JPH08125129A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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Publication number
JPH08125129A
JPH08125129A JP6262337A JP26233794A JPH08125129A JP H08125129 A JPH08125129 A JP H08125129A JP 6262337 A JP6262337 A JP 6262337A JP 26233794 A JP26233794 A JP 26233794A JP H08125129 A JPH08125129 A JP H08125129A
Authority
JP
Japan
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signal
deterioration
semiconductor device
time
input
Prior art date
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Pending
Application number
JP6262337A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirokazu Yonezawa
浩和 米澤
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP6262337A priority Critical patent/JPH08125129A/en
Publication of JPH08125129A publication Critical patent/JPH08125129A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To obtain a semiconductor device having a lifetime predicting function utilizing the HC deterioration of an LSI. CONSTITUTION: The semiconductor device comprises signal delay paths 1, 2, a comparison means 3, and an alarm signal generating means 4. The signal delay paths 1, 2 having different drift of delay are subjected to HC deterioration under actually operating state by means of a signal representative of the use frequency of an LSI for which the lifetime is predicted. The comparison means 3 monitors the delay of output or the phase variation thereof caused by deterioration of the signal delay paths 1, 2 and delivers a signal when the variation or the phase relationship exceeds a preset threshold value. The alarm signal generating means delivers an alarm signal in response to the signal. Consequently, a failure in the LSI can be predicted and a countermeasure can be taken.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体回路特性のHC
現象による経時劣化を利用した寿命予測機能を有する半
導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an HC having semiconductor circuit characteristics.
The present invention relates to a semiconductor device having a life prediction function utilizing deterioration over time due to a phenomenon.

【0002】[0002]

【従来の技術】集積回路(以下LSIと略す)には寿命が
あり、ある期間動作した後に故障を起こす。故障の主な
原因としてはホットキャリア(以下HCと略す)現象によ
る回路特性劣化やエレクトロマイグレーション、ストレ
スマイグレーションによる配線断線などが考えられる。
近年のLSIにおいてはデバイスの微細化が急速に進ん
でおり、ますますHC現象などに対する信頼性確保が難
しくなってきている。この課題を解決すべく従来から用
いられてきた技術としては、一定期間の動作を保証すべ
くLSI設計時に適当なマージンを含めて余裕をみた設
計を行う方法が取られてきた。HCによる回路特性劣化
をワーストケースで予測し、設計時に満足しなければな
らない回路の信号伝搬遅延の余裕として考慮するという
ものである。
2. Description of the Related Art An integrated circuit (hereinafter abbreviated as LSI) has a life span and causes a failure after operating for a certain period. The main cause of the failure is considered to be deterioration of circuit characteristics due to a hot carrier (hereinafter abbreviated as HC) phenomenon, electromigration, and wiring disconnection due to stress migration.
In recent years, the miniaturization of devices in LSI has been rapidly progressing, and it is becoming more and more difficult to secure reliability against the HC phenomenon and the like. As a technique that has been conventionally used to solve this problem, there has been adopted a method of designing with a margin including an appropriate margin when designing an LSI in order to guarantee operation for a certain period. This is to predict the circuit characteristic deterioration due to HC in the worst case and consider it as the margin of the signal propagation delay of the circuit that must be satisfied at the time of design.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし上記の方法で
は、マージンを含めたLSI設計を行っていても、LS
Iが実際に使用される状態すなわち電圧、温度、使用頻
度などが想定時と必ずしも同じではないため、同一設計
されたLSIでも個々の寿命が異なってくる。すなわち
LSIの寿命を精度よく予測することは困難であった。
またこのことから逆に設計時に不要にマージンを大きく
設定しなければならなかった。
However, in the above method, even if the LSI design including the margin is performed, the LS
Since the state in which I is actually used, that is, the voltage, the temperature, the frequency of use, etc., is not necessarily the same as that at the time of assumption, even the LSIs of the same design have different lifespans. That is, it is difficult to accurately predict the life of the LSI.
On the contrary, it is necessary to set a large margin unnecessarily at the time of design.

【0004】本発明は上記のような従来技術の実情を鑑
み、HCによる回路特性劣化現象を利用した寿命予測機
能を有する半導体装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances of the prior art, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device having a life prediction function utilizing a circuit characteristic deterioration phenomenon due to HC.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に第1の発明は、異なる遅延の経時変化率を有する複数
の信号遅延パスと、比較手段と、警報信号生成手段とを
有している。信号が前記信号遅延パスにそれぞれ入力さ
れ、前記信号遅延パスの出力は比較手段にそれぞれ入力
され、前記比較手段は前記信号遅延パスの出力の位相関
係に応じた比較結果を出力し、前記比較手段の出力は前
記警報信号生成手段に入力され、前記警報信号生成手段
が前記比較手段の出力に応じた警報信号を出力するもの
である。
In order to achieve the above object, the first invention comprises a plurality of signal delay paths having different delay time change rates, a comparison means, and an alarm signal generation means. There is. A signal is input to each of the signal delay paths, an output of each of the signal delay paths is input to each of comparison means, and the comparison means outputs a comparison result according to a phase relationship of outputs of the signal delay paths, and the comparison means. Is output to the alarm signal generating means, and the alarm signal generating means outputs an alarm signal according to the output of the comparing means.

【0006】第2の発明は、NチャネルMOS(Metal-
Oxide-Semiconductorの略)トランジスタと、劣化時負
荷手段と、劣化量検出時負荷手段とを有している。Nチ
ャネルMOSトランジスタのソース端子は接地され、劣
化時に前記NチャネルMOSトランジスタのドレイン端
子と前記劣化時負荷手段が接続され、劣化時に前記Nチ
ャネルMOSトランジスタのゲート端子と劣化時入力信
号が接続され、劣化量検出時に前記NチャネルMOSト
ランジスタのドレイン端子と前記劣化量検出時負荷手段
が接続され、劣化量検出時に前記NチャネルMOSトラ
ンジスタのゲート端子と劣化量検出時入力信号が接続さ
れ、劣化量は前記NチャネルMOSトランジスタのドレ
イン端子電圧の変化として出力されるものである。
A second invention is an N-channel MOS (Metal-
Oxide-Semiconductor) transistor, deterioration time load means, and deterioration amount detection time load means. The source terminal of the N-channel MOS transistor is grounded, the drain terminal of the N-channel MOS transistor is connected to the deterioration load means during deterioration, and the gate terminal of the N-channel MOS transistor is connected to the deterioration input signal during deterioration. When the deterioration amount is detected, the drain terminal of the N-channel MOS transistor is connected to the deterioration amount detecting load means, and when the deterioration amount is detected, the gate terminal of the N-channel MOS transistor is connected to the deterioration amount detecting input signal. It is output as a change in the drain terminal voltage of the N-channel MOS transistor.

【0007】第3の発明は、少なくともA/Dコンバー
タと、第2の発明の半導体装置とを有している。これら
のA/Dコンバータと前記第2の発明の半導体装置とは
一つの半導体基板上に形成される。第2の発明の半導体
装置の出力は前記A/Dコンバータのアナログ入力に入
力され、前記A/Dコンバータからデジタル出力が得ら
れるものである。
A third invention has at least an A / D converter and the semiconductor device of the second invention. These A / D converter and the semiconductor device of the second invention are formed on one semiconductor substrate. The output of the semiconductor device of the second invention is input to the analog input of the A / D converter, and a digital output is obtained from the A / D converter.

【0008】第4の発明は、第1の発明の半導体装置と
少なくとも一つの半導体集積回路とが共通バスに接続さ
れているシステムになっている。第1の発明の半導体装
置には前記半導体集積回路の動作信号が共通バスを介し
て入力され、前記動作信号は前記第1の発明の半導体装
置の信号遅延パスの入力となるものである。
A fourth invention is a system in which the semiconductor device of the first invention and at least one semiconductor integrated circuit are connected to a common bus. An operation signal of the semiconductor integrated circuit is input to the semiconductor device of the first invention via a common bus, and the operation signal is input to a signal delay path of the semiconductor device of the first invention.

【0009】[0009]

【作用】本発明によれば、LSIが実際に使用される状
態すなわち電圧、温度、使用頻度などを反映して信号遅
延パスが動作しHC劣化を起こす。HC劣化を起こすと
累積動作時間の増加とともに信号遅延パスの遅延値が変
化していく(例えば増加する)。そこでその遅延値の変
化または波形の位相の変化をとらえ、その変化量が一定
量を越えたところで警報信号を出力することによって実
際に故障が生じる前にLSIの寿命を知ることが可能と
なる。また、NチャネルMOSトランジスタを用いた場
合でも同様に、HC劣化によるトランジスタの電流駆動
能力の変化を電圧変化に変換して前者と同様にLSI寿
命をとらえるものである。
According to the present invention, the signal delay path operates to cause HC deterioration by reflecting the actual use state of the LSI, that is, the voltage, temperature, frequency of use and the like. When HC deterioration occurs, the delay value of the signal delay path changes (for example, increases) as the cumulative operating time increases. Therefore, by grasping the change of the delay value or the change of the phase of the waveform and outputting the alarm signal when the amount of change exceeds a certain amount, it becomes possible to know the life of the LSI before a failure actually occurs. Further, even when an N-channel MOS transistor is used, the change in the current drive capability of the transistor due to HC deterioration is converted into a change in voltage to capture the LSI life as in the former case.

【0010】本発明により、個々のLSIの使用状態に
よる寿命の差を設計時にマージンとして考慮する必要を
なくすことが可能になる。
According to the present invention, it becomes possible to eliminate the need to consider the difference in life depending on the usage state of each LSI as a margin at the time of design.

【0011】[0011]

【実施例】【Example】

(実施例1)以下、本発明の第1の実施例を図面を参照
しながら説明する。
(First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1は本実施例を示すブロック図である。
図1に示すように本実施例は、2つの信号遅延パス1,
2と比較手段3と警報信号生成手段4とからなる。ここ
で、2つの信号遅延パスは遅延の経時変化率がそれぞれ
異なるように設定されている。
FIG. 1 is a block diagram showing this embodiment.
As shown in FIG. 1, this embodiment uses two signal delay paths 1,
2, a comparing means 3, and an alarm signal generating means 4. Here, the two signal delay paths are set so that the rate of change of delay with time is different.

【0013】まず各構成要素間の信号の流れを説明す
る。信号遅延パス1は信号Aが入力され信号Cを出力す
る。信号遅延パス2は信号Bが入力され信号Dを出力す
る。比較手段3は信号Cと信号Dが入力され信号Eを出
力する。警報信号生成手段4は信号Eが入力され信号F
を出力する。
First, the flow of signals between the components will be described. The signal delay path 1 receives the signal A and outputs the signal C. The signal delay path 2 receives the signal B and outputs the signal D. The comparison means 3 receives the signal C and the signal D and outputs the signal E. The alarm signal generating means 4 receives the signal E and receives the signal F.
Is output.

【0014】次に動作を詳細に説明する。信号A,Bに
は例えばLSIのクロック信号などの寿命を予測したい
LSIの使用頻度を代表するような信号を用いる。信号
A,Bが印加されている時間が経過するにつれて信号遅
延パス1,2にHC現象による回路特性の劣化が生じて
くる。その結果、信号遅延パスの遅延値が変化してく
る。この様子を図2に示す。ここで、t10は信号遅延
パス1の初期遅延、t20は信号遅延パス2の初期遅延
であり、t10>t20の関係になっている。図2によ
うに累積動作時間に対する信号遅延パスの遅延の経時変
化率すなわち直線の傾きは異なっており、ここでは経時
変化率は信号遅延パス2の方が信号遅延パス1より大き
くなるように設定している。回路遅延の経時変化率を求
める方法としては、例えばテスト回路を製造し、HC劣
化特性を評価してその結果を利用する方法や、信頼性シ
ミュレータを利用する方法などがある。
Next, the operation will be described in detail. As the signals A and B, for example, a signal such as a clock signal of an LSI that represents the frequency of use of the LSI whose life is to be predicted is used. As the time during which the signals A and B are applied elapses, the signal delay paths 1 and 2 deteriorate in circuit characteristics due to the HC phenomenon. As a result, the delay value of the signal delay path changes. This state is shown in FIG. Here, t10 is the initial delay of the signal delay path 1, t20 is the initial delay of the signal delay path 2, and the relationship of t10> t20 is satisfied. As shown in FIG. 2, the aging rate of the delay of the signal delay path with respect to the accumulated operation time, that is, the slope of the straight line is different. Here, the aging rate is set so that the signal delay path 2 is larger than the signal delay path 1. are doing. As a method of obtaining the change rate of the circuit delay with time, there are, for example, a method of manufacturing a test circuit, evaluating HC deterioration characteristics and using the result, and a method of using a reliability simulator.

【0015】信頼性シミュレータとしては例えば、アイ
・イー・イー・イー・トランザクションズ・オン・コン
ピュータ・エイデッド・デザイン・オブ・インテグレー
テッド・サーキッツ・アンド・システムズ(1993年)第15
24頁から第1534頁(IEEE Transactions on Computer-Ai
ded Dedign of Integrated Circuits and Systems(199
3) P.1524-1534)に記載されたものがある。
As the reliability simulator, for example, IEE Transactions on Computer Aided Design of Integrated Circuits and Systems (1993) No. 15
Pages 24 to 1534 (IEEE Transactions on Computer-AI
ded Deign of Integrated Circuits and Systems (199
3) Some are described in P.1524-1534).

【0016】回路遅延の経時変化率を調整して信号遅延
パスを設計する方法としては、信号遅延パスを構成する
MOSトランジスタのゲート長を変化させて調整する方
法などがある。累積動作時間が増加すると両信号遅延パ
スの遅延は増加し、ある時点Yで遅延が等しくなり、さ
らに時間が経つと遅延の大小関係が逆転する。比較手段
3は両信号遅延パスの遅延値の変化すなわち波形の位相
の変化をとらえて比較し、位相関係が逆転するときに出
力Eを変化させる。その結果、警報信号生成手段4が信
号Fを警報信号として出力する。
As a method of designing a signal delay path by adjusting the change rate of the circuit delay with time, there is a method of changing the gate length of a MOS transistor forming the signal delay path and adjusting it. When the cumulative operation time increases, the delays of both signal delay paths increase, the delays become equal at a certain time point Y, and the delay magnitude relationship is reversed as time passes. The comparison means 3 captures and compares the change in the delay value of both signal delay paths, that is, the change in the phase of the waveform, and changes the output E when the phase relationship is reversed. As a result, the alarm signal generation means 4 outputs the signal F as an alarm signal.

【0017】このように本実施例の半導体装置では、位
相が逆転する時点YをあらかじめLSIの寿命より若干
短い時間に設定しておけば、個々のLSIをほぼ実使用
状態での寿命に近い時点まで使用でき、かつLSIに故
障の起こる以前に警報信号によってLSIの劣化状況を
把握することができる。
As described above, in the semiconductor device of this embodiment, if the time Y at which the phase is reversed is set to a time slightly shorter than the life of the LSI in advance, the time when the individual LSIs are almost at the end of the life in actual use is obtained. It can be used up to the present and the deterioration status of the LSI can be grasped by the alarm signal before the failure of the LSI occurs.

【0018】なお、本実施例では図2に示すように信号
遅延パスの初期遅延が異なる方法をとったが、図3に示
すように両信号遅延パスで初期遅延を同じにする方法で
もよい。ここで、t30は両信号遅延パスの初期遅延で
ある。累積動作時間が増加すると両信号遅延パスの遅延
は増加する。そこで比較手段3で両信号遅延パスの遅延
差が一定値を越える時点を検出するようにしておけば、
例えばある時点Zで比較手段3の出力Eを変化させるこ
とが可能になる。
In this embodiment, as shown in FIG. 2, the signal delay paths have different initial delays. However, as shown in FIG. 3, both signal delay paths may have the same initial delay. Here, t30 is the initial delay of both signal delay paths. As the cumulative operating time increases, the delay of both signal delay paths increases. Therefore, if the comparison means 3 detects the time when the delay difference between both signal delay paths exceeds a certain value,
For example, the output E of the comparison means 3 can be changed at a certain time Z.

【0019】ここで、図1においては信号Aと信号Bは
別の信号を用いているが、同一信号を用いてもよい。ま
た、信号遅延パスには単純なゲートチェーンやクリティ
カルパスなどを用いてもよい。さらに、図2,図3では
累積動作時間と信号遅延パスの遅延とが直線関係の場合
を示したが、これが曲線関係の場合でもよい。
Although the signal A and the signal B are different signals in FIG. 1, they may be the same signal. A simple gate chain or a critical path may be used as the signal delay path. Further, although FIGS. 2 and 3 show the case where the cumulative operation time and the delay of the signal delay path have a linear relationship, they may have a curve relationship.

【0020】(実施例2)以下、本発明の第2の実施例
を図面を参照しながら説明する。
(Second Embodiment) A second embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】図4は本実施例を示す回路例である。図4
に示すように本実施例は、NチャネルMOSトランジス
タ5と劣化時負荷手段10と劣化量検出時負荷手段11
とスイッチ6,7,8,9とからなる。NチャネルMO
Sトランジスタ5のソース端子Lは接地され、ゲート端
子Jはスイッチ6,7を介して信号G,Hと接続され、
ドレイン端子Kはスイッチ8を介して劣化時負荷手段1
0に接続されるとともに、スイッチ9を介して劣化量検
出時負荷手段11に接続される。また、劣化時負荷手段
10のスイッチ8と接続されていない側の端子は電源
に、劣化量検出時負荷手段11のスイッチ9と接続され
ていない側の端子は電源に接続される。
FIG. 4 is a circuit example showing this embodiment. FIG.
As shown in FIG. 5, in this embodiment, the N-channel MOS transistor 5, the deterioration load means 10, and the deterioration amount detection load means 11 are used.
And switches 6, 7, 8, and 9. N channel MO
The source terminal L of the S transistor 5 is grounded, the gate terminal J is connected to the signals G and H via the switches 6 and 7,
The drain terminal K is connected via the switch 8 to the load means 1 at the time of deterioration.
In addition to being connected to 0, it is connected to the deterioration amount detection load means 11 via the switch 9. Further, the terminal of the deterioration time load means 10 not connected to the switch 8 is connected to the power supply, and the terminal of the deterioration amount detection time load means 11 not connected to the switch 9 is connected to the power supply.

【0022】次に動作を詳細に説明する。動作には2つ
のモードがある。一方はNチャネルMOSトランジスタ
を劣化させるモード、もう一方はその劣化量を検出する
モードである。
Next, the operation will be described in detail. There are two modes of operation. One is a mode in which the N-channel MOS transistor is deteriorated, and the other is a mode in which the deterioration amount is detected.

【0023】劣化時モードの動作を説明する。信号Gに
は例えばLSIのクロック信号などの寿命を予測したい
LSIの使用頻度を代表するような信号を用いる。スイ
ッチ6,8をONさせ、スイッチ7,9をOFFさせ、
劣化時用信号GをNチャネルMOSトランジスタ5のゲ
ート端子Jに入力し、劣化時負荷手段10をNチャネル
MOSトランジスタ5のドレイン端子に接続する。信号
Gが印加されている時間が経過するにつれてNチャネル
MOSトランジスタ5にHC現象による回路特性の劣化
が現われてくる。その結果、NチャネルMOSトランジ
スタ5の電流値が変化してくる。この様子を図5に示
す。ここで、VDSはNチャネルMOSトランジスタ5
に印加されるソース・ドレイン間電圧、IDSはNチャ
ネルMOSトランジスタ5にあるゲート電圧をゲート端
子Jに印加したときのドレイン電流を表す。図5の曲線
はHC現象による劣化前と、ある時間が経過したあとの
劣化後の特性を表している。図5に示すように劣化後は
劣化前に比べて電流値が減少する。
The operation in the deterioration mode will be described. As the signal G, a signal representative of the frequency of use of the LSI whose life is to be predicted, such as a clock signal of the LSI, is used. Turn on switches 6 and 8 and turn off switches 7 and 9,
The deterioration time signal G is input to the gate terminal J of the N-channel MOS transistor 5, and the deterioration time load means 10 is connected to the drain terminal of the N-channel MOS transistor 5. As the time when the signal G is applied elapses, the N-channel MOS transistor 5 shows deterioration of the circuit characteristics due to the HC phenomenon. As a result, the current value of the N-channel MOS transistor 5 changes. This state is shown in FIG. Here, VDS is an N-channel MOS transistor 5
The source-drain voltage applied to the transistor, IDS, represents the drain current when the gate voltage of the N-channel MOS transistor 5 is applied to the gate terminal J. The curves in FIG. 5 represent the characteristics before deterioration due to the HC phenomenon and after deterioration after a certain time has elapsed. As shown in FIG. 5, the current value after deterioration is smaller than that before deterioration.

【0024】劣化量検出時モードの動作を説明する。ス
イッチ6,8をOFFさせ、スイッチ7,9をONさ
せ、劣化量検出時用信号HをNチャネルMOSトランジ
スタ5のゲート端子Jに入力し、劣化量検出時負荷手段
11をNチャネルMOSトランジスタ5のドレイン端子
に接続する。図5で説明したように劣化後は劣化前に比
べてNチャネルMOSトランジスタ5の電流値は減少す
るため、この変化が劣化量検出時負荷手段11を介して
ドレイン電圧の変化に変換されてドレイン端子Kに出力
される。
The operation in the deterioration amount detecting mode will be described. The switches 6 and 8 are turned off, the switches 7 and 9 are turned on, the deterioration amount detection time signal H is input to the gate terminal J of the N channel MOS transistor 5, and the deterioration amount detection time load means 11 is set to the N channel MOS transistor 5. Connect to the drain terminal of. As described with reference to FIG. 5, after the deterioration, the current value of the N-channel MOS transistor 5 is smaller than that before the deterioration. Therefore, this change is converted into a change in the drain voltage through the load means 11 at the time of detecting the deterioration amount and the drain voltage is changed. Output to terminal K.

【0025】図6に劣化時と劣化量検出時の一部の信号
の様子を示す。NチャネルMOSトランジスタ5のゲー
ト端子Jに印加される信号G,Hが劣化時か劣化量検出
時かに応じてスイッチ6,7で切り替えられている。
FIG. 6 shows the states of some signals at the time of deterioration and when the deterioration amount is detected. The signals G and H applied to the gate terminal J of the N-channel MOS transistor 5 are switched by the switches 6 and 7 depending on whether the deterioration or the deterioration amount is detected.

【0026】このように本実施例の半導体装置では、ド
レイン電圧の変化量をあらかじめLSIの寿命より若干
短い時間の劣化による変化量に設定しておけば、個々の
LSIをほぼ実使用状態での寿命に近い時点まで使用で
き、かつLSIに故障の起こる以前に警報信号によって
LSIの劣化状況を把握することができる。
As described above, in the semiconductor device of this embodiment, if the amount of change in drain voltage is set in advance to the amount of change due to deterioration of the LSI which is slightly shorter than the life of the LSI, the individual LSIs can be used almost in actual use. It can be used until the end of its life, and the deterioration status of the LSI can be grasped by the alarm signal before the failure of the LSI occurs.

【0027】なお、本実施例では図4においては信号G
と信号Hは別の信号を用いているが、同一信号を用いた
方式でもよい。また、負荷手段には抵抗素子やPチャネ
ルMOSトランジスタなどを用いてもよい。さらに、本
実施例ではNチャネルMOSトランジスタ5のソース端
子は接地したが、そのときのソース端子の電位は任意に
選んでよい。負荷手段10,11は電源にプルアップ接
続しているが、そのときの電源電位は任意に選んでよ
い。
In this embodiment, the signal G in FIG.
Although the signal and the signal H use different signals, a method using the same signal may be used. A resistance element or a P-channel MOS transistor may be used as the load means. Further, although the source terminal of the N-channel MOS transistor 5 is grounded in this embodiment, the potential of the source terminal at that time may be arbitrarily selected. The load means 10 and 11 are pull-up connected to the power source, but the power source potential at that time may be arbitrarily selected.

【0028】(実施例3)以下、本発明の第3の実施例
を図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 3) A third embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0029】図7は本実施例を示す回路例である。図7
に示すように本実施例は、アナログ信号をデジタル信号
に変換するA/Dコンバータ32と本発明第2の実施例
で示した半導体装置31とからなり、これらが同じ半導
体基板30上に形成されている。
FIG. 7 is a circuit example showing this embodiment. Figure 7
As shown in FIG. 5, this embodiment comprises an A / D converter 32 for converting an analog signal into a digital signal and the semiconductor device 31 shown in the second embodiment of the present invention, which are formed on the same semiconductor substrate 30. ing.

【0030】半導体装置31は信号G,Hを入力とし信
号Kを出力する。A/Dコンバータ32は信号Kを入力
し信号Mを出力する。半導体装置31の動作は第2の実
施例で説明してあるため省略する。劣化量検出時に信号
Kの電圧変化として劣化量が出力され、それをアナログ
信号としてA/Dコンバータ32に入力され、デジタル
信号に変換されて適当なビット数のデジタル信号Mが出
力される。
The semiconductor device 31 receives the signals G and H and outputs the signal K. The A / D converter 32 inputs the signal K and outputs the signal M. Since the operation of the semiconductor device 31 has been described in the second embodiment, it will be omitted. When the deterioration amount is detected, the deterioration amount is output as a voltage change of the signal K, and the deterioration amount is input to the A / D converter 32 as an analog signal, converted into a digital signal, and a digital signal M having an appropriate number of bits is output.

【0031】このように本実施例の半導体装置では、半
導体装置31の出力Kの劣化による電圧変化がデジタル
信号Mとして出力される。例えば信号Mが4ビットの場
合、”0000”を劣化前の初期状態すなわち信号Kの
劣化量検出時の初期値に対応させ、”1111”を最大
に劣化した状態すなわち信号Kの劣化量検出時の最大劣
化値に対応させ、信号Kが初期値と最大劣化値との間の
電圧をとる場合は二進数”0000”から”1111”
の間をリニアに割りあてればよい。しきい値をあらかじ
めLSIの寿命より若干少ない時間の劣化による変化量
に対応したデジタル値に設定して監視しておけば、個々
のLSIをほぼ実使用状態での寿命に近い時点まで使用
でき、かつLSIに故障の起こる以前に警報信号によっ
てLSIの劣化状況を把握することができる。
As described above, in the semiconductor device of this embodiment, the voltage change due to the deterioration of the output K of the semiconductor device 31 is output as the digital signal M. For example, when the signal M is 4 bits, "0000" is made to correspond to the initial state before deterioration, that is, the initial value when the deterioration amount of the signal K is detected, and "1111" is maximally deteriorated, that is, when the deterioration amount of the signal K is detected. Corresponding to the maximum deterioration value of, the binary number "0000" to "1111" when the signal K has a voltage between the initial value and the maximum deterioration value.
It is only necessary to allocate the spaces linearly. If you set the threshold to a digital value corresponding to the amount of change due to deterioration in a time slightly less than the life of the LSI and monitor it, you can use each LSI until the end of its life in the actual operating condition. Moreover, it is possible to grasp the deterioration status of the LSI by the alarm signal before the failure of the LSI occurs.

【0032】(実施例4)以下、本発明の第4の実施例
を図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 4) A fourth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0033】図8は本実施例を示す回路例である。図8
に示すように本実施例は、共通バス16と、信号遅延パ
ス1,2,41と比較手段3と警報信号生成手段4とか
らなる第1の実施例と同様の半導体装置40を内蔵する
半導体装置13と、半導体装置13に内蔵される処理装
置12と、共通信号17と、動作信号22,23,24
と、半導体装置14,15とからなるシステムである。
FIG. 8 is a circuit example showing this embodiment. FIG.
As shown in FIG. 4, this embodiment is a semiconductor device including a common bus 16, signal delay paths 1, 2 and 41, a comparison means 3 and an alarm signal generation means 4 and a semiconductor device 40 similar to that of the first embodiment. The device 13, the processing device 12 built in the semiconductor device 13, the common signal 17, and the operation signals 22, 23, 24
And a semiconductor device 14 and 15.

【0034】本実施例のシステムは、複数のLSIから
なるシステムの中の一のLSIに第1の実施例の半導体
装置を内蔵させ、それに各LSIから各々のLSIの使
用頻度を代表するような信号を入力する。これにより第
1の実施例の半導体装置を内蔵したLSIでシステム内
全てのLSIの実動作に応じたHC劣化状況を把握し
て、システム内のLSIの中で劣化が進み劣化量のしき
い値を越えるものが現われた場合警報信号を発して、そ
れを処理するというものである。
In the system of this embodiment, the semiconductor device of the first embodiment is built in one LSI of the system consisting of a plurality of LSIs, and each LSI represents the frequency of use of each LSI. Input the signal. As a result, the LSI having the semiconductor device according to the first embodiment grasps the HC deterioration status according to the actual operation of all the LSIs in the system, and the deterioration progresses in the LSIs in the system, and the threshold value of the deterioration amount. When more than one appears, an alarm signal is issued and it is processed.

【0035】まず各構成要素間の信号の流れを説明す
る。半導体装置14の共通信号17は共通バス16に接
続され、動作信号23が共通バス16に出力される。半
導体装置15の共通信号17は共通バス16に接続さ
れ、動作信号24が共通バス16に出力される。半導体
装置13の共通信号17は共通バス16に接続され、動
作信号23,24が共通バス16から入力される。さら
に半導体装置13に入力された動作信号23,24は半
導体装置40の信号遅延パス1,2にそれぞれ入力され
る。半導体装置13に接続された共通信号17は処理装
置12に接続され、半導体装置40の警報信号生成手段
4の出力は処理装置12に入力される。信号遅延パス4
1には半導体装置13の中から適当な動作信号22を選
んで入力する。
First, the flow of signals between the components will be described. The common signal 17 of the semiconductor device 14 is connected to the common bus 16, and the operation signal 23 is output to the common bus 16. The common signal 17 of the semiconductor device 15 is connected to the common bus 16, and the operation signal 24 is output to the common bus 16. The common signal 17 of the semiconductor device 13 is connected to the common bus 16, and the operation signals 23 and 24 are input from the common bus 16. Further, the operation signals 23 and 24 input to the semiconductor device 13 are input to the signal delay paths 1 and 2 of the semiconductor device 40, respectively. The common signal 17 connected to the semiconductor device 13 is connected to the processing device 12, and the output of the alarm signal generating means 4 of the semiconductor device 40 is input to the processing device 12. Signal delay path 4
An appropriate operation signal 22 is selected from the semiconductor device 13 and input to the circuit 1.

【0036】次に動作を説明する。半導体装置13,1
4,15は共通バス16に接続されてシステムを構成し
動作する。動作信号23,24としては例えばクロック
信号と各LSIのチップセレクト信号との論理積の信号
などを用いる。信号遅延パス1には半導体装置14の動
作に応じたHC現象による回路特性の劣化が生じ、信号
遅延パス2には半導体装置15の動作に応じたHC現象
による回路特性の劣化が生じ、信号遅延パス41には半
導体装置13の動作に応じたHC現象による回路特性の
劣化が生じる。比較手段3は各信号遅延パスの遅延値の
変化をとらえて比較しその結果を出力する。警報信号生
成手段4は比較手段3の出力を入力として受け、警報信
号を出力する。処理装置12は警報信号を受け、処理す
る。
Next, the operation will be described. Semiconductor device 13, 1
4, 15 are connected to the common bus 16 to configure and operate the system. As the operation signals 23 and 24, for example, a signal of a logical product of a clock signal and a chip select signal of each LSI is used. The signal delay path 1 is deteriorated in circuit characteristics due to the HC phenomenon according to the operation of the semiconductor device 14, and the signal delay path 2 is deteriorated in circuit characteristics due to the HC phenomenon according to the operation of the semiconductor device 15. In the path 41, the circuit characteristic is deteriorated due to the HC phenomenon according to the operation of the semiconductor device 13. The comparison means 3 catches the change in the delay value of each signal delay path, compares them, and outputs the result. The alarm signal generating means 4 receives the output of the comparing means 3 as an input and outputs an alarm signal. The processing device 12 receives and processes the alarm signal.

【0037】このように本実施例の半導体装置では、シ
ステム内の一つのLSIで全LSIの実動作状態に基づ
くHC劣化状況を把握しておき、LSIの劣化が進んだ
場合には警報信号が発せられ、それを適切に処理するこ
とによってシステムに故障の起こる以前に対処すること
ができるようになる。
As described above, in the semiconductor device of this embodiment, one LSI in the system grasps the HC deterioration state based on the actual operation state of all the LSIs, and when the deterioration of the LSIs progresses, an alarm signal is issued. It will be issued and by treating it appropriately, it will be able to deal with the system before it fails.

【0038】なお、本実施例では図8に示すように動作
信号23,24を共通信号17とは別に設ける方式であ
ったが、共通信号の中の一部の信号を動作信号として用
いてもよい。その場合、信号数を削減できる。また、本
実施例では図8に示すように第1の実施例の半導体装置
を含むLSIがシステム内に一つだけある場合の方式で
あったが、システム内に複数設けてもよい。その場合シ
ステムの複雑度に応じて第1の実施例の半導体装置を含
むLSIを設計しなおさずに、追加で第1の実施例の半
導体装置を含むLSIを増設するだけでよくなる。
Although the operation signals 23 and 24 are provided separately from the common signal 17 as shown in FIG. 8 in this embodiment, a part of the common signals may be used as the operation signal. Good. In that case, the number of signals can be reduced. Further, in this embodiment, as shown in FIG. 8, there is only one LSI including the semiconductor device of the first embodiment in the system, but a plurality of LSIs may be provided in the system. In that case, it suffices to add an LSI including the semiconductor device of the first embodiment additionally without designing an LSI including the semiconductor device of the first embodiment according to the complexity of the system.

【0039】さらに、本実施例では半導体装置40を半
導体装置13に内蔵させる方式であったが、半導体装置
40のみを単独のLSIとする方式でもよい。
Further, although the semiconductor device 40 is built in the semiconductor device 13 in this embodiment, the semiconductor device 40 alone may be a single LSI.

【0040】[0040]

【発明の効果】第1の発明の半導体装置によれば、信号
遅延パスがそれを搭載した個々のLSIが実際に使用さ
れる状態でHC劣化をおこして回路特性の変化を累積し
ていき、その変化がしきい値を越えると警報を発するの
で、しきい値を適切に選ぶことによってLSIが故障を
起こす前に故障発生が近いことを知ることが可能とな
り、システムダウンなどの重大な事態を回避できるよう
になる。また個々のLSIの使用状態による寿命の差も
考慮でき、従来のように設計時に過度に信頼性マージン
を含めた設計をせずにすむようになるため、LSIの高
性能化も同時に実現可能となる。
According to the semiconductor device of the first aspect of the invention, the signal delay path causes HC deterioration in a state where the individual LSIs on which the signal delay path is mounted is actually used, and changes in circuit characteristics are accumulated. When the change exceeds the threshold value, an alarm is issued. By selecting the threshold value properly, it becomes possible to know that a failure will occur before the LSI fails, and a serious situation such as a system down will occur. You can avoid it. In addition, it is possible to take into consideration the difference in the life of individual LSIs depending on the usage state, and it is not necessary to design excessively including a reliability margin at the time of design as in the past, so that high performance of LSIs can be realized at the same time. .

【0041】第2の発明の半導体装置によれば、Nチャ
ネルMOSトランジスタがそれを搭載した個々のLSI
が実際に使用される状態でHC劣化をおこして回路特性
の変化を出力する。この出力を監視しておくことによっ
てLSIが故障を起こす前に故障発生が近いことを知る
ことが可能となり、システムダウンなどの重大な事態を
回避できるようになる。また個々のLSIの使用状態に
よる寿命の差も考慮でき、従来のように設計時に過度に
信頼性マージンを含めた設計をせずにすむようになるた
め、LSIの高性能化も同時に実現可能となる。
According to the semiconductor device of the second invention, an N-channel MOS transistor is mounted in an individual LSI.
Causes deterioration of the HC in a state where it is actually used and outputs a change in circuit characteristics. By monitoring this output, it becomes possible to know that a failure will occur soon before the LSI fails and a serious situation such as system down can be avoided. In addition, it is possible to take into consideration the difference in the life of individual LSIs depending on the usage state, and it is not necessary to design excessively including a reliability margin at the time of design as in the past, so that high performance of LSIs can be realized at the same time. .

【0042】第3の発明の半導体装置によれば、A/D
コンバータによってデジタル出力が得られるためデジタ
ル信号処理LSIへの搭載が容易に行えるようになる。
According to the semiconductor device of the third invention, the A / D
Since a digital output is obtained by the converter, it can be easily mounted on a digital signal processing LSI.

【0043】第4の発明の半導体装置によれば、システ
ム内の特定のLSIで全LSIの実動作状態に基づくH
C劣化状況を把握しておき、LSIの劣化が進んだ場合
には警報信号が発せられ、それを適切に処理することに
よってシステムに故障の起こる以前に対処することがで
きるため、システムダウンなどの重大な事態を回避でき
るようになる。またシステムを構成する個々のLSIの
使用状態による寿命の差も考慮でき、従来のように設計
時に過度に信頼性マージンを含めた設計をせずにすむよ
うになるため、各LSIの高性能化も同時に実現可能と
なる。
According to the semiconductor device of the fourth invention, the H based on the actual operating state of all the LSIs in a particular LSI in the system.
C If the deterioration situation of the LSI is known and a deterioration of the LSI progresses, an alarm signal is issued, and by appropriately processing it, it is possible to deal with it before a system failure occurs. You will be able to avoid a serious situation. In addition, it is possible to take into consideration the difference in the lifespan of the individual LSIs that make up the system, depending on the usage state, and it is possible to avoid designing with excessive reliability margins at the time of design as in the past, thus improving the performance of each LSI. It will be possible at the same time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における回路構成を示す
ブロック図
FIG. 1 is a block diagram showing a circuit configuration according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施例における累積動作時間と信号遅延パス
の遅延との間の関係図
FIG. 2 is a relationship diagram between the cumulative operating time and the delay of the signal delay path in the embodiment.

【図3】同実施例における累積動作時間と信号遅延パス
の遅延との間の関係図
FIG. 3 is a relationship diagram between the cumulative operating time and the delay of the signal delay path in the embodiment.

【図4】本発明の第2の実施例における回路図FIG. 4 is a circuit diagram of a second embodiment of the present invention.

【図5】同実施例におけるMOSトランジスタ特性説明
FIG. 5 is an explanatory diagram of MOS transistor characteristics in the same embodiment.

【図6】同実施例における各部の信号図FIG. 6 is a signal diagram of each part in the embodiment.

【図7】本発明の第3の実施例における回路構成を示す
ブロック図
FIG. 7 is a block diagram showing a circuit configuration according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第4の実施例における回路構成を示す
ブロック図
FIG. 8 is a block diagram showing a circuit configuration according to a fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2,41 信号遅延パス 3 比較手段 4 警報信号生成手段 5 NチャネルMOSトランジスタ 6,7,8,9 スイッチ 10 劣化時負荷手段 11 劣化量検出時負荷手段 12 処理装置 13,14,15,31,40 半導体装置 16 共通バス 17 共通信号 22,23,24 動作信号 30 半導体基板 32 A/Dコンバータ 1, 2 and 41 Signal delay path 3 Comparing means 4 Alarm signal generating means 5 N-channel MOS transistor 6, 7, 8, 9 Switch 10 Degradation load means 11 Degradation amount detection load means 12 Processing device 13, 14, 15, 31, 40 Semiconductor device 16 Common bus 17 Common signal 22, 23, 24 Operation signal 30 Semiconductor substrate 32 A / D converter

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01R 31/28 H01L 21/66 F 7735−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G01R 31/28 H01L 21/66 F 7735-4M

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】異なる遅延の経時変化率を有する複数の信
号遅延パスと、比較手段と、警報信号生成手段とを有
し、 信号が前記信号遅延パスにそれぞれ入力され、前記信号
遅延パスの出力は比較手段にそれぞれ入力され、前記比
較手段は前記信号遅延パスの出力の位相関係に応じた比
較結果を出力し、前記比較手段の出力は前記警報信号生
成手段に入力され、前記警報信号生成手段が前記比較手
段の出力に応じた警報信号を出力することを特徴とする
半導体装置。
1. A plurality of signal delay paths having different delay aging rates, a comparison means, and an alarm signal generation means, wherein signals are respectively input to the signal delay paths and outputs of the signal delay paths. Are respectively input to the comparing means, the comparing means outputs a comparison result according to the phase relationship of the output of the signal delay path, the output of the comparing means is input to the alarm signal generating means, and the alarm signal generating means. Outputs a warning signal according to the output of the comparison means.
【請求項2】NチャネルMOSトランジスタと、劣化時
負荷手段と、劣化量検出時負荷手段とを有し、 前記NチャネルMOSトランジスタのソース端子は接地
され、劣化時に前記NチャネルMOSトランジスタのド
レイン端子と前記劣化時負荷手段が接続され、劣化時に
前記NチャネルMOSトランジスタのゲート端子と劣化
時入力信号が接続され、劣化量検出時に前記Nチャネル
MOSトランジスタのドレイン端子と前記劣化量検出時
負荷手段が接続され、劣化量検出時に前記NチャネルM
OSトランジスタのゲート端子と劣化量検出時入力信号
が接続され、劣化量は前記NチャネルMOSトランジス
タのドレイン端子電圧の変化として出力されることを特
徴とする半導体装置。
2. A N-channel MOS transistor, a deterioration load means, and a deterioration amount detection load means, the source terminal of the N-channel MOS transistor is grounded, and the drain terminal of the N-channel MOS transistor is deteriorated. And the deterioration-time load means are connected, the gate terminal of the N-channel MOS transistor is connected to the deterioration-time input signal at the time of deterioration, and the drain terminal of the N-channel MOS transistor and the deterioration-time-detection load means are detected at the time of deterioration amount detection. The N channel M is connected when the deterioration amount is detected.
A semiconductor device, wherein a gate terminal of an OS transistor is connected to an input signal at the time of detecting a deterioration amount, and the deterioration amount is output as a change in a drain terminal voltage of the N-channel MOS transistor.
【請求項3】少なくともA/Dコンバータと、請求項2
記載の半導体装置とを有し、前記A/Dコンバータと、
前記半導体装置とが一つの半導体基板上に形成され、前
記半導体装置の出力は前記A/Dコンバータのアナログ
入力に入力され、前記A/Dコンバータからデジタル出
力が得られることを特徴とする半導体装置。
3. At least an A / D converter, and 2.
A semiconductor device described in the above, and the A / D converter,
The semiconductor device and the semiconductor device are formed on one semiconductor substrate, the output of the semiconductor device is input to an analog input of the A / D converter, and a digital output is obtained from the A / D converter. .
【請求項4】請求項1記載の半導体装置と少なくとも一
つの半導体集積回路とが共通バスに接続されているシス
テムにおいて、前記半導体装置には前記半導体集積回路
の動作信号が共通バスを介して入力され、前記動作信号
は前記半導体装置の信号遅延パスの入力となることを特
徴とするシステム。
4. A system in which the semiconductor device according to claim 1 and at least one semiconductor integrated circuit are connected to a common bus, and an operation signal of the semiconductor integrated circuit is input to the semiconductor device via the common bus. The operation signal is input to a signal delay path of the semiconductor device.
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