JPH0819379B2 - Inorganic coating material manufacturing method - Google Patents
Inorganic coating material manufacturing methodInfo
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- JPH0819379B2 JPH0819379B2 JP62102531A JP10253187A JPH0819379B2 JP H0819379 B2 JPH0819379 B2 JP H0819379B2 JP 62102531 A JP62102531 A JP 62102531A JP 10253187 A JP10253187 A JP 10253187A JP H0819379 B2 JPH0819379 B2 JP H0819379B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [技術分野] この発明は、無機コーティング材の製造技術の分野に
属する。さらに詳しくはケイ素アルコキシド系コーティ
ング材の製造技術の分野に属する。TECHNICAL FIELD The present invention belongs to the field of manufacturing technology of inorganic coating materials. More specifically, it belongs to the field of manufacturing technology of silicon alkoxide coating materials.
[背景技術] 無機コーティング材は、耐候性が非常によく、高硬度
で不燃性である。しかしながら、焼き付け温度を100℃
以上にする必要があり、適用範囲および使用範囲が限定
されていた。たとえば、耐熱性の低い熱可塑性プラスチ
ックスや木材に使用できず、現場での施工でがきないと
いう問題点があった。そこで、50℃未満、好ましくは常
温で硬化する無機コーティング材が望まれていた。[Background Art] An inorganic coating material has very good weather resistance, high hardness and nonflammability. However, the baking temperature is 100 ° C.
Therefore, the application range and the use range were limited. For example, there is a problem in that it cannot be used for thermoplastics and wood having low heat resistance, and it cannot be applied in the field. Therefore, an inorganic coating material that is cured at less than 50 ° C., preferably at room temperature has been desired.
[発明の目的] この発明は、常温近傍またはそれ以上の温度で硬化す
る無機コーティング材を提供することを目的とする。[Object of the Invention] An object of the present invention is to provide an inorganic coating material that cures at a temperature near room temperature or higher.
[発明の開示] 本発明は、ケイ素アルコキシド系コーティング材にお
いて、基本組成が下記の(A)、(B)および(C)か
らなるケイ素アルコキシド系組成物を使用するものであ
る。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention uses a silicon alkoxide composition having a basic composition of the following (A), (B) and (C) in a silicon alkoxide coating material.
(A)SiO2成分として、Si(OR′)4あるいはシリカゾ
ルを使用し、量として30〜200重量部、 (B)RSiO3/2成分として、RSi(OR′)3を使用し、量
として100重量部、 (C)R2SiO成分として、R2Si(OR′)2を使用し、量と
して13〜50重量部、 そして本発明は、前記組成物を硬化させるための改良
された方法を提供するものである。なお、ここでRは、
メチル基、エチル基を示し、R′は炭素数1〜4のアル
キル基を示す。(A) as a SiO 2 component, 'using 4 or silica sol, 30 to 200 parts by weight as the amount, as (B) RSiO 3/2 component, RSi (OR Si (OR) ' using) 3, as the amount 100 parts by weight, as (C) R 2 SiO component method using the R 2 Si (OR ') 2 , 13~50 parts by weight as the amount, and the invention is an improved for curing the composition Is provided. Here, R is
A methyl group and an ethyl group are shown, and R'is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
さらに本発明は、前記の組成物に触媒と硬化剤(水)
を使用し、反応させ、末端を少なくとも80%以上アルコ
キシドの形にしたプレポリマーを合成し、かつそのプレ
ポリマーの重量平均分子量(MW)を200〜1000となし、
重量平均分子量(MW)と数平均分子量(MN)の比(Mw/M
N)を1.0〜1.5に調整し、貯蔵安定性があり、常温近傍
ないしそれ以下の温度で硬化する無機コーティング材の
製法を提供するものである。以下、詳細に説明する。Furthermore, the present invention provides a catalyst and a curing agent (water) in the above composition.
Is reacted to synthesize a prepolymer having at least 80% or more terminals in the form of an alkoxide, and the weight average molecular weight (M W ) of the prepolymer is 200 to 1000,
Ratio of weight average molecular weight (M W ) to number average molecular weight (M N ) (M w / M
The present invention provides a method for producing an inorganic coating material, which has a storage stability and is cured at a temperature near room temperature or lower, by adjusting N ) to 1.0 to 1.5. The details will be described below.
本発明に係る無機コーティング材の基本的組成につい
ては、前記の組成範囲外であっても常温近傍での硬化は
可能であり、本発明の基本組成を前記範囲に限定するも
のではないが、比較的硬度が高く、かつクラック、ハガ
レの入りにくい塗膜を造るには、前記の組成範囲が好ま
しい。Regarding the basic composition of the inorganic coating material according to the present invention, it is possible to cure at around room temperature even if it is outside the above composition range, and the basic composition of the present invention is not limited to the above range. In order to produce a coating film having high dynamic hardness and being resistant to cracking and peeling, the above composition range is preferable.
次に、プレポリマーの末端アルコキシド基の比率とし
ては、少なくとも80%以上、好ましくは90%以上がよ
い。80%未満の場合、貯蔵中に反応して高分子化した
り、塗装後の硬化が不十分となる。Next, the proportion of terminal alkoxide groups in the prepolymer is at least 80% or more, preferably 90% or more. If it is less than 80%, it reacts during storage to become a polymer and the curing after coating becomes insufficient.
次に、プレポリマーの重量平均分子量(MW)について
説明する。重量平均分子量(MW)は200〜1000の範囲が
好ましい。ただし、フィラー等に結合したアルコキシド
プレポリマーについては除外して考える。重量平均分子
量(MW)が200未満では造膜しにくく、1000を超えると
硬化に時間がかかりすぎたり、硬化不十分のままに終わ
る傾向がある。Next, the weight average molecular weight (M W ) of the prepolymer will be described. The weight average molecular weight (M W ) is preferably in the range of 200 to 1000. However, the alkoxide prepolymer bonded to the filler or the like is excluded. When the weight average molecular weight (M W ) is less than 200, it is difficult to form a film, and when it exceeds 1000, curing tends to take too long or the curing tends to be insufficient.
重量平均分子量(MW)と数平均分子量(MN)の比(MW
/MN)は1.0〜1.5が好ましく、1.5を超えると貯蔵安定性
が悪くなる傾向があり、硬化に時間がかかりすぎたり、
硬化不十分となる傾向がある。Ratio of weight average molecular weight (M W ) to number average molecular weight (M N ) (M W
/ M N ) is preferably 1.0 to 1.5, and when it exceeds 1.5, storage stability tends to be poor, and it takes too long to cure,
It tends to be insufficiently cured.
なお、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)と
の比(Mw/Mn)を1.0〜1.5となるように調整には、配合
成分比率、反応時間、反応温度などの種々の反応条件を
適宜調整することによってなされる。実際には、配合中
に含まれる反応成分である水分とケイ素アルコキシドと
のモル比(H2O/OR)を0.07〜0.35の範囲とすることが特
に好ましい。In addition, in order to adjust the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) to be 1.0 to 1.5, various reaction conditions such as blending component ratio, reaction time, reaction temperature, etc. Is appropriately adjusted. Actually, it is particularly preferable to set the molar ratio (H 2 O / OR) of water and silicon alkoxide, which are the reaction components contained in the formulation, to the range of 0.07 to 0.35.
なお、以上の各種の傾向は常温近傍ないしそれ以下の
温度での硬化に際しての事柄である。The above-mentioned various tendencies are matters at the time of curing at a temperature near room temperature or lower.
本発明に係るコーティング材を調整するためには、前
記の基本組成物に触媒と、硬化材としての水を配合して
調整するが、以下、その方法について説明する。In order to adjust the coating material according to the present invention, a catalyst and water as a curing agent are mixed with the above-mentioned basic composition for adjustment, and the method will be described below.
本発明のコーティング材においては、使用する水の量
によって加水分解の度合、縮合度が変わる。水の添加量
はケイ素アルコキシドに対して1〜20重量%の範囲が好
ましい。水の添加量が1重量%未満では造膜せず、20重
量%を超えると硬化に時間を要するか、硬化が不十分と
なる。In the coating material of the present invention, the degree of hydrolysis and the degree of condensation change depending on the amount of water used. The amount of water added is preferably in the range of 1 to 20% by weight with respect to the silicon alkoxide. If the amount of water added is less than 1% by weight, no film is formed, and if it exceeds 20% by weight, it takes a long time to cure or the curing is insufficient.
つぎに使用する触媒について説明する。 Next, the catalyst used will be described.
本発明に係るコーティング材に使用する触媒としては
酸性触媒、アミノシラン、無機酸および有機酸の4級ア
ンモニウム塩、無機酸および有機酸のアミン塩、有機ス
ズ化合物および(C5H5)nMeX4-nなる一般式で表される化
合物からなる群から選ばれた1種または2種以上の化合
物を使用することができる。Examples of the catalyst used in the coating material according to the present invention include acidic catalysts, aminosilanes, quaternary ammonium salts of inorganic acids and organic acids, amine salts of inorganic acids and organic acids, organic tin compounds and (C 5 H 5 ) n MeX 4 One or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by the general formula: -n can be used.
酸性触媒としては、有機および無機の酸があり、たと
えば、ギ酸、酢酸、シュウ酸、クロロ酢酸、塩酸、リン
酸、硫酸などの希薄な溶液が使用される。これらの酸は
2種以上併用することもできる。Acidic catalysts include organic and inorganic acids, for example, dilute solutions of formic acid, acetic acid, oxalic acid, chloroacetic acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid and the like are used. These acids may be used in combination of two or more.
また、C5H5)nMeX4-nなる一般式で表される化合物も触
媒として使用するができる。ただし、前記一般式におい
て、n=1,2,3、Meは周期律表IV族の4〜6周期の元
素、C5H5はシクロペンタジエン、Xはハロゲン元素であ
る。具体的には、たとえばジシクロペンタジエニルジル
コニウムジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニ
ウムジクロリドなどが挙げられ、これらは2種以上併用
することもできる。Further, a compound represented by the general formula of C 5 H 5 ) n MeX 4-n can also be used as a catalyst. However, in the above general formula, n = 1,2,3, Me is an element of 4 to 6 periods of Group IV of the periodic table, C 5 H 5 is cyclopentadiene, and X is a halogen element. Specific examples thereof include dicyclopentadienyl zirconium dichloride and dicyclopentadienyl titanium dichloride, and these may be used in combination of two or more.
アミノシランとしては、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)
−γ−アミノプロピルトリメチルジメトキシシランなど
がある。これらは2種以上併用することもできる。Examples of the aminosilane include γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, and N- (β-aminoethyl).
-Γ-aminopropyltrimethyldimethoxysilane and the like. Two or more of these may be used in combination.
無機酸、有機酸の第4級アンモニウム塩およびアミン
塩としては、塩酸などの無機酸、ギ酸、酢酸などの有機
酸のアンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、n−ブチルアミンなどがあり、これらは2種以上併
用することもできる。Examples of the quaternary ammonium salts and amine salts of inorganic acids and organic acids include inorganic acids such as hydrochloric acid, ammonia such as organic acids such as formic acid and acetic acid, trimethylamine, triethylamine, n-butylamine, etc. You can also do it.
有機スズ化合物としては、ジブチルスズジラウレー
ト、ジアセテート、ジオクテートなどがあり、2種以上
併用することができる。Examples of the organic tin compound include dibutyltin dilaurate, diacetate, dioctate and the like, and two or more kinds can be used in combination.
触媒の使用量としては、前記の触媒の単独あるいは2
種以上を、組成物の溶液中の固形分に対して、50〜1500
0ppmの範囲で使用する。下限に満たないと触媒の硬化が
認められず、上限を超えると、貯蔵中にゲル化物が析出
したり、造膜状態が悪くなる。The amount of the catalyst used may be the above-mentioned catalyst alone or 2
50 to 1500 with respect to the solid content in the solution of the composition.
Use in the range of 0ppm. If the amount is less than the lower limit, curing of the catalyst is not observed, and if it exceeds the upper limit, a gelled product is deposited during storage or the film-forming state is deteriorated.
なお、希釈溶剤として、メタノール、エタノール、プ
ロパノール等の低級アルコールや、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、酢酸エステルなどの単独または2種以上の混合
溶剤を必要に応じて使用して、前記の所定の配合物を希
釈してコーティング材を調整する。なお、コーティング
材の調整は50℃以下で行うのが好ましい。In addition, as a diluting solvent, lower alcohols such as methanol, ethanol and propanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, acetic acid ester and the like may be used alone or as a mixture of two or more kinds, if necessary. The coating material is prepared by diluting the prescribed formulation of. The coating material is preferably adjusted at 50 ° C or lower.
以上のようにして得たコーティング材は、適当な基材
に塗布することができる。塗装方法としては特には限定
しない。たとえば、スプレー塗布、浸漬塗布などの方法
を適宜使用する。塗布した後は、常温近傍ないしそれ以
下の温度で硬化させることができる。The coating material obtained as described above can be applied to an appropriate substrate. The coating method is not particularly limited. For example, a method such as spray coating or dip coating is appropriately used. After coating, it can be cured at a temperature near room temperature or lower.
以下、実施例、比較例に基づきさらに具体的に説明す
る。Hereinafter, it will be described more specifically based on Examples and Comparative Examples.
実施例1 メチルトリメトキシシラン100重量部、テトラエトキ
シシラン20重量部、イソプロパノール分散シリカゾル
(触媒化成(株)製、ソリッドコンテント30重量%)10
5重量部、ジメチルジメトキシシラン30重量部、イソプ
ロパノール100重量部からなる基本配合物に対して、固
形分に対し100ppmの塩酸と、ケイ素アルコキシドに対し
て3重量%の水を加え、25℃に保ちながら、500rpmの回
転数の攪拌器を使用して30分間混合してコーティング材
を調整し、1個月間密栓して保存した。なお、上記配合
系中の水分とケイ素アルコキシドとのモル比(H2O/OR)
は0.12となっている。その後、厚さ1mm、10cm角のアル
ミナ基板を塗布基材として使用し、これに前記貯蔵後の
コーティング材を25℃雰囲気下で流し塗りし、硬化させ
て塗膜の特性を調べた。その結果を第1表に示した。以
下の実施例、比較例においても同様にして試験した。Example 1 100 parts by weight of methyltrimethoxysilane, 20 parts by weight of tetraethoxysilane, isopropanol-dispersed silica sol (Catalyst Kasei Co., Ltd., solid content 30% by weight) 10
To a basic composition consisting of 5 parts by weight, 30 parts by weight of dimethyldimethoxysilane and 100 parts by weight of isopropanol, 100 ppm of hydrochloric acid based on solid content and 3% by weight of water based on silicon alkoxide were added and kept at 25 ° C. On the other hand, the coating material was adjusted by mixing for 30 minutes using a stirrer at a rotation speed of 500 rpm, and was sealed and stored for one month. The molar ratio of water and silicon alkoxide in the above compounding system (H 2 O / OR)
Is 0.12. After that, an alumina substrate having a thickness of 1 mm and a size of 10 cm was used as a coating base material, and the coating material after storage was flow-coated at 25 ° C. in an atmosphere and cured to examine the characteristics of the coating film. The results are shown in Table 1. The same tests were conducted in the following examples and comparative examples.
実施例2 実施例1の基本配合物に対して、500ppm(対固形分)
の塩酸と、ケイ素アルコキシドに対して10重量%の水を
加え、実施例1と同様にしてコーティング材を調整し、
1個月間密栓して保存した後、コーティング材として使
用した。Example 2 500 ppm (vs. solids) based on the basic formulation of Example 1.
Hydrochloric acid and 10% by weight of water relative to silicon alkoxide were added to prepare a coating material in the same manner as in Example 1,
After one month was tightly sealed and stored, it was used as a coating material.
なお、上記配合系中の水分とケイ素アルコキシドとの
モル比(H2O/OR)は0.31となっている。The molar ratio (H 2 O / OR) between water and silicon alkoxide in the above blending system was 0.31.
実施例3 実施例1の基本配合物において、リン酸7000ppm(対
固形分)と、ジシクロペンタジエニルジルコニウムジク
ロライドを500ppm(対固形分)加え、水をケイ素アルコ
キシドに対し1.6重量%加えてコーティング材を調整
し、コーティング材を調整し、1個月間密栓して保存し
た後、コーティング材として使用した。Example 3 In the basic formulation of Example 1, phosphoric acid 7000 ppm (relative to solid content), dicyclopentadienyl zirconium dichloride 500 ppm (relative to solid content) were added, and water was added to the silicon alkoxide at 1.6% by weight for coating. The material was adjusted, the coating material was adjusted, and the bottle was tightly sealed for one month and stored, and then used as a coating material.
なお、上記配合系中の水分とケイ素アルコキシドとの
モル比(H2O/OR)は0.08となっている。The molar ratio (H 2 O / OR) between water and silicon alkoxide in the above blending system was 0.08.
実施例4 メチルメトキシシラン100重量部、イソプロパノール
分散シリカゾル120重量部、テトラトリメチルシラン25
重量部、ジメチルジエトキシシラ30重量部、イソプロパ
ノール100重量部からなる基本配合物に対し、塩酸200pp
mとギ酸アンモニウム300ppmを添加し、さらに水を10重
量%添加してコーティング材を調整し、1個月間密栓し
て保存した後、コーティング材として使用した。Example 4 100 parts by weight of methyl methoxysilane, 120 parts by weight of isopropanol-dispersed silica sol, 25 parts of tetratrimethylsilane
200 parts by weight of hydrochloric acid to the basic compound consisting of 1 part by weight, 30 parts by weight of dimethyldiethoxysila, and 100 parts by weight of isopropanol.
The coating material was prepared by adding m and 300 ppm of ammonium formate and further adding 10% by weight of water, and after sealing and storing for one month, the coating material was used as a coating material.
なお、上記配合系中の水分とケイ素アルコキシドとの
モル比(H2O/OR)は0.32となっている。The molar ratio of water to silicon alkoxide (H 2 O / OR) in the above blending system was 0.32.
実施例5 実施例4の基本配合物に対し、塩酸を500ppmとγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン200ppmとジブチルスズ
ジラウレート40ppmを加え、水を10重量%加えてコーテ
ィング材を調整し、コーティング材を調整し、1個月間
密栓して保存した後、コーティング材として使用した。Example 5 To the basic composition of Example 4, 500 ppm of hydrochloric acid, 200 ppm of γ-aminopropyltriethoxysilane and 40 ppm of dibutyltin dilaurate were added, and 10% by weight of water was added to adjust the coating material to prepare the coating material. It was used as a coating material after being sealed and stored for 1 month.
なお、上記配合系中の水分とケイ素アルコキシドとの
モル比(H2O/OR)は0.32となっている。The molar ratio of water to silicon alkoxide (H 2 O / OR) in the above blending system was 0.32.
比較例1 実施例1の基本配合物に、30ppmの塩酸と3重量%の
水を加えてコーティング材を調整し、1個月間密栓して
保存した後、コーティング材として使用した。Comparative Example 1 A coating material was prepared by adding 30 ppm of hydrochloric acid and 3% by weight of water to the basic composition of Example 1, sealed for one month and stored, and then used as a coating material.
比較例2 実施例1の基本配合物に、20000ppmの塩酸と10重量%
の水を加えてコーティング材を調整し、1個月間密栓し
て保存した後、コーティング材として使用した。Comparative Example 2 The basic formulation of Example 1 was prepared by adding 20000 ppm hydrochloric acid and 10% by weight.
Water was added to prepare a coating material, which was sealed and stored for 1 month and then used as a coating material.
比較例3 実施例1の基本配合物に、100ppmの塩酸と0.5重量%
の水を加えてコーティング材を調整し、1個月間密栓し
て保存した後、コーティング材として使用した。Comparative Example 3 100 ppm hydrochloric acid and 0.5% by weight were added to the basic composition of Example 1.
Water was added to prepare a coating material, which was sealed and stored for 1 month and then used as a coating material.
比較例4 実施例1の基本配合物に、500ppmの塩酸と35重量%の
水を加えてコーティング材を調整し、1個月間密栓して
保存した後、コーティング材として使用した。Comparative Example 4 A coating material was prepared by adding 500 ppm of hydrochloric acid and 35% by weight of water to the basic composition of Example 1, and was sealed and stored for 1 month and then used as a coating material.
第1表に示したように、本発明にかかる無機コーティ
ング材は常温付近で硬化し、優れた塗膜を与えることが
明らかである。なお、第1表において、表面硬度はJIS
に規定する鉛筆硬度、耐溶剤性はエタノールを滴下し、
シャーレで蓋をし、2時間後これを拭き取って塗膜状態
を見た。比較 例2の液は貯蔵安定性が悪い。As shown in Table 1, it is apparent that the inorganic coating material according to the present invention cures at around room temperature to give an excellent coating film. In Table 1, the surface hardness is JIS
For pencil hardness and solvent resistance specified in, drop ethanol,
The lid was covered with a petri dish, and after 2 hours, this was wiped off and the state of the coating film was observed. Comparison The liquid of Example 2 has poor storage stability.
[発明の効果] この発明は、ケイ素アルコキシドを主体とする材料を
水と触媒の存在下に反応させて、末端を少なくとも80%
以上アルコキシドの形にしたプレポリマーを合成すると
共に、そのプレポリマーの重量平均分子量(Mw)を200
〜1000の範囲となし、かつ重量平均分子量(MW)と数平
均分子量(MN)との比(MW/MN)が1.0〜1.5となるよう
に調整することを特徴とするので、常温近傍ないしそれ
以下の温度で硬化するという効果がある。[Advantages of the Invention] The present invention comprises reacting a material mainly composed of silicon alkoxide with water in the presence of a catalyst so that the terminal is at least 80%.
In addition to synthesizing the prepolymer in the form of alkoxide, the weight average molecular weight (Mw) of the prepolymer was 200
It is characterized in that it is adjusted in such a manner that the ratio (M W / M N ) of the weight average molecular weight (M W ) and the number average molecular weight (M N ) is 1.0 to 1.5, and not in the range of up to 1000. It has an effect of curing at a temperature near room temperature or lower.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 稔 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭50−126033(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Minor Inoue Minoru Inoue 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works, Ltd. (56) References JP-A-50-126033 (JP, A)
Claims (2)
と触媒の存在下に反応させて、末端を少なくとも80%以
上アルコキシドの形にしたプレポリマーを合成すると共
に、そのプレポリマーの重量平均分子量(Mw)を200〜1
000の範囲となし、かつ重量平均分子量(Mw)と数平均
分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.0〜1.5となるように
調整するケイ素アルコキシド系コーティング材の製法で
あって、 上記ケイ素アルコキシドを主体とする材料として、 (A)SiO2成分として、Si(OR′)4あるいはシリカゾ
ルを使用し、量として30〜200重量部、 (B)RSiO3/2成分として、RSi(OR′)3を使用し、量
として100重量部、 (C)R2SiO成分として、R2Si(OR′)2を使用し、量と
して13〜50重量部、 の上記(A)、(B)、(C)をそれぞれ配合した基本
組成物を用いることを特徴とする無機コーティング材の
製法。 ただし、ここでRはメチル基またはエチル基を示し、
R′は炭素数1〜4のアルキル基を示している。1. A material mainly composed of silicon alkoxide is reacted with water in the presence of a catalyst to synthesize a prepolymer having at least 80% of its terminals in the form of alkoxide, and the weight average molecular weight of the prepolymer ( Mw) 200 to 1
A method for producing a silicon alkoxide-based coating material, wherein the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is adjusted to 1.0 to 1.5, and As the material mainly composed of silicon alkoxide, (A) SiO 2 component, Si (OR ′) 4 or silica sol is used, the amount is 30 to 200 parts by weight, and (B) RSiO 3/2 component is RSi (OR ′) 3 is used in an amount of 100 parts by weight, (C) R 2 SiO component is used in an amount of R 2 Si (OR ′) 2 , and the amount is 13 to 50 parts by weight. ) And (C) are each used as a basic composition, and a method for producing an inorganic coating material is characterized. Here, R represents a methyl group or an ethyl group,
R'represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
して酸性触媒、アミノシラン、無機酸の4級アンモニウ
ム塩、有機酸の4級アンモニウム塩、無機酸のアミン
塩、有機酸のアミン塩、有機スズ化合物および(C5H5)n
MeX4-nなる一般式で表される化合物からなる群から選ば
れた1種または2種以上の化合物を使用することを特徴
とする特請求の範囲第1項記載の無機コティング材の製
法。 ただし、上記一般式において、n=1,2,3、Meは周期律
表IV族の4〜6周期の元素、C5H5はシクロペンタジエ
ン、Xはハロゲン元素である。2. When synthesizing a prepolymer, an acidic catalyst as a catalyst, an aminosilane, a quaternary ammonium salt of an inorganic acid, a quaternary ammonium salt of an organic acid, an amine salt of an inorganic acid, an amine salt of an organic acid, an organic tin compound. And (C 5 H 5 ) n
The method for producing an inorganic coating material according to claim 1, wherein one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by the general formula of MeX 4-n are used. However, in the above general formula, n = 1,2,3, Me is an element of 4 to 6 periods of Group IV of the periodic table, C 5 H 5 is cyclopentadiene, and X is a halogen element.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP62102531A JPH0819379B2 (en) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | Inorganic coating material manufacturing method |
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1987
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