JPH08120080A - Polyamic acid and production of polymer from polyamic acid through ring closure by dehydration - Google Patents

Polyamic acid and production of polymer from polyamic acid through ring closure by dehydration

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JPH08120080A
JPH08120080A JP25396394A JP25396394A JPH08120080A JP H08120080 A JPH08120080 A JP H08120080A JP 25396394 A JP25396394 A JP 25396394A JP 25396394 A JP25396394 A JP 25396394A JP H08120080 A JPH08120080 A JP H08120080A
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polyamic acid
dianhydride
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polymer
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繁生 河村
Tadahiko Udagawa
忠彦 宇田川
Yasuo Matsuki
安生 松木
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a high-mol. polyamic acid which gives a coating film reduced in cracking by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diamine in the presence of a compound containing one carboxyl group per molecule. CONSTITUTION: A tetracarboxylic dianhydride (A) is reacted with a diamine (B) (e.g. p-phenylenediamine) in the presence of a compound (C) containing one carboxyl group per molecule to produce a polyamic acid. This acid is caused to undergo ring closure by dehydration to produce a polymer. Preferred examples of the ingredient (A) include butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride. Examples of the ingredient (C) include acetic acid and benzoic acid. The obtained polyamic acid and its polymer are useful as a liquid-crystal alignment film, an insulating film for a semiconductor circuit element, a covering material for an enameled wire, an adhesive, a coating compound, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高分子量のポリアミッ
ク酸およびポリアミック酸を脱水閉環した高分子量の重
合体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high molecular weight polyamic acid and a process for producing a high molecular weight polymer obtained by dehydration ring closure of the polyamic acid.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にポリイミドは、優れた耐熱性を有
しているため、高温下で使用するフィルムあるいは電線
被覆材、接着剤あるいは塗料等の原料として非常に有用
である。ポリイミドフィルムあるいは被膜は、テトラカ
ルボン酸二無水物とジアミンとを極性溶媒中で重合反応
させてポリアミック酸を得、次にこれの溶液を基板に塗
布し、乾燥した後、加熱等の方法により脱水閉環して得
ることができる。
2. Description of the Prior Art Generally, polyimide has excellent heat resistance and is therefore very useful as a raw material for films or electric wire coating materials, adhesives, paints, etc., which are used at high temperatures. The polyimide film or coating is obtained by polymerizing a tetracarboxylic dianhydride and a diamine in a polar solvent to obtain a polyamic acid, and then applying a solution of the polyamic acid to a substrate and drying it, followed by dehydration by a method such as heating. It can be obtained by ring closure.

【0003】このような方法で得られるフィルムあるい
は被膜は、クラックの発生および機械的強度に劣るとい
う欠点があり、この欠点は前記ポリアミック酸の分子量
が低いため該ポリアミック酸から誘導されるポリイミド
の分子量が低いことに起因する。
The film or coating obtained by such a method has a drawback that cracks are generated and mechanical strength is inferior. The drawback is that the molecular weight of the polyamic acid is low and the molecular weight of the polyimide derived from the polyamic acid is low. Is low.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高分
子量のポリアミック酸およびポリアミック酸を脱水閉環
した、高分子量の重合体を得る製造方法を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a high molecular weight polyamic acid and a process for producing a high molecular weight polymer by dehydration ring closure of the polyamic acid.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、第1
に、テトラカルボン酸二無水物(以下「化合物A」とい
う)とジアミン(以下「化合物B」という)を、分子内
に1個のカルボキシル基を含有する化合物(以下「化合
物C」という)の存在下に反応せしめることを特徴とす
るポリアミック酸の製造方法が提供され、さらに第2
に、上記の製造方法で製造されたポリアミック酸を脱水
閉環することを特徴とするポリアミック酸の閉環重合体
(以下、「重合体(A)という)の製造方法が提供され
て、本発明の上記目的が達成される。
According to the present invention, a first
In addition, tetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as "compound A") and diamine (hereinafter referred to as "compound B"), the presence of a compound containing one carboxyl group in the molecule (hereinafter referred to as "compound C") There is provided a method for producing a polyamic acid, which comprises reacting below.
Further, there is provided a method for producing a ring-closing polymer of polyamic acid (hereinafter, referred to as "polymer (A)), which comprises dehydrating and ring-closing the polyamic acid produced by the above-mentioned production method, and the method according to the present invention as set forth above. The purpose is achieved.

【0006】以下、本発明を詳述するがそれにより本発
明の目的、構成、効果および利点が明らかとなろう。
Hereinafter, the present invention will be described in detail, by which the purpose, constitution, effect and advantage of the present invention will become apparent.

【0007】ポリアミック酸の製造方法 ポリアミック酸を製造するにあたって用いられるテトラ
カルボン酸二無水物である化合物Aは、下記式(1)
Method for producing polyamic acid Compound A, which is a tetracarboxylic dianhydride used for producing polyamic acid, has the following formula (1):

【0008】[0008]

【化1】 Embedded image

【0009】(式(1)中、R1は4価の有機基であ
る)で示される化合物である。
A compound represented by the formula (1), wherein R 1 is a tetravalent organic group.

【0010】上記式(1)における4価の有機基R1
して、脂肪族基、芳香族基、脂環族基などを例示するこ
とができる。また、R1の炭素数は4〜14であること
が好ましい。具体的には、下記式(2−1)〜(2−1
1)
Examples of the tetravalent organic group R 1 in the above formula (1) include an aliphatic group, an aromatic group and an alicyclic group. Further, the carbon number of R 1 is preferably 4 to 14. Specifically, the following formulas (2-1) to (2-1)
1)

【0011】[0011]

【化2】 Embedded image

【0012】(式中、R2〜R5は各々独立に、水素原子
または炭素数1〜4のアルキル基であり、a、bおよび
cは各々独立に0または1の整数である。)
(In the formula, R 2 to R 5 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b and c are each independently an integer of 0 or 1.)

【0013】[0013]

【化3】 Embedded image

【0014】(式(2−5)中、R6は炭素数1〜3の
アルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり、dは0〜4の整数である。)
(In the formula (2-5), R 6 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, or a halogen atom, and d is an integer of 0 to 4.)

【0015】[0015]

【化4】 [Chemical 4]

【0016】(式(2−6)中、R7は炭素数1〜3の
アルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり、eは0〜2の整数である。)
(In the formula (2-6), R 7 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom, and e is an integer of 0 to 2.)

【0017】[0017]

【化5】 Embedded image

【0018】(式(2−9)中、R8は酸素原子、炭素
数2〜14のアルキレン基、メチレン基、炭素数2〜5
のアルキリデン基、炭素数2〜5のハロゲン化アルキリ
デン基、炭素数2〜5のハロゲン化アルキレン基、硫黄
原子、スルホン基またはケトン基であり、fは0または
1の整数である。)
(In the formula (2-9), R 8 is an oxygen atom, an alkylene group having 2 to 14 carbon atoms, a methylene group, and 2 to 5 carbon atoms.
Is an alkylidene group, a halogenated alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, a halogenated alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, a sulfur atom, a sulfone group or a ketone group, and f is an integer of 0 or 1. )

【0019】[0019]

【化6】 [Chemical 6]

【0020】で示される基を挙げることができる。なか
でも式(2−1)、(2−2)、(2−3)、(2−
5)、(2−8)および(2−9)で示される4価の基
が好ましい。
A group represented by can be mentioned. Among them, formulas (2-1), (2-2), (2-3) and (2-
Tetravalent groups represented by 5), (2-8) and (2-9) are preferable.

【0021】化合物Aの具体例として、例えばブタンテ
トラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタン
テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペン
タンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボ
キシシクロペンチル酢酸二無水物、テトラシクロ[6,
2,1,1,02,7]デドカ−4,5,9,10−テトラカル
ボン酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナ
ン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフ
ランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9
b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオ
キソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン
−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ
フリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト
−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物
などの脂肪族及び脂環族テトラカルボン酸二無水物;
Specific examples of the compound A include, for example, butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride. , 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, tetracyclo [6,
2,1,1,0 2,7 ] Dedoca-4,5,9,10-tetracarboxylic dianhydride, 3,5,6-tricarboxynorbornane-2-acetic acid dianhydride, 2,3,4 , 5-Tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9
b-Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl)- 3-methyl-3-cyclohexene-1,2-
Aliphatic and alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as dicarboxylic dianhydrides, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydrides;

【0022】ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3',
4,4'−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水
物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、3,3',4,4'−ビフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸二無水物、3,3',4,4'−ジメチルジフェニルシ
ランテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−テト
ラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,
3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4'−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスル
フィド二無水物、4,4'−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)ジフェニルスルホン二無水物、4,4'−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロ
パン二無水物、3,3',4,4'−パーフルオロイソプロ
ピリデンジフタル酸二無水物、3,3',4,4'−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(フタル酸)フェ
ニルホスフィンオキサイド二無水物、p−フェニレン−
ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、m−フェニレ
ン−ビス(トリフェニルフタル酸)二無水物、ビス(ト
リフェニルフタル酸)−4,4'−ジフェニルエーテル二
無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4'−ジフ
ェニルメタン二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二
無水物を挙げることができる。
Pyromellitic dianhydride 3,3 ', 4,4'
-Benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride 3,3 ',
4,4'-biphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ' , 4,4'-Biphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-dimethyldiphenylsilane tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-tetraphenylsilane tetracarboxylic acid Acid dianhydride, 1,2,
3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfone Dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropane dianhydride, 3,3 ', 4,4'-perfluoroisopropylidene diphthalic acid dianhydride, 3,3' , 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (phthalic acid) phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-
Bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis (triphenylphthalic acid) dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) -4,4'-diphenylether dianhydride, bis (triphenylphthalic acid) ) -4,4'-Diphenylmethane dianhydride and other aromatic tetracarboxylic dianhydrides can be mentioned.

【0023】これらのうちでは、ブタンテトラカルボン
酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチ
ル酢酸二無水物、テトラシクロ[6,2,1,1,02,7
ドデカ−4,5,9,10−テトラカルボン酸二無水物、
1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラ
ヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト
[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、ピロメリット
酸二無水物、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ビフェニルスルホ
ンテトラカルボン酸二無水物、、3,3',4,4'−パー
フルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、3,
3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物など
が好ましい。
Of these, butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, tetracyclo [6, 2,1,1,0 2,7 ]
Dodeca-4,5,9,10-tetracarboxylic dianhydride,
1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] -furan-1,3-dione, pyromellitic acid Dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4 '-Perfluoroisopropylidene diphthalic acid dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and the like are preferable.

【0024】これら化合物Aは1種単独であるいは2種
以上併用して用いることができる。
These compounds A can be used alone or in combination of two or more.

【0025】化合物Aと反応せしめられるジアミン、す
なわち化合物Bは、下記式(3)
The diamine reacted with the compound A, that is, the compound B is represented by the following formula (3)

【0026】[0026]

【化7】 [Chemical 7]

【0027】(式(2)中、RBは2価の有機基であ
る)で示される化合物である。
(In the formula (2), R B is a divalent organic group).

【0028】上記2価の有機基であるRBとして具体的
に下記式(4−1)〜(4−8)
Specific examples of R B which is the divalent organic group are represented by the following formulas (4-1) to (4-8)

【0029】[0029]

【化8】 Embedded image

【0030】(式(4−1)中、R9は炭素数1〜3の
アルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり、gは0〜4の整数である。)
(In the formula (4-1), R 9 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom, and g is an integer of 0 to 4.)

【0031】[0031]

【化9】 [Chemical 9]

【0032】(式(4−2)中、R10は酸素原子、メチ
レン基、炭素数2〜14のアルキレン基、炭素数2〜5
のアルキリデン基、炭素数2〜5のハロゲン化アルキリ
デン基、炭素数2〜5のハロゲン化アルキレン基、硫黄
原子、スルホン基、ケトン基並びに下記式(4−2−
1)、(4−2−2)および(4−2−3)
(In the formula (4-2), R 10 is an oxygen atom, a methylene group, an alkylene group having 2 to 14 carbon atoms, or a 2 to 5 carbon atom.
Alkylidene group, a halogenated alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, a halogenated alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, a sulfur atom, a sulfone group, a ketone group and the following formula (4-2
1), (4-2-2) and (4-2-3)

【0033】[0033]

【化10】 [Chemical 10]

【0034】で表わされる2価の基のいずれかであり、
11およびR12は、各々独立に、前記R9と同じであ
り、hおよびiは各々独立に、0〜4の整数である。)
Is one of the divalent groups represented by
R 11 and R 12 are each independently the same as R 9 , and h and i are each independently an integer of 0 to 4. )

【0035】[0035]

【化11】 [Chemical 11]

【0036】(式(4−3)中、R13およびR14は各々
独立に、前記R10と同じであり、R15、R16およびR17
は各々独立に、前記R9と同じであり、j、kおよびl
は各々独立に、0〜4の整数である。)
(In the formula (4-3), R 13 and R 14 are each independently the same as R 10 , and R 15 , R 16 and R 17 are the same.
Are each independently the same as R 9 above, and include j, k and l
Are each independently an integer of 0 to 4. )

【0037】[0037]

【化12】 [Chemical 12]

【0038】(式(4−5)中、R18およびR19は各々
独立に、水素原子または炭素数1〜3のアルキル基であ
り、mは1〜20の整数である。)
(In the formula (4-5), R 18 and R 19 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and m is an integer of 1 to 20.)

【0039】[0039]

【化13】 [Chemical 13]

【0040】(式(4−6)中、R20、R21、R22およ
びR23は各々独立に、炭素数1〜12のアルキル基であ
り、nおよびpは各々独立に、1〜3の整数であり、0
は1〜20の整数である。)
(In the formula (4-6), R 20 , R 21 , R 22 and R 23 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and n and p are each independently 1 to 3 Is an integer of 0
Is an integer of 1 to 20. )

【0041】[0041]

【化14】 Embedded image

【0042】(式(4−7)中、R24は炭素数1〜3の
アルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基またはハロゲ
ン原子であり、qは0〜4の整数である。)
(In the formula (4-7), R 24 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom, and q is an integer of 0 to 4.)

【0043】[0043]

【化15】 [Chemical 15]

【0044】(式(4−8)中、R25は前記R10と同じ
であり、R26およびR27各々独立に、前記R9と同じで
あり、rおよびsは各々独立に、0〜4の整数であ
る。)で示される基を挙げることができる。なかでも式
(4−1)、(4−2)および(4−3)で示される2
価の基が好ましい。
(In formula (4-8), R 25 is the same as R 10 , R 26 and R 27 are independently the same as R 9 , and r and s are independently 0 to 0. 4 is an integer of 4.). Among them, 2 represented by the formulas (4-1), (4-2) and (4-3)
Valuable groups are preferred.

【0045】化合物Bの具体例として、例えばp−フェ
ニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4'−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニル
エタン、4,4'−ジアミノジフェニルスルフィド、4,
4'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノ
ジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、3,
3'−ジメチル−4,4'−ジアミノビフェニル、4,4'
−ジアミノベンズアニリド、3,4'−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3,3'−ジアミノベンゾフェノン、3,4'
−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフ
ェノン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,
2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ス
ルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、4,4'−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビ
スアニリン、4,4'−(m−フェニレンジイソプロピリ
デン)ビスアニリン、1,3−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)−
10−ヒドロアントラセン、9,9−ビス(4−アミノ
フェニル)フルオレン、4,4'−メチレン−ビス(2−
クロロアニリン)、2,2',5,5'−テトラクロロ−4,
4'−ジアミノビフェニル、2,2'−ジクロロ−4,4'
−ジアミノ−5,5'−ジメトキシビフェニル、3,3'−
ジメトキシ−4,4'−ジアミノビフェニルなどの芳香族
ジアミン;
Specific examples of the compound B include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 3,
3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4 '
-Diaminobenzanilide, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,4 '
-Diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy)
Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,
2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4 ′-(p-phenylenediene Isopropylidene) bisaniline, 4,4 '-(m-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 9,9- Bis (4-aminophenyl)-
10-hydroanthracene, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 4,4'-methylene-bis (2-
Chloroaniline), 2,2 ', 5,5'-tetrachloro-4,
4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dichloro-4,4 '
-Diamino-5,5'-dimethoxybiphenyl, 3,3'-
Aromatic diamines such as dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl;

【0046】ジアミノテトラフェニルチオフェンなどの
ヘテロ原子を有する芳香族ジアミン;1,1−メタキシ
リレンジアミン、1,2−エチレンジアミン、1,3−プ
ロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレ
ンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジ
アミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロン
ジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジア
ミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメ
チレンジアミン、トリシクロ[6,2,1,02.7]−ウン
デシレンジメチルジアミン、4,4'−メチレンビス(シ
クロヘキシルアミン)などの脂肪族または脂環族ジアミ
ンを挙げることができる。
Aromatic diamine having a hetero atom such as diaminotetraphenylthiophene; 1,1-metaxylylenediamine, 1,2-ethylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine , Heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, isophoronediamine, tetrahydrodicyclopentadienylenediamine, hexahydro-4,7-methanoindanylene dimethylenediamine, tricyclo [6,2 , 1,0 2.7 ] -Undecylenedimethyldiamine, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine) and other aliphatic or alicyclic diamines can be mentioned.

【0047】これらのうち、p−フェニレンジアミン、
4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ
ジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]プロパン、9,9−ビス(4−
アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、4,4'−(p−フェニレンジイソプロピリ
デン)ビスアニリン、4,4'−(m−フェニレンジイソ
プロピリデン)ビスアニリンなどが好ましい。
Of these, p-phenylenediamine,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 9,9-bis (4-
Aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4
-Aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 '-(p-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 4,4'-(m-phenylenediene Isopropylidene) bisaniline and the like are preferable.

【0048】これら化合物Bは単独でまたは2種以上を
組み合わせて使用できる。
These compounds B can be used alone or in combination of two or more kinds.

【0049】本発明のポリアミック酸の製造方法におい
ては、化合物Aと化合物Bを反応せしめる際に、化合物
C、すなわち分子内に1個のカルボキシル基を含有する
化合物を存在させる。化合物Cとして、下記式(6)
In the method for producing a polyamic acid of the present invention, when the compound A and the compound B are reacted with each other, the compound C, that is, the compound having one carboxyl group in the molecule is present. As the compound C, the following formula (6)

【0050】[0050]

【化16】 Embedded image

【0051】(式(6)中、RCは1価の基である)で
示される化合物を挙げることができる。
A compound represented by the formula (6), wherein R C is a monovalent group, can be mentioned.

【0052】上記式(6)におけるRCとして、水素原
子、炭素数1〜12の炭化水素基、例えば炭素数1〜1
2のアルキル基、炭素数6〜12の芳香族基、炭素数3
〜12の脂環族基などを挙げることができる。
R C in the above formula (6) is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, for example, 1 to 1 carbon atoms.
2 alkyl groups, 6-12 carbon aromatic groups, 3 carbon atoms
To 12 alicyclic groups and the like.

【0053】さらにRCとして、上記炭化水素基の水素
原子がフッ素原子で置換されたフッ素化炭化水素基を挙
げることができる。
Further, examples of R C include a fluorinated hydrocarbon group in which the hydrogen atom of the above hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom.

【0054】化合物Cの具体例としては、酢酸、プロピ
オン酸、トリフルオロ酢酸、安息香酸、n−酪酸、イソ
酪酸、n−カプロン酸、イソカプロン酸、ギ酸、シクロ
プロパンカルボン酸、シクロブタンカルボン酸、シクロ
ペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、アク
リル酸、メタクリル酸などを挙げることができる。これ
らのうち、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、安
息香酸、n−酪酸、イソ酪酸、n−カプロン酸、イソカ
プロン酸、ギ酸などが特に好ましい。
Specific examples of compound C include acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, benzoic acid, n-butyric acid, isobutyric acid, n-caproic acid, isocaproic acid, formic acid, cyclopropanecarboxylic acid, cyclobutanecarboxylic acid, cyclobutane. Mention may be made of pentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid and the like. Of these, acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, benzoic acid, n-butyric acid, isobutyric acid, n-caproic acid, isocaproic acid and formic acid are particularly preferable.

【0055】化合物Aと化合物Bを反応せしめてポリア
ミック酸を生成するにあたり、上記化合物Cの使用割合
は、化合物A 100重量部に対して10〜1000重
量部が好ましく、特に好ましくは200〜800重量部
である。化合物Cを上記範囲で使用することにより、化
合物Cを用いることによる効果、すなわち高分子量のポ
リアミック酸を安定して得られる効果が一層優れる。
When the polyamic acid is produced by reacting the compound A with the compound B, the proportion of the compound C used is preferably 10 to 1000 parts by weight, more preferably 200 to 800 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the compound A. It is a department. By using the compound C in the above range, the effect of using the compound C, that is, the effect of stably obtaining a high molecular weight polyamic acid is further excellent.

【0056】化合物Aと化合物Bとの反応は、通常有機
溶媒の存在下、0〜150℃、好ましくは0〜100℃
の反応温度で1〜48時間の反応時間で行われる。
The reaction of the compound A with the compound B is usually 0 to 150 ° C., preferably 0 to 100 ° C. in the presence of an organic solvent.
At a reaction temperature of 1 to 48 hours.

【0057】反応に用いられる有機溶媒としては、化合
物A、化合物B、化合物Cおよび反応で生成するポリア
ミック酸を溶解しうるものであれば特に制限はない。例
えば、γ−ブチロラクトン,N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿
素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン
系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノー
ル、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙
げることができる。有機溶媒は、通常、化合物Aおよび
化合物Bの総量が、反応溶液の全量に対して0.1〜3
0重量%になるように用いられることが好ましい。
The organic solvent used in the reaction is not particularly limited as long as it can dissolve the compound A, the compound B, the compound C and the polyamic acid produced in the reaction. For example, aprotic polar solvent such as γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide; m- Phenolic solvents such as cresol, xylenol, phenol and halogenated phenol can be mentioned. The organic solvent is usually such that the total amount of the compound A and the compound B is 0.1 to 3 with respect to the total amount of the reaction solution.
It is preferably used so as to be 0% by weight.

【0058】化合物Aと化合物Bの使用割合は、化合物
B中のアミノ基1等量に対して化合物Aの酸無水物基が
0.2〜2等量であることが好ましく、より好ましくは
0.3〜1.4等量である。
The ratio of the compound A to the compound B used is preferably 0.2 to 2 equivalents of the acid anhydride group of the compound A, more preferably 0 equivalent to 1 equivalent of the amino group in the compound B. 0.3 to 1.4 equivalents.

【0059】重合体(A)の製造方法 本発明における重合体(A)は、通常ポリイミドまたは
ポリイソイミドである。重合体(A)は、上述したポリ
アミック酸を、好ましくは3級アミンおよび酸無水物の
存在下に加熱してあるいは加熱せずに脱水閉環すること
により得ることができる。
Method for Producing Polymer (A) The polymer (A) in the present invention is usually polyimide or polyisoimide. The polymer (A) can be obtained by subjecting the above-mentioned polyamic acid to ring closure by dehydration with or without heating, preferably in the presence of a tertiary amine and an acid anhydride.

【0060】加熱のみにより脱水閉環する場合の反応温
度は、好ましくは60〜200℃、より好ましくは10
0〜170℃である。また、3級アミンおよび酸無水物
の存在下で加熱して脱水閉環する場合の反応温度は、好
ましくは0〜180℃、より好ましくは60〜150℃
である。
The reaction temperature in the case of dehydration ring closure by heating only is preferably 60 to 200 ° C., more preferably 10
It is 0 to 170 ° C. The reaction temperature in the case of dehydration ring closure by heating in the presence of a tertiary amine and an acid anhydride is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 60 to 150 ° C.
Is.

【0061】上記酸無水物としては、例えば無水酢酸、
無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などを挙げる
ことができる。また、上記3級アミンとしては、例えば
ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなど
を挙げることができる。酸無水物の使用量は、ポリアミ
ック酸の繰り返し単位1モルに対して1.6〜20モル
とするのが好ましい。また、3級アミンの使用量は使用
する酸無水物1モルに対し、0.5〜10モルとするの
が好ましい。
Examples of the acid anhydride include acetic anhydride,
Propionic anhydride, trifluoroacetic anhydride, etc. can be mentioned. Examples of the tertiary amine include pyridine, collidine, lutidine, triethylamine and the like. The amount of the acid anhydride used is preferably 1.6 to 20 mol per 1 mol of the repeating unit of the polyamic acid. Further, the amount of the tertiary amine used is preferably 0.5 to 10 mol with respect to 1 mol of the acid anhydride used.

【0062】[0062]

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、重合体の固有粘度は、N−メチル−
2−ピロリドン中、30℃で測定されたものである。ま
た、以下の実施例の記載では、ポリアミック酸を重合体
D、脱水閉環重合体を重合体Eと略記する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The intrinsic viscosity of the polymer is N-methyl-
It is measured at 30 ° C. in 2-pyrrolidone. In the following description of the examples, polyamic acid is abbreviated as polymer D and dehydrated ring-closing polymer is abbreviated as polymer E.

【0063】実施例1 2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
44.8g、p−フェニレンジアミン21.6gおよび酢
酸224.0g(化合物A100重量部に対して500
重量部)をN−メチル−2−ピロリドン988gに溶解
させ、室温で6時間反応させた。 次いで、反応混合物
を大過剰のメタノールに注ぎ、反応生成物を沈澱させ
た。その後、メタノールで洗浄し、減圧下40℃で15
時間乾燥させて、固有粘度2.64dl/gの重合体D
−1を60.3g得た。
Example 1 24.8 g of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, 21.6 g of p-phenylenediamine and 224.0 g of acetic acid (500 to 100 parts by weight of compound A)
(Parts by weight) was dissolved in 988 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. After that, it is washed with methanol, and it is dried under reduced pressure at 40 ° C.
After being dried for an hour, polymer D having an intrinsic viscosity of 2.64 dl / g
-1 was obtained in an amount of 60.3 g.

【0064】実施例2 実施例1で得られた重合体D−1 30.0gをγ−ブ
チロラクトン570gに溶解し、ピリジン21.6gと
無水酢酸16.74gを添加し、120℃で3時間脱水
閉環を行った。次いで、反応生成液を実施例1と同様に
処理して生成物を沈澱させ、洗浄、乾燥を行って固有粘
度2.53dl/gの重合体E−1を24.5g得た。
Example 2 30.0 g of the polymer D-1 obtained in Example 1 was dissolved in 570 g of γ-butyrolactone, 21.6 g of pyridine and 16.74 g of acetic anhydride were added, and dehydration was carried out at 120 ° C. for 3 hours. The ring was closed. Then, the reaction product solution was treated in the same manner as in Example 1 to precipitate the product, which was washed and dried to obtain 24.5 g of Polymer E-1 having an intrinsic viscosity of 2.53 dl / g.

【0065】実施例3 実施例1において、ジアミンを4,4'−ジアミノジフェ
ニルメタン39.6gとした以外は、実施例1と同様に
して重合体D−2を80.2g得、さらにこの重合体D
−2を30.0g用いて実施例2と同様にして脱水閉環
を行い、固有粘度2.36dl/gの重合体E−2を2
2.9g得た。
Example 3 80.2 g of a polymer D-2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 39.6 g of 4,4'-diaminodiphenylmethane was used as the diamine. D
2-30.0 g was used for dehydration ring closure in the same manner as in Example 2 to obtain 2 parts of polymer E-2 having an intrinsic viscosity of 2.36 dl / g.
2.9 g was obtained.

【0066】実施例4 実施例1において、テトラカルボン酸二無水物をシクロ
ブタンテトラカルボン酸二無水物39.22gとした以
外は実施例1と同様にして、固有粘度2.58dl/g
の重合体D−3を51.5g得た。
Example 4 Intrinsic viscosity was 2.58 dl / g in the same manner as in Example 1 except that 39.22 g of cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride was used as the tetracarboxylic acid dianhydride.
51.5 g of polymer D-3 was obtained.

【0067】実施例5 実施例1において、テトラカルボン酸二無水物を1,3,
3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ
−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−
c]フラン−1,3−ジオン60.0gとした以外は実施
例1と同様にして重合体D−4を77.5g得、さらに
この重合体D−4を30.0g用いて実施例2と同様に
して脱水閉環を行い、固有粘度2.39dl/gの重合
体E−4を23.2g得た。
Example 5 In Example 1, tetracarboxylic acid dianhydride was added to 1,3,
3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-
c] 77.5 g of polymer D-4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 60.0 g of furan-1,3-dione was used, and 30.0 g of this polymer D-4 was used in Example 2 The dehydration ring closure was carried out in the same manner as above to obtain 23.2 g of polymer E-4 having an intrinsic viscosity of 2.39 dl / g.

【0068】実施例6 実施例1において、テトラカルボン酸二無水物をピロメ
リット酸二無水物43.6gとした以外は実施例1と同
様にして、固有粘度2.76dl/gの重合体D−5を
60.7g得た。
Example 6 Polymer D having an intrinsic viscosity of 2.76 dl / g was prepared in the same manner as in Example 1 except that 43.6 g of pyromellitic dianhydride was used as the tetracarboxylic dianhydride. 50.7 g of -5 was obtained.

【0069】実施例7〜18 実施例1において、表1に示すように化合物Cの種類と
添加量を変え、重合体Dを合成した。得られた重合体D
の固有粘度を測定し、前記実施例1〜6および後記比較
例1の結果と共に表1に示した。
Examples 7 to 18 In Example 1, polymer D was synthesized by changing the kind and addition amount of compound C as shown in Table 1. Polymer D obtained
Intrinsic viscosity was measured and is shown in Table 1 together with the results of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 described later.

【0070】比較例1 実施例1において、酢酸を添加せず反応を行い、実施例
1と同様な操作を行ったところ、重合体Dの固有粘度は
1.44dl/gと低いものであった。
Comparative Example 1 When the reaction was carried out in Example 1 without adding acetic acid and the same operation as in Example 1 was carried out, the intrinsic viscosity of the polymer D was as low as 1.44 dl / g. .

【0071】[0071]

【表1】 [Table 1]

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明の製造方法により得られるポリア
ミック酸およびその脱水閉環重合体は高分子量であるた
め、塗膜とした場合にクラックの発生が少なく、機械的
強度が優れている。従って、例えば高温用フィルム、接
着剤、塗料等に有用であり、具体的にはプリント配線基
板、半導体集積回路素子の絶縁膜、液晶配向膜、エナメ
ル電線用被覆材、各種積層板、ガスケット等に有用であ
る。
The polyamic acid and its dehydrated ring-closure polymer obtained by the production method of the present invention have a high molecular weight, and therefore, when formed into a coating film, few cracks are generated and the mechanical strength is excellent. Therefore, it is useful for, for example, high temperature films, adhesives, paints, and the like, and specifically for printed wiring boards, insulating films for semiconductor integrated circuit devices, liquid crystal alignment films, coating materials for enamel electric wires, various laminated plates, gaskets, etc. It is useful.

【0073】以上詳述した本発明のポリアミック酸の製
造方法およびポリアミック酸の脱水閉環重合体の製造方
法に関する好ましい態様について以下に付記する。 1. 化合物Cを、化合物A100重量部に対して10〜
1000重量部の割合で存在させるポリアミック酸の製
造方法。 2. 化合物Aが、ブタンテトラカルボン酸二無水物、
1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無
水物、テトラシクロ[6,2,1,1,02,7]ドデカ−4,
5,9,10−テトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,
4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,
5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]
−フラン−1,3−ジオン、ピロメリット酸二無水物、
3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、3,3',4,4'−ビフェニルスルホンテトラカル
ボン酸二無水物、、3,3',4,4'−パーフルオロイソ
プロピリデンジフタル酸二無水物および3,3',4,4'
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群より
選ばれた少なくとも1種であるポリアミック酸の製造方
法。 3. 化合物Bが、p−フェニレンジアミン、4,4'−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニル
エーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]プロパン、9,9−ビス(4−アミノフ
ェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,
2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、4,4'−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビ
スアニリンおよび4,4'−(m−フェニレンジイソプロ
ピリデン)ビスアニリンからなる群より選ばれた少なく
とも1種であるポリアミック酸の製造方法。 4. 化合物Cが、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢
酸、安息香酸、n−酪酸、イソ酪酸、n−カプロン酸、
イソカプロン酸およびギ酸からなる群より選ばれた少な
くとも1種であるポリアミック酸の製造方法。 5. 化合物Aと化合物Bの反応を溶媒の存在下に行うポ
リアミック酸の製造方法。 6. 脱水閉環反応を3級アミンおよび酸無水物の存在下
に行うポリイミドの製造方法。
Preferred embodiments of the method for producing a polyamic acid and the method for producing a dehydrated ring-closing polymer of a polyamic acid according to the present invention, which have been described in detail above, will be additionally described below. 1. Compound C is added in an amount of 10 to 100 parts by weight of Compound A.
A method for producing a polyamic acid which is present in an amount of 1000 parts by weight. 2. Compound A is butanetetracarboxylic dianhydride,
1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, tetracyclo [6,2,1,1,0 2,7 ] dodeca-4,
5,9,10-tetracarboxylic dianhydride, 1,3,3a,
4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,
5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c]
-Furan-1,3-dione, pyromellitic dianhydride,
3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-perfluoro Isopropylidene diphthalic acid dianhydride and 3,3 ', 4,4'
-A method for producing a polyamic acid, which is at least one selected from the group consisting of biphenyltetracarboxylic dianhydride. 3. Compound B is p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,
At least one selected from the group consisting of 2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 ′-(p-phenylenediisopropylidene) bisaniline and 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) bisaniline. A method for producing one type of polyamic acid. 4. Compound C is acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, benzoic acid, n-butyric acid, isobutyric acid, n-caproic acid,
A method for producing a polyamic acid which is at least one selected from the group consisting of isocaproic acid and formic acid. 5. A method for producing a polyamic acid, which comprises reacting compound A with compound B in the presence of a solvent. 6. A method for producing a polyimide, wherein the dehydration ring-closing reaction is carried out in the presence of a tertiary amine and an acid anhydride.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇田川 忠彦 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 (72)発明者 松木 安生 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Tadahiko Udagawa 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Within Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. (72) Inventor Yasushi Matsuki 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Within Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テトラカルボン酸二無水物とジアミン
を、分子内に1個のカルボキシル基を含有する化合物の
存在下に反応せしめることを特徴とするポリアミック酸
の製造方法。
1. A method for producing a polyamic acid, which comprises reacting a tetracarboxylic dianhydride and a diamine in the presence of a compound containing one carboxyl group in the molecule.
【請求項2】 請求項1に記載の製造方法で製造された
ポリアミック酸を脱水閉環することを特徴とするポリア
ミック酸の閉環重合体の製造方法。
2. A method for producing a ring-closed polymer of polyamic acid, which comprises subjecting the polyamic acid produced by the method according to claim 1 to dehydration ring closure.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009221392A (en) * 2008-03-18 2009-10-01 Asahi Kasei E-Materials Corp Method of synthesizing full-aliphatic polyimide
JP2014215543A (en) * 2013-04-26 2014-11-17 Jsr株式会社 Liquid crystal alignment agent
CN113025195A (en) * 2019-12-25 2021-06-25 株式会社日本显示器 Varnish for photo-alignment film and method for manufacturing photo-alignment film
WO2023032492A1 (en) * 2021-08-31 2023-03-09 Eneos株式会社 Reaction accelerator

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009221392A (en) * 2008-03-18 2009-10-01 Asahi Kasei E-Materials Corp Method of synthesizing full-aliphatic polyimide
JP2014215543A (en) * 2013-04-26 2014-11-17 Jsr株式会社 Liquid crystal alignment agent
CN113025195A (en) * 2019-12-25 2021-06-25 株式会社日本显示器 Varnish for photo-alignment film and method for manufacturing photo-alignment film
WO2023032492A1 (en) * 2021-08-31 2023-03-09 Eneos株式会社 Reaction accelerator

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