JPH0815883A - Forming method of electrophotographic light-receiving member - Google Patents

Forming method of electrophotographic light-receiving member

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JPH0815883A
JPH0815883A JP14472094A JP14472094A JPH0815883A JP H0815883 A JPH0815883 A JP H0815883A JP 14472094 A JP14472094 A JP 14472094A JP 14472094 A JP14472094 A JP 14472094A JP H0815883 A JPH0815883 A JP H0815883A
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JP
Japan
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receiving member
substrate
light
electrophotography
forming
Prior art date
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Application number
JP14472094A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyoshi Akiyama
和敬 秋山
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

PURPOSE:To suppress production of image defects and to obtain an electrophotographic light-receiving member excel lent in durability. CONSTITUTION:This light-receiving member consists of at least a photoconductive layer 102 comprising a material except for a single crystal and a surface layer 103 successively formed on a substrate 101 having conductivity. These layers are formed by plasma CVD method by introducing the source material gas into a vacuum chamber which can be evacuated and decomposing the source material gas by glow discharge to form a deposition film. At least during the photoconductive layer 102 is formed, the difference Vdelta of the potentials between the substrate 101 and the floating potential in the plasma is specified to <=50V.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光(ここでは広義の光で
あって紫外線、可視光線、赤外線、x線、γ線などを意
味する。)の様な電磁波に対して感受性のある電子写真
用光受容部材の形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to electrophotography which is sensitive to electromagnetic waves such as light (in a broad sense, ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, x-rays, γ-rays, etc.). The present invention relates to a method for forming a light receiving member.

【0002】[0002]

【従来の技術】像形成分野において、光受容部材におけ
る光受容層を形成する光導電材料としては、高感度で、
SN比〔光電流(Ip)/暗電流(Id)〕が高く、照
射する電磁波のスペクトル特性に適合した吸収スペクト
ルを有すること、光応答性が早く、所望の暗抵抗値を有
すること、使用時において人体に対して無害であるこ
と、等の特性が要求される。特に、事務機としてオフィ
スで使用される電子写真装置内に組み込まれる電子写真
用光受容部材の場合には、上記の使用時における無公害
性は重要な点である。
2. Description of the Related Art In the field of image formation, a photoconductive material for forming a light receiving layer in a light receiving member has high sensitivity,
High SN ratio [photocurrent (Ip) / dark current (Id)], having an absorption spectrum suitable for the spectral characteristics of the electromagnetic wave to be irradiated, fast photoresponsiveness, having a desired dark resistance value, during use It is required to have characteristics such as being harmless to the human body. Particularly, in the case of an electrophotographic light receiving member incorporated in an electrophotographic apparatus used in an office as an office machine, the pollution-free property at the time of use is an important point.

【0003】このような点に立脚して最近注目されてい
る光導電材料にアモルファスシリコンがあり、その一部
はすでに電子写真用光受容部材として実用化されてい
る。
Amorphous silicon is one of the photoconductive materials that has recently been attracting attention based on this point, and a part thereof has already been put to practical use as a light receiving member for electrophotography.

【0004】このようなアモルファス電子写真用光受容
部材の形成方法として、グロー放電によるプラズマCV
D法(以下、単にプラズマCVD法と表記する)があげ
られる。
As a method for forming such a light receiving member for amorphous electrophotography, plasma CV by glow discharge is used.
D method (hereinafter, simply referred to as plasma CVD method) can be used.

【0005】たとえば特開昭57−115551号公報
には、周波数13.56MHzの電磁波を用いて原料ガ
スを分解、グロー放電を生起する、RFプラズマCVD
法により表面層を堆積する例が開示されている。また特
開昭60−186849号公報には、原料ガスの分解源
として、周波数2.45GHzのマイクロ波を用いたマ
イクロ波プラズマCVD法による堆積膜の形成方法が開
示されている。更に特開平3−219081号公報に
は、マイクロ波プラズマCVD法に、バイアスを印加し
て、堆積膜の特性を向上させた堆積膜の形成方法が開示
されている。
For example, Japanese Patent Laid-Open No. 57-115551 discloses an RF plasma CVD in which an electromagnetic wave having a frequency of 13.56 MHz is used to decompose a raw material gas to cause glow discharge.
An example of depositing a surface layer by the method is disclosed. Further, JP-A-60-186849 discloses a method of forming a deposited film by a microwave plasma CVD method using a microwave having a frequency of 2.45 GHz as a decomposition source of a raw material gas. Further, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 3-219081 discloses a method of forming a deposited film in which a bias is applied to the microwave plasma CVD method to improve the characteristics of the deposited film.

【0006】このような技術により、良好な電気特性を
有する電子写真用光受容部材を供給することが可能とな
った。
With such a technique, it has become possible to supply an electrophotographic light-receiving member having good electrical characteristics.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら近年、電
子写真装置は従来にもまして、高画質化、高速化、高耐
久化等の高付加価値化が追求されると同時に、オフィス
環境等にも配慮してオゾンレス化なども課題となってい
る。特にa−Si電子写真用光受容部材に対しては、オ
ゾンレス化のために、従来のオゾン帯電に代わって接触
帯電方式への対応が急務となっている。
However, in recent years, electrophotographic devices have been pursued to have higher added value such as higher image quality, higher speed, higher durability, etc. than ever before, and at the same time, consideration for office environment and the like. Then, making it ozoneless is another issue. In particular, for the a-Si electrophotographic light-receiving member, there is an urgent need for a contact charging method instead of the conventional ozone charging in order to reduce ozone.

【0008】こうした中で従来のa−Si電子写真用光
受容部材では、a−Si膜堆積中に、球状突起と呼ばれ
る膜の異常成長が発生しやすい。こうした球状突起は、
コピー画像上で「白ポチ」と呼ばれる小さな白い斑点状
の画像欠陥を引き起こすと同時に、長期にわたる使用中
に突起の部分が欠落し、新たな画像欠陥となると同時
に、破片が電子写真用光受容部材表面を摺擦する事で、
傷を誘発する場合もある。またこうした球状突起を中心
に絶縁破壊が生じる場合もあり、これをもとに電子写真
用光受容部材の軸方向一面に帯電不良をおこすいわゆる
「白抜け」現象を引き起こすなど、接触帯電方式への適
応性は良くなかった。
Under such circumstances, in the conventional a-Si electrophotographic light-receiving member, abnormal growth of a film called a spherical protrusion is likely to occur during deposition of the a-Si film. These spherical protrusions
At the same time as causing small white speckled image defects called "white spots" on the copied image, the projections become missing during long-term use and become new image defects. By rubbing the surface,
It may also cause scratches. In addition, dielectric breakdown may occur around these spherical protrusions, and based on this, the so-called "white spot" phenomenon that causes charging failure on the entire axial surface of the electrophotographic light-receiving member is caused. The adaptability was not good.

【0009】こうした背景から、球状突起の発生を抑え
る電子写真用光受容部材の形成方法の開発が強く求めら
れているのが現状である。
Under such circumstances, there is a strong demand for the development of a method for forming a light-receiving member for electrophotography which suppresses the generation of spherical projections.

【0010】(本発明の目的)本発明は、上述のごとき
a−Siで構成された電子写真用光受容部材の形成方法
に於ける諸問題を解決することを目的とするものであ
る。
(Object of the Invention) The object of the present invention is to solve various problems in the method for forming a light-receiving member for electrophotography composed of a-Si as described above.

【0011】即ち、本発明の主たる目的は、球状突起の
発生を抑制し、耐久性に優れ、電位特性、画像特性に優
れた電子写真用光受容部材を、安定して供給し得る手段
となる電子写真用光受容部材の形成方法を提供すること
にある。
That is, the main object of the present invention is a means for suppressing the generation of spherical projections, stably supplying an electrophotographic light-receiving member having excellent durability, potential characteristics and image characteristics. It is to provide a method for forming a light receiving member for electrophotography.

【0012】また、本発明の別の目的は、「白抜け」を
防止しオゾンレスの接触帯電方式に適応性の良い、オフ
ィス環境に配慮した電子写真用光受容部材の形成方法を
提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a method for forming a light-receiving member for electrophotography, which is suitable for an ozoneless contact charging system and which prevents "white spots" and which is environmentally friendly to the office. is there.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の電子写真用光受
容部材の形成方法は、該減圧可能な真空容器内に原料ガ
スを導入し、原料ガスをグロー放電により分解して堆積
膜を形成するプラズマCVD法により、導電性を有する
基体上に、少なくとも非単結晶材料で構成された光導電
層と表面層とを順次形成して成る電子写真用光受容部材
の形成方法であって、少なくとも光導電層形成時に前記
基体とプラズマ中のフローティング電位との電位差Vδ
を50V以下、好ましくは40V以下、最適には30V
以下とするものである。
According to the method for forming a light-receiving member for electrophotography of the present invention, a raw material gas is introduced into the vacuum container capable of depressurizing, and the raw material gas is decomposed by glow discharge to form a deposited film. A method of forming a photoreceptive member for electrophotography, which comprises sequentially forming a photoconductive layer made of at least a non-single-crystal material and a surface layer on a conductive substrate by plasma CVD. The potential difference Vδ between the substrate and the floating potential in the plasma when the photoconductive layer is formed.
50V or less, preferably 40V or less, optimally 30V
It is as follows.

【0014】本発明者は、a−Si電子写真用光受容部
材の球状突起の成長についての解析と、その抑止につい
てさまざまな努力を行ってきた。その結果本発明を見い
だしたものであるが、以下にその内容について説明す
る。
The present inventor has made various efforts to analyze the growth of spherical projections of an a-Si electrophotographic light-receiving member and suppress the growth thereof. As a result, the present invention has been found. The contents will be described below.

【0015】一般に球状突起は、膜中に異物が混入した
場合、それを核として膜が異常成長したものとされてい
る。本発明者はさまざまな条件で電子写真用光受容部材
を作製し、発生した球状突起の断面を観察した。その結
果、これらの球状突起は光導電層の膜の途中から成長し
ているものがほとんどであり、表面層から発生している
ものはなかった。またほとんどの場合実際に球状突起の
中心に核が確認された。さらに核の成分の分析を行った
ところ、ほとんどの場合a−Si膜の破片であった。こ
れらのことから、球状突起の多くの発生原因は、光導電
層の堆積膜形成中に形成装置内で発生したa−Si膜の
微細な剥がれにより破片が、基体表面または、形成中の
堆積膜表面に付着するためであると推測される。
In general, the spherical projection is considered to be an abnormal growth of the film with the foreign matter as a nucleus when the foreign matter is mixed into the film. The present inventor manufactured a light-receiving member for electrophotography under various conditions and observed the cross section of the generated spherical projection. As a result, most of these spherical projections grew from the middle of the film of the photoconductive layer, and none of them occurred from the surface layer. In most cases, a nucleus was actually confirmed at the center of the spherical protrusion. Further analysis of the components of the nuclei revealed that in almost all cases, they were fragments of the a-Si film. From these facts, many of the causes of the spherical projections are generated by the delamination of the a-Si film generated in the forming apparatus during the formation of the deposited film of the photoconductive layer, and the fragments are on the surface of the substrate or the deposited film being formed. It is presumed that this is because of adhesion to the surface.

【0016】この様なa−Si膜の破片を核として球状
突起が成長するところとなるが、こうした過程で成長す
る球状突起は、例えば基体の切削工程や洗浄工程などで
付着したゴミを核にして成長した場合に発生する球状突
起に比べて直径が大きく、画像欠陥として電子写真用光
受容部材の性能に大きな影響を与えるのみならず、絶縁
破壊をおこし易いため、接触帯電に適用した場合「白抜
け」現象を引き起こしやすい。また、球状突起部分が欠
落しやすいため、傷等を誘発することで耐久性を著しく
悪化させるものである。
The spherical projections grow around the fragments of the a-Si film as nuclei. The spherical projections grown in such a process use, for example, dust adhered in the cutting process or cleaning process of the substrate as nuclei. Has a larger diameter than the spherical projections that occur when it grows, and it not only has a large effect on the performance of the electrophotographic light-receiving member as an image defect, but also easily causes dielectric breakdown. It is easy to cause the "whiteout" phenomenon. In addition, since the spherical projections are likely to be lost, the durability is remarkably deteriorated by inducing scratches and the like.

【0017】上記のような解析の結果から、電子写真用
光受容部材の特性改善のためには、光導電層形成中のa
−Si膜の微細な破片が付着することを防止することが
肝要であることがわかった。一方表面層に於いては、電
子写真特性に影響を与えるような球状突起の発生はなか
った。これは、球状突起が膜形成中に次第に径を大きく
して成長して行くため、表面層の下部に形成される光導
電層から発生した球状突起の方が大きく成長するのに対
し、表面層では特性に影響を与えるほど成長しないため
と考えられる。
From the results of the above analysis, in order to improve the characteristics of the electrophotographic light-receiving member, a during formation of the photoconductive layer
It has been found that it is important to prevent the adhesion of fine fragments of the -Si film. On the other hand, in the surface layer, spherical projections that would affect the electrophotographic characteristics were not generated. This is because the spherical projections gradually grow in diameter and grow during film formation, so that the spherical projections generated from the photoconductive layer formed under the surface layer grow larger, whereas the spherical projections grow larger. Then, it is considered that it does not grow so much as to affect the characteristics.

【0018】本発明者の知見によれば、上記のようなa
−Si膜の破片が堆積膜中に取り込まれて球状突起の核
となるのは、おおよそ次のような機構によると推察され
る。堆積膜形成装置内に堆積した膜が剥がれると、微細
な破片となって飛び散る。この時膜の破片は、電気的に
アースと絶縁された状態でプラズマ中を運動することに
なり、プラズマ内の電子とイオンの流れによって、フロ
ーティング電位と呼ばれる電位に帯電する。この様な電
位に帯電された破片が基体の近傍を通る際に、基体表面
または、堆積膜表面近傍に形成されるシースの電位勾配
による静電気力で、基体表面、または、形成中のa−S
i膜表面に付着するものと考えられる。
According to the knowledge of the present inventor,
The reason why the fragments of the —Si film are taken into the deposited film and become the nuclei of the spherical protrusions is presumed to be due to the following mechanism. When the film deposited in the deposited film forming apparatus peels off, it becomes fine fragments and scatters. At this time, the film fragments move in the plasma while being electrically insulated from the ground, and are charged to a potential called floating potential by the flow of electrons and ions in the plasma. When fragments charged to such a potential pass near the substrate, the electrostatic force due to the potential gradient of the sheath formed on the surface of the substrate or near the surface of the deposited film causes electrostatic force due to the potential gradient of the substrate or a-S during formation.
It is considered to be attached to the i-film surface.

【0019】一般にこの様な破片の付着を防止するため
には、堆積膜形成装置内の部品の形状や、表面状態の改
質により、堆積膜の密着性を向上させる手段を採るのが
第一義である。しかしながら、電子写真用光受容部材の
ように、比較的膜厚の厚い堆積膜が必要とされるディバ
イスでは、堆積膜形成中に微小な膜はがれを皆無とする
事は技術的に困難であった。そこで本発明者は、上記の
ような破片が基体または堆積膜表面に付着する際のプロ
セスに着目し、膜はがれが発生した場合であっても、基
体表面または堆積膜表面に破片が付着する確率を減少さ
せる観点から検討を行った。
Generally, in order to prevent the adhesion of such debris, the first means is to improve the adhesion of the deposited film by modifying the shape and surface condition of the parts in the deposited film forming apparatus. Righteous. However, it is technically difficult to eliminate minute film peeling during the formation of a deposited film in a device that requires a relatively thick deposited film, such as a light receiving member for electrophotography. . Therefore, the present inventor paid attention to the process when the above-mentioned debris adheres to the substrate or the deposited film surface, and the probability that the debris will adhere to the substrate surface or the deposited film surface even if film peeling occurs. Was examined from the viewpoint of reducing

【0020】本発明者は上記のような知見に基づき、光
導電層形成時の基体の電位と、フローティング電位との
電位差(Vδ)を変化させて電子写真用光受容部材を形
成する実験を行った。本発明者の実験によれば、Vδを
次第に減少するにしたがって、球状突起の個数はほぼ指
数関数的に減少する傾向が現れた。
Based on the above findings, the present inventor conducted an experiment to form a photoreceptive member for electrophotography by changing the potential difference (Vδ) between the potential of the substrate and the floating potential when the photoconductive layer was formed. It was According to the experiments conducted by the present inventor, the number of spherical projections tended to decrease almost exponentially with decreasing Vδ.

【0021】以上のように、少なくとも光導電層形成時
にVδを50V以下、好ましくは40V以下、最適には
30V以下に制御することによって、球状突起の発生を
抑制する方法を見いだし、本発明を完成するに至ったも
のである。
As described above, a method for suppressing the generation of spherical protrusions was found by controlling Vδ to 50 V or less, preferably 40 V or less, and most preferably 30 V or less at least when forming the photoconductive layer, and completed the present invention. It has come to do.

【0022】以下に図面を用いて本発明の効果及び、本
発明の電子写真用光受容部材の形成方法について具体的
に説明する。
The effects of the present invention and the method for forming the electrophotographic light-receiving member of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0023】本発明によって、形成される電子写真用光
受容部材は、少なくとも非単結晶材料より構成された光
導電層と表面層から構成される。図1は本発明によって
形成される、電子写真用光受容部材の層構成の一例を模
式的に示した図である。図1において、101は基体、
102は光導電層、103は表面層(光導電層102と
表面層103とは電子写真用光受容部材100を構成す
る。)を、それぞれ示している。本発明では、上記の層
構成の他に、例えば光導電層102と基体101の間に
下部電荷注入阻止層、密着層等を設けることもできる。
また、光導電層として、電荷輸送層、電荷発生層等を用
いた、いわゆる機能分離型の層構成もとることができ
る。
The electrophotographic light-receiving member formed according to the present invention comprises at least a photoconductive layer made of a non-single crystal material and a surface layer. FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of the layer structure of a light-receiving member for electrophotography formed by the present invention. In FIG. 1, 101 is a substrate,
Reference numeral 102 denotes a photoconductive layer, and 103 denotes a surface layer (the photoconductive layer 102 and the surface layer 103 constitute the electrophotographic light receiving member 100). In the present invention, in addition to the above layer structure, for example, a lower charge injection blocking layer, an adhesion layer, etc. may be provided between the photoconductive layer 102 and the base 101.
Further, a so-called function-separated layer structure in which a charge transport layer, a charge generation layer, and the like are used as the photoconductive layer can be used.

【0024】本発明者の知見によれば、光導電層中から
成長している球状突起が最も多いことから、いずれの層
構成であっても、少なくとも光導電層形成時にVδが5
0V以下、好ましくは40V以下、最適には30V以下
とすることで、本発明の効果を得ることができる。
According to the knowledge of the present inventor, since most spherical projections grow from the photoconductive layer, Vδ is 5 at least at the time of forming the photoconductive layer in any layer structure.
The effect of the present invention can be obtained by setting it to 0 V or less, preferably 40 V or less, and most preferably 30 V or less.

【0025】また本発明ではVδは電子写真用光受容部
材形成中、一定であっても良いし、必要に応じて変化さ
せることもできる。例えば、光導電層形成時と表面層形
成時で変化させることもできるし、他の層構成を採る場
合でも各層の形成条件に併せて変化させることもでき
る。また同一の層内でも、層形成の初期と後期で変化さ
せることもできる。この様に電子写真用光受容部材形成
中に各層によって、また同一の層内でVδを変化させる
場合であっても、少なくとも光導電層形成時にその上限
が50V以下、好ましくは40V以下、最適には30V
以下とする事が、本発明の効果を得るためには重要であ
る。
In the present invention, Vδ may be constant during the formation of the electrophotographic light-receiving member, or may be changed as necessary. For example, it can be changed at the time of forming the photoconductive layer and at the time of forming the surface layer, or can be changed in accordance with the formation conditions of each layer even when another layer configuration is adopted. Further, even in the same layer, it can be changed in the initial stage and the latter stage of layer formation. Thus, even when Vδ is changed by each layer during the formation of the electrophotographic light-receiving member or within the same layer, the upper limit thereof is at least 50 V or less, preferably 40 V or less, at least at the time of forming the photoconductive layer. Is 30V
The following is important for obtaining the effects of the present invention.

【0026】本発明で、Vδを50V以下、好ましくは
40V以下、最適には30V以下に制御するための具体
的な手段は、さまざまな方法が選択できる。例えばグロ
ー放電に用いる電磁波の周波数、堆積膜の形成に使用さ
れるガス種、ガス流量、圧力などのパラメーターを選択
し、有機的に組み合わせることによっても、Vδを制御
することが可能である。
In the present invention, various methods can be selected as specific means for controlling Vδ to 50 V or less, preferably 40 V or less, and optimally 30 V or less. For example, Vδ can be controlled by selecting parameters such as the frequency of the electromagnetic wave used for glow discharge, the gas species used for forming the deposited film, the gas flow rate, and the pressure, and organically combining them.

【0027】また、本発明においては、堆積膜形成装置
の真空容器(反応容器)内に電極を設置し、この電極と
基体との間に電界を印加する、外部電気バイアスを併用
することも有効であるが、この場合、外部電気バイアス
の電圧や電力、波形等を調整することによってもVδ制
御することができる。
In the present invention, it is also effective to install an electrode in the vacuum container (reaction container) of the deposited film forming apparatus and to use an external electric bias for applying an electric field between the electrode and the substrate. However, in this case, Vδ can also be controlled by adjusting the voltage, power, waveform, etc. of the external electric bias.

【0028】以上のように、本発明に於いてVδを50
V以下、好ましくは40V以下、最適には30V以下と
するための手段は多用に存在するが、どのような方法を
であっても、少なくとも光導電層形成時にVδを50V
以下、好ましくは40V以下、最適には30V以下にす
ることが、本発明の効果を得るうえで重要である。
As described above, Vδ is 50 in the present invention.
There are various means for making V or less, preferably 40 V or less, and most preferably 30 V or less, but whatever method is used, Vδ is 50 V at least at the time of forming the photoconductive layer.
In order to obtain the effects of the present invention, it is important to set the voltage to 40 V or less, and preferably 30 V or less.

【0029】本発明では、グロー放電を発生させるため
の電磁波は、電子写真用光受容部材の生産規模や特性、
原料とされるガス種やVδによって選択されるが、一般
的に入って安定的に放電を維持できるものであれば、い
ずれの周波数であっても差し支えない。しかしながら、
必要とされる電源の市場からの入手の容易さなどの観点
から、RF帯域やVHF帯域、またはマイクロ波等が好
ましいものとして使用される。
In the present invention, the electromagnetic wave for generating glow discharge is produced by the production scale and characteristics of the photoreceptive member for electrophotography,
The frequency is selected according to the type of gas used as a raw material and Vδ, but in general, any frequency can be used as long as it can enter and maintain stable discharge. However,
The RF band, the VHF band, the microwave, or the like is preferably used from the viewpoint of the availability of the required power source from the market.

【0030】さらに上記のようなグロー放電を発生させ
るための電磁波と併用して、外部電気バイアス(以下バ
イアスと表記)を併用するばあい、バイアスとしては、
直流電界や、交流電界、あるいはこれらを重畳したもの
等が有効に使用できる。とくに交流電界に直流電界を印
加した場合は、Vδの制御性などの面から有効である。
また交流電界に重畳する直流電界はセルフバイアスであ
ることもできる。
When an external electric bias (hereinafter referred to as a bias) is also used in combination with the electromagnetic wave for generating glow discharge as described above, the bias is as follows.
A DC electric field, an AC electric field, or a combination thereof can be effectively used. In particular, when a DC electric field is applied to the AC electric field, it is effective in terms of controllability of Vδ.
Further, the DC electric field superimposed on the AC electric field may be self-biased.

【0031】バイアスの波形や電圧、電力は、電子写真
用光受容部材の特性や、原料とされるガス種、Vδ、反
応容器の圧力等によって選択される。交流を採用した場
合には、その周波数はいずれのものであっても本発明に
は有効であるが、MF帯域、RF帯域、VHF帯域、マ
イクロ波等が好ましく、特に10MHz〜550MHz
の範囲が放電の安定性、Vδの制御性などの面から最適
なものとして使用できる。
The bias waveform, voltage, and power are selected depending on the characteristics of the electrophotographic light-receiving member, the type of gas used as a raw material, Vδ, the pressure in the reaction vessel, and the like. When alternating current is used, any frequency is effective for the present invention, but MF band, RF band, VHF band, microwave, etc. are preferable, and particularly 10 MHz to 550 MHz.
Can be used as the optimum range in terms of discharge stability and Vδ controllability.

【0032】尚、本発明に於いては、これらの周波数帯
の範囲は便宜上、MF帯域として、300kHz〜3M
Hz未満、RF帯域として3MHz〜30MHz未満、
VHF帯域として30MHz〜300MHz未満、マイ
クロ波として300MHz以上と定義した。
In the present invention, the range of these frequency bands is, for convenience, an MF band of 300 kHz to 3 M.
Less than Hz, 3 MHz to less than 30 MHz as an RF band,
The VHF band is defined as 30 MHz to less than 300 MHz, and the microwave is defined as 300 MHz or more.

【0033】また本発明において使用される原料ガス
は、電子写真用光受容部材の生産規模や特性、層構成、
グロー放電のための電磁波、Vδによって選択される。
The raw material gases used in the present invention are the production scale and characteristics of the electrophotographic light-receiving member, the layer structure,
Electromagnetic wave for glow discharge, selected by Vδ.

【0034】例えば、図1の層構成の電子写真用光受容
部材を形成する場合、光導電層102は、基本的にシリ
コン原子(Si)を供給し得るSi供給用の原料ガスを
内部が減圧可能な反応容器内に所望のガス状態で導入
し、反応容器内でグロー放電を生起させることで形成さ
れる。
For example, when the electrophotographic light-receiving member having the layer structure shown in FIG. 1 is formed, the inside of the photoconductive layer 102 is basically depressurized from the source gas for supplying Si, which can supply silicon atoms (Si). It is formed by introducing it into a possible reaction vessel in a desired gas state and causing a glow discharge in the reaction vessel.

【0035】本発明において使用されるSi供給用の原
料ガスとなり得る物質としては、SiH4 ,Si2
6 ,Si38 ,Si410等のガス状態の、またはガ
ス化し得る水素化珪素(シラン類)が有効に使用される
ものとして挙げられ、更に層作成時の取り扱い易さ、S
i供給効率の良さ等の点でSiH4 ,Si26 が好ま
しいものとして挙げられる。また、これらのSi供給用
の原料ガスを必要に応じてH2 ,He,Ar,Ne等の
ガスにより希釈して使用してもよい。
Materials that can be used as a raw material gas for supplying Si used in the present invention include SiH 4 , Si 2 H
6 , Si 3 H 8 , Si 4 H 10, etc. in a gas state or gasifiable silicon hydrides (silanes) are mentioned as being effectively used, and further, they are easy to handle during layer formation, S
iH 4 and Si 2 H 6 are mentioned as preferable in terms of good supply efficiency. In addition, these raw material gases for supplying Si may be diluted with a gas such as H 2 , He, Ar, or Ne as needed before use.

【0036】また本発明においては、光導電層102中
に伝導性を制御するための原子を導入することも有効で
あるし、修飾物質として弗素原子等のハロゲン原子を導
入することも有効である。
Further, in the present invention, it is effective to introduce an atom for controlling conductivity into the photoconductive layer 102, and it is also effective to introduce a halogen atom such as a fluorine atom as a modifier. .

【0037】また本発明においては、光導電層102中
に伝導性を制御するための原子を導入することも有効で
あるし、修飾物質として弗素原子等のハロゲン原子を導
入することも有効である。光導電層に、伝導性を制御す
る原子、たとえば、第III 族原子あるいは第V族原子を
構造的に導入するには、層形成の際に、第III 族原子導
入用の原料物質あるいは第V族原子導入用の原料物質を
ガス状態で反応容器中に、光導電層を形成するための他
のガスとともに導入してやればよい。第III 族原子導入
用の原料物質あるいは第V族原子導入用の原料物質とな
り得るものとしては、常温常圧でガス状のまたは、少な
くとも層形成条件下で容易にガス化し得るものが採用さ
れるのが望ましい。そのような第III 族原子導入用の原
料物質として具体的には、硼素原子導入用としては、B
26 ,B410,B59 ,B 511,B610,B
612,B614等の水素化硼素、BF3 ,BCl3
BBr3 等の弗素化硼素等が挙げられる。この他、Al
Cl3 ,GaCl3 ,Ga(CH33 ,InCl3
TlCl3 等も挙げることができる。
In the present invention, in the photoconductive layer 102
It is also effective to introduce atoms to control conductivity.
However, if a halogen atom such as a fluorine atom is introduced as a modifier,
It is also effective to enter. Control the conductivity of the photoconductive layer
Atoms, such as group III or group V atoms,
To introduce structurally, a group III atom conductor must be used during layer formation.
Raw material for import or raw material for introducing Group V atom
Others for forming a photoconductive layer in the reaction vessel in the gas state
It may be introduced together with the gas. Group III atom introduction
Or a raw material for introducing a group V atom.
It can be gaseous or low at room temperature and pressure.
Those that can be easily gasified under the conditions for forming at least layers are used.
It is desirable to be. Sources for introducing such group III atoms
Specifically, as a raw material, for introducing a boron atom, B is used.
2 H6 , BFour HTen, BFive H9 , B Five H11, B6 HTen, B
6 H12, B6 H14Borohydride, BF, etc.3 , BCl3 ,
BBr3 And the like, such as fluorinated boron. Besides this, Al
Cl3 , GaCl3 , Ga (CH3 )3 , InCl3 ,
TlCl3 Etc. can also be mentioned.

【0038】第V族原子導入用の原料物質として本発明
において、有効に使用されるのは、燐原子導入用として
は、PH3 ,P24 等の水素化燐、PH4 I,PF
3 ,PF5 ,PCl3 ,PCl5 ,PBr3 ,PBr
5 ,PI3 等の弗素化燐が挙げられる。この他、AsH
3 ,AsF3 ,AsCL3 ,AsBr3 ,AsF5 ,S
bH3 ,SbF3 ,SbF5 ,SbCl3 ,SbCl
5 ,BiH3 ,BiCl3 ,BiBr3 等も第V族原子
導入用の出発物質の有効なものとして挙げることができ
る。
In the present invention, a raw material for introducing a group V atom is effectively used. For introducing a phosphorus atom, phosphorus hydride such as PH 3 , P 2 H 4 or the like, PH 4 I, PF are used.
3 , PF 5 , PCl 3 , PCl 5 , PBr 3 , PBr
5 , fluorinated phosphorus such as PI 3 may be mentioned. Besides this, AsH
3 , AsF 3 , AsCL 3 , AsBr 3 , AsF 5 , S
bH 3 , SbF 3 , SbF 5 , SbCl 3 , SbCl
5 , BiH 3 , BiCl 3 , BiBr 3 and the like can also be mentioned as effective starting materials for introducing a Group V atom.

【0039】本発明に於て好適に使用し得るハロゲン化
合物としては、具体的には弗素ガス(F2 )、BrF,
ClF,ClF3 ,BrF3 ,BrF5 ,IF3 ,IF
7 等のハロゲン間化合物を挙げることができる。ハロゲ
ン原子を含む珪素化合物、いわゆるハロゲン原子で置換
されたシラン誘導体としては、具体的には、たとえばS
iF4 ,Si26 等のフッ化珪素が好ましいものとし
て挙げることができる。
Halogen compounds which can be preferably used in the present invention are specifically fluorine gas (F 2 ), BrF,
ClF, ClF 3 , BrF 3 , BrF 5 , IF 3 , IF
An interhalogen compound such as 7 can be mentioned. Specific examples of the silicon compound containing a halogen atom, that is, a silane derivative substituted with a halogen atom include, for example, S
Silicon fluorides such as iF 4 and Si 2 F 6 can be mentioned as preferable ones.

【0040】本発明において、光導電層102の層厚は
所望の電子写真特性が得られること及び経済的効果等の
点から適宜所望の値に決定され、好ましくは5〜50μ
m、より好ましくは10〜40μm、最適には15〜3
0μmとされるのが望ましい。
In the present invention, the layer thickness of the photoconductive layer 102 is appropriately determined to a desired value in view of obtaining desired electrophotographic characteristics and economic effects, and is preferably 5 to 50 μm.
m, more preferably 10 to 40 μm, most preferably 15 to 3
It is preferably set to 0 μm.

【0041】基体の温度(Ts)は、層設計にしたがっ
て適宜最適範囲が選択されるが、通常の場合、好ましく
は20〜500℃、より好ましくは50〜480℃、最
適には100〜450℃とするのが望ましい。
The temperature (Ts) of the substrate is appropriately selected in accordance with the layer design, but in the usual case, it is preferably 20 to 500 ° C, more preferably 50 to 480 ° C, most preferably 100 to 450 ° C. Is desirable.

【0042】また本発明の、表面層103として、例え
ばアモルファスシリコンカーバイト(a−SiC)から
なる表面層を設ける場合には、基本的に上記のSiを供
給し得るSi供給用のガスと、炭素原子(C)を供給し
得るC導入用のガスを内部が減圧可能な反応容器内に所
望のガス状態で導入し、反応容器内でグロー放電を生起
させることで形成される。
When a surface layer made of, for example, amorphous silicon carbide (a-SiC) is provided as the surface layer 103 of the present invention, the above-mentioned Si supply gas capable of supplying Si is basically used, It is formed by introducing a gas for introducing C capable of supplying carbon atoms (C) into a reaction vessel whose inside can be decompressed in a desired gas state, and causing glow discharge in the reaction vessel.

【0043】本発明において、炭素原子導入用の原料物
質となり得るものとしては、常温常圧でガス状のまた
は、少なくとも前記表面層層形成条件下で容易にガス化
し得るものが採用されるのが望ましい。炭素原子(C)
導入用の原料ガスになり得るものとして有効に使用され
る出発物質は、CとHとを構成原子とする、例えば炭素
数1〜5の飽和炭化水素、炭素数2〜4のエチレン系炭
化水素、炭素数2〜3のアセチレン系炭化水素等が挙げ
られる。
In the present invention, as a material that can be used as a raw material for introducing carbon atoms, a material that is gaseous at room temperature and atmospheric pressure or that can be easily gasified under at least the above-mentioned surface layer forming conditions is adopted. desirable. Carbon atom (C)
Starting materials that are effectively used as raw material gases for introduction include C and H as constituent atoms, for example, saturated hydrocarbons having 1 to 5 carbon atoms and ethylene hydrocarbons having 2 to 4 carbon atoms. , Acetylene hydrocarbons having 2 to 3 carbon atoms, and the like.

【0044】具体的には、飽和炭化水素としては、メタ
ン(CH4 ),エタン(C26 ),プロパン(C3
8 ),n−ブタン(n−C410),ペンタン(C5
12)、エチレン系炭化水素としては、エチレン(C2
4 ),プロピレン(C36),ブテン−1(C4
8 ),ブテン−2(C48 ),イソブチレン(C4
8 ),ペンテン(C510)、アセチレン系炭化水素と
しては、アセチレン(C 22 ),メチルアセチレン
(C34 ),ブチン(C46 )等が挙げられる。
Specifically, as the saturated hydrocarbon,
(CHFour ), Ethane (C2 H6 ), Propane (C3 H
8 ), N-butane (n-CFour HTen), Pentane (CFive H
12), Ethylene-based hydrocarbons include ethylene (C2 H
Four ), Propylene (C3 H6), Butene-1 (CFour H
8 ), Butene-2 (CFour H8 ), Isobutylene (CFour H
8 ), Penten (CFive HTen), With acetylene hydrocarbons
Then, acetylene (C 2 H2 ), Methyl acetylene
(C3 HFour ), Butin (CFour H6 ) And the like.

【0045】また、SiとCとを構成原子とする原料ガ
スとしては、Si(CH34 ,Si(C254
のケイ化アルキルを挙げることができる。
Examples of the source gas containing Si and C as constituent atoms include alkyl silicides such as Si (CH 3 ) 4 and Si (C 2 H 5 ) 4 .

【0046】また本発明においてa−SiCよりなる表
面層を形成する場合、上記の物質の他に、修飾物質とし
て弗素原子等のハロゲン原子を導入することも有効であ
る。本発明に於いて表面層にハロゲン原子導入用の原料
ガスとなり得るものとしては、上記の物質の他に、Cと
ハロゲンを同時に供給できる物質として、CF4 ,CF
3 ,C26 ,C38 ,C48 等のフッ化炭素化合
物等も使用することができる。
In the present invention, when a surface layer made of a-SiC is formed, it is also effective to introduce a halogen atom such as a fluorine atom as a modifying substance in addition to the above substances. In the present invention, as a raw material gas for introducing a halogen atom into the surface layer, in addition to the above-mentioned substances, as a substance capable of simultaneously supplying C and halogen, CF 4 , CF
Fluorocarbon compounds such as 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 and C 4 F 8 can also be used.

【0047】本発明において、表面層103の層厚は所
望の電子写真特性が得られること、及び経済的効果等の
点から好ましくは0.01〜50μm、より好ましくは
0.05〜20μm、最適には0.1〜10μmとされ
るのが望ましい。
In the present invention, the layer thickness of the surface layer 103 is preferably 0.01 to 50 μm, more preferably 0.05 to 20 μm, most preferably from the viewpoint of obtaining desired electrophotographic characteristics and economical effects. It is desirable that the thickness is 0.1 to 10 μm.

【0048】本発明において表面層103を形成する条
件は、所望の電子写真特性が得られるように、適宜決定
することができる。例えば基体温度は適宜最適範囲が選
択されるが、好ましくは20〜500℃、より好ましく
は50〜480℃、最適には100〜450℃とするの
が望ましい。
In the present invention, the conditions for forming the surface layer 103 can be appropriately determined so that desired electrophotographic characteristics can be obtained. For example, the substrate temperature is appropriately selected in an optimum range, but is preferably 20 to 500 ° C, more preferably 50 to 480 ° C, and most preferably 100 to 450 ° C.

【0049】本発明に於ける電子写真用光受容部材形成
時の反応容器内の圧力は、電子写真用光受容部材の特
性、層構成、グロー放電のための電磁波、Vδによって
選択される。各層形成条件によっても異なるが、通常の
場合、好ましくは1×10-5〜100Torr、好まし
くは5×10-5〜30Torr、最適には1×10-4
10Torrとするのが好ましい。
The pressure in the reaction vessel during the formation of the electrophotographic light-receiving member in the present invention is selected according to the characteristics of the electrophotographic light-receiving member, the layer structure, the electromagnetic wave for glow discharge, and Vδ. Although it varies depending on each layer forming condition, in the usual case, it is preferably 1 × 10 −5 to 100 Torr, preferably 5 × 10 −5 to 30 Torr, and most preferably 1 × 10 −4 .
It is preferably 10 Torr.

【0050】本発明者の知見によれば、上記の、電磁波
の周波数、ガス種、およびガスの混合比率(流量比)や
希釈率、圧力等のパラメーターの組み合わせ方によっ
て、Vδを変化させることができる。したがってこれら
のパラメーターは、実際の電子写真用光受容部材形成に
当たっては、一義的に決定されるものではなく、目的と
するa−Si電子写真用光受容部材の特性と層構成、V
δの値によって、有機的関連性に基づいて決定されるべ
きものである。
According to the knowledge of the present inventor, Vδ can be changed by the combination of the above-mentioned parameters such as electromagnetic wave frequency, gas species, gas mixing ratio (flow ratio), dilution ratio, and pressure. it can. Therefore, these parameters are not uniquely determined in the actual formation of the electrophotographic light-receiving member for electrophotography, and the desired characteristics and layer constitution of the a-Si electrophotographic light-receiving member, V
The value of δ should be determined based on organic relevance.

【0051】また本発明において使用される基体101
はたとえばAl,Cr,Mo,Au,In,Nb,T
e,V,Ti,Pt,Pb,Fe,等の金属、およびこ
れらの合金、たとえばステンレス等が挙げられる。また
ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネイト、セル
ロースアセテート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレン、ポリアミド等の合成樹脂のフィルムまた
はシート、ガラス、セラミック等の電気絶縁性基体の少
なくとも光受容層を形成する側の表面を導電処理した基
体も用いることができる。さらに光受容層を形成する側
と反対側も導電処理することが望ましい。
Substrate 101 used in the present invention
Is, for example, Al, Cr, Mo, Au, In, Nb, T
Examples include metals such as e, V, Ti, Pt, Pb, Fe, and alloys thereof, such as stainless steel. In addition, polyester, polystyrene, polycarbonate, cellulose acetate, polypropylene, polyvinyl chloride,
It is also possible to use a substrate obtained by subjecting at least the surface of the electrically insulating substrate such as a film or sheet made of a synthetic resin such as polyethylene or polyamide, glass, or ceramic to the side where the light receiving layer is formed, to a conductive treatment. Further, it is desirable that the side opposite to the side on which the light receiving layer is formed is also subjected to conductive treatment.

【0052】基体101の形状は平滑平面あるいは凹凸
表面の円筒状または板状無端ベルト形状であることがで
き、その厚さは所望どうりの電子写真用光受容部材を形
成し得るように適宜決定されるが、電子写真用光受容部
材として可とう性が要求される場合には、基体としての
機能が十分発揮できる範囲内で可能な限り薄くすること
ができる。しかしながら、基体の製造上および取り扱い
上、機械的強度等の点から通常は10μm以上とされ
る。
The substrate 101 may be in the shape of a smooth flat surface or a cylindrical or plate-shaped endless belt having an uneven surface, and its thickness is appropriately determined so that a desired electrophotographic light-receiving member can be formed. However, when flexibility is required as the light receiving member for electrophotography, the thickness can be made as thin as possible within the range in which the function as the substrate can be sufficiently exhibited. However, it is usually 10 μm or more from the viewpoint of mechanical strength and the like in manufacturing and handling the substrate.

【0053】以下、本発明の電子写真用光受容部材の形
成方法について詳細に説明する。
The method for forming the electrophotographic light-receiving member of the present invention will be described in detail below.

【0054】図2〜図4は、本発明を実施するための、
マイクロ波プラズマCVD法による電子写真用光受容部
材の形成装置の一例の模式図であり、図2は堆積装置及
び原料ガス供給装置の構成図、図3は堆積装置の反応容
器の横断面図、図4は堆積装置の縦断面図である。
2 to 4 are for carrying out the present invention.
FIG. 3 is a schematic view of an example of an apparatus for forming a photoreceptive member for electrophotography by a microwave plasma CVD method, FIG. 2 is a configuration diagram of a deposition apparatus and a source gas supply apparatus, FIG. 3 is a cross-sectional view of a reaction vessel of the deposition apparatus, FIG. 4 is a vertical sectional view of the deposition apparatus.

【0055】この装置は大別すると、堆積装置200
0、原料ガスの供給装置2200、反応容器2111内
を減圧にするための排気装置(不図示)、マイクロ波を
発生するための電源(不図示)から構成されている。堆
積装置2000中の反応容器2111内には回転軸21
16、基体加熱用のヒーター2113が設置されてお
り、回転軸2116上に基体2112が固定される。回
転軸2116はギアを介してモーター2120と連結さ
れ、回転できるようになっている。また反応容器211
1内には原料ガス導入管兼バイアス電極2114が設置
され、バイアス電源2121に接続される。また反応容
器2111の上下にマイクロ波を導入するための窓21
22が設置され、導波管2115を介してマイクロ波電
源に接続されている。
This apparatus is roughly classified into a deposition apparatus 200.
0, a source gas supply device 2200, an exhaust device (not shown) for reducing the pressure in the reaction vessel 2111, and a power source (not shown) for generating microwaves. The rotary shaft 21 is provided in the reaction vessel 2111 in the deposition apparatus 2000.
16. A heater 2113 for heating the substrate is installed, and the substrate 2112 is fixed on the rotating shaft 2116. The rotating shaft 2116 is connected to the motor 2120 via a gear so that it can rotate. Also the reaction vessel 211
A source gas introduction pipe / bias electrode 2114 is installed in the chamber 1, and is connected to a bias power source 2121. In addition, a window 21 for introducing microwaves above and below the reaction vessel 2111.
22 is installed and connected to the microwave power source via the waveguide 2115.

【0056】また、反応容器の内部には、フローティン
グ電位を測定するためのプローブ2123が挿入されて
いる。このプローブは実験目的に挿入したものであっ
て、生産を目的とした場合には、必ずしも必要とはされ
ない。
A probe 2123 for measuring the floating potential is inserted inside the reaction container. This probe is inserted for experimental purposes, and is not necessarily required for production purposes.

【0057】原料ガス供給装置2200は、SiH4
2 ,CH4 ,He,C22 ,SiF4 等の原料ガス
のボンベ2221〜2226とバルブ2231〜223
6,2241〜2246,2251〜2256、圧力調
整器2261〜2266、およびマスフローコントロー
ラー2211〜2216から構成され、各原料ガスのボ
ンベはバルブ2260を介して反応容器に接続される。
The source gas supply device 2200 is made of SiH 4 ,
Cylinders 2221 to 2226 of raw material gases such as H 2 , CH 4 , He, C 2 H 2 , and SiF 4 and valves 2231 to 223
6, 2241 to 2246, 2251 to 2256, pressure regulators 2261 to 2266, and mass flow controllers 2211 to 2216, and each source gas cylinder is connected to a reaction container via a valve 2260.

【0058】上記のような装置を用いて、例えば図1に
示した層構成の電子写真用光受容部材を作製する場合
は、おおよそ以下のような手順による。
When an electrophotographic light-receiving member having the layer structure shown in FIG. 1 is produced using the above apparatus, the procedure is as follows.

【0059】まず、あらかじめ脱脂洗浄した基体211
2を反応容器2111内の回転軸2116に設置し、不
図示の排気装置により反応容器2111内を排気する。
続いて基体加熱用のヒーター2113により基体211
2の温度を20℃〜500℃の所望の温度に制御する。
First, the base 211 that has been degreased and washed in advance
2 is installed on the rotary shaft 2116 in the reaction container 2111, and the inside of the reaction container 2111 is exhausted by an exhaust device (not shown).
Subsequently, the substrate 211 is heated by the heater 2113 for heating the substrate.
Control the temperature of 2 to the desired temperature between 20 ° C and 500 ° C.

【0060】堆積膜形成用の原料ガスを反応容器211
1に流入させるには、ガスボンベのバルブ2231〜2
236、反応容器のリークバルブ2117が閉じられて
いることを確認し、また、流入バルブ2241〜224
6、流出バルブ2251〜2256、補助バルブ226
0が開かれていることを確認して、まずメインバルブ2
118を開いて反応容器2111およびガス配管内21
24を排気する。
The raw material gas for forming the deposited film is supplied to the reaction vessel 211.
In order to make it flow into 1, the gas cylinder valves 2231-2
236, make sure that the leak valve 2117 of the reaction vessel is closed, and check the inflow valves 2241 to 224.
6, outflow valves 2251 to 2256, auxiliary valve 226
Make sure 0 is open, then first open main valve 2
118 is opened and the reaction vessel 2111 and the gas pipe 21 are opened.
Exhaust 24.

【0061】次に真空計2119の読みが約5×10-6
Torrになった時点で補助バルブ2260、流出バル
ブ2251〜2256を閉じる。
Next, the reading of the vacuum gauge 2119 is about 5 × 10 -6
When it becomes Torr, the auxiliary valve 2260 and the outflow valves 2251 to 2256 are closed.

【0062】その後、ガスボンベ2221〜2226よ
り各ガスをバルブ2231〜2236を開いて導入し、
圧力調整器2261〜2266により各ガス圧を2kg
/cm2 に調整する。次に、流入バルブ2241〜22
46を徐々に開けて、各ガスをマスフローコントラーラ
ー2211〜2216内に導入する。
Then, each gas is introduced from the gas cylinders 2221 to 2226 by opening the valves 2231 to 2236,
Each pressure of 2kg by pressure regulators 2261 to 2266
Adjust to / cm 2 . Next, inflow valves 2241-22
46 is gradually opened to introduce each gas into the mass flow controllers 2211 to 2216.

【0063】以上のようにして成膜の準備が完了した
後、基体2112上に光導電層および表面層の形成を行
う。
After the preparation for film formation is completed as described above, a photoconductive layer and a surface layer are formed on the substrate 2112.

【0064】基体2112が所定の温度になったところ
で流出バルブ2251〜2256のうちの必要なものお
よび補助バルブ2260を徐々に開き、ガスボンベ22
21〜2226から所定のガスを原料ガス導入管兼バイ
アス電極2114内に導入する。次にマスフローコント
ローラー2211〜2216によって各原料ガスが所定
の流量になるように調整する。その際、反応容器211
1内の圧力が1Torr以下の所定の圧力になるように
真空計2119を見ながらメインバルブ2118の開口
を調整する。内圧が安定したところで、マイクロ波電源
(不図示)を所望の電力に設定して、導波管2115を
通じて反応容器2111内にマイクロ波を導入し、グロ
ー放電を生起させる。この時、同時並行的にバイアス電
源2121を所望の電圧または電力に調整し原料ガス導
入管2114に電気バイアスを供給する。
When the base body 2112 has reached a predetermined temperature, the necessary ones of the outflow valves 2251 to 2256 and the auxiliary valve 2260 are gradually opened to open the gas cylinder 22.
A predetermined gas is introduced from 21 to 2226 into the source gas introduction pipe / bias electrode 2114. Next, the mass flow controllers 2211 to 2216 are adjusted so that each raw material gas has a predetermined flow rate. At that time, the reaction vessel 211
The opening of the main valve 2118 is adjusted while observing the vacuum gauge 2119 so that the pressure in 1 becomes a predetermined pressure of 1 Torr or less. When the internal pressure is stable, a microwave power source (not shown) is set to a desired power, and microwaves are introduced into the reaction vessel 2111 through the waveguide 2115 to cause glow discharge. At this time, the bias power source 2121 is simultaneously and concurrently adjusted to a desired voltage or power to supply an electric bias to the source gas introduction pipe 2114.

【0065】こうしてグロー放電によって反応容器21
11内に導入された原料ガスが分解され、基体2112
上に所定の堆積膜が形成される。この際、基体2112
を回転軸にギアを介して接続されたモーター2120で
回転することで基体2112上にムラなく堆積膜を得る
ところとなる。所望の膜厚の形成が行われた後、マイク
ロ波電力及びバイアス電力の供給を止め、流出バルブ2
251〜2256を閉じて反応容器2111へのガスの
流入を止め、堆積膜の形成を終える。
In this way, the reaction vessel 21 is activated by glow discharge.
The raw material gas introduced into the substrate 11 is decomposed and the base 2112
A predetermined deposited film is formed on top. At this time, the base 2112
Is rotated by a motor 2120 connected to a rotating shaft via a gear, so that a deposited film can be obtained evenly on the substrate 2112. After the desired film thickness is formed, the supply of microwave power and bias power is stopped and the outflow valve 2
251 to 2256 are closed to stop the gas from flowing into the reaction vessel 2111, and the formation of the deposited film is completed.

【0066】電子写真用光受容部材として多層構成を採
る場合には、上記の手順で所望の層を形成した後、再び
同じ手順を繰り返せば良いが、この時層設計に併せてガ
ス種や内圧、基体温度、マイクロ波及びバイアス電力を
調整することは言うまでもない。
When a multi-layer structure is adopted as the electrophotographic light-receiving member, the desired layer may be formed by the above-mentioned procedure, and then the same procedure may be repeated again. Needless to say, the substrate temperature, microwave and bias power are adjusted.

【0067】[0067]

【実施例】以下に本発明の効果を実証するための具体例
を説明するが、本発明はこれらによって何ら限定される
ものではない。 <実験例1>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を実験
用に改造した装置を用いて、上記の手順にしたがって、
直径108mmのアルミニウムシリンダーを基体として
使用し、表1の作成条件で電子写真用光受容部材を作製
した。本実施例では、外部電気バイアスとして、直流を
使用した。また、このさい基体の1本をアースから絶縁
し、外部電気バイアスとは別に直流電源を接続すること
で、Vδを変化させられるようにした。直流電源を接続
する基体を1本としたのは、その他の条件をできるだけ
揃えるためである。
EXAMPLES Specific examples for demonstrating the effects of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. <Experimental example 1> Using the apparatus modified from the deposited film forming apparatus shown in FIGS.
An aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate, and an electrophotographic light-receiving member was produced under the production conditions shown in Table 1. In this example, direct current was used as the external electric bias. In addition, one of the bases was insulated from the ground and a DC power supply was connected to it in addition to the external electric bias so that Vδ could be changed. The reason that the single substrate is connected to the DC power source is to make other conditions as uniform as possible.

【0068】またフローティング電位は、反応容器内に
設置したプローブ(直径0.5mm、長さ4mmのタン
グステン線)を用いてシングルプローブ法(ラングミュ
アプローブ法)により測定した。この際プローブへのa
−Si膜堆積による影響をなくすため、適選−1kVの
電圧をプローブに印加して、スパッタ効果によりa−S
i膜の付着を防止した。本実験例に用いた堆積膜形成装
置では、上下の窓と6本のシリンダーによって囲まれた
空間内(放電空間内)で均一な放電が起こるため、この
空間内の各所でフローティング電位は実質的に一定であ
った。
The floating potential was measured by the single probe method (Langmuir probe method) using a probe (a tungsten wire having a diameter of 0.5 mm and a length of 4 mm) installed in the reaction vessel. At this time,
In order to eliminate the influence of -Si film deposition, a voltage of proper selection-1 kV is applied to the probe, and a-S
Prevention of i-film attachment. In the deposited film forming apparatus used in this experimental example, a uniform discharge is generated in the space surrounded by the upper and lower windows and the six cylinders (in the discharge space), so that the floating potential is substantially different in each place in this space. Was constant.

【0069】こうしてVδを変化させて作製した電子写
真用光受容部材の表面上で任意に選んだ1cm2 の範囲
を10箇所、合計10cm2 の範囲で観察し、球状突起
の個数と直径を観察した。結果を図5に示す。
On the surface of the electrophotographic light-receiving member produced by changing Vδ in this way, 10 arbitrarily selected areas of 1 cm 2 were observed at a total of 10 cm 2 , and the number and diameter of spherical projections were observed. did. Results are shown in FIG.

【0070】図5の結果から、光導電層形成中のVδを
50V以下とする事で、直径30μm以上の球状突起は
全く発生しなくなった。またVδを40V以下とする
と、直径20μm〜30μm未満の球状突起も発生しな
い。さらにVδを30V以下とする事で直径10μm以
上の球状突起は発生しなくなることがわかり、本発明の
有効性が確認された。
From the results shown in FIG. 5, by setting Vδ to 50 V or less during the formation of the photoconductive layer, spherical projections having a diameter of 30 μm or more did not occur at all. When Vδ is 40 V or less, spherical projections having a diameter of 20 μm to less than 30 μm do not occur. Further, it was found that spherical protrusions having a diameter of 10 μm or more were not generated by setting Vδ to 30 V or less, and the effectiveness of the present invention was confirmed.

【0071】[0071]

【表1】 <実施例1>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て、上記の手順にしたがって、直径108mmアルミニ
ウムシリンダーを基体として使用し、表2の作成条件で
電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では、原料
ガス導入管兼バイアス電極に、図6に示した回路図をも
って周波数13.56MHzのRF電源とDC電源を接
続し、DC電源の電圧を変化させることでVδを50V
以下に調整した。図6は図2〜図4の堆積膜形成装置に
おいて、外部電気バイアスとして、RF電源とDC電源
とを接続したものを示す縦断面図であり、図6におい
て、2129はRF電源、2125は高周波マッチング
ボックス、2126はコンデンサ、2127はコイル、
2128はDC電源である。また6本の基体は全てアー
ス電位とした。こうして作製した電子写真用光受容部材
を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接触帯電
[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したもの)に
設置し、通常の電子写真プロセスで「白ポチ」、「白抜
け」、「キズ」の画像特性を、初期特性と500万枚の
通紙耐久試験後の特性について評価した。
[Table 1] <Example 1> Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, following the procedure described above, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate, and the electrophotographic light-receiving member was prepared under the conditions shown in Table 2. It was made. In this embodiment, an RF power source and a DC power source having a frequency of 13.56 MHz are connected to the source gas introduction tube / bias electrode with the circuit diagram shown in FIG. 6, and Vδ is 50 V by changing the voltage of the DC power source.
Adjusted below. FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing a structure in which the RF power supply and the DC power supply are connected as an external electric bias in the deposited film forming apparatus of FIGS. 2 to 4. In FIG. 6, 2129 is an RF power supply and 2125 is a high frequency. Matching box, 2126 is a capacitor, 2127 is a coil,
2128 is a DC power supply. Further, all six substrates were set to the ground potential. The electrophotographic light-receiving member thus produced was set in an electrophotographic apparatus (NP6060 manufactured by Canon was subjected to contact charging [roller charging] and modified for this experiment), and a "white spot" was formed by an ordinary electrophotographic process. The image characteristics of "white spots" and "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0072】それぞれの項目について評価は以下の基準
を用いた。
The following criteria were used for evaluation of each item.

【0073】「白ポチ」…像露光のハロゲンランプを切
り、全面黒色画像(ベタ黒画像)をとり、画像上の「白
ポチ」を観察し、評価する。
"White spot": The halogen lamp for image exposure is turned off, a black image (solid black image) is taken over the entire surface, and "white spot" on the image is observed and evaluated.

【0074】「白ポチ」の評価に於いて ◎ 「白ポチ」は認められない ○ 「白ポチ」はあるが判別が難しい △ 明かな「白ポチ」はあるが、実用上問題なし × 実用できない を示している。In the evaluation of "white spots" ◎ "white spots" are not recognized. ○ There are "white spots" but it is difficult to distinguish. △ There are clear "white spots", but there is no practical problem. Is shown.

【0075】「白抜け」…「白ポチ」と同様にベタ黒画
像をとり、画像上の「白抜け」の状態を観察し評価し
た。
"White spots" ... A solid black image was taken in the same manner as "white spots", and the state of "white spots" on the image was observed and evaluated.

【0076】「白抜け」の評価に於いて ◎ 「白抜け」は全く認められない △ 「白ポチ」が大きくなる程度で実用上問題ない × 実用できない を示している。In the evaluation of "white spots", "white spots" were not observed at all. △ "white spots" were large, and there was no practical problem.

【0077】「キズ」…「白ポチ」と同様にベタ黒画像
をとり、画像上の「キズ」の状態を観察し評価した。
"Scratch" ... A solid black image was taken in the same manner as "white spot", and the state of "scratch" on the image was observed and evaluated.

【0078】「キズ」の評価に於いて ◎ 「キズ」は認められない ○ 「キズ」はあるが判別が難しい △ 明かな「キズ」はあるが、実用上問題なし × 実用できない を示している。In the evaluation of "scratches" ◎ "Scratches" are not recognized. ○ There are "scratches" but it is difficult to distinguish. △ There are obvious "scratches", but there is no problem in practical use. .

【0079】[0079]

【表2】 <比較例1>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て実施例1と同様にして電子写真用光受容部材を作製し
た。本比較例ではDC電源の電圧を調整してVδを60
V以上になるように調整した。こうして作製した電子写
真用光受容部材を実施例1と同様にして評価した。
[Table 2] Comparative Example 1 An electrophotographic light-receiving member was manufactured in the same manner as in Example 1 using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. In this comparative example, the voltage of the DC power supply is adjusted so that Vδ is 60
Adjusted to V or higher. The electrophotographic light-receiving member thus produced was evaluated in the same manner as in Example 1.

【0080】以上の実施例1および実験例1の結果を表
3に示す。表3の通り、本発明の形成方法による電子写
真用光受容部材は、優れた特性を示した。
The results of Example 1 and Experimental Example 1 described above are shown in Table 3. As shown in Table 3, the electrophotographic light-receiving member according to the forming method of the present invention showed excellent characteristics.

【0081】[0081]

【表3】 <実施例2>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て、上記の手順にしたがって、直径108mmのアルミ
ニウムシリンダーを基体として使用し、表4の作成条件
で電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では外部
電気バイアスとして、周波数13.56MHzのRF電
源を使用し、Vδが50V以下になるように、RF電力
を調整した。また6本の基体は全てアース電位とした。
こうして作製した電子写真用光受容部材を電子写真装置
(キヤノン製NP6060を接触帯電[ローラー帯電]
にして、本実験用に改造したもの)に設置し、「白ポ
チ」、「白抜け」、「キズ」の画像特性を、初期特性と
500万枚の通紙耐久試験後の特性について評価した。
[Table 3] Example 2 Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, following the procedure described above, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate, and the light-receiving member for electrophotography was prepared under the conditions shown in Table 4. Was produced. In this example, an RF power supply with a frequency of 13.56 MHz was used as the external electric bias, and the RF power was adjusted so that Vδ was 50 V or less. Further, all six substrates were set to the ground potential.
The photoreceptive member for electrophotography thus manufactured is subjected to electrophotographic apparatus (NP6060 manufactured by Canon is contact-charged [roller-charged]).
Then, the image characteristics of "white spots", "white spots", and "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after the 5 million-sheet passing durability test. .

【0082】[0082]

【表4】 <比較例2>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て実施例2と同様にして電子写真用光受容部材を作製し
た。本比較例ではVδが50Vを越えるようにRF電力
を調整した。こうして作製した電子写真用光受容部材を
実施例2と同様にして評価した。
[Table 4] Comparative Example 2 An electrophotographic light-receiving member was manufactured in the same manner as in Example 2 using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. In this comparative example, the RF power was adjusted so that Vδ exceeded 50V. The electrophotographic light-receiving member thus produced was evaluated in the same manner as in Example 2.

【0083】以上の実施例2および比較例2の結果を表
5に示す。表5の結果から、本発明の電子写真用光受容
部材形成方法では、画像特性、耐久性が優れていること
が確かめられた。
The results of Example 2 and Comparative Example 2 described above are shown in Table 5. From the results shown in Table 5, it was confirmed that the method for forming a light-receiving member for electrophotography of the present invention has excellent image characteristics and durability.

【0084】[0084]

【表5】 <実施例3>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て、上記の手順にしたがって、直径108mmのアルミ
ニウムシリンダーを基体として使用し、表6の作成条件
で電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では外部
電気バイアスとして、周波数13.56MHzのRF電
源を使用し、Vδが50V以下になるように、RF電力
を調整した。また6本の基体は全てアース電位とした。
こうして作製した電子写真用光受容部材を電子写真装置
(キヤノン製NP6060を接触帯電[ローラー帯電]
にして、本実験用に改造したもの)に設置し、「白ポ
チ」、「白抜け」、「キズ」の画像特性を、初期特性と
500万枚の通紙耐久試験後の特性について評価した。
[Table 5] <Example 3> Using the deposition film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate according to the procedure described above, and the light receiving member for electrophotography was prepared under the conditions shown in Table 6. Was produced. In this example, an RF power supply with a frequency of 13.56 MHz was used as the external electric bias, and the RF power was adjusted so that Vδ was 50 V or less. Further, all six substrates were set to the ground potential.
The photoreceptive member for electrophotography thus manufactured is subjected to electrophotographic apparatus (NP6060 manufactured by Canon is contact-charged [roller-charged]).
Then, the image characteristics of "white spots", "white spots", and "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after the 5 million-sheet passing durability test. .

【0085】[0085]

【表6】 <比較例3>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て実施例3と同様にして電子写真用光受容部材を作製し
た。本比較例ではVδが50Vを越えるようにRF電力
を調整した。こうして作製した電子写真用光受容部材を
実施例3と同様にして評価した。
[Table 6] Comparative Example 3 An electrophotographic light-receiving member was manufactured in the same manner as in Example 3 using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. In this comparative example, the RF power was adjusted so that Vδ exceeded 50V. The electrophotographic light-receiving member thus produced was evaluated in the same manner as in Example 3.

【0086】以上の実施例3および比較例3の結果を表
7に示す。表7の結果から、本発明の電子写真用光受容
部材形成方法では、画像特性、耐久性が優れていること
が確かめられた。
The results of Example 3 and Comparative Example 3 described above are shown in Table 7. From the results in Table 7, it was confirmed that the method for forming a light-receiving member for electrophotography of the present invention was excellent in image characteristics and durability.

【0087】[0087]

【表7】 <実施例4>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て、上記の手順にしたがって、直径108mmのアルミ
ニウムシリンダーを基体として使用し、表8の作成条件
で電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では、外
部電気バイアスは用いなかった。また6本の基体は全て
アース電位とした。こうして作製した電子写真用光受容
部材を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接触帯
電[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したもの)
に設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画像特
性を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特性に
ついて評価した。
[Table 7] <Embodiment 4> Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate in accordance with the above procedure, and under the conditions shown in Table 8, a light receiving member for electrophotography was used. Was produced. In this example, no external electrical bias was used. Further, all six substrates were set to the ground potential. The electrophotographic light-receiving member thus produced was electrophotographic device (the Canon NP6060 was contact charged [roller charged] and modified for this experiment).
The image characteristics of "white spots", "white spots", and "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0088】[0088]

【表8】 <実施例5>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て、上記の手順にしたがって、直径108mmのアルミ
ニウムシリンダーを基体として使用し、表9の作成条件
で電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では、外
部電気バイアスとして周波数105MHzのVHF電源
を用いた。また6本の基体は全てアース電位とした。こ
うして作製した電子写真用光受容部材を電子写真装置
(キヤノン製NP6060を接触帯電[ローラー帯電]
にして、本実験用に改造したもの)に設置し、「白ポ
チ」、「白抜け」、「キズ」の画像特性を、初期特性と
500万枚の通紙耐久試験後の特性について評価した。
[Table 8] <Example 5> Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate in accordance with the above procedure, and under the conditions shown in Table 9, a light receiving member for electrophotography was used. Was produced. In this example, a VHF power supply with a frequency of 105 MHz was used as the external electric bias. Further, all six substrates were set to the ground potential. The photoreceptive member for electrophotography thus manufactured is subjected to electrophotographic apparatus (NP6060 manufactured by Canon is contact-charged [roller-charged]).
Then, the image characteristics of "white spots", "white spots", and "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after the 5 million-sheet passing durability test. .

【0089】[0089]

【表9】 <実施例6>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て、上記の手順にしたがって、直径108mmのアルミ
ニウムシリンダーを基体として使用し、表10の作成条
件で電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では、
外部電気バイアスとして、周波数105MHzのVHF
電源を用いた。また6本の基体は全てアース電位とし
た。こうして作製した電子写真用光受容部材を電子写真
装置(キヤノン製NP6060を接触帯電[ローラー帯
電]にして、本実験用に改造したもの)に設置し、「白
ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画像特性を、初期特性
と500万枚の通紙耐久試験後の特性について評価し
た。
[Table 9] <Example 6> Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate in accordance with the above procedure, and under the conditions shown in Table 10, a light receiving member for electrophotography was used. Was produced. In this embodiment,
As an external electrical bias, VHF with a frequency of 105 MHz
A power supply was used. Further, all six substrates were set to the ground potential. The electrophotographic light-receiving member thus produced was set in an electrophotographic apparatus (a Canon NP6060 was contact-charged [roller-charged and modified for this experiment)), and a "white spot", "white spot", " The image characteristics of "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0090】以上、実施例4〜実施例6の結果を表11
に示す。表11の結果より、本発明の電子写真用光受容
部材形成方法では、画像特性と耐久性の優れた電子写真
用光受容部材を得ることができた。また、実施例2と実
施例5、実施例3と実施例6の比較から、外部電気バイ
アスの周波数によって、Vδが変化していることがわか
る。
The results of Examples 4 to 6 are shown in Table 11 above.
Shown in From the results of Table 11, the electrophotographic light-receiving member forming method of the present invention could provide an electrophotographic light-receiving member excellent in image characteristics and durability. Further, comparison of Example 2 and Example 5 and Example 3 and Example 6 reveals that Vδ changes depending on the frequency of the external electric bias.

【0091】[0091]

【表10】 [Table 10]

【0092】[0092]

【表11】 <実施例7>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用い
て、上記の手順に従って、直径108mmのアルミニウ
ムシリンダーを基体として使用し、表12の作成条件で
電子写真用光受容部材を作成した。本実施例では外部電
気バイアスとして、周波数を10kHz〜550MHz
の範囲で変化させた。また6本のシリンダーは全てアー
ス電位とした。こうして作成した電子写真用光受容部材
を、電子写真装置(キヤノン製NP6060を接触帯電
「ローラー帯電」にして、本実験用に改造したもの)に
設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画像特性
を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特性につ
いて評価した。
[Table 11] <Embodiment 7> Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate in accordance with the above procedure, and the electrophotographic light-receiving member was prepared under the conditions shown in Table 12. Created. In this embodiment, the frequency is 10 kHz to 550 MHz as the external electric bias.
Was changed in the range. All six cylinders were set to earth potential. The electrophotographic light-receiving member thus created was installed in an electrophotographic apparatus (a Canon NP6060 was contact-charged “roller-charged and modified for this experiment”), and a “white spot”, “white spot”, The image characteristics of "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0093】その評価結果を表13に示す。表13か
ら、いずれの周波数においても、本発明の効果がえら
れ、良好な画像特性の電子写真用光受容部材が得られ
た。また外部電気バイアスの周波数を10MHz〜55
0MHzの範囲とすることで、Vδがさらに低く押さえ
られ、Vδの制御性が向上することが伺える。また周波
数10KHz〜1MHzの間では、場合によっては放電
切れが発生する場合があったのに対し、10MHz〜5
50MHzの範囲では、放電切れは全く発生せず、放電
安定性も良好である結果が得られた。
Table 13 shows the evaluation results. From Table 13, the effect of the present invention was obtained at any frequency, and a photoreceptive member for electrophotography having excellent image characteristics was obtained. The frequency of the external electric bias is 10 MHz to 55
It can be seen that by setting the range to 0 MHz, Vδ can be suppressed to a lower level and the controllability of Vδ can be improved. In the frequency range of 10 KHz to 1 MHz, discharge interruption may occur in some cases, while that of 10 MHz to 5 MHz
In the range of 50 MHz, discharge interruption did not occur at all and good discharge stability was obtained.

【0094】[0094]

【表12】 [Table 12]

【0095】[0095]

【表13】 <実施例8>図7に示した堆積膜形成装置を用いて、上
記の手順にしたがって、直径108mmのアルミニウム
シリンダーを基体として使用し、表14の作成条件で電
子写真用光受容部材を作製した。図7は本発明で用いる
堆積膜形成装置の別の例の模式図である。図7におい
て、4000は堆積装置、4111は反応容器、411
2は基体、4113は基体加熱用ヒーター、4114は
原料ガス導入管、4115は高周波マッチングボック
ス、4116はガス配管、4117はリークバルブ、4
118はメインバルブ、4119は真空計、4120は
VHF電源、4200はガス供給装置、4211〜42
16はマスフローコントローラー、4221〜4226
はボンベ、4231〜4236はバルブ、4241〜4
246はバルブ、4251〜4256はバルブ、426
0はバルブ、4261〜4266は圧力調整器である。
また、堆積装置内に挿入されたプローブ4121によっ
て、実験例1と同様にして、フローティング電位を測定
した。本装置においても、堆積装置内各所でフローティ
ング電位は実質的に一定であった。本実施例では、グロ
ー放電を起こすための電磁波として、105MHzのV
HF帯域を使用した。こうして作製した電子写真用光受
容部材を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接触
帯電[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したも
の)に設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画
像特性を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特
性について評価した。
[Table 13] <Embodiment 8> Using the deposited film forming apparatus shown in FIG. 7, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate and a light-receiving member for electrophotography was manufactured under the conditions shown in Table 14 according to the above procedure. . FIG. 7 is a schematic view of another example of the deposited film forming apparatus used in the present invention. In FIG. 7, reference numeral 4000 is a deposition apparatus, 4111 is a reaction vessel, and 411.
2 is a substrate, 4113 is a heater for heating the substrate, 4114 is a source gas introduction pipe, 4115 is a high frequency matching box, 4116 is a gas pipe, 4117 is a leak valve, 4
118 is a main valve, 4119 is a vacuum gauge, 4120 is a VHF power supply, 4200 is a gas supply device, and 4211-42.
16 is a mass flow controller, 4221-4226
Is a cylinder, 4231-4236 is a valve, 4241-4
246 is a valve, 4251 to 4256 are valves, 426
Reference numeral 0 is a valve, and reference numerals 4261 to 4266 are pressure regulators.
In addition, the floating potential was measured by the probe 4121 inserted in the deposition apparatus in the same manner as in Experimental Example 1. Also in this apparatus, the floating potential was substantially constant in various places in the deposition apparatus. In this embodiment, as an electromagnetic wave for causing glow discharge, V of 105 MHz is used.
The HF band was used. The electrophotographic light-receiving member thus prepared was placed in an electrophotographic apparatus (a Canon NP6060 was contact-charged [roller-charged and modified for this experiment), and was set to "white spot", "white spot", " The image characteristics of "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0096】[0096]

【表14】 <実施例9>図7に示した堆積膜形成装置を用いて、上
記の手順にしたがって、直径108mmのアルミニウム
シリンダーを基体として使用し、表15の作成条件で電
子写真用光受容部材を作製した。本実施例では、グロー
放電を起こすための電磁波として、105MHzのVH
F帯域を使用した。こうして作製した電子写真用光受容
部材を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接触帯
電[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したもの)
に設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画像特
性を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特性に
ついて評価した。
[Table 14] <Example 9> Using the deposited film forming apparatus shown in FIG. 7, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate and a light-receiving member for electrophotography was manufactured under the conditions shown in Table 15 according to the above procedure. . In this embodiment, as electromagnetic waves for causing glow discharge, VH of 105 MHz is used.
The F band was used. The electrophotographic light-receiving member thus produced was electrophotographic device (the Canon NP6060 was contact charged [roller charged] and modified for this experiment).
The image characteristics of "white spots", "white spots", and "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0097】[0097]

【表15】 <実施例10>図7に示した堆積膜形成装置を用いて、
上記の手順にしたがって、直径108mmのアルミニウ
ムシリンダーを基体として使用し、表16の作成条件で
電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では、グロ
ー放電を起こすための電磁波として、105MHzのV
HF帯域を使用した。こうして作製した電子写真用光受
容部材を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接触
帯電[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したも
の)に設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画
像特性を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特
性について評価した。
[Table 15] <Example 10> Using the deposited film forming apparatus shown in FIG.
According to the above procedure, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate, and a light receiving member for electrophotography was manufactured under the conditions shown in Table 16. In this embodiment, as an electromagnetic wave for causing glow discharge, V of 105 MHz is used.
The HF band was used. The electrophotographic light-receiving member thus produced was set in an electrophotographic apparatus (a Canon NP6060 was contact-charged [roller-charged and modified for this experiment)), and a "white spot", "white spot", " The image characteristics of "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0098】[0098]

【表16】 <実施例11>図7に示した堆積膜形成装置を用いて、
上記の手順にしたがって、直径108mmのアルミニウ
ムシリンダーを基体として使用し、表17の作成条件で
電子写真用光受容部材を作製した。本実施例では、グロ
ー放電を起こすための電磁波として、250MHzのV
HF帯域を使用した。こうして作製した電子写真用光受
容部材を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接触
帯電[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したも
の)に設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画
像特性を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特
性について評価した。
[Table 16] <Embodiment 11> Using the deposited film forming apparatus shown in FIG.
In accordance with the above procedure, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate, and a light-receiving member for electrophotography was produced under the production conditions shown in Table 17. In this embodiment, as an electromagnetic wave for causing glow discharge, V of 250 MHz is used.
The HF band was used. The electrophotographic light-receiving member thus produced was set in an electrophotographic apparatus (a Canon NP6060 was contact-charged [roller-charged and modified for this experiment)), and a "white spot", "white spot", " The image characteristics of "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0099】[0099]

【表17】 <実施例12>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用
いて、上記の手順にしたがって、直径108mmのアル
ミニウムシリンダーを基体として使用し、表18の作成
条件で電子写真用光受容部材を作製した。本実施例で
は、外部電気バイアスとして周波数550MHzのマイ
クロ波帯域を使用した。こうして作製した電子写真用光
受容部材を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接
触帯電[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したも
の)に設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画
像特性を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特
性について評価した。
[Table 17] <Example 12> Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate in accordance with the above procedure, and under the conditions shown in Table 18, a light receiving member for electrophotography was used. Was produced. In this embodiment, the microwave band having a frequency of 550 MHz is used as the external electric bias. The electrophotographic light-receiving member thus produced was set in an electrophotographic apparatus (a Canon NP6060 was contact-charged [roller-charged and modified for this experiment)), and a "white spot", "white spot", " The image characteristics of "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0100】[0100]

【表18】 <実施例13>図2〜図4に示した堆積膜形成装置を用
いて、上記の手順にしたがって、直径108mmのアル
ミニウムシリンダーを基体として使用し、表19の作成
条件で電子写真用光受容部材を作製した。本実施例で
は、外部電気バイアスとして周波数250MHzのマイ
クロ波帯域を使用した。こうして作製した電子写真用光
受容部材を電子写真装置(キヤノン製NP6060を接
触帯電[ローラー帯電]にして、本実験用に改造したも
の)に設置し、「白ポチ」、「白抜け」、「キズ」の画
像特性を、初期特性と500万枚の通紙耐久試験後の特
性について評価した。
[Table 18] <Example 13> Using the deposited film forming apparatus shown in FIGS. 2 to 4, an aluminum cylinder having a diameter of 108 mm was used as a substrate in accordance with the above procedure, and under the conditions shown in Table 19, a light-receiving member for electrophotography was used. Was produced. In this example, the microwave band having a frequency of 250 MHz was used as the external electric bias. The electrophotographic light-receiving member thus produced was set in an electrophotographic apparatus (a Canon NP6060 was contact-charged [roller-charged and modified for this experiment)), and a "white spot", "white spot", " The image characteristics of "scratches" were evaluated with respect to the initial characteristics and the characteristics after a paper feed durability test of 5 million sheets.

【0101】以上、実施例8〜実施例13の結果につい
て表20に示す。表20の結果から、本発明の電子写真
用光受容部材の形成方法によれば、画像特性と、耐久性
に優れた電子写真用光受容部材を得ることができる。
The results of Examples 8 to 13 are shown in Table 20. From the results of Table 20, according to the method for forming a light-receiving member for electrophotography of the present invention, a light-receiving member for electrophotography having excellent image characteristics and durability can be obtained.

【0102】またガス種や、圧力、グロー放電を起こす
ための電磁波の周波数などのパラメータによって、Vδ
が変化することもわかる。
Vδ depends on parameters such as gas type, pressure, and frequency of electromagnetic wave for causing glow discharge.
You can also see that changes.

【0103】[0103]

【表19】 [Table 19]

【0104】[0104]

【表20】 [Table 20]

【0105】[0105]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プラズマCVD法による電子写真用光受容部材形成時に
於ける、基体の電位と、プラズマ中のフローティング電
位との電位差を、少なくとも光導電層形成時に50V以
下、好ましくは40V以下、最適には30V以下とする
ことで、球状突起の発生を抑制し、画像特性と耐久性能
に優れた電子写真用光受容部材を得ることが可能とな
る。
As described above, according to the present invention,
The potential difference between the potential of the substrate and the floating potential in the plasma at the time of forming the electrophotographic light-receiving member by the plasma CVD method is at least 50 V, preferably 40 V or less, most preferably 30 V or less at the time of forming the photoconductive layer. By doing so, it is possible to suppress the generation of spherical projections and obtain an electrophotographic light-receiving member having excellent image characteristics and durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によって形成された電子写真用光受容部
材の層構成の1例を示す模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a light-receiving member for electrophotography formed by the present invention.

【図2】本発明で用いる電子写真用光受容部材の形成方
法を実施するための堆積膜形成装置の一例の堆積装置及
び原料ガス供給装置の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a deposition apparatus and a raw material gas supply apparatus as an example of a deposition film forming apparatus for carrying out the method for forming a light-receiving member for electrophotography used in the present invention.

【図3】堆積装置の反応容器の横断面である。FIG. 3 is a cross section of a reaction vessel of a deposition apparatus.

【図4】堆積装置の反応容器の縦断面である。FIG. 4 is a vertical cross section of a reaction vessel of the deposition apparatus.

【図5】本発明の効果を示す、球状突起の個数の分布図
である。
FIG. 5 is a distribution diagram of the number of spherical protrusions showing the effect of the present invention.

【図6】本発明で用いる堆積膜形成装置の縦断面に外部
電気バイアスとして、RF電源とDC電源を接続した図
である。
FIG. 6 is a diagram in which an RF power source and a DC power source are connected as an external electric bias to a longitudinal section of the deposited film forming apparatus used in the present invention.

【図7】本発明で用いる堆積膜形成装置の別の例の模式
図である。
FIG. 7 is a schematic view of another example of the deposited film forming apparatus used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 電子写真用光受容部材 101 基体 102 光導電層 103 表面層 2000 堆積装置 2111 反応容器 2112 基体 2113 基体加熱用ヒーター 2114 原料ガス導入管兼バイアス電極 2115 導波管 2116 回転軸 2115 導波管 2117 リークバルブ 2118 メインバルブ 2119 真空計 2120 モーター 2121 バイアス電源 2122 窓 2123 プローブ 2124 ガス配管 2125 高周波マッチングボックス 2126 コンデンサ 2127 コイル 2128 DC電源 2129 RF電源 2200 ガス供給装置 2211〜2216 マスフローコントローラー 2221〜2226 ボンベ 2231〜2236 バルブ 2241〜2246 バルブ 2251〜2256 バルブ 2260 バルブ 4000 堆積装置 4111 反応容器 4112 基体 4113 基体加熱用ヒーター 4114 原料ガス導入管 4115 高周波マッチングボックス 4116 ガス配管 4117 リークバルブ 4118 メインバルブ 4119 真空計 4120 VHF電源 4200 ガス供給装置 4211〜4216 マスフローコントローラー 4221〜4226 ボンベ 4231〜4236 バルブ 4241〜4246 バルブ 4251〜4256 バルブ 4260 バルブ 4261〜4266 圧力調整器 100 Electrophotographic Photoreceptive Member 101 Substrate 102 Photoconductive Layer 103 Surface Layer 2000 Deposition Device 2111 Reaction Vessel 2112 Substrate 2113 Heater for Substrate Heating 2114 Raw Material Gas Introducing Tube / Bias Electrode 2115 Waveguide 2116 Rotating Shaft 2115 Waveguide 2117 Leak Valve 2118 Main valve 2119 Vacuum gauge 2120 Motor 2121 Bias power supply 2122 Window 2123 Probe 2124 Gas piping 2125 High frequency matching box 2126 Capacitor 2127 Coil 2128 DC power supply 2129 RF power supply 2200 Gas supply device 2211 to 2216 Mass flow controller 2221 to 2226 Cylinder 2231 to 2236 Valve 2241 to 2246 valves 2251 to 2256 valves 2260 valves 4000 deposition Installation 4111 Reaction container 4112 Substrate 4113 Substrate heating heater 4114 Raw material gas introduction pipe 4115 High frequency matching box 4116 Gas piping 4117 Leak valve 4118 Main valve 4119 Vacuum gauge 4120 VHF power supply 4200 Gas supply device 4211-4216 Mass flow controller 4221-4226 Cylinder 4231- 4236 valve 4241-4246 valve 4251-4256 valve 4260 valve 4261-4266 pressure regulator

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 減圧可能な真空容器内に原料ガスを導入
し、該原料ガスをグロー放電により分解して堆積膜を形
成するプラズマCVD法により、導電性を有する基体上
に、少なくとも非単結晶材料で構成された光導電層と表
面層とを順次形成して成る電子写真用光受容部材の形成
方法であって、少なくとも光導電層形成時に前記基体と
プラズマ中のフローティング電位との電位差Vδを50
V以下とした電子写真用光受容部材の形成方法。
1. A plasma CVD method in which a raw material gas is introduced into a depressurizable vacuum vessel and the raw material gas is decomposed by glow discharge to form a deposited film, and at least a non-single crystal is formed on a conductive substrate. A method of forming a photoreceptive member for electrophotography, which comprises sequentially forming a photoconductive layer made of a material and a surface layer, wherein a potential difference Vδ between the substrate and a floating potential in plasma is formed at least when the photoconductive layer is formed. Fifty
A method for forming a light-receiving member for electrophotography, which is V or less.
【請求項2】 減圧可能な真空容器内に少なくとも、導
電性を有する基体、原料ガス導入手段、マイクロ波導入
手段、電極、および前記基体と前記電極との間に電界を
印加する手段を有し、 前記原料ガス導入手段より導入された原料ガスを、前記
マイクロ波導入手段より導入されたマイクロ波のエネル
ギーによるグロー放電により分解するとともに、前記基
体と前記電極との間に電界を印加しながら、前記基体上
に堆積膜を形成する請求項1に記載の電子写真用光受容
部材の形成方法。
2. A depressurizable vacuum container having at least a conductive substrate, a source gas introducing means, a microwave introducing means, an electrode, and a means for applying an electric field between the substrate and the electrode. While the source gas introduced by the source gas introducing means is decomposed by glow discharge by the energy of the microwave introduced by the microwave introducing means, while applying an electric field between the substrate and the electrode, The method for forming a light receiving member for electrophotography according to claim 1, wherein a deposited film is formed on the substrate.
【請求項3】 請求項2に記載の電子写真用光受容部材
の形成方法であって、前記電極と前記基体との間に印加
する電界として、交流電界と直流電界を重畳した電界を
用い、該直流電界によってVδを制御する電子写真用光
受容部材の形成方法。
3. The method for forming a light-receiving member for electrophotography according to claim 2, wherein an electric field in which an alternating electric field and a direct current electric field are superposed is used as an electric field applied between the electrode and the base body. A method for forming a photoreceptor member for electrophotography, wherein Vδ is controlled by the DC electric field.
【請求項4】 請求項3に記載の電子写真用光受容部材
の形成方法であって、前記交流電界の周波数が10MH
z〜550MHzであることを特徴とする電子写真用光
受容部材の形成方法。
4. The method of forming a light-receiving member for electrophotography according to claim 3, wherein the frequency of the alternating electric field is 10 MH.
z to 550 MHz, a method for forming a light receiving member for electrophotography.
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