JPH08125253A - Excimer laser system - Google Patents
Excimer laser systemInfo
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- JPH08125253A JPH08125253A JP6279691A JP27969194A JPH08125253A JP H08125253 A JPH08125253 A JP H08125253A JP 6279691 A JP6279691 A JP 6279691A JP 27969194 A JP27969194 A JP 27969194A JP H08125253 A JPH08125253 A JP H08125253A
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- discharge electrode
- excimer laser
- discharge
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は放電管内の希ガスとハロ
ゲンの混合ガスを励起してエキシマを得、これによりレ
ーザ光を発生させるエキシマレーザ装置に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an excimer laser device which excites a mixed gas of a rare gas and a halogen in a discharge tube to obtain an excimer and thereby generates a laser beam.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体技術は高集積化、微細化の一途を
辿っている。マスクまたはレチクルの回路パターンをウ
ェハ上に転写する場合の回路パターンの解像線幅は、光
源の波長に比例するため、近年では遠紫外（ Deep UV）
領域のｉ線（λ＝３６５ｎｍ）が主として用いられるよ
うにきている、しかし、一層の微細化のためにはより短
波長の光源が必要となる。ｉ線以上の短波長の遠紫外線
光源については各種のものが提案されているが、現段階
で最も有望視されているのはエキシマレーザである。2. Description of the Related Art The semiconductor technology is being highly integrated and miniaturized. Since the resolution line width of the circuit pattern when transferring the circuit pattern of the mask or reticle to the wafer is proportional to the wavelength of the light source, in recent years it has been deep UV.
The i-line in the region (λ = 365 nm) has come to be mainly used, but a light source of a shorter wavelength is required for further miniaturization. Although various types of far-ultraviolet light sources having a short wavelength of i-line or longer have been proposed, the most promising at this stage is an excimer laser.
【０００３】図５は、従来のエキシマレーザを光源とし
て用いた露光装置の概略構成図である（以下、このレー
ザ装置を第１の従来例という）。同図に示されるよう
に、放電管３１１は、チャンバ３１０と、このチャンバ
内に収納された主放電用電極３０５、予備電離用電極３
０６、冷却用熱交換器３０７、ガス循環ファン３０９に
より構成されている。そして、このチャンバ内には、例
えば希ガスとしてＫｒが、ハロゲンガスとしてＦ2 がＮ
ｅ等のバッファガスとともに封入されている。図示され
てはいないが、紙面の前後には高反射ミラーと出力ミラ
ーとが配置され共振器が構成されている。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an exposure apparatus using a conventional excimer laser as a light source (hereinafter, this laser apparatus is referred to as a first conventional example). As shown in the figure, the discharge tube 311 includes a chamber 310, a main discharge electrode 305 and a preliminary ionization electrode 3 housed in the chamber 310.
06, a cooling heat exchanger 307, and a gas circulation fan 309. In the chamber, for example, Kr as a rare gas and F 2 as a halogen gas are added.
It is enclosed together with a buffer gas such as e. Although not shown, a high reflection mirror and an output mirror are arranged in front of and behind the paper to form a resonator.
【０００４】主放電用電極３０５、予備電離用電極３０
６には、これらの電極間に放電を起こさせるために、第
１コンデンサＣ1 、第２コンデンサＣ2 、インダクタン
スＬ、サイラトロン３０４からなる励起回路が接続され
ている。この励起回路には制御装置３０２により制御さ
れる高圧電源３０３により電力が供給される。制御装置
３０２は、ステッパ３０１からの信号を受けて制御を行
う。Main discharge electrode 305, preliminary ionization electrode 30
An excitation circuit composed of a first capacitor C 1 , a second capacitor C 2 , an inductance L, and a thyratron 304 is connected to 6 in order to cause a discharge between these electrodes. Electric power is supplied to this excitation circuit by a high voltage power supply 303 controlled by a control device 302. The control device 302 receives a signal from the stepper 301 and performs control.
【０００５】この回路は容量移行型と呼ばれるものであ
って、次のように動作する。高圧電源３０３により第１
コンデンサＣ1 を高電圧に充電した後、サイラトロン３
０４をオンさせると、予備電離用電極３０６間で放電が
開始し、これにより発生する紫外線により主放電用電極
３０５間のレーザ媒質が予備電離される。それとともに
第２コンデンサＣ2 が充電され、この充電電圧が十分に
高くなると主放電空間において放電が開始され、エキシ
マが生成される。そして、共振器内においてレーザ発振
が行われ、出力ミラーを介して外部に出射され、ステッ
パ３０１に装着されたウェハ上に照射される。This circuit is called a capacitance transfer type and operates as follows. First by high voltage power supply 303
After charging the capacitor C 1 to a high voltage, the thyratron 3
When 04 is turned on, discharge is started between the electrodes for preionization 306, and the laser medium generated between the electrodes for main discharge 305 is preionized by the ultraviolet rays generated thereby. At the same time, the second capacitor C 2 is charged, and when the charging voltage becomes sufficiently high, discharge is started in the main discharge space and excimers are generated. Then, laser oscillation is performed in the resonator, is emitted to the outside via the output mirror, and is irradiated onto the wafer mounted on the stepper 301.
【０００６】ところで、特開平３−１３８９８９号公報
には、医療用の場合のように、異なる波長のエキシマレ
ーザ光が必要となる場合には、複数の放電室を直列の並
べてエキシマレーザ装置を構成することが提案されてい
る（以下、これを第２の従来例という）。図６は、上記
公報にて提案されたレーザ装置を上から見た図であっ
て、図示されたものは放電室が２つの場合の例である。By the way, in Japanese Patent Laid-Open No. 138989/1993, when excimer laser beams of different wavelengths are required as in the case of medical use, a plurality of discharge chambers are arranged in series to form an excimer laser device. It has been proposed to do so (hereinafter, this is referred to as a second conventional example). FIG. 6 is a view of the laser device proposed in the above publication as seen from above, and the one shown is an example in the case of two discharge chambers.
【０００７】図６に示されるように、放電室４１１ａ、
４１１ｂ内には、主放電用電極４０５ａ、４０５ｂ、予
備電離用電極４０６ａ、４０６ｂが配置され、放電室間
は透過部材４１３により分離されている。各電極は同様
の形状の電極と紙面に垂直方向に重ねられており、その
電極間で放電が行われる。放電室の長手方向の端面に
は、ブリュースタ窓４１４が設けられ、その外側に共振
器を構成する１対のミラーが設置されている。As shown in FIG. 6, the discharge chamber 411a,
Main discharge electrodes 405a and 405b and preliminary ionization electrodes 406a and 406b are arranged inside 411b, and a discharge member 413 separates the discharge chambers. Each electrode is superposed with an electrode of the same shape in the direction perpendicular to the paper surface, and electric discharge is performed between the electrodes. A Brewster window 414 is provided on the end face in the longitudinal direction of the discharge chamber, and a pair of mirrors forming a resonator is provided outside the Brewster window 414.
【０００８】このレーザ装置では、各放電室４１１ａ、
４１１ｂにそれぞれ異種の媒質ガスを封入し、いずれか
一方の放電室を駆動することにより、必要に応じた波長
のレーザ光を得ることができる。あるいは、同種の媒質
ガスを両方の放電室に封入し、同時に駆動することによ
り、一つの放電室を駆動する場合の数倍の出力のエキシ
マレーザ光を得ることができる。In this laser device, each discharge chamber 411a,
By enclosing different kinds of medium gases in 411b and driving either one of the discharge chambers, laser light having a wavelength according to need can be obtained. Alternatively, by enclosing the same kind of medium gas in both discharge chambers and driving them at the same time, it is possible to obtain excimer laser light having an output several times as high as when driving one discharge chamber.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】エキシマレーザはｉ線
以降の露光用光源として期待されているが、未だ解決す
べき課題が多く残されている。その最大のものは耐久性
の問題である。上述した第１の従来例では、レーザ発振
を続ける内に放電電極が摩耗するため、出力が低下し最
後には発振しなくなる。このようになった場合、放電管
ごと交換する必要があり、メンテナンスコストが高くつ
く。The excimer laser is expected as a light source for exposure after i-line, but there are still many problems to be solved. The biggest of them is the problem of durability. In the first conventional example described above, the discharge electrode is worn while the laser oscillation is continued, so that the output is reduced and the oscillation is stopped at the end. In such a case, it is necessary to replace the entire discharge tube, resulting in high maintenance cost.
【００１０】ここで、仮に第２の従来例の手法を採用し
て電極の長寿命化を図ろうとした場合（第２の従来例の
ものは、異なる波長のレーザ光を別々の放電室にて得る
ものであるが、各放電室において同一波長のレーザ光を
得るようにしたものとして）、例えば２対の電極を使用
して放電管の寿命を延ばすには、単純に倍の長さが必要
となる。而して、現状ではエキシマステッパで使用され
ているエキシマレーザは約１．６メートルの長さがあ
り、倍になると３メートルを越えてしまい、装置が長く
なりすぎて広いスペースが必要になり現実的ではない。Here, if it is attempted to extend the life of the electrode by adopting the method of the second conventional example (in the second conventional example, laser beams of different wavelengths are supplied to different discharge chambers). However, in order to obtain the same wavelength laser light in each discharge chamber), for example, using two pairs of electrodes, it is necessary to simply double the length in order to extend the life of the discharge tube. Becomes Thus, at present, the excimer laser used in the excimer stepper has a length of about 1.6 meters, and when it is doubled, it exceeds 3 meters, which makes the device too long and requires a large space. Not at all.
【００１１】また、休止中の放電室内のレーザ媒質の光
吸収のために効率が低下するという問題が起こり、さら
に放電室毎に電極を設置しているため、ガスの使用量が
多くなるという問題がある。本発明はこのような状況に
鑑みてなされたものであって、その目的は、装置をでき
る限りコンパクトに抑えつつ、エキシマレーザ装置の長
寿命化を実現することである。Further, there is a problem that the efficiency is lowered due to the light absorption of the laser medium in the discharge chamber at rest, and furthermore, since the electrodes are installed in each discharge chamber, the amount of gas used becomes large. There is. The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to realize a long life of an excimer laser device while keeping the device as compact as possible.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、一つの放電管内の側壁に平行に複
数の主放電用電極対が備えられ、該放電管内の中心部分
に各主放電用電極対と平行に冷却用熱交換器が設置さ
れ、該放電管内に各主放電用電極対に共通に作用するガ
ス循環ファンが備えられているエキシマレーザ装置、が
提供される。To achieve the above object, according to the present invention, a plurality of main discharge electrode pairs are provided in parallel to the side wall in one discharge tube, and each main discharge electrode pair is provided in the central portion of the discharge tube. Provided is an excimer laser device in which a cooling heat exchanger is installed in parallel with a main discharge electrode pair, and a gas circulation fan that acts in common with each main discharge electrode pair is provided in the discharge tube.
【００１３】[0013]
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。図１は、本発明の第１の実施例のエキシマレ
ーザ装置の放電管断面図および励起回路の概略図であ
る。同図に示されるように、放電管１１１は、チャンバ
１１０とその中に設置された各部材によって構成され
る。チャンバ１１０内には、２対の主放電用電極１０５
ａ、１０５ｂが並行に配置され、各主放電用電極の両側
にはそれぞれ複数の予備電離用電極１０６ａ、１０６ｂ
が配置されており、そしてレーザ媒質としてＫｒ、Ｆ2
が封入されている。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a discharge tube and a schematic diagram of an excitation circuit of an excimer laser device according to a first embodiment of the present invention. As shown in the figure, the discharge tube 111 is composed of a chamber 110 and each member installed therein. Two pairs of main discharge electrodes 105 are provided in the chamber 110.
a and 105b are arranged in parallel, and a plurality of preionization electrodes 106a and 106b are provided on both sides of each main discharge electrode.
Are arranged, and Kr and F 2 are used as the laser medium.
Is enclosed.
【００１４】また、各主放電用電極の隣には冷却用熱交
換器１０７ａ、１０７ｂが設置されており、さらにチャ
ンバ１１０の中央部にも冷却用熱交換器１０８が配置さ
れている。そして、放電を安定に保つために放電領域の
ガスは入れ替える必要があり、チャンバ内にはガス循環
ファン１０９が設置されている。ガス循環ファンは図中
で放電管内の左下に設置されて反時計方向に回転し、チ
ャンバ内に反時計方向の媒質ガスの対流を生じさせる。
ガスの流速は１０〜３０メートル／秒程度になるように
ガス循環ファンを調整する。ここで、中央に配置された
熱交換器１０８はガスの対流効率を良くするために中心
仕切りの役目を兼ねている。主放電用電極１０５ａ、１
０５ｂは、冷却用熱交換器１０８、ガス循環ファン１０
９に関して対称の位置に配置されており、この構成によ
り均等なレーザ出力得ることができる。Further, cooling heat exchangers 107a and 107b are installed next to the respective main discharge electrodes, and a cooling heat exchanger 108 is also arranged in the center of the chamber 110. Then, in order to keep the discharge stable, it is necessary to replace the gas in the discharge region, and a gas circulation fan 109 is installed in the chamber. The gas circulation fan is installed in the lower left of the discharge tube in the figure and rotates counterclockwise to generate counterclockwise convection of the medium gas in the chamber.
The gas circulation fan is adjusted so that the gas flow rate is about 10 to 30 meters / second. Here, the heat exchanger 108 arranged in the center also serves as a central partition in order to improve the convection efficiency of gas. Main discharge electrodes 105a, 1
Reference numeral 05b denotes a cooling heat exchanger 108 and a gas circulation fan 10.
They are arranged symmetrically with respect to 9, and this configuration makes it possible to obtain a uniform laser output.
【００１５】主放電用電極１０５ａおよび予備電離用電
極１０６ａには、第１コンデンサＣ1 ａ、第２コンデン
サＣ2 ａ、インダクタンスＬａ、サイラトロン１０４ａ
からなる励起回路が接続され、また主放電用電極１０５
ｂおよび予備電離用電極１０６ｂには、第１コンデンサ
Ｃ1 ｂ、第２コンデンサＣ2 ｂ、インダクタンスＬｂ、
サイラトロン１０４ｂからなる励起回路が接続されてい
る。これらの励起回路には制御装置１０２により制御さ
れる高圧電源１０３ａ、１０３ｂにより電力が供給され
る。制御装置１０２はステッパ１０１からの信号を受け
て制御を行う。各励起回路の動作は図５に示した第１の
従来例のそれと同様であるので、その説明は省略する。A first capacitor C 1 a, a second capacitor C 2 a, an inductance La, and a thyratron 104a are provided on the main discharge electrode 105a and the preliminary ionization electrode 106a.
To the main discharge electrode 105.
The b and preionization electrode 106b, a first capacitor C 1 b, a second capacitor C 2 b, inductance Lb,
An excitation circuit composed of the thyratron 104b is connected. Electric power is supplied to these excitation circuits by high-voltage power supplies 103a and 103b controlled by the control device 102. The control device 102 receives a signal from the stepper 101 and performs control. Since the operation of each excitation circuit is similar to that of the first conventional example shown in FIG. 5, the description thereof will be omitted.
【００１６】図示されていないが、各主放電用電極１０
５ａ、１０５ｂにはそれぞれ共振器を構成する一対のミ
ラーが設置されており、それぞれのレーザ出力光はミラ
ーにより屈折せしめられ、出射口が同じになされてい
る。一方のレーザ出力光のみを屈折させて出射口を同じ
にしてもよい。Although not shown, each main discharge electrode 10
5a and 105b are respectively provided with a pair of mirrors that form a resonator, and the respective laser output lights are refracted by the mirrors so that the emission ports are the same. It is also possible to refract only one laser output light and make the emission ports the same.
【００１７】次に、上述したエキシマレーザ装置を用い
たレーザ発振方法を説明する。エキシマレーザを発振さ
せる際にそれぞれの主放電用電極での発振を半周期ずら
して発振させる。それぞれの放電用電極でのその時のパ
ルス列は図２（ａ）、（ｂ）のようになる。例えば４０
０Ｈｚ の発振が必要な場合、それぞれの放電用電極の
共振器を２００Ｈｚずつで発振させ、半周期ずらして交
互に発振させることにより、４００Ｈｚの発振を得るこ
とができる。この方法によれば一つの電極を使用する場
合の限界周波数の倍の周波数でのレーザ発振が可能にな
りスループットの向上を図ることができる。Next, a laser oscillation method using the above-mentioned excimer laser device will be described. When the excimer laser is oscillated, the oscillations at the respective main discharge electrodes are shifted by a half cycle and oscillate. The pulse trains at the respective discharge electrodes are as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). For example 40
When 0 Hz oscillation is required, 400 Hz oscillation can be obtained by oscillating the resonators of the respective discharge electrodes at 200 Hz and oscillating alternately with a half cycle shift. According to this method, laser oscillation can be performed at a frequency that is twice the limit frequency when one electrode is used, and throughput can be improved.
【００１８】次に、図３を参照して本発明の第２の実施
例について説明する。図３において、図１に示した第１
の実施例の部分と同等の部分には下２桁が共通する参照
番号が付せられている。図３に示す第２の実施例では、
高圧電源２０３とサイラトロン２０４と第１コンデンサ
Ｃ1 とインダクタンスＬを２対の主放電用電極で共用し
ている点で第１の実施例と相違している。切換スイッチ
２１２によって使用される主放電用電極が選択される仕
組みになっている。この場合、高圧電源とサイラトロン
と第１コンデンサとインダクタンスを一つずつ設ければ
よくコストの低減と小型化が図れるという利点がある。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 3, the first shown in FIG.
The same reference numerals as the last two digits are given to the same parts as those in the embodiment. In the second embodiment shown in FIG. 3,
This is different from the first embodiment in that the high voltage power source 203, the thyratron 204, the first capacitor C 1 and the inductance L are shared by two pairs of main discharge electrodes. The structure is such that the main discharge electrode used by the changeover switch 212 is selected. In this case, it is sufficient to provide one high voltage power supply, one thyratron, one first capacitor, and one inductance, which has the advantage of cost reduction and size reduction.
【００１９】第２の実施例では、切換スイッチ２１２に
よって使用する主放電用電極を選択するが、図２に示す
ように使用する電極を１パルス毎に交互に変える駆動方
法では、レーザの発振周波数が高い場合に切換スイッチ
の切り換え速度が追い付かなくなる可能性がある。この
ような場合は、一定パルス数毎に交互に主放電用電極を
使用するようにすればよい。その場合、それぞれの電極
でのパルス列は図４（ａ）、（ｂ）のようになる。In the second embodiment, the main discharge electrode to be used is selected by the changeover switch 212, but in the driving method in which the electrode to be used is alternately changed for each pulse as shown in FIG. 2, the oscillation frequency of the laser is changed. When is high, the switching speed of the changeover switch may not catch up. In such a case, the main discharge electrodes may be alternately used for every constant number of pulses. In that case, the pulse trains at the respective electrodes are as shown in FIGS.
【００２０】これは例えばウェハを露光する際に１ショ
ット毎に切り替えスイッチによって使用する電極を変え
て発振させるようにして実現される。また、１ウェハ毎
あるいは１ロット毎というように使用する電極を変えて
もよい。なお、この発振方法は第１の実施例の装置にお
いても使用できる。This is realized, for example, by changing the electrodes to be used by a changeover switch for each shot when the wafer is exposed to oscillate. Further, the electrodes to be used may be changed for each wafer or each lot. This oscillation method can also be used in the device of the first embodiment.
【００２１】以上の実施例ではＫｒＦエキシマレーザに
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なくＡｒＦ等他の媒質を用いたエキシマレーザにも適用
しうるものである。また、実施例では、２対の主放電用
電極を設置する場合について説明したがより多くの電極
対を設けるようにしてもよい。Although the KrF excimer laser has been described in the above embodiments, the present invention is not limited to this and can be applied to an excimer laser using another medium such as ArF. Further, in the embodiment, the case where two pairs of main discharge electrodes are provided has been described, but more electrode pairs may be provided.
【００２２】[0022]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるエキ
シマレーザ装置は、同一放電管内に複数対の主放電用電
極が設置してあり、１パルス毎あるいは一定パルス数毎
に順次発振キャビティを変更させることが可能であり、
このことにより放電管の電極摩耗を遅らせて長寿命化を
図ることができメインテナンスの工数を削減することが
できる。As described above, in the excimer laser device according to the present invention, a plurality of pairs of main discharge electrodes are installed in the same discharge tube, and the oscillating cavity is sequentially changed at every pulse or every constant number of pulses. It is possible to
As a result, the wear of the electrodes of the discharge tube can be delayed, the life of the discharge tube can be extended, and the number of maintenance steps can be reduced.
【００２３】また複数対の主放電用電極が並列に設置し
てあるため、直列に設置してあるものと比べて装置占有
面積が小さくて済み、また休止中の放電室のレーザ媒質
の光吸収によって効率が劣化することも回避できる。さ
らに一つの放電管を使用しているため、複数の放電管を
使用する場合に比べて、使用するガスの量を少なく抑え
ることができる。Further, since a plurality of pairs of main discharge electrodes are installed in parallel, the area occupied by the device is smaller than that in series, and the light absorption of the laser medium in the discharge chamber during rest is possible. It is also possible to avoid efficiency deterioration. Furthermore, since one discharge tube is used, the amount of gas used can be reduced compared to the case where a plurality of discharge tubes are used.
【図１】本発明の第１の実施例のエキシマレーザ装置の
断面図と励起回路の概略図。FIG. 1 is a sectional view of an excimer laser device according to a first embodiment of the present invention and a schematic view of an excitation circuit.
【図２】本発明の第１の実施例の駆動方法を説明するた
めのパルスタイミング図。FIG. 2 is a pulse timing chart for explaining a driving method according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第２の実施例のエキシマレーザ装置の
断面図と励起回路の概略図。FIG. 3 is a sectional view of an excimer laser device according to a second embodiment of the present invention and a schematic view of an excitation circuit.
【図４】本発明の第２の実施例の駆動方法を説明するた
めのパルスタイミング図。FIG. 4 is a pulse timing diagram for explaining a driving method according to a second embodiment of the present invention.
【図５】第１の従来例のエキシマレーザ装置の断面図と
励起回路の概略図。FIG. 5 is a cross-sectional view of an excimer laser device of a first conventional example and a schematic diagram of an excitation circuit.
【図６】第２の従来例の放電室内の構成を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a discharge chamber of a second conventional example.
１０１、２０１、３０１ ステッパ １０２、２０２、３０２ 制御装置 １０３ａ、１０３ｂ、２０３、３０３ 高圧電源 １０４ａ、１０４ｂ、２０４、３０４ サイラトロン １０５ａ、１０５ｂ、２０５ａ、２０５ｂ、３０５、４
０５ａ、４０５ｂ 主放電用電極 １０６ａ、１０６ｂ、２０６ａ、２０６ｂ、３０６、４
０６ａ、４０６ｂ 予備電離用電極 １０７ａ、１０７ｂ、１０８、２０７ａ、２０７ｂ、２
０８、３０７ 冷却用熱交換器 １０９、２０９、３０９ ガス循環ファン １１０、２１０、３１０ チャンバ １１１、２１１、３１１ 放電管 ４１１ａ、４１１ｂ 放電室 ４１３ 透過部材 ４１４ ブリュースタ窓101, 201, 301 Steppers 102, 202, 302 Control devices 103a, 103b, 203, 303 High-voltage power supplies 104a, 104b, 204, 304 Thyratrons 105a, 105b, 205a, 205b, 305, 4
05a, 405b Main discharge electrodes 106a, 106b, 206a, 206b, 306, 4
06a, 406b Pre-ionization electrodes 107a, 107b, 108, 207a, 207b, 2
08, 307 Cooling heat exchanger 109, 209, 309 Gas circulation fan 110, 210, 310 Chamber 111, 211, 311 Discharge tube 411a, 411b Discharge chamber 413 Transmission member 414 Brewster window
Claims (4)
放電用電極対が備えられ、該放電管内の中心部分に各主
放電用電極対と平行に冷却用熱交換器が設置され、該放
電管内に各主放電用電極対に共通に作用するガス循環フ
ァンが備えられていることを特徴とするエキシマレーザ
装置。1. A plurality of main discharge electrode pairs are provided in parallel to the side wall in one discharge tube, and a cooling heat exchanger is installed in the central portion of the discharge tube in parallel to each main discharge electrode pair. An excimer laser device, characterized in that a gas circulating fan that acts in common with each main discharge electrode pair is provided in the discharge tube.
１パルス毎あるいは一定パルス数毎に順次に発振が行わ
れることを特徴とする請求項１記載のエキシマレーザ装
置。2. The excimer laser device according to claim 1, wherein oscillation is performed sequentially for each pulse or for every fixed number of pulses in the resonator associated with each main discharge electrode pair.
器を中心として前記ガス循環ファンに対し対称の位置に
配置されていることを特徴とする請求項１記載のエキシ
マレーザ装置。3. The excimer laser device according to claim 1, wherein each main discharge electrode pair is arranged symmetrically with respect to the gas circulation fan about the cooling heat exchanger.
れ、少なくとも一つの共振器の出射光が屈折手段を介し
て出力されることにより各共振器の出射光が同一個所か
ら出力されることを特徴とする請求項１記載のエキシマ
レーザ装置。4. A resonator is provided for each main discharge electrode pair, and the emitted light of at least one resonator is output via the refraction means, so that the emitted light of each resonator is output from the same location. The excimer laser device according to claim 1, wherein:
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007531311A (en) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | Ultra high repetition rate narrow band gas discharge laser system |
| JP2009065173A (en) * | 2003-07-23 | 2009-03-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN103682954A (en) * | 2012-09-12 | 2014-03-26 | 中国科学院光电研究院 | Novel gas electric discharge cavity |
| JP2014511036A (en) * | 2012-03-02 | 2014-05-01 | 中國科學院光電研究院 | Single chamber double electrode discharge chamber and excimer laser |
| US9350135B2 (en) * | 2012-11-21 | 2016-05-24 | Academy Of Opto-Electronics, Chinese Academy Of Sciences | Flow guide device for dual-electrode discharge cavity, dual electrode discharge cavity utilize the same and excimer laser |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60118261U (en) * | 1984-01-18 | 1985-08-09 | 株式会社日立製作所 | Gas laser generator |
| JPS6211285A (en) * | 1985-07-09 | 1987-01-20 | Toshiba Corp | Laser apparatus |
| JPS6229187A (en) * | 1985-07-30 | 1987-02-07 | Mitsubishi Electric Corp | Cross flow type laser device |
| JPS6235588A (en) * | 1985-08-08 | 1987-02-16 | Toshiba Corp | Laser oscillator |
| JPS6398172A (en) * | 1986-10-15 | 1988-04-28 | Toshiba Corp | High speed repetition pulse gas laser |
| JPH03248584A (en) * | 1990-02-27 | 1991-11-06 | Toshiba Corp | Gas laser oscillator |
| JPH0661557A (en) * | 1992-08-05 | 1994-03-04 | Toshiba Corp | Gas laser device |
-
1994
- 1994-10-20 JP JP6279691A patent/JP2718379B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60118261U (en) * | 1984-01-18 | 1985-08-09 | 株式会社日立製作所 | Gas laser generator |
| JPS6211285A (en) * | 1985-07-09 | 1987-01-20 | Toshiba Corp | Laser apparatus |
| JPS6229187A (en) * | 1985-07-30 | 1987-02-07 | Mitsubishi Electric Corp | Cross flow type laser device |
| JPS6235588A (en) * | 1985-08-08 | 1987-02-16 | Toshiba Corp | Laser oscillator |
| JPS6398172A (en) * | 1986-10-15 | 1988-04-28 | Toshiba Corp | High speed repetition pulse gas laser |
| JPH03248584A (en) * | 1990-02-27 | 1991-11-06 | Toshiba Corp | Gas laser oscillator |
| JPH0661557A (en) * | 1992-08-05 | 1994-03-04 | Toshiba Corp | Gas laser device |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009065173A (en) * | 2003-07-23 | 2009-03-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2007531311A (en) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | Ultra high repetition rate narrow band gas discharge laser system |
| JP2014096610A (en) * | 2004-03-31 | 2014-05-22 | Cymer LLC | Very high repetition rate narrow band gas discharge laser system |
| JP2014511036A (en) * | 2012-03-02 | 2014-05-01 | 中國科學院光電研究院 | Single chamber double electrode discharge chamber and excimer laser |
| KR101493807B1 (en) * | 2012-03-02 | 2015-02-16 | 아카데미 오브 옵토-일렉트로닉스, 차이니즈 아카데미 오브 사이언시스 | Single-chamber dual-electrode discharge chamber and excimer laser |
| US9252557B2 (en) | 2012-03-02 | 2016-02-02 | Academy Of Opto-Electronics, Chinese Academy Of Sciences | Single cavity dual-electrode discharge cavity and excimer laser |
| CN103682954A (en) * | 2012-09-12 | 2014-03-26 | 中国科学院光电研究院 | Novel gas electric discharge cavity |
| US9350135B2 (en) * | 2012-11-21 | 2016-05-24 | Academy Of Opto-Electronics, Chinese Academy Of Sciences | Flow guide device for dual-electrode discharge cavity, dual electrode discharge cavity utilize the same and excimer laser |
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