JPH08124721A - Potentiometer - Google Patents

Potentiometer

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JPH08124721A
JPH08124721A JP26399494A JP26399494A JPH08124721A JP H08124721 A JPH08124721 A JP H08124721A JP 26399494 A JP26399494 A JP 26399494A JP 26399494 A JP26399494 A JP 26399494A JP H08124721 A JPH08124721 A JP H08124721A
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insulator
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potentiometer
contacts
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Eitaro Shimoda
栄太郎 下田
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SAKAE TSUSHIN KOGYO CO Ltd
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SAKAE TSUSHIN KOGYO CO Ltd
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Abstract

PURPOSE: To remarkably prolong the service life of a potentiometer by providing a plurality of contact pieces in parallel with each other in the width direction of a resistor to form a contact, and, at the same time, a hard insulator to part of the resistor. CONSTITUTION: A resistor 1 is fixed to a prescribed part of the panel of a potentiometer and the contact 87 of the potentiometer is brought into contact with the surface of the resistor 1. The contact 87 is formed by arranging a plurality of contact pieces in parallel with each other in the width direction of the resistor 1. In addition, an insulator 2 having, for example, a rhombic shape is provided on the surface of the resistor 1. The insulator 2 is made of a material having an arbitrary hardness and an arbitrary thickness and applied to, printed on, stuck to, or buried in the resistor 1 so that the insulator 2 can be worn out and the resistor 1 below the insulator 2 can be exposed before the resistor 1 is completely worn out by the contact 87 which slides on the resistor 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば自動制御装置で
位置の検出等に使用されるポテンショメータに関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a potentiometer used for position detection or the like in an automatic control device.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば自動制御装置における位置の検出
等においては、ポテンショメータが数多く使用されてい
る。すなわちこのようなポテンショメータは、自動制御
装置の駆動部分の回転軸または移動軸等に接続され、こ
の部分が駆動された際の回転軸または移動軸等の回転量
または移動量等を抵抗値の変化として出力するようにさ
れたものである。
2. Description of the Related Art A lot of potentiometers are used in, for example, position detection in an automatic control device. That is, such a potentiometer is connected to a rotary shaft or a moving shaft of a drive portion of the automatic control device, and changes the resistance value of the rotating amount or the moving amount of the rotary shaft or the moving shaft when the portion is driven. Is output as.

【0003】そこでこのようなポテンショメータとして
は、例えば図8に示すような装置が用いられている。す
なわち図8は回転形のポテンショメータの例を示す。こ
の図8において、81はシャフトである。このシャフト
81はパネル82及び裏蓋83に設けられたメタルまた
はボールベアリング84によって回転自在に保持されて
いる。
Therefore, as such a potentiometer, for example, a device as shown in FIG. 8 is used. That is, FIG. 8 shows an example of a rotary potentiometer. In FIG. 8, reference numeral 81 is a shaft. The shaft 81 is rotatably held by a metal or ball bearing 84 provided on the panel 82 and the back cover 83.

【0004】このシャフト81に絶縁リング85を介し
て摺動アーム86が設けられ、この摺動アーム86の先
端部に接点87が設けられる。なお接点87は複数の接
触子が並列して設けられた多岐接点である。さらに、摺
動アーム86と連結されたスリップリングにはワイパー
88が接触され、摺動アーム86とこのワイパー88を
通じて接点87が外部端子89に接続される。
A sliding arm 86 is provided on the shaft 81 via an insulating ring 85, and a contact 87 is provided at the tip of the sliding arm 86. The contact 87 is a multipoint contact provided with a plurality of contacts arranged in parallel. Further, the wiper 88 is brought into contact with the slip ring connected to the sliding arm 86, and the contact 87 is connected to the external terminal 89 through the sliding arm 86 and the wiper 88.

【0005】また、90は、ポテンショメータ内に略円
周状または円弧状に形成される抵抗体を示す。この抵抗
体90は図9に示すように、母材91の上に皮膜抵抗9
2が設けられて成る。そしてこの母材91がパネル82
に固定されて、抵抗体90がポテンショメータ内に設置
されている。
Reference numeral 90 denotes a resistor formed in the potentiometer in a substantially circumferential shape or an arc shape. As shown in FIG. 9, this resistor 90 has a film resistance 9 on a base material 91.
2 are provided. And this base material 91 is the panel 82
And the resistor 90 is installed in the potentiometer.

【0006】従ってこの装置において、接点87が抵抗
体90の任意の位置に接触されることにより、その位置
に応じた抵抗値が外部端子89に取り出される。そして
シャフト81が任意に回転されることにより、その回転
に応じて外部端子89に取り出される抵抗値が変化され
る。
Therefore, in this device, the contact 87 is brought into contact with an arbitrary position of the resistor 90, and the resistance value corresponding to the position is taken out to the external terminal 89. The shaft 81 is arbitrarily rotated, and the resistance value taken out to the external terminal 89 is changed according to the rotation.

【0007】なお、自動制御装置に用いられるポテンシ
ョメータとしては、上述の回転形のポテンショメータの
他に、直線状の移動量を検出するものも実施されてい
る。すなわちこのような直線形のポテンショメータにお
いては、例えば図10に示すようにシャフト81が直線
状に往復摺動自在に設けられ、この摺動方向に沿って抵
抗体90が直線状に形成される。そしてこの抵抗体90
の上をシャフト81に設けられた接点87が直線状に摺
動されて、シャフト81に接続された移動軸の移動量が
抵抗値の変化として出力される。
As the potentiometer used in the automatic control device, in addition to the rotary potentiometer described above, one that detects a linear movement amount is also implemented. That is, in such a linear potentiometer, for example, as shown in FIG. 10, a shaft 81 is linearly reciprocally slidably provided, and a resistor 90 is linearly formed along the sliding direction. And this resistor 90
The contact 87 provided on the shaft 81 is slid linearly on the above, and the amount of movement of the moving shaft connected to the shaft 81 is output as a change in resistance value.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところでこのようなポ
テンショメータを使用する場合に、一般に自動制御装置
の設計では、接点87が抵抗体90のできるだけ広い範
囲を摺動するように設計が行われる。
When using such a potentiometer, generally, in the design of an automatic control device, the contact 87 is designed to slide over as wide a range as possible of the resistor 90.

【0009】しかし実際の動作に当たっては一部のみが
摺動される場合もあり、特に装置の動作が目標点の近傍
でハンチングを生じるような場合には、接点87が抵抗
体90の一部を繰り返し摺動することになる。また、装
置全体が振動を受けているような場合にも、接点87は
抵抗体90の一部を繰り返し摺動することになる。
However, in actual operation, only a part of the resistor may be slid, and especially when the operation of the device causes hunting in the vicinity of the target point, the contact 87 causes a part of the resistor 90 to be moved. It will slide repeatedly. Further, even when the entire device is subjected to vibration, the contact 87 repeatedly slides on a part of the resistor 90.

【0010】そしてこのように抵抗体90の一部が繰り
返し摺動されていると、図11に示すように、この部分
の抵抗体90の皮膜抵抗92の磨耗が激しくなる。そし
てこの磨耗が母材91に達すると、この母材91は絶縁
体で形成されているために、ポテンショメータとしての
機能を果たせなくなってしまう。
When a part of the resistor 90 is repeatedly slid in this way, as shown in FIG. 11, the film resistor 92 of the resistor 90 in this part is abraded severely. When this wear reaches the base material 91, the base material 91 cannot function as a potentiometer because it is made of an insulator.

【0011】すなわち図12は、図11のB−B′線に
よる断面を示めす。この図12において磨耗が母材91
に達すると、接点87の先端は母材91に接触し、皮膜
抵抗92とは側部の不安定な接触しか得られなくなる。
ここで接点87は良導体で形成され、一部でも皮膜抵抗
92と接触していれば機能するが、側部の接触だけでは
不安定であり、ポテンショメータとしての機能を果たせ
ないものである。
That is, FIG. 12 shows a cross section taken along the line BB 'of FIG. In FIG. 12, the abrasion is the base material 91.
When the contact point reaches, the tip of the contact 87 comes into contact with the base material 91, and only unstable side contact is obtained with the film resistor 92.
Here, the contact 87 is formed of a good conductor and functions even if a part thereof is in contact with the film resistor 92, but it is unstable only by the contact of the side portion and cannot function as a potentiometer.

【0012】従って上述のような従来の装置では、抵抗
体90の一部が繰り返し摺動されることによってこの部
分の皮膜抵抗92の磨耗が激しくなる。このため他の部
分の皮膜抵抗92が正常であっても、この一部の磨耗の
ためにポテンショメータとしての機能を果たせなくな
り、装置の寿命が著しく短くされてしまうものであっ
た。
Therefore, in the conventional device as described above, a part of the resistor 90 is repeatedly slid, so that the film resistor 92 in this part is abraded. For this reason, even if the film resistance 92 of the other part is normal, due to the wear of this part, the function as a potentiometer cannot be fulfilled, and the life of the device is remarkably shortened.

【0013】これに対しては、例えば皮膜抵抗92を形
成する抵抗ペーストにアルミナ、ガラス等の粉末を混入
して、抵抗体90の表面を硬くし、抵抗体90そのもの
の耐磨耗性を高めることも行われるが、寿命を何倍も延
ばせるようなものではなく、効果の割合は低いものであ
った。
On the other hand, for example, a powder of alumina, glass or the like is mixed in the resistance paste forming the film resistor 92 to harden the surface of the resistor 90 and enhance the abrasion resistance of the resistor 90 itself. However, it was not something that could extend the life span many times, and the effect rate was low.

【0014】この出願はこのような点に鑑みて成された
ものであって、解決しようとする問題点は、抵抗体の一
部が繰り返し摺動されることによってこの部分の皮膜抵
抗の磨耗が激しくなり、この一部の磨耗のためにポテン
ショメータとしての機能を果たせなくなって、装置の寿
命が著しく短くされてしまうというものである。
This application has been made in view of such a point, and the problem to be solved is that the resistance of the film resistance of this portion is abraded by the repeated sliding of a part of the resistor. It becomes violent, and due to this part of wear, it cannot function as a potentiometer and the life of the device is significantly shortened.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明による第1の手段
は、略円周状または円弧状、あるいは直線状に抵抗体1
が形成され、この抵抗体に接点87が接触されて、この
接点の摺動に応じて抵抗値が変化される構成を有するポ
テンショメータにおいて、上記接点は複数の接触子7a
〜7hが上記抵抗体の幅方向に並列して設けられて成る
と共に、上記抵抗体の一部に硬質の絶縁体2が設けられ
て成ることを特徴とするポテンショメータである。
The first means according to the present invention is a resistor 1 having a substantially circular shape, an arc shape, or a linear shape.
Is formed, and the contact 87 is brought into contact with the resistor, and the resistance value is changed according to the sliding of the contact. In the potentiometer, the contact has a plurality of contacts 7a.
7h is provided in parallel in the width direction of the resistor, and a hard insulator 2 is provided in a part of the resistor, which is a potentiometer.

【0016】本発明による第2の手段は、第1の手段記
載のポテンショメータにおいて、上記絶縁体2は、上記
接点87の並列する角度とは異なる角度で上記抵抗体1
の幅方向に設けられて成ることを特徴とするポテンショ
メータである。
A second means according to the present invention is the potentiometer according to the first means, wherein the insulator 2 is at an angle different from the parallel angle of the contacts 87.
The potentiometer is provided in the width direction of the.

【0017】本発明による第3の手段は、第1の手段記
載のポテンショメータにおいて、上記絶縁体2は、上記
抵抗体1を幅方向に複数に分割して、その分割の一つ以
上に設けられて成ることを特徴とするポテンショメータ
である。
According to a third aspect of the present invention, in the potentiometer according to the first aspect, the insulator 2 is provided by dividing the resistor 1 into a plurality of pieces in the width direction and providing at least one of the divisions. It is a potentiometer characterized by comprising:

【0018】本発明による第4の手段は、第1または2
または3の手段記載のポテンショメータにおいて、上記
絶縁体2は塗布、印刷、張り付け、若しくは埋め込みに
て設けられ、少なくとも上記絶縁体が設けられてない部
分の上記抵抗体1が上記接点87の摺動によって全て磨
耗される前に、上記絶縁体が磨耗されて上記絶縁体の下
の上記抵抗体が露出されるようにして成ることを特徴と
するポテンショメータである。
A fourth means according to the present invention is the first or second means.
Alternatively, in the potentiometer according to the third means, the insulator 2 is provided by coating, printing, pasting, or embedding, and at least the portion of the resistor 1 not provided with the insulator is slid by the contact 87. A potentiometer, characterized in that the insulator is abraded to expose the resistor under the insulator before all are abraded.

【0019】本発明による第5の手段は、第1または2
または3または4の手段記載のポテンショメータにおい
て、上記絶縁体2は、少なくとも上記接点87が繰り返
し摺動されると見做される部分に設けられて成ることを
特徴とするポテンショメータである。
The fifth means according to the present invention is the first or second means.
Alternatively, the potentiometer according to the means of 3 or 4 is characterized in that the insulator 2 is provided at least at a portion where the contact 87 is considered to be repeatedly slid.

【0020】[0020]

【作用】これによれば、接点は複数の接触子が抵抗体の
幅方向に並列して設けられると共に、抵抗体の一部に硬
質の絶縁体が設けられることによって、硬質の絶縁体の
下側の抵抗体は絶縁体が磨耗するまで磨耗することがな
く、絶縁体の磨耗後にこの下側の抵抗体が使用されるこ
とで寿命を大幅に延ばすことができる。
According to this, the contact has a plurality of contacts arranged side by side in the width direction of the resistor, and a hard insulator is provided on a part of the resistor, so that The resistor on the side does not wear until the insulator wears, and after the insulator wears, the lower resistor is used, so that the life can be greatly extended.

【0021】[0021]

【実施例】以下に図面を参照しながら、本発明の各実施
例について説明しよう。なお以下の説明では、本発明の
ポテンショメータの特徴である抵抗体の構成について図
面を用いて説明するが、全体のポテンショメータの構成
は、上述の従来技術で説明した装置と同様である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description, the configuration of the resistor, which is a feature of the potentiometer of the present invention, will be described with reference to the drawings, but the overall configuration of the potentiometer is the same as that of the device described in the above-mentioned related art.

【0022】図1において、1は回転形あるいは直線形
のポテンショメータ内に略円周状または円弧状、あるい
は直線状に形成される抵抗体を示す。この抵抗体1は、
上述のポテンショメータのパネル(図示せず)の所定部
に固定されている。そしてこの抵抗体1の表面にポテン
ショメータの接点(多岐接点)87が接触される。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a resistor formed in a rotary or linear potentiometer in a substantially circumferential shape, an arc shape, or a linear shape. This resistor 1
It is fixed to a predetermined portion of the above-mentioned potentiometer panel (not shown). Then, the contact (multipoint contact) 87 of the potentiometer is brought into contact with the surface of the resistor 1.

【0023】これによって接点87が抵抗体1の任意の
位置に接触されることにより、その位置に応じた抵抗値
が外部端子(図示せず)に取り出される。そしてシャフ
ト(図示せず)が任意に回転、あるいは移動されること
により、その回転、あるいは移動に応じて外部端子に取
り出される抵抗値が変化される。
As a result, the contact 87 is brought into contact with an arbitrary position of the resistor 1, and a resistance value corresponding to the position is taken out to an external terminal (not shown). The shaft (not shown) is arbitrarily rotated or moved, so that the resistance value taken out to the external terminal is changed according to the rotation or the movement.

【0024】そしてさらにこの装置において、抵抗体1
の表面に、例えば図示のように菱形の形状に絶縁体2が
設けられる。ここでこの絶縁体2は、例えば塗布、印
刷、張り付け、若しくは埋め込みにて設けられ、少なく
とも抵抗体1が接点87の摺動によって全て磨耗される
前に、絶縁体2が磨耗されて絶縁体2の下の抵抗体1が
露出されるように、任意の硬質の物質で任意の厚さに形
成される。
Further, in this device, the resistor 1
On the surface of, the insulator 2 is provided, for example, in the shape of a rhombus as illustrated. Here, the insulator 2 is provided, for example, by coating, printing, pasting, or embedding, and at least before the resistor 1 is completely abraded by the sliding of the contact 87, the insulator 2 is abraded and the insulator 2 is abraded. It is formed of an arbitrary hard material in an arbitrary thickness so that the lower resistor 1 is exposed.

【0025】すなわち図2は図1のA−A′線による断
面を示す。この図2のAにおいて、抵抗体1は母材3の
上に皮膜抵抗4が設けられて成る。そしてこの母材3が
パネル82に固定されて、抵抗体1がポテンショメータ
内に設置されている。さらにこの皮膜抵抗4の上に、絶
縁体2は、例えば塗布、印刷、張り付け、若しくは埋め
込みにて設けられる。
That is, FIG. 2 shows a cross section taken along the line AA 'in FIG. In FIG. 2A, the resistor 1 is formed by providing a film resistor 4 on a base material 3. The base material 3 is fixed to the panel 82, and the resistor 1 is installed in the potentiometer. Furthermore, the insulator 2 is provided on the film resistor 4 by, for example, coating, printing, pasting, or embedding.

【0026】従ってこの装置において、シャフト(図示
せず)の回転、あるいは移動に応じて接点87の接触子
7a〜7hが摺動され、その摺動位置に応じた抵抗値が
外部端子(図示せず)に取り出される。それと共に図2
のBに示すように、接点87の摺動によって母材3の上
の皮膜抵抗4が磨耗される。
Therefore, in this apparatus, the contacts 7a to 7h of the contact 87 are slid in accordance with the rotation or movement of the shaft (not shown), and the resistance value according to the sliding position is the external terminal (not shown). Be taken out). Along with that, Fig. 2
As indicated by B, the contact resistance 87 causes the film resistance 4 on the base material 3 to be worn away.

【0027】ところがこの場合に、例えば接触子7a、
7c〜7f、7hが直接接触される皮膜抵抗4の部分は
磨耗が激しいものの、絶縁体2が設けられた部分では接
触子7b、7gは絶縁体2の上を摺動され、この部分の
皮膜抵抗4には図中に示すように磨耗が発生していな
い。
However, in this case, for example, the contact 7a,
Although the portion of the film resistor 4 with which 7c to 7f and 7h are directly contacted is heavily worn, the contacts 7b and 7g are slid on the insulator 2 in the portion where the insulator 2 is provided, and the film of this portion is formed. The resistor 4 is not worn as shown in the figure.

【0028】そして図2のCに示すように、例えば接触
子7a、7c〜7f、7hによる磨耗が母材3に達する
と、これらの接触子7a、7c〜7f、7hは母材3に
接触し、これらの接触子7a、7c〜7f、7hと皮膜
抵抗4とは側部の不安定な接触しか得られなくなる。
Then, as shown in FIG. 2C, for example, when abrasion due to the contacts 7a, 7c to 7f, 7h reaches the base material 3, these contacts 7a, 7c to 7f, 7h contact the base material 3. However, these contactors 7a, 7c to 7f, 7h and the film resistor 4 can only obtain unstable side contact.

【0029】しかしこの時、接触子7b、7gによって
皮膜抵抗4の上に設けられた絶縁体2が磨耗され、これ
らの絶縁体2の下の皮膜抵抗4が接触子7b、7gに接
触される。そしてこの接触子7b、7gと皮膜抵抗4と
の接触によって、ポテンショメータとしての機能が保た
れるものである。
However, at this time, the insulators 2 provided on the film resistors 4 are worn by the contacts 7b and 7g, and the film resistors 4 under these insulators 2 are brought into contact with the contacts 7b and 7g. . The function of the potentiometer is maintained by the contact between the contacts 7b and 7g and the film resistor 4.

【0030】すなわちこの装置において、皮膜抵抗4の
一部が全て磨耗された後で絶縁体2の下の皮膜抵抗4が
有効とされ、この絶縁体2の下の皮膜抵抗4が全て磨耗
されるまでポテンショメータとしての機能が保たれる。
従ってポテンショメータの寿命は略2倍に延ばされ、例
えば動作のハンチングや振動を受けて抵抗体1の一部が
繰り返し摺動されるような場合にも、装置の寿命を充分
に長くすることができる。
That is, in this apparatus, the film resistance 4 under the insulator 2 is made effective after a part of the film resistance 4 is completely worn, and all the film resistance 4 under the insulator 2 is worn. The function as a potentiometer is maintained.
Therefore, the life of the potentiometer is approximately doubled, and the life of the device can be sufficiently lengthened even when a part of the resistor 1 is repeatedly slid due to hunting or vibration during operation. it can.

【0031】こうして上述の装置によれば、接点87は
複数の接触子7a〜7hが抵抗体1の幅方向に並列して
設けられると共に、抵抗体1の一部に硬質の絶縁体2が
設けられることによって、硬質の絶縁体2の下側の抵抗
体1は絶縁体2が磨耗するまで磨耗することがなく、絶
縁体2の磨耗後にこの下側の抵抗体1が使用されること
で寿命を大幅に延ばすことができるものである。
Thus, according to the above-mentioned device, the contact 87 is provided with the plurality of contacts 7a to 7h arranged in parallel in the width direction of the resistor 1, and the hard insulator 2 is provided on a part of the resistor 1. By doing so, the resistor 1 on the lower side of the hard insulator 2 does not wear until the insulator 2 wears, and after the insulator 2 wears, the resistor 1 on the lower side is used, so that the life is reduced. Can be significantly extended.

【0032】なお上述の装置において、絶縁体2の形状
は、例えば図3に示すように斜めのストライプ状に設け
てもよい。この場合に、絶縁体2は接点87の複数の接
触子7a〜7hが並列する角度とは異なる角度で抵抗体
1の幅方向に設けられる。これによって、絶縁体2上を
接触子7a〜7hが平均的に摺動され、特定の接触子7
a〜7hの磨耗によって装置の寿命が短くなるようなこ
とがなくなる。
In the above-mentioned device, the insulator 2 may be provided in a diagonal stripe shape as shown in FIG. 3, for example. In this case, the insulator 2 is provided in the width direction of the resistor 1 at an angle different from the angle at which the plurality of contacts 7a to 7h of the contact 87 are arranged in parallel. As a result, the contacts 7a to 7h are slid evenly on the insulator 2 and the specific contacts 7
The wear of a to 7 h does not shorten the life of the device.

【0033】また絶縁体2はストライプ状に限らず、球
状の絶縁材の粒子が上述の異なる角度に沿って配列され
るようにしてもよい。さらに図4に示すように、絶縁体
2を市松状に設けるようにしてもよい。この場合も絶縁
体2は上述の異なる角度に沿って配列されているもので
ある。
The insulator 2 is not limited to the stripe shape, and spherical particles of the insulating material may be arranged along the different angles described above. Further, as shown in FIG. 4, the insulator 2 may be provided in a checkered pattern. Also in this case, the insulators 2 are arranged along the different angles described above.

【0034】さらに図5は他の実施例の構成を示す。こ
の図5において、51はポテンショメータ内に略円周状
または円弧状、あるいは直線状に形成される抵抗体を示
す。この抵抗体51は母材53の上に皮膜抵抗54が設
けられて成る。そしてこの母材53が上述のポテンショ
メータのパネル(図示せず)の所定部に固定されてい
る。さらにこの抵抗体51の表面にポテンショメータの
接点(多岐接点)87が接触される。
Further, FIG. 5 shows the configuration of another embodiment. In FIG. 5, reference numeral 51 denotes a resistor formed in the potentiometer in a substantially circumferential shape, an arc shape, or a linear shape. The resistor 51 includes a base material 53 and a film resistor 54 provided on the base material 53. The base material 53 is fixed to a predetermined portion of the above-mentioned potentiometer panel (not shown). Further, the contact (multipoint contact) 87 of the potentiometer is brought into contact with the surface of the resistor 51.

【0035】これによって接点87が抵抗体51の任意
の位置に接触されることにより、その位置に応じた抵抗
値が外部端子(図示せず)に取り出される。そしてシャ
フト(図示せず)が任意に回転、あるいは移動されるこ
とにより、その回転、あるいは移動に応じて外部端子に
取り出される抵抗値が変化される。
As a result, the contact 87 is brought into contact with an arbitrary position of the resistor 51, and a resistance value corresponding to the position is taken out to an external terminal (not shown). The shaft (not shown) is arbitrarily rotated or moved, so that the resistance value taken out to the external terminal is changed according to the rotation or the movement.

【0036】そしてさらにこの装置において、抵抗体5
1が幅方向に複数に分割され、その分割の一つ以上の抵
抗体51の表面に絶縁体52が設けられる。ここでこの
絶縁体52は、例えば塗布、印刷、張り付け、若しくは
埋め込みにて設けられ、少なくとも抵抗体51が接点8
7の摺動によって全て磨耗される前に、絶縁体52が磨
耗されて絶縁体52の下の抵抗体51が露出されるよう
に、任意の硬質の物質で任意の厚さに形成される。
Further, in this device, the resistor 5
1 is divided into a plurality in the width direction, and an insulator 52 is provided on the surface of one or more resistors 51 of the division. Here, the insulator 52 is provided by, for example, coating, printing, pasting, or embedding, and at least the resistor 51 is used as the contact 8
It is made of any hard material and of any thickness so that the insulator 52 is abraded and the resistor 51 underneath the insulator 52 is exposed before it is entirely abraded by the sliding of 7.

【0037】すなわち図6は図5の装置の断面を示め
す。この図6のAにおいて、抵抗体51は、その母材5
3がパネル82に固定されてポテンショメータ内に設置
されている。さらに皮膜抵抗54の上に、絶縁体52が
例えば塗布、印刷、張り付け、若しくは埋め込みにて設
けられる。
That is, FIG. 6 shows a cross section of the device of FIG. In FIG. 6A, the resistor 51 has the base material 5
3 is fixed to the panel 82 and installed in the potentiometer. Further, the insulator 52 is provided on the film resistor 54 by, for example, coating, printing, pasting, or embedding.

【0038】従ってこの装置において、シャフト(図示
せず)の回転、あるいは移動に応じて接点87の接触子
7a〜7hが摺動され、その摺動位置に応じた抵抗値が
外部端子(図示せず)に取り出される。それと共に図6
のBに示すように、接点87の摺動によって母材53の
上の皮膜抵抗54が磨耗される。
Therefore, in this apparatus, the contacts 7a to 7h of the contact 87 are slid in accordance with the rotation or movement of the shaft (not shown), and the resistance value according to the sliding position is the external terminal (not shown). Be taken out). Along with that, FIG.
As indicated by B, the contact resistance 87 causes the film resistance 54 on the base material 53 to be worn.

【0039】ところがこの場合に、例えば接触子7a〜
7dが直接接触される皮膜抵抗54の部分は磨耗が激し
いものの、絶縁体52が設けられた部分では接触子7e
〜7hは絶縁体52の上を摺動され、この部分の皮膜抵
抗54には図中に示すように磨耗が発生していない。
However, in this case, for example, the contacts 7a ...
Although the portion of the film resistor 54 with which 7d is directly contacted is heavily worn, the contactor 7e is provided at the portion where the insulator 52 is provided.
7h is slid on the insulator 52, and the film resistor 54 in this portion is not worn as shown in the figure.

【0040】そして図6のCに示すように、例えば接触
子7a〜7dによる磨耗が母材53に達すると、これら
の接触子7a〜7dは母材53に接触し、これらの接触
子7a〜7dと皮膜抵抗54とは側部の不安定な接触し
か得られなくなる。
Then, as shown in FIG. 6C, for example, when the wear due to the contacts 7a to 7d reaches the base material 53, the contacts 7a to 7d come into contact with the base material 53, and the contacts 7a to 7d. 7d and the film resistor 54 can only obtain an unstable side contact.

【0041】しかしこの時、接触子7e〜7hよって皮
膜抵抗54の上に設けられた絶縁体52が磨耗され、こ
れらの絶縁体52の下の皮膜抵抗54が接触子7e〜7
hに接触される。そしてこの接触子7e〜7hと皮膜抵
抗54との接触によって、ポテンショメータとしての機
能が保たれるものである。
At this time, however, the insulators 52 provided on the film resistors 54 are worn by the contacts 7e to 7h, and the film resistors 54 below these insulators 52 contact the contacts 7e to 7h.
touched h. The function of the potentiometer is maintained by the contact between the contacts 7e to 7h and the film resistor 54.

【0042】すなわちこの装置において、皮膜抵抗54
の一部が全て磨耗された後で絶縁体52の下の皮膜抵抗
54が有効とされ、この絶縁体52の下の皮膜抵抗54
が全て磨耗されるまでポテンショメータとしての機能が
保たれる。従ってポテンショメータの寿命は略2倍に延
ばされ、例えば動作のハンチングや振動を受けて抵抗体
51の一部が繰り返し摺動されるような場合にも、装置
の寿命を充分に長くすることができる。
That is, in this device, the film resistance 54
The film resistor 54 under the insulator 52 is made effective after a part of the film is completely worn, and the film resistor 54 under the insulator 52 is made effective.
The function as a potentiometer is maintained until all are worn out. Therefore, the life of the potentiometer is approximately doubled, and the life of the device can be sufficiently lengthened even when a part of the resistor 51 is repeatedly slid due to hunting or vibration during operation. it can.

【0043】こうしてこの実施例においても、接点87
は複数の接触子7a〜7hが抵抗体51の幅方向に並列
して設けられると共に、抵抗体51の一部に硬質の絶縁
体52が設けられることによって、硬質の絶縁体52の
下側の抵抗体51は絶縁体52が磨耗するまで磨耗する
ことがなく、絶縁体52の磨耗後にこの下側の抵抗体5
1が使用されることで寿命を大幅に延ばすことができる
ものである。
Thus, also in this embodiment, the contact 87
The plurality of contacts 7a to 7h are provided in parallel in the width direction of the resistor 51, and the hard insulator 52 is provided in a part of the resistor 51. The resistor 51 does not wear until the insulator 52 wears, and after the insulator 52 wears, the resistor 5 on the lower side does not wear.
The use of No. 1 can greatly extend the life.

【0044】なお上述の装置において、例えば図7に示
すように抵抗体51を幅方向に三つに分割し、その分割
の二つの表面にそれぞれ異なる厚さの絶縁体52を設け
る。これによって最初に皮膜抵抗54が全て磨耗された
後で絶縁体52の薄い部分の下の皮膜抵抗54が有効と
され、さらにこの部分の皮膜抵抗54が全て磨耗された
後で絶縁体52の厚い部分の下の皮膜抵抗54が有効と
される。従ってポテンショメータの寿命は略3倍に延ば
され、装置の寿命を極めて長くすることができる。
In the above-described device, the resistor 51 is divided into three in the width direction, for example, as shown in FIG. 7, and the insulators 52 having different thicknesses are provided on the two surfaces of the division. This enables the film resistance 54 below the thin portion of the insulator 52 to be effective after all the film resistance 54 is first worn, and the thickness of the insulator 52 is further increased after all the film resistance 54 in this portion is worn. The film resistance 54 underneath the part is activated. Therefore, the life of the potentiometer is approximately tripled, and the life of the device can be made extremely long.

【0045】また、上述の装置において、抵抗体51を
幅方向に四つ以上に分割し、その分割の三つ以上の表面
にそれぞれ異なる厚さの絶縁体52を設けるようにして
もよい。これによってポテンショメータの寿命を4倍以
上に延ばすことができる。
Further, in the above-mentioned device, the resistor 51 may be divided into four or more pieces in the width direction, and the insulators 52 having different thicknesses may be provided on the three or more surfaces of the division. As a result, the life of the potentiometer can be extended four times or more.

【0046】さらに上述の各実施例において、絶縁体は
少なくとも接点87が繰り返し摺動されると見做される
部分に設けられていれば良いが、これはポテンショメー
タ内に略円周状または円弧状、あるいは直線状に形成さ
れる抵抗体の全体に亙って設けられるようにしてもよ
い。
Further, in each of the above-mentioned embodiments, the insulator may be provided at least at the portion where the contact 87 is considered to be repeatedly slid, but this is substantially circular or arcuate in the potentiometer. Alternatively, it may be provided over the entire linearly formed resistor.

【0047】[0047]

【発明の効果】この発明によれば、接点は複数の接触子
が抵抗体の幅方向に並列して設けられると共に、抵抗体
の一部に硬質の絶縁体が設けられることによって、硬質
の絶縁体の下側の抵抗体は絶縁体が磨耗するまで磨耗す
ることがなく、絶縁体の磨耗後にこの下側の抵抗体が使
用されることで寿命を大幅に延ばすことができるように
なった。
According to the present invention, a contact is provided with a plurality of contacts arranged in parallel in the width direction of the resistor, and a hard insulator is provided on a part of the resistor, so that a hard insulation is provided. The resistor underneath the body does not wear out until the insulator wears out, and the use of this resistor underneath the insulator after wear has allowed the lifetime to be significantly extended.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるポテンショメータの特徴である抵
抗体の一例の構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of an example of a resistor which is a feature of a potentiometer according to the present invention.

【図2】その説明のための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the explanation.

【図3】抵抗体の他の例の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of another example of a resistor.

【図4】抵抗体の他の例の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of another example of a resistor.

【図5】本発明によるポテンショメータの特徴である抵
抗体のさらに他の例の構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of still another example of a resistor which is a feature of the potentiometer according to the present invention.

【図6】その説明のための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the explanation.

【図7】抵抗体の他の例の構成図である。FIG. 7 is a configuration diagram of another example of a resistor.

【図8】本発明の適用される回転形のポテンショメータ
の全体の構成図である。
FIG. 8 is an overall configuration diagram of a rotary potentiometer to which the present invention is applied.

【図9】従来のポテンショメータに適用される抵抗体の
構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram of a resistor applied to a conventional potentiometer.

【図10】本発明の適用される直線形のポテンショメー
タの全体の構成図である。
FIG. 10 is an overall configuration diagram of a linear potentiometer to which the present invention is applied.

【図11】その説明のための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining that.

【図12】その説明のための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining the explanation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 抵抗体 2 絶縁体 3 母材 4 皮膜抵抗 82 パネル 87 接点(多岐接点) 7a〜7h 接触子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 resistor 2 insulator 3 base material 4 film resistance 82 panel 87 contact point (multipoint contact point) 7a to 7h contactor

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 略円周状または円弧状、あるいは直線状
に抵抗体が形成され、この抵抗体に接点が接触されて、
この接点の摺動に応じて抵抗値が変化される構成を有す
るポテンショメータにおいて、 上記接点は複数の接触子が上記抵抗体の幅方向に並列し
て設けられて成ると共に、上記抵抗体の一部に硬質の絶
縁体が設けられて成ることを特徴とするポテンショメー
タ。
1. A resistor is formed in a substantially circular shape, an arc shape, or a linear shape, and a contact is brought into contact with the resistor,
In a potentiometer having a configuration in which a resistance value is changed according to sliding of the contact, the contact includes a plurality of contacts arranged in parallel in a width direction of the resistor and a part of the resistor. A potentiometer, characterized in that a hard insulator is provided on the.
【請求項2】 請求項1記載のポテンショメータにおい
て、 上記絶縁体は、上記接点の並列する角度とは異なる角度
で上記抵抗体の幅方向に設けられて成ることを特徴とす
るポテンショメータ。
2. The potentiometer according to claim 1, wherein the insulator is provided in the width direction of the resistor at an angle different from the parallel angle of the contacts.
【請求項3】 請求項1記載のポテンショメータにおい
て、 上記絶縁体は、上記抵抗体を幅方向に複数に分割して、
その分割の一つ以上に設けられて成ることを特徴とする
ポテンショメータ。
3. The potentiometer according to claim 1, wherein the insulator divides the resistor into a plurality in the width direction,
A potentiometer characterized by being provided in one or more of the divisions.
【請求項4】 請求項1または2または3記載のポテン
ショメータにおいて、 上記絶縁体は塗布、印刷、張り付け、若しくは埋め込み
にて設けられ、少なくとも上記絶縁体が設けられてない
部分の上記抵抗体が上記接点の摺動によって全て磨耗さ
れる前に、上記絶縁体が磨耗されて上記絶縁体の下の上
記抵抗体が露出されるようにして成ることを特徴とする
ポテンショメータ。
4. The potentiometer according to claim 1, 2 or 3, wherein the insulator is provided by coating, printing, pasting, or embedding, and at least a portion of the resistor where the insulator is not provided is the resistor. A potentiometer, characterized in that the insulator is abraded so that the resistor under the insulator is exposed before it is entirely abraded by sliding of the contacts.
【請求項5】 請求項1または2または3または4記載
のポテンショメータにおいて、 上記絶縁体は、少なくとも上記接点が繰り返し摺動され
ると見做される部分に設けられて成ることを特徴とする
ポテンショメータ。
5. The potentiometer according to claim 1, 2 or 3 or 4, wherein the insulator is provided at least at a portion where the contact is considered to be repeatedly slid. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016188765A (en) * 2015-03-30 2016-11-04 日立建機株式会社 Dump truck cargo bed angle detecting device

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