JPH08181415A - Manufacture of bored circuit substrate - Google Patents

Manufacture of bored circuit substrate

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JPH08181415A
JPH08181415A JP32509894A JP32509894A JPH08181415A JP H08181415 A JPH08181415 A JP H08181415A JP 32509894 A JP32509894 A JP 32509894A JP 32509894 A JP32509894 A JP 32509894A JP H08181415 A JPH08181415 A JP H08181415A
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JP
Japan
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circuit pattern
adhesive layer
film
metal
window
Prior art date
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Pending
Application number
JP32509894A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Shinohara
英樹 篠原
Masahiko Tatsuki
雅彦 辰木
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Sumitomo Riko Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Riko Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Riko Co Ltd filed Critical Sumitomo Riko Co Ltd
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Publication of JPH08181415A publication Critical patent/JPH08181415A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To correspond to microminiaturization by emitting laser beam directly and by forming a window by removing an unnecessary part leaving a plating metallic circuit pattern exposed in an adhesive layer surface. CONSTITUTION: A plating metallic circuit pattern 4 formed in a resist surface of a metal film 1 is buried in an adhesive layer of a substrate film 5 and made integral. Then, the metallic film 1 is peeled off together with a resist film 2 and a plating metallic circuit pattern 4 is left in an adhesive layer of the substrate film 5. Laser beam is omitted on an adhesive layer surface of the substrate film 5, and a window 7 is formed by removing a part of an unnecessary adhesive layer and the substrate film 5 leaving the plating metallic circuit pattern 4 exposed in an adhesive layer surface. During the laser irradiation, a part of the plating metallic circuit pattern 4 functions as a mask material. Therefore, precision defect caused by misregistration when a metal mask is used does not occur and flexibility of an entire of a bored circuit substrate is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ロータリートランス
等の微小精密コイル製品に用いる窓開き回路基板の製法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a window opening circuit board used for micro precision coil products such as rotary transformers.

【0002】[0002]

【従来の技術】ロータリートランスは、一般に、ビデオ
テープレコーダーの磁気ヘッド等を内部に収容し、磁気
ヘッド等が読み取った信号を電気信号に変換するために
用いられているものであり、通常、円筒型と円盤型とが
あるが、いずれもフェライト製の中空円筒体または円盤
体の内部に巻線を円周方向に沿って設けることにより構
成されている。円筒型においては、このように、フェラ
イトの内部に巻線を設けることは、一例としてつぎのよ
うにして行われる。すなわち、巻線挿入用の筒の外周に
銅線を巻回し、それを上記円筒状フェライトの内部に挿
入し、巻いた筒を膨らませて銅線を円筒状フェライトの
内部に圧着させ、ついで上記筒を引き抜くということ等
が行われている。しかしながら、このようにする場合に
は、小形化に限界があるうえ手間がかかるという問題が
ある。
2. Description of the Related Art A rotary transformer is generally used for accommodating a magnetic head or the like of a video tape recorder therein and converting a signal read by the magnetic head or the like into an electric signal. There are a type and a disc type, both of which are configured by providing windings along the circumferential direction inside a hollow cylindrical body or a disc body made of ferrite. In the cylindrical type, the provision of the winding inside the ferrite in this manner is performed as follows as an example. That is, a copper wire is wound around the outer circumference of the winding insertion tube, inserted into the inside of the cylindrical ferrite, the rolled cylinder is inflated to crimp the copper wire inside the cylindrical ferrite, and then the above-mentioned tube Is being pulled out. However, in such a case, there is a problem that miniaturization is limited and it takes time.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】そこで最近では、上記
巻線に変えてフレキシブルプリント板(以下「FPC」
と略す)を用いることが提案されている。このFPC
は、可撓性のプラスチックフィルムに銅箔を貼り、これ
に上記巻線に対応する回路をエッチング形成したもので
ある。このようにして形成されたFPCを、上記円筒状
フェライトの内周面に装着することが行われる。この装
着に際しては、上記FPCの所定の部分に、金型による
打抜きや、エッチングや、レーザ照射を施すことによっ
て窓を開け、この窓を、上記円筒状フェライトの内周面
に設けられた突起に嵌合させて装着することが行われ
る。ところが、最近のロータリートランスの小形化によ
り、金型による打抜きでは精度等に問題があり対応でき
ない。また、エッチングやレーザ照射では、いずれもマ
スク材を用いて窓開けすることが行われる。しかし、こ
のようにマスク材を用いる場合には、それを適正位置に
正確に位置合わせしなければならない。ところが、20
〜100μmの精度で窓開けをしようとすると、必然的
に位置ずれを生じてしまい正確に窓開けできない。この
ような精度では、最近での超小型化(コイルピッチ90
μm,ターン数7の狭ピッチコイル)の要求に応えるこ
とができない。
Therefore, recently, a flexible printed board (hereinafter referred to as "FPC") has been used instead of the above winding.
Abbreviated) is used. This FPC
Is a copper foil laminated on a flexible plastic film, and a circuit corresponding to the winding is formed on the copper foil by etching. The FPC thus formed is mounted on the inner peripheral surface of the cylindrical ferrite. At the time of this mounting, a window is opened in a predetermined portion of the FPC by punching with a die, etching, or laser irradiation, and this window is formed into a protrusion provided on the inner peripheral surface of the cylindrical ferrite. Fitting and mounting are performed. However, due to the recent miniaturization of rotary transformers, there is a problem in accuracy and the like cannot be dealt with by punching with a die. Further, in both etching and laser irradiation, a window is opened using a mask material. However, when the mask material is used in this way, it must be accurately aligned with the proper position. However, 20
If an attempt is made to open a window with an accuracy of ˜100 μm, a positional deviation will inevitably occur and the window cannot be opened accurately. With such accuracy, recent ultra-miniaturization (coil pitch 90
It is not possible to meet the demand for a narrow pitch coil of μm and 7 turns.

【0004】この発明は、このような事情に鑑みなされ
たもので、超小型化に対応でき、しかも製造が簡単な窓
開き回路基板の製法の提供をその目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a method of manufacturing a window-opening circuit board which can cope with miniaturization and is easy to manufacture.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明の窓開き回路基板の製法は、金属フィルム
のフィルム面に形成されたレジスト膜をエッチングして
回路パターンを形成する工程と、この回路パターン形成
面に対して金属メッキを施し、メッキ金属からなる回路
パターンを形成する工程と、接着剤層付の基板フィルム
の接着剤層を上記メッキ金属製回路パターン形成面に面
対向させ圧締してメッキ金属製回路パターンを接着剤層
中に埋没一体化させる工程と、上記埋没一体化後上記金
属フィルムをレジスト膜ごと剥離し基板フィルムの接着
剤層に上記メッキ金属製回路パターンを残置する工程
と、上記基板フィルムの接着剤層面に対し直接レーザ照
射し上記接着剤層面に露呈しているメッキ金属製回路パ
ターンを残し不要の接着剤層および基板フィルムの部分
を除去し窓を形成する工程を備えたという構成をとる。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a window opening circuit board of the present invention comprises a step of etching a resist film formed on a film surface of a metal film to form a circuit pattern. , A step of performing metal plating on this circuit pattern forming surface to form a circuit pattern made of plated metal, and making the adhesive layer of the substrate film with an adhesive layer face-to-face with the above-mentioned plated metal circuit pattern forming surface. A step of squeezing and embedding the plated metal circuit pattern in the adhesive layer; and, after the embedding and integration, peeling the metal film together with the resist film to form the plated metal circuit pattern on the adhesive layer of the substrate film. There is no need to leave the plated metal circuit pattern exposed on the adhesive layer surface by directly irradiating the adhesive layer surface of the substrate film with laser. Wear agent layer and remove portions of the substrate film a configuration that includes the step of forming the window.

【0006】[0006]

【作用】この発明は、金属フィルムの回路パターン形成
面に対して金属メッキを施し、析出するメッキ金属によ
って回路パターンを形成する。そのため、回路パターン
を構成するメッキ金属製の導体路は、メッキ金属の析出
により、所期の回路パターンの導体路の幅よりも広くな
り、かつ、析出金属により、上方に盛り上がった状態に
なる。したがって、導体路全体の断面積が大きくなり、
そこを流れる電流の抵抗を小さくできるようになる。そ
して、この発明は、金属フィルムのレジスト膜面に形成
された上記メッキ金属製回路パターンを用い、つぎのよ
うにして窓開けするため、窓開けの精度を大幅に向上さ
せることができる。すなわち、金属フィルムのレジスト
面に形成されたメッキ金属製回路パターンを、基板フィ
ルムの接着剤層中に埋没一体化させ、ついで金属フィル
ムをレジスト膜ごと剥離し、基板フィルムの接着剤層に
メッキ金属製回路パターンを残置する。そして、基板フ
ィルムの接着剤層面にレーザ照射し、上記接着剤層面に
露呈しているメッキ金属製回路パターン(回路パターン
の裏面側部分)を残し、不要の接着剤層および基板フィ
ルムの部分を除去し窓を形成する。このレーザ照射に際
しては、上記接着剤層面に露呈しているメッキ金属製回
路パターンの部分がマスク材の作用をする。このよう
に、この発明の製法では、メタルマスクを用いることな
くレーザ照射して不要部分を除去し窓に形成することか
ら、回路パターンの設計時の精度がそのまま窓開き回路
基板の精度になる。したがって、メタルマスクを用いる
時のように位置ずれに起因する精度不良が生じなくな
る。また、上記レーザ照射によってメッキ金属製回路パ
ターンに対して直接レーザ光が照射されるため、回路パ
ターンを構成するメッキ金属製の導体路が、焼きなまし
(アニール)された状態となり、軟質化することから、
窓開き回路基板の全体の可撓性が向上するようになる。
また、上記メッキ金属製導体路は、上記のようにメッキ
金属の析出により幅が広くなっており、その分だけ、導
体路間の幅が狭くなっている。そのため、その部分に対
するレーザ光の作用が小さくなり、せいぜい溝が掘られ
る程度である。そして、この溝の形成によって隣接する
導体路間にマイグレーション(短絡)現象が生じにくく
なる。
According to the present invention, the surface of the metal film on which the circuit pattern is formed is subjected to metal plating, and the circuit pattern is formed by the deposited plating metal. Therefore, the conductor path made of plated metal that constitutes the circuit pattern becomes wider than the width of the conductor path of the intended circuit pattern due to the deposition of the plated metal, and the deposited metal is in a state of bulging upward. Therefore, the cross-sectional area of the whole conductor path becomes large,
The resistance of the current flowing therethrough can be reduced. Further, according to the present invention, since the above-mentioned plated metal circuit pattern formed on the resist film surface of the metal film is used to open a window as follows, the accuracy of opening the window can be greatly improved. That is, the plated metal circuit pattern formed on the resist surface of the metal film is embedded and integrated in the adhesive layer of the substrate film, and then the metal film is peeled off together with the resist film to form a plated metal on the adhesive layer of the substrate film. Leave the circuit pattern. Then, the adhesive layer surface of the substrate film is irradiated with laser to leave the plated metal circuit pattern (the back surface side portion of the circuit pattern) exposed on the adhesive layer surface, and the unnecessary adhesive layer and the substrate film portion are removed. Form a window. During the laser irradiation, the portion of the plated metal circuit pattern exposed on the adhesive layer surface acts as a mask material. As described above, according to the manufacturing method of the present invention, laser irradiation is performed without using a metal mask to remove unnecessary portions to form a window, so that the precision at the time of designing a circuit pattern is the precision of the window-opening circuit board. Therefore, unlike the case where a metal mask is used, the accuracy failure due to the positional deviation does not occur. Further, since the laser beam is directly irradiated to the plated metal circuit pattern by the laser irradiation, the plated metal conductor path forming the circuit pattern is annealed and softened. ,
The flexibility of the window-opening circuit board is improved.
The width of the plated metal conductor path is wide due to the deposition of the plated metal as described above, and the width between the conductor paths is narrowed accordingly. Therefore, the action of the laser beam on that portion is reduced, and at most, the groove is dug. The formation of this groove makes it difficult for a migration (short circuit) phenomenon to occur between adjacent conductor paths.

【0007】つぎに、この発明を詳しく説明する。Next, the present invention will be described in detail.

【0008】この発明は、例えば、つぎのようにして窓
開き回路基板を製造する。すなわち、図1に示すよう
な、アルミニウムフィルム等の金属フィルム1のフィル
ム面に対し、図2に示すように、その両面にレジスト膜
2を形成する。この場合、金属フィルム1の材料は、特
に限定するものではなく、上記アルミニウムフィルム以
外に、銅フィルム,ステンレスフィルム,スズフィルム
等のフィルムが用いられる。また、上記レジスト膜2も
特に限定するものでなく、ネガ型フォトレジスト等、従
来公知のレジスト膜が用いられる。つぎに、図3に示す
ように、上記一方のレジスト膜2に対して従来公知のエ
ッチング処理を施し、所定の回路パターン3を形成す
る。そして、この回路パターン3が形成された金属フィ
ルム1に対して金属メッキを施し図4に示すように、析
出メッキ金属からなるメッキ金属製回路パターン4を形
成する。4aは回路パターンを形成する導体路である。
この場合、上記金属メッキは、通常メッキ浴を用いて行
われる。このようにメッキ処理を行うと、回路パターン
4を構成する各導体路4aが、メッキ金属の析出によっ
て、図示の幅方向(矢印A方向)および上方向に成長
し、図示のような横断面半円状に盛り上げ形成される。
つぎに、このメッキ金属製回路パターン4が形成された
金属フィルムに対し、図5に示すように、接着剤層6を
もつ、ポリイミド,ポリカーボネート,ポリエステル,
エポキシ製等の基板フィルム5を、その接着剤層6の面
をメッキ金属製回路パターンの面に合わせ、押圧(圧
締)する。その結果、図6に示すように、メッキ金属製
回路パターン4が接着剤層6に埋設一体化された状態と
なる。この状態から、金属フィルム1をレジスト膜2ご
と剥離すると、図7に示すように、メッキ金属製回路パ
ターン4の裏面部分が、接着剤層6の面から露呈した回
路基板Xが得られる。つぎに、この回路基板Xを裏返し
て、そのメッキ金属製回路パターン4の露呈面に対し、
図8の矢印に示すようにエキシマレーザを照射する。上
記エキシマレーザとしては、例えば、日新電機製(NE
X−100)のものが用いられる。このようにエキシマ
レーザを照射すると、基板フィルム5および接着剤層6
の不要部分(図8において鎖線よりも両端側の部分Y)
がレーザ光の照射によって除去され、その部分が図9に
示すように、窓7に形成されると同時に、メッキ金属製
回路パターンの導体路と導体路の間の部分が、レーザ光
の作用を受け導体路4aに沿った溝8に形成される。こ
のようにして窓開けされた、窓開け回路基板A’の全体
斜視図を図10に示す。図10は、窓開け回路基板A’
をアーチ状に曲成した状態を示している。そして、前記
図9は、図10において、丸で囲われた部分イをA,
A’方向に切断した横断面を示している。すなわち、図
10の窓開き回路基板A’では、前記レーザ光照射によ
って、不要部分が除去されて窓7に形成されており、こ
の窓7以外の部分に導体路4aが形成されている。図8
のようにしてレーザ光を照射する場合において、図11
に示すように、導体路4aの端部と窓7の最下端との間
隔(トリミング幅)をW1 、窓7の最上端と最下端とを
結ぶ傾斜面のつくる角度(テーパ角)をθ、導体路4a
間の距離(導体路間ギャップ)をW2 とすると、レーザ
光の照射条件は、下記の数式1のように設定することが
好ましく、そのようにするとトリミング幅W1 で決まる
加工精度は下記の数式2で表されるようになる。これら
の数式1,2は、本発明者らが多数の実験を行った結
果、導き出した経験則に基づいてつくられたものであ
る。
According to the present invention, for example, a window opening circuit board is manufactured as follows. That is, a resist film 2 is formed on both surfaces of a metal film 1 such as an aluminum film as shown in FIG. 1 as shown in FIG. In this case, the material of the metal film 1 is not particularly limited, and a film such as a copper film, a stainless film, a tin film or the like is used in addition to the aluminum film. Also, the resist film 2 is not particularly limited, and a conventionally known resist film such as a negative photoresist is used. Next, as shown in FIG. 3, a conventionally known etching process is applied to the one resist film 2 to form a predetermined circuit pattern 3. Then, the metal film 1 on which the circuit pattern 3 is formed is subjected to metal plating to form a plated metal circuit pattern 4 made of a deposited plating metal as shown in FIG. Reference numeral 4a is a conductor path forming a circuit pattern.
In this case, the metal plating is usually performed using a plating bath. When the plating process is performed in this manner, the conductor paths 4a forming the circuit pattern 4 grow in the illustrated width direction (arrow A direction) and in the upward direction due to the deposition of the plated metal, and thus the cross-section half as illustrated. It is formed in a circular shape.
Next, with respect to the metal film on which the plated metal circuit pattern 4 is formed, as shown in FIG. 5, polyimide, polycarbonate, polyester,
The substrate film 5 made of epoxy or the like is pressed (pressed) with the surface of the adhesive layer 6 thereof aligned with the surface of the plated metal circuit pattern. As a result, as shown in FIG. 6, the plated metal circuit pattern 4 is embedded and integrated in the adhesive layer 6. When the metal film 1 together with the resist film 2 is peeled from this state, the circuit board X in which the back surface of the plated metal circuit pattern 4 is exposed from the surface of the adhesive layer 6 is obtained as shown in FIG. Next, the circuit board X is turned over and the exposed surface of the plated metal circuit pattern 4 is
Irradiation with excimer laser is performed as shown by the arrow in FIG. The excimer laser is, for example, manufactured by Nisshin Denki (NE
X-100) is used. When the excimer laser is irradiated in this way, the substrate film 5 and the adhesive layer 6
Unnecessary part (part Y on both ends of the chain line in FIG. 8)
Is removed by irradiation with laser light, and that portion is formed in the window 7 as shown in FIG. 9, and at the same time, the portion between the conductor paths of the plated metal circuit pattern acts as the laser light. It is formed in the groove 8 along the receiving conductor path 4a. FIG. 10 shows an overall perspective view of the window opening circuit board A ′ thus opened. FIG. 10 shows a window opening circuit board A '.
It shows a state in which the arch is curved. In FIG. 9, the circled part A in FIG.
The cross section cut in the A ′ direction is shown. That is, in the window-opening circuit board A ′ of FIG. 10, unnecessary portions are removed to form the window 7 by the laser light irradiation, and the conductor path 4 a is formed in the portion other than the window 7. FIG.
11 in the case of irradiating the laser beam as described above.
As shown in, the distance (trimming width) between the end of the conductor path 4a and the lowermost end of the window 7 is W 1 , and the angle (taper angle) formed by the inclined surface connecting the uppermost end and the lowermost end of the window 7 is θ. , Conductor track 4a
When the distance between them (gap between conductor paths) is W 2 , it is preferable to set the irradiation condition of the laser light as shown in the following mathematical formula 1. Then, the processing accuracy determined by the trimming width W 1 is as follows. It comes to be expressed by Numerical formula 2. These mathematical expressions 1 and 2 are created based on an empirical rule derived as a result of many experiments conducted by the present inventors.

【0009】[0009]

【数1】 [Equation 1]

【0010】[0010]

【数2】 [Equation 2]

【0011】上記数式1,2においてt1 ,t2 は下記
の通りである。
In the above equations 1 and 2, t 1 and t 2 are as follows.

【0012】t1 :基板フィルム厚 t2 :接着層厚(導体厚)T 1 : substrate film thickness t 2 : adhesive layer thickness (conductor thickness)

【0013】つぎに、実施例について説明する。Next, examples will be described.

【0014】[0014]

【実施例1】金属フィルムとしてアルミフィルムを用
い、これに図1〜図6と同様にして、メッキ金属製回路
パターン4を形成した。この場合、基板フィルム5とし
てポリイミドフィルムを用い、接着剤層6はエポキシ−
ウレタン系接着剤層にした。つぎに、図7〜図9と同様
にして、図10に示すような窓開き回路基板A’をつく
った。得られた回路基板A’の丸で囲われた部分イのA
−A’横断面を図12に示す。この場合、導体路4aを
構成するメッキ金属は銅を用い、導体路4aは7本にし
た。この場合の寸法は、ポリイミドフィルム5の厚みt
1 を25μm,接着剤層6の厚みt2 を30μm,メッ
キ金属からなる導体路4aの間隔(ピッチ)αを90μ
m、導体路4aの幅βを80μm、導体間ギャップW2
を10μm、テーパ角θを15°トリミング幅W1 を1
4.4μm、導体路間の溝の深さを20.8μmに設定
した。
Example 1 An aluminum film was used as a metal film, and a plated metal circuit pattern 4 was formed on the aluminum film in the same manner as in FIGS. In this case, a polyimide film is used as the substrate film 5, and the adhesive layer 6 is epoxy-
A urethane adhesive layer was used. Next, similarly to FIGS. 7 to 9, a window opening circuit board A ′ as shown in FIG. 10 was prepared. The circled portion A of the obtained circuit board A '
The -A 'cross section is shown in FIG. In this case, copper was used as the plating metal forming the conductor paths 4a, and the number of conductor paths 4a was seven. The dimension in this case is the thickness t of the polyimide film 5.
1 is 25 μm, the thickness t 2 of the adhesive layer 6 is 30 μm, and the interval (pitch) α between the conductor paths 4a made of plated metal is 90 μm.
m, the width β of the conductor path 4a is 80 μm, the inter-conductor gap W 2
Is 10 μm, taper angle θ is 15 °, and trimming width W 1 is 1
The groove depth between the conductor tracks was set to 4.4 μm and 20.8 μm.

【0015】[0015]

【実施例2】基板フィルムをポリエチレンテレフタレー
トに代えた。それ以外は実施例1と同様にして、同様の
窓開き回路板A’を得た。
Example 2 The substrate film was replaced with polyethylene terephthalate. Other than that was carried out similarly to Example 1, and obtained the same window opening circuit board A '.

【0016】以上の実施例1,2をまとめて表1〜3に
示した。表1〜3において、条件範囲とは、上記実施例
において変更可能(但し発明の効果は得られる)な範囲
を示し、好適範囲とはそのなかでも好ましい値を示す。
なお、基板フィルムとして好適な材料を表4にまとめて
示す。
The above Examples 1 and 2 are summarized in Tables 1 to 3. In Tables 1 to 3, the condition range indicates a range that can be changed (however, the effect of the present invention can be obtained) in the above-described embodiment, and the preferable range indicates a preferable value among them.
In addition, suitable materials for the substrate film are collectively shown in Table 4.

【0017】[0017]

【表1】 [Table 1]

【0018】[0018]

【表2】 [Table 2]

【0019】[0019]

【表3】 [Table 3]

【0020】[0020]

【表4】 [Table 4]

【0021】従来のFPCをエッチングしてなる方法で
は、各導体間のギャップW2 が100μmが限界である
に対し、上記実施例では導体間のギャップW2 を10μ
mに設定できるのであり、したがって、超小型のロータ
リートランスに現実に応用可能となる。また、トリミン
グ幅W1 を、従来よりかなり小さくできるので、これも
ロータリートランスの超小型化に寄与する。
In the conventional method of etching FPC, the gap W 2 between the conductors is limited to 100 μm, whereas in the above embodiment, the gap W 2 between the conductors is 10 μm.
Since it can be set to m, it can be actually applied to a microminiature rotary transformer. Further, the trimming width W 1 can be made considerably smaller than the conventional one , which also contributes to miniaturization of the rotary transformer.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上のように、この発明では、金属フィ
ルムのレジスト面に形成されたメッキ金属製回路パター
ンを、基板フィルムの接着剤層中に埋没一体化させ、つ
いで金属フィルムをレジスト膜ごと剥離し、基板フィル
ムの接着剤層にメッキ金属製回路パターンを残置する。
そして、基板フィルムの接着剤層面にレーザ照射し、上
記接着剤層面に露呈しているメッキ金属製回路パターン
(回路パターンの裏面側部分)を残し、不要の接着剤層
および基板フィルムの部分を除去し窓を形成する。この
レーザ照射に際しては、上記接着剤層面に露呈している
メッキ金属製回路パターンの部分がマスク材の作用をす
る。このように、この発明の製法では、メタルマスクを
用いることなくレーザ照射して不要部分を除去し窓に形
成することから、回路パターンの設計時の精度がそのま
ま窓開き回路基板の精度になる。したがって、メタルマ
スクを用いる時のように位置ずれに起因する精度不良が
生じなくなる。また、上記レーザ照射によってメッキ金
属製回路パターンに対して直接レーザ光が照射されるた
め、回路パターンを構成するメッキ金属製の導体路が、
焼きなまし(アニール)された状態となり、軟質化する
ことから、窓開き回路基板の全体の可撓性が向上するよ
うになる。また、上記メッキ金属製導体路は、上記のよ
うにメッキ金属の析出により幅が広くなっており、その
分だけ導体路間の幅が狭くなっている。そのため、その
部分に対するレーザ光の作用が小さくなり、せいぜい溝
が掘られる程度である。そして、この溝の形成によって
隣接する導体路間にマイグレーション(短絡)現象が生
じにくくなる。また、この発明は、金属フィルムの回路
パターン形成面に対して金属メッキを施し、析出するメ
ッキ金属によって回路パターンを形成する。そのため、
回路パターンを構成するメッキ金属製の導体路は、メッ
キ金属の析出により、所期の回路パターンの導体路の幅
よりも広くなり、かつ、析出金属により、上方に盛り上
がった状態になる。したがって、導体路全体の断面積が
大きくなり、そこを流れる電流の抵抗を小さくできるよ
うになる。
As described above, according to the present invention, the plated metal circuit pattern formed on the resist surface of the metal film is embedded and integrated in the adhesive layer of the substrate film, and then the metal film is formed together with the resist film. Peel off and leave the plated metal circuit pattern on the adhesive layer of the substrate film.
Then, the adhesive layer surface of the substrate film is irradiated with laser to leave the plated metal circuit pattern (the back surface side portion of the circuit pattern) exposed on the adhesive layer surface, and the unnecessary adhesive layer and the substrate film portion are removed. Form a window. During the laser irradiation, the portion of the plated metal circuit pattern exposed on the adhesive layer surface acts as a mask material. As described above, according to the manufacturing method of the present invention, laser irradiation is performed without using a metal mask to remove unnecessary portions to form a window, so that the precision at the time of designing a circuit pattern is the precision of the window-opening circuit board. Therefore, unlike the case where a metal mask is used, the accuracy failure due to the positional deviation does not occur. Further, since the laser light is directly irradiated to the plated metal circuit pattern by the laser irradiation, the plated metal conductor path forming the circuit pattern,
Since it is annealed and softened, the flexibility of the window-opening circuit board as a whole is improved. Further, the width of the plated metal conductor path is widened by the deposition of the plated metal as described above, and the width between the conductor paths is narrowed accordingly. Therefore, the action of the laser beam on that portion is reduced, and at most, the groove is dug. The formation of this groove makes it difficult for a migration (short circuit) phenomenon to occur between adjacent conductor paths. Further, according to the present invention, the surface of the metal film on which the circuit pattern is formed is plated with metal, and the circuit pattern is formed by the deposited plating metal. for that reason,
The conductor path made of plated metal that constitutes the circuit pattern becomes wider than the width of the conductor path of the intended circuit pattern due to the deposition of the plated metal, and the deposited metal is in a state of bulging upward. Therefore, the cross-sectional area of the entire conductor path is increased, and the resistance of the current flowing therethrough can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の製法に用いるアルミフィルムの断面
図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an aluminum film used in the manufacturing method of the present invention.

【図2】この発明の製法に用いるアルミフィルムにレジ
スト膜を形成した状態の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a state in which a resist film is formed on an aluminum film used in the manufacturing method of the present invention.

【図3】図2のものにパターン形成を施した状態の断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the state of FIG. 2 with a pattern formed.

【図4】図3のものにメッキ金属処理を施した状態の断
面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the state of FIG. 3 subjected to plating metal treatment.

【図5】図4のものに接着剤層付ポリイミドフィルムを
積層する状態を説明する説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view illustrating a state in which an adhesive layer-attached polyimide film is laminated on that of FIG.

【図6】図5の積層状態の断面図である。6 is a cross-sectional view of the stacked state of FIG.

【図7】図6からアルミニウムフィルムをレジスト膜ご
と除去した状態を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state where the aluminum film is removed together with the resist film from FIG.

【図8】図7のものにレーザ照射する説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram of irradiating a laser beam on that of FIG. 7.

【図9】レーザ照射後窓開けされた状態の部分的説明図
である。
FIG. 9 is a partial explanatory view of a state where a window is opened after laser irradiation.

【図10】窓開け回路基板の全体斜視図である。FIG. 10 is an overall perspective view of a window opening circuit board.

【図11】レーザ照射条件等を説明する説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating laser irradiation conditions and the like.

【図12】この発明の一実施例で得られた窓開け回路基
板の部分的な断面図である。
FIG. 12 is a partial cross-sectional view of a window opening circuit board obtained in one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属フィルム 2 レジスト膜 3 回路パターン 4 メッキ金属製回路パターン 4a 導体路 5 基板フィルム 6 接着剤層 7 窓 8 溝 1 Metal Film 2 Resist Film 3 Circuit Pattern 4 Plated Metal Circuit Pattern 4a Conductor Path 5 Substrate Film 6 Adhesive Layer 7 Window 8 Groove

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属フィルムのフィルム面に形成された
レジスト膜をエッチングして回路パターンを形成する工
程と、この回路パターン形成面に対して金属メッキを施
し、メッキ金属からなる回路パターンを形成する工程
と、接着剤層付の基板フィルムの接着剤層を上記メッキ
金属製回路パターン形成面に面対向させ圧締してメッキ
金属製回路パターンを接着剤層中に埋没一体化させる工
程と、上記埋没一体化後上記金属フィルムをレジスト膜
ごと剥離し基板フィルムの接着剤層に上記メッキ金属製
回路パターンを残置する工程と、上記基板フィルムの接
着剤層面に対し直接レーザ照射し上記接着剤層面に露呈
しているメッキ金属製回路パターンを残し不要の接着剤
層および基板フィルムの部分を除去し窓を形成する工程
を備えた窓開き回路基板の製法。
1. A step of etching a resist film formed on a film surface of a metal film to form a circuit pattern, and metal plating is applied to the circuit pattern forming surface to form a circuit pattern made of a plated metal. And a step of causing the adhesive layer of the substrate film with an adhesive layer to face the plated metal circuit pattern forming surface and pressing to integrate the plated metal circuit pattern in the adhesive layer. After the embedding integration, a step of peeling the metal film together with the resist film to leave the plated metal circuit pattern in the adhesive layer of the substrate film, and directly irradiating the adhesive layer surface of the substrate film with a laser to the adhesive layer surface. A window opening circuit board including a step of forming a window by removing an unnecessary adhesive layer and a portion of a substrate film while leaving an exposed plated metal circuit pattern. How to make a board.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004228306A (en) * 2003-01-22 2004-08-12 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Method of manufacturing printed coil and method of manufacturing printed wiring board
WO2011132463A1 (en) * 2010-04-23 2011-10-27 株式会社メイコー Printed substrate manufacturing method and printed substrate employing same
JP6774699B1 (en) * 2019-03-04 2020-10-28 株式会社プリケン Coil device and manufacturing method

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004228306A (en) * 2003-01-22 2004-08-12 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Method of manufacturing printed coil and method of manufacturing printed wiring board
WO2011132463A1 (en) * 2010-04-23 2011-10-27 株式会社メイコー Printed substrate manufacturing method and printed substrate employing same
JP2011228605A (en) * 2010-04-23 2011-11-10 Meiko Electronics Co Ltd Method of manufacturing printed board, and printed board using the same
CN102870510A (en) * 2010-04-23 2013-01-09 名幸电子有限公司 Printed substrate manufacturing method and printed substrate employing same
TWI422297B (en) * 2010-04-23 2014-01-01 Meiko Electronics Co Ltd A printed circuit board manufacturing method and use of the printed circuit board has this
US9185811B2 (en) 2010-04-23 2015-11-10 Meiko Electronics Co., Ltd. Method of producing printed circuit board, and printed board produced by the method
JP6774699B1 (en) * 2019-03-04 2020-10-28 株式会社プリケン Coil device and manufacturing method
CN113474852A (en) * 2019-03-04 2021-10-01 普利坚股份有限公司 Coil device and manufacturing method
CN113474852B (en) * 2019-03-04 2022-06-28 普利坚股份有限公司 Coil device and manufacturing method

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