JPH08111446A - Temperature measuring apparatus at junction of semiconductor device - Google Patents

Temperature measuring apparatus at junction of semiconductor device

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JPH08111446A
JPH08111446A JP24384694A JP24384694A JPH08111446A JP H08111446 A JPH08111446 A JP H08111446A JP 24384694 A JP24384694 A JP 24384694A JP 24384694 A JP24384694 A JP 24384694A JP H08111446 A JPH08111446 A JP H08111446A
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JP
Japan
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semiconductor device
pulse
junction
current
voltage
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Application number
JP24384694A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Sakao
栄一 坂尾
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Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To detect a defective product correctly by providing a memory circuit for periodically sampling & holding the voltage at a P-N junction of a semiconductor device a plurality of times during an interval when a current sufficiently higher than a normal current is fed, and means for displaying the output from the memory means. CONSTITUTION: During an interval TS, a switch 5 is turned ON to feed a chip 1 with power thus heating the chip 1. During an interval TS, the switch 5 is turned OFF and during the turn OFF interval, a sampling switch 7 is turned ON to sample & hold the base-emitter voltage VBE of a transistor Q. Power supply and sampling of VBE are repeated alternately and the VBE is measured repeatedly for one chip 1. The sampled & held VBE is expressed in terms of temperature and presented on an oscilloscope 11. Since variation of voltage at a P-N junction (temperature at P-N junction) can be grasped when a semiconductor device is heating, detecting bonding of the semiconductor device can be detected correctly.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はトランジスタ等の半導体
装置における接合部の温度を測定する装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for measuring the temperature of a junction in a semiconductor device such as a transistor.

【0002】[0002]

【従来の技術】トランジスタ製造において、図6に示す
ようにフレーム60にトランジスタのチップ61をボン
ディングし、そのボンディングが正しく行なわれたか否
かを検査することが行なわれている。ボンディングが不
充分であると、トランジスタにパワーを与えたとき、ト
ランジスタで発生した熱がフレームへ伝わり難くなるた
めトランジスタの接合部(PN接合部)の温度が大きく
なり、トランジスタは破壊する。
2. Description of the Related Art In manufacturing a transistor, a chip 61 of a transistor is bonded to a frame 60 as shown in FIG. 6 and it is inspected whether or not the bonding is correctly performed. Insufficient bonding makes it difficult for the heat generated in the transistor to be transferred to the frame when power is applied to the transistor, so that the temperature of the junction (PN junction) of the transistor increases and the transistor is destroyed.

【0003】従って、このようなボンディング不良のト
ランジスタは不良品として処分されなければならない。
接合部の温度はトランジスタのベース・エミッタ間電圧
BEとは相関関係があるので、VBEをみれば、ボンディ
ング状態が間接的に分かる。尚、図6、図7において、
Bはベース、Eはエミッタ、Cはコレクタを示す。
Therefore, such defectively bonded transistors must be disposed of as defective products.
Since the temperature at the junction has a correlation with the base-emitter voltage V BE of the transistor, the bonding state can be indirectly known by looking at V BE . In addition, in FIG. 6 and FIG.
B is a base, E is an emitter, and C is a collector.

【0004】図8に示す従来の測定装置では、まずスイ
ッチ80をOFFにして第1定電流源81の電流1mAの
みがトランジスタに流れるようにしてVBEを測定する。
次に、スイッチ80をONにして一定時間、第2定電流
源82から大電流をトランジスタに流す。
In the conventional measuring device shown in FIG. 8, first, the switch 80 is turned off so that only 1 mA of the first constant current source 81 flows through the transistor, and V BE is measured.
Next, the switch 80 is turned on to allow a large current to flow from the second constant current source 82 to the transistor for a certain period of time.

【0005】即ち、この従来例では、図9のt1の時点
で計測回路83にパルスを加えてトランジスタのVBE
計る。次に、スイッチ80をONにして図9(ロ)に示
す如く一定時間Wの間パワーを加える。このとき、ボン
ディングが正常であれば、熱がフレーム60に充分伝達
されるので、そのトランジスタの温度は所定の傾斜で上
昇していく。もし、ボンディングが不充分であれば、熱
伝導が悪くなるので、トランジスタの温度はかなり高く
なる。
That is, in this conventional example, a pulse is applied to the measuring circuit 83 at time t1 in FIG. 9 to measure the V BE of the transistor. Next, the switch 80 is turned on and power is applied for a certain time W as shown in FIG. At this time, if the bonding is normal, the heat is sufficiently transferred to the frame 60, so that the temperature of the transistor rises at a predetermined inclination. If the bonding is inadequate, the heat transfer will be poor and the transistor temperature will be quite high.

【0006】前記パワーを加えた期間Wの後に、t2の
時点で再びVBEを計り、t1でのVBEとの差を計る。
尚、トランジスタの温度が高くなるほど、VBEは小さく
なる。このようにして、パワーを加えたことによるVBE
の変化の大きさをみることにより、ボンディングが充分
なされているか否か判定できる。図9において、(ハ)
はボンディングが正しく行なわれた良品であり、(ニ)
はボンディングが不充分の不良品である。
[0006] After a period W plus the power, it weighed again V BE at time t2, measuring the difference between V BE at t1.
Note that the higher the transistor temperature, the smaller V BE . In this way, V BE by adding power
It is possible to determine whether or not the bonding is sufficient by observing the magnitude of the change in In FIG. 9, (c)
Is a good product with correct bonding.
Is a defective product with insufficient bonding.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来例では次のような欠点があった。即ち、この方法では
パワーを加える前と、加え終わった後の状態でしか判断
できないので、その途中での変化が分からない。そのた
め不良品であっても良品として検査をパスしてしまうも
のが出てくる。
However, this conventional example has the following drawbacks. That is, in this method, it is possible to make a judgment only before and after the power is applied, and the change in the middle cannot be understood. Therefore, some defective products may pass the inspection as non-defective products.

【0008】例えば、不良品の場合、パワー印加ととも
に温度は大きく上昇していくが、その加熱によってチッ
プ60と半田70間の不十分な接触状態が一次的に良く
なり、図7に示すようにチップ61がフレーム60側へ
下がり、チップ61の温度が図9(ホ)の如く、いった
ん下降して再び上昇する。そして、パワーを切り換えた
時点(t2)では、その温度はあたかも良品と同じよう
な値になっているので、不良品であるにも拘らず、良品
として判定されてしまうのである。
For example, in the case of a defective product, the temperature rises greatly with the application of power, but due to the heating, the insufficient contact state between the chip 60 and the solder 70 is temporarily improved, and as shown in FIG. The chip 61 drops to the frame 60 side, and the temperature of the chip 61 once drops and then rises again as shown in FIG. Then, at the time point (t2) when the power is switched, the temperature is almost the same as that of the non-defective product, so that the product is determined to be the non-defective product in spite of the defective product.

【0009】本発明はこのような点に鑑みなされたもの
であって、不良品を確実にみつけることができるように
した半導体の接合部温度測定装置を提供することを目的
とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor junction temperature measuring device capable of reliably finding a defective product.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の測定装置は、半導体装置に該半導体装置の通
常の動作時よりも充分大きな電流を与える電流供給手段
と;前記電流を与えている期間に前記半導体装置のPN
接合部の電圧を周期的に複数回サンプルホールドする記
憶回路と;前記記憶回路の出力を表示する表示手段とを
備える。
In order to achieve the above object, the measuring apparatus of the present invention comprises a current supplying means for supplying a semiconductor device with a current sufficiently larger than that during the normal operation of the semiconductor device; PN of the semiconductor device during
A storage circuit that periodically samples and holds the voltage of the junction multiple times; and a display unit that displays the output of the storage circuit are provided.

【0011】また、本発明の測定装置は、半導体装置に
所定の電流を与える第1の電流供給手段と;前記第1の
電流供給手段よりも充分大きな電流を前記半導体装置に
与える第2の電流供給手段と;前記第2の電流供給手段
を周期的に動作させるパルスを発生するパルス発生手段
と;前記半導体装置のPN接合部の電圧をサンプルホー
ルドするサンプルホールド回路と;前記パルスの終了ご
とに該終了よりも遅延して生じるサンプリングパルスを
出力するサンプリングパルス発生回路とを備える。
Further, the measuring apparatus of the present invention comprises: a first current supply means for supplying a predetermined current to the semiconductor device; a second current for supplying the semiconductor device with a current sufficiently larger than the first current supply means. Supply means; pulse generation means for generating a pulse for periodically operating the second current supply means; sample-hold circuit for sample-holding the voltage of the PN junction of the semiconductor device; and each time the pulse ends. And a sampling pulse generation circuit that outputs a sampling pulse that is delayed from the end.

【0012】この場合、更に、パルスが消勢した後にサ
ンプリングパルスをサンプルホールド回路へ継続的に与
える手段を備える。また、前記半導体装置はバイポーラ
トランジスタであり、前記PN接合部の電圧はベース・
エミッタ間電圧である。
In this case, further, there is provided means for continuously applying the sampling pulse to the sample hold circuit after the pulse is deenergized. The semiconductor device is a bipolar transistor, and the voltage of the PN junction is base
It is the voltage between the emitters.

【0013】[0013]

【作用】本発明の構成によると、測定装置は、半導体装
置に該半導体装置の通常の動作時よりも充分大きな電流
を与える電流供給手段と;前記電流を与えている期間に
前記半導体装置のPN接合部の電圧を周期的に複数回サ
ンプルホールドする記憶回路と;前記記憶回路の出力を
表示する表示手段とを備えているので、半導体装置に大
電流を与えている期間内に、PN接合部の電圧が何回も
計測されることになる。
According to the structure of the present invention, the measuring device is provided with a current supply means for supplying a sufficiently large current to the semiconductor device as compared with the normal operation of the semiconductor device; and a PN of the semiconductor device during the period of supplying the current. Since a storage circuit for periodically sampling and holding the voltage of the junction portion a plurality of times; and a display means for displaying the output of the storage circuit are provided, the PN junction portion is provided within a period in which a large current is applied to the semiconductor device. Will be measured many times.

【0014】また、半導体装置に所定の電流を与える第
1の電流供給手段と;前記第1の電流供給手段よりも充
分大きな電流を前記半導体装置に与える第2の電流供給
手段と;前記第2の電流供給手段を周期的に動作させる
パルスを発生するパルス発生手段と;前記半導体装置の
PN接合部の電圧をサンプルホールドするサンプルホー
ルド回路と;前記パルスの終了ごとに該終了よりも遅延
して生じるサンプリングパルスを出力するサンプリング
パルス発生回路とを備える場合には、パルスによって加
熱や計測のタイミングコントロールがなされる。更に、
サンプリングパルスは大電流を流すためのパルスの消勢
時点から遅延しているので、大電流を切った直後の過渡
現象による電圧変動などが無くなった時点でPN接合部
の電圧(従ってPN接合部の温度)が計測される。
Also, first current supply means for applying a predetermined current to the semiconductor device; second current supply means for applying a current sufficiently larger than the first current supply means to the semiconductor device; and second current supply means. Pulse generating means for generating a pulse for periodically operating the current supplying means; a sample-hold circuit for sample-holding the voltage of the PN junction of the semiconductor device; When the sampling pulse generating circuit that outputs the generated sampling pulse is provided, the timing control of heating or measurement is performed by the pulse. Furthermore,
Since the sampling pulse is delayed from the time when the pulse for supplying a large current is deenergized, the voltage of the PN junction (and thus the PN junction Temperature) is measured.

【0015】更に、パルスが消勢した後にサンプリング
パルスをサンプルホールド回路へ継続的に与える手段を
備える場合には、半導体装置を、もはや加熱しない(大
電流を供給しない)状態においてもPN接合部の温度が
下がっていくのを把握できる。
Further, when the means for continuously supplying the sampling pulse to the sample and hold circuit after the pulse is deenergized is provided, the semiconductor device is no longer heated (a large current is not supplied), and thus the PN junction portion is no longer heated. You can see the temperature drop.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図1は本実施例の構成を示す回路図である。同図
において、フレームにボンディングされたバイポーラト
ランジスタQのチップ1に対し、そのコレクタ・ベース
間に直流電源2Aが接続され、エミッタ・ベース間に直
流電源2Bと第1の定電流源3が接続されるとともに、
第1の定電流源3の両端に第2の定電流源4とスイッチ
5の直列回路が接続されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of this embodiment. In the figure, for a chip 1 of a bipolar transistor Q bonded to a frame, a DC power supply 2A is connected between its collector and base, and a DC power supply 2B and a first constant current source 3 are connected between its emitter and base. Along with
A series circuit of a second constant current source 4 and a switch 5 is connected to both ends of the first constant current source 3.

【0017】ここで、第1の定電流源3はトランジスタ
Qのベース・エミッタ間電圧VBEを測定するために1mA
程度の電流I1を常時供給し、第2の定電流源4はスイ
ッチ5がONしたとき、パワーを加えてチップ1を加熱
するべく、数十mA〜数A内の大きな電流I2を供給す
る。6は前記トランジスタQのベースとエミッタに入力
端子が接続されてトランジスタのベース・エミッタ間電
圧VBEが入力されるバッファである。7はそのバッファ
の出力をサンプリングするためのスイッチであり、8は
そのサンプリング出力をホールドするコンデンサであ
る。
Here, the first constant current source 3 is 1 mA in order to measure the base-emitter voltage V BE of the transistor Q.
A constant current I 1 is constantly supplied, and when the switch 5 is turned on, the second constant current source 4 supplies a large current I 2 within several tens mA to several A so as to apply power to heat the chip 1. To do. Reference numeral 6 is a buffer whose input terminal is connected to the base and emitter of the transistor Q and which receives the base-emitter voltage V BE of the transistor. Reference numeral 7 is a switch for sampling the output of the buffer, and 8 is a capacitor for holding the sampling output.

【0018】従って、スイッチ7とコンデンサ8はサン
プルホールド回路を構成する。9は前記サンプルホール
ドされたトランジスタのベース・エミッタ間電圧VBE
温度に換算して出力する換算回路であり、その出力は測
定装置の出力端子10を通してオシロスコープ11に供
給される。
Therefore, the switch 7 and the capacitor 8 form a sample hold circuit. Reference numeral 9 denotes a conversion circuit that converts the base-emitter voltage V BE of the sample-held transistor into temperature and outputs the same. The output is supplied to the oscilloscope 11 through the output terminal 10 of the measuring device.

【0019】本実施例では、図2のTPの期間、スイッ
チ5をONしてチップ1にパワーを与え、チップ1を発
熱させる。次に、スイッチ5をTSの期間OFFにし、
このOFFの期間内にサンプリングスイッチ7をONに
してトランジスタQのベース・エミッタ間電圧VBEをサ
ンプルホールドする。このパワー供給と、VBEの取り込
みを交互に繰り返し、1つのチップ1について何回もV
BEを測定する。
In the present embodiment, during the period TP of FIG. 2, the switch 5 is turned on to apply power to the chip 1 to heat the chip 1. Next, the switch 5 is turned off during the TS period,
During this OFF period, the sampling switch 7 is turned ON to sample and hold the base-emitter voltage V BE of the transistor Q. This power supply and V BE capture are repeated alternately, and one chip 1 can receive V power many times.
Measure BE .

【0020】サンプルホールドされたVBEは温度に換算
されてオシロスコープ11で写し出される。オシロスコ
ープ11には図2(b)に示すような電圧が与えられる
が、TPは19.8ms、TSは0.2msという短い時
間間隔であるので、オシロスコープ11の設定倍率によ
っては階段状でなく、連続波形として見える。
The sample-held V BE is converted into temperature and is displayed on the oscilloscope 11. A voltage as shown in FIG. 2B is applied to the oscilloscope 11, but TP has a short time interval of 19.8 ms and TS has a time interval of 0.2 ms. It appears as a continuous waveform.

【0021】図3は図1の換算回路9、出力端子10、
オシロスコープを除いた部分に関する具体的な実施例を
示している。ここで、図1と同一部分には同一の符号を
付してある。第1の定電流源3はジャンクションFET
12と抵抗13とから成っており、第2の定電流源4は
図示の如く接続されたMOSトランジスタ14、17と
抵抗15、16とから成っている。18はスイッチ用の
正パルスPを発生するパルス発生源であり、その正のパ
ルスPは上述した図2のTP期間に対応するパルス幅を
もっている。
FIG. 3 shows the conversion circuit 9, output terminal 10,
A concrete example concerning a portion excluding the oscilloscope is shown. Here, the same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. The first constant current source 3 is a junction FET
The second constant current source 4 is composed of MOS transistors 14 and 17 and resistors 15 and 16 which are connected as shown in the figure. Reference numeral 18 is a pulse generation source for generating a positive pulse P for the switch, and the positive pulse P has a pulse width corresponding to the TP period of FIG. 2 described above.

【0022】正パルスPの期間、トランジスタ14がO
Nする。トランジスタ14のONにより抵抗15、16
に電流が流れるので、トランジスタ17のゲートに正電
圧が与えられる。このため、該トランジスタ17もON
する。トランジスタ17がONすると、トランジスタ1
4のゲート電圧は正パルスの波高値の5Vを抵抗9とト
ランジスタ17の導通時抵抗で分圧した電圧がかかる。
このためトランジスタ14を流れる電流は可変抵抗16
の設定値に依存した一定値になる。
During the period of the positive pulse P, the transistor 14 is turned on.
N The resistors 15 and 16 are turned on by turning on the transistor 14.
Since a current flows through, a positive voltage is applied to the gate of the transistor 17. Therefore, the transistor 17 is also turned on.
To do. When the transistor 17 turns on, the transistor 1
The gate voltage of 4 is a voltage obtained by dividing 5 V, which is the peak value of the positive pulse, by the resistance of the resistor 9 and the resistor when the transistor 17 is conducting.
Therefore, the current flowing through the transistor 14 is the variable resistor 16
It becomes a constant value depending on the setting value of.

【0023】サンプリングスイッチ7は発光ダイオード
41とフォトMOSトランジスタ42で構成されてお
り、発光ダイオード41が点灯することによりフォトM
OSトランジスタ42がONするようになっている。発
光ダイオード41を制御するのがスイッチ制御回路20
である。
The sampling switch 7 is composed of a light emitting diode 41 and a photo MOS transistor 42. When the light emitting diode 41 is turned on, the photo switch M is turned on.
The OS transistor 42 is turned on. The switch control circuit 20 controls the light emitting diode 41.
Is.

【0024】このスイッチ制御回路20は前記パルス発
生源18からのパルスPを入力し、図4に示すようにそ
のパルスPの立ち下がりに同期して50μs幅のパルス
P1を発生する第1モノマルチバイブレータ21と、第
1モノマルチバイブレータ21の出力パルスP1の立ち
下がりに同期して50μs幅のパルスP2を発生する第
2モノマルチバイブレータ22を有している。スイッチ
7には、そのパルスP2が与えられ、パルスP2の期
間、スイッチ47がONする。
The switch control circuit 20 receives the pulse P from the pulse generator 18 and generates a pulse P1 of 50 μs width in synchronization with the fall of the pulse P as shown in FIG. It has a vibrator 21 and a second mono-multivibrator 22 which generates a pulse P2 having a width of 50 μs in synchronization with the falling edge of the output pulse P1 of the first mono-multivibrator 21. The pulse P2 is given to the switch 7, and the switch 47 is turned on during the period of the pulse P2.

【0025】このように、パルスPの立ち下がりに同期
して、すぐにスイッチ7をONせずに遅延したパルスP
2でONするのは、パルスPが消勢した直後(即ち、大
電流が流れている状態で、この大電流を切った直後)
は、トランジスタQに流れる電流に過渡的な乱れがあ
り、その時点でVBEを計測すると、正しい値が読み取れ
ない虞があるからである。そのため、電流が落ちつくの
を待ってから、即ちPの消勢後、50μs経ってからス
イッチ7をONしてVBEを読み込む(サンプリング)す
るようにしている。
In this way, the pulse P delayed without turning on the switch 7 immediately in synchronization with the fall of the pulse P
It turns on in 2 immediately after the pulse P is deenergized (that is, immediately after the large current is cut off while the large current is flowing).
The reason is that there is a transient disturbance in the current flowing through the transistor Q, and if V BE is measured at that time, a correct value may not be read. Therefore, after waiting for the current to settle down, that is, after 50 μs has passed after the deenergization of P, the switch 7 is turned on to read (sample) V BE .

【0026】23はフリーラン発振器であり、上記パル
スPと略同一の周期で発生し、サンプリングスイッチ7
をONにする。ただし、パルスPが繰り返し発生してい
る期間はリセットされ続けて、出力を発生しないように
なっている。パルスPは線路27を通して抵抗28とコ
ンデンサ24によって積分され、トランジスタ25のベ
ースに正の直流バイアスを与える。このためトランジス
タがONになり、フリーラン発振器23のリセット端子
26はグランド電位に固定される。
Reference numeral 23 is a free-run oscillator, which is generated at a cycle substantially the same as that of the pulse P, and which has a sampling switch 7
Turn on. However, during the period in which the pulse P is repeatedly generated, the reset is continued and no output is generated. The pulse P is integrated through the line 27 by the resistor 28 and the capacitor 24 to give a positive DC bias to the base of the transistor 25. Therefore, the transistor is turned on, and the reset terminal 26 of the free-run oscillator 23 is fixed to the ground potential.

【0027】そのため、フリーラン発振器23は動作し
ない。従って、この期間、スイッチ47はフリーラン発
振器によってコントロールされない。しかし、予め設定
した加熱期間が過ぎてパルスPが発生しなくなると、ト
ランジスタ25はOFFになり、リセット端子26には
電源ライン29からの電圧VCCが与えられるので、フ
リーラン発振器23は発振し、パルスを発生する。
Therefore, the free-run oscillator 23 does not operate. Therefore, the switch 47 is not controlled by the free-run oscillator during this period. However, when the pulse P is no longer generated after the preset heating period passes, the transistor 25 is turned off and the reset terminal 26 is supplied with the voltage VCC from the power supply line 29, so that the free-run oscillator 23 oscillates. Generate a pulse.

【0028】図5はこれを示している。同図(a)に示
すように加熱用のパルスPが消勢し、抵抗28とコンデ
ンサ24で決まる時定数を経た後(即ち、Bの範囲)に
なると、フリーラン発振器23のパルスP3が発生す
る。P2はパルスPの消勢後、1つだけ発生し、その後
は出力されない。
FIG. 5 illustrates this. As shown in FIG. 4A, when the heating pulse P is deenergized and the time constant determined by the resistor 28 and the capacitor 24 has passed (that is, in the range B), the pulse P3 of the free-run oscillator 23 is generated. To do. Only one P2 is generated after the pulse P is deenergized and is not output thereafter.

【0029】尚、このようにパルスPが消勢した後も、
BEをP3でサンプリングするのは次の理由による。即
ち、Pが消勢した後はP2が生じないので、VBEを新し
くサンプリングすることができない。そのためサンプル
ホールド回路の出力は一定のままとなっている。
Even after the pulse P is deenergized in this way,
The reason why V BE is sampled at P3 is as follows. That is, since P2 does not occur after P is deenergized, V BE cannot be newly sampled. Therefore, the output of the sample hold circuit remains constant.

【0030】しかし、Pを消勢してパワーを切っている
ので、チップの温度は下がっている筈である。従って、
チップの温度がどのように下がっているかをみるために
パルスP3でサンプリングするのである。この場合、パ
ルスP3は200μs位のパルス幅でよい。
However, since the P is deenergized and the power is turned off, the temperature of the chip should be lowered. Therefore,
The pulse P3 is used to sample how the temperature of the chip has dropped. In this case, the pulse P3 may have a pulse width of about 200 μs.

【0031】即ち、P2の場合には、パワーを与えて、
そのパワーを切った後に使用するので、過渡状態の影響
を受けないようにパルスPの立ち下がりから50μs経
過した後に生じるように選んでいるためパルス幅が狭い
が、P3の場合には、Pは存在しないので、過渡現象そ
のものが存在しないので、TSと同一の幅(200μ
m)であってもよいのである。
That is, in the case of P2, power is applied,
Since it is used after the power is turned off, the pulse width is narrow because it is selected to occur 50 μs after the fall of the pulse P so as not to be affected by the transient state, but in the case of P3, P is Since it does not exist, the transient phenomenon itself does not exist, so it has the same width (200μ) as TS.
m).

【0032】図5(a)において、Aは加熱しながら、
計測する期間を示しており、Bはもはや加熱しない期間
での計測を示している。また、図5(c)はオシロスコ
ープ11に写し出される波形(温度情報波形)を示して
おり、A期間は加熱特性を、又、B期間は冷却特性を見
ることができる。オシロスコープ11に代えてテレビモ
ニターやプリンタ等であってもよい。
In FIG. 5A, while A is heating,
The measurement period is shown, and B shows the measurement during the period when heating is no longer performed. Further, FIG. 5C shows a waveform (temperature information waveform) displayed on the oscilloscope 11, in which the heating characteristic can be seen in the period A and the cooling characteristic can be seen in the period B. Instead of the oscilloscope 11, a TV monitor, a printer or the like may be used.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように本発明の測定装置
は、請求項1に示す如く、半導体装置に該半導体装置の
通常の動作時よりも充分大きな電流を与える電流供給手
段と;前記電流を与えている期間に前記半導体装置のP
N接合部の電圧を周期的に複数回サンプルホールドする
記憶回路と;前記記憶回路の出力を表示する表示手段と
を備えているので、半導体装置に大電流を与えている期
間内に、PN接合部の電圧が何回も計測されることにな
り、半導体装置を加熱しているときのPN接合部の電圧
(従ってPN接合部の温度)の変化が把握できる。従っ
て、半導体装置のボンディング不良等を正しく検出でき
る。
As described above, the measuring apparatus according to the present invention, as set forth in claim 1, is a current supply means for supplying a semiconductor device with a current sufficiently larger than that during normal operation of the semiconductor device; P of the semiconductor device during the given period
Since a storage circuit that periodically samples and holds the voltage of the N-junction portion; and a display unit that displays the output of the storage circuit are provided, a PN junction is provided during a period when a large current is applied to the semiconductor device. Since the voltage of the part is measured many times, it is possible to grasp the change in the voltage of the PN junction (and thus the temperature of the PN junction) when the semiconductor device is heated. Therefore, a defective bonding or the like of the semiconductor device can be correctly detected.

【0034】また、本発明の測定装置は、請求項2に示
す如く、半導体装置に所定の電流を与える第1の電流供
給手段と;前記第1の電流供給手段よりも充分大きな電
流を前記半導体装置に与える第2の電流供給手段と;前
記第2の電流供給手段を周期的に動作させるパルスを発
生するパルス発生手段と;前記半導体装置のPN接合部
の電圧をサンプルホールドするサンプルホールド回路
と;前記パルスの終了ごとに該終了よりも遅延して生じ
るサンプリングパルスを出力するサンプリングパルス発
生回路とを備えているので、上記の効果に加えて、パル
スによって加熱や計測のタイミングコントロールができ
るという効果がある。更に、サンプリングパルスは大電
流を流すためのパルスの消勢時点から遅延しているの
で、大電流を切った直後の過渡現象による電圧変動など
を避けた形でPN接合部の電圧(従ってPN接合部の温
度)を計測できるという効果がある。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a measuring device comprising: a first current supplying means for applying a predetermined current to the semiconductor device; and a current sufficiently larger than the first current supplying means. Second current supplying means for giving to the device; pulse generating means for generating a pulse for periodically operating the second current supplying means; sample and hold circuit for sampling and holding the voltage of the PN junction of the semiconductor device A sampling pulse generating circuit that outputs a sampling pulse that is generated after each end of the pulse, the sampling pulse being generated later than the end of the pulse, so that in addition to the above effects, the timing of heating and measurement can be controlled by the pulse. There is. Furthermore, since the sampling pulse is delayed from the point of deenergization of the pulse for supplying a large current, the voltage of the PN junction (and thus the PN junction The effect is that the temperature of the part) can be measured.

【0035】また、本発明の測定装置は、請求項3に示
す如く、パルスが消勢した後にサンプリングパルスをサ
ンプルホールド回路へ継続的に与える手段を備えるの
で、半導体装置を、もはや加熱しない(大電流を供給し
ない)状態においてもPN接合部の温度が下がっていく
のを把握できる。
Further, since the measuring apparatus of the present invention comprises means for continuously applying the sampling pulse to the sample-hold circuit after the pulse is deenergized as described in claim 3, the semiconductor device is no longer heated (larger). It can be understood that the temperature of the PN junction portion is lowered even in the state where no current is supplied).

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を実施した半導体装置の接合部温度測定
装置の概略回路図。
FIG. 1 is a schematic circuit diagram of a junction temperature measuring device for a semiconductor device embodying the present invention.

【図2】その動作説明用の信号波形図。FIG. 2 is a signal waveform diagram for explaining the operation.

【図3】図1の要部を具体的に示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram specifically showing a main part of FIG.

【図4】その動作説明図。FIG. 4 is an explanatory diagram of its operation.

【図5】同じく動作説明図。FIG. 5 is a similar operation explanatory diagram.

【図6】トランジスタのチップをフレームに取り付けた
半導体装置の斜視図。
FIG. 6 is a perspective view of a semiconductor device in which a transistor chip is attached to a frame.

【図7】そのボンディングについて説明するための模式
図。
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining the bonding.

【図8】従来の半導体装置の接合部温度測定装置の概略
回路図。
FIG. 8 is a schematic circuit diagram of a conventional junction temperature measuring device for a semiconductor device.

【図9】その従来の動作説明図。FIG. 9 is a diagram for explaining the conventional operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ Q バイポーラトランジスタ 3 第1の定電流源 4 第2の定電流源 5 スイッチ 6 バッファ 7 サンプリングスイッチ 8 コンデンサ 11 オシロスコープ P パルス 1 chip Q bipolar transistor 3 first constant current source 4 second constant current source 5 switch 6 buffer 7 sampling switch 8 capacitor 11 oscilloscope P pulse

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体装置に該半導体装置の通常の動作時
よりも充分大きな電流を与える電流供給手段と、 前記電流を与えている期間に前記半導体装置のPN接合
部の電圧を周期的に複数回サンプルホールドする記憶回
路と、 前記記憶回路の出力を表示する表示手段と、 を備える半導体装置の接合部温度測定装置。
1. A current supply means for supplying a semiconductor device with a current sufficiently larger than that during a normal operation of the semiconductor device, and a plurality of periodically applied voltages at a PN junction of the semiconductor device during the period of supplying the current. A junction temperature measuring device for a semiconductor device, comprising: a storage circuit for sampling and holding once; and display means for displaying an output of the storage circuit.
【請求項2】半導体装置に所定の電流を与える第1の電
流供給手段と、 前記第1の電流供給手段よりも充分大きな電流を前記半
導体装置に与える第2の電流供給手段と、 前記第2の電流供給手段を周期的に動作させるパルスを
発生するパルス発生手段と、 前記半導体装置のPN接合部の電圧をサンプルホールド
するサンプルホールド回路と、 前記パルスの終了ごとに該終了よりも遅延して生じるサ
ンプリングパルスを出力するサンプリングパルス発生回
路と、 を備える半導体装置の接合部温度測定装置。
2. A first current supply means for applying a predetermined current to the semiconductor device, a second current supply means for applying a current sufficiently larger than the first current supply means to the semiconductor device, and the second current supply means. Pulse generating means for generating a pulse for periodically operating the current supply means, a sample hold circuit for sample-holding the voltage of the PN junction part of the semiconductor device, and a delay after the end of each pulse. A junction temperature measuring device for a semiconductor device, comprising: a sampling pulse generating circuit that outputs a generated sampling pulse.
【請求項3】上記パルスが消勢した後にサンプリングパ
ルスをサンプルホールド回路へ継続的に与える手段を備
える請求項2に記載の半導体装置の接合部温度測定器。
3. The junction temperature measuring device for a semiconductor device according to claim 2, further comprising means for continuously applying a sampling pulse to a sample hold circuit after the pulse is deenergized.
【請求項4】前記半導体装置はバイポーラトランジスタ
であり、前記PN接合部の電圧はベース・エミッタ間電
圧であることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項
3のいずれかに記載の半導体装置の接合部温度測定装
置。
4. The semiconductor device is a bipolar transistor, and the voltage at the PN junction is a base-emitter voltage, according to any one of claims 1, 2 and 3. Semiconductor device junction temperature measuring device.
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CN100460864C (en) * 2005-12-09 2009-02-11 中国科学院上海技术物理研究所 Method for testing junction temp. of semiconductor LED with gallium nitride base

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