JPH08167286A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH08167286A
JPH08167286A JP6306416A JP30641694A JPH08167286A JP H08167286 A JPH08167286 A JP H08167286A JP 6306416 A JP6306416 A JP 6306416A JP 30641694 A JP30641694 A JP 30641694A JP H08167286 A JPH08167286 A JP H08167286A
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JP
Japan
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output
memory cell
data
potential
response
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6306416A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH08167286A publication Critical patent/JPH08167286A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a semiconductor memory with a small chip area and with a high-speed read. CONSTITUTION: In a DRAM of multi-bit constitution, single end type amplifier driving circuits 231-233 and a double and type amplifier driving circuit 234 are provided corresponding to memory cell blocks B1-B4. Read buses/RBUS 1/RBUS4 are provided one by one corresponding to the amplifier driving circuits 231-234 respectively. Output buffers 251-254 are activated in response to a detection signal/ϕd generated when the operation of a differential amplifier in the amplifier driving circuit 234 is ended.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関
し、さらに詳しくは、1つのアドレス信号に応答して複
数のメモリセルからデータが同時に読出される半導体記
憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device in which data is simultaneously read from a plurality of memory cells in response to one address signal.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、半導体記憶装置の1つである従
来の×4構成のダイナミックランダムアクセスメモリ
(DRAM)の全体構成を示すブロック図である。図6
を参照して、このDRAMは、メモリセルアレイ10お
よび11と、行デコーダ20および21と、列デコーダ
22と、入出力線対IO1,/IO1〜IO4,/IO
4と、増幅駆動回路1〜4と、読出データバスRBUS
1,/RBS1〜RBUS4,/RBUS4と、出力バ
ッファ5〜7と、データ出力端子261〜264とを備
える。これらは1枚の半導体チップCH上に形成されて
いる。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a block diagram showing the overall structure of a conventional dynamic random access memory (DRAM) of x4 structure, which is one of semiconductor memory devices. Figure 6
Referring to, this DRAM includes memory cell arrays 10 and 11, row decoders 20 and 21, a column decoder 22, and input / output line pairs IO1, / IO1 to IO4, / IO.
4, amplification drive circuits 1 to 4, and read data bus RBUS
1, / RBS1 to RBUS4, / RBUS4, output buffers 5 to 7, and data output terminals 261 to 264. These are formed on one semiconductor chip CH.

【0003】メモリセルアレイ10はメモリセルブロッ
クB1およびB2から構成される。メモリセルアレイ1
1はメモリセルブロックB3およびB4から構成され
る。メモリセルアレイ10,11のそれぞれは、複数の
ワード線を備える。図6では、メモリセルアレイ10内
のワード線WL1だけが代表的に示され、メモリセルア
レイ11内のワード線WL2だけが代表的に示されてい
る。
Memory cell array 10 is composed of memory cell blocks B1 and B2. Memory cell array 1
1 is composed of memory cell blocks B3 and B4. Each of the memory cell arrays 10 and 11 includes a plurality of word lines. In FIG. 6, only word line WL1 in memory cell array 10 is representatively shown, and only word line WL2 in memory cell array 11 is representatively shown.

【0004】メモリセルブロックB1〜B4のそれぞれ
は、それらワード線に交差する複数のビット線対と、そ
れらワード線とビット線対との交点に対応して設けられ
た複数のメモリセルと、それらビット線対に対応して設
けられた複数のセンスアンプと、それらビット線対に対
応して設けられた複数の列選択ゲートとを備える。図6
では、ビット線対BL1,/BL1〜BL4,/BL4
と、メモリセルMC1〜MC4と、センスアンプ141
〜144と、列選択ゲートCS1〜CS4とが、メモリ
セルブロックB1〜B4においてそれぞれ代表的に示さ
れている。メモリセルMC1〜MC4は、NチャネルM
OSトランジスタからなるアクセストランジスタ121
〜124と、セルキャパシタ131〜134とをそれぞ
れ備える。
Each of the memory cell blocks B1 to B4 has a plurality of bit line pairs intersecting the word lines, and a plurality of memory cells provided corresponding to the intersections of the word lines and the bit line pairs. A plurality of sense amplifiers provided corresponding to the bit line pairs and a plurality of column selection gates provided corresponding to the bit line pairs are provided. Figure 6
Then, bit line pairs BL1, / BL1 to BL4, / BL4
, Memory cells MC1 to MC4, and sense amplifier 141
To 144 and column select gates CS1 to CS4 are representatively shown in memory cell blocks B1 to B4, respectively. The memory cells MC1 to MC4 are N channels M
Access transistor 121 including an OS transistor
To 124 and cell capacitors 131 to 134, respectively.

【0005】図7は、図6中の増幅駆動回路1の具体的
な構成を示す回路図である。なお、他の増幅駆動回路2
〜4も増幅駆動回路1と同様に構成されている。図7を
参照して、増幅駆動回路1は、差動増幅器30と、バス
ドライバ32および33とを備える。差動増幅器30は
PチャネルMOSトランジスタ301,302,30
5,306と、NチャネルMOSトランジスタ303,
304,307とを備える。差動増幅器30は活性化信
号φaに応答して活性化され、活性化されると入出力線
IO1および/IO1の間の電位差を増幅する。バスド
ライバ32は、PチャネルMOSトランジスタ321
と、NチャネルMOSトランジスタ322と、インバー
タ323とを備える。トランジスタ321はプリチャー
ジ信号/φpに応答して読出バス/RBUS1を電源電
位Vccにプリチャージする。トランジスタ322は、
差動増幅器30の出力ノードN1の電位(出力電位)に
応答して、読出バス/RBUS1を接地電位Vssに放
電する。バスドライバ33は、PチャネルMOSトラン
ジスタ331と、NチャネルMOSトランジスタ332
と、インバータ333とを備える。トランジスタ331
は、上記プリチャージ信号/φpに応答して読出バスR
BUS1を電源電位Vccにプリチャージする。トラン
ジスタ332は、差動増幅器30の出力ノードN2の電
位(出力電位)に応答して読出バスRBUS1を接地電
位Vssに放電する。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a specific structure of the amplification drive circuit 1 shown in FIG. In addition, another amplification drive circuit 2
4 to 4 are also configured similarly to the amplification drive circuit 1. Referring to FIG. 7, amplification drive circuit 1 includes a differential amplifier 30 and bus drivers 32 and 33. The differential amplifier 30 includes P-channel MOS transistors 301, 302, 30.
5, 306 and N-channel MOS transistor 303,
And 304 and 307. Differential amplifier 30 is activated in response to activation signal φa, and when activated, amplifies the potential difference between input / output lines IO1 and / IO1. The bus driver 32 is a P-channel MOS transistor 321.
And an N-channel MOS transistor 322 and an inverter 323. Transistor 321 precharges read bus / RBUS1 to power supply potential Vcc in response to precharge signal / φp. The transistor 322 is
In response to the potential (output potential) of output node N1 of differential amplifier 30, read bus / RBUS1 is discharged to ground potential Vss. The bus driver 33 includes a P-channel MOS transistor 331 and an N-channel MOS transistor 332.
And an inverter 333. Transistor 331
Is a read bus R in response to the precharge signal / φp.
BUS1 is precharged to the power supply potential Vcc. Transistor 332 discharges read bus RBUS1 to ground potential Vss in response to the potential (output potential) of output node N2 of differential amplifier 30.

【0006】図8は、図6の出力バッファ5の具体的な
構成を示す回路図である。なお、他の出力バッファ6〜
8も出力バッファ5と同様に構成されている。図8を参
照して、出力バッファ5は、NチャネルMOSトランジ
スタ361および362と、論理ゲート363および3
64と、インバータ366〜369とを備える。出力バ
ッファ5は活性化信号/φeに応答して活性化され、活
性化されると読出バスRBUS1および/RBUS1上
の互いに相補的な読出データに応答して出力データDQ
1を出力する。この出力データDQ1はデータ出力端子
261を介して半導体チップCHの外部に出力される。
他の出力データDQ2〜DQ4も出力データDQ1と同
様に、それぞれデータ出力端子262〜264を介して
半導体チップCHの外部に出力される。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a specific structure of the output buffer 5 of FIG. In addition, other output buffers 6 to
8 is also configured similarly to the output buffer 5. Referring to FIG. 8, output buffer 5 includes N channel MOS transistors 361 and 362 and logic gates 363 and 3 respectively.
64 and inverters 366 to 369. Output buffer 5 is activated in response to activation signal / φe, and when activated, output data DQ in response to mutually complementary read data on read buses RBUS1 and / RBUS1.
Outputs 1. The output data DQ1 is output to the outside of the semiconductor chip CH via the data output terminal 261.
The other output data DQ2 to DQ4 are also output to the outside of the semiconductor chip CH via the data output terminals 262 to 264 similarly to the output data DQ1.

【0007】次に、上記のような×4構成のDRAMの
動作を説明する。図9は、図6中のメモリセルMC1の
読出動作を示すタイミングチャートである。
Next, the operation of the DRAM of the above x4 structure will be described. FIG. 9 is a timing chart showing the read operation of memory cell MC1 in FIG.

【0008】まず時刻t1よりも前の初期状態において
は、図9(i)に示されるようにH(論理ハイ)レベル
の活性化信号/φeが出力バッファ5〜8のそれぞれに
与えられているので、出力バッファ5〜8は不活性状態
にある。すなわち、Hレベルの活性化信号/φeは、た
とえば図8の出力バッファ5における論理ゲート363
および364に与えられるので、読出バスRBUS1お
よび/RBUS1の電位に関係なく、トランジスタ36
1および362はともに非導通状態にある。したがっ
て、この出力バッファ5のデータ出力端子261は高イ
ンピーダンス状態にある。他の出力バッファ6〜8もこ
の出力バッファ5と同じ状態にある。
First, in the initial state prior to time t1, as shown in FIG. 9 (i), H (logical high) level activation signal / φe is applied to each of output buffers 5-8. Therefore, the output buffers 5 to 8 are inactive. More specifically, H level activation signal / φe is applied to logic gate 363 in output buffer 5 of FIG.
And 364, the transistor 36 is irrelevant regardless of the potentials of the read buses RBUS1 and / RBUS1.
Both 1 and 362 are non-conducting. Therefore, the data output terminal 261 of this output buffer 5 is in a high impedance state. The other output buffers 6 to 8 are also in the same state as this output buffer 5.

【0009】また、図9(e)に示されるようにL(論
理ロー)レベルのプリチャージ信号/φpが増幅駆動回
路1〜4のそれぞれに与えられている。たとえば図7の
増幅駆動回路1においては、Lレベルのプリチャージ信
号/φpはバスドライバ32内のトランジスタ321の
ゲート電極に与えられるとともに、バスドライバ33内
のトランジスタ331のゲート電極に与えられる。した
がって、読出バスRBUS1および/RBUS1はとも
にHレベルにプリチャージされている。
Further, as shown in FIG. 9E, an L (logical low) level precharge signal / φp is applied to each of the amplification drive circuits 1 to 4. For example, in amplification drive circuit 1 in FIG. 7, L-level precharge signal / φp is applied to the gate electrode of transistor 321 in bus driver 32 and to the gate electrode of transistor 331 in bus driver 33. Therefore, read buses RBUS1 and / RBUS1 are both precharged to H level.

【0010】次いで、行デコーダ20が1つのワード線
を選択し、かつ行デコーダ21が1つのワード線を選択
する。たとえばワード線WL1およびWL2が選択され
ると、それらのワード線WL1,WL2に接続されるす
べてのメモリセルからデータがビット線対に読出され、
その読出されたデータはセンスアンプによって増幅され
かつラッチされる。
Then, the row decoder 20 selects one word line, and the row decoder 21 selects one word line. For example, when word lines WL1 and WL2 are selected, data is read out to the bit line pair from all memory cells connected to those word lines WL1 and WL2,
The read data is amplified and latched by the sense amplifier.

【0011】次いで、列デコーダ22が1つの列選択線
を選択する。たとえば列選択線CSLが選択されると、
その列選択線CSLに接続された4つの列選択ゲートC
S1〜CS4が導通状態となる。これにより、ビット線
対BL1,/BL1のデータは列選択ゲートCS1を介
して入出力線対IO1,/IO1に伝達される。ビット
線対BL2,/BL2のデータは列選択ゲートCS2を
介して入出力線対IO2,/IO2に伝達される。ビッ
ト線対BL3,/BL3のデータは列選択ゲートCS3
を介して入出力線対IO3,/IO3に伝達される。そ
して、ビット線対BL4,/BL4のデータは列選択ゲ
ートCS4を介して入出力線対IO4,/IO4に伝達
される。入出力線対IO1,/IO1〜IO4,/IO
4のデータはそれぞれ増幅駆動回路1〜4によって増幅
され、さらに読出バスRBUS1,/RBUS1〜RB
US4,/RBUS4を介して出力バッファ5〜8に供
給される。そして、出力バッファ5〜8からデータ出力
端子261〜264を介して出力データDQ1〜DQ4
が出力される。
Next, the column decoder 22 selects one column selection line. For example, when the column selection line CSL is selected,
Four column select gates C connected to the column select line CSL
S1 to CS4 become conductive. As a result, the data on the bit line pair BL1, / BL1 is transmitted to the input / output line pair IO1, / IO1 via the column selection gate CS1. The data of the bit line pair BL2, / BL2 is transmitted to the input / output line pair IO2, / IO2 via the column selection gate CS2. The data on the bit line pair BL3, / BL3 is the column selection gate CS3.
Is transmitted to the input / output line pair IO3, / IO3 via. Then, the data on the bit line pair BL4, / BL4 is transmitted to the input / output line pair IO4, / IO4 via the column selection gate CS4. I / O line pairs IO1, / IO1 to IO4, / IO
The data of No. 4 are amplified by amplification drive circuits 1 to 4, respectively, and further read buses RBUS1, / RBUS1 to RB
It is supplied to the output buffers 5 to 8 via US4 and / RBUS4. The output data DQ1 to DQ4 are output from the output buffers 5 to 8 via the data output terminals 261 to 264.
Is output.

【0012】ここで、メモリセルMC1にHレベルのデ
ータが格納されている場合の読出動作を図9を参照して
詳しく説明する。時刻t1において図9(a)に示され
るようにワード線WL1の電位が立上がると、図9
(b)に示されるようにビット線BL1の電位がわずか
に上昇する。次いで時刻t2において、センスアンプ1
41が活性化されると、ビット線BL1および/BL1
間の電位差が増幅され、これによりビット線BL1の電
位はHレベルとなり、ビット線/BL1の電位はLレベ
ルとなる。
The read operation in the case where H level data is stored in the memory cell MC1 will be described in detail with reference to FIG. When the potential of the word line WL1 rises at time t1 as shown in FIG.
As shown in (b), the potential of the bit line BL1 slightly rises. Next, at time t2, the sense amplifier 1
When 41 is activated, bit lines BL1 and / BL1
The potential difference between the two is amplified, whereby the potential of the bit line BL1 becomes H level and the potential of the bit line / BL1 becomes L level.

【0013】次いで時刻t3において、図9(i)に示
されるように活性化信号/φeが立下がり、これにより
出力バッファ5〜8が活性化される。しかし、時刻t3
における読出バスRBUS1および/RBUS1の電位
はともに図9(g)および(h)に示されるようにHレ
ベルのままであるため、図8の出力バッファ5における
トランジスタ361および362はともに非導通状態の
ままである。したがって、出力バッファ5は活性化され
たにもかかわらず動作せず、そのデータ出力端子261
は高インピーダンス状態のままである。
Then, at time t3, activation signal / φe falls as shown in FIG. 9 (i), whereby output buffers 5-8 are activated. However, at time t3
Since the potentials of read buses RBUS1 and / RBUS1 in FIG. 9 remain at the H level as shown in FIGS. 9 (g) and 9 (h), transistors 361 and 362 in output buffer 5 in FIG. 8 are both non-conductive. There is. Therefore, the output buffer 5 does not operate even though it is activated, and its data output terminal 261
Remains in a high impedance state.

【0014】次いで時刻t4において、列選択線CSL
の電位が図9に示されるように立上がると、列選択ゲー
トCS1が導通状態となり、これにより図9(d)に示
されるように入出力線IO1の電位が入出力線/IO1
の電位よりも高くなる。
Next, at time t4, the column select line CSL
9 rises as shown in FIG. 9, the column select gate CS1 becomes conductive, which causes the potential of the input / output line IO1 to change to the input / output line / IO1 as shown in FIG. 9D.
It becomes higher than the potential of.

【0015】次いで時刻t5において、プリチャージ信
号/φpが図9(e)に示されるように立上がるととも
に、活性化信号φaが図9(f)に示されるように立上
がると、図7に示されたプリチャージ用のトランジスタ
321および331が非導通状態になるとともに、動増
幅器30が活性化される。これにより時刻t6におい
て、読出バス/RBUS1の電位が図9(g)に示され
るようにLレベルとなる。読出バスRBU1の電位は、
図9(h)に示されるようにHレベルのまま維持され
る。したがって、図8に示された出力バッファ5におけ
るトランジスタ361が導通状態となり、これにより図
9(i)に示されるようにHレベルの出力データDQ1
が出力される。
Next, at time t5, precharge signal / φp rises as shown in FIG. 9 (e) and activation signal φa rises as shown in FIG. 9 (f). The illustrated precharging transistors 321 and 331 are rendered non-conductive, and the dynamic amplifier 30 is activated. As a result, at time t6, the potential of read bus / RBUS1 becomes L level as shown in FIG. 9 (g). The potential of the read bus RBU1 is
As shown in FIG. 9H, the H level is maintained. Therefore, the transistor 361 in the output buffer 5 shown in FIG. 8 is rendered conductive, and as a result, as shown in FIG. 9 (i), the H-level output data DQ1 is output.
Is output.

【0016】上記のように従来のDRAMにおいては、
読出バスRBUS1,/RBUS1〜RBUS4,/R
BUS4がそれぞれ相補的な対を構成しているため、両
方がHレベル、一方がHレベルで他方がLレベル、一方
がLレベルで他方がHレベルという3つの状態を持つこ
とができる。したがって、読出バスRBUS1,/RB
US1〜RBUS4,/RBUS4の一方および他方の
電位がともにHレベルにある間に、たとえLレベルの活
性化信号/φeが与えられても、出力バッファ5〜8は
動作しない。したがって、有効なデータが出力されるま
でに、有効でないデータが出力されることはない。そし
て、対をなす読出バスの一方の電位がHレベルになると
直ちに出力バスが動作するため、差動駆動回路からの有
効なデータは直ちに出力バッファを介して出力される。
このように出力バッファでの待ち時間がないため、デー
タの読出時間が短い。
As described above, in the conventional DRAM,
Read bus RBUS1, / RBUS1 to RBUS4, / R
Since the BUSs 4 form respective complementary pairs, it is possible to have three states in which both are H level, one is H level and the other is L level, and one is L level and the other is H level. Therefore, the read buses RBUS1, / RB
While one and the other potentials of US1 to RBUS4 and / RBUS4 are both at H level, output buffers 5 to 8 do not operate even if activation signal / φe at L level is applied. Therefore, ineffective data will not be output until the effective data is output. Then, as soon as the potential of one of the paired read buses becomes H level, the output bus operates immediately, so that valid data from the differential drive circuit is immediately output through the output buffer.
Since there is no waiting time in the output buffer, the data read time is short.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成では、読出バスの数が同時に読出されるデー
タのビット数の2倍必要である。すなわち、図6に示さ
れた×4構成のDRAMでは、8本の読出バスが必要で
ある。したがって、×16構成のDRAMでは32本の
読出バスが必要であり、×32構成のDRAMでは64
本の読出バスが必要である。そのため、半導体チップC
Hの面積が増大し、DRAMの製造コストが上昇すると
いう問題があった。
However, in the above-mentioned configuration, the number of read buses needs to be twice the number of bits of data to be read at the same time. That is, eight read buses are required in the DRAM of the x4 configuration shown in FIG. Therefore, 32 read buses are required for the DRAM of x16 configuration, and 64 read buses are required for the DRAM of x32 configuration.
A book read bus is required. Therefore, the semiconductor chip C
There is a problem that the area of H increases and the manufacturing cost of DRAM increases.

【0018】この問題は、1つのメモリセルブロックに
対応する読出バスの数を1本にするだけでは解決するこ
とができない。読出バスの数を単純に1本にするだけで
は、無効なデータが出力されたり、あるいは出力バッフ
ァでの待ち時間が長くなるという問題が生じるからであ
る。
This problem cannot be solved only by setting the number of read buses corresponding to one memory cell block to one. This is because if only one read bus is used, invalid data may be output or the waiting time in the output buffer may increase.

【0019】なお、特開平5−20870号公報では、
データ出力バスの本数を低減しチップ面積を小さくする
ことを目的とし、データ増幅器の出力データを1本のデ
ータ出力バスでデータ出力回路の一方の入力端に伝達
し、データ出力回路の他方の入力端にはデータ出力バス
のデータを反転回路を介して伝達するように構成された
半導体集積回路が開示されている。しかし、この半導体
集積回路では、データを伝達する前に中間電位発生回路
からの中間電位をデータ出力バスに供給し、そのデータ
出力バスを中間電位にするように構成されている。
Incidentally, in Japanese Patent Laid-Open No. 5-20870,
For the purpose of reducing the number of data output buses and reducing the chip area, the output data of the data amplifier is transmitted to one input end of the data output circuit by one data output bus and the other input of the data output circuit is transmitted. A semiconductor integrated circuit configured to transmit the data of the data output bus via an inverting circuit is disclosed at the end. However, in this semiconductor integrated circuit, the intermediate potential from the intermediate potential generation circuit is supplied to the data output bus before transmitting the data, and the data output bus is set to the intermediate potential.

【0020】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたものであって、高速な読出動作が可能
でかつチップ面積の小さい多ビット構成の半導体記憶装
置を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a multi-bit structure which enables a high-speed read operation and has a small chip area. And

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、複数のメモリセルブロック、選択手段、読出
手段、複数の増幅手段、検知手段、複数のデータバス、
および複数の出力手段を備える。複数のメモリセルブロ
ックのそれぞれは複数のメモリセルを含む。選択手段
は、外部から供給される1つのアドレス信号に応答して
複数のメモリセルブロックのそれぞれにおいて1つのメ
モリセルを選択する。読出手段は、選択手段によって選
択されたメモリセルからデータを読出す。複数の増幅手
段は複数のメモリセルブロックに対応して設けられる。
複数の増幅手段のそれぞれは、対応するメモリブロック
における1つのメモリセルから読出されたデータを増幅
する。検知手段は、複数の増幅手段のうち少なくとも1
つがその動作を完了したことを検知し、かつ所定の検知
信号を発生する。複数のデータバスは複数の増幅手段に
対応して設けられる。複数のデータバスのそれぞれは対
応する増幅手段に接続される。複数の出力手段は複数の
データバスに対応して設けられる。複数の出力手段のそ
れぞれは、検知手段から供給される検知信号に応答して
活性化され、かつ対応する増幅手段からデータバスを介
して供給されるデータを外部に供給する。
A semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention comprises a plurality of memory cell blocks, a selection means, a reading means, a plurality of amplification means, a detection means, a plurality of data buses,
And a plurality of output means. Each of the plurality of memory cell blocks includes a plurality of memory cells. The selecting means selects one memory cell in each of the plurality of memory cell blocks in response to one address signal supplied from the outside. The reading means reads the data from the memory cell selected by the selecting means. The plurality of amplifying means are provided corresponding to the plurality of memory cell blocks.
Each of the plurality of amplifying means amplifies the data read from one memory cell in the corresponding memory block. The detection means is at least one of the plurality of amplification means.
Detects that it has completed its operation and generates a predetermined detection signal. The plurality of data buses are provided corresponding to the plurality of amplifying means. Each of the plurality of data buses is connected to the corresponding amplifying means. The plurality of output means are provided corresponding to the plurality of data buses. Each of the plurality of output means is activated in response to the detection signal supplied from the detection means, and supplies the data supplied from the corresponding amplification means via the data bus to the outside.

【0022】請求項2に係る半導体記憶装置は、複数の
メモリセルブロック、行選択手段、複数の入出力線対、
列選択手段、複数の差動増幅手段、検知手段、複数のデ
ータバス、複数の第1の電位供給手段、複数の第2の電
位供給手段、および複数の出力手段を備える。複数のメ
モリセルブロックのそれぞれは、複数のワード線、複数
のビット線対、および複数のビット線対、および複数の
メモリセルを含む。複数のビット線対はワード線と交差
する。複数のメモリセルはワード線とビット線対との交
点に対応して設けられる。複数のメモリセルのそれぞれ
は、対応するワード線と対応するビット線対の一方と接
続される。行選択状態は、外部から供給される1つの行
アドレス信号に応答して複数のメモリセルブロックのそ
れぞれにおいて1つのワード線を選択する。複数の入出
力線対は複数のメモリセルブロックに対応して設けられ
る。複数のメモリセルブロックのそれぞれはさらに、複
数の列選択ゲートを含む。複数の列選択ゲートは複数の
ビット線対に対応して設けられる。複数の列選択ゲート
のそれぞれは、対応するビット線対と対応する入出力線
対との間に接続される。列選択手段は、外部から供給さ
れる1つの列アドレス信号に応答して複数のメモリセル
ブロックのそれぞれにおいて1つの列選択ゲートを導通
状態にする。複数の差動増幅手段は複数の入出力線対に
対応して設けられる。複数の差動増幅手段のそれぞれ
は、対応する入出力線対間の電位差を増幅する。検知手
段は、複数の差動増幅手段のうち少なくとも1つがその
動作を完了したことを検知し、かつ所定の検知信号を発
生する。複数のデータバスは複数の差動増幅手段に対応
して設けられる。複数の第1の電位供給手段は複数のデ
ータバスに対応して設けられる。複数の第1の電位供給
手段のそれぞれは、所定のプリチャージ信号に応答して
対応するデータバスに第1の電位を供給する。複数の第
2の電位供給手段は複数のデータバスに対応して設けら
れる。複数の第2の電位供給手段のそれぞれは、対応す
る差動増幅手段の出力電位に応答して対応するデータバ
スに第2の電位を供給する。複数の出力手段は複数のデ
ータバスに応答して設けられる。複数の出力手段のそれ
ぞれは、検知手段から供給される検知信号に応答して活
性化され、かつ対応するデータバスの電位に応答して出
力データを外部に供給する。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, a plurality of memory cell blocks, row selecting means, a plurality of input / output line pairs,
A column selection means, a plurality of differential amplification means, a detection means, a plurality of data buses, a plurality of first potential supply means, a plurality of second potential supply means, and a plurality of output means are provided. Each of the plurality of memory cell blocks includes a plurality of word lines, a plurality of bit line pairs, a plurality of bit line pairs, and a plurality of memory cells. The plurality of bit line pairs cross the word lines. The plurality of memory cells are provided corresponding to the intersections of the word lines and the bit line pairs. Each of the plurality of memory cells is connected to one of the bit line pair corresponding to the corresponding word line. In the row selected state, one word line is selected in each of the plurality of memory cell blocks in response to one row address signal supplied from the outside. The plurality of input / output line pairs are provided corresponding to the plurality of memory cell blocks. Each of the plurality of memory cell blocks further includes a plurality of column select gates. A plurality of column selection gates are provided corresponding to a plurality of bit line pairs. Each of the plurality of column selection gates is connected between the corresponding bit line pair and the corresponding input / output line pair. The column selection means renders one column selection gate conductive in each of the plurality of memory cell blocks in response to one column address signal supplied from the outside. The plurality of differential amplification means are provided corresponding to the plurality of input / output line pairs. Each of the plurality of differential amplification means amplifies the potential difference between the corresponding input / output line pair. The detection means detects that at least one of the plurality of differential amplification means has completed its operation, and generates a predetermined detection signal. The plurality of data buses are provided corresponding to the plurality of differential amplification means. The plurality of first potential supply means are provided corresponding to the plurality of data buses. Each of the plurality of first potential supply means supplies the first potential to the corresponding data bus in response to a predetermined precharge signal. The plurality of second potential supply means are provided corresponding to the plurality of data buses. Each of the plurality of second potential supply means supplies the second potential to the corresponding data bus in response to the output potential of the corresponding differential amplifier means. The plurality of output means are provided in response to the plurality of data buses. Each of the plurality of output means is activated in response to the detection signal supplied from the detection means, and supplies output data to the outside in response to the potential of the corresponding data bus.

【0023】請求項3に係る半導体記憶装置は、上記請
求項2の構成に加えて、出力制御線をさらに備える。出
力制御線は、検知手段から複数の出力手段のそれぞれに
検知信号を供給するためのものである。また、上記検知
手段は第3の電位供給手段および第4の電位供給手段を
含む。第3の電位供給手段は、制御信号に応答して出力
制御線に第3の電位を供給する。第4の電位供給手段
は、1つの差動増幅手段の出力電位に応答して出力制御
線に第4の電位を供給する。
A semiconductor memory device according to a third aspect of the present invention further comprises an output control line in addition to the configuration of the above second aspect. The output control line is for supplying a detection signal from the detection means to each of the plurality of output means. The detection means includes third potential supply means and fourth potential supply means. The third potential supply means supplies the third potential to the output control line in response to the control signal. The fourth potential supply means supplies the fourth potential to the output control line in response to the output potential of one differential amplification means.

【0024】[0024]

【作用】請求項1に係る半導体記憶装置においては、1
つのアドレス信号に応答して各メモリセルブロックにお
いて1つのメモリセルが選択される。その選択されたメ
モリセルからデータが読出され、各メモリセルブロック
に対応する増幅手段によって増幅される。1つの増幅手
段がその動作を完了すると、所定の検知信号が生成され
る。この検知信号に応答して出力手段が活性化され、増
幅手段からデータバスを介して供給されるデータが外部
に出力されるので、1つのメモリセルブロックに対して
1つのデータバスが設けられているにもかかわらず、増
幅手段によって増幅されたデータは直ちに出力手段を介
して出力される。そのため、データの読出速度を低下さ
せることなく、チップ面積をさらに小さくすることがで
きる。
In the semiconductor memory device according to claim 1, 1
One memory cell is selected in each memory cell block in response to one address signal. Data is read from the selected memory cell and amplified by the amplifying means corresponding to each memory cell block. When one amplification means completes its operation, a predetermined detection signal is generated. In response to this detection signal, the output means is activated, and the data supplied from the amplifying means via the data bus is output to the outside. Therefore, one data bus is provided for one memory cell block. However, the data amplified by the amplification means is immediately output through the output means. Therefore, the chip area can be further reduced without reducing the data read speed.

【0025】請求項2に係る半導体記憶装置において
は、1つの行アドレス信号に応答して各メモリセルブロ
ックにおいて1つのワード線が選択され、さらに1つの
列アドレス信号に応答して各メモリセルブロックにおい
て1つの列選択ゲートが導通状態となる。したがって、
各メモリセルブロックから1つずつデータが読出され、
入出力線対を介して差動増幅手段に供給される。差動増
幅手段は供給されたデータを増幅し、さらにデータバス
を介して出力手段に供給される。1つの差動増幅手段が
その動作を完了すると、所定の検知信号が生成される。
検知信号に応答して出力手段が活性化され、出力データ
が外部に供給される。このように出力手段は1つの差動
増幅手段がその動作を完了した後直ちに活性化されるの
で、読出バス上の無効なデータが出力手段を介して出力
されることはなく、しかも差動増幅手段からの有効なデ
ータは直ちに出力手段を介して出力される。そのため、
データの読出速度を低下させることなく、チップ面積を
さらに小さくすることができる。
According to another aspect of the semiconductor memory device of the present invention, one word line is selected in each memory cell block in response to one row address signal, and each memory cell block is further responded to in one column address signal. At, one column select gate becomes conductive. Therefore,
Data is read from each memory cell block one by one,
It is supplied to the differential amplifying means via the input / output line pair. The differential amplification means amplifies the supplied data and further supplies it to the output means via the data bus. When one differential amplification means completes its operation, a predetermined detection signal is generated.
The output means is activated in response to the detection signal, and the output data is supplied to the outside. In this way, the output means is activated immediately after one differential amplifier means completes its operation, so that invalid data on the read bus is not output via the output means, and the differential amplifier is used. The valid data from the means is immediately output via the output means. for that reason,
The chip area can be further reduced without reducing the data read speed.

【0026】請求項3に係る半導体記憶装置において
は、上記請求項2の作用に加えて、1つの差動増幅手段
の出力電位に応答して第3の電位が出力制御線に供給さ
れる。これにより、その1つの差動増幅手段がその動作
を完了したとき直ちに検知信号が出力手段に供給され
る。そのため、出力手段における待ち時間はほとんどな
い。
In the semiconductor memory device according to the third aspect, in addition to the operation of the second aspect, the third potential is supplied to the output control line in response to the output potential of one differential amplifying means. As a result, the detection signal is supplied to the output means immediately when the one differential amplifying means completes its operation. Therefore, there is almost no waiting time in the output means.

【0027】[0027]

【実施例】以下、この発明の一実施例による半導体記憶
装置を図面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一
符号は同一または相当部分を示す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

【0028】図1は、この発明の一実施例によるDRA
Mの全体構成を示すブロック図である。図1を参照し
て、このDRAMは1枚の半導体チップCH上に形成さ
れる。このDRAMは、メモリセルアレイ10および1
1と、行デコーダ20および21と、列デコーダ22
と、入出力線対IO1,/IO1〜IO4,/IO4
と、シングルエンド型増幅駆動回路231〜233と、
ダブルエンド型増幅駆動回路234と、読出バス/RB
US1〜/RBUS4と、出力制御線24と、出力バッ
ファ251〜254と、データ出力端子261〜264
とを備える。
FIG. 1 shows a DRA according to an embodiment of the present invention.
It is a block diagram which shows the whole structure of M. Referring to FIG. 1, this DRAM is formed on one semiconductor chip CH. This DRAM has memory cell arrays 10 and 1
1, row decoders 20 and 21, and column decoder 22
And input / output line pairs IO1, / IO1 to IO4, / IO4
And single-ended amplification drive circuits 231-233,
Double end type amplifier drive circuit 234 and read bus / RB
US1 to / RBUS4, output control line 24, output buffers 251 to 254, and data output terminals 261 to 264
With.

【0029】メモリセルアレイ10は図9と同様に、メ
モリセルブロックB1およびB2から構成される。メモ
リセルアレイ11は図9と同様に、メモリセルブロック
B3およびB4から構成される。メモリセルアレイ12
は複数のワード線がメモリセルブロックB1およびB2
にわたって配置されている。メモリセルアレイ11には
複数のワード線がメモリセルブロックB3およびB4に
わたって配置されている。図1では、メモリセルアレイ
10内の1つのワード線WL1のみが代表的に示され、
また、メモリセルアレイ11内の1つのワード線WL2
のみが示されている。
The memory cell array 10 is composed of memory cell blocks B1 and B2 as in FIG. The memory cell array 11 is composed of memory cell blocks B3 and B4 as in FIG. Memory cell array 12
Are memory cell blocks B1 and B2
It is arranged over. In the memory cell array 11, a plurality of word lines are arranged over the memory cell blocks B3 and B4. In FIG. 1, only one word line WL1 in the memory cell array 10 is representatively shown,
In addition, one word line WL2 in the memory cell array 11
Only shown.

【0030】メモリセルブロックB1〜B4のそれぞれ
は、ワード線と交差して配置された複数のビット線対
と、ワード線およびビット線対の交点に対応してマトリ
ックス状に配置された複数のメモリセルと、ビット線対
に対応して設けられた複数のセンスアンプと、ビット線
対に対応して設けられた複数の列選択ゲートとを備え
る。図1においては、メモリセルブロックB1内のメモ
リセルMC1とセンスアンプ141と列選択ゲートCS
1とが代表的に示される。また、メモリセルブロックB
2では、ビット線対BL2,/BL2とメモリセルMC
2とセンスアンプ142と列選択ゲートCS2とが代表
的に示される。メモリセルブロックB3では、ビット線
対BL3,/BL3とメモリセルMC3とセンスアンプ
143と列選択ゲートCS3とが代表的に示される。メ
モリセルブロックB4では、ビット線対BL4,/BL
4とメモリセルMC4とセンスアンプ144と列選択ゲ
ートCS4とが代表的に示される。
Each of the memory cell blocks B1 to B4 has a plurality of bit line pairs arranged to intersect the word lines and a plurality of memories arranged in a matrix corresponding to the intersections of the word lines and the bit line pairs. A cell, a plurality of sense amplifiers provided corresponding to the bit line pairs, and a plurality of column selection gates provided corresponding to the bit line pairs. In FIG. 1, the memory cell MC1 in the memory cell block B1, the sense amplifier 141, and the column selection gate CS
1 and 1 are typically shown. Also, the memory cell block B
2, the bit line pair BL2, / BL2 and the memory cell MC
2, the sense amplifier 142 and the column selection gate CS2 are representatively shown. In memory cell block B3, bit line pair BL3, / BL3, memory cell MC3, sense amplifier 143, and column selection gate CS3 are representatively shown. In the memory cell block B4, the bit line pair BL4, / BL
4, memory cell MC4, sense amplifier 144, and column selection gate CS4 are representatively shown.

【0031】メモリセルMC1〜MC4は、それぞれア
クセストランジスタ121〜124とセルキャパシタ1
31〜134とを含む。メモリセルMC1においては、
アクセストランジスタ121はビット線BL1とセルキ
ャパシタ131との間に接続され、そのゲート電極がワ
ード線WL1に接続される。他のメモリセルMC2〜4
もメモリセルMC1と同様に構成される。
The memory cells MC1 to MC4 include access transistors 121 to 124 and a cell capacitor 1 respectively.
31-134. In the memory cell MC1,
Access transistor 121 is connected between bit line BL1 and cell capacitor 131, and its gate electrode is connected to word line WL1. Other memory cells MC2-4
Is also configured similarly to the memory cell MC1.

【0032】センスアンプ141〜144は、それぞれ
ビット線対BL1,/BL1〜BL4,BL4に接続さ
れる。センスアンプ141はビット線BL1および/B
L1間の電位差を増幅し、そのビット線対BL1,BL
1上のデータをラッチする。他のセンスアンプ142〜
144もセンスアンプ141と同様に構成される。
Sense amplifiers 141-144 are connected to bit line pairs BL1, / BL1-BL4, BL4, respectively. The sense amplifier 141 uses bit lines BL1 and / B
The potential difference between L1 is amplified and the bit line pair BL1, BL
Latch the data on 1. Other sense amplifiers 142-
144 is also configured similarly to the sense amplifier 141.

【0033】列選択ゲートCS1はNチャネルMOSト
ランジスタ151および161から構成され、ビット線
対BL1,/BL1と入出力線対IO1,IO1との間
に接続される。列選択ゲートCS2はNチャネルMOS
トランジスタ152および162から構成され、ビット
線対BL2,/BL2と入出力線対IO2,/IO2と
の間に接続される。列選択ゲートCS3はNチャネルM
OSトランジスタ153および163から構成され、ビ
ット線対BL3,/BL3と入出力線対IO3,/IO
3との間に接続される。列選択ゲートCS4はNチャネ
ルMOSトランジスタ154および164から構成さ
れ、ビット線対BL4,/BL4と入出力線対IO4,
/IO4との間に接続される。
Column select gate CS1 is formed of N channel MOS transistors 151 and 161, and is connected between bit line pair BL1, / BL1 and input / output line pair IO1, IO1. The column selection gate CS2 is an N channel MOS
It is composed of transistors 152 and 162, and is connected between bit line pair BL2, / BL2 and input / output line pair IO2, / IO2. The column selection gate CS3 is an N channel M
It is composed of OS transistors 153 and 163, and has a bit line pair BL3 / BL3 and an input / output line pair IO3 / IO.
It is connected between 3 and. The column selection gate CS4 is composed of N channel MOS transistors 154 and 164, and has a bit line pair BL4, / BL4 and an input / output line pair IO4.
/ IO4.

【0034】このDRAMはさらに、メモリセルアレイ
10、入出力線対IO1,/IO1〜IO4,/IO4
およびメモリセルアレイ11にわたって配置された複数
の列選択線を備える。図1では、1つの列選択線CSL
のみが代表的に示される。列選択ゲートCS1〜CS4
内のトランジスタ151〜154,161〜164のゲ
ート電極はすべて、この列選択線CSLに接続される。
したがって、列選択ゲートCS1〜CS4は列選択線C
SLの電位に応答して導通状態となり、ビット線対BL
1,/BL1〜BL4,/BL4間の電圧をそれぞれ入
出力線対IO1,/IO1〜IO4,/IO4に伝達す
る。
This DRAM further includes a memory cell array 10, input / output line pairs IO1, / IO1 to IO4, / IO4.
And a plurality of column selection lines arranged over the memory cell array 11. In FIG. 1, one column selection line CSL
Only typically shown. Column selection gates CS1 to CS4
The gate electrodes of the transistors 151 to 154 and 161 to 164 therein are all connected to the column selection line CSL.
Therefore, the column selection gates CS1 to CS4 are connected to the column selection line C.
It becomes conductive in response to the potential of SL, and the bit line pair BL
The voltages between 1, / BL1 to BL4, / BL4 are transmitted to the input / output line pairs IO1, / IO1 to IO4, / IO4, respectively.

【0035】行デコーダ20は行アドレス信号RADに
応答してメモリセルアレイ10内の複数のワード線のう
ち1つを選択する。行デコーダ21は行アドレス信号R
ADに応答してメモリセルアレイ11内の複数のワード
線のうち1つを選択する。したがって、行デコーダ20
および21は、外部から供給された1つの行アドレス信
号RADに応答して2つのワード線を選択する。列デコ
ーダ22は、外部から供給された1つの列アドレス信号
CADに応答して複数の列選択線のうち1つを選択す
る。
Row decoder 20 selects one of a plurality of word lines in memory cell array 10 in response to row address signal RAD. The row decoder 21 outputs the row address signal R
In response to AD, one of the plurality of word lines in the memory cell array 11 is selected. Therefore, the row decoder 20
And 21 select two word lines in response to one row address signal RAD supplied from the outside. The column decoder 22 selects one of the plurality of column selection lines in response to one column address signal CAD supplied from the outside.

【0036】入出力線対IO1,/IO1〜IO4,/
IO4は、それぞれ増幅駆動回路231〜234と接続
される。増幅駆動回路231は入出力線IO1および/
IO1間の電位差を増幅し、それにより読出バス/RB
US1を駆動する。増幅駆動回路232および233も
増幅駆動回路231と同様に機能する。増幅駆動回路2
34は入出力線IO4および/IO4間の電位差を増幅
し、それにより読出バス/RBUS4を駆動するととも
に、その増幅動作が完了しとき検知信号/φdを生成す
る。
Input / output line pairs IO1, / IO1 to IO4, /
IO4 is connected to amplification drive circuits 231 to 234, respectively. The amplification drive circuit 231 is provided with the input / output lines IO1 and / or
Amplify the potential difference between IO1 and thereby read bus / RB
Drive US1. The amplification drive circuits 232 and 233 also function similarly to the amplification drive circuit 231. Amplification drive circuit 2
Reference numeral 34 amplifies the potential difference between input / output lines IO4 and / IO4, thereby driving read bus / RBUS4 and generating detection signal / φd when the amplifying operation is completed.

【0037】図2は、図1に示されたシングルエンド型
増幅駆動回路231の具体的な構成を示す回路図であ
る。増幅駆動回路232および233もこの増幅駆動回
路231と同様に構成される。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific structure of the single-end type amplifier drive circuit 231 shown in FIG. The amplification drive circuits 232 and 233 are also configured similarly to the amplification drive circuit 231.

【0038】図2を参照して、シングルエンド型増幅駆
動回路231は、差動増幅器30と、バスドライバ32
とを備える。差動増幅器30は、互いに交差接続された
PチャネルMOSトランジスタ301および302と、
トランジスタ301と直列に接続されたNチャネルMO
Sトランジスタ303と、トランジスタ302と直列に
接続されたNチャネルMOSトランジスタ304と、ト
ランジスタ301と並列に接続されたPチャネルMOS
トランジスタ305と、トランジスタ302と並列に接
続されたPチャネルMOSトランジスタ306と、トラ
ンジスタ303および304と直列に接続されたNチャ
ネルMOSトランジスタ307とを備える。入出力線I
O1はトランジスタ303のゲート電極に接続され、入
出力線/IO1はトランジスタ304のゲート電極に接
続される。トランジスタ305〜307のゲート電極に
は、所定の活性化信号φaが与えられる。したがって、
この増幅駆動回路231は活性化信号φaに応答して活
性化され、活性化されると入出力線IO1および/IO
1間の電位差を増幅する。
Referring to FIG. 2, single-ended amplifier drive circuit 231 includes differential amplifier 30 and bus driver 32.
With. The differential amplifier 30 includes P-channel MOS transistors 301 and 302 cross-connected to each other,
N-channel MO connected in series with transistor 301
S-transistor 303, N-channel MOS transistor 304 connected in series with transistor 302, and P-channel MOS transistor connected in parallel with transistor 301
Transistor 305, P-channel MOS transistor 306 connected in parallel with transistor 302, and N-channel MOS transistor 307 connected in series with transistors 303 and 304 are provided. I / O line I
O1 is connected to the gate electrode of the transistor 303, and the input / output line / IO1 is connected to the gate electrode of the transistor 304. A predetermined activation signal φa is applied to the gate electrodes of transistors 305 to 307. Therefore,
This amplification drive circuit 231 is activated in response to activation signal φa, and when activated, input / output lines IO1 and / IO are activated.
The potential difference between 1 is amplified.

【0039】バスドライバ32は、電源ノードと読出バ
ス/RBUS1との間に接続されたPチャネルMOSト
ランジスタ321と、読出バス/RBUS1と接地ノー
ドとの間に接続されたNチャネルMOSトランジスタ3
22と、差動増幅器30の出力ノードN1の電位(出力
電位)を論理的に反転してトランジスタ322のゲート
電極に与えるインバータ323とを備える。トランジス
タ321は所定のプリチャージ信号/φpに応答して導
通状態となり、それにより電源電位Vccを読出バス/
RBUS1に供給する。すなわち、トランジスタ321
は読出バス/RBUS1を電源電位Vccにプリチャー
ジするためのものである。トランジスタ322は差動増
幅器30の出力電位に応答して導通状態となり、それに
より接地電位Vssを読出バス/RBUS1に供給す
る。すなわち、トランジスタ320には読出バス/RB
US1を放電するためのものである。したがって、この
バスドライバ32は差動増幅器30の出力電位に応答し
て読出バス/RBUS1を駆動する。
Bus driver 32 includes P channel MOS transistor 321 connected between the power supply node and read bus / RBUS1 and N channel MOS transistor 3 connected between read bus / RBUS1 and the ground node.
22 and an inverter 323 which logically inverts the potential (output potential) of the output node N1 of the differential amplifier 30 and supplies it to the gate electrode of the transistor 322. Transistor 321 is rendered conductive in response to a predetermined precharge signal / φp, whereby power supply potential Vcc is applied to read bus /.
Supply to RBUS1. That is, the transistor 321
Is for precharging read bus / RBUS1 to power supply potential Vcc. Transistor 322 becomes conductive in response to the output potential of differential amplifier 30, thereby supplying ground potential Vss to read bus / RBUS1. That is, the read bus / RB is included in the transistor 320.
It is for discharging US1. Therefore, bus driver 32 drives read bus / RBUS1 in response to the output potential of differential amplifier 30.

【0040】図3は、図1に示されたダブルエンド型増
幅駆動回路234の具体的な構成を示す回路図である。
図3を参照して、この増幅駆動回路234は、入出力線
IO4および/IO4間の電位差を増幅する差動増幅器
30と、差動増幅器30の出力電位に応答して読出バス
/RBUS4を駆動するバスドライバ32と、検知回路
34とを備える。この差動増幅器30は、図2の差動増
幅器30とほぼ同様に構成される。ただし、トランジス
タ303のゲート電極には入出力線IO4が接続され、
トランジスタ304のゲート電極には入出力線/IO4
が接続される。このバスドライバ32は図2のバスドラ
イバ32とほぼ同様に構成される。ただし、このバスド
ライバ32の出力ノードは読出バス/RBUS4と接続
される。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific structure of the double end type amplifier drive circuit 234 shown in FIG.
Referring to FIG. 3, amplification drive circuit 234 drives differential bus 30 for amplifying the potential difference between input / output lines IO4 and / IO4, and read bus / RBUS4 in response to the output potential of differential amplifier 30. The bus driver 32 and the detection circuit 34 are provided. The differential amplifier 30 has a structure similar to that of the differential amplifier 30 shown in FIG. However, the input / output line IO4 is connected to the gate electrode of the transistor 303,
The gate electrode of the transistor 304 has an input / output line / IO4
Is connected. The bus driver 32 has a configuration similar to that of the bus driver 32 shown in FIG. However, the output node of the bus driver 32 is connected to the read bus / RBUS4.

【0041】検知回路34は、電源ノードと出力制御線
24との間に接続されたPチャネルMOSトランジスタ
341と、出力制御線24と接地ノードとの間に接続さ
れたNチャネルMOSトランジスタ342と、差動増幅
器30の出力ノードN1およびN2と接続されるAND
ゲート343と、ANDゲート343の出力と所定の活
性化信号/φeとを受けるNORゲート344とを備え
る。トランジスタ341は上記プリチャージ信号/φp
に応答して導通状態となり、それにより電源電位Vcc
を出力制御線24に供給する。すなわち、このトランジ
スタ341は出力制御線24を電源電位Vccにプリチ
ャージするためのものである。トランジスタ342はN
ORゲート344の出力に応答して導通状態となり、出
力制御線24に接地電位Vssを供給する。すなわち、
トランジスタ342は出力制御線24を放電するための
ものである。したがって、この検知回路34は、差動増
幅器30の出力ノードN1およびN2の一方の電位がH
レベルでかつ他方の電位がLレベルとなったとき、Lレ
ベルの活性化信号/φdを生成する。
The detection circuit 34 includes a P-channel MOS transistor 341 connected between the power supply node and the output control line 24, an N-channel MOS transistor 342 connected between the output control line 24 and the ground node. AND connected to the output nodes N1 and N2 of the differential amplifier 30
A gate 343 and a NOR gate 344 receiving the output of AND gate 343 and a predetermined activation signal / φe are provided. The transistor 341 is the above precharge signal / φp.
In response to the power supply potential Vcc
Are supplied to the output control line 24. That is, the transistor 341 is for precharging the output control line 24 to the power supply potential Vcc. The transistor 342 is N
In response to the output of the OR gate 344, it becomes conductive and supplies the ground potential Vss to the output control line 24. That is,
The transistor 342 is for discharging the output control line 24. Therefore, in the detection circuit 34, the potential of one of the output nodes N1 and N2 of the differential amplifier 30 is H.
When the potential of the other level becomes L level, the activation signal / φd of L level is generated.

【0042】再び図1を参照して、読出バス/RBUS
1〜/RBUS4はそれぞれ出力バッファ251〜25
4に接続される。出力制御線24は、すべての出力バッ
ファ251〜254に接続される。また、出力バッファ
251〜254はそれぞれデータ出力端子261〜26
4に接続される。
Referring again to FIG. 1, read bus / RBUS
1 to / RBUS4 are output buffers 251 to 25, respectively.
4 is connected. The output control line 24 is connected to all the output buffers 251 to 254. The output buffers 251 to 254 have data output terminals 261 to 26, respectively.
4 is connected.

【0043】図4は、図1に示された出力バッファ25
1の具体的な構成を示す回路図である。出力バッファ2
52〜254もこの出力バッファ251と同様に構成さ
れる。
FIG. 4 shows the output buffer 25 shown in FIG.
It is a circuit diagram which shows the specific structure of 1. Output buffer 2
52 to 254 are also configured similarly to this output buffer 251.

【0044】図4参照して、出力バッファ251は、電
源ノードとデータ出力端子261との間に接続されたN
チャネルMOSトランジスタ361と、データ出力端子
261と接地ノードとの間に接続されたNチャネルMO
Sトランジスタ362と、読出バス/RBUS1の電位
と上記活性化信号/φdとを受ける論理ゲート363
と、読出バス/RBUS1の電位を論理的に反転させる
インバータ365と、インバータ365の出力と上記活
性化信号/φdとを受ける論理ゲート364と、論理ゲ
ート363の出力をトランジスタ361のゲート電極に
与えるための直列に接続されたインバータ366および
367と、論理ゲート364の出力をトランジスタ36
2のゲート電極に与えるための直列に接続されたインバ
ータ368および369とを備える。したがって、この
出力バッファ251は活性化信号/φdに応答して活性
化され、活性化されると読出バス/RBUS1の電位に
応答して出力データDQをデータ出力端子261に供給
する。
Referring to FIG. 4, output buffer 251 is an N buffer connected between a power supply node and data output terminal 261.
A channel MOS transistor 361 and an N channel MO connected between the data output terminal 261 and the ground node.
Logic gate 363 receiving S transistor 362, the potential of read bus / RBUS1 and activation signal / φd.
An inverter 365 for logically inverting the potential of the read bus / RBUS1, a logic gate 364 receiving the output of the inverter 365 and the activation signal / φd, and an output of the logic gate 363 to the gate electrode of the transistor 361. And inverters 366 and 367 connected in series for the output of the logic gate 364.
Inverters 368 and 369 connected in series for supplying the two gate electrodes. Therefore, output buffer 251 is activated in response to activation signal / φd, and when activated, supplies output data DQ to data output terminal 261 in response to the potential of read bus / RBUS1.

【0045】次に、このDRAMの動作を説明する。ま
ず初期状態においては、Lレベルの活性化信号φaが増
幅駆動回路231〜234内の差動増幅器30に与えら
れている。Lレベルの活性化信号φaは差動増幅器30
内のトランジスタ305〜307のゲート電極に与えら
れるので、トランジスタ305および306は導通状態
となり、トランジスタ307は非導通状態となる。した
がって、この差動増幅器30は不活性状態にあり、出力
ノードN1およびN2の電位はともにHレベルとなって
いる。
Next, the operation of this DRAM will be described. First, in the initial state, L level activation signal φa is applied to differential amplifier 30 in amplification drive circuits 231 to 234. The L-level activation signal φa is supplied to the differential amplifier 30.
Since it is applied to the gate electrodes of the transistors 305 to 307 therein, the transistors 305 and 306 are turned on and the transistor 307 is turned off. Therefore, differential amplifier 30 is inactive, and the potentials of output nodes N1 and N2 are both at H level.

【0046】また、Lレベルのプリチャージ信号/φp
は、バスドライバ32および検知回路34内のトランジ
スタ321,341に与えられている。したがって、ト
ランジスタ321,341は導通状態にあるので、読出
バス/RBUS1〜/RBUS4および出力制御線24
はすべてHレベルにプリチャージされている。なお、H
レベルの活性化信号/φeが検知回路34内のNORゲ
ート344に与えられているので、ANDゲート343
の出力に関係なく常にLレベルの出力をトランジスタ3
42のゲート電極に与えている。したがって、トランジ
スタ342は非導通状態にある。
Further, an L level precharge signal / φp
Are provided to the transistors 321 and 341 in the bus driver 32 and the detection circuit 34. Therefore, since transistors 321 and 341 are in the conductive state, read buses / RBUS1 to / RBUS4 and output control line 24 are provided.
Are all precharged to H level. In addition, H
Since the level activation signal / φe is applied to the NOR gate 344 in the detection circuit 34, the AND gate 343.
Output of transistor 3 regardless of the output of
42 to the gate electrode. Therefore, the transistor 342 is off.

【0047】Hレベルの検知信号/φdは出力制御線2
4を介して出力バッファ251〜254内の論理ゲート
363および364に与えられている。したがって、論
理ゲート363の出力は読出バス/RBUS1の電位に
関係なく常にLレベルとなっている。また、論理ゲート
364の出力の読出バス/RBUS1の電位に関係なく
常にLレベルとなっている。したがって、トランジスタ
361および362のゲート電極にはLレベルの電位が
与えられるため、トランジスタ361および362はと
もに非導通状態となっている。そのため、すべてのデー
タ出力端子261〜264は高インピーダンス状態にあ
る。
The H level detection signal / φd is the output control line 2
4 to logic gates 363 and 364 in the output buffers 251 to 254. Therefore, the output of logic gate 363 is always at the L level regardless of the potential of read bus / RBUS1. Further, it is always at the L level regardless of the potential of the read bus / RBUS1 of the output of the logic gate 364. Therefore, an L-level potential is applied to the gate electrodes of transistors 361 and 362, so that transistors 361 and 362 are both non-conductive. Therefore, all the data output terminals 261 to 264 are in a high impedance state.

【0048】次いで、外部から1つの行アドレス信号R
ADが供給されると、行デコーダ20はメモリセルアレ
イ10内の1つのワード線を選択し、そのワード線の電
位を上昇させるとともに、行デコーダ21は、メモリセ
ルアレイ11内の1つのワード線を選択し、その選択さ
れたワード線の電位を上昇させる。ワード線の電位が上
昇すると、そのワード線に接続されたすべてのアクセス
トランジスタが導通状態となり、その選択されたワード
線に接続されたすべてのメモリセルからすべてのビット
線対にデータが読出される。
Then, one row address signal R is externally applied.
When AD is supplied, the row decoder 20 selects one word line in the memory cell array 10, raises the potential of the word line, and the row decoder 21 selects one word line in the memory cell array 11. Then, the potential of the selected word line is raised. When the potential of the word line rises, all access transistors connected to the word line become conductive, and data is read from all memory cells connected to the selected word line to all bit line pairs. .

【0049】図5は、メモリセルブロックB1内のメモ
リセルMC1にHレベルのデータが格納されている場合
の読出動作を示すタイミングチャートである。図5
(a)に示されるように、ワード線WL1の電位が時刻
t1でLレベルからHレベルに立上がると、メモリセル
MC1内のアクセストランジスタ121は導通状態とな
る。セルキャパシタ131にはHレベルの電荷が蓄積さ
れているので、その電荷がアクセストランジスタ121
を介してビット線BL1に流れ出す。そのため、図5
(b)に示されるように、ビット線BL1の電位だけが
わずかに上昇し、これによりビット線BL1および/B
L1の間に電位差が生じる。次いで、時刻t2でセンス
アンプ141が活性化されると、ビット線BL1の電位
はHレベルまで上昇し、ビット線/BL1の電位はLレ
ベルまで下降する。
FIG. 5 is a timing chart showing a read operation when H-level data is stored in the memory cell MC1 in the memory cell block B1. Figure 5
As shown in (a), when the potential of word line WL1 rises from the L level to the H level at time t1, access transistor 121 in memory cell MC1 becomes conductive. Since H-level charges are accumulated in the cell capacitor 131, the charges are stored in the access transistor 121
Through the bit line BL1. Therefore,
As shown in (b), only the potential of the bit line BL1 slightly rises, which causes the bit lines BL1 and / B
A potential difference occurs between L1. Then, when sense amplifier 141 is activated at time t2, the potential of bit line BL1 rises to the H level and the potential of bit line / BL1 falls to the L level.

【0050】次いで図5(h)に示されるように、活性
化信号/φeが時刻t3でHレベルからLレベルに立下
がると、図3の検知回路34が活性化される。しかし、
図3の差動増幅器30は未だ活性化されていないので、
出力ノードN1およびN2の電位はともにHレベルのま
まにされている。したがって、ANDゲート343の出
力はHレベルのまま維持され、それによりNORゲート
344の出力はLレベルのまま維持されている。そのた
め、トランジスタ342は非導通状態のまま維持されて
いるので、活性化信号/φdは図5(φ)に示されるよ
うにHレベルのまま維持されている。
Then, as shown in FIG. 5 (h), when activation signal / φe falls from H level to L level at time t3, detection circuit 34 of FIG. 3 is activated. But,
Since the differential amplifier 30 of FIG. 3 has not been activated yet,
The potentials of output nodes N1 and N2 are both kept at H level. Therefore, the output of the AND gate 343 is maintained at the H level, so that the output of the NOR gate 344 is maintained at the L level. Therefore, since the transistor 342 is maintained in the non-conductive state, the activation signal / φd is maintained at the H level as shown in FIG. 5 (φ).

【0051】次いで、外部から1つの列アドレス信号C
ADが供給されると、列デコーダ22は1つの列選択線
を選択し、その選択された列選択線の電位を上昇させ
る。たとえば図5(c)に示されるように、列選択線C
SLの電位が時刻t4でLレベルからHレベルに立上が
ると、列選択ゲートCS1〜CS4がすべて導通状態と
なり、それによりビット線対BL1,/BL1〜BL
4,/BL4上のデータがそれぞれ入出力線対IO1,
/IO1〜IO4,/IO4に伝達される。したがっ
て、図5(d)に示されるように、入出力線IO1の電
位は入出力線/IO1の電位よりも高くなり、入出力線
IO1および/IO1間に電位差が生じる。
Then, one column address signal C is externally applied.
When AD is supplied, the column decoder 22 selects one column selection line and raises the potential of the selected column selection line. For example, as shown in FIG. 5C, the column selection line C
When the potential of SL rises from the L level to the H level at time t4, all column selection gates CS1 to CS4 are rendered conductive, whereby bit line pairs BL1, / BL1 to BL1.
4, the data on / BL4 is the input / output line pair IO1, respectively.
It is transmitted to / IO1 to IO4 and / IO4. Therefore, as shown in FIG. 5D, the potential of input / output line IO1 becomes higher than the potential of input / output line / IO1, and a potential difference occurs between input / output lines IO1 and / IO1.

【0052】列選択線CSLが選択される時刻t4に、
図5(e)および(f)に示されるように、プリチャー
ジ信号/φpおよび活性化信号φaがともにLレベルか
らHレベルに立上がる。プリチャージ信号/φpがHレ
ベルになると、バスドライバ32内のトランジスタ32
1が非導通状態となるので、読出バス/RBUS1〜/
BUS4に電源電位Vccが供給されなくなる。また、
検知回路34内のトランジスタ341も非導通状態とな
るので、出力制御線24にも電源電位Vccが供給され
なくなる。しかし、読出バス/RBUS1〜/RBUS
4および出力制御線24は電気的にフローティング状態
にあるため、それらの電位はHレベルのまま維持され
る。他方、活性化信号φaがHレベルになると、増幅駆
動回路231〜234内の差動増幅器30が活性化され
る。たとえば図2に示された増幅駆動回路231におい
ては、Hレベルの活性化信号φaが差動増幅器30内の
トランジスタ305〜307のゲート電極に与えられる
と、トランジスタ305および306は非導通状態とな
り、トランジスタ307は導通状態となる。ここで、ト
ランジスタ303のゲート電極に与えられる入出力線I
O1の電位はトランジスタ304のゲート電極に与えら
れる入出力線/IO1の電位よりも高いので、トランジ
スタ303が導通状態となり、これにより出力ノードN
1の電位が低下する。この出力ノードN1の電位はトラ
ンジスタ302のゲート電極に与えられるので、トラン
ジスタ302が導通状態となる。したがって、出力ノー
ドN2の電位が上昇する。このように、差動増幅器30
が活性化されると出力ノードN1の電位がLレベルとな
るので、バスドライバ32内のトランジスタ322のゲ
ート電極にLレベルの電位が与えられ、これによりトラ
ンジスタ322が導通状態となる。したがって、読出バ
ス/RBUS1はトランジスタ322によって放電さ
れ、図5(g)に示されるように、時刻t5で読出バス
/RBUS1の電位はHレベルからLレベルに立下が
る。
At time t4 when the column selection line CSL is selected,
As shown in FIGS. 5E and 5F, both precharge signal / φp and activation signal φa rise from the L level to the H level. When the precharge signal / φp goes high, the transistor 32 in the bus driver 32
1 becomes non-conductive, so read bus / RBUS1 to //
The power supply potential Vcc is not supplied to BUS4. Also,
Since the transistor 341 in the detection circuit 34 also becomes non-conductive, the power supply potential Vcc is not supplied to the output control line 24 either. However, read bus / RBUS1 to / RBUS
4 and the output control line 24 are in an electrically floating state, their potentials are maintained at the H level. On the other hand, when the activation signal φa goes high, the differential amplifier 30 in the amplification drive circuits 231-234 is activated. For example, in amplification drive circuit 231 shown in FIG. 2, when activation signal φa at H level is applied to the gate electrodes of transistors 305 to 307 in differential amplifier 30, transistors 305 and 306 are rendered non-conductive, The transistor 307 is turned on. Here, the input / output line I applied to the gate electrode of the transistor 303
Since the potential of O1 is higher than the potential of the input / output line / IO1 given to the gate electrode of the transistor 304, the transistor 303 becomes conductive, which causes the output node N
The potential of 1 decreases. Since the potential of output node N1 is applied to the gate electrode of transistor 302, transistor 302 is rendered conductive. Therefore, the potential of output node N2 rises. In this way, the differential amplifier 30
Is activated, the potential of the output node N1 becomes L level, so that the potential of L level is applied to the gate electrode of the transistor 322 in the bus driver 32, whereby the transistor 322 becomes conductive. Therefore, read bus / RBUS1 is discharged by transistor 322, and the potential of read bus / RBUS1 falls from the H level to the L level at time t5, as shown in FIG. 5 (g).

【0053】この増幅駆動回路231内の差動増幅器3
0と同様に増幅駆動回路234内の差動増幅器30が活
性化されると、その出力ノードN1およびN2の一方の
電位がLレベルとなり、他方の電位はHレベルのまま維
持されるので、検知回路34内のANDゲート343の
出力はHレベルからLレベルに変化する。このとき、活
性化信号/φeは既にLレベルとなっているので、NO
Rゲート344の出力はLレベルからHレベルに変化す
る。これによりトランジスタ342が導通状態となり、
出力制御線24がトランジスタ342によって放電され
る。したがって、図5(i)に示されるように、検知信
号/φdは時刻t5でHレベルからLレベルに立下が
る。
The differential amplifier 3 in this amplification drive circuit 231
When the differential amplifier 30 in the amplification drive circuit 234 is activated similarly to 0, one of the potentials of the output nodes N1 and N2 becomes L level and the other potential is maintained at H level. The output of the AND gate 343 in the circuit 34 changes from H level to L level. At this time, since the activation signal / φe is already at the L level, NO
The output of the R gate 344 changes from the L level to the H level. This turns on the transistor 342,
The output control line 24 is discharged by the transistor 342. Therefore, as shown in FIG. 5 (i), detection signal / φd falls from the H level to the L level at time t5.

【0054】検知信号/φeがLレベルになると、出力
バッファ251〜254がすべて活性化される。たとえ
ば図4に示された出力バッファ251においては、Lレ
ベルの検知信号/φdが論理ゲート363および364
に与えられると、読出バス/RBUS1の電位がLレベ
ルであるため、論理ゲート363の出力はLレベルから
Hレベルに変化する。したがって、トランジスタ361
が導通状態となり、これにより図5(j)に示されるよ
うに出力データDQがHレベルとなる。
When detection signal / φe attains L level, output buffers 251 to 254 are all activated. For example, in output buffer 251 shown in FIG. 4, detection signal / φd of L level is applied to logic gates 363 and 364.
, The output of the logic gate 363 changes from the L level to the H level because the potential of the read bus / RBUS1 is at the L level. Therefore, the transistor 361
Becomes conductive, and the output data DQ becomes H level as shown in FIG. 5 (j).

【0055】一方、メモリセルブロックB1内のメモリ
セルMC1にLレベルのデータが格納されている場合
は、増幅駆動回路231内の差動増幅器30が活性化さ
れても読出バス/RBUS1の電位はHレベルのまま維
持される。しかし、上記の場合と同様に増幅駆動回路2
34内の差動増幅器30が活性化されその動作を完了す
ると、検知信号/φdはHレベルからLレベルに立下が
る。したがって、出力バッファ251が活性化され、そ
の出力バッファ251内のトランジスタ362が導通状
態となるので、出力データDQはLレベルとなる。
On the other hand, when L-level data is stored in memory cell MC1 in memory cell block B1, the potential of read bus / RBUS1 remains the same even when differential amplifier 30 in amplification drive circuit 231 is activated. It is maintained at the H level. However, as in the above case, the amplification drive circuit 2
When differential amplifier 30 in 34 is activated and its operation is completed, detection signal / φd falls from H level to L level. Therefore, output buffer 251 is activated, and transistor 362 in output buffer 251 is rendered conductive, so that output data DQ attains L level.

【0056】以上、メモリセルブロックB1からの読出
動作を説明したが、ブロックB2〜B4からの読出動作
もこれと同様である。
Although the read operation from the memory cell block B1 has been described above, the read operation from the blocks B2 to B4 is similar to this.

【0057】したがって、この実施例によれば、図6に
示された従来のDRAMと異なり、各メモリセルブロッ
クに対応して1つの読出バスが設けられているため、そ
のチップ面積は従来のそれよりも小さくなる。また、各
メモリセルブロックに対応して1つの読出バスが設けら
れているにもかかわらず、出力バッファ251〜254
は増幅駆動回路234内の差動増幅器30の動作が完了
した後に活性化されるため、有効でないデータが出力さ
れることはない。さらに、各メモリセルブロックに対応
して2つの読出バスが設けられている従来の場合と同様
に、読出バス/RBUS1〜/RBUS4上に有効なデ
ータが現われたときには既に出力バッファ251〜25
4は活性化されているため、増幅駆動回路231〜23
4内の差動増幅器30の動作が完了した後直ちに、出力
バッファ251〜264から出力データDQ1〜DQ4
が出力される。したがって、このDRAMのチップ面積
は小さく、しかもデータの読出速度が速い。
Therefore, according to this embodiment, unlike the conventional DRAM shown in FIG. 6, since one read bus is provided corresponding to each memory cell block, its chip area is smaller than that of the conventional DRAM. Will be smaller than. Further, although one read bus is provided corresponding to each memory cell block, output buffers 251 to 254 are provided.
Is activated after the operation of the differential amplifier 30 in the amplification drive circuit 234 is completed, so that invalid data is not output. Further, similarly to the conventional case where two read buses are provided corresponding to each memory cell block, when valid data appears on read buses / RBUS1 to / RBUS4, output buffers 251 to 25 have already been output.
Since 4 is activated, the amplification drive circuits 231 to 23
Immediately after the operation of the differential amplifier 30 in 4 is completed, the output data DQ1 to DQ4 from the output buffers 251 to 264
Is output. Therefore, the chip area of this DRAM is small and the data reading speed is high.

【0058】以上、この発明の一実施例を詳述したが、
この発明の範囲は上述した実施例によって限定されるも
のではない。
The embodiment of the present invention has been described in detail above.
The scope of the present invention is not limited to the above embodiments.

【0059】たとえば上述した実施例では複数のワード
線が2つのメモリセルブロックにわたって配置され、2
つのメモリセルブロックにおいて共通化されているが、
各メモリセルブロックに対応して複数のワード線が配置
されていてもよい。ただしこの場合は、各メモリセルブ
ロックに対応して1つの行デコーダが配置される。ま
た、上述した実施例では4つのメモリセルブロックに対
応して複数の列選択線が配置されているが、2つのメモ
リセルブロックに対応して複数の列選択線が設けられて
もよく、さらに1つのメモリセルアレイブロックに対応
して複数の列選択線が設けられてもよい。ただし、2つ
のメモリセルブロックに対応して複数の列選択線が配置
される場合は、2つのメモリセルブロックに対応して1
つの列デコーダが配置される。また、1つのメモリセル
ブロックに対応して複数の列選択線が配置される場合
は、1つのメモリセルブロックに対応して1つの列デコ
ーダが配置される。
For example, in the above-described embodiment, a plurality of word lines are arranged over two memory cell blocks and 2
It is shared by the two memory cell blocks,
A plurality of word lines may be arranged corresponding to each memory cell block. However, in this case, one row decoder is arranged corresponding to each memory cell block. Further, in the above-described embodiment, a plurality of column selection lines are arranged corresponding to four memory cell blocks, but a plurality of column selection lines may be provided corresponding to two memory cell blocks. A plurality of column selection lines may be provided corresponding to one memory cell array block. However, when a plurality of column selection lines are arranged corresponding to two memory cell blocks, 1 is set corresponding to two memory cell blocks.
One column decoder is arranged. When a plurality of column selection lines are arranged corresponding to one memory cell block, one column decoder is arranged corresponding to one memory cell block.

【0060】また、上述した実施例では×4構成のDR
AMにこの発明を適用した例を説明したが、×8構成、
×16構成など、あらゆる多ビット構成のDRAMにこ
の発明を適用することが可能である。さらに、DRAM
だけでなく、スタティックランダムアクセスメモリ(S
RAM)にもこの発明を適用することは可能であるな
ど、この発明はその趣旨を逸脱しない範囲内で当業者の
知識に基づき種々の改良、修正、変形などを加えた態様
で実施し得るものである。
Further, in the above-mentioned embodiment, the DR of the x4 configuration is used.
An example of applying the present invention to AM has been described.
The present invention can be applied to any multi-bit DRAM such as a × 16 configuration. Furthermore, DRAM
Not only static random access memory (S
The present invention can also be applied to RAM) and the like, and the present invention can be implemented in a mode in which various improvements, modifications and variations are added based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Is.

【0061】[0061]

【発明の効果】請求項1に係る半導体記憶装置によれ
ば、各メモリセルブロックに対応して1つのデータバス
が設けられているため、各メモリセルブロックに対応し
て2つのデータバスが設けられている場合よりチップ面
積が小さくなる。また、このように各メモリセルブロッ
クに対応して1つのデータバスが設けられているにもか
かわらず、少なくとも1つの増幅状態の動作が完了した
ときに複数の出力手段が活性化されるため、有効でない
データが出力されることはなく、しかも増幅手段の動作
が完了すると直ちに有効な出力データが出力される。し
たがって、各メモリセルブロックに対応して2つのデー
タバスが設けられている場合と同等の速度でデータを読
出すことが可能である。
According to the semiconductor memory device of the first aspect, since one data bus is provided corresponding to each memory cell block, two data buses are provided corresponding to each memory cell block. The chip area is smaller than that of the above case. Further, even though one data bus is provided corresponding to each memory cell block as described above, a plurality of output means are activated when the operation in at least one amplification state is completed, Ineffective data will not be output, and effective output data will be output as soon as the operation of the amplifying means is completed. Therefore, it is possible to read data at the same speed as when two data buses are provided corresponding to each memory cell block.

【0062】請求項2に係る半導体記憶装置によれば、
各メモリセルブロックに対応して1つのデータバスが設
けられているため、各メモリセルブロックに対応して2
つのデータバスが設けられている場合よりもチップ面積
が小さくなる。また、このように各メモリセルブロック
に対応して1つのデータバスが設けられているにもかか
わらず、少なくとも1つの差動増幅手段の動作が完了す
ると複数の出力手段が活性化されるため、有効でないデ
ータが出力されることはなく、しかも差動増幅手段の動
作が完了すると直ちに有効なデータが出力される。した
がって、各メモリセルブロックに対応して2つのデータ
バスが設けられている場合と同等の速度でデータを読出
すことが可能である。
According to the semiconductor memory device of the second aspect,
Since one data bus is provided corresponding to each memory cell block, two data buses are provided corresponding to each memory cell block.
The chip area is smaller than when two data buses are provided. Further, even though one data bus is provided corresponding to each memory cell block as described above, a plurality of output means are activated when the operation of at least one differential amplifying means is completed, Ineffective data is not output, and effective data is output as soon as the operation of the differential amplifying means is completed. Therefore, it is possible to read data at the same speed as when two data buses are provided corresponding to each memory cell block.

【0063】請求項3に係る半導体記憶装置によれば、
上記請求項2の効果に加えて、制御信号に応答して第3
の電位が出力制御線に供給され、かつ上記1つの差動増
幅手段の出力電位に応答して第4の電位がその出力制御
線に供給されるため、複数のデータバスに第1および第
2の電位を供給するための構成とほぼ同様に構成され
る。したがって、簡単な構成の半導体記憶装置を実現す
ることができる。
According to the semiconductor memory device of the third aspect,
In addition to the effect of claim 2, a third signal is generated in response to the control signal.
Is supplied to the output control line, and the fourth potential is supplied to the output control line in response to the output potential of the one differential amplifying means. Therefore, the plurality of data buses are connected to the first and second data buses. The configuration is almost the same as the configuration for supplying the potential. Therefore, a semiconductor memory device having a simple structure can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の一実施例によるDRAMの全体構
成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a DRAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1中のシングルエンド型増幅駆動回路の具
体的な構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a single-end type amplification drive circuit in FIG.

【図3】 図1中のダブルエンド型増幅駆動回路の具体
的な構成を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific configuration of a double end type amplifier drive circuit in FIG.

【図4】 図1中の出力バッファの具体的な構成を示す
回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific configuration of the output buffer in FIG.

【図5】 図1に示されたDRAMの読出動作を示すタ
イミングチャートである。
5 is a timing chart showing a read operation of the DRAM shown in FIG. 1. FIG.

【図6】 従来のDRAMの全体構成を示すブロック図
である。
FIG. 6 is a block diagram showing an overall configuration of a conventional DRAM.

【図7】 図6中の増幅駆動回路の具体的な構成を示す
回路図である。
7 is a circuit diagram showing a specific configuration of the amplification drive circuit in FIG.

【図8】 図6中の出力バッファの具体的な構成を示す
回路図である。
8 is a circuit diagram showing a specific configuration of an output buffer in FIG.

【図9】 図6に示された従来のDRAMの動作を示す
タイミングチャートである。
9 is a timing chart showing an operation of the conventional DRAM shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,11 メモリセルアレイ、20,21 行デコー
ダ、22 列デコーダ、231〜234 増幅駆動回
路、24 出力制御線、251〜254 出力バッフ
ァ、30 差動増幅器、32 バスドライバ、34 検
知回路、MC1〜MC4 メモリセル、BL1,/BL
1〜BL4,/BL4 ビット線対、WL1,WL2
ワード線、CS1〜CS4 列選択ゲート、CSL 列
選択線、B1〜B4 メモリセルブロック、IO1,/
IO1〜IO4,/IO4 入出力線対、RBUS1,
/RBUS〜RBUS4,/RBUS4 読出バス、D
Q1〜DQ4 出力データ。
10, 11 memory cell array, 20, 21 row decoder, 22 column decoder, 231-234 amplification drive circuit, 24 output control line, 251-254 output buffer, 30 differential amplifier, 32 bus driver, 34 detection circuit, MC1-MC4 Memory cell, BL1, / BL
1 to BL4, / BL4 bit line pair, WL1, WL2
Word lines, CS1 to CS4 column select gates, CSL column select lines, B1 to B4 memory cell blocks, IO1, /
IO1 to IO4, / IO4 I / O line pair, RBUS1,
/ RBUS to RBUS4, / RBUS4 Read bus, D
Q1 to DQ4 output data.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれが複数のメモリセルを含む複数
のメモリセルブロックと、 外部から供給される1つのアドレス信号に応答して前記
複数のメモリセルブロックのそれぞれにおいて1つのメ
モリセルを選択する選択手段と、 前記選択手段によって選択されたメモリセルからデータ
を読出す読出手段と、 前記複数のメモリセルブロックに対応して設けられ、そ
れぞれが対応するメモリセルブロックにおける1つのメ
モリセルから読出されたデータを増幅する複数の増幅手
段と、 前記複数の増幅手段のうち少なくとも1つがその動作を
完了したことを検知しかつ所定の検知信号を発生する検
知手段と、 前記複数の増幅手段に対応して設けられ、それぞれが対
応する増幅手段に接続される複数のデータバスと、 前記複数のデータバスに対応して設けられ、それぞれが
前記検知手段から供給される検知信号に応答して活性化
されかつ対応する増幅手段からデータバスを介して供給
されるデータを外部に供給する複数の出力手段とを備え
た半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cell blocks each including a plurality of memory cells, and a selection for selecting one memory cell in each of the plurality of memory cell blocks in response to one address signal supplied from the outside. Means, a reading means for reading data from the memory cell selected by the selecting means, and a read means provided corresponding to the plurality of memory cell blocks, each of which is read from one memory cell in the corresponding memory cell block. A plurality of amplifying means for amplifying data, a detecting means for detecting that at least one of the plurality of amplifying means has completed its operation and generating a predetermined detection signal, and corresponding to the plurality of amplifying means A plurality of data buses, each of which is provided and connected to the corresponding amplifying means, and corresponds to the plurality of data buses. And a plurality of output means, each of which is activated in response to a detection signal supplied from the detection means and supplies the data supplied from the corresponding amplification means via the data bus to the outside. Semiconductor memory device.
【請求項2】 それぞれが、複数のワード線、前記ワー
ド線と交差する複数のビット線対、および前記ワード線
と前記ビット線対との交点に対応して設けられそれぞれ
が対応するワード線と対応するビット線対の一方と接続
される複数のメモリセルを含む複数のメモリセルブロッ
クと、 外部から供給される1つの行アドレス信号に応答して前
記複数のメモリセルブロックのそれぞれにおいて1つの
ワード線を選択する行選択手段と、 前記複数のメモリセルブロックに対応して設けられる複
数の入出力線対とを備え、 前記複数のメモリセルブロックのそれぞれはさらに、前
記複数のビット線対に対応して設けられ、それぞれが対
応するビット線対と対応する入出力線対との間に接続さ
れる複数の列選択ゲートを含み、 外部から供給される1つの列アドレス信号に応答して前
記複数のメモリセルブロックのそれぞれにおいて1つの
列選択ゲートを導通状態にする列選択手段と、 前記複数の入出力線対に対応して設けられ、それぞれが
対応する入出力線対間の電位差を増幅する複数の差動増
幅手段と、 前記複数の差動増幅手段のうち少なくとも1つがその動
作を完了したことを検知しかつ所定の検知信号を発生す
る検知手段と、 前記複数の差動増幅手段に対応して設けられる複数のデ
ータバスと、 前記複数のデータバスに対応して設けられ、それぞれが
所定の制御信号に応答して対応するデータバスに第1の
電位を供給する複数の第1の電位供給手段と、 前記複数のデータバスに対応して設けられ、それぞれが
対応する差動増幅手段の出力電位に応答して対応するデ
ータバスに第2の電位を供給する複数の第2の電位供給
手段と、 前記複数のデータバスに対応して設けられ、それぞれが
前記検知手段から供給される検知信号に応答して活性化
されかつ対応するデータバスの電位に応答して出力デー
タを外部に供給する複数の出力手段とをさらに備えた半
導体記憶装置。
2. A plurality of word lines, a plurality of bit line pairs intersecting the word lines, and word lines provided corresponding to the intersections of the word lines and the bit line pairs, respectively. A plurality of memory cell blocks including a plurality of memory cells connected to one of the corresponding bit line pairs, and one word in each of the plurality of memory cell blocks in response to one row address signal supplied from the outside. A row selection unit for selecting a line and a plurality of input / output line pairs provided corresponding to the plurality of memory cell blocks are provided, and each of the plurality of memory cell blocks further corresponds to the plurality of bit line pairs. A plurality of column selection gates, each of which is provided between the corresponding bit line pair and the corresponding input / output line pair, and which is supplied from the outside. Column selection means for making one column selection gate conductive in each of the plurality of memory cell blocks in response to a column address signal, and column input means provided corresponding to the plurality of input / output line pairs, each corresponding input / output line pair. A plurality of differential amplifying means for amplifying a potential difference between the output line pair; a detecting means for detecting that at least one of the plurality of differential amplifying means has completed its operation and generating a predetermined detection signal; A plurality of data buses provided corresponding to the plurality of differential amplification means; and a plurality of data buses provided corresponding to the plurality of data buses, each of which has a first potential on a corresponding data bus in response to a predetermined control signal. And a plurality of first potential supply means for supplying a plurality of data buses, and a plurality of second data buses provided to the corresponding data buses in response to the output potentials of the corresponding differential amplifier means. A plurality of second potential supply means for supplying a plurality of potentials and a plurality of data buses provided corresponding to the plurality of data buses, each of which is activated in response to a detection signal supplied from the detection means. A semiconductor memory device further comprising a plurality of output means for supplying output data to the outside in response to a potential.
【請求項3】 前記検知手段から前記複数の出力手段の
それぞれに検知信号を供給するための出力制御線をさら
に備え、 前記検知手段は、 前記制御信号に応答して前記出力制御線に第3の電位を
供給する第3の電位供給手段と、 前記1つの差動増幅手段の出力電位に応答して前記出力
制御線に第4の電位を供給する第4の電位供給手段とを
含む、請求項2に記載の半導体記憶装置。
3. An output control line for supplying a detection signal from the detection means to each of the plurality of output means, wherein the detection means is responsive to the control signal to provide a third output control line to the output control line. A third potential supply means for supplying a fourth potential, and a fourth potential supply means for supplying a fourth potential to the output control line in response to the output potential of the one differential amplification means. Item 3. The semiconductor memory device according to item 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8982645B2 (en) 2010-02-18 2015-03-17 Ps4 Luxco S.A.R.L. Semiconductor storage device

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