JPH08157435A - Herbicidal aminophenol derivative - Google Patents

Herbicidal aminophenol derivative

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JPH08157435A
JPH08157435A JP25741395A JP25741395A JPH08157435A JP H08157435 A JPH08157435 A JP H08157435A JP 25741395 A JP25741395 A JP 25741395A JP 25741395 A JP25741395 A JP 25741395A JP H08157435 A JPH08157435 A JP H08157435A
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group
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lower alkyl
atom
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Muneharu Mizukai
宗治 水貝
Hiroyuki Komai
浩之 駒井
Takashi Sakamoto
坂本  隆
Toyokuni Honma
豊邦 本間
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Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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Abstract

PURPOSE: To obtain the subject new compound presenting virtually no chemical injuries no paddy rice, presenting, in contrast, excellent herbicidal activity at low doses on Echinochloa oryzicola, a kind of persistent paddy weed, thus useful as a herbicide, esp. for applying to paddy fields. CONSTITUTION: This new compound is expressed by formula I [R<1> is a (halogen- substituted) 1-6C alkyl; R<2> is H, a (1-6C alkylthio-substituted) 1-6C alkyl, 3-6C alkenyl, etc.; R<3> is a 1-6C alkyl, 1-6C alkoxyl or halogen; R<4> is H or a 1-6C alkyl; R<5> is a 1-6C alkyl, 1-6C alkoxyl, phenoxy, etc.; A is C≡C or a group of formula CR<6> =CH (R<6> is H, a 1-6C alkyl or halogen); n is 0-4; m is 0-5], e.g. O-phenylpropargyl-4-acetamidophenol. The compound of formula I is obtained by reaction of a compound of formula II with a compound of formula III (X<1> is an eliminable group) to form a compound of formula IV which is, if needed, reacted with a compound of formula R<2a> X<2> (X<2> is the same as X<1> ; R<2a> is the same as R<2> except H).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた除草活性を
有する新規なアミノフェノール誘導体及びそれを有効成
分として含有する除草剤組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel aminophenol derivative having excellent herbicidal activity and a herbicidal composition containing it as an active ingredient.

【0002】[0002]

【従来の技術】アミノフェノール誘導体としては、これ
まで、1,1−ジメチル−3−(4−フェニルプロパル
ギルオキシフェニル)ウレア(USP4,289,90
3)及び1,1−ジメチル−3−{4−(2−メチルシ
ンナモイルオキシ)フェニル}ウレア(特開昭59−1
93810号公報)が、いずれも畑作除草活性を有する
ことが知られている。
2. Description of the Related Art As aminophenol derivatives, 1,1-dimethyl-3- (4-phenylpropargyloxyphenyl) urea (USP 4,289,90) has hitherto been known.
3) and 1,1-dimethyl-3- {4- (2-methylcinnamoyloxy) phenyl} urea (JP-A-59-1)
No. 93810) are known to have upland herbicidal activity.

【0003】しかしながら、これら化合物は、ウレア部
分構造を有している点で本願化合物と異なっている。ま
た、本願化合物がヒエに対して優れた除草活性を示し水
田用除草剤として有用である反面、上記先行技術の化合
物はヒエに対する効力が低く水田用除草剤としては有用
でないという点、すなわち除草スペクトルの点からも、
全く異なるものである。
However, these compounds differ from the compounds of the present invention in that they have a urea partial structure. Further, while the compound of the present application exhibits excellent herbicidal activity against fly, and is useful as a herbicide for paddy field, the compound of the prior art has low potency against fly and is not useful as a herbicide for paddy field, that is, herbicidal spectrum. From the point of
It's completely different.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、アミノフ
ェノール誘導体の合成とその生物活性について永年に亘
り鋭意研究を行なった結果、既知の化合物とは構造を異
にした新規なアミノフェノール誘導体が、水稲に対する
薬害をほとんど示さず、しかも水田の強害雑草であるタ
イヌビエに対して低薬量で優れた除草活性を示すことを
見出し、本発明を完成した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of years of earnest research on the synthesis and biological activity of aminophenol derivatives, the present inventor found that a novel aminophenol derivative having a structure different from that of a known compound was found. The present invention has been completed, and it was found that they show almost no phytotoxicity to paddy rice, and that they show excellent herbicidal activity at a low dose against Tainubie, which is a highly damaging weed in paddy fields.

【0005】[0005]

【発明の構成】Configuration of the Invention

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(I)
The present invention has the following general formula (I):

【0007】[0007]

【化5】 Embedded image

【0008】[式中、R1 は、C1〜C6低級アルキル
基(当該低級アルキル基は、ハロゲン原子により置換さ
れても良い)を示し、R2 は、水素原子、C1〜C6低
級アルキル基(当該低級アルキル基は、C1〜C6低級
アルキルチオ基又はC1〜C6低級アルキルスルホニル
基により置換されていても良い)、C3〜C6低級アル
ケニル基、C3〜C6低級アルキニル基、フェニルプロ
パルギル基(当該フェニル基は、ハロゲン原子、C1〜
C6低級アルキル基又はC1〜C6低級アルコキシ基に
より置換されていても良い)又はベンジル基を示し、R
3 は、C1〜C6低級アルキル基、C1〜C6低級アル
コキシ基又はハロゲン原子を示し、R4 は、水素原子又
はC1〜C6低級アルキル基を示し、R5 は、C1〜C
6低級アルキル基、C1〜C6低級アルコキシ基、フェ
ノキシ基、ハロゲン原子又はトリフルオロメチル基を示
し、Aは、式−C≡C−で表される基又は式−C(R
6 )=CH−で表される基(R6 は、水素原子、C1〜
C6低級アルキル基又はハロゲン原子を示す)を示し、
nは0又は1乃至4の整数を示し(但し、nが2乃至4
の場合は、それぞれのR3 は同一又は異なっていても良
い)、mは0又は1乃至5の整数を示す(但し、mが2
乃至5の場合は、それぞれのR5 は同一又は異なってい
ても良い)。]で表されるアミノフェノール誘導体、好
適には、[式中、R1 は、C1〜C4低級アルキル基
(当該低級アルキル基は、ハロゲン原子により置換され
ても良い)を示し、R2 は、水素原子、C1〜C4低級
アルキル基、C3〜C5低級アルケニル基、C3〜C5
低級アルキニル基、フェニルプロパルギル基(当該フェ
ニル基は、ハロゲン原子、C1〜C4低級アルキル基又
はC1〜C3低級アルコキシ基により置換されていても
良い)又はベンジル基を示し、R3 は、C1〜C4低級
アルキル基、C1〜C3低級アルコキシ基又はハロゲン
原子を示し、R4 は、水素原子又はC1〜C4低級アル
キル基を示し、R5 は、C1〜C4低級アルキル基、C
1〜C3低級アルコキシ基、フェノキシ基又はハロゲン
原子を示し、Aは、式−C≡C−で表される基又は式−
C(R6)=CH−で表される基(R6 は、水素原子、
C1〜C4低級アルキル基又はハロゲン原子を示す)を
示し、nは0又は1乃至4の整数を示し(但し、nが2
乃至4の場合は、それぞれのR3 は同一又は異なってい
ても良い)、mは0又は1乃至5の整数を示す(但し、
mが2乃至5の場合は、それぞれのR5 は同一又は異な
っていても良い)。]で表されるアミノフェノール誘導
体、更に好適には、[式中、R1 は、メチル基(当該メ
チル基は、弗素原子又は塩素原子により置換されても良
い)を示し、R2 は、水素原子又はフェニルプロパルギ
ル基(当該フェニル基は、弗素原子、塩素原子又はメト
キシ基により置換されていても良い)を示し、R3 は、
メチル基又は塩素原子を示し、R4 は、水素原子を示
し、R5は、メチル基、メトキシ基、弗素原子又は塩素
原子を示し、Aは、式−C≡C−で表される基又は式−
C(R6 )=CH−で表される基(R6 は、水素原子又
は塩素原子を示す)を示し、nは0、1又は2を示し
(但し、nが2の場合は、それぞれのR3 は同一又は異
なっていても良い)、mは0、1又は2を示す(但し、
mが2の場合は、それぞれのR5 は同一又は異なってい
ても良い)。]で表されるアミノフェノール誘導体、よ
り更に好適には、[式中、R1 は、メチル基又はフルオ
ロメチル基を示し、R2 は、水素原子を示し、R3 は、
メチル基を示し、R4 は、水素原子を示し、R5 は、メ
トキシ基、弗素原子又は塩素原子を示し、Aは、式−C
≡C−で表される基を示し、nは0、1又は2を示し
(但し、nが2の場合は、それぞれのR3 は同一又は異
なっていても良い)、mは0、1又は2を示す(但し、
mが2の場合は、それぞれのR5 は同一又は異なってい
ても良い)。]で表されるアミノフェノール誘導体、及
び、それらアミノフェノール誘導体を有効成分として含
有する除草剤である。
[In the formula, R 1 represents a C1 to C6 lower alkyl group (the lower alkyl group may be substituted with a halogen atom), R 2 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 lower alkyl group ( The lower alkyl group may be substituted with a C1 to C6 lower alkylthio group or a C1 to C6 lower alkylsulfonyl group), a C3 to C6 lower alkenyl group, a C3 to C6 lower alkynyl group, a phenylpropargyl group (the phenyl group). Is a halogen atom, C1
C6 lower alkyl group or C1 to C6 lower alkoxy group may be substituted) or benzyl group, R
3 is C1 -C6 lower alkyl group, a C1 -C6 lower alkoxy group or a halogen atom, R 4 represents a hydrogen atom or a C1 -C6 lower alkyl group, R 5 is C1~C
6 lower alkyl group, C1 to C6 lower alkoxy group, phenoxy group, halogen atom or trifluoromethyl group, A is a group represented by the formula —C≡C— or a formula —C (R
6) = CH- a group represented by (R 6 is a hydrogen atom, C1 to
C6 lower alkyl group or halogen atom) is shown,
n is 0 or an integer of 1 to 4 (provided that n is 2 to 4)
In the case of, each R 3 may be the same or different, and m is 0 or an integer of 1 to 5 (provided that m is 2).
In the case of 1 to 5 , each R 5 may be the same or different). ], Preferably, [wherein R 1 represents a C1-C4 lower alkyl group (the lower alkyl group may be substituted with a halogen atom), and R 2 represents Hydrogen atom, C1-C4 lower alkyl group, C3-C5 lower alkenyl group, C3-C5
A lower alkynyl group, a phenylpropargyl group (the phenyl group may be substituted with a halogen atom, a C1 to C4 lower alkyl group or a C1 to C3 lower alkoxy group) or a benzyl group, and R 3 represents C1 to C4. lower alkyl group, a C1~C3 lower alkoxy group or a halogen atom, R 4 represents a hydrogen atom or a C1 -C4 lower alkyl group, R 5 is C1 -C4 lower alkyl groups, C
1 to C3 is a lower alkoxy group, a phenoxy group or a halogen atom, and A is a group represented by the formula -C≡C- or a formula-
A group represented by C (R 6 ) ═CH— (R 6 is a hydrogen atom,
C1 to C4 is a lower alkyl group or a halogen atom, and n is 0 or an integer of 1 to 4 (where n is 2).
In the case of 4 to 4, each R 3 may be the same or different), m is 0 or an integer of 1 to 5 (provided that
When m is 2 to 5, each R 5 may be the same or different). ], More preferably, [wherein R 1 represents a methyl group (the methyl group may be substituted with a fluorine atom or a chlorine atom), and R 2 represents hydrogen] An atom or a phenylpropargyl group (the phenyl group may be substituted with a fluorine atom, a chlorine atom or a methoxy group), and R 3 is
A methyl group or a chlorine atom, R 4 represents a hydrogen atom, R 5 represents a methyl group, a methoxy group, a fluorine atom or a chlorine atom, and A represents a group represented by the formula —C≡C— or Expression −
C (R 6 ) ═CH— represents a group (R 6 represents a hydrogen atom or a chlorine atom), n represents 0, 1 or 2 (provided that when n is 2, each R 3 may be the same or different, and m represents 0, 1 or 2 (provided that
When m is 2, each R 5 may be the same or different). ] More preferably, the aminophenol derivative represented by the formula [wherein R 1 represents a methyl group or a fluoromethyl group, R 2 represents a hydrogen atom, and R 3 represents
Represents a methyl group, R 4 represents a hydrogen atom, R 5 represents a methoxy group, a fluorine atom or a chlorine atom, and A represents a formula —C.
Represents a group represented by ≡C-, n represents 0, 1 or 2 (provided that when n is 2, each R 3 may be the same or different), m is 0, 1 or 2 (however,
When m is 2, each R 5 may be the same or different). ] The aminophenol derivative represented by these, and a herbicide containing these aminophenol derivatives as an active ingredient.

【0009】上記において、「ハロゲン原子」とは、弗
素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。R1
の低級アルキル基の置換分、R2 のフェニルプロパルギ
ル基の置換分、R3 、R5 において、好適には弗素原子
又は塩素原子である。R6 において、好適には塩素原子
又は沃素原子である。
In the above, the "halogen atom" is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. R 1
In the substitution of the lower alkyl group of R 2 , the substitution of the phenylpropargyl group of R 2 , and R 3 and R 5 , a fluorine atom or a chlorine atom is preferable. R 6 is preferably a chlorine atom or an iodine atom.

【0010】上記において、「C1〜C6低級アルキル
基」とは、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソ
プロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチ
ル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオ
ペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペ
ンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチ
ルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチ
ル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジ
メチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチルの
ような、炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基
であり、好適には炭素数1乃至5個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基であり、更に好適には炭素数1乃至4個の直鎖
又は分枝鎖アルキル基(C1〜C4低級アルキル基)で
あり、より更に好適には炭素数1乃至2個のアルキル基
であり、最も好適にはメチル基である。
In the above, "C1-C6 lower alkyl group" means, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, 2 -Methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1, A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as 1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl It is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (C1 to C4 lower alkyl group). Yes, more preferably 1 to 2 carbon atoms An alkyl group, and most preferably a methyl group.

【0011】上記において、「C3〜C6低級アルケニ
ル基」とは、例えば、2-プロペニル、1-メチル-2- プロ
ペニル、2-メチル-2- プロペニル、2-エチル-2- プロペ
ニル、2-ブテニル、1-メチル-2- ブテニル、2-メチル-2
- ブテニル、1-エチル-2- ブテニル、3-ブテニル、1-メ
チル-3- ブテニル、2-メチル-3- ブテニル、1-エチル-3
- ブテニル、2-ペンテニル、1-メチル-2- ペンテニル、
2-メチル-2- ペンテニル、3-ペンテニル、1-メチル-3-
ペンテニル、2-メチル-3- ペンテニル、4-ペンテニル、
1-メチル-4- ペンテニル、2-メチル-4- ペンテニル、2-
ヘキセニル、3-ヘキセニル、4-ヘキセニル、5-ヘキセニ
ルのような、炭素数3乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルケ
ニル基であり、好適には炭素数3乃至5個の直鎖又は分
枝鎖アルケニル基(C3〜C5低級アルケニル基)であ
り、更に好適には2-プロペニル基である。
In the above, "C3-C6 lower alkenyl group" means, for example, 2-propenyl, 1-methyl-2-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 2-butenyl. , 1-methyl-2-butenyl, 2-methyl-2
-Butenyl, 1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-butenyl, 2-methyl-3-butenyl, 1-ethyl-3
-Butenyl, 2-pentenyl, 1-methyl-2-pentenyl,
2-methyl-2-pentenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-
Pentenyl, 2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl,
1-methyl-4-pentenyl, 2-methyl-4-pentenyl, 2-
A linear or branched alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms, such as hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, and 5-hexenyl, preferably a linear or branched chain having 3 to 5 carbon atoms A chain alkenyl group (C3-C5 lower alkenyl group), and more preferably a 2-propenyl group.

【0012】上記において、「C3〜C6低級アルキニ
ル基」とは、例えば、2-プロピニル、1-メチル-2- プロ
ピニル、2-メチル-2- プロピニル、2-エチル-2- プロピ
ニル、2-ブチニル、1-メチル-2- ブチニル、2-メチル-2
- ブチニル、1-エチル-2- ブチニル、3-ブチニル、1-メ
チル-3- ブチニル、2-メチル-3- ブチニル、1-エチル-3
- ブチニル、2-ペンチニル、1-メチル-2- ペンチニル、
2-メチル-2- ペンチニル、3-ペンチニル、1-メチル-3-
ペンチニル、2-メチル-3- ペンチニル、4-ペンチニル、
1-メチル-4- ペンチニル、2-メチル-4- ペンチニル、2-
ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニ
ルのような、炭素数3乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ニル基であり、好適には炭素数3乃至5個の直鎖又は分
枝鎖アルキニル基(C3〜C5低級アルキニル基)であ
る。
In the above, "C3-C6 lower alkynyl group" means, for example, 2-propynyl, 1-methyl-2-propynyl, 2-methyl-2-propynyl, 2-ethyl-2-propynyl, 2-butynyl. , 1-methyl-2-butynyl, 2-methyl-2
-Butynyl, 1-ethyl-2-butynyl, 3-butynyl, 1-methyl-3-butynyl, 2-methyl-3-butynyl, 1-ethyl-3
-Butynyl, 2-pentynyl, 1-methyl-2-pentynyl,
2-methyl-2-pentynyl, 3-pentynyl, 1-methyl-3-
Pentynyl, 2-methyl-3-pentynyl, 4-pentynyl,
1-methyl-4-pentynyl, 2-methyl-4-pentynyl, 2-
A straight-chain or branched-chain alkynyl group having 3 to 6 carbon atoms, such as hexynyl, 3-hexynyl, 4-hexynyl, and 5-hexynyl, preferably a straight-chain or branched group having 3 to 5 carbon atoms. A chain alkynyl group (C3-C5 lower alkynyl group).

【0013】上記において、「C1〜C6低級アルコキ
シ基」とは、例えば、メトキシ、エトキシ、n-プロポキ
シ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、s-ブ
トキシ、t-ブトキシ、n-ペントキシ、イソペントキシ、
2-メチルブトキシ、ネオペントキシ、1-エチルプロポキ
シ、n-ヘキシルオキシ、4-メチルペントキシ、3-メチル
ペントキシ、2-メチルペントキシ、1-メチルペントキ
シ、3,3-ジメチルブトキシ、2,2-ジメチルブトキシ、1,
1-ジメチルブトキシ、1,2-ジメチルブトキシ、1,3-ジメ
チルブトキシ、2,3-ジメチルブトキシ、2-エチルブトキ
シのような、炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルコ
キシ基であり、好適には炭素数1乃至3個の直鎖又は分
枝鎖アルコキシ基(C1〜C3低級アルコキシ基)であ
り、更に好適にはメトキシ基又はエトキシ基である。
In the above, "C1-C6 lower alkoxy group" means, for example, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, s-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy, isopentoxy,
2-methylbutoxy, neopentoxy, 1-ethylpropoxy, n-hexyloxy, 4-methylpentoxy, 3-methylpentoxy, 2-methylpentoxy, 1-methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2, 2-dimethylbutoxy, 1,
A linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as 1-dimethylbutoxy, 1,2-dimethylbutoxy, 1,3-dimethylbutoxy, 2,3-dimethylbutoxy, 2-ethylbutoxy. It is preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms (C1 to C3 lower alkoxy group), and more preferably a methoxy group or an ethoxy group.

【0014】上記において、「C1〜C6低級アルキル
チオ基」とは、例えば、メチルチオ、エチルチオ、n-プ
ロピルチオ、イソプロピルチオ、n-ブチルチオ、イソブ
チルチオ、s-ブチルチオ、t-ブチルチオ、n-ペンチルチ
オ、イソペンチルチオ、2-メチルブチルチオ、ネオペン
チルチオ、1-エチルプロピルチオ、n-ヘキシルチオ、4-
メチルペンチルチオ、3-メチルペンチルチオ、2-メチル
ペンチルチオ、1-メチルペンチルチオ、3,3-ジメチルブ
チルチオ、2,2-ジメチルブチルチオ、1,1-ジメチルブチ
ルチオ、1,2-ジメチルブチルチオ、1,3-ジメチルブチル
チオ、2,3-ジメチルブチルチオ、2-エチルブチルチオ基
のような、炭素数1乃至6個の低級アルキルチオ基であ
り、好適には炭素数1乃至3個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ルチオ基であり、更に好適にはメチルチオ、エチルチオ
基である。
In the above, "C1-C6 lower alkylthio group" means, for example, methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio, n-butylthio, isobutylthio, s-butylthio, t-butylthio, n-pentylthio, iso- Pentylthio, 2-methylbutylthio, neopentylthio, 1-ethylpropylthio, n-hexylthio, 4-
Methylpentylthio, 3-methylpentylthio, 2-methylpentylthio, 1-methylpentylthio, 3,3-dimethylbutylthio, 2,2-dimethylbutylthio, 1,1-dimethylbutylthio, 1,2- A lower alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, such as dimethylbutylthio, 1,3-dimethylbutylthio, 2,3-dimethylbutylthio, 2-ethylbutylthio group, preferably 1 to 6 carbon atoms. Three linear or branched alkylthio groups are preferred, and methylthio and ethylthio groups are more preferred.

【0015】上記において、「C1〜C6低級アルキル
スルホニル基」とは、例えば、メチルスルホニル、エチ
ルスルホニル、n-プロピルスルホニル、イソプロピルス
ルホニル、n-ブチルスルホニル、イソブチルスルホニ
ル、s-ブチルスルホニル、t-ブチルスルホニル、n-ペン
チルスルホニル、イソペンチルスルホニル、2-メチルブ
チルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、1-エチルプ
ロピルスルホニル、n-ヘキシルスルホニル、4-メチルペ
ンチルスルホニル、3-メチルペンチルスルホニル、2-メ
チルペンチルスルホニル、1-メチルペンチルスルホニ
ル、3,3-ジメチルブチルスルホニル、2,2-ジメチルブチ
ルスルホニル、1,1-ジメチルブチルスルホニル、1,2-ジ
メチルブチルスルホニル、1,3-ジメチルブチルスルホニ
ル、2,3-ジメチルブチルスルホニル、2-エチルブチルス
ルホニル基のような、炭素数1乃至6個の低級アルキル
スルホニル基であり、好適には炭素数1乃至3個の直鎖
又は分枝鎖アルキルスルホニル基であり、更に好適には
メチルスルホニル、エチルスルホニル基である。
In the above, "C1-C6 lower alkylsulfonyl group" means, for example, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, s-butylsulfonyl, t-butyl. Sulfonyl, n-pentylsulfonyl, isopentylsulfonyl, 2-methylbutylsulfonyl, neopentylsulfonyl, 1-ethylpropylsulfonyl, n-hexylsulfonyl, 4-methylpentylsulfonyl, 3-methylpentylsulfonyl, 2-methylpentylsulfonyl, 1-methylpentylsulfonyl, 3,3-dimethylbutylsulfonyl, 2,2-dimethylbutylsulfonyl, 1,1-dimethylbutylsulfonyl, 1,2-dimethylbutylsulfonyl, 1,3-dimethylbutylsulfonyl, 2,3- Dimethylbutylsulfonyl, 2- A lower alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a butylbutylsulfonyl group, preferably a linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably methylsulfonyl group. , An ethylsulfonyl group.

【0016】ハロゲン原子により置換されたC1〜C6
低級アルキル基とは、例えば、クロルメチル、ジクロル
メチル、トリクロルメチル、1-クロルエチル、2-クロル
エチル、1-クロルプロピル、3-クロルプロピル、1-クロ
ルブチル、4-クロルブチル、フルオロメチル、ジフルオ
ロメチル、トリフルオロメチル、1-フルオロエチル、2-
フルオロエチル、フルオロクロルメチル、ブロモメチ
ル、1-ブロモメチル、2-ブロモエチルのような、前記
「ハロゲン原子」が1乃至4個前記「C1〜C6低級ア
ルキル基」に結合した基であり、好適にはフルオロメチ
ル基である。
C1 to C6 substituted by a halogen atom
The lower alkyl group is, for example, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, 1-chloroethyl, 2-chloroethyl, 1-chloropropyl, 3-chloropropyl, 1-chlorobutyl, 4-chlorobutyl, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl. , 1-fluoroethyl, 2-
Fluoroethyl, fluorochloromethyl, bromomethyl, 1-bromomethyl, 2-bromoethyl is a group in which 1 to 4 of the above "halogen atoms" are bonded to the above "C1 to C6 lower alkyl group", and preferably fluoro It is a methyl group.

【0017】上記一般式(I)において、R1 は、好適
には、メチル基又はエチル基(当該メチル基又はエチル
基は、弗素原子により置換されても良い)であり、更に
好適には、メチル基又はフルオロメチル基である。
In the above general formula (I), R 1 is preferably a methyl group or an ethyl group (the methyl group or ethyl group may be substituted with a fluorine atom), and more preferably, It is a methyl group or a fluoromethyl group.

【0018】上記一般式(I)において、R2 は、好適
には、水素原子又はフェニルプロパルギル基(当該フェ
ニル基は、ハロゲン原子、C1〜C6低級アルキル基又
はC1〜C6低級アルコキシ基により置換されていても
良い)であり、更に好適には、水素原子である。
In the above general formula (I), R 2 is preferably a hydrogen atom or a phenylpropargyl group (the phenyl group is substituted with a halogen atom, a C1 to C6 lower alkyl group or a C1 to C6 lower alkoxy group). May be present), and more preferably a hydrogen atom.

【0019】上記一般式(I)において、R3 は、好適
には、C1〜C6低級アルキル基又はハロゲン原子であ
り、更に好適には、メチル基である。
In the above general formula (I), R 3 is preferably a C1 to C6 lower alkyl group or a halogen atom, and more preferably a methyl group.

【0020】上記一般式(I)において、R4 は、好適
には、水素原子、メチル基又はエチル基であり、更に好
適には水素原子である。
In the above general formula (I), R 4 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and more preferably a hydrogen atom.

【0021】上記一般式(I)において、R5 は、好適
には、C1〜C6低級アルキル基、C1〜C6低級アル
コキシ基又はハロゲン原子であり、更に好適には、メト
キシ基又はハロゲン原子である。
In the above general formula (I), R 5 is preferably a C1 to C6 lower alkyl group, a C1 to C6 lower alkoxy group or a halogen atom, and more preferably a methoxy group or a halogen atom. .

【0022】上記一般式(I)において、Aは、好適に
は、式−C≡C−で表される基である。
In the above general formula (I), A is preferably a group represented by the formula —C≡C—.

【0023】上記一般式(I)において、R6 は、好適
には、水素原子又はハロゲン原子である。
In the above general formula (I), R 6 is preferably a hydrogen atom or a halogen atom.

【0024】上記一般式(I)において、n及びmは、
好適には、0、1又は2であり、更に好適には、0又は
2である。
In the above general formula (I), n and m are
It is preferably 0, 1 or 2, and more preferably 0 or 2.

【0025】本発明の代表的化合物を下記表1乃至7に
例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されるもの
ではない。
Representative compounds of the present invention are shown in Tables 1 to 7 below, but the present invention is not limited to these compounds.

【0026】以下、Meはメチル基を、Etはエチル基
を、nPrはn−プロピル基を、iPrはイソプロピル
基を、nBuはn−ブチル基を、Phはフェニル基を、
それぞれ示す。
Hereinafter, Me is a methyl group, Et is an ethyl group, nPr is an n-propyl group, iPr is an isopropyl group, nBu is an n-butyl group, and Ph is a phenyl group.
Shown respectively.

【0027】R3 及びR5 の欄において、置換基の前の
数字は、その置換基の置換位置を示し、置換基の後の下
付きの数字は、その置換基の置換数を示す。例えば、2
−CF3 は2位に置換したトリフルオロメチル基であ
り、2,4−Cl2 は2,4−ジクロロ基である。
In the columns R 3 and R 5 , the number before the substituent indicates the substitution position of the substituent, and the subscript number after the substituent indicates the number of substitutions of the substituent. For example, 2
-CF 3 is trifluoromethyl group substituted at the 2-position, 2, 4-Cl 2 is 2,4-dichloro group.

【0028】[0028]

【表1】[Table 1]

【0029】[0029]

【化6】 [Chemical 6]

【0030】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 R1 物性(℃) ──────────────────────────────────── 1.1 Me 135-139 1.2 Et 121-123 1.3 nPr 107-110 1.4 nBu 86-88 1.5 iPr 1.6 CH2 F 128-129 1.7 CH2 Cl 130-131 1.8 CHCl2 140-142 1.9 CF3 135-138 1.10 CH2 Br 1.11 CHClF ───────────────────────────────────────────────────────────────────────── Compound No. R 1 Physical properties (℃) ─── ───────────────────────────────── 1.1 Me 135-139 1.2 Et 121-123 1.3 nPr 107-110 1.4 nBu 86-88 1.5 iPr 1.6 CH 2 F 128-129 1.7 CH 2 Cl 130-131 1.8 CHCl 2 140-142 1.9 CF 3 135-138 1 10 CH 2 Br 1.11 CHClF ─────────────────────────────────────

【0031】[0031]

【表2】[Table 2]

【0032】[0032]

【化7】 [Chemical 7]

【0033】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 R2 (R5m 物性(℃) ──────────────────────────────────── 2.1 Me H 90-91 2.2 CH2 CH=CH2 H 81-84 2.3 CH2 C≡CH H 93-97 2.4 CH2 Ph H オイル 2.5 CH2 SMe H アモルファス 2.6 CH2 SO2 Me H 120-122 2.7 CH2 C≡CPh H 2.8 CH2 C≡C(4−F−Ph) H 2.9 CH2 C≡C(4−F−Ph) 4−F 2.10 CH2 C≡C(4−OMe−Ph) 4−OMe オイル 2.11 CH2 C≡C(4−Me−Ph) 4−Me 165-170 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Compound number R 2 (R 5 ) m Physical properties ( ℃) ──────────────────────────────────── 2.1 Me H 90-91 2.2 CH 2 CH = CH 2 H 81-84 2.3 CH 2 C≡CH H 93-97 2.4 CH 2 Ph H oil 2.5 CH 2 SMe H amorphous 2.6 CH 2 SO 2 Me H 120-122 2 0.7 CH 2 C≡CPh H 2.8 CH 2 C≡C (4-F-Ph) H 2.9 CH 2 C≡C (4-F-Ph) 4-F 2.10 CH 2 C≡C (4-OMe-Ph) 4-OMe oil 2.11 CH 2 C≡C (4-Me-Ph) 4-Me 165-170 ─────────────────── ──────────────────

【0034】[0034]

【表3】[Table 3]

【0035】[0035]

【化8】 Embedded image

【0036】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 (R3n 物性(℃) ──────────────────────────────────── 3.1 3−Me 73-75 3.2 2−Me 146-148 3.3 2,3−(Me)2 180-183 3.4 2,5−(Me)2 160-162 3.5 3,5−(Me)2 アモルファス 3.6 2,6−(Me)2 3.7 2−F 3.8 2−Cl 3.9 3−F 3.10 3−Cl 118-119 3.11 2,3−F2 3.12 2,3−Cl2 3.13 2,5−F2 3.14 2,5−Cl2 150-155 3.15 3,5−F2 3.16 3,5−Cl2 201-204 3.17 2,6−F2 3.18 2,6−Cl2 3.19 2−Me,5−Cl 169-171 3.20 2−OMe,5−Cl 138-139 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Compound number (R 3 ) n Physical properties (℃) ──────────────────────────────────── 3.1 3-Me 73-75 3.2 2- Me 146-148 3.3 2,3- (Me) 2 180-183 3.4 2,5- (Me) 2 160-162 3.5 3,5- (Me) 2 amorphous 3.6 2,6 -(Me) 2 3.7 2-F 3.8 2-Cl 3.9 3-F 3.10 3-Cl 118-119 3.11 2,3-F 2 3.12 2,3-Cl 2 3.13 2,5-F 2 3.14 2,5-Cl 2 150-155 3.15 3,5-F 2 3.16 3,5-Cl 2 201-204 3.17 2,6-F 2 3.18 2,6-Cl 2 3.19 2 -Me, 5-Cl 169-171 3.20 2-OMe, 5-Cl 138-139 ───────────────────────────────────

【0037】[0037]

【表4】[Table 4]

【0038】[0038]

【化9】 [Chemical 9]

【0039】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 R4 物性(℃) ──────────────────────────────────── 4.1 Me 124-128 4.2 Et 78-80 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Compound No. R 4 Physical property (℃) ─── ───────────────────────────────── 4.1 Me 124-128 4.2 Et 78-80 ─── ──────────────────────────────────

【0040】[0040]

【表5】[Table 5]

【0041】[0041]

【化10】 [Chemical 10]

【0042】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 (R5m 物性(℃) ──────────────────────────────────── 5.1 2−Me 5.2 3−Me 96-97 5.3 4−Me 215-218 5.4 2−F 160-162 5.5 3−F 110-116 5.6 4−F 155-157 5.7 2,3−F2 5.8 2,4−F2 115-117 5.9 2,5−F2 115-118 5.10 2,6−F2 182-183 5.11 3,4−F2 5.12 3,5−F2 5.13 2,3,5−F3 5.14 2,4,6−F3 5.15 2,4,5−F3 5.16 2,3,6−F3 5.17 2,3,5,6−F4 5.18 2,3,4,5,6−F5 5.19 2−Cl 133-135 5.20 3−Cl 5.21 4−Cl 170-180 5.22 2,3−Cl2 5.23 2,4−Cl2 110-112 5.24 2,5−Cl2 5.25 2,6−Cl2 5.26 3,4−Cl2 5.27 3,5−Cl2 5.28 2,3,5−Cl3 5.29 2,4,6−Cl3 5.30 2,4,5−Cl3 5.31 2,3,6−Cl3 5.32 2−Cl,4−F 143-146 5.33 2−F,6−Cl 168-170 5.34 2−OMe 114-115 5.35 3−OMe 77-78 5.36 4−OMe 165-170 5.37 2,3−(OMe)2 104-105 5.38 2,4−(OMe)2 オイル 5.39 2,5−(OMe)2 107-109 5.40 2,6−(OMe)2 5.41 3,4−(OMe)2 100-102 5.42 3,5−(OMe)2 94-95 5.43 2−OEt 94-96 5.44 4−OEt 73-75 5.45 3−OPh 72-74 5.46 4−OPh 128-132 5.47 2−CF3 108-112 5.48 3−CF3 5.49 4−CF3 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Compound number (R 5 ) m Physical properties (℃) ──────────────────────────────────── 5.1 2-Me 5.2 5.2 3-Me 96- 97 5.3 4-Me 215-218 5.4 2-F 160-162 5.5 3-F 110-116 5.6 4-F 155-157 5.7 2,3-F 2 5.8 2 , 4-F 2 115-117 5.9 2,5-F 2 115-118 5.10 2,6-F 2 182-183 5.11 3,4-F 2 5.12 3,5-F 2 5.13 2,3,5-F 3 5.14 2,4,6-F 3 5.15 2,4,5-F 3 5.16 2,3,6-F 3 5.17 2,3 , 5,6-F 4 5.18 2,3,4,5,6- F 5 5.19 2-Cl 133-135 5.20 3-Cl 5.21 4-Cl 170-180 5.22 , 3-Cl 2 5.23 2,4- Cl 2 110-112 5.24 2,5-Cl 2 5.25 2,6-Cl 2 5.26 3,4-Cl 2 5.27 3,5 -Cl 2 5.28 2,3,5-Cl 3 5.29 2,4,6-Cl 3 5.30 2,4,5-Cl 3 5.31 2,3,6-Cl 3 5.32 2-Cl, 4-F 143-146 5.33 2-F, 6-Cl 168-170 5.34 2-OMe 114-115 5.35 3-OMe 77-78 5.36 4-OMe 165-170 5.37 2,3- (OMe) 2 104-105 5.38 2,4- (OMe) 2 oil 5.39 2,5- (OMe) 2 107-109 5.40 2,6- (OMe) 2 5.41 3,4- (OMe) 2 100-102 5.42 3,5- (OMe) 2 94-95 5.43 2-OEt 94-96 5.44 4-OEt 73-75 5.45 3-OPh 72-74 5.46 4-OPh 128-132 5 .47 2-CF 3 108-112 5.48 3-CF 3 5.49 4-CF 3 ──────────────────────────── ─────────

【0043】[0043]

【表6】[Table 6]

【0044】[0044]

【化11】 [Chemical 11]

【0045】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 (R5m 物性(℃) ──────────────────────────────────── 6.1 H 170-172 6.2 2−F 6.3 3−F 6.4 4−F 6.5 2,3−F2 6.6 2,4−F2 162-164 6.7 2,5−F2 143-145 6.8 2,6−F2 105-108 6.9 3,4−F2 6.10 3,5−F2 6.11 2,3,5−F3 6.12 2,4,6−F3 6.13 2,4,5−F3 6.14 2,3,6−F3 6.15 2,3,5,6−F4 6.16 2,3,4,5,6−F5 6.17 2−Cl 120-121 6.18 3−Cl 6.19 4−Cl 6.20 2,3−Cl2 6.21 2,4−Cl2 6.22 2,5−Cl2 6.23 2,6−Cl2 6.24 3,4−Cl2 6.25 3,5−Cl2 6.26 2,3,5−Cl3 6.27 2,4,6−Cl3 6.28 2,4,5−Cl3 6.29 2,3,6−Cl3 6.30 2−Cl,4−F 134-137 6.31 2−F,6−Cl 98-100 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Compound number (R 5 ) m Physical property (℃) ──────────────────────────────────── 6.1 H 170-172 6.2 2-F 6 .3 3-F 6.4 4-F 6.5 2,3-F 2 6.6 2,4-F 2 162-164 6.7 2,5-F 2 143-145 6.8 2,6 -F 2 105-108 6.9 3,4-F 2 6.10 3,5-F 2 6.11 2,3,5-F 3 6.12 2,4,6-F 3 6.13 2 , 4,5-F 3 6.14 2,3,6- F 3 6.15 2,3,5,6-F 4 6.16 2,3,4,5,6-F 5 6.17 2 -Cl 120-121 6.18 3-Cl 6.19 4-Cl 6.20 2,3-Cl 2 6.21 2,4-Cl 2 6.22 2,5-Cl 2 6.23 2,6-Cl 2 6.24 3,4-Cl 2 6.25 3,5-Cl 2 6.26 2,3,5-Cl 3 6.27 2,4,6-Cl 3 6.28 2 , 4,5-Cl 3 6.29 2,3,6-Cl 3 6.30 2-Cl, 4-F 134-137 6.31 2-F, 6-Cl 98-100 ────── ──────────────────────────────

【0046】[0046]

【表7】[Table 7]

【0047】[0047]

【化12】 [Chemical 12]

【0048】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 R26 (R5m 物性(℃) ──────────────────────────────────── 7.1 H Cl H 102-104 7.2 H Cl H 108-110 7.3 H Cl 2−F 90-92 7.4 H Cl 3−F 7.5 H Cl 4−F 142-143 7.6 H Cl 2,3−F2 7.7 H Cl 2,4−F2 7.8 H Cl 2,5−F2 7.9 H Cl 2,6−F2 7.10 H Cl 3,4−F2 7.11 H Cl 3,5−F2 7.12 H Cl 2−Cl 126-128 7.13 H Cl 3−Cl 7.14 H Cl 4−Cl 134-135 7.15 H Cl 4−Cl 142-143 7.16 H Cl 2,3−Cl2 7.17 H Cl 2,4−Cl2 7.18 H Cl 2,5−Cl2 7.19 H Cl 2,6−Cl2 7.20 H Cl 3,4−Cl2 7.21 H Cl 3,5−Cl2 7.22 H Cl 2−Me 105-108 7.23 H Cl 3−Me 7.24 H Cl 4−Me アモルファス 7.25 H Cl 4−Me 126-128 7.26 H Cl 2−OMe 140-143 7.27 H Cl 2−OMe 131 7.28 H Cl 3−OMe 7.29 H Cl 4−OMe 116-118 7.30 H I H 7.31 H I 2−F 7.32 H I 3−F 7.33 H I 4−F 7.34 H I 2,4−F2 7.35 H I 2−Cl 7.36 H I 3−Cl 7.37 H I 4−Cl 7.38 H I 2,4−Cl2 7.39 H I 2−OMe 7.40 H I 2−OEt 110-112 7.41 H I 4−OEt 155-156 7.42 H Me H 7.43 H Me 2−F 7.44 H Me 3−F 7.45 H Me 4−F 142-144 7.46 H Me 2−Cl 7.47 H Me 3−Cl 7.48 H Me 4−Cl 7.49 CH2 C≡CPh H H オイル 7.50 CH2 C≡C(4−F−Ph) H H 108-110 ──────────────────────────────────── 7.1、7.14、7.24、7.26はトランス体で
ある。
──────────────────────────────────── Compound No. R 2 R 6 (R 5 ) m Physical properties (℃) ──────────────────────────────────── 7.1 H Cl H 102-104 7 .2 H Cl H 108-110 7.3 H Cl 2-F 90-92 7.4 H Cl 3-F 7.5 H Cl 4-F 142-143 7.6 H Cl 2,3-F 2 7 .7 H Cl 2,4-F 2 7.8 H Cl 2,5-F 2 7.9 H Cl 2,6-F 2 7.10 H Cl 3,4-F 2 7.11 H Cl 3, 5-F 2 7.12 H Cl 2-Cl 126-128 7.13 H Cl 3-Cl 7.14 H Cl 4-Cl 134-135 7.15 H Cl 4-Cl 142-143 7.16 H Cl 2,3-Cl 2 7.17 H Cl 2,4-Cl 2 7.18 H Cl 2, 5-Cl 2 7.19 H Cl 2,6-Cl 2 7.20 H Cl 3,4-Cl 2 7.21 H Cl 3,5-Cl 2 7.22 H Cl 2-Me 105-108 7. 23 H Cl 3-Me 7.24 H Cl 4-Me Amorphous 7.25 H Cl 4-Me 126-128 7.26 H Cl 2-OMe 140-143 7.27 H Cl 2-OMe 131 7.28 H Cl 3-OMe 7.29 H Cl 4-OMe 116-118 7.30 HI H 7.31 HI 2-F 7.32 HI 3-F 7.33 HI 4-F 7.34 HI 2,4-F 2 7.35 HI 2-Cl 7.36 HI 3-Cl 7.37 HI 4-Cl 7.38 HI 2,4-Cl 2 7.39 HI 2-OMe 7 .40 HI 2-OEt 110-112 7.41 HI 4-OEt 155-156 7.42 H Me H 7.43 H Me 2- 7.44 H Me 3-F 7.45 H Me 4-F 142-144 7.46 H Me 2-Cl 7.47 H Me 3-Cl 7.48 H Me 4-Cl 7.49 CH 2 C≡ CPh H H Oil 7.50 CH 2 C≡C (4-F-Ph) H H 108-110 ─────────────────────────── ────────── 7.1, 7.14, 7.24, 7.26 are transformers.

【0049】7.2、7.15、7.25、7.27
は、シス体である。
7.2, 7.15, 7.25, 7.27
Is a cis form.

【0050】上記表中の一部の化合物について、核磁気
共鳴スペクトルを以下に示す。
Nuclear magnetic resonance spectra of some of the compounds in the above table are shown below.

【0051】化合物2.4 NMR(200MHz,CDCl3) δ:7.45−7.18(10H,
m), 6.99−6.88(4H,m), 4.90
(2H,s), 4.85(2H,s), 1.89
(3H,s). 化合物2.5 NMR(200MHz,CDCl) δ:7.46-7.06
(9H,m), 4.95(2H,s), 4.82(2H,s), 2.17(3H,s), 1.87(3
H,s). 化合物2.10 NMR(200MHz,CDCl3) δ:7.37(2H,d,J=8.9Hz), 7.30-7.2
3(4H,m), 7.08(2H,d,J=8.9Hz), 6.80(4H,t,J=8.9Hz),
4.93(2H,s), 4.67(2H,s), 3.80(3H,s), 3.78(3H,s), 1.
88(3H,s). 化合物3.5 NMR(200MHz,CDCl3) δ:7.40-7.20(7H,m), 6.95(1H,br.
s), 4.65(2H,s), 2.27(6H,s), 1.89(3H,s). 化合物5.38 NMR(200MHz,CDCl3) δ:7.41(2H,d,J=9.0Hz), 7.35-7.2
7(1H,m), 7.09(1H,br.s), 7.01(2H,d,J=9.0Hz), 6.42(2
H,m), 4.91(2H,s), 3.84(3H,s), 3.80(3H,s),2.15(3H,
s). 化合物7.24 NMR(200MHz,CDCl3) δ:7.45-6.98(7H,m), 6.84(2H,d,J
=9.1Hz), 4.74(2H,s),2.35(3H,s), 2.16(3H,s). 化合物7.49 NMR(200MHz,CDCl3) δ:7.45-7.21(12H,m), 7.00(2H,d,
J=8.9Hz), 6.76(1H,d,J=15.9Hz), 6.42(1H,dt,J=15.9,
5.7Hz), 4.73(2H,d,J=5.7Hz), 4.69(2H,s), 1.88(3H,
s). 上記の例示化合物中、好適なものとしては、1.1,
1.6,1.9,2.11,3.3,3.5,3.1
0,4.2,5.2,5.3,5.4,5.5,5.
6,5.8,5.9,5.10,5.19,5.21,
5.32,5.34,5.36,5.43,5.44,
5.46,6.1,6.6,6.7,6.8,6.1
7,6.30,7.1,7.2,7.15,7.22,
7.24,7.25番の化合物を挙げることができる。
Compound 2.4 NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.45-7.18 (10H,
m), 6.99-6.88 (4H, m), 4.90.
(2H, s), 4.85 (2H, s), 1.89
(3H, s). Compound 2.5 NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.46-7.06
(9H, m), 4.95 (2H, s), 4.82 (2H, s), 2.17 (3H, s), 1.87 (3
H, s). Compound 2.10 NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ: 7.37 (2H, d, J = 8.9Hz), 7.30-7.2
3 (4H, m), 7.08 (2H, d, J = 8.9Hz), 6.80 (4H, t, J = 8.9Hz),
4.93 (2H, s), 4.67 (2H, s), 3.80 (3H, s), 3.78 (3H, s), 1.
88 (3H, s). Compound 3.5 NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ: 7.40-7.20 (7H, m), 6.95 (1H, br.
s), 4.65 (2H, s), 2.27 (6H, s), 1.89 (3H, s). Compound 5.38 NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ: 7.41 (2H, d, J = 9.0Hz), 7.35 -7.2
7 (1H, m), 7.09 (1H, br.s), 7.01 (2H, d, J = 9.0Hz), 6.42 (2
H, m), 4.91 (2H, s), 3.84 (3H, s), 3.80 (3H, s), 2.15 (3H,
s). Compound 7.24 NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.45-6.98 (7H, m), 6.84 (2H, d, J
= 9.1Hz), 4.74 (2H, s), 2.35 (3H, s), 2.16 (3H, s). Compound 7.49 NMR (200MHz, CDCl 3 ) δ: 7.45-7.21 (12H, m), 7.00 ( 2H, d,
J = 8.9Hz), 6.76 (1H, d, J = 15.9Hz), 6.42 (1H, dt, J = 15.9,
5.7Hz), 4.73 (2H, d, J = 5.7Hz), 4.69 (2H, s), 1.88 (3H,
s). Among the above exemplified compounds, preferred ones are 1.1,
1.6, 1.9, 2.11, 3.3, 3.5, 3.1
0, 4.2, 5.2, 5.3, 5.4, 5.5, 5.
6, 5.8, 5.9, 5.10, 5.19, 5.21,
5.32, 5.34, 5.36, 5.43, 5.44,
5.46, 6.1, 6.6, 6.7, 6.8, 6.1
7, 6.30, 7.1, 7.2, 7.15, 7.22,
The compounds of 7.24 and 7.25 can be mentioned.

【0052】更に好適なものとしては、1.1,1.
6,5.4,5.5,5.6,5.8,5.9,5.1
0,5.32,5.34,5.36,6.6番の化合物
を挙げることができる。
More preferred are 1.1, 1.
6, 5.4, 5.5, 5.6, 5.8, 5.9, 5.1
The compounds of 0, 5.32, 5.34, 5.36 and 6.6 can be mentioned.

【0053】最も好適な化合物としては、1.1,5.
4,5.5,5.8番の化合物を挙げることができる。
The most preferable compounds are 1.1, 5.
The compounds of Nos. 4,5.5 and 5.8 can be mentioned.

【0054】[0054]

【発明の実施の形態】本発明のアミノフェノール誘導体
は、以下に記載する方法によって製造することができ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The aminophenol derivative of the present invention can be produced by the method described below.

【0055】(A法)(Method A)

【0056】[0056]

【化13】 [Chemical 13]

【0057】上記工程中、R1 、R3 、R4 、R5
A、m及びnは前記と同意義を示し、X1 及びX2 は同
一又は異なって脱離基を示し、R2aはC1〜C6低級ア
ルキル基(当該低級アルキル基は、C1〜C6低級アル
キルチオ基又はC1〜C6低級アルキルスルホニル基に
より置換されていても良い)、C3〜C6低級アルケニ
ル基、C3〜C6低級アルキニル基、フェニルプロパル
ギル基(当該フェニル基は、ハロゲン原子、C1〜C6
低級アルキル基又はC1〜C6低級アルコキシ基により
置換されていても良い)又はベンジル基を示す。
During the above steps, R 1 , R 3 , R 4 , R 5 ,
A, m and n are as defined above, X 1 and X 2 are the same or different and each represents a leaving group, and R 2a is a C1 to C6 lower alkyl group (the lower alkyl group is a C1 to C6 lower alkylthio group). Group or C1-C6 lower alkylsulfonyl group may be substituted), C3-C6 lower alkenyl group, C3-C6 lower alkynyl group, phenylpropargyl group (the phenyl group is a halogen atom, C1-C6
A lower alkyl group or a C1 to C6 lower alkoxy group may be substituted) or a benzyl group.

【0058】X1 及びX2 の定義における「脱離基」と
は、通常求核残基として脱離する基であれば特に限定は
ないが、好適には、塩素原子、臭素原子、沃素原子のよ
うなハロゲン原子;メタンスルホナート、p-トルエンス
ルホナートのようなスルホナート基;メチルスルフェー
ト、エチルスルフェートのようなスルフェート基;ジメ
チルホスフェート、ジエチルホスフェートのようなホス
フェート基である。
The "leaving group" in the definition of X 1 and X 2 is not particularly limited as long as it is a group which usually leaves as a nucleophilic residue, but is preferably a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. And halogen groups such as methane sulfonate and p-toluene sulfonate; sulfate groups such as methyl sulfate and ethyl sulfate; and phosphate groups such as dimethyl phosphate and diethyl phosphate.

【0059】A−1工程は、アミノフェノール(II)
を化合物(III)を用いてエーテル化することによ
り、本発明誘導体のうち一般式(I)におけるR2 が水
素原子であるアミノフェノール誘導体(Ia)を製造す
る工程である。
In step A-1, aminophenol (II) is used.
Is etherified with a compound (III) to produce an aminophenol derivative (Ia) of the formula (I) in which R 2 in the general formula (I) is a hydrogen atom.

【0060】反応は、塩基の存在下行なわれる。The reaction is carried out in the presence of a base.

【0061】使用される塩基としては、優先的にフェノ
ール類のプロトンを脱離させる強さの塩基であれば特に
限定はないが、好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt-ブ
トキシドのような金属アルコキシド類;水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;ト
リエチルアミン、トリn-ブチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミンのような脂肪族三級アミン類;1,4-ジアザ
ビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシク
ロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような脂肪族環状
三級アミン類;ピリジン、コリジン、4-(N,N- ジメチル
アミノ) ピリジンのようなピリジン類を挙げることがで
きる。
The base used is not particularly limited as long as it is a base having a strength that preferentially desorbs the protons of the phenols, but preferably an alkali metal such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Hydroxides; Alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; Metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide; Alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride Aliphatic tertiary amines such as triethylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine; 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene Aliphatic cyclic tertiary amines such as (DBU); pyridines such as pyridine, collidine, and 4- (N, N-dimethylamino) pyridine. You can get it.

【0062】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、水;メタノール、エタノール、t-
ブタノールのようなアルコ−ル類;アセトン、メチルイ
ソブチルケトンのようなケトン類;アセトニトリルのよ
うなニトリル類;酢酸エチルのようなエステル類;ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロル
エタンのようなハロゲン化炭化水素類;トルエンのよう
な芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類等である。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably water; methanol, ethanol, t-
Alcohols such as butanol; Ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone; Nitriles such as acetonitrile; Esters such as ethyl acetate; Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane; Methylene chloride, Halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloroethane; aromatic hydrocarbons such as toluene; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide.

【0063】反応温度は、通常−70℃乃至200℃で
あり、好適には、−5℃乃至100℃である。
The reaction temperature is usually -70 ° C to 200 ° C, preferably -5 ° C to 100 ° C.

【0064】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
反応試薬及び使用される溶媒の種類によって異なるが、
通常5分乃至24時間であり、好適には、30分乃至5
時間である。
The reaction time mainly depends on the reaction temperature, the starting compound,
Depending on the type of reaction reagent and solvent used,
It is normally 5 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 5 hours
Time.

【0065】A−2工程は、A−1工程により製造した
化合物(Ia)のアシルアミノ基の窒素原子をアルキル
化、アルケニル化、アルキニル化、フェニルプロパルギ
ル化又はベンジル化し、本発明誘導体のうち一般式
(I)におけるR2 が水素原子以外であるアミノフェノ
ール誘導体(Ib)を製造する工程である。
In step A-2, the nitrogen atom of the acylamino group of the compound (Ia) produced in step A-1 is alkylated, alkenylated, alkynylated, phenylpropargylated or benzylated to give a compound of the general formula It is a step of producing an aminophenol derivative (Ib) in which R 2 in (I) is other than a hydrogen atom.

【0066】反応は、塩基の存在下行なわれる。The reaction is carried out in the presence of a base.

【0067】使用される塩基としては、アシルアミノ基
のプロトンを脱離させる強さの塩基であれば特に限定は
ないが、好適には、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムt-ブトキシドのような金属アルコ
キシド類;水素化ナトリウム、水素化カリウムのような
アルカリ金属水素化物;n-ブチルリチウム、s-ブチルリ
チウム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムビ
ストリメチルシリルアミド、リチウムビストリメチルシ
リルアミドのような有機金属塩基類を挙げることができ
る。
The base used is not particularly limited as long as it is a base having a strength capable of desorbing a proton of an acylamino group, but is preferably sodium methoxide, sodium ethoxide or potassium t-butoxide. Metal alkoxides; alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; organometallic bases such as n-butyllithium, s-butyllithium, lithium diisopropylamide, sodium bistrimethylsilylamide, lithium bistrimethylsilylamide Can be mentioned.

【0068】反応溶媒としては、反応を阻害せず、出発
物質をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適には、メタノール、エタノール、t-ブタノール
のようなアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドのようなアミド類;ジメチルスル
ホキシドのようなスルホキシド類等である。
The reaction solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but alcohols such as methanol, ethanol and t-butanol; diethyl ether, Ethers such as tetrahydrofuran; dimethylformamide,
Amides such as dimethylacetamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide.

【0069】反応温度は、通常−90℃乃至150℃で
あり、好適には、−50℃乃至100℃である。
The reaction temperature is usually -90 ° C to 150 ° C, preferably -50 ° C to 100 ° C.

【0070】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
反応試薬及び使用される溶媒の種類によって異なるが、
通常5分乃至24時間であり、好適には、15分乃至6
時間である。化合物(Ib)のうち、R2 が、フェニル
プロパルギル基(当該フェニル基は、ハロゲン原子、C
1〜C6低級アルキル基又はC1〜C6低級アルコキシ
基により置換されていても良い)である場合には、前記
A−1工程の化合物(III)のうちR4 が水素原子で
あり、Aが−C≡C−である化合物を2当量以上用い、
塩基を2当量以上用いて反応することによりA−2工程
をも行なうことができる。
The reaction time mainly depends on the reaction temperature, the starting compound,
Depending on the type of reaction reagent and solvent used,
Usually 5 minutes to 24 hours, preferably 15 minutes to 6 hours
Time. In the compound (Ib), R 2 is a phenylpropargyl group (the phenyl group is a halogen atom, C
1 to C6 lower alkyl group or C1 to C6 lower alkoxy group), R 4 of the compound (III) in the step A-1 above is a hydrogen atom and A is-. Using two or more equivalents of a compound of C≡C-
Step A-2 can also be carried out by reacting with 2 equivalents or more of a base.

【0071】この際に使用される塩基としては、A−1
工程の出発物質(II)のフェノールプロトンとアシル
アミノプロトンを脱離させる強さの塩基であれば特に限
定はないが、好適には、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムt-ブトキシドのような金属ア
ルコキシド類;水素化ナトリウム、水素化カリウムのよ
うなアルカリ金属水素化物;n-ブチルリチウム、s-ブチ
ルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウ
ムビストリメチルシリルアミド、リチウムビストリメチ
ルシリルアミドのような有機金属塩基類を挙げることが
できる。
The base used in this case is A-1
There is no particular limitation as long as it is a base having a strength capable of desorbing a phenol proton and an acylamino proton of the starting material (II) of the step, but preferably, such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide. Metal alkoxides; alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride; organometallic bases such as n-butyllithium, s-butyllithium, lithium diisopropylamide, sodium bistrimethylsilylamide, lithium bistrimethylsilylamide Can be mentioned.

【0072】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば、特に限
定はないが、好適には、メタノール、エタノール、t-ブ
タノールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランのようなエーテル類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類;ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げること
ができる。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably alcohols such as methanol, ethanol and t-butanol, Examples thereof include ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and sulfoxides such as dimethylsulfoxide.

【0073】アミノフェノール誘導体(Ia)は、以下
に示す方法(B法)によっても製造することができる。
The aminophenol derivative (Ia) can also be produced by the method (method B) shown below.

【0074】(B法)(Method B)

【0075】[0075]

【化14】 Embedded image

【0076】上記工程中、R1 、R3 、R4 、R5
A、X1 、m及びnは前記と同意義を示し、X3 は脱離
基を示す。
During the above steps, R 1 , R 3 , R 4 , R 5 ,
A, X 1 , m and n have the same meanings as described above, and X 3 represents a leaving group.

【0077】X3 の定義における「脱離基」とは、通常
求核残基として脱離する基であれば特に限定はないが、
好適には、塩素原子、臭素原子のようなハロゲン原子;
式「OCOR1 」で表わされるアシルオキシ基(R1
前記と同意義を示す)である。
The "leaving group" in the definition of X 3 is not particularly limited as long as it is a group which usually leaves as a nucleophilic residue.
Preferably, a halogen atom such as chlorine atom or bromine atom;
It is an acyloxy group represented by the formula "OCOR 1 " (R 1 has the same meaning as described above).

【0078】B−1工程は、ニトロフェノール化合物
(V)を化合物(III)によりエーテル化することに
より、化合物(VI)を製造する工程である。
The step B-1 is a step for producing the compound (VI) by etherifying the nitrophenol compound (V) with the compound (III).

【0079】本工程は、塩基の存在下行なわれ、A−1
工程に準じて行なうことができる。
This step is carried out in the presence of a base, and A-1
It can be performed according to the process.

【0080】B−2工程は、B−1工程により製造した
ニトロ化合物(VI)を還元することにより、アニリン
化合物(VII)を製造する工程である。
The step B-2 is a step for producing the aniline compound (VII) by reducing the nitro compound (VI) produced in the step B-1.

【0081】本工程は、還元剤の存在下行なわれる。This step is carried out in the presence of a reducing agent.

【0082】使用される還元剤は、同分子内の二重結合
又は三重結合を還元することなく、ニトロ基のみを還元
するものであれば特に限定はないが、好適には、塩化ス
ズのような遷移金属のハロゲン化物、硫酸鉄のような遷
移金属の硫酸塩、及び鉄のような金属を挙げることがで
きる。
The reducing agent used is not particularly limited as long as it reduces only a nitro group without reducing a double bond or a triple bond in the same molecule, but tin chloride is preferably used. There may be mentioned various transition metal halides, transition metal sulfates such as iron sulfate, and metals such as iron.

【0083】これらの還元剤は、塩酸及び酢酸のような
酸の存在下に使用される。必要によっては、さらに、ニ
トロ化合物(VI)を溶解させるため水と混和する溶剤
の存在下行なわれる。
These reducing agents are used in the presence of acids such as hydrochloric acid and acetic acid. If necessary, it is further carried out in the presence of a solvent miscible with water for dissolving the nitro compound (VI).

【0084】使用される溶剤としては、メタノール、エ
タノール、t-ブタノールのようなアルコール類;テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類を挙げる
ことができる。
Examples of the solvent used include alcohols such as methanol, ethanol and t-butanol; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane.

【0085】反応温度は、通常−50℃乃至200℃で
あり、好適には、0℃乃至100℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬及び使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常5分乃至24時間
であり、好適には、30分乃至6時間である。B−3工
程は、化合物(VIII)を用いてアシル化することに
よりアニリン化合物(VII)から化合物(Ia)を製
造する工程である。
The reaction temperature is generally -50 ° C to 200 ° C, preferably 0 ° C to 100 ° C. The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound, the reaction reagent and the type of solvent used, but is usually 5 minutes to 24 hours, and preferably 30 minutes to 6 hours. Step B-3 is a step of producing compound (Ia) from aniline compound (VII) by acylating compound (VIII).

【0086】本工程は、必要により塩基存在下で行なわ
れる。
This step is carried out in the presence of a base, if necessary.

【0087】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよ
うなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;トリエ
チルアミン、トリn-ブチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミンのような脂肪族三級アミン類;1,4-ジアザビシ
クロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ
[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような脂肪族環状三
級アミン類;ピリジン、コリジン、4-(N,N- ジメチルア
ミノ) ピリジンのようなピリジン類;n-ブチルリチウ
ム、s-ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ド、ナトリウムビストリメチルシリルアミド、リチウム
ビストリメチルシリルアミドのような有機金属塩基類を
挙げることができる。
The base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in a usual reaction, but preferably alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; carbonic acid. Alkali metal carbonates such as sodium and potassium carbonate; sodium hydride,
Alkali metal hydrides such as potassium hydride; Aliphatic tertiary amines such as triethylamine, tri-n-butylamine, diisopropylethylamine; 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo
[5.4.0] Aliphatic cyclic tertiary amines such as undec-7-ene (DBU); pyridines such as pyridine, collidine, 4- (N, N-dimethylamino) pyridine; n-butyllithium, Mention may be made of organometallic bases such as s-butyllithium, lithium diisopropylamide, sodium bistrimethylsilylamide, lithium bistrimethylsilylamide.

【0088】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、水;メタノール、エタノール、t-
ブタノールのようなアルコ−ル類;アセトン、メチルイ
ソブチルケトンのようなケトン類;アセトニトリルのよ
うなニトリル類;酢酸エチルのようなエステル類;ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロル
エタンのようなハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類を挙げることができる。
The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, but preferably water; methanol, ethanol, t-
Alcohols such as butanol; Ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone; Nitriles such as acetonitrile; Esters such as ethyl acetate; Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane; Methylene chloride, Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloroethane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene.

【0089】反応温度は、通常−90℃乃至200℃で
あり、好適には、−50℃乃至150℃である。反応時
間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬及び使用さ
れる溶媒の種類によって異なるが、通常5分乃至24時
間であり、好適には、15分乃至6時間である。
The reaction temperature is usually -90 ° C to 200 ° C, preferably -50 ° C to 150 ° C. The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound, the reaction reagent and the type of solvent used, but is usually 5 minutes to 24 hours, and preferably 15 minutes to 6 hours.

【0090】以下に、上記A法又はB法の原料となる化
合物の製造方法を示す。
The method for producing a compound as a raw material of the above Method A or Method B will be described below.

【0091】A−1工程の一方の原料である化合物(I
I)は、下記の方法により製造される。
The compound (I
I) is produced by the following method.

【0092】[0092]

【化15】 [Chemical 15]

【0093】[式中、R1 、R3 及びnは、前記と同意
義を示す。] フェノール化合物(IX)(このフェノール水酸基は場
合によりカーボネート化していても良い)を、例えば濃
硫酸−濃硝酸の混酸を用いる方法や硝酸カリウムを用い
る方法のような、常法に従いニトロ化し、フェノールの
4位をニトロ化した4−ニトロフェノール化合物(X)
を製造する。そのニトロ基を、例えばPd−C触媒下水
素添加する方法、濃塩酸存在下塩化第一スズを用いる方
法、酢酸中塩化第一亜鉛を用いる方法のような、常法に
従い還元し、フェノールの4位をアミノ化した4−アミ
ノフェノール化合物(XI)を製造する。化合物(X
I)に、式R1 COX4 (R1 は前記と同意義を示し、
4 はハロゲン原子を示す。)で表わされる種々のアシ
ルハライドを用いて、常法に従いエステル化し、N,O
−ジアシルアミノフェノール化合物(XII)を製造す
る。この化合物(XII)を、例えば炭酸水素ナトリウ
ム、水酸化ナトリウムのようなアルカリ存在下、加水分
解し、A−1工程の原料である化合物(II)を製造す
る。
[In the formula, R 1 , R 3 and n have the same meanings as described above. ] Phenol compound (IX) (this phenolic hydroxyl group may be carbonated in some cases) is nitrated by a conventional method such as a method using a mixed acid of concentrated sulfuric acid-concentrated nitric acid or a method using potassium nitrate, 4-nitrophenol compound (X) in which 4-position is nitrated
To manufacture. The nitro group is reduced according to a conventional method such as hydrogenation in the presence of concentrated Pd-C catalyst, stannous chloride in the presence of concentrated hydrochloric acid, and stannous chloride in acetic acid to reduce the phenol 4 A position-aminated 4-aminophenol compound (XI) is produced. Compound (X
I) is represented by the formula R 1 COX 4 (R 1 is as defined above,
X 4 represents a halogen atom. ), Various acyl halides are esterified in a conventional manner to give N, O
A diacylaminophenol compound (XII) is prepared. This compound (XII) is hydrolyzed in the presence of an alkali such as sodium hydrogen carbonate or sodium hydroxide to produce a compound (II) which is a raw material of step A-1.

【0094】A−1工程のもう一方の原料及びB−1工
程の原料である化合物(III)は、下記の方法により
製造される。
The compound (III), which is the other raw material in step A-1 and the raw material in step B-1, is produced by the following method.

【0095】[0095]

【化16】 Embedded image

【0096】[式中、R5 、A、m及びX1 は前記と同
意義を示し、R4aはC1〜C6低級アルキル基を示し、
5 はハロゲン原子を示す。] 後記の方法により製造される化合物(XIII)を、例
えば水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリ
ウムのような還元剤を用いて、常法に従い還元し、一級
アルコール(XIV)を製造する。この化合物(XI
V)から、J. Chem. Soc. (C) 2173, (1969)に記載の方
法に準じて酸化することにより、アルデヒド(XV)を
製造し、これに式R4aMgX5 で表わされるアルキルマ
グネシウムハライド化合物を用いて、常法に従いアルキ
ル化することにより、化合物(XVI)を製造する。
[Wherein R 5 , A, m and X 1 are as defined above, R 4a is a C1 to C6 lower alkyl group,
X 5 represents a halogen atom. The compound (XIII) produced by the method described below is reduced by a conventional method using a reducing agent such as lithium aluminum hydride or sodium borohydride to produce a primary alcohol (XIV). This compound (XI
V) is oxidized according to the method described in J. Chem. Soc. (C) 2173, (1969) to produce an aldehyde (XV), which is an alkyl magnesium represented by the formula R 4a MgX 5. Compound (XVI) is produced by alkylation using a halide compound according to a conventional method.

【0097】このようにして得られた化合物(XIV)
及び(XVI)の水酸基を、常法に従い脱離基化するこ
とにより、A−1工程及びB−1工程の原料である化合
物(III)を製造する。
Compound (XIV) thus obtained
The compound (III), which is a raw material in the steps A-1 and B-1, is produced by leaving the hydroxyl groups of (XVI) and (XVI) in a leaving group according to a conventional method.

【0098】化合物(XIII)は、下記の〜に示
す製造方法により製造される。
The compound (XIII) is produced by the following production methods (1) to (3).

【0099】[0099]

【化17】 [Chemical 17]

【0100】[式中、R5 、mは前記と同意義を示し、
6aは水素原子、弗素原子、塩素原子又はC1〜6低級
アルキル基を示し、R6bは臭素原子又は沃素原子を示
す。] の工程は、J. Org. Chem. 55, (15) 4639 (1990)に記
載の方法に準じて製造される化合物(XVII)を、SY
NLETT 517, (1991) に記載の方法に準じて化合物(XV
III)と反応することにより、化合物(XIII)の
うちAが式−C(R6a)=CH−で表わされる化合物
(XIIIa)を製造する工程である。
[Wherein R 5 and m have the same meanings as described above,
R 6a represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom or a C1-6 lower alkyl group, and R 6b represents a bromine atom or an iodine atom. ], The compound (XVII) produced according to the method described in J. Org. Chem. 55 , (15) 4639 (1990) is treated with SY
According to the method described in NLETT 517, (1991), the compound (XV
III) is a step of producing a compound (XIIIa) in which A is represented by the formula —C (R 6a ) ═CH— among the compounds (XIII).

【0101】の工程は、化合物(XIX)を、SYNLET
T 497, (1987) に記載の方法に準じて臭素分子又は沃素
分子と反応して化合物(XX)を製造し、それを化合物
(XVIII)と反応することにより、化合物(XII
I)のうちAが式−C(R6b)=CH−で表わされる化
合物(XIIIb)を製造する工程である。
In the step of, the compound (XIX) was treated with SYNLET
According to the method described in T 497, (1987), a compound (XX) is produced by reacting with a bromine molecule or an iodine molecule, and the compound (XVIII) is reacted with the compound (XII).
In step I), A is a step of producing a compound (XIIIb) represented by the formula —C (R 6b ) ═CH—.

【0102】の工程は、の方法により製造される化
合物(XIIIb)のうちR6bが沃素原子である化合物
(XIIIb−1)を原料として、常法に従って、例え
ばリチウムトリメチルシリルアミンのような塩基で処理
することにより、化合物(XIII)のうちAが式−C
≡C−で表わされる化合物(XIIIc)を製造する工
程である。
In the step (1), the compound (XIIIb-1) of the compound (XIIIb) produced by the method (1) is treated with a base such as lithium trimethylsilylamine according to a conventional method using the compound (XIIIb-1) in which R 6b is an iodine atom as a starting material. Thus, in the compound (XIII), A is the formula-C.
This is a step of producing a compound (XIIIc) represented by ≡C-.

【0103】上記各反応工程終了後、各工程の目的化合
物は常法に従って反応混合物から採取することができ
る。例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存
在する場合には濾過により除去した後、水と混和しない
有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによって
得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例
えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等によって
更に精製できる。
After completion of each of the above reaction steps, the target compound of each step can be collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by appropriately neutralizing the reaction mixture, or if insoluble matter is removed by filtration, adding an organic solvent immiscible with water, washing with water, and distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【0104】本発明の化合物は、担体及び必要に応じて
他の補助剤と混合して、除草剤として通常用いられる製
剤形態、例えば粉剤、粗粉剤、粒剤、顆粒剤、水和剤、
水溶剤、乳剤、液剤等に調製して使用される。ここでい
う担体とは、有効成分化合物の植物への到達性を助け又
は有効成分の貯蔵、輸送若しくは取り扱いを容易にする
ために除草剤中に混合される、合成又は天然の無機又は
有機物質を意味する。
The compound of the present invention is mixed with a carrier and, if necessary, other auxiliary agents, and has a formulation form usually used as a herbicide such as powder, coarse powder, granule, granule, wettable powder,
It is used by preparing it as an aqueous solvent, an emulsion, a liquid agent and the like. The carrier as used herein refers to a synthetic or natural inorganic or organic substance that is mixed with a herbicide to help reach the plant of the active ingredient compound or to facilitate storage, transportation or handling of the active ingredient. means.

【0105】適当な固体担体としては、例えば、カオリ
ナイト群、モンモリロナイト群、アタパルジャイト群等
で代表されるクレー類、タルク、雲母、葉ロウ石、軽
石、バーミキュライト、石膏、ドロマイト、けいそう
土、マグネシウム石灰、燐石灰、ゼオライト、無水ケイ
酸、合成ケイ酸カルシウム、カオリン、ベントナイト、
炭酸カルシウム等の無機物質、大豆粉、タバコ粉、クル
ミ粉、小麦粉、木粉、澱粉、結晶セルロース等の植物性
有機物質、クマロン樹脂、石油樹脂、アルキド樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリアルキレングリコール、ケトン樹
脂、エステルガム、コーパルガム、ダンマルガム等の合
成又は天然の高分子化合物、カルナバロウ、パラフィン
ロウ、蜜ロウ等のワックス類或は尿素等を挙げることが
できる。
Examples of suitable solid carriers include clays represented by kaolinite group, montmorillonite group, attapulgite group, talc, mica, pyrophyllite, pumice, vermiculite, gypsum, dolomite, diatomaceous earth, magnesium. Lime, phosphorus lime, zeolite, silicic acid anhydride, synthetic calcium silicate, kaolin, bentonite,
Inorganic substances such as calcium carbonate, soybean flour, tobacco powder, walnut flour, wheat flour, wood flour, starch, vegetable organic substances such as crystalline cellulose, coumarone resin, petroleum resin, alkyd resin, polyvinyl chloride, polyalkylene glycol, ketone Examples thereof include synthetic or natural polymer compounds such as resins, ester gums, copal gums, dammal gums, waxes such as carnauba wax, paraffin wax, and beeswax, and urea.

【0106】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系若しくはナフテン系炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素、四塩化炭素、クロロホルム、
トリクロルエチレン、モノクロルベンゼン、クロルトル
エン等の塩素化炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノ
ン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸アミ
ル、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリコ
ールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジエチ
ル等のエステル類、メタノール、n-ヘキサノール、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキサ
ノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチレ
ングリコールエチルエーテル、エチレングリコールフェ
ニルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、
ジエチレングリコールブチルエーテル等のエーテルアル
コール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の極性溶媒或は水等を挙げることができる。
Suitable liquid carriers include, for example, paraffinic or naphthenic hydrocarbons such as kerosene, mineral oil, spindle oil and white oil, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene and methylnaphthalene. Carbon tetrachloride, chloroform,
Chlorinated hydrocarbons such as trichloroethylene, monochlorobenzene and chlorotoluene, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone,
Ketones such as diisobutyl ketone, cyclohexanone, acetophenone and isophorone, ethyl acetate, amyl acetate, ethylene glycol acetate, diethylene glycol acetate, dibutyl maleate, esters such as diethyl succinate, methanol, n-hexanol, ethylene glycol, diethylene glycol, cyclo Alcohols such as hexanol and benzyl alcohol, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol phenyl ether, diethylene glycol ethyl ether,
Examples thereof include ether alcohols such as diethylene glycol butyl ether, polar solvents such as dimethylformamide and dimethylsulfoxide, and water.

【0107】乳化、分散、湿潤、拡展、結合、崩壊性調
節、有効成分安定化、流動性改良、防錆、植物への吸収
促進等の目的で使用される界面活性剤は、イオン性でも
非イオン性でもよい。
Surfactants used for the purpose of emulsification, dispersion, wetting, spreading, binding, control of disintegration, stabilization of active ingredient, improvement of fluidity, rust prevention, acceleration of absorption into plants, etc. It may be nonionic.

【0108】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、脂肪酸の蔗糖エステル、ラウリルアルコール、ス
テアリルアルコール、オレイルアルコール等の高級脂肪
族アルコールの酸化エチレン重合付加物、イソオクチル
フェノール、ノニルフェノール等のアルキルフェノール
の酸化エチレン重合付加物、ブチルナフトール、オクチ
ルナフトール等のアルキルナフトールの酸化エチレン重
合付加物、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等
の高級脂肪酸の酸化エチレン重合付加物、ステアリル燐
酸ジラウリル燐酸等のモノ若しくはジアルキル燐酸の酸
化エチレン重合付加物、ドデシルアミン、ステアリン酸
アミド等の高級脂肪族アミンの酸化エチレン重合付加
物、ソルビタン等の多価アルコールの高級脂肪酸エステ
ル及びその酸化エチレン重合付加物並びに酸化エチレン
と酸化プロピレンの共重合体等を挙げることができる。
Suitable nonionic surfactants include, for example, sucrose esters of fatty acids, ethylene oxide polymerization adducts of higher aliphatic alcohols such as lauryl alcohol, stearyl alcohol and oleyl alcohol, and alkylphenols such as isooctylphenol and nonylphenol. Ethylene oxide polymerization adducts, butyl naphthol, octyl naphthol and other alkyl naphthol ethylene oxide polymerization adducts, palmitic acid, stearic acid, oleic acid and other higher fatty acid ethylene polymerization adducts, stearyl phosphate dilauryl phosphate and other mono- or dialkyls Ethylene oxide polymerization adducts of phosphoric acid, ethylene oxide polymerization adducts of higher aliphatic amines such as dodecylamine and stearic acid amide, higher fatty acid esters of polyhydric alcohols such as sorbitan, and ethylene oxide thereof. Copolymers of emissions polymerization adducts and ethylene oxide and propylene oxide can be cited.

【0109】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホコハク酸ジオクチルエステルナトリウム、オレイン酸
ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム等の脂肪酸塩類、
イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メチレ
ンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニンスル
ホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム等のアルキルアリールスルホン酸塩等を挙げること
ができる。
Suitable anionic surfactants include, for example, sodium lauryl sulfate, alkyl sulfate ester salts such as oleyl alcohol sulfate ester amine salt, fatty acid salts such as sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium oleate and sodium stearate. ,
Examples thereof include alkyl aryl sulfonates such as sodium isopropyl naphthalene sulfonate, sodium methylene bis naphthalene sulfonate, sodium lignin sulfonate, and sodium dodecylbenzene sulfonate.

【0110】適当な陽イオン性界面活性剤としては、例
えば、高級脂肪族アミン、第4級アンモニウム塩類、ア
ルキルピリジニウム塩類等を挙げることができる。
Suitable cationic surfactants include, for example, higher aliphatic amines, quaternary ammonium salts, alkylpyridinium salts and the like.

【0111】さらに、本発明の除草剤には、製剤の性状
を改善し生物効果を高める目的で、他の成分として、例
えば、ゼラチン、アラビアゴム、カゼイン、アルブミ
ン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、ポリビニルアルコー
ル、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、
ヒドロキシメチルセルロース等の高分子化合物、ポリリ
ン酸ナトリウム、ベントナイト等のチキソトロピー剤及
びその他の補助剤を含有することもある。
Further, the herbicide of the present invention may contain other ingredients such as gelatin, gum arabic, casein, albumin, glue, sodium alginate, polyvinyl alcohol, for the purpose of improving the properties of the preparation and enhancing the biological effect. Carboxymethyl cellulose, methyl cellulose,
It may also contain a polymer compound such as hydroxymethyl cellulose, a sodium polyphosphate, a thixotropic agent such as bentonite, and other auxiliary agents.

【0112】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤型
適用場面を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独に或は
組み合わされて適宜使用される。
The above-mentioned carrier and various auxiliary agents are appropriately used alone or in combination depending on the purpose in consideration of the application situation of the dosage form of the preparation.

【0113】粉剤は有効成分化合物を通常2 乃至10重量
部含有し、残部は固体担体である。
Dusts usually contain 2 to 10 parts by weight of the active ingredient compound, the remainder being a solid carrier.

【0114】水和剤は有効成分を通常10乃至80重量部含
有し、残部は固体担体、分散湿潤剤であって、必要に応
じて保護コロイド剤、チキソトロピー剤、消泡剤等が加
えられる。
The wettable powder usually contains the active ingredient in an amount of 10 to 80 parts by weight, and the balance is a solid carrier and a dispersion wetting agent, and if necessary, a protective colloid agent, a thixotropic agent, an antifoaming agent and the like are added.

【0115】粒剤は有効成分化合物を通常0.1 乃至10重
量部含有し、残部は大部分が固体担体である。有効成分
化合物は固体担体と均一に混合されているか或は固体担
体の表面に均一に固着若しくは吸着されており、粒の径
は約0.2 乃至1.5 mm程度である。
Granules usually contain 0.1 to 10 parts by weight of the active ingredient compound, and the balance is mostly solid carrier. The active ingredient compound is uniformly mixed with the solid carrier or is uniformly fixed or adsorbed on the surface of the solid carrier, and the particle diameter is about 0.2 to 1.5 mm.

【0116】乳剤は有効成分を通常1 乃至50重量部含有
しており、これに約5 乃至20重量部の乳剤が含まれ、残
部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤が加えられ
る。
The emulsion usually contains 1 to 50 parts by weight of the active ingredient, contains about 5 to 20 parts by weight of the emulsion, and the balance is a liquid carrier, and a rust preventive agent is added if necessary. .

【0117】このようにして種々の剤型に調製された本
発明の化合物を、例えば、水田において雑草の発芽前又
は発芽後に土壌処理するときは、10a あたり有効成分と
して1 乃至1000g 好ましくは10乃至300gを処理すること
により、有効に雑草を駆除することができる。
When the compound of the present invention thus prepared in various dosage forms is treated in the soil before or after germination of weeds in a paddy field, for example, 1 to 1000 g, preferably 10 to 1000 g, as an active ingredient per 10 a. By treating 300 g, weeds can be effectively exterminated.

【0118】本発明の除草剤に対して、殺草スペクトラ
ムを広げるために他の除草剤が配合されることは好まし
く、場合によっては相乗効果を期待することもできる。
It is preferable to add other herbicides to the herbicide of the present invention in order to broaden the herbicidal spectrum, and a synergistic effect can be expected in some cases.

【0119】本発明の除草剤は、もちろん他の植物成長
調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤或は肥料
等と混合して使用することができる。
The herbicide of the present invention can of course be used in combination with other plant growth regulators, fungicides, insecticides, acaricides, nematicides or fertilizers.

【0120】以下に本発明除草剤の実施例及び製剤例を
示し具体的に説明するが、本発明はこれらに限られるも
のではない。
Examples and formulation examples of the herbicide of the present invention are shown below and specifically described, but the present invention is not limited thereto.

【0121】[0121]

【実施例】【Example】

【0122】[0122]

【実施例1】O−フェニルプロパルギル−4−アセタミドフェノール
(化合物番号1.1) 4−アセタミドフェノール0.85gをジメチルホルム
アミド(DMF)10mlに溶解後、60%水素化ナト
リウム0.25gを加えた。次いでフェニルプロパルギ
ルクロリド0.85gのDMF溶液3mlを加え、室温
にて6時間撹拌した。酢酸エチルで希釈後、水洗し、硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶剤留去後、得られた粗結晶
をイソプロピルエーテルと塩化メチレンの混合溶剤より
再結し、融点135〜139℃を有する標記化合物1.
12g(収率75%)を得た。
Example 1 O-phenylpropargyl-4-acetamidophenol (Compound No. 1.1) 0.85 g of 4-acetamidophenol was dissolved in 10 ml of dimethylformamide (DMF), and then 60% sodium hydride was added. 25 g was added. Next, 3 ml of a DMF solution containing 0.85 g of phenylpropargyl chloride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. After diluting with ethyl acetate, it was washed with water and dried over sodium sulfate. After the solvent was distilled off, the obtained crude crystals were recrystallized from a mixed solvent of isopropyl ether and methylene chloride to give the title compound having a melting point of 135 to 139 ° C.
12 g (yield 75%) was obtained.

【0123】核磁気共鳴スペクトル(NMR)(200MH
z,CDCl3)δ:7.12(1H,br.s), 7.45-6.95(9H,m), 4.89
(2H,s), 2.16(3H,s).
Nuclear magnetic resonance spectrum (NMR) (200MH
z, CDCl 3 ) δ: 7.12 (1H, br.s), 7.45-6.95 (9H, m), 4.89
(2H, s), 2.16 (3H, s).

【0124】[0124]

【実施例2】O−フェニルプロパルギル−4−ブタナミドフェノール
(化合物番号1.3) (1)O−フェニルプロパルギル−4−ニトロフェノー
4−ニトロフェノール5.00gをジメチルホルムアミ
ド100mlに溶解後、氷水浴中で冷却し、水素化ナト
リウム(60%)1.58gを加え、10分間撹拌した
後、フェニルプロパルギルクロリド5.19mlを加
え、同温度にて1時間撹拌した。さらに、室温にて1時
間撹拌した後、70℃にて加熱撹拌した。放冷後、水を
加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を、重曹水、1N
−塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶剤を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=20:1)で
精製し、融点71〜72℃を有する標記化合物5.70
g(収率63%)を得た。
Example 2 O -Phenylpropargyl-4-butanamidephenol (Compound No. 1.3) (1) O-phenylpropargyl-4-nitrophenol
After dissolving Le 4-nitrophenol 5.00g dimethylformamide 100 ml, cooled in an ice-water bath, sodium hydride (60%) 1.58 g was added and after stirring for 10 min, phenyl propargyl chloride 5.19ml added The mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. Further, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then heated and stirred at 70 ° C. After allowing to cool, water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. Extract the solution with sodium bicarbonate water, 1N
-Washed with hydrochloric acid, water and saturated saline, dried over sodium sulfate, distilled off the solvent and purified by silica gel column chromatography (eluting solvent hexane: ethyl acetate = 20: 1) to give a melting point of 71-72 ° C. Having the title compound 5.70
g (63% yield) was obtained.

【0125】NMR(200MHz,CDCl3)δ:8.25(2
H,br.d,J=9.2Hz), 7.48−7.3
8(2H,br.s), 7.38−7.27(3H,
br.s), 7.12(2H,br.d,J=9.3
Hz), 5.03(2H,s). (2)O−フェニルプロパルギル−4−アミノフェノー
上記(1)の方法で製造したO−フェニルプロパルギル
−4−ニトロフェノール5.46gをエチルアルコール
55mlに溶解後、氷水浴中で冷却し、濃塩酸40ml
を静かに加えた後、塩化第一スズ10.22gを少量ず
つ加え、同温度にて5分間撹拌した後、室温に昇温し1
時間撹拌した。さらに70℃にて3時間加熱撹拌した
後、室温まで放冷した。その後、反応液に10%水酸化
ナトリウム水溶液をpH10になるまで、徐々に加え、
酢酸エチルで抽出した。水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶剤を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製
し、標記化合物3.14g(収率65%)を油状物とし
て得た。
NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ: 8.25 (2
H, br. d, J = 9.2 Hz), 7.48-7.3
8 (2H, br.s), 7.38-7.27 (3H,
br. s), 7.12 (2H, br.d, J = 9.3.
Hz), 5.03 (2H, s). (2) O-phenylpropargyl-4-aminopheno
After dissolving Le above the O- phenyl propargyl-4-nitrophenol 5.46g manufactured by the method of (1) to ethyl alcohol 55 ml, cooled in an ice-water bath, concentrated hydrochloric acid 40ml
Was gently added, then 10.22 g of stannous chloride was added little by little, and the mixture was stirred at the same temperature for 5 minutes, and then warmed to room temperature.
Stirred for hours. After heating and stirring at 70 ° C. for 3 hours, the mixture was allowed to cool to room temperature. Then, 10% sodium hydroxide aqueous solution was gradually added to the reaction solution until pH became 10,
It was extracted with ethyl acetate. After washing with water and drying over sodium sulfate, the solvent was evaporated and the residue was purified by silica gel column chromatography (elution solvent hexane: ethyl acetate = 3: 1) to give 3.14 g (yield 65%) of the title compound as an oil. Obtained.

【0126】NMR(200MHz,CDCl)δ:
7.47-7.41(2H,m), 7.36-7.25(3H,m), 6.90(2H,br.d,J=
9.0Hz), 6.67(2H,br.d,J=8.8Hz), 4.83(2H,s), 3.46(2
H,br.s). (3)O−フェニルプロパルギル−4−ブタナミドフェ
ノール 上記(2)の方法で製造したO−フェニルプロパルギル
−4−アミノフェノール109.1mgを塩化メチレン
2.2mlに溶解後、氷水浴中で冷却し、トリエチルア
ミン0.08ml、ブチリルクロリド0.06mlを加
え5分間撹拌した後、室温にて1時間撹拌した。反応液
中に水を加え、塩化メチレンで抽出した。水洗後飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒
ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、融点107
〜110℃を有する標記化合物135.8mg(収率9
5%)を得た。
NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ:
7.47-7.41 (2H, m), 7.36-7.25 (3H, m), 6.90 (2H, br.d, J =
9.0Hz), 6.67 (2H, br.d, J = 8.8Hz), 4.83 (2H, s), 3.46 (2
H, br.s). (3) O-phenylpropargyl-4-butanamide
Knoll After dissolving 109.1 mg of O-phenylpropargyl-4-aminophenol prepared by the above method (2) in 2.2 ml of methylene chloride, it was cooled in an ice-water bath and 0.08 ml of triethylamine and 0.06 ml of butyryl chloride were dissolved. Was added and stirred for 5 minutes, and then stirred at room temperature for 1 hour. Water was added to the reaction solution, which was extracted with methylene chloride. After washing with water, washing with saturated saline, drying over sodium sulfate, evaporation of the solvent, silica gel column chromatography (elution solvent
Purified with hexane: ethyl acetate = 3: 1), mp 107
135.8 mg of the title compound having a .about.110 ° C. (yield 9
5%).

【0127】NMR(200MHz,CDCl3)δ:7.49-7.36(4
H,m), 7.35-7.27(3H,m), 7.07-6.95(3H,br.m), 4.89(2
H,s), 2.33(2H,t,J=7.2Hz), 1.76(2H,q,J=7.6Hz).
NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.49-7.36 (4
H, m), 7.35-7.27 (3H, m), 7.07-6.95 (3H, br.m), 4.89 (2
H, s), 2.33 (2H, t, J = 7.2Hz), 1.76 (2H, q, J = 7.6Hz).

【0128】[0128]

【実施例3】O−シンナモイル−4−アセタミドフェノール (化合物
番号6.1) アセトニトリル15mlとDMF5mlの混液にシンナ
モイルブロミド1.44gとアセタミドフェーノール
1.0gさらにt−ブトキシカリウム0.89gを加え
室温で1時間、60℃にて1時間撹拌した。冷後、酢酸
エチルで希釈後、水洗し硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製
し、融点170〜172℃を有する標記化合物1.14
g(収率65%)を得た。
Example 3 O-Cinnamoyl-4-acetamidophenol (Compound No. 6.1) In a mixed solution of 15 ml of acetonitrile and 5 ml of DMF, 1.44 g of cinnamoyl bromide, 1.0 g of acetamide phenol and 0 potassium t-butoxide were added. 0.89 g was added and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and at 60 ° C. for 1 hour. After cooling, it was diluted with ethyl acetate, washed with water and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent, the residue was purified by silica gel column chromatography (eluting solvent hexane: ethyl acetate = 3: 1) to give the title compound 1.14 having a melting point of 170-172 ° C.
g (yield 65%) was obtained.

【0129】NMR(200MHz,CDCl3)δ:7.42-7.25(7
H,m), 7.07(1H,br.s), 6.92(2H,d,J=8.8Hz), 6.73(2H,
d,J=16.2Hz), 6.40(2H,dt,J=16.2Hz,5.8Hz), 4.68(2H,
d,J=5.8Hz), 2.16(3H,s).
NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.42-7.25 (7
H, m), 7.07 (1H, br.s), 6.92 (2H, d, J = 8.8Hz), 6.73 (2H,
d, J = 16.2Hz), 6.40 (2H, dt, J = 16.2Hz, 5.8Hz), 4.68 (2H,
d, J = 5.8Hz), 2.16 (3H, s).

【0130】[0130]

【実施例4】O−(トランス−3−フェニル−2−クロロ−2−プロ
ペニル)−4−アセタミドフェノール (化合物番号7.
1) 4−アセタミドフェノール80.2mgをジメチルホル
ムアミド1mlに溶解後、氷水浴中で冷却し、水素化ナ
トリウム(60%)25.5mgを加え、同温度で10
分間撹拌した後、トランス−β−クロロ−シンナミルク
ロリド99.2mgをジメチルホルムアミド1mlに溶
解した溶液を同温度下で加えた後、室温に昇温し2時間
撹拌した。反応液中に水を加え、酢酸エチルで抽出し、
水洗後、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出溶媒 ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で
精製し、融点102〜104℃を有する標記化合物11
0.0mg(収率69%)を得た。
Example 4 O- (trans-3-phenyl-2-chloro-2-pro
Penenyl) -4-acetamidophenol (Compound No. 7.
1) After dissolving 80.2 mg of 4-acetamidophenol in 1 ml of dimethylformamide, it was cooled in an ice-water bath, 25.5 mg of sodium hydride (60%) was added, and the mixture was mixed at 10
After stirring for 1 minute, a solution of 99.2 mg of trans-β-chloro-cinnamyl chloride dissolved in 1 ml of dimethylformamide was added at the same temperature, and the mixture was warmed to room temperature and stirred for 2 hours. Water was added to the reaction solution and extracted with ethyl acetate,
After washing with water, the extract was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. After distilling off the solvent, the title compound 11 having a melting point of 102 to 104 ° C. was purified by silica gel column chromatography (elution solvent hexane: ethyl acetate = 1: 1).
0.0 mg (yield 69%) was obtained.

【0131】NMR(270MHz,CDCl3)δ:7.62-7.40(7
H,m), 7.24-7.15(2H,m), 7.02(2H,br.d,J=9.3Hz), 4.92
(2H,s), 2.34(3H,s).
NMR (270 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.62-7.40 (7
H, m), 7.24-7.15 (2H, m), 7.02 (2H, br.d, J = 9.3Hz), 4.92
(2H, s), 2.34 (3H, s).

【0132】[0132]

【実施例5】O−(3−フェニル−2−メチル−2−プロピニル)−
4−アセタミドフェノール (化合物番号4.1) 4−アセトアミドフェノール148.7mgをジメチル
ホルムアミド2mlに溶解後、氷水浴中で冷却し、水素
化ナトリウム(60%)43.3mgを加え、同温度で
10分間撹拌した後、1−フェニル−3−メタンスルホ
ニルオキシ−1−ブチン264.7mgをジメチルホル
ムアミド2mlに溶解した溶液を同温度下で加えた後、
さらに5分間撹拌した後室温にて3時間撹拌した。反応
液中に水を加えジエチルエーテルで抽出し、水洗後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒 ヘキサン:酢
酸エチル=1:1)で精製し、融点124〜128℃を
有する標記化合物142.7mg(収率52%)を得
た。
Example 5 O- (3-phenyl-2-methyl-2-propynyl)-
4 -acetamidophenol (Compound No. 4.1) After dissolving 148.7 mg of 4-acetamidophenol in 2 ml of dimethylformamide, it was cooled in an ice-water bath, 43.3 mg of sodium hydride (60%) was added, and the same temperature was added. After stirring for 10 minutes at room temperature, a solution of 264.7 mg of 1-phenyl-3-methanesulfonyloxy-1-butyne in 2 ml of dimethylformamide was added at the same temperature,
After further stirring for 5 minutes, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Water was added to the reaction solution, extracted with diethyl ether, washed with water, and dried over sodium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was purified by silica gel column chromatography (eluting solvent hexane: ethyl acetate = 1: 1) to obtain 142.7 mg (yield 52%) of the title compound having a melting point of 124 to 128 ° C.

【0133】NMR(200MHz,CDCl3)δ:7.45-7.24(6
H,m), 7.08-6.98(3H,m), 5.05(1H,q,J=6.3Hz), 2.16(3
H,s), 1.73(3H,d,J=6.6Hz).
NMR (200 MHz, CDCl 3 ) δ: 7.45-7.24 (6
H, m), 7.08-6.98 (3H, m), 5.05 (1H, q, J = 6.3Hz), 2.16 (3
H, s), 1.73 (3H, d, J = 6.6Hz).

【0134】[0134]

【製剤例】[Formulation example]

【0135】[0135]

【製剤例1】 (水和剤)1.1 番の化合物25%、ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム塩2.5%、リグニンスルホン酸カ
ルシウム塩2.5%及び珪藻土70%をよく粉砕混合し
て水和剤を得た。
[Formulation Example 1] (Wettable powder) 25% compound No. 1.1, sodium dodecylbenzenesulfonate 2.5%, calcium ligninsulfonate 2.5% and diatomaceous earth 70% are well pulverized and mixed to obtain a wettable powder. Got

【0136】[0136]

【製剤例2】 (乳剤)3.3 番の化合物30%、ドデシルベンゼンスル
ホン酸カルシウム塩2.68%、ポリエオキシエチレン
アルキルエーテル4.92%、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテルリン酸カルシウム塩0.4%及びキ
シレン62%をよく混合して乳剤を得た。
[Formulation Example 2] (Emulsion) No. 3.3 compound 30%, dodecylbenzenesulfonic acid calcium salt 2.68%, polyoxyethylene alkyl ether 4.92%, polyoxyethylene nonylphenyl ether phosphate calcium salt 0.4% and xylene. 62% was mixed well to obtain an emulsion.

【0137】[0137]

【製剤例3】 (粒剤)5.5 番の化合物5%、ホワイトカーボン1%、
リグニンスルホン酸カルシウム塩5%、ベントナイト2
0%及びクレー69%をよく粉砕混合し、水を加えてよ
く練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得た。
[Formulation Example 3] (Granule) No. 5.5 compound 5%, white carbon 1%,
Lignin sulfonate calcium salt 5%, bentonite 2
0% and 69% of clay were well pulverized and mixed, water was added and well kneaded, and then granulated and dried to obtain granules.

【0138】[0138]

【製剤例4】 (水和顆粒)5.10番の化合物80%、特殊ポリカルボン
酸重合物ナトリウム塩1.25%、水3.75%、ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩3%、デキストリ
ン7%及び酸化チタン5%を混合し、次いでエアーミル
で粉砕し、回転ミキサー又は流動床ミキサー中に加え、
水を噴霧して顆粒化させた。大部分が1.0−0.15
mmになったら顆粒を取り出し、乾燥後、篩にかけた。
オーバーサイズの物質を粉砕し、1.0−0.15mm
の顆粒を得た。
[Formulation Example 4] (Hydrated granules) No. 5.10 compound 80%, special polycarboxylic acid polymer sodium salt 1.25%, water 3.75%, dodecylbenzene sulfonic acid sodium salt 3%, dextrin 7% and oxidation Titanium 5% is mixed, then ground in an air mill and added to a rotary mixer or fluid bed mixer,
It was granulated by spraying with water. Mostly 1.0-0.15
When the size became mm, the granules were taken out, dried and sieved.
Oversize material is crushed to 1.0-0.15mm
Granules of

【0139】[0139]

【製剤例5】 (水性懸濁液)5.34番の化合物25部、ナトリウムジオ
クチルスルホサクシネート0.7部、プロピレングリコ
ール0.15部、リグニンスルホン酸カルシウム塩10
部、水44.15部及びプロピレングリコール10部を
固形粒子が5ミクロン以下の直径に減少されるまで、ボ
ールミル、サンドミル又はローラーミル中で一緒に粉砕
した。この粉砕スラリー90部に、0.05%(W/
W)キサンタンガム水溶液10部を加えて混合し、水性
懸濁液を得た。
[Formulation Example 5] (Aqueous suspension) Compound No. 5.34 (25 parts), sodium dioctylsulfosuccinate (0.7 parts), propylene glycol (0.15 parts), ligninsulfonic acid calcium salt (10)
Parts, 44.15 parts of water and 10 parts of propylene glycol were milled together in a ball mill, sand mill or roller mill until the solid particles were reduced to a diameter of 5 microns or less. To 90 parts of this pulverized slurry, 0.05% (W /
W) 10 parts of xanthan gum aqueous solution was added and mixed to obtain an aqueous suspension.

【0140】[0140]

【発明の効果】本発明の化合物は、殺草作用を有してお
り、除草剤として使用することができる。例えば、水田
において、雑草の発芽前又は発芽後に湛水土壌処理する
ことにより、水田の強雑草であるタイヌビエ、ヒメタイ
ヌビエ、ケイヌビエ等のイネ科雑草を強力に防除するこ
とができる。
The compound of the present invention has a herbicidal action and can be used as a herbicide. For example, paddy field weeds such as Taenia cinerea, Hymetainuvier and Keiubie, which are strong weeds in paddy fields, can be strongly controlled by treating the flooded soil in the paddy fields before or after germination of the weeds.

【0141】一方、水稲に対しては、選択性が大きく、
移植水稲は薬害を受けることがないため、処理適用幅が
大きいという利点がある。
On the other hand, the selectivity for paddy rice is high,
Transplanted rice has the advantage that it can be applied to a wide range of applications because it does not suffer chemical damage.

【0142】次に、生物試験例を挙げて、具体的にその
効果を示す。
Next, the effects will be concretely shown by giving examples of biological tests.

【0143】[0143]

【試験例1】 水田雑草発芽前処理 100cm2 ポットに水田土壌を充填し、休眠覚醒した
タイヌビエの種子を表層1cmに混和した。また、2葉
期の水稲の苗を移植して湛水状態とし、温室で生育させ
た。3日後に、製剤例1に準じて調製した水和剤を用い
て所定の薬量を湛水土壌処理し、21日後に次に示す判
定基準に従って調査を行なった。その結果を表8に示し
た。 (判定基準) 0: 生育抑制率 0− 10% 1: 生育抑制率 11− 30% 2: 生育抑制率 31− 50% 3: 生育抑制率 51− 70% 4: 生育抑制率 71− 90% 5: 生育抑制率 91−100%
[Test Example 1] Pre-germination treatment of paddy field weeds A 100 cm 2 pot was filled with paddy soil, and seeds of Taenia japonica that had been awakened were mixed into the surface layer of 1 cm. In addition, seedlings of paddy rice at the two-leaf stage were transplanted into a submerged state and grown in a greenhouse. Three days later, the wettable powder prepared according to Formulation Example 1 was used to treat the submerged soil with a predetermined dose, and 21 days later, an investigation was conducted according to the following criteria. The results are shown in Table 8. (Judgment Criteria) 0: Growth inhibition rate 0-10% 1: Growth inhibition rate 11-30% 2: Growth inhibition rate 31-50% 3: Growth inhibition rate 51-70% 4: Growth inhibition rate 71-90% 5 : Growth inhibition rate 91-100%

【0144】[0144]

【試験例2】 タイヌビエ1.5葉期処理 試験例1と同じ方法で、タイヌビエの1.5葉期に、製
剤例1に準じて調製した水和剤を用いて所定の薬量を湛
水土壌処理し、21日後に調査を行なった。その結果を
表8に示した(判定基準は試験例1と同じ)。
[Test Example 2] 1.5 leaf stage treatment of Tainubie In the same manner as in Test Example 1, a prescribed dose was submerged in the 1.5 leaf stage of Tainubie using a wettable powder prepared according to Formulation Example 1. The soil was treated and surveyed 21 days later. The results are shown in Table 8 (determination criteria are the same as in Test Example 1).

【0145】[0145]

【表8】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 薬量(g/a) 水田雑草発芽前処理 タイヌビエ1.5葉期処理 タイヌビエ 水稲 タイヌビエ 水稲 ──────────────────────────────────── 1.1 20 5 0 5 0 1.1 10 5 0 5 0 1.1 5 5 0 5 0 1.6 20 5 0 5 0 1.6 10 5 0 5 0 1.6 5 5 0 5 0 1.9 20 5 0 5 0 2.11 20 5 0 5 0 3.3 20 5 0 5 0 3.5 20 5 0 5 0 3.10 20 5 0 5 0 4.2 20 5 0 4 0 5.2 20 5 0 4 0 5.3 20 5 0 4 0 5.4 20 5 0 5 0 5.4 10 5 0 5 0 5.4 5 5 0 5 0 5.5 20 5 0 5 0 5.5 10 5 0 5 0 5.5 5 5 0 5 0 5.6 20 5 0 5 0 5.6 10 5 0 5 0 5.6 5 5 0 5 0 5.8 20 5 0 5 0 5.8 10 5 0 5 0 5.8 5 5 0 5 0 5.9 20 5 0 5 0 5.9 10 5 0 5 0 5.9 5 5 0 4 0 5.10 20 5 0 5 0 5.10 10 5 0 5 0 5.10 5 5 0 4 0 5.19 20 5 0 4 0 5.21 20 5 0 5 0 5.32 20 5 0 5 0 5.32 10 5 0 4 0 5.32 5 4 0 4 0 5.34 20 5 0 5 0 5.34 10 5 0 5 0 5.34 5 5 0 4 0 5.36 20 5 0 5 0 5.43 20 5 0 4 0 5.44 20 5 0 4 0 5.46 20 5 0 4 0 6.1 20 5 0 3 0 6.6 20 5 0 5 0 6.6 10 5 0 5 0 6.6 5 5 0 5 0 6.7 20 5 0 4 0 6.8 20 5 0 5 0 6.17 20 5 0 4 0 6.30 20 5 0 5 0 7.1 20 4 0 5 0 7.2 20 4 0 4 0 7.15 20 5 0 5 0 7.22 20 4 0 3 0 7.24 20 4 0 3 0 7.25 20 5 0 4 0 ──────────────────────────────────── 比較化合物A 20 1 0 2 0 比較化合物A 10 0 0 0 0 比較化合物A 5 0 0 0 0 比較化合物B 20 0 0 0 0 比較化合物B 10 0 0 0 0 比較化合物B 5 0 0 0 0 ──────────────────────────────────── 上記表中、比較化合物AはUSP4,289,903
に、比較化合物Bは特開昭59−193810号公報
に、それぞれ記載されている、下記式で表される化合物
である。
[Table 8] ──────────────────────────────────── Compound number Drug amount (g / a) Paddy field Weed germination pre-treatment Tainubie 1.5 Leaf stage treatment Tainubier Paddy rice Tainubie Paddy rice ──────────────────────────────────── --1.1 20 5 0 5 0 1.1 1.1 10 5 0 5 0 0 1.1 5 5 5 0 5 0 1.6 1.6 20 5 0 5 5 0 1.6 1.6 10 5 0 5 0 0 1.6 5 5 0 5 5 0 1 .9 20 5 0 5 0 0 2.11 20 5 0 5 5 0 3.3 3.3 20 5 0 5 0 3.5 3.5 20 5 0 5 5 0 3.10 20 5 0 5 0 0 4.2 20 5 0 4 0 5.2 20 5 0 4 0 5.3 5.3 20 5 5 0 4 0 5.4 5.4 20 5 0 5 5 0 5.4 5.4 10 5 0 5 5 0 5 4 5 5 0 5 5 0 5 5 20 5 0 5 5 0 5 5 5 10 5 0 5 0 5.5 5 5 0 5 0 5 5.6 20 5 5 0 5 0 5.6 6 10 5 0 5 5 0 5.6 5 5 5 0 5 0 5.8 20 20 5 0 5 5 0 5.8 10 5 0 5 5 0 5.8 5 5 0 5 0 5.9 20 5 5 0 5 0 5.9 10 5 5 0 5 0 5.9 5 5 5 0 4 0 5.10 20 5 0 5 5 0 5.10 10 5 0 5 5 0 5.10 5 5 5 4 0 5.19 20 5 0 4 0 0 5.21 20 5 0 5 5 0 5.32 20 5 0 5 5 0 5.32 10 5 0 4 0 5 5.32 5 4 0 4 0 5 5.34 20 5 0 5 5 0 5 0.34 10 5 0 5 0 5.34 5 5 0 4 0 5.36 20 5 0 5 5 0 5.43 20 5 0 4 0 5.44 20 5 5 0 4 0 5.46 20 5 0 4 0 6.1 20 5 0 3 0 6.6 6 20 5 5 0 5 0 6.6 6 10 5 0 5 0 6 6 6 5 5 5 0 5 0 6.7 20 5 0 4 6.8 20 5 5 0 5 6.17 20 5 0 4 0 6.30 20 5 0 5 5 0 7.1 20 4 0 5 0 7 7.2 20 4 4 0 4 0 7.15 20 5 0 5 5 0 7. 22 20 4 0 3 0 7.24 20 4 0 3 0 7.25 20 5 0 4 0 ───────────────────────────── ──────── Comparative Compound A 20 1 0 2 0 Comparative Compound A 10 0 0 0 0 Comparative Compound A 5 0 0 0 0 Comparative Compound B 20 0 0 0 0 Comparative Compound B 10 0 0 0 0 Comparative Compound B 5 0 0 0 0 ───────────────────────────────────── In the above table, Comparative Compound A is USP 4,289,903
Comparative compound B is a compound represented by the following formula described in JP-A-59-193810.

【0146】[0146]

【化18】 Embedded image

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本間 豊邦 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toyokuni Honma 1041 Yasu, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga Sankyo Stock Company

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式(I) 【化1】 [式中、R1 は、C1〜C6低級アルキル基(当該低級
アルキル基は、ハロゲン原子により置換されても良い)
を示し、R2 は、水素原子、C1〜C6低級アルキル基
(当該低級アルキル基は、C1〜C6低級アルキルチオ
基又はC1〜C6低級アルキルスルホニル基により置換
されていても良い)、C3〜C6低級アルケニル基、C
3〜C6低級アルキニル基、フェニルプロパルギル基
(当該フェニル基は、ハロゲン原子、C1〜C6低級ア
ルキル基又はC1〜C6低級アルコキシ基により置換さ
れていても良い)又はベンジル基を示し、R3 は、C1
〜C6低級アルキル基、C1〜C6低級アルコキシ基又
はハロゲン原子を示し、R4 は、水素原子又はC1〜C
6低級アルキル基を示し、R5 は、C1〜C6低級アル
キル基、C1〜C6低級アルコキシ基、フェノキシ基、
ハロゲン原子又はトリフルオロメチル基を示し、Aは、
式−C≡C−で表される基又は式−C(R6 )=CH−
で表される基(R6 は、水素原子、C1〜C6低級アル
キル基又はハロゲン原子を示す)を示し、nは0又は1
乃至4の整数を示し(但し、nが2乃至4の場合は、そ
れぞれのR3 は同一又は異なっていても良い)、mは0
又は1乃至5の整数を示す(但し、mが2乃至5の場合
は、それぞれのR5 は同一又は異なっていても良
い)。]で表わされるアミノフェノール誘導体。
1. A compound represented by the following general formula (I): [In the formula, R 1 is a C1 to C6 lower alkyl group (the lower alkyl group may be substituted with a halogen atom)
R 2 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 lower alkyl group (the lower alkyl group may be substituted with a C1 to C6 lower alkylthio group or a C1 to C6 lower alkylsulfonyl group), C3 to C6 lower Alkenyl group, C
3 to C6 lower alkynyl group, phenylpropargyl group (the phenyl group may be substituted with a halogen atom, C1 to C6 lower alkyl group or C1 to C6 lower alkoxy group) or benzyl group, and R 3 is C1
To C6 lower alkyl group, C1 to C6 lower alkoxy group or a halogen atom, R 4 represents a hydrogen atom or C1 to C
6 lower alkyl group, R 5 is a C1 to C6 lower alkyl group, a C1 to C6 lower alkoxy group, a phenoxy group,
A halogen atom or a trifluoromethyl group is shown, and A is
A group represented by the formula -C≡C- or a formula -C (R 6 ) = CH-
(R 6 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 lower alkyl group or a halogen atom), and n is 0 or 1.
To 4 (provided that n is 2 to 4, each R 3 may be the same or different), and m is 0.
Or an integer of 1 to 5 (provided that when m is 2 to 5, each R 5 may be the same or different). ] The aminophenol derivative represented by.
【請求項2】下記一般式(I) 【化2】 [式中、R1 は、C1〜C4低級アルキル基(当該低級
アルキル基は、ハロゲン原子により置換されても良い)
を示し、R2 は、水素原子、C1〜C4低級アルキル
基、C3〜C5低級アルケニル基、C3〜C5低級アル
キニル基、フェニルプロパルギル基(当該フェニル基
は、ハロゲン原子、C1〜C4低級アルキル基又はC1
〜C3低級アルコキシ基により置換されていても良い)
又はベンジル基を示し、R3 は、C1〜C4低級アルキ
ル基、C1〜C3低級アルコキシ基又はハロゲン原子を
示し、R4 は、水素原子又はC1〜C4低級アルキル基
を示し、R5 は、C1〜C4低級アルキル基、C1〜C
3低級アルコキシ基、フェノキシ基又はハロゲン原子を
示し、Aは、式−C≡C−で表わされる基又は式−C
(R6 )=CH−で表わされる基(R6 は、水素原子、
C1〜C4低級アルキル基又はハロゲン原子を示す)を
示し、nは0又は1乃至4の整数を示し(但し、nが2
乃至4の場合は、それぞれのR3 は同一又は異なってい
ても良い)、mは0又は1乃至5の整数を示す(但し、
mが2乃至5の場合は、それぞれのR5 は同一又は異な
っていても良い)。]で表わされるアミノフェノール誘
導体。
2. The following general formula (I): [In the formula, R 1 is a C1 to C4 lower alkyl group (the lower alkyl group may be substituted with a halogen atom)
Are shown, R 2 is a hydrogen atom, C1 -C4 lower alkyl group, C3-C5 lower alkenyl group, C3-C5 lower alkynyl group, a phenyl propargyl group (said phenyl group, a halogen atom, C1 -C4 lower alkyl group or C1
To C3 may be substituted with a lower alkoxy group)
Or a benzyl group, R 3 represents a C1 to C4 lower alkyl group, a C1 to C3 lower alkoxy group or a halogen atom, R 4 represents a hydrogen atom or a C1 to C4 lower alkyl group, and R 5 represents C1 To C4 lower alkyl group, C1 to C
3 is a lower alkoxy group, a phenoxy group or a halogen atom, and A is a group represented by the formula —C≡C— or a formula —C
A group represented by (R 6 ) ═CH— (R 6 is a hydrogen atom,
C1 to C4 is a lower alkyl group or a halogen atom, and n is 0 or an integer of 1 to 4 (where n is 2).
In the case of 4 to 4, each R 3 may be the same or different), m is 0 or an integer of 1 to 5 (provided that
When m is 2 to 5, each R 5 may be the same or different). ] The aminophenol derivative represented by.
【請求項3】下記一般式(I) 【化3】 [式中、R1 は、メチル基(当該メチル基は、弗素原子
又は塩素原子により置換されても良い)を示し、R2
は、水素原子又はフェニルプロパルギル基(当該フェニ
ル基は、弗素原子、塩素原子又はメトキシ基により置換
されていても良い)を示し、R3 は、メチル基又は塩素
原子を示し、R4 は、水素原子を示し、R5は、メチル
基、メトキシ基、弗素原子又は塩素原子を示し、Aは、
式−C≡C−で表わされる基又は式−C(R6 )=CH
−で表わされる基(R6 は、水素原子又は塩素原子を示
す)を示し、nは0、1又は2を示し(但し、nが2の
場合は、それぞれのR3 は同一又は異なっていても良
い)、mは0、1又は2を示す(但し、mが2の場合
は、それぞれのR5 は同一又は異なっていても良
い)。]で表わされるアミノフェノール誘導体。
3. The following general formula (I): [In the formula, R 1 represents a methyl group (the methyl group may be substituted with a fluorine atom or a chlorine atom), and R 2
Represents a hydrogen atom or a phenylpropargyl group (the phenyl group may be substituted with a fluorine atom, a chlorine atom or a methoxy group), R 3 represents a methyl group or a chlorine atom, and R 4 represents hydrogen. An atom, R 5 represents a methyl group, a methoxy group, a fluorine atom or a chlorine atom, and A represents
A group represented by the formula -C≡C- or a formula -C (R 6 ) = CH
Represents a group represented by- (R 6 represents a hydrogen atom or a chlorine atom), n represents 0, 1 or 2 (provided that when n is 2, each R 3 is the same or different) And m is 0, 1 or 2 (provided that when m is 2, each R 5 may be the same or different). ] The aminophenol derivative represented by.
【請求項4】下記一般式(I) 【化4】 [式中、R1 は、メチル基又はフルオロメチル基を示
し、R2 は、水素原子を示し、R3 は、メチル基を示
し、R4 は、水素原子を示し、R5 は、メトキシ基、弗
素原子又は塩素原子を示し、Aは、式−C≡C−で表わ
される基を示し、nは0、1又は2を示し(但し、nが
2の場合は、それぞれのR3 は同一又は異なっていても
良い)、mは0、1又は2を示す(但し、mが2の場合
は、それぞれのR5 は同一又は異なっていても良
い)。]で表わされるアミノフェノール誘導体。
4. The following general formula (I): [In the formula, R 1 represents a methyl group or a fluoromethyl group, R 2 represents a hydrogen atom, R 3 represents a methyl group, R 4 represents a hydrogen atom, and R 5 represents a methoxy group. , A fluorine atom or a chlorine atom, A represents a group represented by the formula —C≡C—, n represents 0, 1 or 2 (provided that when n is 2, each R 3 is the same). Or m may be 0, 1 or 2 (provided that when m is 2, each R 5 may be the same or different). ] The aminophenol derivative represented by.
【請求項5】請求項1乃至4に記載のアミノフェノール
誘導体を有効成分として含有する除草剤。
5. A herbicide containing the aminophenol derivative according to any one of claims 1 to 4 as an active ingredient.
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WO2003009686A1 (en) * 2001-07-24 2003-02-06 Syngenta Participations Ag Herbicidal composition
WO2004002947A1 (en) * 2002-07-01 2004-01-08 Syngenta Participations Ag Phenoxypropenylphenyl derivatives and their use as herbicides

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WO2003009686A1 (en) * 2001-07-24 2003-02-06 Syngenta Participations Ag Herbicidal composition
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