JPH0815360A - Mr snesor - Google Patents

Mr snesor

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Publication number
JPH0815360A
JPH0815360A JP6144489A JP14448994A JPH0815360A JP H0815360 A JPH0815360 A JP H0815360A JP 6144489 A JP6144489 A JP 6144489A JP 14448994 A JP14448994 A JP 14448994A JP H0815360 A JPH0815360 A JP H0815360A
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JP
Japan
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terminals
sensor
substrate
magnetoresistive effect
wiring
Prior art date
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Pending
Application number
JP6144489A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuo Endo
哲雄 遠藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH0815360A publication Critical patent/JPH0815360A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain an MR sensor which can detect even a small chip of a board electrically and automatically. CONSTITUTION:Magnetoresistive effect elements 10a-10d are formed on a board 15 and terminals 12a-12e are provided at the opposite ends and between respective elements. The central terminal 12c is employed as a power supply terminal, the opposite end terminals 12a, 12e as ground terminals, and the intermediate terminals 12b, 12d as output terminals thus constituting a two-phase MR position sensor 1. A chip detection wiring 13 is laid along the periphery of the board 15 between the ground terminals 12a, 12e. The terminals 12a, 12e are short- circuited when the chip detection wiring 13 is conducting and a predetermined resistance appears between the terminals 12a, 12e if they are open-circuited due to chipping of the board. When probes 41a, 41b are brought into contact with the terminals 12a, 12e and the resistance between the terminals is measured by means of a resistance meter 40, even a small chip of the board 15 can be detected electrically.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気抵抗効果型センサ
ー(以後、MRセンサーと言う)に関し、特に基板の欠
損を自動的に検査可能な構造のMRセンサーに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetoresistive sensor (hereinafter referred to as an MR sensor), and more particularly to an MR sensor having a structure capable of automatically inspecting a defect in a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁界による抵抗値の変化を利用したMR
センサーは、たとえば、位置センサーなどの変移センサ
ーとして、しばしば用いられている。そのようなMRセ
ンサーを図4に例示する。図4は磁気抵抗効果型素子を
用いた位置センサーである。MRセンサー9は、ガラス
基板95上に4つの磁気抵抗効果型素子90a〜90d
が形成され、配線91により接続されている。この磁気
抵抗効果型素子90a〜90dおよび配線91は、図示
せぬ保護膜により覆われている。また、各磁気抵抗効果
型素子90a〜90dの間および両端には、外部との接
続端子である電極端子92a〜92eが設けられてい
る。この端子92a〜92eより各磁気抵抗効果型素子
90a〜90dの抵抗値が検出される。なお、このMR
センサー9の大きさは約5mm×5mmである。
MR utilizing the change in resistance value due to magnetic field
Sensors are often used, for example, as displacement sensors such as position sensors. Such an MR sensor is illustrated in FIG. FIG. 4 shows a position sensor using a magnetoresistive effect element. The MR sensor 9 includes four magnetoresistive effect elements 90a to 90d on a glass substrate 95.
Are formed and are connected by the wiring 91. The magnetoresistive effect elements 90a to 90d and the wiring 91 are covered with a protective film (not shown). Further, electrode terminals 92a to 92e, which are connection terminals to the outside, are provided between the magnetoresistive effect elements 90a to 90d and at both ends. The resistance values of the magnetoresistive effect elements 90a to 90d are detected from the terminals 92a to 92e. This MR
The size of the sensor 9 is about 5 mm × 5 mm.

【0003】そのようなMRセンサーの製造方法は、一
枚の基板上に、多数のMRセンサーを一括して形成し、
完成後個々のセンサーに切断するという方法で行われて
いる。切断された各センサーは、その導通状態や、抵抗
値などを検査した後、完成品として各種機器などに使用
される。しかし、この切断工程では、基板95がガラス
製のため、所定の切断位置以外の部分で割れてしまった
り、欠けてしまったりする場合がある。たとえば、図4
のMRセンサー9に示す欠損96や、欠損97のような
欠けを生じる。そのために、切断されたMRセンサー
は、正しく切断されているか、そのような欠損が有るか
否かを検査する必要がある。
In such a method for manufacturing an MR sensor, a large number of MR sensors are collectively formed on one substrate,
It is done by cutting into individual sensors after completion. Each of the cut sensors is used for various devices as a finished product after inspecting its conduction state and resistance value. However, in this cutting step, since the substrate 95 is made of glass, it may be cracked or chipped at a portion other than the predetermined cutting position. For example, in FIG.
A defect such as a defect 96 and a defect 97 shown in the MR sensor 9 is generated. For that purpose, the cut MR sensor needs to be inspected for proper cutting and for such defects.

【0004】前記検査を行う場合、たとえば、欠損96
のように、基板の欠損が、配線91や磁気抵抗効果型素
子90dに達している場合には、このMRセンサー9は
正常に動作しないため、不良品として排除する必要があ
る。このような欠損は、このMRセンサー9の導通状態
や抵抗値に影響を与えるため、電気的に検査すれば発見
可能であり、自動検査が可能である。一方、欠損97の
ように、配線91や磁気抵抗効果型素子90aまで達し
ていない比較的小さな欠損は、導通状態や抵抗値に影響
しないため、このMRセンサーは製造時には正常に動作
する。しかし、このようなMRセンサーは、基板と保護
膜との隙間より水分などが浸透し易くなっており、時間
の経過につれ特性が変化したり、耐久時間が短くなる可
能性が高い。したがって、このような比較的小さな欠損
を生じたMRセンサーについても、不良品として排除す
る必要がある。このような欠損は、電気的な検査での発
見は不可能で、このような欠損の生じたMRセンサーを
自動的に取り除くことはできないため、作業者が目視に
より検査を行っている。
When the above-mentioned inspection is performed, for example, a defect 96
As described above, when the defect of the substrate reaches the wiring 91 or the magnetoresistive effect element 90d, the MR sensor 9 does not operate normally, so it is necessary to exclude it as a defective product. Since such a defect affects the conduction state and resistance value of the MR sensor 9, it can be found by an electrical inspection and an automatic inspection is possible. On the other hand, a relatively small defect such as the defect 97 that does not reach the wiring 91 or the magnetoresistive effect element 90a does not affect the conduction state or the resistance value, and thus this MR sensor operates normally during manufacturing. However, in such an MR sensor, moisture or the like easily penetrates through the gap between the substrate and the protective film, and there is a high possibility that the characteristics will change or the durability time will be shortened with the passage of time. Therefore, the MR sensor having such a relatively small defect needs to be rejected as a defective product. Such a defect cannot be found by an electrical inspection, and the MR sensor having such a defect cannot be automatically removed. Therefore, an operator visually inspects the defect.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述したよう
な、作業者の目視によるMRセンサーの欠損のチェック
は、効率、正確さの両面で問題があった。すなわち、5
mm×5mm程度の小さな寸法のMRセンサーの欠損を
大量にチェックするこの作業は、作業者の負担が非常に
大きかった。また、目視検査であるため、不良品を見逃
す可能性もあった。
However, the above-described checking of the MR sensor defect by the operator's visual observation has problems in terms of both efficiency and accuracy. That is, 5
This work of checking a large amount of defects in the MR sensor having a small size of about 5 mm × 5 mm imposes a great burden on the operator. Further, since it is a visual inspection, there is a possibility that a defective product may be overlooked.

【0006】したがって、本発明の目的は、製造工程中
に発生するMRセンサー基板材の欠損を、作業者による
目視検査ではなく、自動的に、正確に検出できる構造の
MRセンサーを提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide an MR sensor having a structure capable of automatically and accurately detecting a defect of the MR sensor substrate material generated during the manufacturing process, not by visual inspection by an operator. is there.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前述した検査を自動に行
うために、MRセンサーの基板の周囲に沿って基板の欠
損を電気的に検出可能な検出部材を設け、その検出部材
の出力を自動的に電気的に検査するようにした。その検
出部材としては、基板の欠損とともに不良になり、構造
が簡単で、安価で、設置が容易なものが望ましい。さら
に、MRセンサーの各素子や配線などの構成品と共通、
あるいは、類似した部材であるのが望ましい。
In order to automatically perform the above-mentioned inspection, a detection member capable of electrically detecting a defect of the substrate is provided along the periphery of the substrate of the MR sensor, and the output of the detection member is automatically detected. Electrical inspection. As the detecting member, a member that becomes defective when the substrate is damaged, has a simple structure, is inexpensive, and is easy to install is desirable. Furthermore, it is common with components such as MR sensor elements and wiring,
Alternatively, a similar member is desirable.

【0008】したがって、本発明のMRセンサーは、基
板と、その基板上に形成された磁気抵抗効果素子と、外
部よりその抵抗値を測定するための第1の接続部と、そ
れら磁気抵抗効果素子および第1の接続部を接続する配
線と、前記基板の欠損を電気的に検出するために、その
基板の周縁に密着させた導電性薄膜条帯とより構成され
る。特定的には、本発明のMRセンサーは、前記導電性
薄膜状態の導電状態を外部より検出するための第2の接
続部を、前記導電性薄膜条帯の両端に有する構成であ
る。また特定的には、前記第1の接続部は同一の基準電
位に維持される端子を2つ以上有し、その2つの端子を
前記導電性薄膜状態の導電状態を外部より検出するため
の第2の接続部として兼用する構成である。また好適に
は、前記導電性薄膜条帯および第2の接続部は、前記磁
気抵抗効果素子、第1の接続部および配線と、同時的に
形成されることが望ましい。
Therefore, the MR sensor of the present invention comprises a substrate, a magnetoresistive effect element formed on the substrate, a first connecting portion for measuring its resistance value from the outside, and the magnetoresistive effect element. And a wiring for connecting the first connecting portion, and a conductive thin film strip closely attached to the peripheral edge of the substrate for electrically detecting a defect in the substrate. Specifically, the MR sensor of the present invention has a configuration in which second connecting portions for externally detecting the conductive state of the conductive thin film state are provided at both ends of the conductive thin film strip. Further, specifically, the first connection portion has two or more terminals that are maintained at the same reference potential, and these two terminals are used for externally detecting the conductive state of the conductive thin film state. It is also configured to be used as the connection portion of 2. Further, it is preferable that the conductive thin film strip and the second connecting portion are formed simultaneously with the magnetoresistive effect element, the first connecting portion and the wiring.

【0009】[0009]

【作用】MRセンサーの製造時などに基板に欠損が生じ
れば、この基板の周縁部に沿って密着して設けられてい
る導電体にも一体的に欠損が生じる。すなわち、導電体
が切断される。したがって、この導電体の両端より、こ
の導電体の導電状態をチェックしておけば、基板の欠損
は電気的に自動的に検出できる。
If the substrate is damaged at the time of manufacturing the MR sensor, the conductors closely attached along the peripheral edge of the substrate are also damaged. That is, the conductor is cut. Therefore, if the conductive state of the conductor is checked from both ends of the conductor, the defect of the substrate can be electrically detected automatically.

【0010】[0010]

【実施例】第1実施例 本発明の第1実施例のMRセンサーについて図1および
図2を参照して説明する。図1は、第1実施例のMRセ
ンサーの構成および検査方法を示す図である。MRセン
サー1は、基板15、磁気抵抗効果型素子10a〜10
d、配線11、端子12a〜12e、および、欠損検出
配線13より構成される。
EXAMPLES Referring to FIG. 1 and FIG. 2 will be described MR sensor of the first embodiment of the first embodiment the present invention. FIG. 1 is a diagram showing the configuration and inspection method of the MR sensor of the first embodiment. The MR sensor 1 includes a substrate 15 and magnetoresistive effect elements 10a-10.
d, wiring 11, terminals 12a to 12e, and loss detection wiring 13.

【0011】以下、各部の構造について説明する。基板
15は、MRセンサー1を構成する各素子を形成するた
めのガラス基板である。本実施例の基板15は一辺約5
mm程度の正方形基板である。磁気抵抗効果型素子10
a〜10dは、磁界の印加に応じて抵抗値が変化する磁
気抵抗効果素子である。本実施例においては、ニッケル
(Ni)と鉄(Fe)の磁性合金であるパーマロイを、
所定の抵抗値を有するように十分細く形成したものであ
る。磁気抵抗効果型素子10a〜10dは、基板15上
に、各々所定の間隔離して平行に形成される。配線11
は、磁気抵抗効果型素子10a〜10d、および、端子
12a〜12eを電気的に接続する配線である。磁気抵
抗効果型素子10a〜10dを順次接続し、さらに、そ
の磁気抵抗効果型素子10a〜10dの両端および各素
子の間より端子12a〜12eを引き出すように配線さ
れている。配線11は、磁気抵抗効果型素子10a〜1
0dと同じパーマロイを、その抵抗値が無視できるほど
十分な所定の幅で形成したものである。
The structure of each part will be described below. The substrate 15 is a glass substrate for forming each element that constitutes the MR sensor 1. The substrate 15 of this embodiment has about 5 sides.
It is a square substrate of about mm. Magnetoresistive element 10
Reference symbols a to 10d are magnetoresistive effect elements whose resistance values change according to the application of a magnetic field. In this embodiment, permalloy, which is a magnetic alloy of nickel (Ni) and iron (Fe),
It is formed to be sufficiently thin so as to have a predetermined resistance value. The magnetoresistive effect elements 10a to 10d are formed on the substrate 15 in parallel with each other with a predetermined interval therebetween. Wiring 11
Is wiring for electrically connecting the magnetoresistive effect elements 10a to 10d and the terminals 12a to 12e. The magnetoresistive effect elements 10a to 10d are sequentially connected, and further, the terminals 12a to 12e are wired from both ends of the magnetoresistive effect elements 10a to 10d and between the elements. The wiring 11 is a magnetoresistive effect element 10a-1.
The same permalloy as 0d is formed with a predetermined width sufficient to make its resistance value negligible.

【0012】端子12a〜12eは、外部より磁気抵抗
効果型素子10a〜10dに電圧を印加したり、抵抗値
を測定するための接続端子であり、本実施例において
は、銅板により形成される。端子12a,12eは磁気
抵抗効果型素子10a〜10dの両端に、端子12b,
12c,12dは各々磁気抵抗効果型素子10a〜10
dの間に設けられている。欠損検出配線13は、基板1
5の周縁沿って、基板15に密着するように設けられた
配線である。設けられた基板15の欠損を検出するため
の配線である。本実施例においては、配線11と同様
に、抵抗値が十分小さくなる程度の所定の幅を有するパ
ーマロイにより形成する。また、この欠損検出配線13
の両端は、端子12aと、端子12eに接続されてい
る。したがって、端子12aと端子12eは短絡状態と
なる。
The terminals 12a to 12e are connection terminals for applying a voltage to the magnetoresistive effect elements 10a to 10d from the outside and measuring the resistance value, and are formed of copper plates in this embodiment. The terminals 12a and 12e are provided at both ends of the magnetoresistive effect elements 10a to 10d, respectively.
Reference numerals 12c and 12d denote magnetoresistive effect elements 10a to 10 respectively.
It is provided between d. The defect detection wiring 13 is the substrate 1
The wiring is provided along the peripheral edge of the substrate 5 so as to be in close contact with the substrate 15. It is a wiring for detecting a defect of the provided substrate 15. In this embodiment, like the wiring 11, it is formed of permalloy having a predetermined width such that the resistance value is sufficiently small. In addition, the defect detection wiring 13
Both ends of are connected to a terminal 12a and a terminal 12e. Therefore, the terminals 12a and 12e are short-circuited.

【0013】このように、MRセンサー1の磁気抵抗効
果型素子10a〜10d、配線11、および、欠損検出
配線13は全て、パーマロイにより形成されている。本
実施例において、これらの各部は蒸着により同時的に形
成する。なお、これら各部の膜厚は約数十nmである。
また、基板15の端子12a〜12eを除く部分は、図
示せぬ樹脂により覆われており、これにより磁気抵抗効
果型素子10a〜10d、配線11、および、欠損検出
配線13は外部と遮断され保護されている。
As described above, the magnetoresistive effect elements 10a to 10d, the wiring 11, and the defect detection wiring 13 of the MR sensor 1 are all formed of permalloy. In this embodiment, these parts are formed simultaneously by vapor deposition. The film thickness of each of these parts is about several tens of nm.
In addition, a portion of the substrate 15 excluding the terminals 12a to 12e is covered with a resin (not shown), whereby the magnetoresistive effect elements 10a to 10d, the wiring 11, and the loss detection wiring 13 are shielded from the outside and protected. Has been done.

【0014】次に、このMRセンサー1の使用方法につ
いて図2を参照して説明する。図2は、MRセンサー1
の使用形態を説明する図であって、MRセンサー1にフ
レキシブル基板30が設けられている状態を示す図であ
る。MRセンサー1にはフレキシブル基板30が設けら
れており、MRセンサー1の端子12a〜12eは引出
し線31a〜31eにより、フレキシブル基板30上の
端子32a〜32dに接続されている。
Next, a method of using the MR sensor 1 will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows the MR sensor 1
It is a figure explaining the usage pattern of, and is a figure showing the state where flexible substrate 30 is provided in MR sensor 1. The MR sensor 1 is provided with a flexible substrate 30, and the terminals 12a to 12e of the MR sensor 1 are connected to the terminals 32a to 32d on the flexible substrate 30 by lead wires 31a to 31e.

【0015】図2のMRセンサー1においては、端子3
2cを電源端子、端子32aを接地端子として用いる。
その結果、磁気抵抗効果型素子10a,10bより構成
されるA相と、磁気抵抗効果型素子10c,10dより
構成されるB相とを有する2相型の位置センサー1が構
成される。そして、A相,B相における各磁気抵抗効果
型素子による電圧分圧比が出力端子32bおよび出力端
子32dより検出可能となる。外部の磁石の位置が変化
すると、磁界が変化し、磁気抵抗効果型素子10a〜1
0dの各抵抗値が変化し、A,B各相における電圧分圧
比が変化する。したがって、出力端子32bおよび出力
端子32cの出力値を検出することにより、外部の物体
の位置、移動状態などが検出可能となる。
In the MR sensor 1 of FIG. 2, the terminal 3
2c is used as a power supply terminal and terminal 32a is used as a ground terminal.
As a result, a two-phase type position sensor 1 having an A phase composed of the magnetoresistive effect elements 10a and 10b and a B phase composed of the magnetoresistive effect elements 10c and 10d is constituted. Then, the voltage division ratio of each magnetoresistive effect element in the A phase and the B phase can be detected from the output terminal 32b and the output terminal 32d. When the position of the external magnet changes, the magnetic field changes, and the magnetoresistive effect elements 10a-1
Each resistance value of 0d changes, and the voltage division ratio in each phase of A and B changes. Therefore, by detecting the output values of the output terminal 32b and the output terminal 32c, it becomes possible to detect the position, the moving state, and the like of the external object.

【0016】次に、MRセンサー1での基板15の欠損
の検出方法について説明する。このような構成のMRセ
ンサー1においては、欠損検出配線13の両端より、欠
損検出配線13の導電状態を調べることにより基板15
の欠損が検出できる。つまり、欠損が無ければ欠損検出
配線13の両端は短絡状態となり、欠損が生じると、欠
損検出配線13が断線されるので、欠損検出配線13の
両端は絶縁状態となる。
Next, a method of detecting a defect of the substrate 15 by the MR sensor 1 will be described. In the MR sensor 1 having such a configuration, the substrate 15 is examined by checking the conductive state of the loss detection wiring 13 from both ends of the loss detection wiring 13.
Can be detected. In other words, both ends of the loss detection wiring 13 are short-circuited if there is no loss, and the loss detection wiring 13 is disconnected when a loss occurs, so that both ends of the loss detection wiring 13 are insulated.

【0017】さらに、MRセンサー1においては、前述
したように端子12aと端子12eは、フレキシブル基
板30上で最終的に引出し線31eにより短絡されて用
いられる。したがって、MRセンサー1を製造する段階
で、基板15上で短絡しても、MRセンサー1の機能に
差し支えない。そこで、第1実施例のMRセンサー1に
おいては、基板15上の周縁に沿って設けた欠損検出配
線13の両端を、端子12a,12bに接続した。そし
て、端子12a,12e間の抵抗値を、MRセンサー1
をフレキシブル基板30に接続しない状態で、抵抗測定
器40により測定することにより基板15の周縁部の欠
損が検出可能となる。つまり、欠損が無ければ、端子1
2aと端子12eは短絡状態となり、欠損が生じると、
この端子間の抵抗値は、磁気抵抗効果型素子10a〜1
0dを直列に接続した両端の端子としての値を示す。
Further, in the MR sensor 1, the terminals 12a and 12e are finally short-circuited by the lead wire 31e on the flexible substrate 30 and used. Therefore, even if a short circuit occurs on the substrate 15 at the stage of manufacturing the MR sensor 1, the function of the MR sensor 1 can be obtained. Therefore, in the MR sensor 1 of the first embodiment, both ends of the defect detection wiring 13 provided along the peripheral edge of the substrate 15 are connected to the terminals 12a and 12b. Then, the resistance value between the terminals 12a and 12e is determined by the MR sensor 1
By measuring with the resistance measuring device 40 in a state in which is not connected to the flexible substrate 30, it is possible to detect a defect in the peripheral portion of the substrate 15. That is, if there is no defect, terminal 1
When 2a and the terminal 12e are short-circuited and a defect occurs,
The resistance value between the terminals is the magnetoresistive effect element 10a-1.
Values are shown as terminals at both ends of which 0d is connected in series.

【0018】このように、第1実施例のMRセンサー1
によれば、MRセンサー1の基板の比較的小さな欠損
も、電気的に自動に検査可能となる。さらに、そのため
の欠損検出配線13の両端の端子を、抵抗値測定のため
の端子と兼用できるので、端子の数を増やす必要がな
く、欠損検出配線13の追加に伴う、MRセンサー1の
面積の増大を防ぐことができる。
Thus, the MR sensor 1 of the first embodiment
According to this, even a relatively small defect of the substrate of the MR sensor 1 can be electrically and automatically inspected. Furthermore, since the terminals at both ends of the defect detection wiring 13 for that purpose can also be used as terminals for measuring the resistance value, it is not necessary to increase the number of terminals, and the area of the MR sensor 1 can be reduced due to the addition of the defect detection wiring 13. It can prevent the increase.

【0019】第2実施例 本発明の第2実施例のMRセンサーについて図3を参照
して説明する。第2実施例のMRセンサー2は、第1実
施例のMRセンサー1の欠損検出配線13の両端に、欠
損検出配線13の導通状態を検査するための専用の欠損
検出配線用端子24a,24bを設けた構成であり、そ
れ以外の各部の構成は、第1実施例と同一である。この
ように、同一の電位に維持される端子を有しない構成・
使用方法のMRセンサーの場合には、専用の欠損検出配
線用端子24a,24bを設けることにより、第1実施
例同様に基板15の欠損の検出が可能となる。したがっ
て、どのような構造のMRセンサーについても、本発明
による欠損の検査が可能となる。
[0019] With reference to FIG. 3 will be described MR sensor of the second embodiment of the second embodiment the present invention. The MR sensor 2 of the second embodiment has dedicated defect detection wiring terminals 24a and 24b for inspecting the conduction state of the defect detection wiring 13 at both ends of the loss detection wiring 13 of the MR sensor 1 of the first embodiment. The configuration is the same as that of the first embodiment except for the configuration provided. In this way, a configuration that does not have terminals that are maintained at the same potential
In the case of the MR sensor of the usage method, by providing the dedicated defect detection wiring terminals 24a and 24b, it becomes possible to detect the defect of the substrate 15 as in the first embodiment. Therefore, the defect of the present invention can be inspected for MR sensors of any structure.

【0020】なお、本発明は前述した第1実施例および
第2実施例に限られるものではなく、種々の改変が可能
である。たとえば、本実施例においては、磁気抵抗効果
型素子10a〜10d、配線11、および、欠損検出配
線13、23は、全てNi−Fe合金であるパーマロイ
を材料として用いて形成した。しかし、これに限られる
ものではなく、配線用部材としては、銅線などの導電体
を使用してもよい。また、磁気抵抗効果素子の材料とし
ても、たとえばInSb、InAsなどの他の磁電素子
用材料を用いてもよい。また、本実施例のMRセンサー
としては、4つの磁気抵抗効果型素子を平行に基板上に
設けた物体の直線的な変移を検出する位置センサーを例
示したが、たとえば、これら磁気抵抗効果型素子を円形
状に配置した回転検出センサーなどでもよい。また、配
線の形状、端子の位置なども、任意の形状、位置でよ
い。
The present invention is not limited to the first and second embodiments described above, and various modifications can be made. For example, in this embodiment, the magnetoresistive effect elements 10a to 10d, the wiring 11, and the defect detection wirings 13 and 23 are all formed by using Ni-Fe alloy permalloy as a material. However, the present invention is not limited to this, and a conductor such as a copper wire may be used as the wiring member. Further, as the material of the magnetoresistive effect element, another material for magnetoelectric element such as InSb or InAs may be used. Further, as the MR sensor of the present embodiment, a position sensor for detecting a linear displacement of an object in which four magnetoresistive effect elements are provided in parallel on the substrate has been exemplified. A rotation detection sensor or the like in which is arranged in a circular shape may be used. Further, the shape of the wiring, the position of the terminal, and the like may be arbitrary shapes and positions.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明のMRセンサーによれば、センサ
ーの製造工程中に発生する、配線や磁気抵抗効果型素子
にまで達していない小さな基板材の欠損も、作業者によ
る目視ではなく、電気的に、自動的に、効率よく、正確
に検出できる。
According to the MR sensor of the present invention, even when a small substrate material which does not reach the wiring or the magnetoresistive effect element, which occurs during the manufacturing process of the sensor, is not visually observed by the operator, but is electrically detected. Automatically, efficiently and accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施例のMRセンサーの構成およ
び検査方法を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration and an inspection method of an MR sensor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したMRセンサーにフレキシブル基板
が設けられている状態を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a state in which a flexible substrate is provided on the MR sensor shown in FIG.

【図3】本発明の第2実施例のMRセンサーの構成を示
す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of an MR sensor according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来のMRセンサーの構成、および、基板の欠
損状態を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of a conventional MR sensor and a defective state of a substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2…MRセンサー 10a〜10d…磁気抵抗効果型素子 11…配線 12a〜12e…端子 13,23…欠損検出配線 24a,24b…欠損検出配線用端子 15,25…基板 30…フレキシブル基板 31a〜31e…引出し線 32a〜32d…端子 40…抵抗測定器 41a,41b…プローブ 9…MRセンサー 90a〜90d…磁気抵抗効果型素子 91…配線 92a〜92e…端子 95…ガラス基板 96,97…欠損 1, 2 ... MR sensor 10a-10d ... Magnetoresistive element 11 ... Wiring 12a-12e ... Terminal 13, 23 ... Defect detection wiring 24a, 24b ... Defect detection wiring terminal 15, 25 ... Board 30 ... Flexible board 31a ... 31e ... Lead wire 32a-32d ... Terminal 40 ... Resistance measuring instrument 41a, 41b ... Probe 9 ... MR sensor 90a-90d ... Magnetoresistive effect element 91 ... Wiring 92a-92e ... Terminal 95 ... Glass substrate 96, 97 ... Defect

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板と、 該基板上に形成された1つ以上の磁気抵抗効果素子と、 該磁気抵抗効果素子の抵抗値を測定可能にする第1の接
続部と、 前記磁気抵抗効果素子および前記接続部を接続する配線
と、 前記基板の欠損を電気的に検出可能にするために、前記
基板の周縁に密着させた導電性薄膜条帯とを有するMR
センサー。
1. A substrate, one or more magnetoresistive effect elements formed on the substrate, a first connecting portion capable of measuring a resistance value of the magnetoresistive effect element, and the magnetoresistive effect element. And an MR having wiring connecting the connecting portions, and a conductive thin film strip adhered to the peripheral edge of the substrate in order to electrically detect a defect in the substrate.
sensor.
【請求項2】前記導電性薄膜条帯の両端に、該導電性薄
膜状態の導電状態を検出するための第2の接続部を有す
る請求項1記載のMRセンサー。
2. The MR sensor according to claim 1, further comprising second connection portions at both ends of the conductive thin film strip for detecting a conductive state of the conductive thin film.
【請求項3】前記第1の接続部は同一の基準電位に維持
される端子を2つ以上有し、該2つの端子それぞれが前
記第2の接続部として兼用されている請求項2記載のM
Rセンサー。
3. The first connecting portion has two or more terminals maintained at the same reference potential, and each of the two terminals is also used as the second connecting portion. M
R sensor.
【請求項4】前記導電性薄膜条帯および第2の接続部
が、前記磁気抵抗効果素子、前記第1の接続部および前
記配線の形成と同時的に前記基板上に形成された請求項
1〜3いずれか記載のMRセンサー。
4. The conductive thin film strip and the second connecting portion are formed on the substrate simultaneously with the formation of the magnetoresistive effect element, the first connecting portion and the wiring. The MR sensor according to any one of 3 to 3.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1325923C (en) * 2003-05-06 2007-07-11 Lg.菲利浦Lcd株式会社 Method and apparatus for inspecting flat panel display
US7282376B2 (en) 2004-10-28 2007-10-16 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv System, method, and apparatus for electrically testing lead-to-lead shorting during magnetoresistive sensor fabrication

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