で配合する
のがよい。また、アルコ−ル性の官能基を持っているの
で通常のアルコ−ルの反応と同一の反応が可能であり、
例えば、一般式(4)で表されるように、カルボン酸、
スルホン酸、あるいは、それらの塩化物等とのエステル
化等の反応により、高分子量化を図ることも可能であ
り、また、(メタ)アクリル酸等の二重結合を持った化
合物と反応させて重合性の紫外線吸収能を持ったベンゾ
トリアゾ−ルの合成も可能となる。さらには、染料、写
真薬品と本発明の化合物を反応させて紫外線吸収能を持
つ染料、写真薬品等の合成も可能となる。以上の様に、
本発明の化合物は、単独で紫外線吸収剤として働くばか
りか、中間体として更に反応により紫外線吸収能を持っ
た化合物の合成が容易となる。
The compounds represented by the general formulas (1) to (4) of the present invention are novel compounds and can be used as an ultraviolet absorber for various synthetic resins, rubbers, latexes, paints and the like. In this case, 0.001 to 15% by weight, preferably 0.05 to 15% by weight, of the resin or the like is preferably added. Further, since it has an alcoholic functional group, the same reaction as a normal alcohol reaction is possible,
For example, as represented by the general formula (4), a carboxylic acid,
It is also possible to increase the molecular weight by a reaction such as esterification with sulfonic acid or a chloride thereof, and by reacting with a compound having a double bond such as (meth) acrylic acid. It is also possible to synthesize benzotriazole having a polymerizable ultraviolet absorbing ability. Furthermore, it is also possible to synthesize a dye, a photographic chemical or the like having an ultraviolet absorbing ability by reacting a dye or a photographic chemical with the compound of the present invention. As mentioned above,
The compound of the present invention acts not only as an ultraviolet absorber by itself, but also as an intermediate, the reaction further facilitates the synthesis of a compound having an ultraviolet absorbing ability.

【0059】[0059]

【実施例】次に、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はこれらによって限定されるものではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these.

【0060】(実施例1)o−ニトロアニリン36g、
62.5%硫酸40ml、水220mlの懸濁液に、温
度0〜5℃で亜塩酸ソ−ダ19g、水40mlの溶液を
1時間かけて滴下し、さらに1時間攪拌すると黄色のジ
アゾ液が得られる。次いでスルファミン酸を加えて過剰
の亜硝酸を消す。一方、Ber.40,2532(1907) の方法で得
られた 2,6−ジ−ヒドロキシメチル−p−クレゾ−ル45
g、水400ml、48%苛性ソ−ダ39mlの混合液
を10℃以下に冷却し、これに上記で得られたジアゾ液
を攪拌下1時間で滴下し、さらに1時間攪拌し、硫酸で
中和した後濾過し、水洗、乾燥して純度96%のアゾ化
合物69.6g(o−ニトロアニリン当たりの収率8
9.2%)を得た。上記アゾ化合物69.6g、水27
0ml、トルエン150mI、48%苛性ソ−ダ17m
lの混合物にハイドロキノン0.5g加えた後、80℃
で80%ヒドラジン溶液9mlを滴下し、更に2時間攪
拌する。分液後、トルエン層を中和し、冷却後濾過、水
洗、乾燥してN-オキシド57.8g(アゾ化合物より収
率91.6%)を得た。このN-オキシド57.8g、水
750ml、トルエン420ml、亜鉛末32.8gの
懸濁液を70〜75℃に昇温し、62.5%硫酸98m
lを2時間かけて滴下し、更に2時間攪拌を続ける。次
いで、分液によりトルエン層を分離し、水洗後トルエン
を回収すると目的の淡黄色の2−(2’−ヒドロキシ−
3’−ヒドロキシメチル−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾ−ル51.2g(N-オキシドより収率94.
2%)得えられた。 特性 融点: 168.0〜 169.1℃、 UV吸収:λ(Max) 341 nm ε=15900
(Example 1) 36 g of o-nitroaniline,
To a suspension of 62.5% sulfuric acid (40 ml) and water (220 ml), a solution of 19 g of sodium sulfite and 40 ml of water was added dropwise at a temperature of 0 to 5 ° C over 1 hour, and a yellow diazo solution was obtained by stirring for 1 hour. can get. Sulfamic acid is then added to quench excess nitrous acid. On the other hand, 2,6-di-hydroxymethyl-p-cresol 45 obtained by the method of Ber.40,2532 (1907).
g, 400 ml of water, 39 ml of 48% caustic soda were cooled to 10 ° C. or lower, and the diazo solution obtained above was added dropwise to the mixture under stirring for 1 hour, and the mixture was further stirred for 1 hour. The mixture was hydrated, filtered, washed with water, and dried to give 69.6 g of a 96% pure azo compound (yield: 8
9.2%). 69.6 g of the azo compound, 27 of water
0 ml, toluene 150 ml, 48% caustic soda 17 m
After adding 0.5 g of hydroquinone to the mixture of 1
Then, 9 ml of 80% hydrazine solution is added dropwise, and the mixture is further stirred for 2 hours. After liquid separation, the toluene layer was neutralized, cooled, filtered, washed with water and dried to obtain 57.8 g of N-oxide (yield 91.6% from the azo compound). A suspension of 57.8 g of this N-oxide, 750 ml of water, 420 ml of toluene, and 32.8 g of zinc dust was heated to 70 to 75 ° C., and 62.5% sulfuric acid 98 m was added.
1 is added dropwise over 2 hours, and stirring is continued for another 2 hours. Then, the toluene layer is separated by liquid separation, and after washing with water, the toluene is recovered and the desired pale yellow 2- (2'-hydroxy-
51.2 g of 3'-hydroxymethyl-5'-methylphenyl) benzotriazole (yield 94.
2%) was obtained. Characteristics Melting point: 168.0-169.1 ℃, UV absorption: λ (Max) 341 nm ε = 15900

【0061】(実施例2)実施例1で得られたベンゾト
リアゾ−ル12.7gをメチルエチルケトン300ml
に溶解し、メタンスルホン酸1gを添加して24時間還
流脱水する。反応液を水1000mlに注ぎ、析出した
結晶を濾別し、イソプロピルアルコ−ル(以下、IPA
と略す。)で洗浄後、乾燥して8.3gの3,3’−ビ
ス(2H−ベンゾトリアゾ−ル−2イル)−2,2’−
ジヒドロキシ−5,5’−ジメチルベンジルエ−テルを
得た。融点が231〜232℃、元素分析及びNMR測
定より下記構造の化合物であることを確認した。
Example 2 12.7 g of the benzotriazole obtained in Example 1 was added to 300 ml of methyl ethyl ketone.
, Methanesulfonic acid (1 g) is added, and the mixture is refluxed for 24 hours for dehydration. The reaction solution was poured into 1000 ml of water, and the precipitated crystals were separated by filtration and washed with isopropyl alcohol (hereinafter, IPA).
Abbreviated. ) And then dried to give 8.3 g of 3,3'-bis (2H-benzotriazol-2yl) -2,2'-.
Dihydroxy-5,5'-dimethylbenzyl ether was obtained. The melting point was 231 to 232 ° C, and it was confirmed from the elemental analysis and the NMR measurement that the compound had the following structure.

【0062】[0062]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0063】(実施例3)実施例1で得られたベゾトリ
アゾ−ル12.7gをトルエン300mlに溶解し、メ
タンスルホン酸を0.5g添加して24時間還流脱水す
る。次いで反応液を温水100mlで3回洗浄後、減圧
下でトルエンを留去する。残っている結晶をイソプロピ
ルアルコ−ル水で再結晶して白色の結晶9.2gを得
た。融点が144〜146℃、元素分析及びNMR測定
より下記構造の化合物であることを確認した。
Example 3 12.7 g of bezotriazole obtained in Example 1 was dissolved in 300 ml of toluene, 0.5 g of methanesulfonic acid was added, and the mixture was refluxed and dehydrated for 24 hours. Then, the reaction solution is washed with 100 ml of warm water three times, and then toluene is distilled off under reduced pressure. The remaining crystals were recrystallized with isopropyl alcohol water to obtain 9.2 g of white crystals. The melting point was 144 to 146 ° C., and it was confirmed from the elemental analysis and NMR measurement that the compound had the following structure.

【0064】[0064]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0065】(実施例4)実施例1で得られたベンゾト
リアゾ−ル12.7gをメチルイソブチルケトン(MI
BK)300mIに溶解し、メタンスルホン酸0.5g
添加して24時間還流脱水する。次いで反応液は、水1
00mlで洗浄され、減圧下でMIBKが150ml回
収され、冷却される。析出した結晶を濾別し、IPAで
洗浄後、乾燥して4.3gの3,3’−ビス(2H−ベ
ンゾトリアゾ−ル−2イル)−2,2’−ジヒドロキシ
−5,5’−ジメチルベンジルエ−テルを得た。融点は
230.5〜 232℃であった。減圧下で濾液から溶剤留去後
の殘渣をトルエンで再結晶すると純度97.2%の淡黄
白色の結晶4.6g得られた。この結晶を再度トルエン
より再結晶して純度99.8%、融点283〜284℃
のものを得た。融点、元素分析及びNMR測定より下記
構造のメチレンビス体であった。
Example 4 12.7 g of the benzotriazole obtained in Example 1 was added to methyl isobutyl ketone (MI).
BK) dissolved in 300 ml, methanesulfonic acid 0.5 g
Add and dehydrate under reflux for 24 hours. Then, the reaction solution is water 1
After washing with 00 ml, 150 ml of MIBK is collected under reduced pressure and cooled. The precipitated crystals were filtered off, washed with IPA and dried to give 4.3 g of 3,3′-bis (2H-benzotriazol-2-yl) -2,2′-dihydroxy-5,5′-dimethyl. Benzyl ether was obtained. Melting point
The temperature was 230.5 to 232 ° C. The solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure, and the residue was recrystallized with toluene to obtain 4.6 g of pale yellowish white crystals having a purity of 97.2%. This crystal is recrystallized again from toluene to have a purity of 99.8% and a melting point of 283 to 284 ° C.
Got one. From the melting point, elemental analysis and NMR measurement, it was a methylenebis compound having the following structure.

【0066】[0066]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0067】(実施例5)2,6−ジ−ヒドロキシメチ
ル−4−t−ブチルフェノ−ルはJ.Prakt.chem.,153,32
7(1939)の方法にて合成した。実施例1の2,6−ジ−
ヒドロキシメチル−P−クレゾ−ルの代わりに2,6−
ジ−ヒドロキシメチル−4−t−ブチルフェノ−ル57
gを使用した以外は実施例1と同様に実施した結果、純
度90.1%のアゾ化合物で81.3g(収率85.3
%)、N−オキシドで60.9g(収率87.4%)得
られた。目的の2−(2’−ヒドロキシ−3’−ヒドロ
キシメチル−5’−t−ブチルフェニル)ベンゾトリア
ゾ−ルは53.0g(収率91.8%)であった。 特性 融点: 162.8〜 164.0℃ UV吸収:λ(max)340nm ε=16400
(Example 5) 2,6-di-hydroxymethyl-4-t-butylphenol was prepared according to J. Prakt. Chem., 153, 32.
It was synthesized by the method of 7 (1939). 2,6-di-of Example 1
2,6-instead of hydroxymethyl-P-cresol
Di-hydroxymethyl-4-t-butylphenol 57
Example 1 was repeated except that g was used. As a result, 81.3 g of an azo compound having a purity of 90.1% (yield 85.3) was obtained.
%) And 60.9 g of N-oxide (yield 87.4%). The target amount of 2- (2'-hydroxy-3'-hydroxymethyl-5'-t-butylphenyl) benzotriazole was 53.0 g (yield 91.8%). Characteristics Melting point: 162.8 to 164.0 ℃ UV absorption: λ (max) 340nm ε = 16400

【0068】このトリアゾ−ル14.9gを300ml
に溶解し、55℃に昇温後、イソシアン酸フェニル6
g、ピリジン0.2gを添加して24時間反応させる。
反応後、温水200mlにて4回トルエン層を洗浄し、
減圧下でトルエンを留去し、次いでIPA150mIに
溶解後10℃まで冷却し、晶析させる。析出した結晶を
濾別し、IPAで洗浄後乾燥して下記化合物の白色結晶
を14.4g得た。 融点:147.0〜147.8℃
300 ml of 14.9 g of this triazole was added.
Dissolved in water, heated to 55 ° C., and then charged with phenyl isocyanate 6
g and 0.2 g of pyridine are added and reacted for 24 hours.
After the reaction, the toluene layer was washed 4 times with 200 ml of warm water,
Toluene is distilled off under reduced pressure, then dissolved in 150 ml of IPA and cooled to 10 ° C. for crystallization. The precipitated crystals were separated by filtration, washed with IPA and dried to obtain 14.4 g of the following compound as white crystals. Melting point: 147.0-147.8 ° C

【0069】[0069]

【化25】 [Chemical 25]

【0070】(実施例6)実施例1の2,6−ジ−ヒド
ロキシメチル−P−クレゾ−ルの代わりに2,6−ジ−
ヒドロキシメチル−4−t−ブチルフェノール57gを
o−ニトロアニリンの代わりに4−クロル−2−ニトロ
アニリン45gを使用した以外は実施例1と同様に実施
した結果、アゾ化合物で87.1g(純度93.7%、
収率86.1%)、N−オキシドで67.0g(収率8
5.8%)得られた。目的の2−(2−ヒドロキシ−
3’−ヒドロキシメチル−5’−t−ブチルフェニル)
−5−クロロベンゾトリアゾールは56.8g(収率8
8.9%)であった。 特性 融点: 134.2〜135.2℃、 UV吸収:λ(max) 347 nm ε=18100
Example 6 Instead of 2,6-di-hydroxymethyl-P-cresol in Example 1, 2,6-di-
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 57 g of hydroxymethyl-4-t-butylphenol was replaced with 45 g of 4-chloro-2-nitroaniline in place of o-nitroaniline, and as a result, 87.1 g (purity: 93 .7%,
Yield 86.1%), 67.0 g of N-oxide (yield 8
5.8%) was obtained. The desired 2- (2-hydroxy-
3'-hydroxymethyl-5'-t-butylphenyl)
56.8 g of -5-chlorobenzotriazole (yield 8
8.9%). Characteristics Melting point: 134.2-135.2 ° C, UV absorption: λ (max) 347 nm ε = 18100

【0071】このトリアゾ−ル33.2gをアセトン1
000mlに溶解し、トリエチルアミン15.2g添加
後室温下でメタクリル酸クロリド12.5gを1時間か
けて滴下する。滴下後そのまま24時間攪拌し、30%
塩酸で中和する。析出したトリエチルアミンの塩酸塩を
濾別後、減圧下でアセトンを留去し、IPA300ml
で晶析する。得られた結晶をIPAで洗浄後、乾燥する
と白色結晶25.7g得られ、融点が135.5〜13
7.5℃であった。元素分析及びNMR測定より下記化
合物であった。
33.2 g of this triazole was added to acetone 1
After dissolving in 000 ml and adding 15.2 g of triethylamine, 12.5 g of methacrylic acid chloride is added dropwise at room temperature over 1 hour. After dropping, stir for 24 hours, 30%
Neutralize with hydrochloric acid. After filtering off the precipitated triethylamine hydrochloride, acetone was distilled off under reduced pressure to obtain 300 ml of IPA.
To crystallize. The crystals obtained were washed with IPA and dried to give 25.7 g of white crystals, melting point 135.5-13
It was 7.5 ° C. It was the following compound by elemental analysis and NMR measurement.

【0072】[0072]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0073】(実施例7)4−メトキシフェノ−ル35
g、48%苛性ソ−ダ39mI、水400mI、35%
ホルマリン水55gの溶液を50℃に昇温し2時間反応
を続けた後、5〜10℃に冷却し、実施例1と同様にカ
ップリングし、更に還元することによりアゾ化合物で6
6.3g(純度90.8%、収率76.2%)、N−オ
キシドで50.4g(収率88.3%)得られた。目的
の2−(2’−ヒドロキシ−3’−ヒドロキシメチル−
5’−メトキシフェニル)ベンゾトリアゾ−ルは41.
6g(収率87.5%)であった。 特性 融点: 123〜124℃ UV吸収:λ(max) 301 nm ε=16700 357 nm ε=14400
Example 7 4-Methoxyphenol 35
g, 48% caustic soda 39 ml, water 400 ml, 35%
A solution of 55 g of formalin water was heated to 50 ° C., the reaction was continued for 2 hours, then cooled to 5 to 10 ° C., coupled in the same manner as in Example 1, and further reduced to give 6 by an azo compound.
6.3 g (purity 90.8%, yield 76.2%) and 50.4 g (yield 88.3%) of N-oxide were obtained. The desired 2- (2'-hydroxy-3'-hydroxymethyl-
5'-methoxyphenyl) benzotriazole is 41.
It was 6 g (yield 87.5%). Characteristics Melting point: 123-124 ° C UV absorption: λ (max) 301 nm ε = 16700 357 nm ε = 14400

【0074】このトリアゾ−ル10g、β−メルカプト
プロピオン酸11.8gをトルエン150mlに溶解
し、62.5%硫酸0.5g添加後4時間還流脱水す
る。反応が終わると冷却し、析出した結晶を濾別する。
次いでトルエンで再結晶して融点167.5〜168.
5℃の結晶8.6gを得た。元素分析、NMR測定より
下記化合物であった。
10 g of this triazole and 11.8 g of β-mercaptopropionic acid were dissolved in 150 ml of toluene, 0.5 g of 62.5% sulfuric acid was added, and the mixture was refluxed and dehydrated for 4 hours. When the reaction is over, the reaction mixture is cooled and the precipitated crystals are separated by filtration.
Then, it is recrystallized with toluene and has a melting point of 167.5-168.
8.6 g of crystals at 5 ° C. were obtained. It was the following compound from elemental analysis and NMR measurement.

【0075】[0075]

【化27】 [Chemical 27]

【0076】(実施例8)o−ニトロアニリン65g、
62.5%硫酸75ml、水400mlの懸濁液に、0
〜5℃で水65mlに亜硝酸ソ−ダ33gを溶解して1
時間で滴下し、さらに1時間攪拌すると黄色のジアゾ液
が得られ、スルファミン酸で過剰の亜硝酸を消す。一
方、3,4-ジメチルフェノ−ル61gを35%ホルマリン
水128gに溶かし、トリエチルアミン50g、界面活
性剤(商品名リパ−ルSK−860)を9g加えて50
℃で5時間反応させ、反応終了後、水2000ml、4
8%苛性ソ−ダ83mlを加えて0〜5℃に冷却する。
これに上記で得られたジアゾ液を2時間かけて滴下し、
同温度でさらに3時間攪拌を続けた後硫酸で中和してか
ら濾過、水洗するとアゾ化合物が得られる。このアゾ化
合物を水600ml、トルエン80ml、48%苛性ソ
−ダ25ml、ハイドロキノン0.5gに加えた後、8
0℃で80%ヒドラジン溶液17mlを滴下し、更に2
時間攪拌する。分液後、トルエン層を中和し、冷却後濾
過、水洗して乾燥するとN−オキシド121.9g(o-
ニトロアニリンよりの収率90.8%)を得た。このN
−オキシドに水600ml、トルエン600ml、亜鉛
末40gを加えた懸濁液に、70〜75℃に昇温して、
62.5%硫酸60mlを4時間かけて滴下し、更に2
時間攪拌を続ける。分液によりトルエン層を分離し、水
洗後トルエンを回収して目的の淡黄色の2−(2’−ヒ
ドロキシ−3’−ヒドロキシメチル−4’,5’−ジメ
チルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル91.6g(o−ニ
トロアニリンよりの収率72.3%)得られた。これを
トルエンより再結晶して淡黄白色の結晶83.7gが得
られ、融点が186〜187℃であった。このトリアゾ
−ル10gに3,3’−ジチオジプロピオン酸39g、
トルエン300ml、62.5%硫酸1g加えて6時間
還流脱水し、反応終了後、トルエン層を温水、3%アン
モニア水で洗浄してから減圧下でトルエンを留去し、I
PAにて晶析すると融点149〜152℃の淡黄白色の
結晶が収率82%で得られた。元素分析及びNMRより
下記化合物であることを確認した。
Example 8 65 g of o-nitroaniline,
In a suspension of 75 ml of 62.5% sulfuric acid and 400 ml of water, 0
Dissolve 33 g of sodium nitrite in 65 ml of water at -5 ° C to prepare 1
A yellow diazo solution is obtained by adding dropwise over a period of time and further stirring for 1 hour, and excess nitrous acid is extinguished with sulfamic acid. On the other hand, 61 g of 3,4-dimethylphenol was dissolved in 128 g of 35% formalin water, 50 g of triethylamine and 9 g of a surfactant (trade name Lipal SK-860) were added to give 50 g.
After reaction for 5 hours at ℃, after the reaction is completed, 2000 ml of water, 4
Add 83 ml of 8% caustic soda and cool to 0-5 ° C.
The diazo solution obtained above was added dropwise to this over 2 hours,
The mixture is stirred at the same temperature for 3 hours, neutralized with sulfuric acid, filtered, and washed with water to obtain an azo compound. This azo compound was added to 600 ml of water, 80 ml of toluene, 25 ml of 48% caustic soda and 0.5 g of hydroquinone, and then 8
17 ml of 80% hydrazine solution was added dropwise at 0 ° C, and further 2
Stir for hours. After separation, the toluene layer is neutralized, cooled, filtered, washed with water and dried to give 121.9 g (o-
Yield 90.8% from nitroaniline) was obtained. This N
-To a suspension obtained by adding 600 ml of water, 600 ml of toluene, and 40 g of zinc dust to the oxide, raise the temperature to 70 to 75 ° C,
60 ml of 62.5% sulfuric acid was added dropwise over 4 hours, and further 2
Continue stirring for hours. The toluene layer was separated by liquid separation, washed with water, and the toluene was recovered to obtain the desired pale yellow 2- (2'-hydroxy-3'-hydroxymethyl-4 ', 5'-dimethylphenyl) benzotriazole 91.6 g. (Yield from o-nitroaniline 72.3%) was obtained. This was recrystallized from toluene to obtain 83.7 g of pale yellowish white crystals, and the melting point was 186 to 187 ° C. To 10 g of this triazole, 39 g of 3,3'-dithiodipropionic acid,
Toluene (300 ml) and 62.5% sulfuric acid (1 g) were added and the mixture was refluxed and dehydrated for 6 hours. After completion of the reaction, the toluene layer was washed with warm water and 3% ammonia water, and the toluene was distilled off under reduced pressure.
Crystallization with PA gave pale yellowish white crystals with a melting point of 149 to 152 ° C in a yield of 82%. The following compounds were confirmed by elemental analysis and NMR.

【0077】[0077]

【化28】 [Chemical 28]

【0078】一般式(1)で表される化合物と公知の方
法で反応させ得られた化合物を次の表1に示す。
The compounds obtained by reacting the compound represented by the general formula (1) by a known method are shown in Table 1 below.

【0079】[0079]

【表1】 [Table 1]

【0080】[0080]

【発明の効果】上述の通り、この発明は、一般式 (1)〜
(4)で表される新規なベンゾトリアゾ−ル化合物である
ため、工業的に製造が容易ですぐれた紫外線吸収能を持
ち、且つ、アルコ−ル性の官能基を持つことにより、他
の化学品と反応させて容易に紫外線吸収能を持たせるこ
とができる反応性に富んだものである。因って、製造工
程が簡単であり、経済性も良好で、各種樹脂、合成ゴ
ム、ラテックス、塗料、染料、化粧品、医農薬などの紫
外線等による劣化防止のための紫外線吸収剤として有用
である。
As described above, the present invention has the following general formulas (1) to
Since it is a novel benzotriazole compound represented by (4), it is easy to manufacture industrially, has excellent ultraviolet absorption ability, and has an alcoholic functional group, so other chemicals It is a highly reactive substance that can easily be made to have an ultraviolet absorbing ability by reacting with. Therefore, the manufacturing process is simple and the economy is good, and it is useful as an ultraviolet absorber for preventing deterioration of various resins, synthetic rubber, latex, paints, dyes, cosmetics, pharmaceuticals and agricultural chemicals due to ultraviolet rays. .

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基またはアルコキシ基を示し、R2 及びR4
水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R
3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示す。)で表さ
られるベンゾトリアゾ−ル化合物。
1. A compound represented by the general formula (1): (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 12 alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group. , An alkoxy group or a phenoxy group, R
3 represents a C 1 to C 12 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or phenoxy group. ) The benzotriazole compound represented by this.
【請求項2】 一般式(2) 【化2】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基またはアルコキシ基を示し、R2 及びR4
水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R
3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示す。)で表さ
られるベンゾトリアゾ−ル化合物。
2. A compound of the general formula (2) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 12 alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group. , An alkoxy group or a phenoxy group, R
3 represents a C 1 to C 12 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or phenoxy group. ) The benzotriazole compound represented by this.
【請求項3】 一般式(3) 【化3】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基またはアルコキシ基を示し、R2 及びR4
水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R
3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R5 はC
6 〜C20のアリール基を示す。)で表されるベンゾトリ
アゾ−ル化合物。
3. A compound represented by the general formula (3): (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 12 alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group. , An alkoxy group or a phenoxy group, R
3 represents a C 1 -C 12 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group, and R 5 represents C
An aryl group having 6 -C 20. ) The benzotriazole compound represented by these.
【請求項4】 一般式(4) 【化4】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基又はアルコキシ基を示し、R2 及びR4 は水
素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリール基、アラル
キル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R3
はC1 〜C12のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R6 はC
1 〜C20のアルキル基、アリール基またはアラルキル基
を示し、nは1〜4の整数を示す。)で表されるベンゾ
トリアゾ−ル化合物。
4. A compound represented by the general formula (4): (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 12 alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group. , An alkoxy group or a phenoxy group, R 3
Represents a C 1 -C 12 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or phenoxy group, and R 6 represents C
1 to C 20 alkyl group, aryl group or aralkyl group is shown, and n is an integer of 1 to 4. ) The benzotriazole compound represented by these.
【請求項5】 請求項1、2、3又は4記載のベンゾト
リアゾ−ル化合物を有効成分とする紫外線吸収剤。
5. An ultraviolet absorber containing the benzotriazole compound according to claim 1, 2, 3 or 4 as an active ingredient.
【請求項6】 一般式(5) 【化5】 (式中、R2 及びR4 は水素原子、C1 〜C10のアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基または
フェノキシ基を示し、R3 はC1 〜C12のアルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルコキシ基またはフェノ
キシ基を示す。)で表されるフェノール類を一般式
(6) 【化6】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基またはアルコキシ基を示す。)で表されるア
ミンのジアゾニウム塩とカップリングさせ、さらに還元
することにより一般式(1) 【化7】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基またはアルコキシ基を示し、R2 及びR4
水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R
3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示す。)で表さ
られるベンゾトリアゾ−ルを製造することを特徴とする
ベンゾトリアゾ−ルの製造方法。
6. A compound represented by the general formula (5): (In the formula, R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group, and R 3 represents a C 1 -C 12 alkyl group,
An aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or a phenoxy group is shown. ) Is represented by the general formula (6): (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 to C 12 alkyl group or an alkoxy group.) Coupling with a diazonium salt of an amine represented by the general formula (1 ) [Chemical 7] (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 12 alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group. , An alkoxy group or a phenoxy group, R
3 represents a C 1 to C 12 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or phenoxy group. ) A benzotriazole represented by the formula (4) is produced.
【請求項7】 一般式(1) 【化8】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基またはアルコキシ基を示し、R2 及びR4
水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R
3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示す。)で表さ
られるベンゾトリアゾ−ル化合物を酸性触媒下で加熱し
て一般式(7) 【化9】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、C1 〜C12
アルキル基またはアルコキシ基を示し、R2 及びR4
水素原子、C1 〜C10のアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示し、R
3 はC1 〜C12のアルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルコキシ基またはフェノキシ基を示す。)で表さ
られるベンゾトリアゾ−ルを製造することを特徴とする
ベンゾトリアゾ−ルの製造法。
7. A compound represented by the general formula (1): (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 12 alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group. , An alkoxy group or a phenoxy group, R
3 represents a C 1 to C 12 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or phenoxy group. ) The benzotriazole compound represented by the formula (7) is heated under an acidic catalyst to give a compound represented by the general formula (7): (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 -C 12 alkyl group or an alkoxy group, and R 2 and R 4 represent a hydrogen atom, a C 1 -C 10 alkyl group, an aryl group, an aralkyl group. , An alkoxy group or a phenoxy group, R
3 represents a C 1 to C 12 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or phenoxy group. ) A benzotriazole represented by the formula (4) is produced.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998050371A1 (en) * 1997-05-08 1998-11-12 Otsuka Chemical Co., Ltd. 2,2'-bis(6-benzotriazolylphenol) compounds, ultraviolet absorbers comprising the same, copolymers containing the same, and polymer compositions containing the same
WO2000021937A1 (en) * 1998-10-14 2000-04-20 Otsuka Chemical Co., Ltd. Bisbenzotriazolylphenol compounds, ultraviolet absorber, ultraviolet-absorbing polymer, and resin composition and coating material both containing these
JP2001106677A (en) * 1999-10-06 2001-04-17 Osaka Seika Kogyo Kk Benzotriazole-based compound and light stabilizer
JP2009013148A (en) * 2007-07-03 2009-01-22 Shipro Kasei Kaisha Ltd Chemical modification to bis type structure by adipoyl dichloride, isophthaloyl dichloride or terephthaloyl dichloride of benzotriazole-based ultraviolet light absorbent having hydroxymethyl group
WO2010053917A1 (en) * 2008-11-04 2010-05-14 Alcon, Inc. Uv/visible light absorbers for ophthalmic lens materials
WO2011086124A1 (en) * 2010-01-15 2011-07-21 Dsm Ip Assets B.V. 2 - phenyl - 1, 2, 3 - benzotriazoles for uv radiation absorbance
WO2015062946A1 (en) * 2013-10-29 2015-05-07 Basf Se The use of 2-(2-hydroxyphenyl)benzotriazole compounds as an uv absorbing agent in coatings
WO2019192982A1 (en) 2018-04-04 2019-10-10 Basf Se Use of an ultraviolet radiation absorbing polymer composition (uvrap) as an uv absorbing agent in a coating for non-living and non-keratinous materials
KR102276735B1 (en) * 2021-05-12 2021-07-13 아이씨이아이우방(주) Ultraviolet absorbent for light fastness enhancer, Manufacturing method thereof and Light fastness enhancer containing the same

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998050371A1 (en) * 1997-05-08 1998-11-12 Otsuka Chemical Co., Ltd. 2,2'-bis(6-benzotriazolylphenol) compounds, ultraviolet absorbers comprising the same, copolymers containing the same, and polymer compositions containing the same
US6281313B1 (en) 1997-05-08 2001-08-28 Otsuka Chemical Co., Ltd. 2,2′BIS(6-Benzotriazolylphenol) compound, ultraviolet ray absorber comprising the compound, copolymer containing the compound and polymer composition containing the compound
CN1122663C (en) * 1997-05-08 2003-10-01 大塚化学株式会社 2,2'-bis(6-benzotriazolylphenol) compounds, ultraviolet absorbers comprising same, copolymers containing same, and polymer compositions containing same
WO2000021937A1 (en) * 1998-10-14 2000-04-20 Otsuka Chemical Co., Ltd. Bisbenzotriazolylphenol compounds, ultraviolet absorber, ultraviolet-absorbing polymer, and resin composition and coating material both containing these
JP2001106677A (en) * 1999-10-06 2001-04-17 Osaka Seika Kogyo Kk Benzotriazole-based compound and light stabilizer
JP2009013148A (en) * 2007-07-03 2009-01-22 Shipro Kasei Kaisha Ltd Chemical modification to bis type structure by adipoyl dichloride, isophthaloyl dichloride or terephthaloyl dichloride of benzotriazole-based ultraviolet light absorbent having hydroxymethyl group
WO2010053917A1 (en) * 2008-11-04 2010-05-14 Alcon, Inc. Uv/visible light absorbers for ophthalmic lens materials
KR20110082069A (en) * 2008-11-04 2011-07-15 알콘, 인코퍼레이티드 Uv/visible light absorbers for ophthalmic lens materials
AU2009311321B2 (en) * 2008-11-04 2014-01-23 Alcon Inc. UV/Visible light absorbers for ophthalmic lens materials
RU2503667C2 (en) * 2008-11-04 2014-01-10 Алькон, Инк. Uv/visible light absorbers for ophthalmic lens materials
CN102203072A (en) * 2008-11-04 2011-09-28 爱尔康公司 Uv/visible light absorbers for ophthalmic lens materials
JP2012508171A (en) * 2008-11-04 2012-04-05 アルコン,インコーポレイテッド UV / visible light absorbers for ophthalmic lens materials
US8153703B2 (en) 2008-11-04 2012-04-10 Novartis Ag UV/visible light absorbers for ophthalmic lens materials
US8232326B2 (en) 2008-11-04 2012-07-31 Novartis Ag UV/visible light absorbers for ophthalmic lens materials
CN102712605A (en) * 2010-01-15 2012-10-03 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 Process to make UV radiation absorbing 2 - phenyl - 1, 2, 3 - benzotriazoles
US8895754B2 (en) 2010-01-15 2014-11-25 Dsm Ip Assets B.V. Process to make UV radiation absorbing 2-phenyl-1,2,3,-benzotriazoles
JP2013517250A (en) * 2010-01-15 2013-05-16 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. 2-Phenyl-1,2,3-benzotriazole for UV absorption
WO2011086127A1 (en) 2010-01-15 2011-07-21 Dsm Ip Assets B.V. Process to make uv radiation absorbing 2 - phenyl - 1, 2, 3 - benzotriazoles
WO2011086124A1 (en) * 2010-01-15 2011-07-21 Dsm Ip Assets B.V. 2 - phenyl - 1, 2, 3 - benzotriazoles for uv radiation absorbance
US8883829B2 (en) 2010-01-15 2014-11-11 Dsm Ip Assets B.V. 2-phenyl-1,2,3-benzotriazoles for UV radiation absorbance
CN102791698B (en) * 2010-01-15 2014-11-12 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 2-phenyl-1,2,3-benzotriazoles for UV radiation absorbance
CN102791698A (en) * 2010-01-15 2012-11-21 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 2-phenyl-1,2,3-benzotriazoles for UV radiation absorbance
WO2015062946A1 (en) * 2013-10-29 2015-05-07 Basf Se The use of 2-(2-hydroxyphenyl)benzotriazole compounds as an uv absorbing agent in coatings
JP2016538382A (en) * 2013-10-29 2016-12-08 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se Use as a UV absorber in the coating of 2- (2-hydroxyphenyl) benzotriazole compounds
US10119039B2 (en) 2013-10-29 2018-11-06 Basf Se Use of 2-(2-hydroxyphenyl)benzotriazole compounds as an UV absorbing agent in coatings
WO2019192982A1 (en) 2018-04-04 2019-10-10 Basf Se Use of an ultraviolet radiation absorbing polymer composition (uvrap) as an uv absorbing agent in a coating for non-living and non-keratinous materials
US11773277B2 (en) 2018-04-04 2023-10-03 Basf Se Use of an ultraviolet radiation absorbing polymer composition (UVRAP) as an UV absorbing agent in a coating for non-living and non-keratinous materials
KR102276735B1 (en) * 2021-05-12 2021-07-13 아이씨이아이우방(주) Ultraviolet absorbent for light fastness enhancer, Manufacturing method thereof and Light fastness enhancer containing the same

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