JPH0820511B2 - 相対方位測定装置 - Google Patents

相対方位測定装置

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JPH0820511B2
JPH0820511B2 JP5090347A JP9034793A JPH0820511B2 JP H0820511 B2 JPH0820511 B2 JP H0820511B2 JP 5090347 A JP5090347 A JP 5090347A JP 9034793 A JP9034793 A JP 9034793A JP H0820511 B2 JPH0820511 B2 JP H0820511B2
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azimuth
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    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
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    • G01S17/02Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
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  • Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は目標物と目標物追跡体と
の間の相互の方位角および仰角,即ち相対方位を光信号
を用いて測定する相対方位測定装置に関し、特に距離の
近い目標物との相対方位を高い精度で測定できる相対方
位測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の相対方位測定装置の一つ
が人工衛星のランデブ・ドッキングにおける目標物であ
るターゲット宇宙機の方位標定用に用いるランデブ・レ
ーザ・レーダとして知られている。この相対方位測定装
置は、目標物追跡体であるチェイサ宇宙機と上記ターゲ
ット宇宙機との間の相互の方位角および仰角,即ち移動
体間の相対方位あるいは固定点から移動体に対する相対
方位を測定する。
【0003】以下、図5に示す従来技術を用いた相対方
位測定装置のブロック図、および図6に示す図5の相対
方位測定装置に使用するリフレクタ102の正面図を参
照して、従来の相対方位測定装置について説明する。
【0004】この相対方位測定装置は、上記チェイサ宇
宙機等に固定された測定部101と上記ターゲット宇宙
機等の目標物1に固定されたリフレクタ102とを含
み、測定部101において、目標物1と測定部101と
の相対方位を測定する。ここで、リフレクタ102は、
コーナーキューブ等からなる複数の小リフレクタ102
1の集合体であり、光をこの光の入射方向に反射する。
小リフレクタ1021は、全て同一でしかも固定の反射
率,大きさおよび形状を有する。
【0005】測定部101内の光源5は、波長830n
mの光を発生するレーザ光発振器等であり、既知波長の
出射光H1を発生する。この出射光H1は光学系3の一
部をなすハーフミラー4を介してリフレクタ102に導
かれる。リフレクタ102はこの出射光H1をハーフミ
ラー4の方向に反射する。このリフレクタ102からの
反射光H2は、ハーフミラー4に再び導入され、さら
に、CCD等を用いる2次元の撮像素子6に導かれる。
【0006】撮像素子6は、反射光H2を2次元のリフ
レクタ像として結像し、このリフレクタ像に対応して2
次元画像情報を有する電気信号S1を角度演算回路10
8に供給する。なお、このリフレクタ像はリフレクタ1
02の外形を示している。角度演算回路108は、この
電気信号S1から上記リフレクタ像の中心を求め、さら
に、このリフレクタ像の中心と撮像素子6の視野中心と
のずれを求めて、リフレクタ102を固定した目標物1
と測定部101との間の相互の方位角および仰角,即ち
相対方位を算出する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】この従来の相対方位測
定装置は、リフレクタの大きさが一定であるため、目標
物と測定部との距離が近づいた場合には、リフレクタ像
が大きくなって撮像素子の視野からはみ出すので、上記
リフレクタ像の中心を正確に求めるのが困難となり、上
記目標物と上記測定部との間の相互の方位を方位角およ
び仰角で表わす相対方位の測定精度が低下するという欠
点があった。
【0008】また、この相対方位測定装置は、上記撮像
素子の視野の全てがリフレクタ像で覆われた場合には、
上記相対方位をまったく測定できなくなるという欠点が
あった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の相対方位測定装
置は、目標物に設けられ受けた光をこの光の入射方向に
反射光として反射するリフレクタと、前記目標物に対す
る距離および方位を変化しうる目標物追跡体に設けられ
た測定部とを備える。前記測定部が、出射光を前記リフ
レクタの方向に出射するとともに前記リフレクタから前
記出射光を反射した反射光を受ける光学系回路と、この
光学系回路からの前記反射光に応答して前記リフレクタ
の2次元像に対応する複数の画素からなる電気信号を生
じる撮像素子と、前記電気信号に応答して前記目標物と
この目標物追跡体との間の相対方位を計算する相対方位
演算部とを備える。前記リフレクタが、前記リフレクタ
の中心側ほど反射率を高くするとともに前記反射率の同
じ領域を同心円上に構成している。前記相対方位演算部
が、しきい値より大きい前記電気信号を方位信号とする
しきい値比較回路と、前記方位信号の画素の数を計数し
てこの画素の数が一定値より多くなると前記しきい値を
大きくするしきい値制御回路と、前記方位信号に対応す
る前記リフレクタの2次元像の中心を求めこのリフレク
タの2次元像の中心と前記撮像素子の視野中心とのずれ
を求めて前記目標物と前記目標物追跡体との間の相互の
方位角および仰角を計算する角度演算回路とを備えてい
る。
【0010】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
【0011】図1は本発明の一実施例のブロック図であ
る。また、図2は本実施例に好適な各種のリフレクタ2
を示し、(a),(b)および(c)は互いに異なるリ
フレクタ2A,2Bおよび2Cの正面図をそれぞれ示し
ている。
【0012】図1および図2(a)を併せ参照すると、
この相対方位測定装置は、目標物1の追跡体である一方
の宇宙機に固定された測定部100と他方の宇宙機であ
る目標物1に固定されたリフレクタ2とを含む。図1の
リフレクタ2としては図2(a)のリフレクタ2Aを用
いている。
【0013】リフレクタ2Aは光を入射と同方向に反射
するコーナーキューブからなる小リフレクタ21a,2
1b,21cおよび21dの集合体である。リフレクタ
2Aは小リフレクタ21aないし21dを六方細密充填
構造に配置している。即ち、リフレクタ2Aは、小リフ
レクタ21aを最内側(中心)に配置し、ついで6個の
小リフレクタ21bをその外側に、12個の小リフレク
タ21cをそれらのさらに外側に、18個の小リフレク
タ21dを最外側に配置している。つまり、内側からn
(nは2以上の整数)番目の同心円に位置する小リフレ
クタ21nは6(n−1)個からなる。
【0014】これら小リフレクタ21aないし21d
は、内側ほど光の反射率を高くしている。即ち、小リフ
レクタ21aないし21dの反射率の大きさは、21
a〉21b〉21c〉21dの順にしている。従って、
リフレクタ2Aは、中心ほど光の反射率が高く、また同
一の同心円上では同じ反射率を示すことになる。なお、
小リフレクタ21aないし21dは光の反射率制御をコ
ーティング制御により行うことができる。
【0015】測定部100内の光源5は、波長830n
mのレーザ光を発生するレーザ光発振器等により、既知
波長の出射光H1を発生する。この出射光H1は光学系
3の一部をなすハーフミラー4を介してリフレクタ2A
に導かれる。リフレクタ2Aはこの出射光H1をハーフ
ミラー4の方向に反射する。このリフレクタ2Aからの
反射光H2は、ハーフミラー4に再び導入され、さら
に、CCD等を用いる2次元の撮像素子6に導かれる。
撮像素子6は、反射光H2を2次元のリフレクタ像とし
て結像し、このリフレクタ像に対応するとともに複数の
画素からなる2次元画像情報の電気信号S1をしきい値
比較回路7に供給する。
【0016】しきい値比較回路7としきい値制御回路8
と角度演算回路9とが、この相対方位測定装置の相対方
位演算部をなす。しきい値比較回路7は、しきい値制御
回路8から供給される変動しきい値S2と電気信号S1
とを比較し、変動しきい値S2より大きい電気信号S1
を方位信号S4として角度演算回路8に供給する。角度
演算回路8は、この方位信号S4に対応する上記リフレ
クタ像の中心を求め、さらに、このリフレクタ像の中心
と撮像素子6の視野中心とのずれを求めて、リフレクタ
2Aを固定した目標物1と測定部100との間の相互の
方位角および仰角,即ち相対方位を算出する。
【0017】ここで、しきい値比較回路7は、一定の期
間ごと,例えばリフレクタ像の1フレームごとに計数し
た方位信号S4の画素数S3をしきい値制御回路9に出
力している。しきい値制御回路9は、この画素数S3が
所定値より大きいと変動しきい値S2を大きくし、逆
に、画素数S3が上記所定値より一定値以上小さいと変
動しきい値S2を小さくする。このため、しきい値比較
回路7は、画素数S3が多いときには、リフレクタ2A
のリフレクタ像のすべてを方位信号S4とするのではな
く、変動しきい値S2より大きい値の電気信号S1を生
じるリフレクタ像のみを方位信号S4とする。この方位
信号S4の画素数S3の制御は、リフレクタ2Aの光反
射率を中心の同心円ほど高く設定していることにより可
能となっている。
【0018】目標物1と測定部100との距離が近くな
ると、撮像素子6に結像するリフレクタ2Aのリフレク
タ像が大きくなって方位信号S4の画素数S3が大きく
なる。しかし、しきい値制御回路9がこの画素数S3に
対応して変動しきい値S2を大きくするので、画素数S
4は上記所定値以下に制限される。この結果、撮像素子
6に結像するリフレクタ像が撮像素子6の視野からはみ
出しても、角度演算回路8に供給される方位信号S4の
リフレクタ像は、上述のとおり、リフレクタ2Aの外側
部分のリフレクタ像を消去しており、従ってリフレクタ
像の中心を正確に求めることが可能となる。
【0019】図2(b)を参照すると、上記相対方位測
定装置に適合する別のリフレクタ2Bは、互いに直径の
異なる複数の円環状の小リフレクタ22a,22b,2
2c,22d,22e,22fおよび22gを備える。
これらの小リフレクタ22aないし22gは、22a
〈22b〈22c〈22d〈22e〈22f〈22gの
順に大きな直径の同心円に配置されており、しかも中心
側ほど反射率を高くしている。このリフレクタ2Bもリ
フレクタ2Aと同じ作用をすることは明らかである。
【0020】図2(c)を参照すると、上記相対方位測
定装置に適合するさらに別のリフレクタ2Cは唯1個の
円形の光反射体で構成されている。このリフレクタ2C
は、中心ほど反射率を高くするとともに、反射率の同じ
領域が同心円上にくるような反射率制御処置を施してい
る。このリフレクタ2Cも、光の反射率に関して上記2
例と同じ機能を有する。
【0021】次に、本実施例の動作についてさらに詳細
に説明する。
【0022】図3は本実施例の撮像素子6が結像するリ
フレクタ2Aのリフレクタ像を示す図である。
【0023】撮像素子6は水平方向画素数NH が711
個,垂直方向画素数NV が485個の2次元CCDセン
サμPD3543(日本電気(株)製)を使用できる。
リフレクタ2Aは中心ほど出射光H1を強く反射するの
で、撮像素子6の結像するリフレクタ2Aの2次元像
(リフレクタ像)は、像の中心ほど大きな電気信号S1
を生じる。なお、リフレクタ1を除く目標物1は出射光
H1を乱反射するので、撮像素子6の生じる電気信号S
1は、リフレクタ2Aからのリフレクタ像を除いて変動
しきい値S2以下となっている。
【0024】上記リフレクタ像の中心座標をF(H,
V)とする。この中心座標F(H,V)の水平座標Hお
よび垂直座標Vは、角度演算回路8がしきい値比較回路
7からの方位信号S4を得て、(1)式および(2)式
でそれぞれ求める。
【0025】
【0026】
【0027】ここで、Nは変動しきい値S2より大きい
電気信号S1の画素数であり、HiおよびViは、上記
N個の画素のうちi番目の画素の水平座標および垂直座
標である。リフレクタ像が撮像素子6の視野の中心にあ
ると、H=NH /2となり、V=NV /2となる。
【0028】撮像素子6のNH ×NV 個の画素に対する
水平画角をθH ,垂直画角をθV とすると、リフレクタ
2Aの撮像素子6に対する方位角θAZおよび仰角θ
ELは、それぞれ(3)式および(4)式で表わされる。
【0029】 θAZ=(H−NH /2)・θH …(3) θEL=(V−NV /2)・θV …(4) 角度演算回路8は、これら方位角θAZおよび仰角θEL
計算し、これら方位角θAZおよび仰角θELを目標物1の
測定部100に対する相対方位とする。
【0030】図4は本実施例のしきい値比較回路7,角
度演算回路8およびしきい値制御回路9からなる相対方
位演算回路の詳細ブロック図である。
【0031】しきい値比較回路7のアナログ/デジタル
変換器(A/D)71は、撮像素子6からの電気信号S
1を画素ごとにデジタル値の画素信号S71に変換す
る。この画素信号S71は、比較器72によりしきい値
制御回路9内のしきい値制御器91からの変動しきい値
S2と比較され、変動しきい値S2より大きい信号が方
位信号S72としてメモリ73に格納される。メモリ7
3は方位信号S72をリフレクト像の水平座標と水平座
標とを組にして格納している。この方位信号S72は、
角度演算回路8により方位信号S4として読み出され、
図3を参照して説明したとおり、相対方位の演算用デー
タとして使用される。
【0032】しきい値制御回路9のデータ数カウンタ9
2は、メモリ73に格納されている方位信号S72の画
素数S3をリフレクタ像の1フレームごとに計数する。
しきい値制御器91は、データ数カウンタ92からの画
素数S3に応答し、画素数S3が所定値(例えば、30
00)より大きいと変動しきい値S2を大きくし、逆
に、画素数S3が上記所定値より予め定めた一定値以上
小さいと変動しきい値S2を小さくする。
【0033】ここで、比較器72,角度演算回路8,し
きい値制御器91およびデータ数カウンタ92は、ハー
ドウェアとしてマイクロプロセッサを使用すると、変動
しきい値S2や画素数S3の数値を容易に変えることが
できるので、この相対方位測定装置における相対方位測
定の精度の変更等が容易になる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、目標物に
設けられたリフレクタをその中心ほど光の反射率が高く
しかも反射率の同じ領域が同心円上にくるように構成す
るとともに、測定部の撮像素子に結像する上記リフレク
タの像が大きくなると相対方位計算のための処理しきい
値を自動的に大きくするので、上記目標物と測定部との
距離が近づいても上記リフレクタの像が上記撮像素子の
視野からはみ出すことがなく、上記目標物と測定物との
間の相対方位の測定精度の低下や測定不能という事態を
回避できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のブロック図である。
【図2】本実施例に適する各種のリフレクタ2を示し、
(a),(b)および(c)は互いに異なるリフレクタ
2A,2Bおよび2Cの正面図をそれぞれ示す。
【図3】本実施例の撮像素子6が結像するリフレクタ2
Aのリフレクタ像を示す図である。
【図4】本実施例のしきい値比較回路7,角度演算回路
8およびしきい値制御回路9からなる相対方位演算回路
の詳細ブロック図である。
【図5】従来技術を用いた相対方位測定装置のブロック
図である。
【図6】図5の相対方位測定装置に使用するリフレクタ
102の正面図である。
【符号の説明】
1 目標物 2,2A〜2C,102 リフレクタ 3 光学系 4 ハーフミラー 5 光源 6 撮像素子 7 しきい値比較回路 8,108 角度演算回路 9 しきい値制御回路 21a〜21d,22a〜22g,1021 小リフ
レクタ 71 アナログ/デジタル変換器(A/D) 72 比較器 73 メモリ 91 しきい値制御器 92 データ数カウンタ 100,101 測定部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 7/18 K

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 目標物に設けられ受けた光をこの光の入
    射方向に反射光として反射するリフレクタと、前記目標
    物に対する距離および方位を変化しうる目標物追跡体に
    設けられた測定部とを備え、 前記測定部が、出射光を前記リフレクタの方向に出射す
    るとともに前記リフレクタから前記出射光を反射した反
    射光を受ける光学系回路と、この光学系回路からの前記
    反射光に応答して前記リフレクタの2次元像に対応する
    複数の画素からなる電気信号を生じる撮像素子と、前記
    電気信号に応答して前記目標物とこの目標物追跡体との
    間の相対方位を計算する相対方位演算部とを備え、 前記リフレクタが、前記リフレクタの中心側ほど反射率
    を高くするとともに前記反射率の同じ領域を同心円上に
    構成しており、 前記相対方位演算部が、しきい値より大きい前記電気信
    号を方位信号とするしきい値比較回路と、前記方位信号
    の画素の数を計数してこの画素の数が一定値より多くな
    ると前記しきい値を大きくするしきい値制御回路と、前
    記方位信号に対応する前記リフレクタの2次元像の中心
    を求めこのリフレクタの2次元像の中心と前記撮像素子
    の視野中心とのずれを求めて前記目標物と前記目標物追
    跡体との間の相互の方位角および仰角を計算する角度演
    算回路とを備えることを特徴とする相対方位測定装置。
  2. 【請求項2】 前記リフレクタが、六方細密充填構造を
    なす複数の小リフレクタで構成されていることを特徴と
    する請求項1記載の相対方位測定装置。
  3. 【請求項3】 前記リフレクタが、円環状であるととも
    に同心円に配設された複数の小リフレクタで構成されて
    いることを特徴とする請求項1記載の相対方位測定装
    置。
  4. 【請求項4】 前記リフレクタが、一体の円形リフレク
    タで構成されていることを特徴とする請求項1記載の相
    対方位測定装置。
  5. 【請求項5】 前記しきい値比較回路が、前記電気信号
    をデジタル形式に変換するアナログ/デジタル変換器
    と、前記しきい値より大きいデジタル形式の前記電気信
    号を前記方位信号とする比較器と、前記方位信号を画素
    ごとに前記リフレクタ像の水平座標と垂直座標との組で
    格納するメモリとを備え、 前記しきい値制御回路が、前記メモリに格納されている
    前記画素の数を前記リフレクタ像の1フレーム単位に計
    数するデータ数カウンタと、前記データ数カウンタの計
    数した画素の数が予め定めた所定値より多くなると前記
    しきい値を大きくするとともにこの画素の数が前記所定
    値より一定値以上小さくなると前記しきい値を小さくす
    るしきい値制御器とを備えることを特徴とする請求項1
    記載の相対方位測定装置。
JP5090347A 1993-04-19 1993-04-19 相対方位測定装置 Expired - Lifetime JPH0820511B2 (ja)

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JP5090347A JPH0820511B2 (ja) 1993-04-19 1993-04-19 相対方位測定装置
US08/229,704 US5541726A (en) 1993-04-19 1994-04-19 Relative azimuth measuring method and apparatus
FR9404640A FR2704654A1 (fr) 1993-04-19 1994-04-19 Appareil et procédé de mesure d'azimut relatif.

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