JPH08138569A - Electron gun for cathode-ray tube - Google Patents

Electron gun for cathode-ray tube

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JPH08138569A
JPH08138569A JP27933694A JP27933694A JPH08138569A JP H08138569 A JPH08138569 A JP H08138569A JP 27933694 A JP27933694 A JP 27933694A JP 27933694 A JP27933694 A JP 27933694A JP H08138569 A JPH08138569 A JP H08138569A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grid
electron gun
ray tube
electrodes
high resistance
Prior art date
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Pending
Application number
JP27933694A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsuneo Muchi
常雄 鞭
Shigenori Tagami
滋規 田上
Tsunenari Saito
恒成 斉藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH08138569A publication Critical patent/JPH08138569A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To prevent electric discharge between electrodes caused by electrostatic charging of an electrode support and improve the lens characteristics of the electron lens system. CONSTITUTION: An electron gun consists of the first to fifth frid G1 -G5 , among which the third to fifth G3 -G5 are pressure fitted and held in high resistance cylinders 17, 18. The first to third G1 -G3 are supported by a pair of glass supports 26, 27 having a resistance value of 1×10<9> thru 9×10<12> Ω.cm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばプロジェクタ
管、カラー受像管、インデックス管等の陰極線管に用い
られる電子銃に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron gun used for cathode ray tubes such as projector tubes, color picture tubes and index tubes.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、陰極線管の電子銃として例え
ば図6に示すユニポテンシャル型電子銃が広く使用され
ている。この電子銃1は、電子ビームを射出するカソー
ドKに対して、複数の電極、即ち第1グリッドG1 、第
2グリッドG2 、第3グリッドG3 、第4グリッドG4
及び第5グリッドG5 が同軸(Z軸)上に配されて成
る。第3グリッドG3 と第5グリッドG5 にはアノード
電圧(例えば32KV)が印加され、第4グリッドG4
にはフォーカス電圧(例えば9KV)が印加され、これ
ら第3グリッドG3 〜第5グリッドG5 によって主レン
ズが構成される。また、第1グリッドG1 、第2グリッ
ドG2 及び第3グリッドG3 によってプリフォーカスレ
ンズが構成される。
2. Description of the Related Art Hitherto, as a cathode ray tube electron gun, for example, a unipotential type electron gun shown in FIG. 6 has been widely used. This electron gun 1 has a plurality of electrodes, that is, a first grid G 1 , a second grid G 2 , a third grid G 3 , and a fourth grid G 4 with respect to a cathode K that emits an electron beam.
And a fifth grid G 5 are arranged coaxially (Z axis). An anode voltage (for example, 32 KV) is applied to the third grid G 3 and the fifth grid G 5 , and the fourth grid G 4
It is applied focusing voltage (e.g. 9 KV), but these third grid G 3 ~ fifth grid G 5 by the main lens configured. Further, the first grid G 1 , the second grid G 2, and the third grid G 3 constitute a prefocus lens.

【0003】第1グリッドG1 〜第5グリッドG5 は、
これに一体の固定片4を1対の絶縁性のビーディングガ
ラス2及び3に埋込ませるようにして固定され、一体的
に組み立てられる。第1グリッドG1 〜第5グリッドG
5 は、例えばステンレス等の金属で形成される。
The first grid G 1 to the fifth grid G 5 are
An integral fixing piece 4 is fixed to this by embedding it in a pair of insulating beading glasses 2 and 3, and assembled integrally. First grid G 1 to fifth grid G
5 is made of metal such as stainless steel.

【0004】この電子銃1においては、主レンズを構成
する第3グリッドG3 〜第5グリッドG5 間の同心度に
ずれが生じやすく、そのため電子ビームの離軸が起こっ
てフォーカスぼけが発生し易い。また、第3グリッドG
3 〜第5グリッドG5 間の距離を短くしているため、図
6に示すように軸上の電位勾配5が大きくなり、このた
め第3〜第5グリッドG 3 〜G5 間において放電が起こ
りやすく、またレンズ系の球面収差が大きくなってビー
ムスポットが大きくなっていた。
In this electron gun 1, the main lens is constructed.
3rd grid G3~ Fifth grid GFiveConcentricity between
Misalignment is likely to occur, which causes electron beam off-axis
And focus blur easily occurs. Also, the third grid G
3~ Fifth grid GFiveSince the distance between
As shown in 6, the on-axis potential gradient 5 becomes large,
3rd to 5th grid G 3~ GFiveDischarge occurs between
And the spherical aberration of the lens system becomes large,
The spot was getting bigger.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】一方、本出願人は、先
に電子ビームの離軸を小さくすると共に、主レンズ用電
極間の電位勾配を小さくして電極間放電を防止し且つ主
レンズの球面収差を小さくし得るようにした電子銃を提
案した。この電子銃は、図4に示すように、カソードK
に対して第1グリッドG1 〜第5グリッドG5 が同軸上
に配され、そのうちの主レンズを構成する第3グリッド
3 、第4グリッドG4 及び第5グリッドG5 が夫々円
筒形の第1及び第2の高抵抗筒体7及び8に圧入、固定
されて一体化されると共に、他の第1グリッドG 1 〜第
3グリッドG3 が通常の絶縁性のビーディングガラス2
及び3によって支持されて成る。
On the other hand, the applicant of the present invention
In addition to reducing the electron beam off-axis,
The potential gradient between the electrodes is reduced to prevent discharge between the electrodes and
Providing an electron gun that can reduce the spherical aberration of the lens
I proposed. This electron gun has a cathode K as shown in FIG.
Against the first grid G1~ Fifth grid GFiveIs coaxial
The third grid that is arranged in the
G3, 4th grid GFourAnd the fifth grid GFiveEach is yen
Press-fitted and fixed to the cylindrical first and second high-resistance cylinders 7 and 8.
Is integrated with the other first grid G 1~ No.
3 grid G3Is a normal insulating beading glass 2
And 3 supported.

【0006】第1及び第2の高抵抗筒体7及び8は、例
えば導電性セラミックにより形成され、図4では第2の
高抵抗筒体8の方が、第1の高抵抗筒体7より内径を大
きくして形成される。第3グリッドG3 と第5グリッド
5 とは、図示せざるも接続導体により互いに電気的に
接続される。
The first and second high resistance cylinders 7 and 8 are made of, for example, a conductive ceramic, and in FIG. 4, the second high resistance cylinder 8 is larger than the first high resistance cylinder 7. It is formed with a large inner diameter. The third grid G 3 and the fifth grid G 5 are electrically connected to each other by a connection conductor (not shown).

【0007】この電子銃9においては、主レンズを構成
する第3グリッド電極G3 〜第5グリッド電極G5 が真
円度の高い第1及び第2の高抵抗筒体7及び8に圧入さ
れて一体に保持された構成であるので、主レンズ系の同
心度のずれがほとんど生じない。同時に、第3グリッド
3 と第4グリッドG4 間に第1の高抵抗筒体7が、第
4グリッドG4 と第5グリッドG5 間に第2の高抵抗筒
体8が夫々設けられることにより、図4で示すように、
軸上の電位勾配10が小さくなり、且つビーディングガ
ラスが省略できることによってレンズ径が大きくなるこ
とと併せてレンズ系の球面収差が小さくなる。また、高
抵抗筒体7及び8によって第3グリッド電極G3 〜第5
グリッド電極G5 の電極相互間の放電が防止されるので
電極間での電界が安定する。
In this electron gun 9, the third to fifth grid electrodes G 3 to G 5 constituting the main lens are press-fitted into the first and second high resistance cylinders 7 and 8 having high roundness. Since they are integrally held together, the deviation of the concentricity of the main lens system hardly occurs. At the same time, the first high resistance cylinder 7 is provided between the third grid G 3 and the fourth grid G 4 , and the second high resistance cylinder 8 is provided between the fourth grid G 4 and the fifth grid G 5 , respectively. Therefore, as shown in FIG.
Since the potential gradient 10 on the axis becomes small and the beading glass can be omitted, the lens diameter becomes large and the spherical aberration of the lens system becomes small. In addition, the high resistance cylinders 7 and 8 allow the third grid electrode G 3 to the fifth grid electrode
Since the discharge between the grid electrodes G 5 is prevented, the electric field between the electrodes is stabilized.

【0008】ところで、図4の電子銃9においては、そ
の第1グリッド電極G1 〜第3グリッド電極G3 が、絶
縁性のガラス組成からの通常のビーディングガラス2及
び3で支持されているため、このビーディングガラス2
及び3が帯電することによって、特に第2グリッドG2
と高圧の第3グリッドG3 間で放電が生じグリッドG 2
及びG3 間の電界の乱れが生じるものであった。
By the way, in the electron gun 9 of FIG.
First grid electrode G1~ Third grid electrode G3But
Ordinary beading glass from rimmed glass composition 2
This beading glass 2 is supported by
And 3 are charged, so that the second grid G2
And high pressure third grid G3Discharge occurs between the grid G 2
And G3Disturbance of the electric field between them occurred.

【0009】この電界の乱れを防止するために、例えば
図5に示すように、ビーディングガラス2,3の第2グ
リッドG2 及び第3グリッドG3 間に対応する部分に凹
み部11を設けることも行われているが、不充分であっ
た。
In order to prevent the disturbance of the electric field, for example, as shown in FIG. 5, a recess 11 is provided in a portion of the beading glass 2 and 3 corresponding to the second grid G 2 and the third grid G 3. Things have been done, but it was not enough.

【0010】本発明は、上述の点に鑑み、電極支持体へ
の帯電防止を図って電極間放電を防止し、電極間の電界
を安定化し得る陰極線管用電子銃を提供するものであ
る。
In view of the above points, the present invention provides an electron gun for a cathode ray tube capable of preventing the electrode support from being charged and preventing the interelectrode discharge and stabilizing the electric field between the electrodes.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】第1の本発明は、複数の
電極G1 〜G5 からなる陰極線管用電子銃において、電
極G1 〜G3 、又はG1 〜G5 が室温で1×109 〜9
×1012Ω・cmの抵抗値を有する支持体26,27に
て支持された構成とする。支持体26,27の抵抗値が
1×109 Ω・cmより小さいとリーク電流の熱暴走が
発生し、また抵抗値が9×1012Ω・cmより大きくな
ると絶縁体に近くなり帯電が生ずる。
According to a first aspect of the present invention, in an electron gun for a cathode ray tube comprising a plurality of electrodes G 1 to G 5 , the electrodes G 1 to G 3 or G 1 to G 5 are 1 × at room temperature. 10 9 ~ 9
The structure is supported by the supports 26 and 27 having a resistance value of × 10 12 Ω · cm. If the resistance value of the supports 26, 27 is smaller than 1 × 10 9 Ω · cm, thermal runaway of the leak current occurs, and if the resistance value is larger than 9 × 10 12 Ω · cm, it becomes close to an insulator and electrification occurs. .

【0012】第2の本発明は、第1の発明の陰極線管用
電子銃において、支持体26,27がMnO2 ,TiO
2 ,Nb2 5 ,V2 5 ,Cu2 O,CrO2 ,Fe
3 4 ,MoO2 から選ばれた1種以上の添加物を有す
るガラス支持体で形成された構成とする。
The second invention is for a cathode ray tube according to the first invention.
In the electron gun, the supports 26 and 27 are made of MnO.2, TiO
2, Nb2OFive, V2OFive, Cu2O, CrO2, Fe
3O Four, MoO2Has one or more additives selected from
The glass support is used.

【0013】第3の本発明は、第1又は第2の発明の陰
極線管用電子銃において、支持体26,27の母体がP
bO系ガラス又は硼珪酸系ガラスである構成とする。
A third aspect of the present invention is the electron gun for a cathode ray tube according to the first or second aspect of the invention, wherein the base bodies of the supports 26 and 27 are P.
The composition is bO glass or borosilicate glass.

【0014】第4の本発明は、第1、第2又は第3の発
明の陰極線管用電子銃において、支持体26,27が複
数の電極のうち第1電極G1 、第2電極G2 及び第3電
極G 3 を支持する構成とする。
A fourth aspect of the present invention is the first, second or third invention.
In the electron gun for the cathode ray tube of Ming,
First electrode G of the number of electrodes1, The second electrode G2And the third train
Pole G 3To support.

【0015】[0015]

【作用】第1の本発明では、複数の電極G1 〜G5 から
なる陰極線管用電子銃において、電極G1 〜G3 又はG
1 〜G5 を室温で1×109 〜9×1012Ω・cmの抵
抗値を有する支持体26,27で支持することにより、
支持体26,27への帯電が防止され、電極間の放電が
防止されると共に電極間の電界が安定する。電極間の電
界が乱されないことから電極間距離を離すことができる
ので、レンズ特性の改善が図られ、高解像度化が図れ
る。さらに、支持体26,27に電界の乱れ防止のため
の凹み部が不要となり、支持体26,27の製作が容易
となる。支持体26,27の抵抗値が1×109 〜9×
1012Ω・cmであるので、リーク電流は支障のない程
度にわずかにあり、無視でき、且つリーク電流の熱暴走
は起こらない。
According to the first aspect of the present invention, in an electron gun for a cathode ray tube comprising a plurality of electrodes G 1 to G 5 , the electrodes G 1 to G 3 or G
By supporting 1 to G 5 at room temperature with supports 26 and 27 having a resistance value of 1 × 10 9 to 9 × 10 12 Ω · cm,
The supports 26 and 27 are prevented from being charged, the discharge between the electrodes is prevented, and the electric field between the electrodes is stabilized. Since the electric field between the electrodes is not disturbed, the distance between the electrodes can be increased, so that the lens characteristics can be improved and the resolution can be increased. Further, the support 26, 27 does not need a recess for preventing the disturbance of the electric field, and the support 26, 27 can be easily manufactured. The resistance values of the supports 26 and 27 are 1 × 10 9 to 9 ×.
Since it is 10 12 Ω · cm, the leak current is slightly small enough to cause no problem, can be ignored, and thermal runaway of the leak current does not occur.

【0016】第2の本発明では、支持体26,27をM
nO2 ,TiO2 ,Nb2 5 ,V 2 5 ,Cu2 O,
CrO2 ,Fe3 4 ,MoO2 から選ばれた1種以上
の添加物を有したガラス支持体で形成することにより、
室温で1×109 〜9×10 12Ω・cmの抵抗値の支持
体が得られる。また、通常のビーディングガラスと同様
に軟化して固定片に埋込む方式で電極支持が行える。
In the second aspect of the present invention, the supports 26 and 27 are M
nO2, TiO2, Nb2OFive, V 2OFive, Cu2O,
CrO2, Fe3OFour, MoO2One or more selected from
By forming a glass support with the additive of
1 x 10 at room temperature9~ 9 × 10 12Supporting resistance of Ω · cm
The body is obtained. Also, like ordinary beading glass
Electrodes can be supported by softening and embedding it in a fixed piece.

【0017】第3の本発明では、支持体26,27の母
体をPbO系ガラス又は硼珪酸系ガラスで構成するの
で、支持体26,27によって電極間を支持する際のい
わゆるビーディング温度が従来より低い400℃〜50
0℃で済み、電極の酸化を軽減させることができる。
In the third aspect of the present invention, since the base material of the supports 26 and 27 is made of PbO-based glass or borosilicate-based glass, the so-called beading temperature at the time of supporting between the electrodes by the supports 26 and 27 is conventionally. Lower 400 ° C-50
It is possible to reduce the oxidation of the electrode since the temperature is 0 ° C.

【0018】第4の本発明では、複数の電極のうち第1
電極G1 、第2電極G2 及び第3電極G3 を高抵抗の支
持体26,27で支持することにより、他の主レンズを
構成する第3〜第5電極G3 〜G5 は高抵抗筒体17,
18を介して支持することが可能となり、電極間放電が
なく、レンズ特性に優れた電子銃が得られる。
In the fourth aspect of the present invention, the first of the plurality of electrodes is
By supporting the electrode G 1 , the second electrode G 2, and the third electrode G 3 with the high-resistance supports 26 and 27, the third to fifth electrodes G 3 to G 5 forming the other main lens are high in height. Resistance cylinder 17,
It is possible to support via 18 and there is no discharge between electrodes, and an electron gun with excellent lens characteristics can be obtained.

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面を参照して本発明による陰極線管
用電子銃の実施例を説明する。
Embodiments of the electron gun for a cathode ray tube according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0020】図1及び図2(図1の分解図)は、本発明
に係る陰極線管用電子銃の一例を示す。本例の陰極線管
用電子銃15は、ユニポテンシャル型電子銃に適用した
場合であり、電子ビームを放出するカソードKに対し
て、各電極、即ち第1グリッドG 1 、第2グリッド
2 、第3グリッドG3 、第4グリッドG4 及び第5グ
リッドG5 を同軸上に配列し、之等複数のグリッドのう
ち、主レンズを構成する第3グリッドG3 、第4グリッ
ドG4 及び第5グリッドG5 を高抵抗筒体14及び15
を介して一体的に支持し、プリフォーカスレンズを構成
する第1グリッドG1 、第2グリッドG2 及び第3グリ
ッドG3 を後述する1対の高抵抗の支持体26及び27
によって一体的に支持するようにして構成する。第3グ
リッドG3 と第5グリッドG5 にはアノード電圧(例え
ば32KV)が印加され、第4グリッドG 4 にはフォー
カス電圧(例えば9V)が印加される。第3グリッドG
3 と第5グリッドG5 は、図示せざるも、接続導体によ
り互いに電気的に接続される。
1 and 2 (exploded view of FIG. 1) show the present invention.
An example of an electron gun for a cathode ray tube according to the above is shown. Cathode ray tube of this example
The electron gun 15 is applied to a unipotential type electron gun.
This is the case for the cathode K that emits an electron beam.
Each electrode, that is, the first grid G 1, The second grid
G2, 3rd grid G3, 4th grid GFourAnd 5th
Lid GFiveAre arranged on the same axis and
The third grid G that constitutes the main lens3, The fourth grid
De GFourAnd the fifth grid GFiveHigh resistance cylinders 14 and 15
Supported integrally via a lens to form a prefocus lens
First grid G1, The second grid G2And the third green
Dead G3A pair of high resistance supports 26 and 27 which will be described later.
It is configured so as to be integrally supported by. Third Gu
Lid G3And the fifth grid GFiveIs the anode voltage (eg
32 KV) is applied and the fourth grid G FourThere are four
A residue voltage (for example, 9V) is applied. Third grid G
3And the fifth grid GFiveAlthough not shown,
Electrically connected to each other.

【0021】第1及び第2の高抵抗筒体17及び18
は、例えばアルミナ(Al2 3 )中にTi,W,Cu
等の酸化物を混合し焼成させて導電性をもたせた物質
や、導電性をもたせたフェライト、チタニア系セラミッ
ク等からなる。これら高抵抗筒体17及び18は、真円
度の高い円筒形状に形成され、第1の高抵抗筒体17の
両端部の内面に例えばRuO2 −ガラスペーストからな
るリング状の電極膜20及び21が塗布形成され、第2
の高抵抗筒体18の両端部の内面に、同じように、Ru
2 −ガラスペーストからなるリング状の電極膜23及
び24が塗布形成されている。また、高抵抗筒体17の
電極膜20及び21間の内面、高抵抗筒体18の電極膜
23及び24間の内面には、夫々これ等電極膜と同じ材
料からなる複数の導電リング22及び25が形成され
る。第2の高抵抗筒体18は、その内径が第1の高抵抗
筒体17の内径より大きくなるように形成される。
First and second high resistance cylinders 17 and 18
Is, for example, Ti, W, Cu in alumina (Al 2 O 3 ).
It is composed of a substance having conductivity by mixing and firing oxides such as, a ferrite having conductivity, a titania ceramic, and the like. The high resistance cylinders 17 and 18 are formed in a cylindrical shape having a high roundness, and the ring-shaped electrode film 20 made of, for example, RuO 2 -glass paste is formed on the inner surfaces of both end portions of the first high resistance cylinder 17. 21 is applied and formed, and the second
Similarly, on the inner surfaces of both ends of the high resistance cylinder 18 of
Ring-shaped electrode films 23 and 24 made of O 2 -glass paste are formed by coating. On the inner surface between the electrode films 20 and 21 of the high resistance cylinder 17 and the inner surface between the electrode films 23 and 24 of the high resistance cylinder 18, a plurality of conductive rings 22 made of the same material as those of the electrode films are formed, respectively. 25 is formed. The second high resistance cylinder 18 is formed such that its inner diameter is larger than the inner diameter of the first high resistance cylinder 17.

【0022】一方、第4グリッドG4 はその前半部分が
第5グリッドG5 と同径の径大部に形成され、その後半
部分が第3グリッドG3 と同径の径小部になるように形
成される。なお、第1の高抵抗筒体17と第2の高抵抗
筒体18は互いに内径を同じにして形成することもで
き、その場合には、第4グリッドG4 は同一径で形成さ
れる。そして、第4グリッドG4 の前半部分と第5グリ
ッドG5 が第2の高抵抗筒体18の両端に夫々圧入、固
定され、第4グリッドG4 の後半部分と第3グリッドG
3 の前半部分が夫々第1の高抵抗筒体17の両端に夫々
圧入、固定されて、第3グリッドG3 〜第5グリッドG
5 が一体化される。第1の高抵抗筒体17と第3グリッ
ドG3 及び第4グリッドG4 とは夫々電極膜20及び2
1を介して電気的に接続され、第2の高抵抗筒体18と
第4グリッドG4 及び第5グリッドG5 とは夫々電極膜
23及び24を介して電気的に接続される。夫々の複数
の導電リング22,25は高抵抗筒体17,18の内壁
表面の上側部分と下側部分の抵抗のばらつきを抑え、垂
直方向(Y軸方向)の等電位化に供される。
On the other hand, the fourth grid G 4 is formed such that the front half thereof has a large diameter portion having the same diameter as the fifth grid G 5, and the second half portion thereof has a small diameter portion having the same diameter as the third grid G 3. Is formed. The first high resistance cylinder 17 and the second high resistance cylinder 18 may be formed to have the same inner diameter, and in that case, the fourth grid G 4 is formed to have the same diameter. Then, the front half of the fourth grid G 4 and the fifth grid G 5 are press-fitted and fixed to both ends of the second high resistance cylinder 18, respectively, and the rear half of the fourth grid G 4 and the third grid G 4 are fixed.
The first half parts of 3 are press-fitted and fixed to both ends of the first high-resistance cylinder 17 respectively, and the third grid G 3 to the fifth grid G
5 are integrated. The first high-resistance cylinder 17 and the third grid G 3 and the fourth grid G 4 respectively have electrode films 20 and 2
The second high resistance cylinder 18 is electrically connected to the fourth grid G 4 and the fifth grid G 5 via the electrode films 23 and 24, respectively. Each of the plurality of conductive rings 22 and 25 suppresses variations in resistance between the upper and lower portions of the inner wall surface of the high resistance cylinders 17 and 18, and is used for equalizing potential in the vertical direction (Y-axis direction).

【0023】一方、棒状の支持体26及び27は、リー
ク電流が支障ない程度の高抵抗、即ち1×109 〜9×
1012Ω・cm、好ましくは1×1011〜1×1012Ω
・cmの抵抗値をもつ高抵抗支持体で構成する。支持体
26及び27の抵抗値が1×109 Ω・cmより小さく
なると、第2グリッドG2 及び第3グリッドG3 間のリ
ーク電流の熱暴走が発生し易くなり、抵抗値が9×10
12Ω・cmを越えると絶縁体に近づいて支持体26及び
27に帯電が生じるもので、いずれも好ましくない。
On the other hand, the rod-shaped supports 26 and 27 have a high resistance such that the leak current does not hinder, that is, 1 × 10 9 to 9 ×.
10 12 Ω · cm, preferably 1 × 10 11 to 1 × 10 12 Ω
-It is composed of a high resistance support having a resistance value of cm. When the resistance values of the supports 26 and 27 are smaller than 1 × 10 9 Ω · cm, thermal runaway of the leak current between the second grid G 2 and the third grid G 3 is likely to occur, and the resistance value is 9 × 10.
If it exceeds 12 Ω · cm, the supports 26 and 27 are charged toward the insulator, which is not preferable.

【0024】上記の高抵抗の支持体26及び27として
は、例えばMnO2 ,TiO2 ,Nb2 5 ,V
2 5 ,Cu2 O,CrO2 ,Fe3 4 ,MoO2
の電導性付与物質を1種以上添加したガラス支持体にて
形成することができる。このガラス支持体の母材として
はPbO系ガラス又は硼珪酸系ガラスを用いることがで
きる。
Examples of the high resistance supports 26 and 27 include MnO 2 , TiO 2 , Nb 2 O 5 and V.
It can be formed of a glass support to which one or more conductivity imparting substances such as 2 O 5 , Cu 2 O, CrO 2 , Fe 3 O 4 , and MoO 2 are added. As a base material of this glass support, PbO-based glass or borosilicate-based glass can be used.

【0025】第1グリッドG1 〜第3グリッドG3 の組
立ては、夫々固定片28を一体に有した第1グリッドG
1 、第2グリッドG2 及び第3グリッドG3 をビーディ
ング治具を介して所定位置に配列し、この固定片28に
加熱軟化した支持体26及び27を喰い込ませ、徐冷し
て一体化する。
The first grid G 1 to the third grid G 3 are assembled by the first grid G having the fixing pieces 28 integrally formed therein.
1 , the second grid G 2 and the third grid G 3 are arranged at predetermined positions via a beading jig, and the fixing pieces 28 are made to bite the heat-softened supports 26 and 27, and gradually cooled to be integrated. Turn into.

【0026】上述の実施例に係る電子銃15によれば、
主レンズを構成する第3グリッドG 3 、第4グリッドG
4 及び第5グリッドG5 が真円度の高い第1及び第2の
高抵抗筒体17及び18に圧入されて一体的に支持され
ているので、前述の図4の電子銃と同様に、主レンズの
同心度のずれがほとんど生じない。そして、第1及び第
2の高抵抗筒体17及び18によって第3グリッドG3
及び第4グリッドG4間、第4グリッドG4 及び第5グ
リッドG5 間の軸上の電位勾配が緩やかとなり、且つ従
来のビーディングガラスが省略できることにより、第4
及び第5グリッドG4 及びG5 で示すようにレンズ系を
大きくできることと併せて、主レンズの球面収差を小さ
くすることができる。さらに、第1及び第2の高抵抗筒
体17及び18により、第3グリッドG3 〜第5グリッ
ドG5 の電極相互間の距離が長くとれるので、第3グリ
ッドG3 、第5グリッドG5 と第4グリッドG4 との間
の放電を防止することができる。
According to the electron gun 15 according to the above-mentioned embodiment,
Third grid G that constitutes the main lens 3, 4th grid G
FourAnd the fifth grid GFiveIs the first and second with high roundness
Pressed into the high resistance cylinders 17 and 18 and supported integrally.
Therefore, like the electron gun of FIG. 4 described above,
Almost no deviation of concentricity occurs. And the first and the first
The second high resistance cylinders 17 and 18 allow the third grid G3
And the fourth grid GFourIn the 4th grid GFourAnd 5th
Lid GFiveThe potential gradient on the axis between
Since the traditional beading glass can be omitted,
And the fifth grid GFourAnd GFiveLens system as shown in
In addition to being able to make it large, the spherical aberration of the main lens can be made small.
Can be done. Further, the first and second high resistance cylinders
The third grid G by the bodies 17 and 183~ 5th click
De GFiveSince the distance between the electrodes of the
Dead G3, 5th grid GFiveAnd the fourth grid GFourBetween
Can be prevented from being discharged.

【0027】しかして、本実施例では、第1グリッドG
1 〜第3グリッドG3 を、1×10 9 〜9×1012Ω・
cm、好ましくは1×1011〜1×1012Ω・cmの抵
抗値を有する支持体26及び27を用いて支持すること
により、支持体26及び27に対する帯電を防止するこ
とができ、もしくは軽減することができる。従って、グ
リッド間、特に第2グリッドG2 (例えば700V)と
第3グリッドG3 (例えば32KV)間における放電を
防止することができ、第2及び第3グリッドG 2 及びG
3 間の電界を安定にすることができる。
Therefore, in the present embodiment, the first grid G
1~ Third Grid G31 x 10 9~ 9 × 1012Ω ・
cm, preferably 1 × 1011~ 1 × 1012Ω · cm
Supporting with supports 26 and 27 having resistance
Prevents the support bodies 26 and 27 from being charged.
Can be reduced or reduced. Therefore,
Between lids, especially the second grid G2(Eg 700V)
Third grid G3(For example, 32KV)
Can be prevented, the second and third grid G 2And G
3The electric field between them can be stabilized.

【0028】支持体17及び18の室温での抵抗値が1
×109 〜9×1012Ω・cm、好ましくは1×1011
〜1×1012Ω・cmであるので、第2グリッドG2
第3グリッドG3 間のリーク電流は無視することがで
き、またリーク電流の熱暴走も生じない。電圧供給電源
に悪影響を与えることがない。尚、支持体26,27に
代えて、高抵抗筒体17,18と同じような高抵抗筒体
内に圧入して第1、第2及び第3グリッドG1 ,G2
びG3 を支持することも考えられるが、この場合には合
計の抵抗値が下がり、熱暴走が起こり易い。しかし、本
例のように1対の支持体26,27で支持する場合は合
計の抵抗値が高く、熱暴走は生じ難い。PbO系ガラス
又は硼珪酸系ガラスに上記の電導性付与物質を添加して
成る支持体26及び27は、ビーディング温度が400
℃〜500℃でよいので(従来は1300℃の高温であ
る)、ビーディング治具の損傷が少なく、且つグリッド
の酸化も少なくなる。
The resistance value of the supports 17 and 18 at room temperature is 1
× 10 9 to 9 × 10 12 Ω · cm, preferably 1 × 10 11
Since it is ˜1 × 10 12 Ω · cm, the leak current between the second grid G 2 and the third grid G 3 can be ignored, and thermal runaway of the leak current does not occur. It does not adversely affect the voltage supply. It should be noted that instead of the supports 26 and 27, the first, second and third grids G 1 , G 2 and G 3 are supported by being press-fitted into a high resistance cylinder similar to the high resistance cylinders 17 and 18. However, in this case, the total resistance value decreases, and thermal runaway easily occurs. However, in the case of being supported by the pair of supports 26 and 27 as in this example, the total resistance value is high, and thermal runaway is unlikely to occur. The supports 26 and 27 formed by adding the above-mentioned conductivity-imparting substance to PbO-based glass or borosilicate-based glass have a beading temperature of 400.
C. to 500.degree. C. (conventionally high temperature of 1300.degree. C.), the beading jig is less damaged, and the grid is less oxidized.

【0029】第2及び第3グリッドG2 及びG3 間の電
界が乱れないことから、グリッド間距離を離すことがで
きるので、プリフォーカスレンズのレンズ特性を改善す
ることができ、更に解像度を向上することができる。支
持体26及び27には、図5で示すような凹み部11を
設ける必要がないので、支持体の形状が単純化され、そ
の分、製造コストの低減が図れる。
Since the electric field between the second and third grids G 2 and G 3 is not disturbed, the distance between the grids can be increased, so that the lens characteristics of the prefocus lens can be improved and the resolution can be further improved. can do. Since it is not necessary to provide the recesses 11 as shown in FIG. 5 in the supports 26 and 27, the shape of the supports can be simplified and the manufacturing cost can be reduced accordingly.

【0030】図3は本発明の他の実施例を示す。本例の
電子銃31は、前述の図6と同様に、電子ビームを射出
するカソードKに対して、第1グリッドG1 、第2グリ
ッドG2 、第3グリッドG3 、第4グリッドG4 及び第
5グリッドG5 が同軸(Z軸)上に配列される。第3グ
リッド電極G3 と第5グリッドG5 にはアノード電圧
(例えば32KV)が印加され、第4グリッドG4 には
フォーカス電圧(例えば9KV)が印加され、第3グリ
ッドG3 〜第5グリッドG5 により主レンズが構成され
る。また第1グリッドG1 、第2グリッドG2 及び第3
グリッドG3 によりプリフォーカスレンズが構成され
る。そして、本例においては、之等第1グリッドG1
第5グリッドG5 を上述した1×109 〜9×1012Ω
・cm、好ましくは1×1011〜1×1012Ω・cmの
抵抗値を有する1対の支持体26及び27にて支持す
る。かかる構成の電子銃31においても、上例と同様
に、高抵抗の支持体26及び27で各グリッドG1 〜G
5 が支持されるので、支持体26及び27への帯電を防
止することができ、もしくは軽減することができ、グリ
ッド相互間の放電を防止することができる。また、電極
間距離を離すことができるので、レンズ特性を改善する
ことができ、解像度を向上することができる。更に、支
持体26及び27に図5で示すような凹み部11を設け
る必要がないので、支持体26,27の製造コストの低
減が図れる。
FIG. 3 shows another embodiment of the present invention. In the electron gun 31 of this example, the first grid G 1 , the second grid G 2 , the third grid G 3 , and the fourth grid G 4 are applied to the cathode K that emits an electron beam, as in FIG. 6 described above. And the fifth grid G 5 is arranged coaxially (Z axis). An anode voltage (for example, 32 KV) is applied to the third grid electrode G 3 and the fifth grid G 5 , a focus voltage (for example, 9 KV) is applied to the fourth grid G 4 , and the third grid G 3 to the fifth grid G 5 are applied. The main lens is composed of G 5 . The first grid G 1 , the second grid G 2 and the third grid
The grid G 3 constitutes a prefocus lens. In the present example, the first grid G 1 ~
The 5th grid G 5 has the above-mentioned 1 × 10 9 to 9 × 10 12 Ω.
-Cm, preferably a pair of supports 26 and 27 having a resistance value of 1 × 10 11 to 1 × 10 12 Ω · cm. In the electron gun 31 having such a configuration, similarly to the above example, the high resistance supports 26 and 27 are used to form the grids G 1 to G.
Since the 5 is supported, it is possible to prevent or reduce the charge on the supports 26 and 27, and it is possible to prevent discharge between the grids. Moreover, since the distance between the electrodes can be increased, the lens characteristics can be improved and the resolution can be improved. Furthermore, since it is not necessary to provide the recesses 11 shown in FIG. 5 in the supports 26 and 27, the manufacturing cost of the supports 26 and 27 can be reduced.

【0031】上例ではユニポテンシャル型電子銃に適用
したが、その他バイポテンシャル型電子銃にも適用でき
る。
Although the above example is applied to the unipotential type electron gun, it is also applicable to other bipotential type electron guns.

【0032】[0032]

【発明の効果】第1の本発明に係る陰極線管用電子銃に
よれば、室温で1×109 〜9×10 12Ω・cmの抵抗
値を有する支持体にて各電極を支持するので、支持体へ
の帯電を防止することができ、もしくは軽減することが
できる。これによって、電子銃における電極間の放電を
減少し、電極間の電界を安定させることができる。ま
た、電極間距離を離すことができるので電子レンズのレ
ンズ特性を改善することができ、解像度を向上すること
ができる。さらに、従来の支持体(ビーディングガラ
ス)に形成した凹み部が不要となるので、支持体の製造
コストを低減することができる。
The electron gun for a cathode ray tube according to the first aspect of the present invention
According to, 1 x 10 at room temperature9~ 9 × 10 12Ω · cm resistance
Since each electrode is supported by a support having a value,
Can be prevented or reduced.
it can. As a result, the discharge between the electrodes of the electron gun
It can be reduced and the electric field between the electrodes can be stabilized. Well
In addition, since the distance between the electrodes can be increased,
It is possible to improve the image characteristics and improve the resolution.
Can be. In addition, conventional supports (beading glass)
Since the recesses formed in the
The cost can be reduced.

【0033】第2の本発明によれば、支持体を、導電性
の添加物を有するガラス支持体で形成するので、1×1
9 〜9×1012Ω・cmの高抵抗値を有する支持体を
形成することができ、且つ通常の絶縁性のビーディング
ガラスと同の方法で、即ち加熱軟化して電極間の支持を
行うことができる。
According to the second aspect of the present invention, since the support is formed of a glass support having a conductive additive, 1 × 1
A support having a high resistance value of 09 to 9 × 10 12 Ω · cm can be formed, and the support between the electrodes can be obtained by the same method as that of a usual insulating beading glass, that is, by softening by heating. It can be carried out.

【0034】第3の本発明によれば、支持体の母材とし
てPbO系ガラス又は硼珪酸系ガラスを用いるので、ビ
ーディング温度を従来より低い温度とすることができる
ので、ビーディング治具の損傷を少なくし、電極の酸化
も少なくすることができる。
According to the third aspect of the present invention, since the PbO-based glass or the borosilicate-based glass is used as the base material of the support, the beading temperature can be made lower than the conventional temperature. Damage can be reduced and electrode oxidation can be reduced.

【0035】第4の本発明によれば、主レンズを構成す
る第3〜第5電極を高抵抗筒体を介して一体化して成る
電子銃の信頼性を更に向上することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the reliability of the electron gun formed by integrating the third to fifth electrodes forming the main lens via the high resistance cylinder can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る陰極線管用電子銃の一例を示す構
成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of an electron gun for a cathode ray tube according to the present invention.

【図2】図1の陰極線管用電子銃の分解図である。FIG. 2 is an exploded view of the electron gun for the cathode ray tube of FIG.

【図3】本発明に係る陰極線管用電子銃の他の例を示す
構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram showing another example of an electron gun for a cathode ray tube according to the present invention.

【図4】比較例に係る陰極線管用電子銃の構成図及び要
部の電位分布図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a cathode ray tube electron gun according to a comparative example and a potential distribution diagram of essential parts.

【図5】比較例の陰極線管用電子銃の要部の構成図であ
る。
FIG. 5 is a configuration diagram of a main part of an electron gun for a cathode ray tube of a comparative example.

【図6】従来例に係る陰極線管用電子銃の構成図及び要
部の電位分布図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a cathode ray tube electron gun according to a conventional example and a potential distribution diagram of essential parts.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,9,15,31 電子銃 G1 〜G5 グリッド K カソード 2,3 絶縁性のビーディングガラス 4,28 固定片 7,8,17,18 高抵抗筒体 20,21,22,23,24,25 電極膜 26,27 高抵抗の支持体1,9,15,31 electron gun G 1 ~G 5 grid K cathode 2 insulating beading glass 4, 28 fixed piece 7,8,17,18 high resistance cylinder 20, 21, 22, 23, 24,25 Electrode film 26,27 High resistance support

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の電極からなる陰極線管用電子銃に
おいて、前記電極が室温で1×109 〜9×1012Ω・
cmの抵抗値を有する支持体にて支持されて成ることを
特徴とする陰極線管用電子銃。
1. An electron gun for a cathode ray tube comprising a plurality of electrodes, wherein the electrodes have a temperature of 1 × 10 9 to 9 × 10 12 Ω.
An electron gun for a cathode ray tube, which is supported by a support having a resistance value of cm.
【請求項2】 前記支持体が、MnO2 ,TiO2 ,N
2 5 ,V2 5 ,Cu2 O,CrO2 ,Fe
3 4 ,MoO2 から選ばれた1種以上の添加物を有す
るガラス支持体で形成されてなることを特徴とする請求
項1に記載の陰極線管用電子銃。
2. The support is MnO 2 , TiO 2 , N
b 2 O 5 , V 2 O 5 , Cu 2 O, CrO 2 , Fe
The electron gun for a cathode ray tube according to claim 1, wherein the electron gun is formed of a glass support having one or more kinds of additives selected from 3 O 4 and MoO 2 .
【請求項3】 前記支持体の母体がPbO系ガラス又は
硼珪酸系ガラスであることを特徴とする請求項1又は2
に記載の陰極線管用電子銃。
3. The substrate of the support is a PbO-based glass or a borosilicate-based glass, wherein the base material is PbO-based glass or borosilicate-based glass.
An electron gun for a cathode ray tube according to.
【請求項4】 前記支持体が前記複数の電極のうち、第
1電極、第2電極及び第3電極を支持することを特徴と
する請求項1,2又は3に記載の陰極線管用電子銃。
4. The electron gun for a cathode ray tube according to claim 1, wherein the support member supports the first electrode, the second electrode and the third electrode among the plurality of electrodes.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100428397C (en) * 2002-06-13 2008-10-22 株式会社东京大学Tlo Electronic optical lens barrel and production method therefor

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