KR101999918B1 - Crosslinkable Polyamic Acid Composition, and Polyimide Film Prepared by Using the Same - Google Patents

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Abstract

The present invention is to provide a polyamic acid composition and a polyimide film with improved thermal resistance and mechanical properties prepared by using the same. The polyamic acid composition comprises a polyamic acid and an organic solvent and has the viscosity in the range of 1,000 to 10,000 cP. The polyamic acid is generated by polymerization of one or more types of dianhydride monomers and one or more types of diamine monomers. The dianhydride monomers comprise 1 to 10 mol% of a crosslinkable dianhydride compound based on the total content of the dianhydride monomers. The crosslinkable dianhydride compound comprises at least one triple bond in the molecular structure.

Description

가교성 폴리아믹산 조성물, 이를 이용하여 제조되는 폴리이미드 필름 {Crosslinkable Polyamic Acid Composition, and Polyimide Film Prepared by Using the Same}Crosslinkable Polyamic Acid Composition, and Polyimide Film Prepared by Using the Same < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 가교성 폴리아믹산 조성물, 이를 이용하여 제조되는 폴리이미드 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a crosslinkable polyamic acid composition and a polyimide film produced using the same.

폴리이미드(polyimide, PI)는 강직한 방향족 주쇄를 기본으로 하는 열적 안정성을 가진 고분자 물질로 이미드 고리의 화학적 안정성을 기초로 하여 우수한 강도, 내화학성, 내후성, 내열성 등의 기계적 특성을 가진다.Polyimide (PI) is a polymer material with thermal stability based on a rigid aromatic backbone, and has mechanical properties such as excellent strength, chemical resistance, weather resistance, and heat resistance based on the chemical stability of the imide ring.

뿐만 아니라 폴리이미드는 절연특성, 낮은 유전율과 같은 뛰어난 전기적 특성으로 전자, 통신, 광학 등 광범위한 산업 분야에 적용 가능한 고기능성 고분자 재료로 각광받고 있다.In addition, polyimide is attracting attention as a high-functional polymer material applicable to a wide range of industrial fields such as electronic, communication, and optical due to excellent electrical properties such as insulation property and low dielectric constant.

최근에는 각종 전자기기가 박형화, 경량화 및 소형화 됨에 따라 가볍고 유연성이 우수한 박형의 폴리이미드 필름을 회로기판의 절연소재 또는 디스플레이용 유리기판을 대체할 수 있는 디스플레이 기판으로 사용하고자 하는 연구가 많이 진행되고 있다.In recent years, various electronic devices have become thinner, lighter, and smaller, and research has been conducted to use a thin and lightweight polyimide film having excellent flexibility as a display substrate that can replace an insulating material of a circuit substrate or a glass substrate for a display .

특히 높은 공정온도에서 제조되는 회로기판 또는 디스플레이 기판에 사용되는 폴리이미드 필름의 경우, 보다 높은 수준의 치수안정성, 내열성 및 기계적 물성을 확보하는 것이 필요하다.In particular, in the case of a polyimide film used for a circuit board or a display substrate manufactured at a high process temperature, it is necessary to secure a higher level of dimensional stability, heat resistance and mechanical properties.

이러한 물성 확보를 위한 방법의 하나로 폴리이미드의 분자량을 증가시키는 방법을 예로들 수 있다.An example of a method for securing such properties is to increase the molecular weight of the polyimide.

분자 내에 이미드기가 많을수록 폴리이미드 필름의 내열성 및 기계적 물성을 향상시킬 수 있고, 고분자 사슬이 길어질수록 이미드기의 비율이 증가하므로, 높은 분자량의 폴리이미드를 제조하는 것이 물성 확보에 유리하기 때문이다.The higher the number of imide groups in the molecule, the better the heat resistance and the mechanical properties of the polyimide film, and the longer the polymer chain, the higher the ratio of the imide groups.

높은 분자량의 폴리이미드를 제조하기 위해서는 그 전구체인 폴리아믹산을 고분자량으로 제조해야만 하나, 폴리아믹산의 분자량이 커질수록 폴리아믹산 용액의 점도 역시 증가하게 된다.In order to prepare a polyimide having a high molecular weight, the precursor polyamic acid must be prepared in a high molecular weight, but the viscosity of the polyamic acid solution also increases as the molecular weight of the polyamic acid increases.

그러나, 폴리아믹산 용액의 점도가 지나치게 높은 경우, 유동성이 저하되어 공정 취급성이 매우 낮아지는 문제가 발생한다.However, when the viscosity of the polyamic acid solution is excessively high, there is a problem that the flowability is lowered and the processability is very low.

따라서, 폴리아믹산 조성물의 점도가 낮더라도 폴리이미드 필름의 내열성 및 기계적 물성을 동시에 만족하는 폴리이미드 필름의 필요성이 높은 실정이다.Accordingly, there is a high need for a polyimide film that simultaneously satisfies the heat resistance and mechanical properties of the polyimide film even when the viscosity of the polyamic acid composition is low.

본 발명의 목적은 가교성 폴리아믹산 조성물, 이를 이용하여 제조되는 폴리이미드 필름을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a crosslinkable polyamic acid composition and a polyimide film produced using the same.

본 발명의 일 측면에 따르면, 가교성 디안하이드라이드계 화합물이 우수한 내열성 및 기계적 물성을 갖는 폴리이미드 필름의 구현에 필수적인 인자로서 개시된다.According to one aspect of the present invention, a crosslinkable dianhydride-based compound is disclosed as an essential factor for realizing a polyimide film having excellent heat resistance and mechanical properties.

폴리아믹산을 구성하는 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 이미드화를 위한 열처리 시, 서로 다른 폴리아믹산 사슬들에 포함된 삼중결합들 사이의 라디칼 반응에 의해 하나 이상의 가교결합을 형성하여 이를 통해 제조되는 폴리이미드 필름의 내열성 및 기계적 물성을 향상시킬 수 있다.The crosslinkable dianhydride-based compound constituting the polyamic acid may form one or more crosslinks by a radical reaction between the triple bonds contained in the different polyamic acid chains during the heat treatment for imidization, The heat resistance and mechanical properties of the mid-film can be improved.

본 발명에 따른 폴리이미드는 이미드화를 위한 열처리 시에 내열성 및 기계적 물성이 향상되므로, 이의 전구체인 폴리아믹산 조성물의 점도를 낮게 유지할 수 있고, 이로 인해 공정 취급성을 현저하게 향상시킬 수 있다.The polyimide according to the present invention has improved heat resistance and mechanical properties at the time of heat treatment for imidization, so that the viscosity of the polyamic acid composition as a precursor thereof can be kept low, and thereby the processability can be remarkably improved.

본 발명의 또 다른 일 측면에 따르면, 상기 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 폴리이미드 필름은, 열팽창 계수(CTE)가 2.0 내지 15 ppm/℃이고, 유리전이온도(Tg)가 360 ℃ 이상이고, 신율이 10 % 이상이고, 모듈러스(modulus)가 2.7 GPa 이상이고, 인장강도가 280 kgf/cm2 이상일 수 있다.According to another aspect of the present invention, the polyimide film produced from the polyamic acid composition has a coefficient of thermal expansion (CTE) of 2.0 to 15 ppm / 占 폚, a glass transition temperature (Tg) of 360 占 폚 or more, 10% or more, a modulus of 2.7 GPa or more, and a tensile strength of 280 kgf / cm 2 or more.

이러한 폴리이미드 필름은 디스플레이기 기판에 요구되는 내열성 및 기계적 물성을 만족하는 이점이 있다.Such a polyimide film has an advantage of satisfying heat resistance and mechanical properties required for a display substrate.

이에 본 발명은 이의 구체적 실시예를 제공하는데 실질적인 목적이 있다.Therefore, the present invention has a practical purpose to provide a specific embodiment thereof.

본 발명은, 폴리아믹산 및 유기용매를 포함하고, 점도가 1,000 내지 10,000 cP 범위이고,The present invention relates to a polyamic acid composition comprising a polyamic acid and an organic solvent and having a viscosity of 1,000 to 10,000 cP,

상기 폴리아믹산은 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체 및 1종 이상의 디아민 단량체의 중합 반응에 의해 생성되고,Wherein the polyamic acid is produced by polymerization of one or more dianhydride monomers and one or more diamine monomers,

상기 디안하이드라이드 단량체는, 상기 디안하이드라이드 단량체의 전체 함량 대비 1 내지 10 몰%의 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 포함하고, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 분자구조 내에 적어도 하나의 삼중결합을 포함하는, 폴리아믹산 조성물을 제공한다.Wherein the dianhydride monomer comprises 1 to 10 mol% of a crosslinkable dianhydride-based compound relative to the total content of the dianhydride monomer, wherein the crosslinkable dianhydride-based compound has at least one triple bond ≪ / RTI >

본 발명은 또한, 상기 폴리아믹산 조성물을 이용하여 폴리이미드 필름을 제조하면, 상대적으로 낮은 점도의 폴리아믹산 조성물을 사용함에도 불구하고, 우수한 내열성 및 기계적 물성을 지닌 폴리이미드 필름의 구현이 가능함을 발견하였다.The present invention has also found that the polyimide film produced using the polyamic acid composition can realize a polyimide film having excellent heat resistance and mechanical properties even though a polyamic acid composition having a relatively low viscosity is used .

따라서, 이의 구현을 위한 구체적인 내용을 본 명세서에서 설명한다.Thus, specific details for its implementation are described herein.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be interpreted in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예의 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, it is to be understood that the constituent features of the embodiments described herein are merely the most preferred embodiments of the present invention, and are not intended to represent all of the inventive concepts of the present invention, so that various equivalents and variations It should be understood that examples may exist.

본 명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.As used herein, the singular forms "a", "an" and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprising," "comprising," or "having ", and the like are intended to specify the presence of stated features, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, components, or combinations thereof.

본 명세서에서 "디안하이드라이드(이무수물; dianhydride)"는 그 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디안하이드라이드가 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디아민과 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, "dianhydride" is intended to include its precursors or derivatives, which may not technically be dianhydrides, but nevertheless react with diamines to form polyamic acids And this polyamic acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 "디아민"은 그의 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디아민이 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디안하이드라이드와 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, "diamine" is intended to include precursors or derivatives thereof, which, although not technically diamines, will nonetheless react with dianhydride to form a polyamic acid, / RTI >

본 명세서에서 양, 농도, 또는 다른 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한 값 및 바람직한 하한 값의 열거로서 주어지는 경우, 범위가 별도로 개시되는 지에 상관없이 임의의 한 쌍의 임의의 위쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값 및 임의의 아래쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값으로 형성된 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다.Where an amount, concentration, or other value or parameter is given herein as an enumeration of ranges, preferred ranges, or preferred upper and lower preferred values, it is understood that any pair of any upper range limits It is to be understood that the present invention specifically discloses all ranges formed by preferred values and any lower range limits or preferred values.

수치 값의 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다.Where a range of numerical values is referred to in this specification, unless otherwise stated, the range is intended to include all the integers and fractions within the endpoint and its range.

본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.The scope of the present invention is not intended to be limited to the specific values that are mentioned when defining the scope.

제1 양태: 폴리아믹산 조성물First Aspect: Polyamic acid composition

본 발명에 따른 폴리아믹산 조성물은, 폴리아믹산 및 유기용매를 포함하고, 점도가 1,000 내지 10,000 cP 범위이고,The polyamic acid composition according to the present invention comprises a polyamic acid and an organic solvent and has a viscosity of 1,000 to 10,000 cP,

상기 폴리아믹산은 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체 및 1종 이상의 디아민 단량체의 중합 반응에 의해 생성되고,Wherein the polyamic acid is produced by polymerization of one or more dianhydride monomers and one or more diamine monomers,

상기 디안하이드라이드 단량체는, 상기 디안하이드라이드 단량체의 전체 함량 대비 1 내지 10 몰%의 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 포함하고, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 분자구조 내에 적어도 하나의 삼중결합을 포함하는 것을 특징으로 한다.Wherein the dianhydride monomer comprises 1 to 10 mol% of a crosslinkable dianhydride-based compound relative to the total content of the dianhydride monomer, wherein the crosslinkable dianhydride-based compound has at least one triple bond And a control unit.

상기 폴리아믹산 조성물의 점도는 1,000 내지 10,000 cP 범위로서, 상세하게는 1,000 내지 8000 cP 범위, 더욱 상세하게는 1,000 내지 6000 cP 범위 일 수 있다.The viscosity of the polyamic acid composition is in the range of 1,000 to 10,000 cP, specifically in the range of 1,000 to 8,000 cP, more specifically in the range of 1,000 to 6,000 cP.

이러한 점도를 가지는 폴리아믹산 조성물은 유동성 측면에서 취급이 용이한 이점이 있고, 제막에도 유리할 수 있다.The polyamic acid composition having such a viscosity has an advantage of being easy to handle in terms of fluidity and may be advantageous for film formation.

상세하게는, 상기 폴리아믹산 조성물의 점도가 상기 범위를 상회하는 경우에는, 폴리이미드 제조 공정 중에 폴리아믹산 조성물을 파이프를 통해 이동시킬 때 파이프와의 마찰에 의해 더 높은 압력을 인가해야만 하므로, 공정 비용이 증가되고 취급성이 저하될 수 있다. 마찬가지로, 점도가 높을수록 혼합 공정에 더 많은 시간과 비용이 소요될 수 있다.Specifically, when the viscosity of the polyamic acid composition is higher than the above range, when the polyamic acid composition is moved through the pipe during the polyimide manufacturing process, a higher pressure must be applied due to friction with the pipe, And the handling property may be lowered. Likewise, the higher the viscosity, the more time and expense may be required in the mixing process.

반면에, 상기 폴리아믹산 조성물의 점도가 상기 범위를 하회하는 경우에는, 소망하는 정도의 내열성 및 기계적 물성을 얻기 어려울 수 있다.On the other hand, when the viscosity of the polyamic acid composition is below the above range, it may be difficult to obtain a desired degree of heat resistance and mechanical properties.

또한, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 디안하이드라이드 단량체의 전체 함량 대비 0.1 내지 10 몰%로서, 상세하게는, 0.1 내지 8 몰%, 더욱 상세하게는, 0.1 내지 5 몰%로 포함될 수 있다.In addition, the crosslinkable dianhydride-based compound may be contained in an amount of 0.1 to 10 mol%, specifically 0.1 to 8 mol%, more specifically 0.1 to 5 mol%, based on the total content of the dianhydride monomer .

상기 범위를 상회하도록 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 투입하여 폴리아믹산 조성물을 제조할 경우, 폴리이미드 필름의 유연성이 저하되어 필름의 형성이 어려울 수 있으며, 상기 범위를 하회하는 경우에는, 이를 통해 제조되는 폴리이미드 필름의 내열성 및 기계적 물성이 저하될 수 있는 바, 바람직하지 않다.When the polyamic acid composition is prepared by adding a crosslinkable dianhydride compound so as to have a ratio exceeding the above range, the flexibility of the polyimide film may be lowered and the formation of the film may be difficult. In the case where the polyimide film is below the above range, The heat resistance and the mechanical properties of the polyimide film may be deteriorated.

하나의 구체적인 예에서, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 하기 화학식 (1)로 표현되는 화합물일 수 있다.In one specific example, the crosslinkable dianhydride-based compound may be a compound represented by the following formula (1).

Figure 112018017119574-pat00001
(1)
Figure 112018017119574-pat00001
(One)

여기서, L은 C2-C6의 알키닐기 이고,Wherein L is a C2-C6 alkynyl group,

R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C3의 알킬기, 아릴기, 카르복실산기, 하이드록시기, 플루오로알킬기 및 술폰산기로 이루어진 군에서 선택될 수 있고,R1 and R2 each independently may be selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, a fluoroalkyl group and a sulfonic acid group of C1-C3,

R1 및 R2가 복수인 경우, 서로 동일 또는 상이할 수 있고,When a plurality of R1 and R2 are present, they may be the same or different,

n 및 m은 각각 독립적으로 0~3의 정수이다.n and m are each independently an integer of 0 to 3;

더욱 구체적인 예에서, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 하기 화학식 (2)로 표현되는 에티닐비스프탈릭안하이드라이드(Ethynylbisphthalicanhydride: EBPA)일 수 있다.In a more specific example, the crosslinkable dianhydride-based compound may be Ethynylbisphthalic anhydride (EBPA) represented by the following formula (2).

Figure 112018017119574-pat00002
(2)
Figure 112018017119574-pat00002
(2)

여기서, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물의 분자구조 내에 포함되는 삼중결합은 세 개의 전자쌍이 결합에 관여하고 있는 것으로서, 1개의 시그마(σ)결합과 2개의 파이(π)결합으로 이루어져 있고, 이 π결합으로 인하여 삼중결합은 불포화성을 보여, 첨가반응이나 중합반응을 잘 일으키며, 절단도 쉽게 이루어 지는 성질을 가진다.Herein, the triple bond contained in the molecular structure of the crosslinkable dianhydride compound is composed of three sigma (σ) bonds and two pi (π) bonds in which three electron pairs are involved in bonding, Due to the π bond, the triple bond is unsaturated and has a property of easily causing an addition reaction or a polymerization reaction and easily being cleaved.

본 발명의 폴리아믹산 조성물은 상기 삼중결합을 포함하는 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 디안하이드라이드 단량체의 전체 함량 대비 1 내지 10 몰%로 포함하는 바, 디안하이드라이드 단량체 및 디아민 단량체의 중합 반응에 의해 생성된 폴리아믹산이 가교성 디안하이드라이드계 화합물로부터 유래된 삼중결합을 갖는 2 이상의 폴리아믹산 사슬들을 포함할 수 있다.The polyamic acid composition of the present invention contains the crosslinkable dianhydride-based compound containing the triple bond in an amount of 1 to 10 mol% based on the total amount of the dianhydride monomer. The polyamic acid composition of the present invention comprises the dianhydride monomer and the diamine monomer May comprise two or more polyamic acid chains having a triple bond derived from a cross-linkable dianhydride-based compound.

상기와 같은 구조의 폴리아믹산 사슬을 포함하는 폴리아믹산 조성물은, 용액 상태에서는 삼중결합간의 가교결합이 형성되지 않으므로, 가교성 디안하이드라이드계 화합물로부터 유래되지 않은 통상의 폴리아믹산과 유사한 정도의 점도를 나타낼 수 있다. 다만, 이미드화를 위한 열처리 시, 서로 다른 폴리아믹산 사슬들에 포함된 삼중결합들 사이의 라디칼 반응에 의해 하나 이상의 가교결합을 형성할 수 있으므로, 폴리이미드로 변환된 이후에는 가교 결합에 의해 고분자 사이의 결합력이 상승하여, 통상의 폴리이미드에 비해 기계적 물성 및 내열성이 현저하게 향상될 수 있다.In the polyamic acid composition containing the polyamic acid chain having the above structure, since the crosslinking between the triple bonds is not formed in the solution state, the viscosity is similar to that of a conventional polyamic acid not derived from the crosslinkable dianhydride compound . However, in the heat treatment for imidization, one or more crosslinks can be formed by a radical reaction between the triple bonds contained in the different polyamic acid chains, so that after the conversion into the polyimide, The mechanical strength and heat resistance can be remarkably improved as compared with the conventional polyimide.

구체적인 예에서, 상기 폴리아믹산은 가교성 디안하이드라이드계 화합물로부터 유래된 삼중결합을 갖는 제1 폴리아믹산 사슬, 가교성 디안하이드라이드계 화합물로부터 유래된 삼중결합을 갖는 제2 폴리아믹산 사슬을 포함할 수 있고, 이외에 삼중결합을 갖는 폴리아믹산 사슬을 복수개 포함하는 구조일 수 있다.In a specific example, the polyamic acid comprises a first polyamic acid chain having a triple bond derived from a crosslinkable dianhydride-based compound, a second polyamic acid chain having a triple bond derived from a crosslinkable dianhydride-based compound And may be a structure including a plurality of polyamic acid chains having a triple bond in addition.

상기 폴리아믹산은 이미드화를 위한 열처리 시, 제1 폴리아믹산 사슬에 포함되는 제1 삼중결합과 제2 폴리아믹산 사슬에 포함하는 제2 삼중결합 각각에 절단된 파이결합으로부터 유래한 라디칼이 형성되고, 반응성이 높은 라디칼들이 라디칼 반응에 의해 서로 가교결합하는 형태로서, 제1 폴리아믹산 사슬과 제2 폴리아믹산 사슬을 가교시킬 수 있다.In the heat treatment for imidization, the radicals derived from the pie bonds cut in the first triple bond included in the first polyamic acid chain and the second triple bond included in the second polyamic acid chain are formed in the polyamic acid, As a form in which highly reactive radicals cross each other by a radical reaction, the first polyamic acid chain and the second polyamic acid chain can be crosslinked.

결과적으로, 제1 폴리아믹산 사슬 및 제2 폴리아믹산 사슬은 이미드화 과정에서 상기와 같은 반응에 의해 폴리이미드 사슬간에 가교결합을 형성할 수 있고, 상기 제1 폴리아믹산 사슬 및 제2 폴리아믹산 사슬 이외에 복수개의 폴리아믹산 사슬들이 각각 복수의 삼중결합을 포함하므로, 이들 사이에서 상기와 같은 가교결합이 형성될 수 있다.As a result, the first polyamic acid chain and the second polyamic acid chain can form crosslinks between the polyimide chains by the above-mentioned reaction in the imidization process, and in addition to the first polyamic acid chain and the second polyamic acid chain Since a plurality of polyamic acid chains each include a plurality of triple bonds, the above-mentioned crosslinking can be formed between them.

이러한 가교결합을 통해 가교결합을 포함하지 않는 폴리이미드에 비해 기계적 물성 및 내열성이 현저하게 향상될 수 있다.Through such cross-linking, mechanical properties and heat resistance can be remarkably improved as compared with polyimide not containing cross-linking.

본 발명에 따르면, 폴리이미드 필름의 내열성 및 기계적 물성을 높이기 위해 분자량이 매우 높은 폴리아믹산을 제조하는 대신, 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 이용하여 폴리아믹산을 제조하는 경우, 상대적으로 낮은 점도의 폴리아믹산 조성물을 이용하더라도 고점도를 가지는 폴리아믹산으로부터 제조되는 폴리이미드 필름과 유사한 수준의 내열성 및 기계적 물성을 발휘할 수 있다. 더욱이, 낮은 점도의 폴리아믹산 조성물을 이용하는 경우에는 공정 취급성이 더욱 향상되는 효과가 있다.According to the present invention, when a polyamic acid is produced using a crosslinkable dianhydride compound instead of preparing a polyamic acid having a very high molecular weight in order to improve the heat resistance and mechanical properties of the polyimide film, Even if a mixed acid composition is used, heat resistance and mechanical properties similar to those of a polyimide film produced from a polyamic acid having a high viscosity can be exerted. Furthermore, when a polyamic acid composition having a low viscosity is used, the processability is further improved.

한편, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 폴리아믹산은 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체 및 1종 이상의 디아민 단량체의 중합 반응에 의해 생성될 수 있다.On the other hand, as described above, the polyamic acid can be produced by polymerization reaction of one or more dianhydride monomers and one or more diamine monomers.

본 발명의 폴리아믹산 제조에 사용될 수 있는 디안하이드라이드 단량체는 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드일 수 있다.The dianhydride monomer that may be used in the preparation of the polyamic acid of the present invention may be an aromatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드는 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BPDA), 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(또는 ODPA), 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 DSDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 디안하이드라이드, 2,3,3',4'- 벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BTDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메테인 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로페인 디안하이드라이드, p-페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), p-바이페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)바이페닐 디안하이드라이드, 2,2-비스〔(3,4-디카르복시 페녹시)페닐〕프로페인 디안하이드라이드(BPADA), 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 디안하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 디안하이드라이드 등을 예로 들 수 있다. 이들은 소망하는 바에 따라 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.The aromatic tetracarboxylic dianhydride may be pyromellitic dianhydride (or PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or BPDA), 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or a-BPDA), oxydiphthalic dianhydride (or ODPA), diphenylsulfone-3,4,3'4'-tetracarboxylic Dianhydride (or DSDA), bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3- Hexafluoropropane dianhydride, 2,3,3 ', 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (or Bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, p-phenylene bis (trimellitic monoester), bis Acid Anna P-biphenylene bis (trimellitic monoester acid anhydride), m-terphenyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl- Bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxy Bis (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) biphenyl dianhydride, 2,2- (BPADA), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4 '- (2,2-hexafluoro Diisopropylidene) diphthalic acid dianhydride, and the like. These may be used alone or in combination of two or more thereof as desired.

이들은 소망하는 바에 따라 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있지만, 본 발명에서 특히 바람직하게 이용될 수 있는 디안하이드라이드 단량체는 피로멜리틱 디안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(s-BPDA) 및 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함할 수 있다.These dianhydride monomers may be used alone or in combination of two or more thereof as desired. However, dianhydride monomers that can be particularly preferably used in the present invention include pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ', 4,4 -Biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA). As shown in FIG.

본 발명의 폴리아믹산 제조에 사용될 수 있는 디아민 단량체는 방향족 디아민으로서, 이하와 같이 분류하여 예를 들 수 있다.The diamine monomers that can be used in the production of the polyamic acid of the present invention are aromatic diamines, which can be categorized as follows.

1) 1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(또는 DABA) 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 1개를 갖는 디아민으로서, 상대적으로 강직한 구조의 디아민;(1) A method of producing a polyimide precursor composition comprising: 1, 4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, Diamines having one benzene nucleus structurally, such as acacia (" DABA "), etc .; diamines of relatively rigid structure;

2) 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메테인(메틸렌디아민), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3'-디카복시-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메테인, 3,4'-디아미노디페닐메테인, 4,4'-디아미노디페닐메테인, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 2개를 갖는 디아민;2) diaminodiphenyl ethers such as 4,4'-diaminodiphenyl ether (or oxydianiline, ODA) and 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane (Methylenediamine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'- diaminobiphenyl, 2,2'-bis (trifluoromethyl ) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane , 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (4-aminophenyl) sulfide, 4,4'- diaminobenzanilide, Dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxy Benzidine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4 ' -Diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diamino Phenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4 ' -Diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dimethoxybenzophenone, 3,3'-diaminodiphenyl Bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-amino Phenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis , 1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide A diamine having two benzene nuclei in structure;

3) 1,3-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노 페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,3-비스(3-아미노페녹시)-4-트라이플루오로메틸벤젠, 3,3'-디아미노-4-(4-페닐)페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디(4-페닐페녹시)벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설파이 드)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(3-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 3개를 갖는 디아민;(3) aminophenyl) benzene, 1,4-bis (3-aminophenyl) benzene, Bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene (or TPE- Benzene (or TPE-Q), 1,3-bis (3-aminophenoxy) -4-trifluoromethylbenzene, 3,3'-diamino- , 3'-diamino-4,4'-di (4-phenylphenoxy) benzophenone, 1,3-bis (3-aminophenylsulfide) benzene, Benzene, 1,4-bis (4-aminophenylsulfide) benzene, 1,3-bis (3-aminophenylsulfone) benzene, 1,3- Benzene, 1,4-bis [2- (3-aminophenyl) isopropyl] benzene, 1,4- Benzene having three structural benzene nuclei, such as bis [2- (4-aminophenyl) isopropyl] benzene, Amine;

4) 3,3'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 3,3'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(4-아미노 페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스 〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인(BAPP), 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 4개를 갖는 디아민.4) bisphenols such as 3,3'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 3,3'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (aminophenoxy) phenyl] (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- , Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [3- (4-aminophenoxy) (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- Phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [3- Phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2- (BAPP), 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2- -Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] Such as 3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, Diamine with four benzene nuclei in structure.

이들은 소망하는 바에 따라 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있지만, 본 발명에서 특히 바람직하게 이용될 수 있는 디아민 단량체는 1,4-디아미노벤젠(PPD), 1,3-디아미노벤젠(MPD), 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔 및 3,5-디아미노벤조익 애시드(DABA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.These diamines can be used singly or in combination of two or more kinds as desired. The diamine monomers that can be particularly preferably used in the present invention include 1,4-diaminobenzene (PPD), 1,3-diaminobenzene (MPD ), 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, and 3,5-diaminobenzoic acid (DABA).

상기 디안하이드라이드 단량체의 투입량이 상기 범위를 상회하거나 하회하는 경우에는 소망하는 분자량에 도달하기 전에 중합이 종결되거나, 또는 저분자량의 올리고머들이 다수 생성되어 폴리이미드 필름의 형성이 가능한 폴리아믹산을 구현하기 어렵다.When the amount of the dianhydride monomer added is less than or equal to the above range, polymerization is terminated before a desired molecular weight is reached, or a polyamic acid capable of forming a polyimide film by generating a large number of low molecular weight oligomers it's difficult.

상기 폴리아믹산 조성물은, 상기 디아민 단량체와 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰로 투입될 수 있으며, 상세하게는 상기 디아민 단량체 100 몰%을 기준으로, 상기 디안하이드라이드 단량체의 투입량이 99 몰% 내지 101 몰%일 수 있고, 더욱 상세하게는, 상기 디아민 단량체 100 몰%을 기준으로, 상기 디안하이드라이드 단량체의 투입량이 99 몰% 내지 99.9 몰%일 수 있다.In the polyamic acid composition, the diamine monomer and the dianhydride monomer may be substantially equimolarly charged. More specifically, the amount of the dianhydride monomer may be from 99 mol% to 101 Mol, and more specifically, the amount of the dianhydride monomer may be 99 mol% to 99.9 mol% based on 100 mol% of the diamine monomer.

상기 디안하이드라이드 단량체의 투입량이 상기 범위를 상회하거나 하회하는 경우에는 소망하는 분자량에 도달하기 전에 중합이 종결되거나, 또는 저분자량의 올리고머들이 다수 생성되어 폴리이미드 필름의 형성이 가능한 폴리아믹산을 구현하기 어렵다.When the amount of the dianhydride monomer added is less than or equal to the above range, polymerization is terminated before a desired molecular weight is reached, or a polyamic acid capable of forming a polyimide film by generating a large number of low molecular weight oligomers it's difficult.

제2 양태: 폴리이미드 필름의 제조방법 및 폴리이미드 필름Second aspect: Production method of polyimide film and polyimide film

본 발명에 따른 폴리이미드 필름의 제조방법은, The method for producing a polyimide film according to the present invention comprises:

(a) 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체와 1종 이상의 디아민 단량체를 유기용매에 투입하고 중합하여 폴리아믹산 조성물을 제조하는 과정;(a) introducing at least one dianhydride monomer and at least one diamine monomer into an organic solvent and polymerizing to prepare a polyamic acid composition;

(b) 상기 폴리아믹산 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하는 과정; 및(b) drying the polyamic acid composition to form a gel film; And

(c) 상기 겔 필름을 열처리하는 과정을 포함하고,(c) heat treating the gel film,

상기 디안하이드라이드 단량체는, 상기 디안하이드라이드 단량체의 전체 함량 대비 1 내지 10 몰%의 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 포함하고, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 분자구조 내에 적어도 하나의 삼중결합을 포함할 수 있다.Wherein the dianhydride monomer comprises 1 to 10 mol% of a crosslinkable dianhydride-based compound relative to the total content of the dianhydride monomer, wherein the crosslinkable dianhydride-based compound has at least one triple bond . ≪ / RTI >

앞서 설명한 바와 같이, 상기 폴리아믹산 조성물에 포함된 폴리아믹산은 가교성 디안하이드라이드계 화합물로부터 유래된 삼중결합을 갖는 1 이상의 폴리아믹산 사슬들을 포함하고, 상기 과정 (c)에서, 이미드화를 위한 열처리 시, 서로 다른 폴리아믹산 사슬들에 포함된 삼중결합들 사이의 라디칼 반응에 의해 하나 이상의 가교결합을 형성할 수 있다.As described above, the polyamic acid contained in the polyamic acid composition includes at least one polyamic acid chain having a triple bond derived from a crosslinkable dianhydride compound, and in the step (c), the heat treatment for imidization , One or more crosslinks may be formed by a radical reaction between the triple bonds contained in the different polyamic acid chains.

즉, 상기와 같은 삼중결합들 사이의 가교결합에 의해, 제조되는 폴리이미드 필름의 내열성 및 기계적 물성을 높이기 위해 폴리아믹산 조성물 상태에서 분자량을 지나치게 높일 필요가 없이, 고분자량을 가지는 폴리아믹산으로부터 제조되는 폴리이미드 필름과 유사한 수준의 내열성 및 기계적 물성을 확보할 수 있다.That is, in order to increase the heat resistance and mechanical properties of the polyimide film to be produced by cross-linking between the triple bonds as described above, it is not necessary to excessively increase the molecular weight in the state of the polyamic acid composition and the polyimide film is produced from a polyamic acid having a high molecular weight Heat resistance and mechanical properties similar to those of the polyimide film can be secured.

본 발명에서 폴리아믹산 용액의 제조는 예를 들어,The preparation of the polyamic acid solution in the present invention can be carried out, for example,

(1) 디아민 단량체 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 디안하이드라이드 단량체를 디아민 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법;(1) a method in which the whole amount of the diamine monomer is put into a solvent, and then the dianhydride monomer is added so as to be substantially equimolar with the diamine monomer, and the mixture is polymerized;

(2) 디안하이드라이드 단량체 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 디아민 단량체를 디안하이드라이드 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법; (2) a method in which the whole amount of the dianhydride monomer is put into a solvent, and then, the diamine monomer is added so as to be substantially equimolar with the dianhydride monomer and polymerized;

(3) 디아민 단량체 중 일부 성분을 용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디안하이드라이드 단량체 중 일부 성분을 약 95~105 몰%의 비율로 혼합한 후, 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하고 이에 연속해서 나머지 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법;(3) After adding some of the components of the diamine monomer into the solvent, a part of the dianhydride monomer is mixed with the reaction component in a ratio of about 95 to 105 mol%, and then the remaining components of the diamine monomer are added. A method in which a dianhydride monomer component is added to polymerize the diamine monomer and the dianhydride monomer so that they are substantially equimolar;

(4) 디안하이드라이드 단량체를 용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디아민 화합물 중 일부 성분을 95~105 몰%의 비율로 혼합한 후, 다른 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하고 계속되어 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법;(4) After adding the dianhydride monomer into the solvent, the dianhydride monomer component is added to the reaction component in a proportion of 95 to 105 mol%, and then the remaining diamine monomer component To thereby polymerize the diamine monomer and the dianhydride monomer so that the diamine monomer and the dianhydride monomer are substantially equimolar;

(5) 용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이도록 반응시켜, 제1 조성물을 형성하고, 또 다른 용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이도록 반응시켜 제2 조성물을 형성한 후, 제1, 제2 조성물들을 혼합하고, 중합을 완결하는 방법으로서, 이 때 제1 조성물을 형성할 때 디아민 단량체 성분이 과잉일 경우, 제 2조성물에서는 디안하이드라이드 단량체 성분을 과량으로 하고, 제1 조성물에서 디안하이드라이드 단량체 성분이 과잉일 경우, 제2 조성물에서는 디아민 단량체 성분을 과량으로 하여, 제1, 제2 조성물들을 혼합하여 이들 반응에 사용되는 전체 디아민 단량체 성분과 디안하이드라이드 단량체 성분이 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법 등을 들 수 있다.(5) a step of reacting a part of the diamine monomer component and a part of the dianhydride monomer component in the solvent so that one of them is excessive to form the first composition, and in the other solvent, a part of the diamine monomer component and a part of the dianhydride monomer component To form a second composition, mixing the first and second compositions, and completing the polymerization, wherein when the diamine monomer component is excessive at the time of forming the first composition, the second composition , The dianhydride monomer component is excessively used, and when the dianhydride monomer component is excessive in the first composition, the diamine monomer component is excessively used in the second composition, and the first and second compositions are mixed and used So that the total diamine monomer component and the dianhydride monomer component are substantially equimolar It can be joined to the methods.

다만, 상기 중합 방법이 이상의 예들로만 한정되는 것은 아니며, 공지된 어떠한 방법을 사용할 수 있음은 물론이다.However, the polymerization method is not limited to the above examples, and any known method may be used.

상기 디안하이드라이드 단량체는 앞서 설명한 예시로부터 적절하게 선택될 수 있으며, 상세하게는, 가교성 디안하이드라이드계 화합물 이외에, 피로멜리틱 디안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(s-BPDA) 및 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함할 수 있다. The dianhydride monomer may be appropriately selected from the examples described above. Specifically, in addition to the crosslinkable dianhydride-based compound, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ', 4,4'- At least one selected from the group consisting of biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) .

상기 디아민 단량체는 앞서 설명한 예시로부터 적절하게 선택될 수 있으며, 상세하게는 1,4-디아미노벤젠(PPD), 1,3-디아미노벤젠(MPD), 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔 및 3,5-디아미노벤조익 애시드(DABA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 바람직하게 이용될 수 있다.The diamine monomer may be appropriately selected from the examples described above, and specifically, 1,4-diaminobenzene (PPD), 1,3-diaminobenzene (MPD), 2,4-diaminotoluene, 6-diaminotoluene, and 3,5-diaminobenzoic acid (DABA) may be preferably used.

본 발명의 제조방법에서 폴리이미드 필름은 열 이미드화법을 통해 제조될 수 있으며 화학적 이미드화법도 병행될 수 있다.In the production process of the present invention, the polyimide film can be produced through thermal imidization and the chemical imidation process can also be carried out.

상기 열 이미드화법이란, 화학적 촉매를 배제하고, 열풍이나 적외선 건조기 등의 열원으로 이미드화 반응을 유도하는 방법이다.The thermal imidization method is a method in which a chemical catalyst is excluded and a imidization reaction is induced by a heat source such as hot air or an infrared drier.

상기 열 이미드화법은, 상기 과정 (c)를 포함할 수 있고, 상기 과정 (c)에서 상기 겔 필름을 100 내지 600 ℃의 범위의 가변적인 온도에서 열처리하여 겔 필름에 존재하는 아믹산기를 이미드화할 수 있으며, 상세하게는 200 내지 500 ℃, 더욱 상세하게는, 300 내지 500 ℃에서 열처리하여 겔 필름에 존재하는 아믹산기를 이미드화할 수 있다.The thermal imidization may include the step (c), and the gel film may be heat-treated at a variable temperature ranging from 100 to 600 ° C in the step (c) Specifically, the amyl acid present in the gel film can be imidized by heat treatment at 200 to 500 ° C, more specifically 300 to 500 ° C.

다만, 상기 겔 필름을 형성하는 과정 (b)에서도 아믹산 중 일부(약 0.1 몰% 내지 10 몰%)가 이미드화될 수 있으며, 이를 위해 상기 과정 (b)에서는 50 ℃ 내지 200 ℃의 범위의 가변적인 온도에서 폴리아믹산 조성물을 건조할 수 있고, 이 또한 상기 열 이미드화법의 범주에 포함될 수 있다.However, even in the step (b) of forming the gel film, a part of the amic acid (about 0.1 to 10 mol%) may be imidized. For this, in the step (b) The polyamic acid composition can be dried at a variable temperature, and this can also be included in the category of the thermal imidation process.

이상과 같은 제조방법에 따라 제조된 본 발명의 폴리이미드 필름은, 열팽창 계수(CTE)가 2 내지 15 ppm/℃이고, 유리전이온도(Tg)가 360 ℃ 이상이고, 신율이 10 % 이상이고, 모듈러스(modulus)가 2.7 GPa 이상이고, 인장강도가 280 kgf/cm2 이상일 수 있다.The polyimide film of the present invention produced by the above production method has a CTE of 2 to 15 ppm / 占 폚, a glass transition temperature (Tg) of 360 占 폚 or more, an elongation of 10% A modulus of at least 2.7 GPa, and a tensile strength of at least 280 kgf / cm 2 .

화학적 이미드화법을 병행하는 경우, 당업계에 공지된 방법에 따라 탈수제 및 이미드화제를 이용하여, 폴리이미드 필름을 제조할 수 있다.When a chemical imidization method is used in parallel, a polyimide film can be produced by using a dehydrating agent and an imidizing agent according to a method known in the art.

본 발명은 또한, 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 전자 장치를 제공하며, 상기 전자 장치는 연성회로기판 또는 디스플레이 기판을 포함하는 전자 장치일 수 있다.The present invention also provides an electronic device comprising the polyimide film, wherein the electronic device may be an electronic device including a flexible circuit board or a display substrate.

본 발명에 따른 폴리아믹산 조성물은 분자구조 내에 적어도 하나의 삼중결합을 포함하는 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 포함함으로써, 이미드화를 위한 열처리 시, 서로 다른 폴리아믹산 사슬들에 포함된 삼중결합들 사이의 라디칼 반응에 의해 하나 이상의 가교결합을 형성할 수 있고, 이로 인해 폴리이미드 필름의 내열성 및 기계적 물성을 향상시킬 수 있다.The polyamic acid composition according to the present invention includes a crosslinkable dianhydride-based compound containing at least one triple bond in the molecular structure so that, during the heat treatment for imidization, Can form one or more crosslinks by the radical reaction of the polyimide film, thereby improving the heat resistance and mechanical properties of the polyimide film.

또한, 본 발명에 따른 폴리이미드는 이미드화를 위한 열처리 시에 내열성 및 기계적 물성이 향상되므로, 이의 전구체인 폴리아믹산 조성물의 점도를 낮게 유지할 수 있고, 이로 인해 공정 취급성을 현저하게 향상시킬 수 있다.In addition, since the polyimide according to the present invention has improved heat resistance and mechanical properties at the time of heat treatment for imidization, the viscosity of the polyamic acid composition as a precursor thereof can be kept low and the processability can be remarkably improved .

또한, 상기 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 폴리이미드 필름은, 열팽창 계수(CTE)가 2 내지 15 ppm/℃이고, 유리전이온도(Tg)가 360 ℃ 이상이고, 신율이 10% 이상이고, 모듈러스(modulus)가 2.7 GPa 이상이고, 인장강도가 280 kgf/cm2 이상일 수 있다. Also, the polyimide film produced from the polyamic acid composition preferably has a coefficient of thermal expansion (CTE) of 2 to 15 ppm / 占 폚, a glass transition temperature (Tg) of 360 占 폚 or more, an elongation of 10% ) Of 2.7 GPa or more and a tensile strength of 280 kgf / cm 2 or more.

이러한 폴리이미드 필름은 디스플레이기 기판에 요구되는 내열성 및 기계적 물성을 만족하는 이점이 있다.Such a polyimide film has an advantage of satisfying heat resistance and mechanical properties required for a display substrate.

이하, 발명의 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다.Best Mode for Carrying Out the Invention Hereinafter, the function and effect of the present invention will be described in more detail through specific examples of the present invention. It is to be understood, however, that these embodiments are merely illustrative of the invention and are not intended to limit the scope of the invention.

이하 실시예 및 비교예에서 사용한 약어의 화합물명은 다음과 같다.The abbreviations used in Examples and Comparative Examples are as follows.

- 비페닐테트라카르복실산 이무수물: BPDA- biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride: BPDA

- 피로멜리트산 이무수물: PMDA- pyromellitic dianhydride: PMDA

- 파라-페닐렌 디아민: PPD- para-phenylenediamine: PPD

- N-메틸 피롤리돈: NMP- N-methylpyrrolidone: NMP

<실시예 1> &Lt; Example 1 >

제조예 1: 폴리아믹산 조성물의 제조Preparation Example 1: Preparation of polyamic acid composition

교반기 및 질소 주입ㅇ배출관을 구비한 500 ㎖ 반응기에 질소를 주입시키면서 412.3 g의 NMP을 투입하고 반응기의 온도를 30 ℃로 설정한 후 19.2 g의 PPD, 50.6 g의 BPDA를 투입하여 완전히 용해되고 반응할 때까지 교반하였다.Agitator and nitrogen injection o 412.3 g of NMP was charged into a 500 ml reactor equipped with a discharge tube, and the temperature of the reactor was set at 30 ° C. Then, 19.2 g of PPD and 50.6 g of BPDA were added to completely dissolve and react Lt; / RTI &gt;

반응이 완료된 후 1.44 g의 BPDA를 NMP에 10 중량%로 용해시킨 후 10 분 간격으로 23 ℃에서의 점도가 5,000 cP가 될 때까지 투입하였다.After the reaction was completed, 1.44 g of BPDA was dissolved in NMP at 10 wt%, and the solution was added thereto at 10 minutes intervals until the viscosity at 23 DEG C reached 5,000 cP.

이후 반응기의 온도를 50 ℃로 설정한 후 PPD 100 몰에 대하여 1 몰의 EBPA를 투입하였다.After setting the temperature of the reactor at 50 캜, 1 mole of EBPA was added per 100 moles of PPD.

반응이 완료될 때까지 충분히 교반하여 폴리아믹산 조성물(23 ℃에서의 점도: 5,500 cP)을 제조하였다.The polyamic acid composition (viscosity at 23 캜: 5,500 cP) was prepared by stirring sufficiently until the reaction was completed.

제조예 2: 폴리이미드 필름의 제조Production Example 2: Preparation of polyimide film

제조예 1의 폴리아믹산 조성물을 1,500 rpm 이상의 고속 회전을 통해 기포를 제거하였다.The polyamic acid composition of Production Example 1 was subjected to high speed rotation at 1,500 rpm or more to remove bubbles.

이후 스핀 코터를 이용하여 유리 기판에 탈포된 폴리아믹산 조성물을 도포하였다.Thereafter, the defoamed polyamic acid composition was applied to the glass substrate using a spin coater.

이후 질소 분위기하 및 120 ℃의 온도에서 30 분 동안 건조하고, 450 ℃까지 2 ℃/분의 속도로 승온하고, 450 ℃에서 60 분 동안 열처리하고, 30 ℃까지 2 ℃/분의 속도로 냉각하여 폴리이미드 필름을 수득하였다.Thereafter, the resultant was dried in a nitrogen atmosphere at 120 ° C. for 30 minutes, heated to 450 ° C. at a rate of 2 ° C./min, heat-treated at 450 ° C. for 60 minutes, cooled to 30 ° C. at a rate of 2 ° C./min A polyimide film was obtained.

이후 증류수에 디핑(dipping)하여 유리 기판에서 폴리이미드 필름을 박리시켰다. 제조된 폴리이미드 필름의 두께는 15 ㎛였다.Thereafter, the polyimide film was peeled off from the glass substrate by dipping in distilled water. The thickness of the produced polyimide film was 15 탆.

제조된 폴리이미드 필름의 두께는 Anritsu사의 필름 두께 측정기(Electric Film thickness tester)를 사용하여 측정하였다.The thickness of the polyimide film was measured using an electric film thickness tester manufactured by Anritsu.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

제조예 1에서, BPDA와 EBPA의 몰비를 하기 표 1과 같이 변경하여 투입하고, 측정된 폴리아믹산 조성물의 점도가 약 5,300 cP인 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.In Production Example 1, a polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio of BPDA and EBPA was changed as shown in Table 1 and the viscosity of the polyamic acid composition measured was about 5,300 cP .

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

제조예 1에서 투입한 단량체 대신, PPD, BPDA, PMDA 및 EBPA를 하기 표 1에 나타낸 몰비로 투입하고 중합하여 폴리아믹산 조성물을 제조한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1, except that PPD, BPDA, PMDA, and EBPA were added in the molar ratio shown in Table 1 instead of the monomer added in Production Example 1 and polymerization was carried out to prepare a polyamic acid composition. Respectively.

<실시예 4><Example 4>

제조예 1에서 투입한 단량체 대신, PPD, BPDA, PMDA 및 EBPA를 하기 표 1에 나타낸 몰비로 투입하고 중합하여 폴리아믹산 조성물을 제조한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1, except that PPD, BPDA, PMDA, and EBPA were added in the molar ratio shown in Table 1 instead of the monomer added in Production Example 1 and polymerization was carried out to prepare a polyamic acid composition. Respectively.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

제조예 1에서, EBPA를 투입하지 않고, PPD 및 BPDA의 몰비를 하기 표 1과 같이 변경하여 투입하고, 측정된 폴리아믹산 조성물의 점도가 약 5,000 cp인 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 1 except that the molar ratio of PPD and BPDA was changed as shown in the following Table 1 and the viscosity of the polyamic acid composition measured was about 5,000 cp without adding EBPA in Production Example 1 To prepare a polyimide film.

<비교예2>&Lt; Comparative Example 2 &

제조예 1에서, BPDA와 EBPA의 몰비를 하기 표 1과 같이 변경하여 투입하고, 측정된 폴리아믹산 조성물의 점도가 약 5,200 cp인 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.In Production Example 1, a polyimide film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio of BPDA and EBPA was changed as shown in Table 1 and the viscosity of the polyamic acid composition measured was about 5,200 cp .

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

제조예 1에서 투입한 단량체 대신, PPD, BPDA, PMDA 및 EBPA를 하기 표 1에 나타낸 몰비로 투입하고 중합하여 폴리아믹산 조성물을 제조한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1, except that PPD, BPDA, PMDA, and EBPA were added in the molar ratio shown in Table 1 instead of the monomer added in Production Example 1 and polymerization was carried out to prepare a polyamic acid composition. Respectively.

<비교예 4>&Lt; Comparative Example 4 &

제조예 1에서, EBPA를 투입하지 않고, 측정된 폴리아믹산 조성물의 점도가 약 12,000 cp인 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 필름을 제조하였다.In Production Example 1, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1, except that EBPA was not added and the viscosity of the measured polyamic acid composition was about 12,000 cp.

PPD
(몰%)
PPD
(mole%)
PMDA
(몰%)
PMDA
(mole%)
BPDA
(몰%)
BPDA
(mole%)
EBPA
(몰%)
EBPA
(mole%)
점도
(cP)
Viscosity
(cP)
실시예 1Example 1 100100 -- 9999 1One 5,5005,500 실시예 2Example 2 100100 -- 9595 55 5,3005,300 실시예 3Example 3 100100 5050 4949 1One 5,5005,500 실시예 4Example 4 100100 5050 4545 55 5,3005,300 비교예 1Comparative Example 1 100100 -- 100100 -- 5,6005,600 비교예 2Comparative Example 2 100100 -- 8989 1111 5,0005,000 비교예 3Comparative Example 3 100100 5050 3939 1111 5,2005,200 비교예 4Comparative Example 4 100100 -- 9999 1One 12,00012,000

<실험예 1: 물성평가><Experimental Example 1: Evaluation of physical properties>

실시예 1 내지 실시예 4, 비교예 1,2 및 4에서 제조된 폴리이미드 필름의 물성을 하기 방식을 이용하여 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. The physical properties of the polyimide films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1, 2 and 4 were measured using the following method, and the results are shown in Table 2 below.

(1) 열팽창 계수(CTE)(1) Coefficient of thermal expansion (CTE)

TA사 열기계 분석기(thermomechanical analyzer) Q400 모델을 사용하였으며, 폴리이미드 필름을 폭 2 mm, 길이 10 mm로 자른 후 질소 분위기하에서 0.05 N의 장력을 가하면서, 10 ℃/min의 속도로 상온에서 500 ℃까지 승온 후 다시 10 ℃/min의 속도로 냉각하면서 100 ℃에서 350 ℃ 구간의 기울기를 측정하였다.Using a TA thermomechanical analyzer Q400 model, the polyimide film was cut to a width of 2 mm and a length of 10 mm. The film was stretched at a rate of 10 ° C / min under a nitrogen atmosphere at a rate of 0.05 N Lt; 0 &gt; C and then cooled at a rate of 10 [deg.] C / min.

(2) 유리전이온도(Tg)(2) Glass transition temperature (Tg)

TA사 동적 역학적 거동 분석(Dynamic Mechanical Analysis) Q800 모델을 사용하여, 폴리이미드 필름을 폭 4 mm, 길이 20 mm로 자른 후 질소 분위기하에서 5 ℃/min의 승온 속도로, 상온에서 550 ℃의 온도구간 조건에서 유리전이온도를 측정하였다.Dynamic mechanical analysis of a TA machine Dynamic Mechanical Analysis Using a Q800 model, the polyimide film was cut into 4 mm wide and 20 mm long, and then heated at a rate of 5 ° C / min under a nitrogen atmosphere, at a temperature of 550 ° C The glass transition temperature was measured under the conditions.

상기 유리전이온도는 저장 탄성률(storage modulus)과 손실 탄성률(loss modulus)의 비에 따라 계산되는 tanδ의 최대 피크로 판정하였다.The glass transition temperature was determined as the maximum peak of tan? Calculated according to the ratio of storage modulus and loss modulus.

(3) 신율, 모듈러스 및 인장강도(3) elongation, modulus and tensile strength

폴리이미드 필름을 폭 10 mm, 길이 40 mm로 자른 후 인스트론(Instron)사의 Instron5564 UTM 장비를 사용하여 ASTM D-882 방법으로 신율, 모듈러스 및 인장강도를 측정하였다.The polyimide film was cut to a width of 10 mm and a length of 40 mm, and then the elongation, modulus and tensile strength were measured by an Instron5564 UTM instrument of Instron by ASTM D-882 method.

CTE
(ppm/℃)
CTE
(ppm / DEG C)
Tg
(℃)
Tg
(° C)
신율
(%)
Elongation
(%)
모듈러스
(GPa)
Modulus
(GPa)
인장강도
(kgf/cm2)
The tensile strength
(kgf / cm 2 )
실시예 1Example 1 7.57.5 367367 2323 8.48.4 373373 실시예 2Example 2 4.54.5 378378 2525 8.78.7 386386 실시예 3Example 3 7.27.2 430430 1313 9.09.0 284284 실시예 4Example 4 5.25.2 441441 1515 9.29.2 297297 비교예 1Comparative Example 1 15.815.8 337337 2020 8.08.0 277277 비교예 2Comparative Example 2 23.023.0 330330 55 6.56.5 223223 비교예 4Comparative Example 4 21.721.7 356356 2222 8.38.3 261261

표 1을 참조하면, 본 발명의 범위로 EBPA를 단량체로 포함하는 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름은 유리전이온도가 360℃ 이상으로 내열성이 우수함을 확인할 수 있고, 이는, 10,000 cP 이상의 고점도, 즉, 고분자량의 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 비교예 4의 폴리이미드 필름의 유리전이온도보다 높은 수치임을 확인할 수 있다.Referring to Table 1, it can be confirmed that the polyimide films of Examples 1 to 4 prepared from the polyamic acid composition containing EBPA as a monomer within the scope of the present invention have excellent heat resistance at a glass transition temperature of 360 ° C or higher, , Higher than 10,000 cP, i.e., higher than the glass transition temperature of the polyimide film of Comparative Example 4 prepared from a high molecular weight polyamic acid composition.

반면에, 본원의 실시예와 유사한 점도를 가지나 EBPA를 단량체로 포함하지 않는 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 비교예 1의 폴리이미드 필름의 경우, CTE가 본 발명의 범위를 벗어나고, 실시예들에 비해 유리전이온도 및 인장강도가 낮은 바, 치수안정성이 낮고 내열성 및 기계적 물성이 우수하지 못함을 확인할 수 있다.On the other hand, in the case of the polyimide film of Comparative Example 1 prepared from the polyamic acid composition having a similar viscosity to the examples of the present invention but containing EBPA as a monomer, the CTE was out of the scope of the present invention, The transition temperature and the tensile strength are low, the dimensional stability is low, and the heat resistance and mechanical properties are not excellent.

마찬가지로, EBPA를 과량으로 투입하여 제조된 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 비교예 2의 폴리이미드 필름의 경우, CTE가 본 발명의 범위를 벗어나고, 실시예들에 비해 유리전이온도가 낮은 바, 치수안정성이 낮고 내열성이 우수하지 못하며, 신율이 10 % 이하이고, 인장강도가 280 kgf/cm2 이하로서, 기계적 물성이 실시예들에 비해 저하된 것을 확인할 수 있다.Similarly, in the case of the polyimide film of Comparative Example 2 prepared from the polyamic acid composition prepared by adding EBPA in an excess amount, the CTE was out of the range of the present invention and the glass transition temperature was lower than those of Examples, Low heat resistance, an elongation of 10% or less, a tensile strength of 280 kgf / cm 2 , It can be confirmed that the mechanical properties are lower than those of the examples.

결과적으로, 본 발명의 범위 내로 이미드화를 위한 열처리 온도를 만족하고, 본 발명의 범위 내로 EBPA를 폴리아믹산에 투입한 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 실시예 1 내지 4의 폴리이미드 필름의 경우, 상대적으로 저점도, 즉, 저분자량의 폴리아믹산 조성물로부터 폴리이미드 필름을 제조했음에도 불구하고, 폴리이미드 필름의 열팽창계수, 유리전이온도, 신율, 모듈러스, 인장강도 등의 물성들이 우수한 바, 연성회로기판 또는 디스플레이 기판을 포함하는 전자 장치에 바람직하게 사용될 수 있다.As a result, in the case of the polyimide films of Examples 1 to 4 prepared from the polyamic acid composition which satisfied the heat treatment temperature for imidization within the scope of the present invention and into which EBPA was added to the polyamic acid within the scope of the present invention, Although the polyimide film is produced from a polyimide film composition having a low viscosity, that is, a low molecular weight polyimide film, the properties such as thermal expansion coefficient, glass transition temperature, elongation, modulus and tensile strength of the polyimide film are excellent. It can be preferably used for an electronic device including a substrate.

<실험예 2: 필름 외형 평가>&Lt; Experimental Example 2: Film outer appearance evaluation &

실시예 3, 4 및 비교예 3에서 제조된 폴리이미드 필름의 외형을 육안으로 관찰하고, 상업적으로 활용할 수 있는지 여부를 판단하고 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.The appearance of the polyimide films prepared in Examples 3 and 4 and Comparative Example 3 was visually observed and judged whether or not they could be used commercially. The results are shown in Table 3 below.

예를 들어, 양품의 필름일 때, 'O'로 나타내었고, 자기 지지성이 없거나 브리틀한 특성을 가짐으로써, 불량이라 판단되었을 때 'X'로 나타내었다.For example, when it is a good film, it is represented by 'O', and when it is judged to be defective by having no self-supporting property or brittleness property, it is expressed as 'X'.

외형 평가Appearance evaluation 실시예 3Example 3 OO 실시예 4Example 4 OO 비교예 3Comparative Example 3 XX

표 3의 결과로부터, 디아민 단량체로서 PPD, 디안하이드라이드 단량체로서 PMDA 및 BPDA를 사용한 경우에서, 본 발명의 범위를 벗어나도록 과도하게 EBPA를 사용한 비교예 3의 경우, 폴리이미드 필름이 양품으로 제조되지 않음을 알 수 있다.From the results in Table 3, it can be understood that in the case of using PPD as the diamine monomer, PMDA and BPDA as the dianhydride monomers, and in the case of Comparative Example 3 using EBPA excessively deviating from the scope of the present invention, .

이상 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 상기 내용을 바탕을 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.Although the present invention has been fully described by way of example with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention.

Claims (16)

폴리아믹산 및 유기용매를 포함하는 폴리아믹산 조성물로서,
점도가 1,000 내지 10,000 cP 범위이고,
상기 폴리아믹산은 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체 및 1종 이상의 디아민 단량체의 중합 반응에 의해 생성되고,
상기 디안하이드라이드 단량체는, 상기 디안하이드라이드 단량체의 전체 함량 대비 1 내지 10 몰%의 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 포함하고, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 분자구조 내에 적어도 하나의 삼중결합을 포함하며,
상기 폴리아믹산 조성물로부터 제조된 폴리이미드 필름은 유리전이온도(Tg)가 360℃ 이상이고, 신율이 13% 이상인, 폴리아믹산 조성물.
A polyamic acid composition comprising a polyamic acid and an organic solvent,
Viscosity ranging from 1,000 to 10,000 cP,
Wherein the polyamic acid is produced by polymerization of one or more dianhydride monomers and one or more diamine monomers,
Wherein the dianhydride monomer comprises 1 to 10 mol% of a crosslinkable dianhydride-based compound relative to the total content of the dianhydride monomer, wherein the crosslinkable dianhydride-based compound has at least one triple bond / RTI &gt;
Wherein the polyimide film produced from the polyamic acid composition has a glass transition temperature (Tg) of 360 DEG C or more and an elongation of 13% or more.
제1항에 있어서,
상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 하기 화학식 (1)로 표현되는, 폴리아믹산 조성물:

Figure 112018017119574-pat00003
(1)
여기서, L은 C2-C6의 알키닐기 이고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C3의 알킬기, 아릴기, 카르복실산기, 하이드록시기, 플루오로알킬기 및 술폰산기로 이루어진 군에서 선택될 수 있고,
R1 및 R2가 복수인 경우, 서로 동일 또는 상이할 수 있고,
n 및 m은 각각 독립적으로 0~3의 정수이다.
The method according to claim 1,
Wherein the crosslinkable dianhydride compound is represented by the following formula (1): &lt; EMI ID =

Figure 112018017119574-pat00003
(One)
Wherein L is a C2-C6 alkynyl group,
R1 and R2 each independently may be selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, a fluoroalkyl group and a sulfonic acid group of C1-C3,
When a plurality of R1 and R2 are present, they may be the same or different,
n and m are each independently an integer of 0 to 3;
제1항에 있어서,
상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 에티닐비스프탈릭안하이드라이드(Ethynylbisphthalicanhydride: EBPA)인, 폴리아믹산 조성물.
The method according to claim 1,
The crosslinkable dianhydride-based compound is Ethynylbisphthalic anhydride (EBPA) Polyamic acid composition.
제1항에 있어서,
상기 폴리아믹산은 가교성 디안하이드라이드계 화합물로부터 유래된 삼중결합을 갖는 2 이상의 폴리아믹산 사슬들을 포함하고,
이미드화를 위한 열처리 시, 서로 다른 폴리아믹산 사슬들에 포함된 삼중결합들 사이의 라디칼 반응에 의해 하나 이상의 가교결합을 형성하는 폴리아믹산 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polyamic acid comprises two or more polyamic acid chains having a triple bond derived from a crosslinkable dianhydride-based compound,
Wherein the polyamic acid composition forms one or more crosslinks by a radical reaction between the triple bonds contained in the different polyamic acid chains during the heat treatment for imidization.
제1항에 있어서,
상기 디안하이드라이드 단량체가 피로멜리틱 디안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(s-BPDA) 및 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는, 폴리아믹산 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the dianhydride monomer is selected from the group consisting of pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 2,3,3', 4 ' -Biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA). &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 11. &lt; / RTI &gt;
제1항에 있어서,
상기 디아민 단량체가 1,4-디아미노벤젠(PPD), 1,3-디아미노벤젠(MPD), 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔 및 3,5-디아미노벤조익 애시드(DABA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 폴리아믹산 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the diamine monomer is at least one selected from the group consisting of 1,4-diaminobenzene (PPD), 1,3-diaminobenzene (MPD), 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene and 3,5- (DABA). &Lt; / RTI &gt;
폴리이미드 필름을 제조하는 방법으로서,
(a) 1종 이상의 디안하이드라이드 단량체와 1종 이상의 디아민 단량체를 유기용매에 투입하고 중합하여 폴리아믹산 조성물을 제조하는 과정;
(b) 상기 폴리아믹산 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하는 과정; 및
(c) 상기 겔 필름을 열처리하는 과정을 포함하고,
상기 디안하이드라이드 단량체는, 상기 디안하이드라이드 단량체의 전체 함량 대비 1 내지 10 몰%의 가교성 디안하이드라이드계 화합물을 포함하고, 상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 분자구조 내에 적어도 하나의 삼중결합을 포함하며,
상기 폴리이미드 필름은 유리전이온도(Tg)가 360℃ 이상이고, 신율이 13% 이상인, 제조방법.
A method for producing a polyimide film,
(a) introducing at least one dianhydride monomer and at least one diamine monomer into an organic solvent and polymerizing to prepare a polyamic acid composition;
(b) drying the polyamic acid composition to form a gel film; And
(c) heat treating the gel film,
Wherein the dianhydride monomer comprises 1 to 10 mol% of a crosslinkable dianhydride-based compound relative to the total content of the dianhydride monomer, wherein the crosslinkable dianhydride-based compound has at least one triple bond / RTI &gt;
Wherein the polyimide film has a glass transition temperature (Tg) of 360 DEG C or more and an elongation of 13% or more.
제7항에 있어서,
상기 폴리아믹산 조성물에 포함된 폴리아믹산은 가교성 디안하이드라이드계 화합물로부터 유래된 삼중결합을 갖는 2 이상의 폴리아믹산 사슬들을 포함하고,
이미드화를 위한 열처리 시, 서로 다른 폴리아믹산 사슬들에 포함된 삼중결합들 사이의 라디칼 반응에 의해 하나 이상의 가교결합을 형성하는, 제조방법.
8. The method of claim 7,
The polyamic acid contained in the polyamic acid composition comprises two or more polyamic acid chains having a triple bond derived from a crosslinkable dianhydride compound,
Wherein during heat treatment for imidization, one or more crosslinks are formed by radical reactions between the triple bonds contained in the different polyamic acid chains.
제7항에 있어서,
상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 하기 화학식 (1)로 표현되는, 제조방법:

Figure 112018017119574-pat00004
(1)
여기서, L은 C2-C6의 알키닐기 이고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C3의 알킬기, 아릴기, 카르복실산기, 하이드록시기, 플루오로알킬기 및 술폰산기로 이루어진 군에서 선택될 수 있고,
R1 및 R2가 복수인 경우, 서로 동일 또는 상이할 수 있고,
n 및 m은 각각 독립적으로 0~3의 정수이다.
8. The method of claim 7,
Wherein the crosslinkable dianhydride compound is represented by the following formula (1):

Figure 112018017119574-pat00004
(One)
Wherein L is a C2-C6 alkynyl group,
R1 and R2 each independently may be selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, a carboxylic acid group, a hydroxyl group, a fluoroalkyl group and a sulfonic acid group of C1-C3,
When a plurality of R1 and R2 are present, they may be the same or different,
n and m are each independently an integer of 0 to 3;
제7항에 있어서,
상기 가교성 디안하이드라이드계 화합물은 에티닐비스프탈릭안하이드라이드(Ethynylbisphthalicanhydride: EBPA)인, 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the crosslinkable dianhydride compound is Ethynylbisphthalic anhydride (EBPA).
제7항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 열 이미드화법을 통해 제조되며,
상기 과정 (b)에서 50 ℃ 내지 200 ℃의 범위의 가변적인 온도에서 건조되고,
상기 과정 (c)에서 100 ℃ 내지 600 ℃의 범위의 가변적인 온도에서 열처리되는, 제조방법.
8. The method of claim 7,
The polyimide film is produced through thermal imidization,
Is dried at a variable temperature in the range of 50 DEG C to 200 DEG C in the step (b)
Treated at a variable temperature ranging from 100 ° C to 600 ° C in the step (c).
제7항에 있어서,
상기 디안하이드라이드 단량체가 피로멜리틱 디안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(s-BPDA) 및 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하고,
상기 디아민 단량체가 1,4-디아미노벤젠(PPD), 1,3-디아미노벤젠(MPD), 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔 및 3,5-디아미노벤조익 애시드(DABA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the dianhydride monomer is selected from the group consisting of pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 2,3,3', 4 ' - biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA), wherein the at least one selected from the group consisting of:
Wherein the diamine monomer is at least one selected from the group consisting of 1,4-diaminobenzene (PPD), 1,3-diaminobenzene (MPD), 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene and 3,5- (DABA). &Lt; / RTI &gt;
제7항에 따른 제조방법으로 제조되는 폴리이미드 필름으로서,
열팽창 계수(CTE)가 2.0 내지 15 ppm/℃이고,
모듈러스(modulus)가 2.7 GPa 이상이고,
인장강도가 280 kgf/cm2 이상인, 폴리이미드 필름.
A polyimide film produced by the production method according to claim 7,
A coefficient of thermal expansion (CTE) of 2.0 to 15 ppm / 占 폚,
A modulus of at least 2.7 GPa,
A polyimide film having a tensile strength of 280 kgf / cm 2 or more.
제13항에 있어서,
상기 폴리이미드 필름은 5 내지 50 ㎛의 두께를 가지는, 폴리이미드 필름.
14. The method of claim 13,
Wherein the polyimide film has a thickness of 5 to 50 mu m.
제12항에 따른 폴리이미드 필름을 포함하는, 전자 장치.14. An electronic device comprising a polyimide film according to claim 12. 제15항에 있어서, 상기 전자 장치는 연성회로기판 또는 디스플레이 기판을 포함하는, 전자 장치.16. The electronic device of claim 15, wherein the electronic device comprises a flexible circuit board or a display substrate.
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